JP2007320093A - Antistatic film and coating for forming antistatic layer - Google Patents

Antistatic film and coating for forming antistatic layer Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an antistatic film having a durable antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, slidability, processability, adhesion to a base film, environmental resistance, etc. <P>SOLUTION: In the antistatic film comprising the base film and an antistatic layer formed on at least one side of the base film, the antistatic layer contains a resin (A) having active hydrogen groups in a molecule, a polyurethane resin (B) having polysiloxane groups, a polyisocyanate (C), and an ionic conductive agent (D) as coat forming components. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、帯電防止フィルムおよび帯電防止層形成用塗料(以下単に「塗料」という場合がある)に関し、さらに詳しくは耐久帯電防止機能、透明性、耐溶剤性、耐水性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能を具備した帯電防止フィルムおよび該フィルムを形成するための塗料に関する。   The present invention relates to an antistatic film and a coating for forming an antistatic layer (hereinafter sometimes simply referred to as “paint”), and more specifically, a durable antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance, and external environment (humidity). The present invention also relates to an antistatic film having a performance that is not easily influenced by the coating material and a coating material for forming the film.

一般的な二軸延伸ポリエステルフィルムは、機械的強度、寸法安定性、均一性、耐熱性、耐薬品性および透明性などの優れた特性を有することから、包装用フィルム、光学用フィルム、記録媒体フィルム、製版用フィルム、剥離フィルム、農業用フィルム、ウインドフィルムおよびラベルを始め、幅広い用途に使用されている。また、ポリオレフィン系樹脂フィルムは、軽量でガスバリア性や防湿性が良好で、かつ安価であることから、食品、電子部品および精密部品などの幅広い分野の包装材やフィルムなどとして使用されている。その他、ポリカーボネート、ポリアクリレート、トリアセチルセルロースおよびシクロオレフィン系プラスチックなどの素材からなる樹脂フィルムも様々な分野に使用されているが、プラスチックフィルム共通の問題として、静電気が発生して帯電しやすいと云う点が挙げられる。そのためフィルム加工時あるいは加工製品に周囲の埃などが付着するという問題を起こしている。   General biaxially stretched polyester films have excellent properties such as mechanical strength, dimensional stability, uniformity, heat resistance, chemical resistance, and transparency. Therefore, packaging films, optical films, and recording media It is used in a wide range of applications including films, platemaking films, release films, agricultural films, wind films and labels. Polyolefin resin films are lightweight, have good gas barrier properties and moisture-proof properties, and are inexpensive, and are therefore used as packaging materials and films in a wide range of fields such as food, electronic parts and precision parts. In addition, resin films made of materials such as polycarbonate, polyacrylate, triacetyl cellulose, and cycloolefin plastics are also used in various fields. However, as a problem common to plastic films, it is said that they are easily charged by static electricity. A point is mentioned. For this reason, there is a problem that surrounding dust adheres to the processed film or the processed product.

このため、従来では、プラスチックフィルムに非イオン系、アニオン系またはカチオン系などの低分子量界面活性剤や導電性の金属粉末をコーティングあるいは練り込むことにより、表面抵抗値を1.0×1012Ω/cm2以下に下げてフィルムに帯電防止性能を付与することが行われている。 For this reason, conventionally, a surface resistance value is 1.0 × 10 12 Ω by coating or kneading a non-ionic, anionic or cationic low molecular weight surfactant or conductive metal powder on a plastic film. The antistatic performance is imparted to the film by lowering to / cm 2 or less.

しかしながら、このような従来技術では、低分子量の界面活性剤がフィルム作成時に揮散や分解するために、フィルム中の界面活性剤濃度がバラついてフィルム性能が安定しないという問題があった。また、フィルム製膜後には、界面活性剤が経時的にフィルム表面にブリードし、フィルム表面にブリードした界面活性剤が裏移りして経時的に表面抵抗性能が低下したり、透明性、ブロッキング、接着性および印刷適性を損なうといった問題がある。   However, such a conventional technique has a problem in that the low molecular weight surfactant volatilizes or decomposes at the time of film production, so that the surfactant concentration in the film varies and the film performance is not stable. In addition, after film formation, the surfactant bleeds on the film surface over time, the surfactant bleeded on the film surface falls, and the surface resistance performance decreases over time, transparency, blocking, There is a problem that adhesiveness and printability are impaired.

また、帯電防止剤として導電性の金属粉末を使用する場合においては、金属粉末の分散加工が困難であることに加え、フィルム外観が不透明性になるとともに、使用量にもよるが高コストであり、さらに帯電防止フィルムからの導電性金属粉末の脱離などの問題がある。   In addition, when conductive metal powder is used as an antistatic agent, it is difficult to disperse the metal powder, the film appearance becomes opaque, and it is expensive depending on the amount used. Furthermore, there are problems such as detachment of the conductive metal powder from the antistatic film.

両性高分子化合物を含有する塗布液をフィルムに塗布して、フィルムに帯電防止性を付与することを特徴とする方法が提案されている(特許文献1)。前記両性高分子化合物は、アニオン性基としてカルボン酸塩を、そしてカチオン性基として4級アンモニウム塩基とを構成成分として持つ化合物が考案されているが、該化合物を用いた場合には得られるフィルムにおいて、低湿度の場合には安定した表面抵抗値が得られない。   A method has been proposed in which a coating solution containing an amphoteric polymer compound is applied to a film to impart antistatic properties to the film (Patent Document 1). The amphoteric polymer compound has been devised as a compound having a carboxylate as an anionic group and a quaternary ammonium base as a cationic group, but a film obtained when the compound is used In the case of low humidity, a stable surface resistance value cannot be obtained.

また、アニオン界面活性剤およびカチオン界面活性剤の少なくとも一方が少なくとも1個のポリオキシアルキレン基を含む組成からなる帯電防止組成物が提案されている(特許文献2)が、この組成物により処理されたフィルムは、その表面抵抗値が1.0×1012Ω/cm2程度であり、耐久帯電性能としては弱い。 Moreover, an antistatic composition comprising a composition in which at least one of an anionic surfactant and a cationic surfactant contains at least one polyoxyalkylene group has been proposed (Patent Document 2). The film has a surface resistance value of about 1.0 × 10 12 Ω / cm 2 , and has a weak durable charging performance.

最近、帯電防止フィルムには、帯電防止機能、透明性、耐溶剤性、耐水性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能が要求され、かつこのような帯電防止層を形成し得る塗料が求められている。   Recently, antistatic films are required to have antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance and performance that is hardly affected by the external environment (humidity), and a coating material that can form such an antistatic layer is used. It has been demanded.

特開2004−175821号公報JP 2004-175821 A 特開平7−233365号公報JP 7-233365 A

しかしながら、前記の提案技術では、前記した全ての機能を満足している帯電防止フィルムが得られるわけではない。そのうえ、従来よりもさらに高性能である帯電防止フィルムおよびこのような帯電防止フィルムを形成するための塗料が要望されている。   However, the proposed technique does not provide an antistatic film that satisfies all the functions described above. In addition, there is a need for an antistatic film with higher performance than before and a coating material for forming such an antistatic film.

従って、本発明の目的は、耐久帯電防止機能、透明性、耐溶剤性(ロールを機掃する際に有機溶剤を使用するため、使用溶剤に対して跡残りしないこと)、耐水性、印刷適性、滑り性(ロール−ロールの場合、適度な滑り性が要求される)、加工適性(複合化フィルム、重ね塗り適性など)、基材フィルムとの密着性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能などを有する帯電防止フィルムおよび該フィルムを形成するための塗料を提供することである。   Therefore, the object of the present invention is to provide a durable antistatic function, transparency, and solvent resistance (the organic solvent is used when cleaning the roll, so that it does not remain in the solvent used), water resistance, and printability. , Slipperiness (appropriate slipperiness is required in the case of roll-roll), processability (composite film, recoating suitability, etc.), adhesion to the substrate film, and external environment (humidity) An object is to provide an antistatic film having difficult performance and the like, and a paint for forming the film.

