JP2007525619A - 低温流体ポンプシステム - Google Patents

Abstract

本発明の低温流体ポンプシステムは、少なくとも１つの低温流体用のタンク（８ａ、８ｂ）、入口圧力の降下（ＮＰＳＨ）を有する低温ポンプ（１８）、及び、このタンク（８ａ、８ｂ）をこのポンプ（１８）に接続している吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）を有している。本発明に係われば、このポンプシステムは、吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）の中の圧力が、多くとも、低温ポンプ（１８）の入口圧力の降下（ＮＰＳＨ）だけ増加された低温流体の飽和圧力と等しいように、吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）の中の圧力を維持するための圧力制御手段を有している。本発明は、低密度の低温流体をポンピングするために用いられることができる。

Description

本発明は、低温流体のポンプシステムに関する。本発明は、水素、ヘリウム、及びそれらの複数の同位体のような、低密度の低温流体にポンプを用いる領域で、特に有利な応用を有している。

例えば、水素を圧縮するために、水素気体よりもむしろ液体水素をポンプを用いて圧縮することを実行する方が、一般的に好都合である。これは、液体の体積を圧縮するほうが、気体の体積を圧縮するよりも容易であり、この結果、圧縮のための費用が低減するからである。

しかしながら、圧縮エネルギーに関して、高圧水素の生成は、極めて高価である。もし、ポンプが最適に用いられていないならば、低温ポンプの中での液体水素の気化による損失も、大きいかもしれない。これらの損失を減少させることは、高圧水素を得るための費用を最適化するために重要な要素である。

一般の低温ポンプにより、そして、特に液体水素ポンプにより生じる問題の１つは、低温流体が非常に低密度であるという事実にある。例えば、水素に対して、１バールで７０グラム／リットルである。この非常な低圧により複数の障害が引き起こされるという結果となる。
一方で、低温ポンプに、ポンプシステムの上方に供給低温ポンプを充填させて物理的に設置するだけでは、入口圧力の降下（「有効吸込みヘッド」（Ｎｅｔ Ｐｏｓｉｔｉｖｅ Ｓｕｃｔｉｏｎ Ｈｅａｄ）を略してＮＰＳＨと呼ばれる）に対する必須の補償を低温ポンプに供給することは不可能である。例えば、ＬＨ２ ７００バール液体水素ポンプは、約２５０ｍｂａｒのＮＰＳＨを有しており、これは、３５ｍの液体水素の水頭に対応する。このことにより、なぜ３５ｍの高さでポンプの上方に充填させて設置されている供給タンクでポンプを作動させることが不可能であるかが理解される。実際、ラインへの充填での損失が、タンクを充填させて設置することを相殺して(compenserait)しまうだろう。
他方では、低圧の飽和液体水素は、高圧の飽和液体水素より密度が大きい。例えば、飽和した水素の密度は、上述したように、１バールで７０グラム／リットルであるが、７バールにおける密度より５６グラム／リットルだけ大きいだけである。低温ポンプは、容積式ポンプであるため、このことは、ポンプされた低温流体の量を増加させるために、この流体の密度をできるだけ増加させること、したがって、ポンプによる吸込みを可能な限り低い圧力で使用することが有利であることを意味している。

本出願人の名前での文献ＥＰ−Ａ−０１０４６４には、比較的密度が高い流体（液体窒素）をポンピングする開始シーケンスをモニタするための手段が記載されている。

このように、本発明の目的により解決される１つの技術的な問題は、低温流体タンクと、入口圧力の低下がある低温ポンプと、このタンクをこのポンプに接続する吸込みラインとを有しており、低温ポンプの入口圧力及び吸込まれる低温流体の量の低下を補うことに関して、低温流体の密度が低いことに関連した欠点を改良する役割を果たす、低温流体ポンプシステムを提案することである。

