JP2007324611A - 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置 - Google Patents

高温超伝導磁気シールド体用冷却装置 Download PDF

Info

Publication number
JP2007324611A
JP2007324611A JP2007185413A JP2007185413A JP2007324611A JP 2007324611 A JP2007324611 A JP 2007324611A JP 2007185413 A JP2007185413 A JP 2007185413A JP 2007185413 A JP2007185413 A JP 2007185413A JP 2007324611 A JP2007324611 A JP 2007324611A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
magnetic shield
cooling
substrate
vacuum vessel
temperature superconducting
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2007185413A
Other languages
English (en)
Other versions
JP4797000B2 (ja
Inventor
Katsuhiro Narasaki
勝弘 楢崎
Shoji Tsunematsu
正二 恒松
Yukio Furuyabu
幸夫 古薮
Hiroshi Ota
浩 太田
Kazutomo Hoshino
和友 星野
Atsushi Koike
淳 小池
Hidekazu Sudo
英一 須藤
Yutaka Kamegawa
豊 亀川
Kiyoshi Nakayama
清 中山
Teruo Shimizu
輝夫 清水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
National Institute of Information and Communications Technology
Sumitomo Heavy Industries Ltd
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Nippon Keiki Works Ltd
Original Assignee
Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
National Institute of Information and Communications Technology
Sumitomo Heavy Industries Ltd
RIKEN Institute of Physical and Chemical Research
Nippon Keiki Works Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitsui Mining and Smelting Co Ltd, National Institute of Information and Communications Technology, Sumitomo Heavy Industries Ltd, RIKEN Institute of Physical and Chemical Research, Nippon Keiki Works Ltd filed Critical Mitsui Mining and Smelting Co Ltd
Priority to JP2007185413A priority Critical patent/JP4797000B2/ja
Publication of JP2007324611A publication Critical patent/JP2007324611A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4797000B2 publication Critical patent/JP4797000B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Containers, Films, And Cooling For Superconductive Devices (AREA)

Abstract

【課題】冷媒の補給をすることなく、磁気シールド体を90K以下に冷却でき、取り扱い容易で連続運転が可能で且つ良好な磁気シールド特性を得ること。
【解決手段】真空容器内に断熱サポートにより支承された高温超伝導磁気シールド体を設置し、真空容器の前記磁気シールド体(1)は、円筒形磁気シールド基板(3)の内周面に高温超伝導体(4)を付着し、その外周面に冷却管(5)を円筒形磁気シールド基板(3)の軸方向にジグザグ状に配管部分溶接した構造からなり、冷却装置(20)の高圧配管(26)および低圧戻り配管(27)と前記冷却管(5)とを連通させ、断熱サポートは、磁気シールド基板(3)の一端部を前記真空容器の外筒(10)と断熱材からなるリンク機構(14)で連結し、他端部を断熱材を介してローラで当接させている。
【選択図】図1