上記目的は以下の構成の本発明によって達成される。
1.基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなる帯電防止フィルムにおいて、上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)(以下単に「樹脂(A)」と云う場合がある)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)(以下単に「樹脂(B)」と云う場合がある)とポリイソシアネート(C)とイオン性導電剤(D)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする帯電防止フィルム。
The above object is achieved by the present invention having the following constitution.
1. An antistatic film comprising a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film, wherein the antistatic layer is a resin (A) (hereinafter simply referred to as an active hydrogen group in the molecule). "Resin (A)"), polyurethane resin (B) containing a polysiloxane group (hereinafter sometimes simply referred to as "resin (B)"), polyisocyanate (C), and ionic conductive agent An antistatic film formed by using (D) as a film-forming component.

2.樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基およびエポキシ基から選ばれる少なくとも1つの基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂である前記1に記載の帯電防止フィルム。 2. 2. The antistatic film as described in 1 above, wherein the resin (A) is a resin having at least one group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a thiol group and an epoxy group in the main chain and / or side chain.

3.樹脂(B)が、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物とポリイソシアネートとポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られるポリウレタン樹脂であって、その重量平均分子量が5,000〜300,000である前記1に記載の帯電防止フィルム。 3. The resin (B) is a polyurethane resin obtained by reacting a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate, a polyol or a polyamine, and has a weight average molecular weight of 5,000 to 2. The antistatic film as described in 1 above, which is 300,000.

4.イオン性導電剤(D)が、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオンおよびホスホニウムイオンなどの有機カチオン成分と、BF4 -、PF6 -、CF3CO2 -、(CF3SO22-およびCF3SO2 -などのフッ素系イオン化合物やCH3CO2 -およびNO3 -などの無機または有機アニオン成分とからなる塩である前記1に記載の帯電防止フィルム。 4). The ionic conductive agent (D) contains an organic cation component such as imidazolium ion, pyridinium ion, ammonium ion and phosphonium ion, BF 4 , PF 6 , CF 3 CO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N 2. The antistatic film as described in 1 above, which is a salt composed of a fluorine ion compound such as and CF 3 SO 2 or an inorganic or organic anion component such as CH 3 CO 2 or NO 3 .

5.帯電防止層の表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2である前記1に記載の帯電防止フィルム。 5). 2. The antistatic film as described in 1 above, wherein the antistatic layer has a surface resistance value of 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 .

6.帯電防止層のヘイズ値が、3.0%以下である前記1に記載の帯電防止フィルム。 6). 2. The antistatic film as described in 1 above, wherein the antistatic layer has a haze value of 3.0% or less.

7.帯電防止層の動摩擦係数が、0.05〜0.30である前記1に記載の帯電防止フィルム。
8.樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)とを有機溶剤に溶解または分散してなることを特徴とする帯電防止層形成用塗料。
7). 2. The antistatic film as described in 1 above, wherein the antistatic layer has a dynamic friction coefficient of 0.05 to 0.30.
8). A paint for forming an antistatic layer, wherein the resin (A), the resin (B), and the ionic conductive agent (D) are dissolved or dispersed in an organic solvent.

9.樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)の合計量(100質量%)のうちの15〜98.9質量%であり、樹脂(B)が55〜1質量%であり、イオン性導電剤(D)が30〜0.1質量%である前記8に記載の塗料。 9. Resin (A) is 15-98.9 mass% of the total amount (100 mass%) of resin (A), resin (B), and ionic conductive agent (D), and resin (B) is 55 The paint according to 8 above, which is ˜1% by mass and the ionic conductive agent (D) is 30˜0.1% by mass.

10.さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有している前記8に記載の塗料。 10. 9. The coating material according to 8 above, further comprising adding a polyisocyanate before use or containing a stabilized polyisocyanate.

本発明によれば、帯電防止層を特定の材料から形成することにより、帯電防止性、透明性、耐溶剤性、耐水性、印刷適性、滑り性、加工適性、基材フィルムとの密着性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能などを有する帯電防止フィルムが提供される。   According to the present invention, by forming the antistatic layer from a specific material, antistatic properties, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, slipperiness, workability, adhesion to the substrate film, and Provided is an antistatic film having a performance hardly affected by an external environment (humidity).

本発明者らは前記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、上記帯電防止層を、樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とイオン性導電剤(D)とを被膜形成成分として形成することで、優れた機能を有する帯電防止フィルムが得られることを見出した。   As a result of intensive studies to solve the above problems, the present inventors have coated the antistatic layer with a resin (A), a resin (B), a polyisocyanate (C), and an ionic conductive agent (D). It has been found that an antistatic film having an excellent function can be obtained by forming as a forming component.

本発明においては、帯電防止層の形成に際して、樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とで耐溶剤性、適度な滑り性、基材との密着性、耐水性や外部環境(湿度)が少ないという帯電防止層の表面特性を引き出し、イオン性導電剤(D)を帯電防止剤として用いることで帯電防止特性を発現しているので、本発明の帯電防止フィルムは、帯電防止剤のブリードアウトが少なく、耐久帯電防止性に優れているものである。   In the present invention, when the antistatic layer is formed, the resin (A), the resin (B), and the polyisocyanate (C) are solvent resistant, moderate slippery, adhesion to the base material, water resistance and external environment. The antistatic film of the present invention has an antistatic property because the surface property of the antistatic layer is low (humidity) and the antistatic property is expressed by using the ionic conductive agent (D) as an antistatic agent. The bleed-out of the agent is small, and the antistatic property is excellent.

これに対して、従来帯電防止剤として使用されているイオン伝導性を示す4級カチオンポリマー、リチウムイオンなど、あるいは電子伝導性を示す導電ポリマーを用いて得られる帯電防止フィルムは、その表面を酢酸エチルなどの溶剤で拭き取ると、その部分の帯電防止性能が低下するものがある。また、電子伝導性を示す導電フィラーを用いて形成した帯電防止フィルムは、不透明であり毒性の問題があり、また、ケッチェンブラック(カーボンブラック)などの導電カーボンを用いた帯電防止フィルムは、導電カーボンが脱離して周囲を汚染するという問題があるが、本発明ではこのような問題が解決されている。   On the other hand, an antistatic film obtained by using a quaternary cationic polymer that exhibits ionic conductivity, lithium ions, or a conductive polymer that exhibits electronic conductivity, which has been used as an antistatic agent, has a surface of acetic acid. If it is wiped off with a solvent such as ethyl, the antistatic performance of that part may be reduced. In addition, an antistatic film formed using a conductive filler exhibiting electronic conductivity is opaque and has a problem of toxicity, and an antistatic film using conductive carbon such as ketjen black (carbon black) is conductive. Although there is a problem that carbon is desorbed and contaminates the surroundings, the present invention solves such a problem.

次に好ましい実施の形態を挙げて本発明をさらに詳細に述べる。
本発明の帯電防止フィルムは、基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなっている。
Next, the present invention will be described in more detail with reference to preferred embodiments.
The antistatic film of the present invention comprises a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film.

