JP2007501121A5

JP2007501121A5 -

Info

Publication number: JP2007501121A5
Application number: JP2006526468A
Authority: JP
Filing date: 2004-05-12
Publication date: 2007-06-28
Anticipated expiration: 2024-05-12

Claims

ガス状反応物から液状生成物を生成し、そして、任意でガス状生成物を生成するための方法であって、
ガス状反応物および任意で再循環ガス流の一部分を、容器内の懸濁液中に懸濁した固体粒子の鉛直に延びるスラリー床の中に低いレベルで供給する工程と、
前記再循環ガス流の少なくとも一部分を、前記スラリー床中において、前記ガス状反応物が前記スラリー床内に供給されるレベルの上方で、且つ、前記スラリー床の鉛直高さの下側２０％の位置よりも上方に、追加のガス供給として供給する工程と、
前記ガス状反応物および再循環ガスが、前記スラリー床を上向きに通過するときに反応することを可能にする工程であって、それによって液状生成物および任意でガス状生成物を形成し、前記液状生成物が前記懸濁液と共に前記スラリー床の液相を形成するところの工程と、
ガス状生成物、未反応のガス状反応物および未反応の再循環ガスが、前記スラリー床から離脱して、前記スラリー床の上方のヘッドスペースに入ることを可能にする工程と、
ガス状生成物および未反応のガス状反応物および未反応の再循環ガスを前記ヘッドスペースから抜き取る工程と、
前記スラリー床から液相を抜き取って、前記スラリー床を所望のレベルに維持する工程と、
前記ヘッドスペースからガス状成分の少なくとも一部分を再循環させて、前記再循環ガス流を提供する工程と
を含む方法。
スラリー再分配手段またはスラリー再分配器を使用して、スラリーが前記スラリー床内の高いレベルから下向きに低いレベルに通過することを可能にして、それによって前記スラリー床内に固体粒子を再分配する工程を含む、請求項１に記載の方法。
前記追加のガス供給が、前記スラリー床内の鉛直高さの２０％と８０％との間に位置するレベルで行われる、請求項１または請求項２に記載の方法。
前記固体粒子が、前記ガス状反応物の反応に触媒作用を及ぼして、前記液状生成物にし、場合により、前記ガス状生成物にするための触媒粒子であり、そして、前記懸濁液が前記液状生成物である、請求項１から３のいずれか１つに記載の方法。
前記ガス状反応物が、前記スラリー床内で触媒的に反応して、液状炭化水素生成物を形成し、任意で、ガス状炭化水素生成物を形成することができるところの炭化水素合成方法である、請求項１から４のいずれか１つに記載の方法。
前記追加のガス供給により、前記スラリー床に入るガスの総体積供給量の少なくとも１０％が提供される、請求項１から５のいずれか１つに記載の方法。
前記追加のガス供給により、前記スラリー床に入るガスの総体積供給量の６０％以下が提供される、請求項１から６のいずれか１つに記載の方法。
前記追加のガス供給が、前記スラリー床の鉛直高さの３０％よりも上方に位置するレベルで行われる、請求項１から７のいずれか１つに記載の方法。
前記再循環ガス流の全体が前記追加のガス供給の一部分を形成する、請求項１から８のいずれか１つに記載の方法。
ガス状反応物から液状生成物を生成し、そして、任意でガス状生成物を生成する装置であって、
鉛直に延びるスラリー床ゾーンを有する反応容器であって、使用の際に懸濁液中に懸濁した固体粒子のスラリー床を収容する反応容器と、
ガス状反応物を前記容器内に導入するために、前記容器内で、前記スラリー床ゾーン内の低いレベルに設けられた第１のガス入口と、
前記容器内に再循環ガスを導入するために、前記容器内で、前記第１のガス入口の上方の、前記スラリー床ゾーン内の所定のレベルに設けられた第２のガス入口であって、前記容器内の前記第２のガス入口が前記スラリー床ゾーンの鉛直高さの下側２０％の位置よりも上方に位置するところの第２のガス入口と、
前記スラリー床ゾーンの上方のヘッドスペースからガスを抜き取るために、前記容器内で、前記スラリー床ゾーンの上方に設けられたガス出口と、
前記容器から液状生成物を抜き取るために、前記容器内で、前記スラリー床ゾーン中に設けられた液体出口と
を備える装置。
スラリー再分配手段またはスラリー再分配器を備え、それを介して、使用に際してスラリーが前記スラリー床内の高いレベルから低いレベルに再分配されて、固体粒子を前記スラリー床内で再分配する、請求項１０に記載の装置。
前記第２のガス入口が、前記スラリー床ゾーンの鉛直高さの２０％と８０％との間に位置するレベルにある、請求項１０または１１に記載の装置。
前記第２のガス入口が、前記スラリー床ゾーンの鉛直高さの下側３０％よりも上方のレベルにある、請求項１０から１２のいずれか１つに記載の装置。
前記スラリー再分配手段またはスラリー再分配器が下降管を備え、前記下降管が少なくとも第１の下降管領域および第２の下降管領域に配置され、前記第２の下降管領域が前記第１の下降管領域に対して鉛直方向に空間を開けて配置される、請求項１１に記載の装置。