Description

本発明は脳磁界計測や精密物理計測の際に障害となる環境磁場をシールドするための高温超伝導体を利用した磁気シールド装置に関する。
液体窒素で高温超伝導シールド体を冷却する方式の磁気シールド装置は従来から公知である。図5は断面が円環状の真空容器30内に液体窒素LN
を充填した貯槽31を設置したもので、該貯槽は内周面に高温超伝導体32の薄層を有する磁気シールド体となる内筒33と外筒34の二重筒からなっている。図6は図5の竪型タイプを横型タイプにしたものである。
これらのタイプは貯槽31に充填している液体窒素(LN )が窒素ガス(GN
)となって消費すると液体窒素のレベルが低下して磁気シールド体上部の温度が上昇し、高温超伝導体の磁気シールド性が低下する。磁気シールド特性を得るためには高温超伝導体を90K以下に冷却しなければならないので定期的に液体窒素を補充しなければならない。貯槽が竪型の場合は高さが2メートルもあるので液体窒素の補充が困難であり、また、冷媒に液体窒素を利用しているため80K以下に冷却することは不可能で高温超伝導体の磁気シールド特性の向上に限界があった。
図7のタイプは円筒形の磁気シールド基板35に螺旋状の蛇管36をろう付し、該基板35の内周面に高温超伝導体32の薄層を塗布してなる磁気シールド体を真空容器30内に設置したものである。このタイプは液体窒素を蛇管36に流して磁気シールド基板35を液体窒素による循環冷却するため、前記図5、図6の貯槽タイプの欠点は改良されているが、螺旋状の蛇管を円筒形の基板35に一様に密着させることは加工上極めて困難である。その上、磁気シールド基板35に蛇管36をろう付けした後、高温超伝導体の後処理として焼鈍処理(約800°C)を行なわなければならないので焼鈍処理の間にろう付箇所が溶融して剥離すると云う問題点があった。
本発明は冷媒の補給を必要とすることがなく、磁気シールド体を90K以下に冷却でき、取り扱いが容易で長期の連続運転が可能で且つ良好な磁気シールド特性が得られる高温超伝導磁気シールド体用冷却装置を提供することを目的とするものである。
断面が円環状の真空容器内に断熱サポートにより支承された高温超伝導磁気シールド体を設置し、該磁気シールド体を超伝導状態に冷却する高温超伝導磁気シールド装置において、前記真空容器の前記磁気シールド体(1)は、円筒形磁気シールド基板(3)の内周面に高温超伝導体(4)を付着し、その外周面に冷却管(5)を前記円筒形磁気シールド基板(3)の軸方向にジグザグ状に配管部分溶接した構造からなり、ヘリウムガスを冷却循環媒体とする冷却装置(20)の高圧配管(26)および低圧戻り配管(27)と前記冷却管(5)とを連通させ、前記断熱サポートは、前記磁気シールド基板(3)の一端部を前記真空容器の外筒(10)と断熱材からなるリンク機構(14)で連結し、他端部を断熱材を介してローラで当接させていることを特徴とする。
本発明は、ヘリウムガスを冷却循環媒体とする冷却装置を使用するため、冷却装置の運転を開始するだけで磁気シールド基板を液体窒素温度以下の温度域まで冷却できるとともに、冷却媒体の補給をしなくても長期の無人連続運転が可能で、安定した磁気シールド特性が得られる高温超伝導体磁気シールド装置を提供できる。また、高温超伝導磁気シールド体を設置する真空容器と冷却装置の真空容器とはフレキシブル管で連絡されているため冷却装置の振動が高温超伝導磁気シールド体を設置する真空容器へ伝播することがない。さらに、本発明の磁気シールド体は磁気シールド基板に冷却管を磁気シールド体の軸方向にジグザグ状に配置して所々を溶接するだけでよいから冷却管を螺旋状に巻回する従来のものに較べて加工が極めて容易であり、軸方向の温度分布が僅少である。また、高温超伝導体の後処理としての焼鈍処理に際して冷却管が磁気シールド基板から剥離するおそれは全くない。また、磁気シールド基板の一端部は真空容器の外筒と断熱材からなるリンク機構と、そして他端部は外筒と断熱材を介してローラと当接しているため、磁気シールド体の熱歪みを吸収できる。
図1は本発明にかかる高温超伝導磁気シールド体用冷却装置の全体図である。1は真空容器2内に設置される磁気シールド体で、磁気シールド体はニッケルまたは銀製の円筒形磁気シールド基板3の内周面にセラミック質の高温超伝導体4の薄層が付着されており、磁気シールド基板3の外周面には図3、図4に示すように該基板の軸線方向にニッケル製の冷却管5がジグザグ状に折り曲げられて所々で部分溶接6されている。
即ち、磁気シールド基板3の外周面の軸方向に所定間隔で部分溶接された冷却管5は該基板の端部a位置で、基板3の外周面に沿ってb位置まで1/4周長周回させる。次に、b位置から軸方向に前記と逆方向にターンさせて基板3の端部c位置まで外周面に沿わせて部分溶接6し、c位置で前記と同様に基板3の外周面に沿ってd位置まで1/4周長周回させる。そして、d位置からまた軸方向にターンさせて基板端部e位置まで外周面に沿わせて部分溶接6し、e位置で再び基板3の外周面に沿って前記同様基板3の外周面に沿って1/4周長周回させここから軸方向にターンさせて基板端部位置まで外周面に沿わせて部分溶接6している。