次に帯電防止層の構成についてさらに詳しく説明する。帯電防止層は樹脂(A)と樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とイオン性導電剤(D)とを被膜形成成分として形成されている。該帯電防止層は、上記の各成分を溶剤などに溶解・分散させてあるいは無溶剤で塗料として、該塗料を基材フィルムの上に塗布および乾燥して形成するのが好ましい。この場合の塗料は、樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)とを含んでおり、該塗料の使用に際してはポリイソシアネート(C)を添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネート(C)を用いる場合は、該安定化ポリイソシアネート(C)を予め塗料中に添加しておいてもよい。   Next, the structure of the antistatic layer will be described in more detail. The antistatic layer is formed using resin (A), resin (B), polyisocyanate (C), and ionic conductive agent (D) as a film forming component. The antistatic layer is preferably formed by dissolving and dispersing each of the above components in a solvent or the like, or by applying and drying the paint on a base film as a paint without a solvent. The paint in this case contains the resin (A), the resin (B) and the ionic conductive agent (D). When the paint is used, the polyisocyanate (C) is added or the stabilized polyisocyanate. When (C) is used, the stabilized polyisocyanate (C) may be added to the paint in advance.

樹脂(A)としては、例えば、ポリビニルアルコール、部分けん化ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、アセタール基変性ポリビニルアルコール、ブチラール基変性ポリビニルアルコール、シラノール基変性ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、エチレン−ビニルアルコール−酢酸ビニル共重合樹脂、アクリル系樹脂、エポキシ樹脂、変性エポキシ系樹脂、フェノキシ樹脂、変性フェノキシ系樹脂、フェノキシエーテル樹脂、フェノキシエステル樹脂、フッ素系樹脂、メラミン樹脂、アルキッド樹脂、フェノール樹脂、ポリエーテル、ポリエステル、セルロース類、キトサンおよびウレタン樹脂などが挙げられる。さらには、これらの中から選ばれた少なくとも1種が好適に使用される。この中で特に好ましいのは、エチレン−ビニルアルコール共重合体、部分けん化ポリビニルアルコールおよびフェノキシ樹脂である。さらに、アクリル系樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ブチラール基変性ポリビニルアルコールなどをフッ素変性シリコーン基または長鎖アルキル基で変性した樹脂も使用できる。   Examples of the resin (A) include polyvinyl alcohol, partially saponified polyvinyl alcohol, acetoacetyl group-modified polyvinyl alcohol, acetal group-modified polyvinyl alcohol, butyral group-modified polyvinyl alcohol, silanol group-modified polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymer, Ethylene-vinyl alcohol-vinyl acetate copolymer resin, acrylic resin, epoxy resin, modified epoxy resin, phenoxy resin, modified phenoxy resin, phenoxy ether resin, phenoxy ester resin, fluorine resin, melamine resin, alkyd resin, phenol Examples include resins, polyethers, polyesters, celluloses, chitosan, and urethane resins. Furthermore, at least one selected from these is preferably used. Of these, ethylene-vinyl alcohol copolymer, partially saponified polyvinyl alcohol and phenoxy resin are particularly preferable. Furthermore, resins obtained by modifying acrylic resins, phenoxy resins, polyvinyl alcohol, ethylene-vinyl alcohol copolymers, butyral group-modified polyvinyl alcohols with fluorine-modified silicone groups or long-chain alkyl groups can also be used.

樹脂(A)中の活性水素基としては、例えば、水酸基(−OH)、カルボキシル基(−COOH)、アミノ基(−NR(R:炭化水素基)H、−NH2など)、チオール基(−SH)およびエポキシ基(グリシジル基)などであり、これらの中では水酸基が好ましく使用される。前記樹脂がその分子内に活性水素基を有している場合は、そのまま前記樹脂(A)として使用できるが、前記樹脂がその分子内に活性水素基を有していない場合は変性などの処理を行って活性水素基を付与して使用することができる。 Examples of the active hydrogen group in the resin (A) include a hydroxyl group (—OH), a carboxyl group (—COOH), an amino group (—NR (R: hydrocarbon group) H, —NH 2 etc.), a thiol group ( -SH) and an epoxy group (glycidyl group), among which a hydroxyl group is preferably used. When the resin has an active hydrogen group in the molecule, it can be used as it is as the resin (A), but when the resin does not have an active hydrogen group in the molecule, a treatment such as modification is performed. To give an active hydrogen group.

以上列記した樹脂(A)は、本発明において使用する好ましい樹脂であるが、本発明はこれらの例示の樹脂に限定されるものではない。従って上述の例示の樹脂のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る樹脂(A)はいずれも本発明において好ましく使用することができる。   The resins (A) listed above are preferable resins used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified resins. Accordingly, not only the above-exemplified resins but also other resins (A) that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention.

樹脂(B)について以下に説明する。樹脂(B)中のポリシロキサン基は、樹脂(B)中にポリシロキサンセグメントとして含有されているものであり、ポリウレタン樹脂の主鎖中に含有あるいは分岐した状態で含有されている。すなわち、原料となるポリシロキサンが、両末端反応型であればポリウレタン樹脂の主鎖である幹部分に、原料となるポリシロキサンが、片末端あるいは分岐反応型であればポリウレタン樹脂の主鎖から分岐した状態で含有されることとなる。   The resin (B) will be described below. The polysiloxane group in the resin (B) is contained as a polysiloxane segment in the resin (B), and is contained in the main chain of the polyurethane resin or in a branched state. That is, if the polysiloxane used as a raw material is a double-end reactive type, it is branched to the trunk portion of the main chain of the polyurethane resin. If the polysiloxane used as a raw material is a single-end or branched reaction type, it is branched from the main chain of the polyurethane resin. It will be contained in the state.

樹脂(B)としては、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物と、ポリイソシアネートと、ポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られる樹脂(B)であり、その好ましい重量平均分子量は5,000〜300,000である。   The resin (B) is a resin (B) obtained by reacting a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate, and a polyol or polyamine, and its preferred weight average molecular weight. Is 5,000 to 300,000.

本発明で使用する前記ポリシロキサン基となる原料成分について説明する。
本発明において使用される活性水素基を少なくとも1個有するポリシロキサン化合物としては、例えば、以下のような化合物を用いることが好ましい(この中には活性水素基を利用して変性されたエポキシ変性ポリシロキサン化合物も含んでいるが、イソシアネート基と反応してポリウレタン樹脂中に含有されることとなるので含めている)。
The raw material component used as the said polysiloxane group used by this invention is demonstrated.
As the polysiloxane compound having at least one active hydrogen group used in the present invention, for example, the following compounds are preferably used (in this, an epoxy-modified polysiloxane modified by using active hydrogen groups). A siloxane compound is also included, but it is included because it reacts with an isocyanate group and is contained in a polyurethane resin).

(1)アミノ変性ポリシロキサン化合物

Figure 2007320093
(1) Amino-modified polysiloxane compound
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(2)エポキシ変性ポリシロキサン化合物

Figure 2007320093
(2) Epoxy-modified polysiloxane compound
Figure 2007320093

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Figure 2007320093
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Figure 2007320093
上記のエポキシ化合物はポリオール、ポリアミド、ポリカルボン酸などと反応させ末端活性水素を有するようにして使用することができる。
Figure 2007320093
The above epoxy compounds can be used by reacting with polyols, polyamides, polycarboxylic acids and the like to have terminal active hydrogen.

(3)アルコール変性ポリシロキサン化合物

Figure 2007320093
(3) Alcohol-modified polysiloxane compound
Figure 2007320093

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(4)メルカプト変性ポリシロキサン化合物

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(4) Mercapto-modified polysiloxane compound
Figure 2007320093

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Figure 2007320093
Figure 2007320093

以上列記した活性水素基を有するポリシロキサン化合物は本発明において使用する好ましい化合物であるが、本発明はこれらの例示の化合物に限定されるものではない。従って上述の例示の化合物のみならず、その他現在市販されており、市場から容易に入手し得る化合物はいずれも本発明において好ましく使用することができる。本発明において特に好ましい化合物は2個の水酸基またはアミノ基を有するポリシロキサン化合物である。   The polysiloxane compounds having active hydrogen groups listed above are preferred compounds used in the present invention, but the present invention is not limited to these exemplified compounds. Accordingly, not only the above-exemplified compounds but also other compounds that are currently commercially available and can be easily obtained from the market can be preferably used in the present invention. Particularly preferred compounds in the present invention are polysiloxane compounds having two hydroxyl groups or amino groups.

