JP2007329304A - 静電チャック装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】Heガス供給穴内部での放電を制御して、製品の歩留りを向上させ、ドライエッチングによる安定したパターンニング工程を提供することができる静電チャック装置を提供することを目的とするものである。
【解決手段】Heガス供給穴12にセラミックシャフト11を挿入することで、放電可能空間を減少し、Heガス供給穴12の内部での放電を抑制し、ウエハ16の裏面の放電を防止し、ウエハ16損傷を防止する静電チャック装置を提供する。
【選択図】図2
【解決手段】Heガス供給穴12にセラミックシャフト11を挿入することで、放電可能空間を減少し、Heガス供給穴12の内部での放電を抑制し、ウエハ16の裏面の放電を防止し、ウエハ16損傷を防止する静電チャック装置を提供する。
【選択図】図2
Description
本発明は、半導体やMEMS製品のパターンニングなどの微細加工に使用されるプラズマを用いたドライエッチング装置などに使用する被加工物を保持する静電チャック装置に関するものである。
従来、この種のドライエッチング処理装置は、処理中のウエハがプラズマの照射により高温になり、レジストの膨潤によるパターンニング不良や製品が損傷するという課題を有していた。この課題を解決するために、静電チャックやメカチャックを利用して、ウエハを水冷等の手段で冷却制御されたウエハ台に固定し、ウエハとウエハ台の間に冷却媒体であるHeガスを供給してウエハ自身の温度を制御する方法は周知の技術である。図5において、12はウエハを冷却するHeガスを供給するHeガス供給穴、13はウエハを固定保持する静電チャック、14は下部電極、15は高周波電源、16はドライエッチング加工を施す被加工物となるウエハであり、静電チャック13表面にHeガス供給穴12を1個または複数個配置し、Heガスを供給するという方法がとられている。
なお、この出願に関する先行技術文献情報としては、例えば、特許文献1が知られている。
実開平7−10933号公報
しかしながら、ドライエッチング処理中に前述Heガス供給穴内部において放電が発生してしまい、この放電によりウエハ裏面に損傷を与え、製品の歩留りを悪化させるという課題を有していた。
本発明は、前記課題を解決しようとするものであり、Heガス供給穴内部での放電を制御して、製品の歩留りを向上させ、ドライエッチングによる安定したパターンニング工程を提供することができる静電チャック装置を提供することを目的とするものである。
前記目的を達成するために、本発明は以下の構成を有するものである。
本発明の請求項1に記載の発明は、特に、放電空間となるガス供給穴にシャフトを挿入するという構成を有しており、これにより、放電空間を減少させHeガス供給穴内部での放電を抑制するという作用効果を有する。
本発明の請求項2に記載の発明は、特に、シャフトを中空のパイプ状にしたという構成を有しており、これにより、中空部分にガス供給経路を設けHeガスの供給量を低下させることなく且つHeガス供給穴内部での放電を抑制するという作用効果を有する。
本発明の請求項3に記載の発明は、特に、電極に設けるHeガス供給穴の断面積を静電チャックのセラミック部分に設けるHeガス供給穴の断面積よりも広くした構成を有しており、これにより、ウエハ裏面と下部電極との間の放電を抑制制御し、放電によるウエハ損傷を防止するという作用効果を有する。
本発明のプラズマ処理用の静電チャック装置によれば、He供給穴内部にセラミックシャフトを挿入することにより放電可能空間を減少させた構成とし、Heガス供給穴内部での放電の制御を行ない、製品の歩留りが向上できるという効果を有する。
以下、実施の形態1を用いて、本発明の特に請求項1〜2に記載の発明について図面を参照しながら説明する。
なお、背景の技術において説明したものと同じ構成部材などについては、同じ符号を付与し詳細な説明は省略する。
(実施の形態1)
図1は、ドライエッチング装置の断面図である。
図1は、ドライエッチング装置の断面図である。
図1において、1は上部電極、2は下部電極カバー、3は被加工物を保持する静電チャック、4は下部電極、5は高周波電源、6は被加工物となるウエハ、7はチャンバである。この装置の動作を説明すると、まず、静電チャック3に設けられた溝にHeガスを供給し、このHeガスを媒体として、水冷された下部電極4でウエハ6を冷却する。そして、チャンバ7内を真空に排気し、上部電極1と下部電極4の間にプロセスガスを供給し、下部電極4に高周波を印加しプラズマを発生させる。このプラズマによりウエハ6表面の被エッチング膜にエッチング処理を施す。
図2は、本発明の実施の形態1における静電チャックの断面図である。
図2において、11は後述するHeガス供給穴に設けたセラミックシャフト、12はウエハを冷却するHeガスを供給するHeガス供給穴、13はウエハを固定保持する静電チャック、14は下部電極、15は高周波電源、16はドライエッチング加工を施す被加工物となるウエハである。
次に、本発明の請求項1に記載の発明について、図面を参照しながら説明する。図2は、静電チャック13に設けられたHeガス供給穴12の内部に、セラミックシャフト11を挿入した構成であり、それによりHeガス供給穴12内部における放電可能空間を減少させ、Heガス供給穴12の内部での放電を防止する。これによりウエハ16の裏面の上記放電による損傷を防止でき、製品の歩留りを向上できる。
次に、本発明の請求項2に記載の発明について、図面を参照しながら説明する。図3は、セラミックシャフト11を中空のパイプ状にした構成であり、Heガスの供給経路となる供給穴を有していることにより、Heガスの供給量を低下させることなくウエハ16を冷却し、且つHeガス供給穴12内部での放電を防止することにより、ウエハ16裏面の放電による損傷を防止でき、製品の歩留りを向上できる。
(実施の形態2)
図4は、本発明の実施の形態2における静電チャックの断面図である。
図4は、本発明の実施の形態2における静電チャックの断面図である。