つまり、冷却管5は磁気シールド基板3の両端部近傍1/4周長おきにジグザグに折り曲げられて基板3の外周面に90度間隔で軸方向に溶接された構造である。なお、冷却管5をその全長にわたって基板3に連続溶接すると歪みの原因となるので所々を部分溶接している。なお、7は管継手、8は冷却管5の入口および出口が容易に折り曲げられるように、基板3の端部に設けられた環状の把持具である。
前記構造の磁気シールド基板3は合成繊維の網とアルミ箔を多層に積重させた高性能の断熱材9で被覆されて磁気シールド体1が構成されている。真空容器2はSUS製外筒10とFRP製内筒11およびこれらの内外筒の空間を密閉するFRP製の上蓋12、下蓋13で形成されており、前記磁気シールド体1は真空容器2内の上下で断熱サポートにより支承されている。
下部断熱サポートは真空容器の外筒10の下部と磁気シールド基板3の下部とを円周方向に数ヶ所で、GFRP製のリンク機構14で連結されており、上部断熱サポートは真空容器の外筒11の上部に円周方向に数ヶ所で突設せるGFRP製ブラケット15で軸支しているローラ16を前記断熱材9を貫通させて磁気シールド基板3の上部外周面に当接させることにより磁気シールド体1の熱収縮が吸収される構造となっている。なお、ブラケット15は磁気シールド基板3側に設置してもよい。
20はヘリウムガスを冷却循環媒体とする冷却装置で、該装置は小型冷凍機21、圧縮機22、バイパス弁23、熱交換器24、冷凍機熱交換部25、高圧配管26、低圧戻り配管27と、そして、前記冷凍機21の冷却シリンダ、熱交換器24、冷凍機熱交換部25を封入する真空容器28から構成されており、高圧配管26と低圧戻り配管27は磁気シールド体1の冷却管5の両端に接続され冷却循環媒体の閉回路が形成されている。29、29は真空容器2と真空容器28間に連結され前記高圧配管26および低圧戻り配管27を被覆するフレキシブル管である。なお、小型冷凍機としては蓄冷式のギフォード・マクマホンサイクルのヘリウム冷凍機が使用される。
次に本発明の作用について説明する。冷却装置20において、圧縮機22を始動して冷凍機21を運転し、冷凍機熱交換部25が所定の冷却温度に達すると、バイパス弁23を開く。高圧ヘリウムガスの一部は熱交換器24を経て冷凍機熱交換部25で80K以下に冷却される。冷却されたヘリウムガスは高圧配管26から磁気シールド体1の冷却管5に流入し、磁気シールド基板3と熱交換して磁気シールド基板3を冷却する。そして、磁気シールド基板3内周面の高温超伝導体4が90K以下に冷却されて超伝導状態となると、真空容器の内筒12の内側空間Vが磁気シールド空間となる。
磁気シールド基板3と熱交換して昇温されたヘリウムガスは冷却管5から低圧戻り配管27を通って熱交換器24を経由して圧縮機22の低圧側に返送され圧縮機22から再び冷却媒体として送り出されて高圧配管26、冷却管5、低圧戻り配管27と繰り返し循環し冷却媒体を補充することなく磁気シールド基板3を冷却できる。そして、磁気シールド基板3は高性能の断熱材9で被覆されているので冷却管5を磁気シールド基板3の軸方向にジグザグ状に配管し、磁気シールド基板3へ冷却管の全長にわたって連続溶接しなくても磁気シールド基板3を80Kないし50K以下にまで冷却できる。また、磁気シールド基板3と冷却管5はともにニッケル材の溶接構造であるので、約800°Cで行なわれる高温超伝導体の焼鈍処理の際に接合部が剥離することはない。さらに、軸方向のジグザグ配管により軸方向の温度分布を僅少にすることができるとともに、より高性能の磁気シールド性能が得られる。
磁気シールド基板3の一端部は真空容器1の外筒11と断熱材からなるリンク機構15と、そして他端部は外筒1と断熱材を介してローラと当接しているため、磁気シールド体の熱歪みを吸収できる。さらに、冷却装置20の真空容器28と真空容器2とはフレキシブル管29、29で連結されているため冷却装置の振動が真空容器2へ伝播することがない。
本発明にかかる高温超伝導磁気シールド体用冷却装置の全体説明図。 図1におけるA−A線断面図。 本発明にかかる磁気シールド基板の正面図。 図3におけるB−B線断面図。 公知の高温超伝導磁気シールド装置の説明図。 公知の他の高温超伝導磁気シールド装置の説明図。 公知の他の高温超伝導磁気シールド装置の説明図。
符号の説明
1・・・・・磁気シールド体
2・・・・・真空容器
3・・・・・磁気シールド基板
4・・・・・高温超伝導体
5・・・・・冷却管
9・・・・・断熱材
10・・・・真空容器外筒
11・・・・真空容器内筒
14・・・・リンク機構
16・・・・ローラ
20・・・・冷却装置
21・・・・小型冷凍機
22・・・・圧縮機
23・・・・バイパス弁
24・・・・熱交換器
25・・・・冷凍機熱交換部
26・・・・高圧配管
27・・・・低圧戻り配管
28・・・・真空容器
29・・・・フレキシブル管
30・・・・真空容器
31・・・・貯槽
32・・・・高温超伝導体
35・・・・磁気シールド基板
V・・・・・磁気シールド空間