これらの他にもポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン(ポリエステル)−ポリシロキサン化合物およびエチレンオキサイドやプロピレンオキサイドで変性したポリエチレンオキサイド−ポリシロキサン化合物やポリプロピレンオキサイド−ポリシロキサン化合物なども好ましく使用される。特に好ましくは分子内に1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン−ポリシロキサン化合物および分子内に1個以上の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をエチレンオキサイド、プロピレンオキサイドなどでエーテル変性したポリエーテル−ポリシロキサン化合物である。   In addition to these, a polylactone (polyester) -polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound with a lactone, a polyethylene oxide-polysiloxane compound modified with ethylene oxide or propylene oxide, a polypropylene oxide-polysiloxane compound, and the like are also preferably used. Particularly preferably, a polylactone-polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound having one or more active hydrogen groups in the molecule with a lactone and a polysiloxane compound having one or more active hydrogen groups in the molecule are used as ethylene oxide or propylene oxide. A polyether-polysiloxane compound modified with ether.

ここで使用する好ましいラクトンは、β−プロピオラクトン、γ−ブチロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン、7−ヘプタノリド、8−オクタノリド、γ−バレロラクトン、γ−カプロラクトンおよびδ−カプロラクトンなどである。   Preferred lactones used here are β-propiolactone, γ-butyrolactone, δ-valerolactone, ε-caprolactone, 7-heptanolide, 8-octanolide, γ-valerolactone, γ-caprolactone and δ-caprolactone. .

また、オキシアルキレン重合体の分子鎖を得るためのアルキレンオキサイド類としては、具体的には、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、α−ブチレンオキサイド、β−ブチレンオキサイド、ヘキセンオキサイド、シクロヘキセンオキサイド、スチレンオキサイド、α−メチルスチレンオキサイドなどが挙げられ、種々の触媒の存在下に開環重合させることによって得られる。   Further, as the alkylene oxides for obtaining the molecular chain of the oxyalkylene polymer, specifically, ethylene oxide, propylene oxide, α-butylene oxide, β-butylene oxide, hexene oxide, cyclohexene oxide, styrene oxide, α -Methylstyrene oxide etc. are mentioned, and it is obtained by carrying out ring-opening polymerization in the presence of various catalysts.

また、本発明において前記ポリラクトン−ポリシロキサン化合物、すなわち、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物をラクトンで変性したポリラクトン−ポリシロキサン化合物は、分子中に1個または2個以上の活性水素基、例えば、アミノ基、水酸基またはカルボキシル基などを有するシロキサン化合物を、その活性水素原子団によりラクトンを開環重合させた後、減圧処理することによって得られる。   In the present invention, the polylactone-polysiloxane compound, that is, the polylactone-polysiloxane compound obtained by modifying a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule with a lactone is one or more in the molecule. A siloxane compound having an active hydrogen group, such as an amino group, a hydroxyl group or a carboxyl group, is obtained by subjecting the lactone to ring-opening polymerization with the active hydrogen atom group and then subjecting it to a reduced pressure treatment.

樹脂(B)の製造に使用されるポリオールとしては、好ましくはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジオール、多価アルコール系化合物および高分子ポリオールなどの従来公知のものが、また、ポリアミンとしてはポリウレタンの製造に従来から使用されている短鎖ジアミンなどが使用できるが、これらは特に限定されない。以下に使用するそれぞれの化合物について説明する。   The polyol used for the production of the resin (B) is preferably a conventionally known one such as a short-chain diol, a polyhydric alcohol compound and a polymer polyol conventionally used for the production of polyurethane, or a polyamine. For example, a short-chain diamine conventionally used in the production of polyurethane can be used, but these are not particularly limited. Each compound used below is described.

前記短鎖ジオールとしては、例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコールおよびネオペンチルグリコールなどの脂肪族グリコール類およびそのアルキレンオキサイド低モル付加物(数平均分子量500未満)、1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンおよび2−メチル−1,1−シクロヘキサンジメタノールなどの脂環式系グリコール類およびそのアルキレンオキサイド低モル付加物(数平均分子量500未満)、キシリレングリコールなどの芳香族グリコール類およびそのアルキレンオキサイド低モル付加物(数平均分子量500未満)、ビスフェノールA、チオビスフェノールおよびスルホンビスフェノールなどのビスフェノール類およびそのアルキレンオキサイド低モル付加物(数平均分子量500未満)、およびC1〜C18のアルキルジエタノールアミンなどのアルキルジアルカノールアミン類などの化合物が挙げられる。また、多価アルコール系化合物としては、例えば、グリセリン、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリトール、トリス−(2−ヒドロキシエチル)イソシアヌレート、1,1,1−トリメチロールエタンおよび1,1,1−トリメチロールプロパンなどが挙げられる。これらは単独あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Examples of the short-chain diol include aliphatic glycols such as ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, and neopentyl glycol. And its alkylene oxide low mole adduct (number average molecular weight less than 500), 1,4-bishydroxymethylcyclohexane and 2-methyl-1,1-cyclohexanedimethanol and other alicyclic glycols and alkylene oxide low mole thereof Adducts (number average molecular weight less than 500), aromatic glycols such as xylylene glycol and their alkylene oxide low molar adducts (number average molecular weight less than 500), bisphenol A, thiobisphenol and sulfone bisphenol. Of bisphenols and alkylene oxide low-mol adduct (number average molecular weight of less than 500), and compounds such as alkyl dialkanolamines, such as alkyl diethanolamine of C1~C18 thereof. Examples of the polyhydric alcohol compound include glycerin, trimethylolethane, trimethylolpropane, pentaerythritol, tris- (2-hydroxyethyl) isocyanurate, 1,1,1-trimethylolethane, and 1,1, Examples thereof include 1-trimethylolpropane. These can be used alone or in combination of two or more.

前記高分子ポリオールとしては、例えば、以下のものが例示される。
(1)ポリエーテルポリオール、例えば、アルキレンオキサイド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドなど)および/または複素環式エーテル(テトラヒドロフランなど)を重合または共重合して得られるものが例示され、具体的にはポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール−ポリテトラメチレングリコール(ブロックまたはランダム)、ポリテトラメチレンエーテルグリコールおよびポリヘキサメチレングリコールなど、
Examples of the polymer polyol include the following.
(1) Polyether polyols such as those obtained by polymerizing or copolymerizing alkylene oxides (ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) and / or heterocyclic ethers (tetrahydrofuran, etc.) are specifically exemplified. Are polyethylene glycol, polypropylene glycol, polyethylene glycol-polytetramethylene glycol (block or random), polytetramethylene ether glycol and polyhexamethylene glycol,

(2)ポリエステルポリオール、例えば、脂肪族系ジカルボン酸類(例えば、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、グルタル酸およびアゼライン酸など)および/または芳香族系ジカルボン酸(例えば、イソフタル酸およびテレフタル酸など)と低分子量グリコール類(例えば、エチレングリコール、1,2−プロピレングリコール、1,3−プロピレングリコール、1,4−ブチレングリコール、1,6−ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコールおよび1,4−ビスヒドロキシメチルシクロヘキサンなど)とを縮重合したものが例示され、具体的にはポリエチレンアジペートジオール、ポリブチレンアジペートジオール、ポリヘキサメチレンアジペートジオール、ポリネオペンチルアジペートジオール、ポリエチレン/ブチレンアジペートジオール、ポリネオペンチル/ヘキシルアジペートジオール、ポリ−3−メチルペンタンアジペートジオールおよびポリブチレンイソフタレートジオールなど、 (2) Polyester polyols such as aliphatic dicarboxylic acids (eg succinic acid, adipic acid, sebacic acid, glutaric acid and azelaic acid) and / or aromatic dicarboxylic acids (eg isophthalic acid and terephthalic acid) And low molecular weight glycols (for example, ethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, 1,4-butylene glycol, 1,6-hexamethylene glycol, neopentyl glycol and 1,4-bishydroxy For example, polyethylene adipate diol, polybutylene adipate diol, polyhexamethylene adipate diol, polyneopentyl adipate diol, polyethylene / butyle. Adipate diol, polyneopentyl / hexyl adipate diol, poly-3-methylpentane adipate diol, and polybutylene isophthalate diol, etc.,

