JP2007521500A - 集積回路を製造するためのパターンを作成する方法 - Google Patents
集積回路を製造するためのパターンを作成する方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007521500A JP2007521500A JP2005507805A JP2005507805A JP2007521500A JP 2007521500 A JP2007521500 A JP 2007521500A JP 2005507805 A JP2005507805 A JP 2005507805A JP 2005507805 A JP2005507805 A JP 2005507805A JP 2007521500 A JP2007521500 A JP 2007521500A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- features
- important
- feature
- design
- stripe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
- G03F1/76—Patterning of masks by imaging
- G03F1/78—Patterning of masks by imaging by charged particle beam [CPB], e.g. electron beam patterning of masks
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
- G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/30—Circuit design
- G06F30/39—Circuit design at the physical level
- G06F30/392—Floor-planning or layout, e.g. partitioning or placement
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2119/00—Details relating to the type or aim of the analysis or the optimisation
- G06F2119/18—Manufacturability analysis or optimisation for manufacturability
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P90/00—Enabling technologies with a potential contribution to greenhouse gas [GHG] emissions mitigation
- Y02P90/02—Total factory control, e.g. smart factories, flexible manufacturing systems [FMS] or integrated manufacturing systems [IMS]
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Architecture (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Design And Manufacture Of Integrated Circuits (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Abstract
Description
Claims (34)
- 集積回路設計を生成する工程と、
設計の各レイヤーに対する設計データを含む設計データベースを作成する工程と、
前記設計のレイヤーの特徴に対する文脈情報を作成する工程と、
レイヤーの特徴の重要な属性を識別するために文脈情報を解析する工程と、
レイヤーを複数のストライプに画分する工程と、
特徴の属性の重要性に基づいて、各特徴をひとつまたはそれ以上の複数のストライプに割り当てる工程と、
対応するストライプ内で各特徴を描くために描画プランを案出する工程と、
から成る方法。 - 請求項1に記載の方法であって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析する工程は、
設計の重要な属性を識別する工程と、
重要な属性を有する多角形を識別する工程と、
から成る、ところの方法。 - 請求項2に記載の方法であって、さらに、
重要な多角形の各々を複数の形状に分割する工程と、
多角形ごとに、重要な属性を有する形状を識別する工程と、
を含む方法。 - 請求項3に記載の方法であって、各特徴をひとつのストライプに割り当てる工程は、各形状を前記各形状の属性と整合するひとつまたはそれ以上のストライプに割り当てる工程から成る、ところの方法。
- 請求項1に記載の方法であって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析する工程は、
レイヤーに関する設計データをユーザーに表示する工程と、
レイヤーの特徴に関する文脈情報を表示する工程と、
特徴の重要な属性の識別をユーザーから受信する工程と、
から成るところの方法。 - 請求項5に記載の方法であって、各重要な特徴をひとつのストライプに割り当てる工程は、ひとつのストライプへの特徴の割り当てをユーザーから受信する工程から成る、ところの方法。
- 請求項6に記載の方法であって、さらに、描画プランに対する描画時間を計算する工程を含む方法。
- 請求項7に記載の方法であって、さらに、描画時間に基づいて描画プランを受諾または拒否する工程を含む方法。
- 請求項1に記載の方法であって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析する工程は、文脈情報に基づいてレイヤーの重要な特徴を自動的に配置する工程から成る、ところの方法。
- 請求項9に記載の方法であって、レイヤーを複数のストライプに画分する工程は、各重要な特徴がひとつのストライプ内にあるように、パーティションを自動的に生成する工程から成る、ところの方法。
- 請求項10に記載の方法であって、さらに、描画プランに対する描画時間を計算する工程を含む方法。
- 請求項11に記載の方法であって、さらに、描画時間に基づいて描画プランを受諾するかまたは拒否する工程を含む方法。
- 集積回路設計を生成するための手段と、
設計の各レイヤーに関する設計データを含む設計データベースを作成するための手段と、
設計のレイヤーの特徴に関する文脈情報を作成するための手段と、
レイヤーの特徴の重要な属性を識別するために文脈情報を解析するための手段と、
レイヤーを複数のストライプに画分するための手段と、
その属性に基づいて、各特徴をひとつまたはそれ以上の複数のストライプに割り当てるための手段と、
対応するストライプ内に各重要な特徴を描くために描画プランを案出するための手段と、
から成るシステム。 - 請求項13に記載のシステムであって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析するための手段は、設計の重要な属性を識別するための手段と、重要な属性を有する多角形を識別するための手段と、から成るところのシステム。
- 請求項14に記載のシステムであって、さらに、