Claims (3)

  1. 断面が円環状の真空容器内に断熱サポートにより支承された高温超伝導磁気シールド体を設置し、該磁気シールド体を超伝導状態に冷却する高温超伝導磁気シールド装置において、前記真空容器の前記磁気シールド体(1)は、円筒形磁気シールド基板(3)の内周面に高温超伝導体(4)を付着し、その外周面に冷却管(5)を前記円筒形磁気シールド基板(3)の軸方向にジグザグ状に配管部分溶接した構造からなり、ヘリウムガスを冷却循環媒体とする冷却装置(20)の高圧配管(26)および低圧戻り配管(27)と前記冷却管(5)とを連通させ、前記断熱サポートは、前記磁気シールド基板(3)の一端部を前記真空容器の外筒(10)と断熱材からなるリンク機構(14)で連結し、他端部を断熱材を介してローラで当接させていることを特徴とする高温超伝導磁気シールド体用冷却装置。
  2. 前記円筒形磁気シールド基板(3)および冷却管(5)はニッケルまたは銀製であって、両者を部分溶接で接合されていることを特徴とする請求項1記載の高温超伝導磁気シールド体用冷却装置。
  3. 前記円筒形磁気シールド基板(3)および冷却管(5)は断熱材で被覆されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載の高温超伝導磁気シールド体用冷却装置。
JP2007185413A 2007-07-17 2007-07-17 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置 Expired - Lifetime JP4797000B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007185413A JP4797000B2 (ja) 2007-07-17 2007-07-17 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007185413A JP4797000B2 (ja) 2007-07-17 2007-07-17 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP13452597A Division JP4132130B2 (ja) 1997-05-09 1997-05-09 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007324611A true JP2007324611A (ja) 2007-12-13
JP4797000B2 JP4797000B2 (ja) 2011-10-19

Family

ID=38857067

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007185413A Expired - Lifetime JP4797000B2 (ja) 2007-07-17 2007-07-17 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4797000B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009204241A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd 冷却システム及び脳磁計
CN114466583A (zh) * 2022-03-03 2022-05-10 北京交通大学 一种保护高温超导磁体换热器的磁屏蔽装置