(3)ポリラクトンポリオール、例えば、ポリカプロラクトンジオールまたはポリカプロラクトントリオールおよびポリ−3−メチルバレロラクトンジオールなど、 (3) Polylactone polyols such as polycaprolactone diol or polycaprolactone triol and poly-3-methylvalerolactone diol,

(4)ポリカーボネートジオール、例えば、ポリヘキサメチレンカーボネートジオールなど、 (4) Polycarbonate diol, such as polyhexamethylene carbonate diol,

(5)ポリオレフィンポリオール、例えば、ポリブタジエングリコールおよびポリイソプレングリコール、または、その水素化物など、 (5) Polyolefin polyol, such as polybutadiene glycol and polyisoprene glycol, or a hydride thereof,

(6)ポリメタクリレートジオール、例えば、α,ω−ポリメチルメタクリレートジオールおよびα,ω−ポリブチルメタクリレートジオールなどが挙げられる。 (6) Polymethacrylate diols such as α, ω-polymethylmethacrylate diol and α, ω-polybutylmethacrylate diol are exemplified.

これらのポリオールの構造および分子量は特に限定されないが、通常数平均分子量は500〜4,000程度でエチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドなどのポリエーテル系ポリオールが好ましい。また、これらのポリオールは単独あるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。   Although the structure and molecular weight of these polyols are not particularly limited, polyether polyols such as ethylene oxide and propylene oxide are usually preferred with a number average molecular weight of about 500 to 4,000. Moreover, these polyols can be used individually or in combination of 2 or more types.

前記ポリアミンとして好ましいポリアミンは、例えば、短鎖ジアミン、脂肪族系ジアミン、芳香族系ジアミン、長鎖ジアミン類およびヒドラジン類などが挙げられる。短鎖ジアミンとしては、例えば、エチレンジアミン、トリメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミンおよびオクタメチレンジアミンなどの脂肪族ジアミン化合物、フェニレンジアミン、3,3’−ジクロロ−4,4’−ジアミノジフェニルメタン、4,4’−メチレンビス(フェニルアミン)、4,4’−ジアミノジフェニルエーテルおよび4,4’−ジアミノジフェニルスルホンなどの芳香族ジアミン化合物、シクロペンタンジアミン、シクロヘキシルジアミン、4,4−ジアミノジシクロヘキシルメタン、1,4−ジアミノシクロヘキサンおよびイソホロンジアミンなどの脂環式ジアミン化合物などが挙げられる。長鎖ジアミンとしては、アルキレンオキサイド(エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイドなど)を重合または共重合して得られるものが例示され、具体的にはポリエチレンジアミン、ポリプロピレンジアミンなどが挙げられる。また、ヒドラジン、カルボヒドラジド、アジピン酸ジヒドラジド、セバシン酸ジヒドラジドおよびフタル酸ジヒドラジドなどのヒドラジン類が挙げられる。これらは単独であるいは2種類以上を組み合わせて使用することができる。ポリオールおよびポリアミンとしては、エチレンオキサイドおよびプロピレンオキサイドなどのポリエーテル系のジオール化合物およびジアミン化合物が好ましい。   Examples of preferred polyamines as the polyamine include short chain diamines, aliphatic diamines, aromatic diamines, long chain diamines, and hydrazines. Examples of the short-chain diamine include aliphatic diamine compounds such as ethylene diamine, trimethylene diamine, hexamethylene diamine and octamethylene diamine, phenylene diamine, 3,3′-dichloro-4,4′-diaminodiphenylmethane, and 4,4 ′. -Aromatic diamine compounds such as methylene bis (phenylamine), 4,4'-diaminodiphenyl ether and 4,4'-diaminodiphenyl sulfone, cyclopentanediamine, cyclohexyldiamine, 4,4-diaminodicyclohexylmethane, 1,4-diamino And alicyclic diamine compounds such as cyclohexane and isophorone diamine. As long chain diamine, what is obtained by superposing | polymerizing or copolymerizing alkylene oxide (ethylene oxide, propylene oxide, butylene oxide, etc.) is illustrated, Specifically, polyethylenediamine, polypropylenediamine, etc. are mentioned. Further, hydrazines such as hydrazine, carbohydrazide, adipic acid dihydrazide, sebacic acid dihydrazide and phthalic acid dihydrazide can be mentioned. These can be used alone or in combination of two or more. As the polyol and polyamine, polyether-based diol compounds and diamine compounds such as ethylene oxide and propylene oxide are preferable.

前記樹脂(B)の合成に使用するポリイソシアネート化合物としては、従来公知のポリウレタンの製造に使用されているものがいずれも使用でき特に限定されない。ポリイソシアネート化合物として好ましいものは、例えば、トルエン−2,4−ジイソシアネート、4−メトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−イソプロピル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−クロル−1,3−フェニレンジイソシアネート、4−ブトキシ−1,3−フェニレンジイソシアネート、2,4−ジイソシアネートジフェニルエーテル、4,4’−メチレンビス(フェニレンイソシアネート)(MDI)、ジュリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート(XDI)、1,5−ナフタレンジイソシアネート、ベンジジンジイソシアネート、o−ニトロベンジジンジイソシアネートおよび4,4’−ジイソシアネートジベンジルなどの芳香族ジイソシアネート、メチレンジイソシアネート、1,4−テトラメチレンジイソシアネート、1,6−ヘキサメチレンジイソシアネートおよび1,10−デカメチレンジイソシアネートなどの脂肪族ジイソシアネート、1,4−シクロヘキシレンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、1,5−テトラヒドロナフタレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加MDIおよび水素添加XDIなどの脂環式ジイソシアネートなど、あるいはこれらのジイソシアネート化合物と低分子量のポリオールやポリアミンを末端がイソシアネートとなるように反応させて得られるポリウレタンプレポリマーなども当然使用することができる。   As a polyisocyanate compound used for the synthesis | combination of the said resin (B), what is conventionally used for manufacture of a polyurethane can be used and it does not specifically limit. Preferred examples of the polyisocyanate compound include toluene-2,4-diisocyanate, 4-methoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 4-isopropyl-1,3-phenylene diisocyanate, and 4-chloro-1,3-phenylene diisocyanate. 4-butoxy-1,3-phenylene diisocyanate, 2,4-diisocyanate diphenyl ether, 4,4′-methylenebis (phenylene isocyanate) (MDI), jurylene diisocyanate, tolylene diisocyanate, xylylene diisocyanate (XDI), 1, Aromatic diisocyanates such as 5-naphthalene diisocyanate, benzidine diisocyanate, o-nitrobenzidine diisocyanate and 4,4′-diisocyanate dibenzyl, methyl Diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate and other aliphatic diisocyanates, 1,4-cyclohexylene diisocyanate, 4,4′-methylenebis (cyclohexyl isocyanate) 1,5-tetrahydronaphthalene diisocyanate, isophorone diisocyanate, alicyclic diisocyanates such as hydrogenated MDI and hydrogenated XDI, or these diisocyanate compounds and low molecular weight polyols or polyamines are reacted so that the terminal is isocyanate. Naturally, the obtained polyurethane prepolymer can also be used.

