JP2007516417A5 - - Google Patents

Claims (15)

1. レーザから放射される光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するようになった分光計測定器を含むレーザモニタリングシステムであって、
   前記測定器が、
   測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータを出力として供給するようになった光帯域幅測定ユニットと、
   次式：
   記録パラメータ（「ＲＰ」）＝Ａ＊（測定パラメータ（「ＭＰ」））＋Ｃ
   （ここで、ＲＰ及びＭＰは異なるタイプのパラメータ、Ａ及びＣの値はＲＰが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのＭＰ応答の較正に基づいて決定される）
   に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算するようになった記録パラメータ計算ユニットと、
   を備えたレーザモニタリングシステム。
2. 前記光帯域幅測定ユニットが干渉又は分散光学計器を含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザモニタリングシステム。
3. 前記光帯域幅測定ユニットがエタロンを含むことを特徴とする請求項１に記載のレーザモニタリングシステム。
4. ＲＰがＦＷＸＭにおけるものであり、ＭＰがＦＷＸ’Ｍにおけるものであり、Ｘ≠Ｘ’であることを特徴とする請求項３に記載のレーザモニタリングシステム。
5. ＲＰがＥＸ％におけるものであり、ＭＰがＦＷＸＭにおけるものであることを特徴とする請求項４に記載のレーザモニタリングシステム。
6. レーザを制御するための方法であって、
   測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータの測定値を供給する段階と、
   次式：
   記録パラメータ（「ＲＰ」）＝Ａ＊（測定パラメータ（「ＭＰ」））＋Ｃ
   （ここで、ＲＰ及びＭＰは異なるタイプのパラメータ、Ａ及びＣの値はＲＰが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのＭＰ応答の較正に基づいて決定される）
   に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算する段階と、
   によってレーザから放射される光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するために分光計手段を利用することを含む方法。
7. 前記光帯域幅を測定するために干渉又は分散光学計器を用いる段階を更に含む請求項６に記載の方法。
8. 前記光帯域幅を測定するためにエタロンを用いる段階を更に含む請求項７に記載の方法。
9. ＲＰがＦＷＸＭにおけるものであり、ＭＰがＦＷＸ’Ｍにおけるものであり、Ｘ≠Ｘ’であることを特徴とする請求項８に記載の方法。
10. ＲＰがＥＸ％におけるものであり、ＭＰがＦＷＸＭにおけるものであることを特徴とする請求項９に記載の方法。
11. 光のスペクトルの未知の帯域幅を測定するための方法であって、
    光帯域幅測定手段を用いて測定されているスペクトルの未知の帯域幅のパラメータを表す測定パラメータを出力として供給する段階と、
    次式：
    記録パラメータ（「ＲＰ」）＝Ａ＊（測定パラメータ（「ＭＰ」））＋Ｃ
    （ここで、ＲＰ及びＭＰは異なるタイプのパラメータ、Ａ及びＣの値はＲＰが既知の値の光に対する前記光帯域幅測定ユニットのＭＰ応答の較正に基づいて決定される）
    に従って測定されるスペクトルの未知の帯域幅の記録パラメータを計算する段階と、を含む方法。
12. 前記光帯域幅測定を行うために干渉又は分散光学計器を用いる段階を更に含む請求項１１に記載の方法。
13. 前記光帯域幅測定を行うためにエタロンを用いる段階を更に含む請求項１２に記載の方法。
14. ＲＰがＦＷＸＭにおけるものであり、ＭＰがＦＷＸ’Ｍにおけるものであり、Ｘ≠Ｘ’であることを特徴とする請求項１３に記載の方法。
15. ＲＰがＥＸ％におけるものであり、ＭＰがＦＷＸＭにおけるものであることを特徴とする請求項１４に記載の方法。