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6130217U (ja) * 1984-07-27 1986-02-24 石川島播磨重工業株式会社 低温用冷却管等の支持装置
JPS62266881A (ja) * 1986-05-15 1987-11-19 Toshiba Corp 低温容器の熱シ−ルド板
JPS63186403A (ja) * 1987-01-29 1988-08-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導マグネツト
JPH01100072U (ja) * 1987-12-22 1989-07-05
JPH0388366U (ja) * 1989-12-26 1991-09-10
JPH04112585A (ja) * 1990-09-03 1992-04-14 Sumitomo Heavy Ind Ltd 高温超電導磁気シールド用クライオスタット
JPH0482876U (ja) * 1990-11-29 1992-07-20
JPH05279026A (ja) * 1992-04-03 1993-10-26 Dowa Mining Co Ltd 金属基板への酸化物超電導膜の製造方法
JPH10313135A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Rikagaku Kenkyusho 高温超伝導体磁気シ−ルド装置

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6130217U (ja) * 1984-07-27 1986-02-24 石川島播磨重工業株式会社 低温用冷却管等の支持装置
JPS62266881A (ja) * 1986-05-15 1987-11-19 Toshiba Corp 低温容器の熱シ−ルド板
JPS63186403A (ja) * 1987-01-29 1988-08-02 Sumitomo Electric Ind Ltd 超電導マグネツト
JPH01100072U (ja) * 1987-12-22 1989-07-05
JPH0388366U (ja) * 1989-12-26 1991-09-10
JPH04112585A (ja) * 1990-09-03 1992-04-14 Sumitomo Heavy Ind Ltd 高温超電導磁気シールド用クライオスタット
JPH0482876U (ja) * 1990-11-29 1992-07-20
JPH05279026A (ja) * 1992-04-03 1993-10-26 Dowa Mining Co Ltd 金属基板への酸化物超電導膜の製造方法
JPH10313135A (ja) * 1997-05-09 1998-11-24 Rikagaku Kenkyusho 高温超伝導体磁気シ−ルド装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2009204241A (ja) * 2008-02-28 2009-09-10 Sumitomo Heavy Ind Ltd 冷却システム及び脳磁計
CN114466583A (zh) * 2022-03-03 2022-05-10 北京交通大学 一种保护高温超导磁体换热器的磁屏蔽装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP4797000B2 (ja) 2011-10-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN103975395B (zh) 超导电磁铁装置、其冷却方法以及磁共振成像装置
JP2004537026A (ja) クライオジェネレータを用いて液化ガス−容器から蒸発するガスの低沸点ガスを再凝縮するための装置
US9212782B2 (en) Cryostat radiation shield with joining conduit supplied with vented cryogen gas
GB2422654A (en) Cooling a superconducting magnet
JP5809391B2 (ja) 超伝導マグネット冷却の装置及び方法
JPH03503203A (ja) 中間ヒートシンク付きの遠隔の再凝縮器
JP2006174691A (ja) 超電導回転機を冷却するシステムおよび方法
CN106298148B (zh) 超导磁体系统及冷却件
JP4797000B2 (ja) 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置
JP4132130B2 (ja) 高温超伝導磁気シールド体用冷却装置
JP3564528B2 (ja) 高温超伝導体磁気シ−ルド装置
WO2016070695A1 (en) Displacer in magnetic resonance imaging system
US5589020A (en) Apparatus for insulating cryogenic devices
JP2014059022A (ja) 真空断熱低温機器における断熱支持スペーサ
Chang et al. Cross-flow heat exchangers for anti-freezing of liquid nitrogen
JP6440922B1 (ja) 超電導マグネット
JP5085454B2 (ja) 生体磁場計測装置
JP2007321875A (ja) トランスファーチューブ
EP0550053A1 (en) Method and apparatus for insulating cryogenic devices
JP2000055300A (ja) 水素貯蔵容器
JP2020513977A (ja) 超電導磁石用のサーマルバス熱交換器
JP2005308357A (ja) サーモサイフォン
KR100953186B1 (ko) 극저온 유지를 위한 다중 배관
KR20230060971A (ko) 헬륨가스 순환 열교환기가 구비된 고온초전도 마그넷 냉각 시스템
CN104374131A (zh) 一种深冷绝热的装置

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20100527

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100527

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100715

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821

Effective date: 20100715

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110419

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110616

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110705

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110801

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140805

Year of fee payment: 3

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

EXPY Cancellation because of completion of term