上記の原料を用いた樹脂(B)の製造方法については特に限定されず、従来公知のポリウレタンの製造方法を用いることができる。例えば、分子内に活性水素を含まない有機溶剤の存在下、または不存在下に、少なくとも1個の活性水素基とポリシロキサンセグメントが同一分子内に共存する化合物と、ポリオールおよび/またはポリアミンと、ポリイソシアネートと、必要に応じて低分子ジオールもしくは低分子ジアミンを鎖伸長剤とし、イソシアネート基と活性水素含有官能基との当量比が、通常、1.0となる配合で、ワンショット法、または多段法により、通常、20〜150℃、好ましくは30〜110℃で、イソシアネート基が殆どなくなるまで反応させることで樹脂(B)を得ることができる。   The production method of the resin (B) using the above raw materials is not particularly limited, and a conventionally known polyurethane production method can be used. For example, a compound in which at least one active hydrogen group and a polysiloxane segment coexist in the same molecule in the presence or absence of an organic solvent containing no active hydrogen in the molecule, a polyol and / or a polyamine, A polyisocyanate and optionally a low molecular diol or low molecular diamine as a chain extender, and the equivalent ratio of isocyanate group to active hydrogen-containing functional group is usually 1.0, a one-shot method, or The resin (B) can be obtained by reacting at a temperature of 20 to 150 ° C., preferably 30 to 110 ° C. until the isocyanate group is almost eliminated by a multistage method.

なお、樹脂(B)については、無溶剤で合成しても、有機溶剤を用いて合成してもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルおよびシクロヘキサノンなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、セロソルブアセテートおよびN−メチル−2−ピロリドンなども使用することができる。   In addition, about resin (B), you may synthesize | combine without a solvent or may synthesize | combine using an organic solvent. Preferable organic solvents include, for example, methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate and cyclohexanone. Further, acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, dioxane, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, butanol, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate and N-methyl-2- Pyrrolidone and the like can also be used.

樹脂(B)を製造する場合には、それぞれ前記の同一分子内に少なくとも1個の活性水素基を含有するポリシロキサン化合物を0.01〜90質量%、好ましくは0.1〜70質量%、ポリオールおよび/またはポリアミン0〜90質量%、好ましくは0〜80質量%、鎖伸長剤は40〜0質量%、好ましくは30〜0質量%(これらの成分の合計は100質量%である。)の割合で使用し、ポリイソシアネートの比は、NCO/OH≒1.0で樹脂(B)を合成する。なお、ポリシロキサン化合物が多いと(90質量%を超えると)帯電防止フィルム同士が滑りすぎたり、未反応ポリシロキサン成分により印刷不良(インキをはじく現象)が起きたり、十分な表面抵抗性能が発揮されない。一方、ポリシロキサン化合物が少ないと(0.01質量%未満であると)帯電防止フィルム同士の滑り不足(巻き皺などの不良)、耐溶剤性および外気の湿度制御が不可能となり好ましくない。   In the case of producing the resin (B), 0.01 to 90% by mass, preferably 0.1 to 70% by mass of a polysiloxane compound containing at least one active hydrogen group in the same molecule, The polyol and / or polyamine is 0 to 90% by mass, preferably 0 to 80% by mass, the chain extender is 40 to 0% by mass, preferably 30 to 0% by mass (the total of these components is 100% by mass). The resin (B) is synthesized with a polyisocyanate ratio of NCO / OH≈1.0. If there are many polysiloxane compounds (over 90% by mass), antistatic films will slip too much, unreacted polysiloxane components will cause printing failure (a phenomenon that repels ink), and sufficient surface resistance performance will be exhibited. Not. On the other hand, when the amount of the polysiloxane compound is small (less than 0.01% by mass), slippage between the antistatic films (defects such as curling) is unfavorable, and solvent resistance and humidity control of the outside air become impossible.

本発明で使用する樹脂(B)の分子量は、重量平均分子量(GPCで測定、標準ポリスチレン換算)で5,000〜300,000の範囲が好ましい。   The molecular weight of the resin (B) used in the present invention is preferably in the range of 5,000 to 300,000 in terms of weight average molecular weight (measured by GPC, converted to standard polystyrene).

本発明において帯電防止層の形成に使用するポリイソシアネート(C)としては、従来から使用されている公知のものが使用でき特に限定されない。例えば、2,4−トルイレンジイソシアネートの二量体、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス−(p−イソシアネートフェニル)チオフォスファイト、多官能芳香族イソシアネート、多官能芳香族脂肪族イソシアネート、多官能脂肪族イソシアネート、脂肪酸変性多官能脂肪族イソシアネート、ブロック化多官能脂肪族イソシアネートなどのブロック型ポリイソシアネートおよびポリイソシアネートプレポリマーなどが挙げられる。   In the present invention, as the polyisocyanate (C) used for forming the antistatic layer, a conventionally known polyisocyanate (C) can be used and is not particularly limited. For example, dimer of 2,4-toluylene diisocyanate, triphenylmethane triisocyanate, tris- (p-isocyanatephenyl) thiophosphite, polyfunctional aromatic isocyanate, polyfunctional aromatic aliphatic isocyanate, polyfunctional aliphatic Examples thereof include blocked polyisocyanates and polyisocyanate prepolymers such as isocyanate, fatty acid-modified polyfunctional aliphatic isocyanate, and blocked polyfunctional aliphatic isocyanate.

これらのうち、芳香族系あるいは脂肪族系のどちらでも使用可能であり、好ましくは芳香族系ではジフェニルメタンジイソシアネートおよびトリレンジイソシアネート、脂肪族系ではヘキサメチレンジイソシアネートおよびイソホロンジイソシアネートなどの変性体であり、分子中にイソシアネート基を3個以上含むものが好ましく、前記ポリイソシアネートの多量体や他の化合物との付加体、さらには低分子量のポリオールやポリアミンとを末端イソシアネートになるように反応させたウレタンプレポリマーなども好ましく使用される。それらを下記に構造式を挙げて例示するが、これらに限定されるものではない。   Of these, it is possible to use either aromatic or aliphatic, preferably modified compounds such as diphenylmethane diisocyanate and tolylene diisocyanate for aromatic systems, hexamethylene diisocyanate and isophorone diisocyanate for aliphatic systems, and molecules. A urethane prepolymer obtained by reacting a polyisocyanate multimer or an adduct with another compound, or a low molecular weight polyol or polyamine so as to be a terminal isocyanate is preferable. Etc. are also preferably used. These are exemplified below with structural formulas, but are not limited thereto.

Figure 2007320093
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これらのポリイソシアネート(C)の使用量は、前記の樹脂(A)、樹脂(B)およびイオン性導電剤(D)を合わせて100質量部に対して5〜80質量部、好ましくは5〜60質量部である。80質量部を超えると塗料の可使時間の低下などが起きるので好ましくなく、5質量部未満では帯電防止層の架橋密度が低下し、帯電防止層の耐溶剤性能が発揮できないので好ましくない。   The amount of these polyisocyanates (C) used is 5 to 80 parts by mass, preferably 5 to 100 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the resin (A), resin (B) and ionic conductive agent (D). 60 parts by mass. If it exceeds 80 parts by mass, it is not preferable because the working life of the paint is lowered, and if it is less than 5 parts by mass, the crosslinking density of the antistatic layer is reduced, and the solvent resistance of the antistatic layer cannot be exhibited.

本発明で使用する好ましいイオン性導電剤(D)について説明する。イオン性導電剤を構成するカチオン成分としては、1−エチル−3−メチルイミダゾリウム(EMI)に代表されるアルキルイミダゾリウムカチオン、アルキルピリジニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオン、アルキルホスホニウムカチオン、アルキルスルホニウムカチオンなどの化合物が使用できる。   A preferred ionic conductive agent (D) used in the present invention will be described. Examples of the cation component constituting the ionic conductive agent include alkyl imidazolium cations represented by 1-ethyl-3-methylimidazolium (EMI), alkyl pyridinium cations, alkyl ammonium cations, alkyl phosphonium cations, and alkyl sulfonium cations. Compounds can be used.