提起された技術的な問題に対する解決は、本発明に係われば、前記ポンプシステムが、吸込みラインの圧力を、多くとも、低温流体の飽和圧力に低温ポンプの入口圧力の低下を加えた圧力に等しい圧力を維持するための圧力制御手段を有していることにある。

このように、低温流体は、サブクール(sous-refroidissement)され、このようにサブクールされた流体の吸込みが得られる。この結果、入口圧力の低下の補償が達成され、キャビテーションが防止される一方、流体は、十分に低い圧力に維持され、流体の密度が最大化され、その結果、ポンプされる量が最大化される。吸込み圧力に全く制御が実行されていない現存する複数のシステムと逆に、タンクは、確実に加圧され、この圧力は、最適な密度を得るための理論的な最小値よりも常に高い。

本発明に係るポンプシステムの一実施の形態に係われば、前記圧力制御手段は、低圧流体用タンクのための加圧弁と減圧弁とを有している。

特に、本発明は、前記制御手段は、前記加圧弁と減圧弁とを制御するための制御装置に接続される、吸込みラインの低温流体の圧力と温度とをそれぞれ決定するための圧力センサと温度センサとを有していることを見込んでいる。

この後者の場合、本発明は、前記制御手段が、前記温度センサにより測定された温度から、この温度における液体の飽和圧力に、ポンプの入口圧力の低下を加えた圧力に等しい圧力の最小値を計算するための計算装置を有することを見込んでいる。

本発明が解決することを提案する他の技術的問題は、本発明のポンプシステムの連続的に作動させることを実行する可能性に関する。既知のシステムでは、タンクが空の時はいつでも、このタンクを充填し、ポンプを再始動させる前にこのタンクを加圧するために、停止されなければならないため、このような動作は不可能である。

本発明に係われば、この技術的問題に対する解決策は、前記システムが、互いに平行に配置され、少なくとも１つのタンクは他の１つのタンクが排出している間に低温流体で満たされている、複数の低温流体用のタンクを有していることにある。

添付され、非限定的な例として与えられている図面を参照している以下の記載では、本発明が何を有し、本発明がどのように実行されることができるのかが明確に示されている。

図１は、低温流体ポンプシステムを示している。この低温流体ポンプシステムは、とりわけ、この液状低温流体ポンプ１８に、互いに平行に取り付けられている２つの低温タンク８ａ、８ｂを有し、各タンク８ａ、８ｂは、このポンプ１８にそれぞれ吸込み管２３ａ、２３ｂにより接続されている。

供給源(source)１から、蒸気と共に流出する飽和液体水素は、ポンプシステムから供給源１の隔離バルブ３を介して真空で分離されるライン２に導入される。この液体は、続いて、この説明の中でより詳細に説明される連続的な動作方法で、タンク８ａ、８ｂを満たすように用いられる。

第１段階では、低温タンク８ａが満たされていると仮定する。この場合、タンク８ａの充填弁４ａは閉じられ、タンク８ａの排出弁１０ａ及びバイパス戻し弁１１ａは開かれ、一方、タンク８ｂの排出弁１０ｂとバイパス戻し弁１１ｂは、閉じられる。低温ポンプ１８が動作し、出口圧力１９は、高圧流体を気化させるための熱交換器２０の後に位置している高圧流体制御弁２１により制御されている。

圧力センサにより測定されるポンプの吸込み圧力は、温度センサ１６によりライン２３ａで測定される温度が、この圧力に対応する低温液体の飽和温度よりも低くなるように、制御手段により制御されている。特に、この制御手段は、吸込みライン２３ａの圧力が、ポンプ１８の入口圧力の低下ＮＰＳＨだけ増加された、温度１６での液体の飽和圧力に等しくなるように、吸込みライン２３ａの圧力１４の最小値を計算するための装置１７を有している。

センサ１４により測定された圧力を計算装置１７により決定された設定点値で維持するために、制御装置１５が、タンク８ａの加圧バルブ１２ａ又は減圧バルブ７ａを開きもしくは閉じる。セレクタ１３は、ポンピング中のタンク８ａがこの時は、タンク８ａなので、「Ａ」の位置にある。