重要な多角形の各々を複数の形状に分割するための手段と、
多角形の各々に対して、重要な属性を有する形状を識別するための手段と、
を含むシステム。 - 請求項15に記載のシステムであって、各重要な特徴をひとつのストライプに割り当てるための手段は、重要な属性を有する各形状をひとつのストライプに割り当てるための手段から成るところのシステム。
- 請求項13に記載のシステムであって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析するための手段は、
レイヤーに関する設計データをユーザーに表示するための手段と、
レイヤーの特徴に関する文脈情報をユーザーに表示するための手段と、
重要な特徴の識別をユーザーから受信するための手段と、
から成るところのシステム。 - 請求項17に記載のシステムであって、各重要な特徴をひとつのストライプに割り当てるための手段は、ひとつのストライプへの特徴の割り当てをユーザーから受信するための手段から成る、ところのシステム。
- 請求項18に記載のシステムであって、さらに、描画プランに対する描画時間を計算するための手段を含むシステム。
- 請求項19に記載のシステムであって、さらに、描画時間に基づいて描画プランを受諾または拒否するための手段を含むシステム。
- 請求項13に記載のシステムであって、重要な特徴を識別するために文脈情報を解析するための手段は、文脈情報に基づいてレイヤーの重要な特徴を自動的に配置するための手段から成るところのシステム。
- 請求項21に記載のシステムであって、レイヤーを複数のストライプへ画分するための手段は、各重要な特徴がひとつのストライプ内にあるようにパーティションを自動的に生成するための手段から成るところのシステム。
- 請求項21に記載のシステムであって、さらに、描画プランに対する描画時間を計算するための手段を含むシステム。
- 請求項23に記載のシステムであって、さらに、描画時間に基づいて描画プランを受諾または拒否するための手段を含むシステム。
- 複数の多角形を有する集積回路設計データを生成する工程と、
集積回路設計データから文脈情報を決定する工程と、
特徴の重要な属性を重要でない属性及び特徴から区別するために、文脈情報により設計データの特徴を解析する工程と、
から成る方法。 - 請求項25に記載の方法であって、さらに、その特徴の属性と釣り合った精度で各特徴を描くために、マスク描画処理を調節する工程を含む方法。
- 請求項25に記載の方法であって、設計特徴に関する文脈情報が、隣接幾何学関係、特徴の電気的目的、所定回路のタイミング、及び与えられた特徴と隣りの特徴との関係に対する情報から成る、ところの方法。
- 請求項25に記載の方法であって、さらに、文脈情報に基づいて設計の他の特徴と比較し、与えられた特徴、または与えられた特徴の与えられた属性の重要性を識別する工程を含む方法。
- 相対的な重要性が文脈情報により識別されるところの請求項28に記載の方法であって、前記文脈情報が、設計内の特定の位置に特徴を配置するための理由、設計内での特徴の使用目的、及び設計内での特徴の電気的要件から成る、ところの方法。
- 複数の多角形を有する集積回路設計データを生成するための手段と、
集積回路設計データから文脈情報を決定するための手段と、
特徴の重要な属性を重要でない属性から区別するために、文脈情報により設計データの特徴を解析するための手段と、
から成るシステム。 - 請求項30に記載のシステムであって、さらに、その特徴の属性と釣り合う精度で各特徴を描くためにマスク描画処理を調節するための手段を含むシステム。
- 請求項30に記載のシステムであって、設計特徴に関する文脈情報は、隣接幾何学関係、特徴の電気的目的、所定回路のタイミング、特徴の冗長性、及び与えられた特徴と隣りの特徴との関係に対する情報から成る、ところのシステム。
- 請求項30に記載のシステムであって、さらに、文脈情報に基づいて設計の他の特徴と比較した、与えられた特徴の重要性を識別するための手段を含む、ところのシステム。
- 相対的重要性が文脈情報により識別されるところの請求項33に記載のシステムであって、前記文脈情報が、設計内の特定の位置に特徴を配置するための理由、設計内での特徴の使用目的、及び設計内での特徴の電気的要件から成る、ところの方法。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/US2003/021997 WO2005017785A1 (en) | 2003-07-14 | 2003-07-14 | Method for creating patterns for producing integrated circuits |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007521500A true JP2007521500A (ja) | 2007-08-02 |
Family
ID=34192484
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005507805A Pending JP2007521500A (ja) | 2003-07-14 | 2003-07-14 | 集積回路を製造するためのパターンを作成する方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1644855A4 (ja) |
JP (1) | JP2007521500A (ja) |
AU (1) | AU2003249230A1 (ja) |
WO (1) | WO2005017785A1 (ja) |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6453452B1 (en) * | 1997-12-12 | 2002-09-17 | Numerical Technologies, Inc. | Method and apparatus for data hierarchy maintenance in a system for mask description |
US6456899B1 (en) * | 1999-12-07 | 2002-09-24 | Ut-Battelle, Llc | Context-based automated defect classification system using multiple morphological masks |
US6444373B1 (en) * | 2000-06-16 | 2002-09-03 | Advanced Micro Devices, Inc. | Modification of mask layout data to improve mask fidelity |
US6353774B1 (en) * | 2000-09-22 | 2002-03-05 | Virtek Engineering Sciences Inc. | High precision vision guided positioning device |
US6526550B1 (en) * | 2000-09-29 | 2003-02-25 | General Electric Company | Analyzing characteristics of geometries |
JP2002196470A (ja) * | 2000-12-26 | 2002-07-12 | Hitachi Ltd | フォトマスクの製造方法および半導体集積回路装置の製造方法 |