図4を用いて、本発明の請求項3に記載の発明について、図面を参照しながら説明する。図4において、下部電極14に設けるHeガス供給穴12aのガス供給方向の断面積を、静電チャック13のセラミック部分に設けるHeガス供給穴12のガス供給方向の断面積よりも広く(大きく)した静電チャック構造であり、ウエハ16の裏面と、Heガス供給穴12aを有した下部電極14とのHeガス供給穴に沿う距離を離すことにより、Heガス供給穴12内部での放電を防止することにより、ウエハ16裏面の放電による損傷を防止でき、製品の歩留りを向上できる。
本発明にかかるプラズマ処理用静電チャック装置は、Heガス供給穴内部にセラミックシャフトを挿入することにより放電可能空間を減少させた構成であり、Heガス供給穴内部での放電の抑制制御により製品の歩留りを向上できるという作用効果を有し、半導体やMEMS製品のパターンニングに使用されるプラズマを用いたドライエッチング装置などの用途として有用である。
1 上部電極
2 下部電極カバー
3 静電チャック
4 下部電極
5 高周波電源
6 ウエハ
11 セラミックシャフト(シャフト)
12,12a Heガス供給穴(ガス供給穴)
13 静電チャック
14 下部電極
15 高周波電源
16 ウエハ
2 下部電極カバー
3 静電チャック
4 下部電極
5 高周波電源
6 ウエハ
11 セラミックシャフト(シャフト)
12,12a Heガス供給穴(ガス供給穴)
13 静電チャック
14 下部電極
15 高周波電源
16 ウエハ
Claims (3)
- 高周波電源と接続し、プラズマを発生させる下部電極と、
上記プラズマにより微細加工される被加工物を保持固定する静電チャックを有した静電チャック装置において、
上記静電チャックと上記下部電極に有した上記被加工物を所定のガスで冷却するためのガス供給穴に、当該ガス供給穴の空間を減少させるシャフトを設けたことを特徴とする静電チャック装置。 - シャフトは、中空のパイプ状であることを特徴とした請求項1に記載の静電チャック装置。
- 高周波電源と接続し、プラズマを発生させる下部電極と、
上記プラズマにより微細加工される被加工物を保持固定する静電チャックを有した静電チャック装置において、
上記静電チャックと上記下部電極には上記被加工物を所定のガスで冷却するためのガス供給穴を有し、
下部電極に設けたガス供給穴のガス供給方向の断面積は、
静電チャックに設けたガス供給穴のガス供給方向の断面積よりも大きいことを特徴とした静電チャック装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006159438A JP2007329304A (ja) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | 静電チャック装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2006159438A JP2007329304A (ja) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | 静電チャック装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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Family
ID=38929571
Family Applications (1)
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JP2006159438A Pending JP2007329304A (ja) | 2006-06-08 | 2006-06-08 | 静電チャック装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007329304A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015023160A (ja) * | 2013-07-19 | 2015-02-02 | Sppテクノロジーズ株式会社 | プラズマ処理装置 |
CN108155094A (zh) * | 2016-12-05 | 2018-06-12 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
US10279357B2 (en) | 2014-05-23 | 2019-05-07 | Stamford Devices Limited | Method for producing an aperture plate |
JP2019149422A (ja) * | 2018-02-26 | 2019-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 |
-
2006
- 2006-06-08 JP JP2006159438A patent/JP2007329304A/ja active Pending
Cited By (5)
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CN108155094A (zh) * | 2016-12-05 | 2018-06-12 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
JP2019149422A (ja) * | 2018-02-26 | 2019-09-05 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 |
JP6994981B2 (ja) | 2018-02-26 | 2022-01-14 | 東京エレクトロン株式会社 | プラズマ処理装置及び載置台の製造方法 |
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