図１は、タンク８ａの加圧が、タンク８ｂの加圧のように、高圧ガス源２２により得られることを示している。この高圧ガス源２２の加圧ガスが、ポンプ１８により加圧された流体の一部であれば、好都合である。

結果として、ポンプ１８は、実効的に、キャビテーションから保護され、同時に、ポンピングされた流体は、本発明の目的にしたがって、可能な限り密度が高い。

同時に、第２のタンク８ｂは、飽和液体の流体とその蒸気とで満たされている。

タンク８ａが、空のとき、低レベル検出器９ａが、作動し、システムは、弁４ｂを閉じ、タンク８ｂの排出弁１０ｂとバイパス戻し弁１１ｂとを開く。弁１０ａ、１１ａは閉じられ、タンク８ａは、充填弁４ａを介して充填される一方で、タンク８ｂのポンプと圧力制御とのシーケンスを開始する。

この結果、加圧された低温流体が連続的に生成される。

本発明に係る低温流体ポンプシステムのダイアグラムである。

Claims (10)

1. 少なくとも１つの低温流体用のタンク（８ａ、８ｂ）と、入口圧力の低下（ＮＰＳＨ）を有する低温ポンプ（１８）と、前記タンク（８ａ、８ｂ）をポンプ（１８）に接続している吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）とを具備する低温流体ポンプシステムにおいて、前記吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）の中の圧力を、大きくても、前記低温流体の飽和圧力に前記低温ポンプ（１８）の入口圧力の低下（ＮＰＳＨ）を加えた圧力に等しい圧力に維持するために、前記タンク（８ａ、８ｂ）を加圧するための複数の制御手段（１２ａ、１２ｂ）と、減圧するための複数の制御手段（７）とを有している、前記吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）の中の圧力を制御するための複数の手段（１５）を具備することを特徴とするポンプシステム。
2. 前記制御手段は、前記吸込みライン（２３ａ、２３ｂ）の中の前記低温流体の圧力と温度とをそれぞれ決定するための圧力センサ（１４）と温度センサ（１６）とを有し、制御装置（１５）に複数の加圧手段（１２ａ、１２ｂ）及び複数の減圧手段（７）とを制御するための複数の信号を供給することを特徴とする請求項１に記載のポンプシステム。
3. 加圧制御手段と減圧制御手段とは、前記タンク（８ａ、８ｂ）の加圧弁（１２ａ、１２ｂ）と減圧弁（７）とを有していることを特徴とする請求項２に記載のポンプシステム。
4. 前記制御手段は、前記温度センサ（１６）により測定される温度から、この温度での液体の飽和圧力に前記ポンプ（１８）の入口圧力の低下（ＮＰＳＨ）を加えた圧力に等しい、前記圧力センサ（１４）により測定される圧力の最小値を計算するための計算装置（１７）を有することを特徴とする請求項２又は３に記載のポンプシステム。
5. 互いに平行に配置された少なくとも２つの低温液体用タンク（８ａ、８ｂ）を具備し、少なくとも１つのタンクは、他のタンクが排出している間、低温液体で満たされることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１に記載のポンプシステム。
6. 前記タンク（８ａ、８ｂ）は、飽和低温液体とその蒸気で満たされることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１に記載のポンプシステム。
7. 前記低温流体は、低密度流体であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１に記載のポンプシステム。
8. 低密度の前記低温流体は、水素又はヘリウムであることを特徴とする請求項７に記載のポンプシステム。
9. 前記タンク（８ａ、８ｂ）は、高圧ガス源（２２）を用いて加圧されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１に記載のポンプシステム。
10. 前記高圧ガス源（２２）の加圧ガスは、前記ポンプ（１８）により加圧された流体の一部であることを特徴とする請求項９に記載のポンプシステム。

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