US6901574B2 (en) * | 2001-02-09 | 2005-05-31 | Lacour Patrick J. | Data management method for mask writing |
US6703167B2 (en) * | 2001-04-18 | 2004-03-09 | Lacour Patrick Joseph | Prioritizing the application of resolution enhancement techniques |
US6560766B2 (en) * | 2001-07-26 | 2003-05-06 | Numerical Technologies, Inc. | Method and apparatus for analyzing a layout using an instance-based representation |
US7302111B2 (en) * | 2001-09-12 | 2007-11-27 | Micronic Laser Systems A.B. | Graphics engine for high precision lithography |
JP2003315973A (ja) * | 2002-04-19 | 2003-11-06 | Fujitsu Ltd | マスク設計装置、マスク設計方法、プログラムおよび半導体装置製造方法 |
-
2003
- 2003-07-14 AU AU2003249230A patent/AU2003249230A1/en not_active Abandoned
- 2003-07-14 JP JP2005507805A patent/JP2007521500A/ja active Pending
- 2003-07-14 WO PCT/US2003/021997 patent/WO2005017785A1/en active Application Filing
- 2003-07-14 EP EP03818146A patent/EP1644855A4/en not_active Withdrawn
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1644855A4 (en) | 2007-08-01 |
AU2003249230A1 (en) | 2005-03-07 |
WO2005017785A1 (en) | 2005-02-24 |
EP1644855A1 (en) | 2006-04-12 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US10216890B2 (en) | Integrated circuits having in-situ constraints | |
US6370673B1 (en) | Method and system for high speed detailed placement of cells within an integrated circuit design | |
US10248751B2 (en) | Alternative hierarchical views of a circuit design | |
US20080066041A1 (en) | Auxiliary pattern generation for cell-based optical proximity correction | |
US20150149969A1 (en) | Layout design for electron-beam high volume manufacturing | |
US7024638B2 (en) | Method for creating patterns for producing integrated circuits | |
US10990741B2 (en) | Multiple patterning method and system for implementing the method | |
US10311197B2 (en) | Preserving hierarchy and coloring uniformity in multi-patterning layout design | |
US20230351087A1 (en) | Using machine trained network during routing to modify locations of vias in an ic design | |
US20230306177A1 (en) | Using topological and geometric routers to produce curvilinear routes | |
JPWO2006137119A1 (ja) | フロアプラン装置,フロアプランプログラム及び同プログラムを記録したコンピュータ読取可能な記録媒体 | |
US20230282635A1 (en) | Integrated circuit with non-preferred direction curvilinear wiring | |
US7590955B1 (en) | Method and system for implementing layout, placement, and routing with merged shapes | |
JP2007521500A (ja) | 集積回路を製造するためのパターンを作成する方法 | |
US8181143B2 (en) | Method and apparatus for generating a memory-efficient representation of routing data | |
US8132141B2 (en) | Method and apparatus for generating a centerline connectivity representation | |
JPH0645443A (ja) | 階層化配線方法 | |
Xiang et al. | A simple fast exact density calculation algorithm |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080529 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090806 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090811 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091016 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091023 |
|
A601 | Written request for extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A601 Effective date: 20091210 |
|
A602 | Written permission of extension of time |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A602 Effective date: 20091217 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100310 |