イオン性導電剤を構成するアニオン成分としては、BF4 -、PF6 -、CF3CO2 -、(CF3SO22-およびCF3SO2 -などのフッ素系イオン化合物やCH3CO2 -およびNO3 -などの無機または有機アニオン化合物が挙げられ、これらのアニオン化合物を用いてイオン性導電剤を形成する。本発明で使用するイオン性導電剤は特に限定されるものではなく、公知のいかなるイオン性導電剤でもよいが、通常、複雑な合成による不純物の精製が困難なため、アニオン化合物およびカチオン化合物のいずれもが有機性のものを選定することが望ましい。 Examples of the anionic component constituting the ionic conductive agent include fluorine-based ionic compounds such as BF 4 , PF 6 , CF 3 CO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N and CF 3 SO 2 , and CH 3. CO 2 - and NO 3 - inorganic or organic anion compounds can be mentioned, such as to form an ion conductive agent using these anionic compounds. The ionic conductive agent used in the present invention is not particularly limited, and any known ionic conductive agent may be used. However, since it is usually difficult to purify impurities by complicated synthesis, either an anionic compound or a cationic compound is used. It is desirable to select organic ones.

以下に本発明で帯電防止剤として用いるイオン性導電剤の具体例を示す。
(1)<アルキルイミダゾリウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
Specific examples of the ionic conductive agent used as an antistatic agent in the present invention are shown below.
(1) <Alkylimidazolium cationic compound>
Figure 2007320093

Figure 2007320093
Figure 2007320093

(2)<脂肪族アルキルアンモニウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
(2) <Aliphatic alkylammonium cation compound>
Figure 2007320093

(3)<脂環族アルキルアンモニウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
(3) <Alicyclic alkyl ammonium cation compound>
Figure 2007320093

(4)<アルキルピリジニウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
(4) <Alkylpyridinium cationic compound>
Figure 2007320093

(5)<アルキルスルホニウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
(5) <Alkylsulfonium cation compound>
Figure 2007320093

(6)<アルキルホスホニウムカチオン系化合物>

Figure 2007320093
(式中のR1〜R4は同一または異なる基であり、水素原子または置換基を有してもよい炭素数が1〜10のアルキル基(該基中にO、S、またはNの原子を有してもよい)である。X-はアニオン成分;例えば、AlCl4 -アニオン、含フッ素アニオン(例えば、N(CF3SO22 -、CF3SO3 -、BF4 -、PF6 -)および硝酸アニオンや酢酸アニオンである。) (6) <Alkylphosphonium cationic compound>
Figure 2007320093
(In the formula, R 1 to R 4 are the same or different groups, and may be a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms which may have a substituent (the atoms of O, S, or N in the group) X represents an anionic component; for example, AlCl 4 anion, fluorine-containing anion (for example, N (CF 3 SO 2 ) 2 , CF 3 SO 3 , BF 4 , PF 6 -) and nitrate anion and acetate anion).

好ましい有機カチオン成分としては、アルキルイミダゾリウムカチオン、アルキルピリジニウムカチオン、アルキルアンモニウムカチオン、アルキルホスホニウムカチオンおよびアルキルスルホニウムカチオンなどが挙げられる。   Preferable organic cation components include alkyl imidazolium cations, alkyl pyridinium cations, alkyl ammonium cations, alkyl phosphonium cations, and alkyl sulfonium cations.

アンモニウムカチオンを具体的に例示すると、トリエチルメチルアンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオン、アンモニウムカチオン、トリメチルアンモニウムカチオン、エチルジメチルアンモニウムカチオン、ジエチルメチルアンモニウムカチオン、トリエチルアンモニウムカチオンおよびテトラメチルアンモニウムカチオンなどが挙げられる。   Specific examples of the ammonium cation include triethylmethylammonium cation, tetraethylammonium cation, ammonium cation, trimethylammonium cation, ethyldimethylammonium cation, diethylmethylammonium cation, triethylammonium cation and tetramethylammonium cation.

アルキルイミダゾリウムカチオンの具体例としては、1−メチル−3−メチルイミダゾリウムカチオン、1−メチル−3−エチルイミダゾリウムカチオンおよび1−メチル−3−プロピルイミダゾリウムカチオンなどが挙げられる。   Specific examples of the alkyl imidazolium cation include 1-methyl-3-methyl imidazolium cation, 1-methyl-3-ethyl imidazolium cation and 1-methyl-3-propyl imidazolium cation.

ホスホニウムカチオンとしては、テトラエチルホスホニウムなどの鎖状ホスホニウムカチオン類および環状ホスホニウムカチオン類などが挙げられる。スルホニウムカチオンとしてはトリエチルスルホニウムなどの鎖状スルホニウムカチオン類および環状スルホニウムカチオン類などが挙げられる。   Examples of phosphonium cations include chain phosphonium cations such as tetraethylphosphonium and cyclic phosphonium cations. Examples of the sulfonium cation include chain sulfonium cations such as triethylsulfonium and cyclic sulfonium cations.

上記のカチオン成分と造塩させるアニオン成分としては、例えば、AlCl4 -、NO3 -、NO2 -、I-、BF4 -、PF6 -、AsF6 -、SbF6 -、NbF6 -、TaF6 -、CH3CO2 -、CF3CO2 -、CH3SO2 -、CF3SO2 -、(CF3SO23-、C37CO2 -、C49SO3 -、(CF3SO22-、(C25SO22-および(C25SO2)(CF3CO)N-などが挙げられるが、代表的にはBF4 -、PF6 -および(CF3SO22-が好ましく使用される。本発明は、これらのアニオン成分に限定されるものでなく、その他一般に市販されているアミドアニオン化合物、メチドアニオン化合物、ボレートアニオン化合物、ホスフェートアニオン化合物、スルホネートアニオン化合物およびカルボキシレートアニオン化合物なども使用できる。 Examples of the anionic component to be salted with the above cation component include AlCl 4 , NO 3 , NO 2 , I , BF 4 , PF 6 , AsF 6 , SbF 6 , NbF 6 , TaF 6 , CH 3 CO 2 , CF 3 CO 2 , CH 3 SO 2 , CF 3 SO 2 , (CF 3 SO 2 ) 3 C , C 3 F 7 CO 2 , C 4 F 9 sO 3 -, (CF 3 sO 2) 2 N -, (C 2 F 5 sO 2) 2 N - and (C 2 F 5 sO 2) (CF 3 CO) N - Although the like, typically BF 4 , PF 6 and (CF 3 SO 2 ) 2 N are preferably used. The present invention is not limited to these anion components, and other commercially available amide anion compounds, methide anion compounds, borate anion compounds, phosphate anion compounds, sulfonate anion compounds and carboxylate anion compounds can also be used.

