JP2007516417A5 - - Google Patents

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  1. レーザから放射される光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するようになった分光計測定器を含むレーザモニタリングシステムであって、
    前記測定器が、
    測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータを出力として供給するようになった光帯域幅測定ユニットと、
    次式:
    記録パラメータ(「RP」)=A*(測定パラメータ(「MP」))+C
    (ここで、RP及びMPは異なるタイプのパラメータ、A及びCの値はRPが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのMP応答の較正に基づいて決定される)
    に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算するようになった記録パラメータ計算ユニットと、
    を備えたレーザモニタリングシステム。
  2. 前記光帯域幅測定ユニットが干渉又は分散光学計器を含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザモニタリングシステム。
  3. 前記光帯域幅測定ユニットがエタロンを含むことを特徴とする請求項1に記載のレーザモニタリングシステム。
  4. RPがFWXMにおけるものであり、MPがFWX’Mにおけるものであり、X≠X’であることを特徴とする請求項3に記載のレーザモニタリングシステム。
  5. RPがEX%におけるものであり、MPがFWXMにおけるものであることを特徴とする請求項4に記載のレーザモニタリングシステム。
  6. レーザを制御するための方法であって、
    測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータの測定値を供給する段階と、
    次式:
    記録パラメータ(「RP」)=A*(測定パラメータ(「MP」))+C
    (ここで、RP及びMPは異なるタイプのパラメータ、A及びCの値はRPが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのMP応答の較正に基づいて決定される)
    に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算する段階と、
    によってレーザから放射される光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するために分光計手段を利用することを含む方法。
  7. 前記光帯域幅を測定するために干渉又は分散光学計器を用いる段階を更に含む請求項6に記載の方法。
  8. 前記光帯域幅を測定するためにエタロンを用いる段階を更に含む請求項7に記載の方法。
  9. RPがFWXMにおけるものであり、MPがFWX’Mにおけるものであり、X≠X’であることを特徴とする請求項8に記載の方法。
  10. RPがEX%におけるものであり、MPがFWXMにおけるものであることを特徴とする請求項9に記載の方法。
  11. 光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するための方法であって、
    光帯域幅測定手段を用いて測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータを出力として供給する段階と、
    次式:
    記録パラメータ(「RP」)=A*(測定パラメータ(「MP」))+C
    (ここで、RP及びMPは異なるタイプのパラメータ、A及びCの値はRPが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのMP応答の較正に基づいて決定される)
    に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算する段階と、を含む方法。
  12. 前記光帯域幅測定を行うために干渉又は分散光学計器を用いる段階を更に含む請求項11に記載の方法。
  13. 前記光帯域幅測定を行うためにエタロンを用いる段階を更に含む請求項12に記載の方法。
  14. RPがFWXMにおけるものであり、MPがFWX’Mにおけるものであり、X≠X’であることを特徴とする請求項13に記載の方法。
  15. RPがEX%におけるものであり、MPがFWXMにおけるものであることを特徴とする請求項14に記載の方法。
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