前記樹脂(A)、前記樹脂(B)および前記イオン性導電剤(D)の使用量は、(A)、(B)および(D)の合計量(100質量%)のうち、(A)が15〜98.9質量%、(B)が55〜1質量%および(D)が30〜0.1質量%である。(A)の使用量が98.9質量%を超えると塗料の可使時間および基材フィルムへの密着性が低下するので好ましくなく、一方、(A)の使用量が15質量%未満では帯電防止層の架橋密度および耐溶剤性が低下するので好ましくない。(B)の使用量が55質量%を超えると帯電防止フィルム同士が滑り過ぎたり、インキ適性不良や耐溶剤性の低下を招くので好ましくなく、1質量%未満では環境湿度の影響を受け易くなるので好ましくない。一方、(D)の使用量が30質量%を超えると帯電防止層の耐溶剤性やスクラッチ性が低下したり、用いる塗料が不安定になるので好ましくなく、0.1質量%未満では帯電性能が低下するので好ましくない。   The amount of the resin (A), the resin (B) and the ionic conductive agent (D) used is (A) of the total amount (100% by mass) of (A), (B) and (D). Is 15 to 98.9 mass%, (B) is 55 to 1 mass%, and (D) is 30 to 0.1 mass%. If the amount of use of (A) exceeds 98.9% by mass, it is not preferable because the working life of the paint and the adhesion to the substrate film are lowered. Since the crosslinking density and solvent resistance of a prevention layer fall, it is unpreferable. If the amount of (B) used exceeds 55% by mass, the antistatic films are too slippery, resulting in poor ink suitability and a decrease in solvent resistance, and less than 1% by mass is susceptible to environmental humidity. Therefore, it is not preferable. On the other hand, if the amount of (D) used exceeds 30% by mass, the solvent resistance and scratch resistance of the antistatic layer will decrease, and the paint used will be unstable. Is unfavorable because it decreases.

なお、本発明の帯電防止層を形成するには、前記の樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)とを含有している塗料を使用する。この塗料の使用に際してはその使用前に前記のポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを予め添加しておくことが好ましい。該塗料は、無溶剤で調製したものでもよいし、有機溶剤を用いて調製したものでもよい。有機溶剤として好ましいのは、例えば、メチルエチルケトン、メチル−n−プロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジエチルケトン、ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸プロピル、酢酸メチル、酢酸エチルおよび酢酸ブチルなどが挙げられる。また、アセトン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、N−メチル−2−ピロリドン、ジオキサン、トルエン、キシレン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、パークロルエチレン、トリクロルエチレン、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブおよびセロソルブアセテートなどが挙げられる。有機溶剤を用いて調製した塗料の固形分は、特に限定されないが、3〜95質量%程度が好ましい。   In addition, in order to form the antistatic layer of this invention, the coating material containing said resin (A), resin (B), and an ionic conductive agent (D) is used. When using this paint, it is preferable to add the above-mentioned polyisocyanate before use or to add a stabilized polyisocyanate in advance. The paint may be prepared without a solvent or may be prepared using an organic solvent. Preferable examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, methyl-n-propyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, diethyl ketone, methyl formate, ethyl formate, propyl formate, methyl acetate, ethyl acetate and butyl acetate. Further, acetone, cyclohexane, tetrahydrofuran, N-methyl-2-pyrrolidone, dioxane, toluene, xylene, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide, perchlorethylene, trichloroethylene, methyl cellosolve, butyl cellosolve, cellosolve acetate, and the like can be given. Although the solid content of the coating material prepared using the organic solvent is not particularly limited, it is preferably about 3 to 95% by mass.

塗料には、必要に応じて、さらに硬化触媒、反応抑制剤やその他の添加剤を適宜使用することができる。硬化触媒としては、例えば、ジブチルチンラウレート、ジオクチルチンラウレート、スタナスオクトエート、オクチル酸鉛、テトラ−n−ブチルチタネートおよびビスマスなどの金属と有機または無機酸の塩および有機金属誘導体、トリエチルアミンなどの有機アミンおよびジアザビシクロウンデセン系触媒などが挙げられる。反応抑制剤としては、例えば、燐酸、酢酸、酒石酸、フタル酸およびギ酸エステルなどが挙げられる。   In the coating material, a curing catalyst, a reaction inhibitor, and other additives can be appropriately used as necessary. Examples of the curing catalyst include dibutyltin laurate, dioctyltin laurate, stannous octoate, lead octylate, tetra-n-butyl titanate, and salts of organic or inorganic acids and organometallic derivatives such as triethylamine. And organic amines such as diazabicycloundecene catalysts. Examples of the reaction inhibitor include phosphoric acid, acetic acid, tartaric acid, phthalic acid, and formic acid ester.

さらに帯電防止フィルムへの滑り性付与や耐水化を目的として、例えば、シリコーンオイルおよび/または変性シリコーンオイル(例えば、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサンおよびアラルキル変性ポリジメチルシロキサンなど)、各種ワックス、アクリル系ポリマー、長鎖アルキル変性ポリマー、フッ素変性ポリマーおよびシロキサン変性ポリマーなどの添加剤を加えることができる。   Further, for the purpose of imparting slipperiness to the antistatic film and water resistance, for example, silicone oil and / or modified silicone oil (for example, polydimethylsiloxane, polyether-modified polydimethylsiloxane, polyester-modified polydimethylsiloxane, and aralkyl-modified polydimethyl). Siloxane etc.), various waxes, acrylic polymers, long chain alkyl modified polymers, fluorine modified polymers and siloxane modified polymers.

さらに他の帯電防止剤も併用できる。他の帯電防止剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、カチオン変性ポリビニルアルコール、アルカリ金属塩含有ポリエーテル、アルカリ金属塩含有シロキサン変性ポリエーテル、アルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン、ポリアミン、4級カチオン塩含有アクリル系樹脂、特殊変性ポリエステル、特殊カチオン系樹脂、セルロース誘導体、ポリアセチレン、ポリパラフェニレン、ポリチオフェン、ポリピロール、ポリアニリンおよびスルホン化ポリアニリンなどの有機導電性材料、カーボンナノチューブ、カーボンブラック、酸化スズ、酸化亜鉛および酸化チタンなどの金属酸化物および各種金属アルコキシドおよびITO粉末などの導電性フィラー含有高分子などの添加剤を加えることができる。   Furthermore, other antistatic agents can be used in combination. Other antistatic agents include, for example, polyvinyl alcohol, cation-modified polyvinyl alcohol, alkali metal salt-containing polyether, alkali metal salt-containing siloxane-modified polyether, alkali metal salt-containing ether polyurethane, polyamine, and quaternary cation salt-containing acrylic. Resin, specially modified polyester, special cationic resin, cellulose derivative, polyacetylene, polyparaphenylene, polythiophene, polypyrrole, polyaniline and sulfonated polyaniline, etc., organic conductive materials, carbon nanotubes, carbon black, tin oxide, zinc oxide and oxidation Additives such as metal oxides such as titanium and various metal alkoxides and conductive filler-containing polymers such as ITO powder can be added.

前記化合物のうち、アルカリ金属塩含有ポリエーテル、アルカリ金属塩含有シロキサン変性ポリエーテルおよびアルカリ金属塩含有エーテル系ポリウレタン中のアルカリ金属塩としては、例えば、過塩素酸リチウム、リチウムビストリフルオロメタンスルホンイミド、ホウフッ化リチウム、六フッ化リン酸リチウム、トリフルオロメタンスルホン酸リチウム、ペンタフルオロエタンスルホン酸リチウム、リチウムビスペンタフルオロエタンスルホンイミド、ホウフッ化テトラエチルアンモニウム、六フッ化リン酸テトラエチルアンモニウムおよびカリウムビストリフルオロメタンスルホンイミドなどを挙げることができる。   Among the compounds, alkali metal salt-containing polyether, alkali metal salt-containing siloxane-modified polyether and alkali metal salt in the alkali metal salt-containing ether polyurethane, for example, lithium perchlorate, lithium bistrifluoromethanesulfonimide, Lithium borofluoride, lithium hexafluorophosphate, lithium trifluoromethanesulfonate, lithium pentafluoroethanesulfonate, lithium bispentafluoroethanesulfonimide, tetraethylammonium borofluoride, tetraethylammonium hexafluorophosphate and potassium bistrifluoromethanesulfone An imide etc. can be mentioned.

本発明で用いる基材フィルムとしては、例えば、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリアクリレート、シクロオレフィン、ポリイミド、ポリエチレン、ポリプロピレンなどを成分とするフィルムが挙げられる。特に好ましいのは、二軸延伸したポリエチレンテレフタレートフィルムであり、帯電防止フィルムに適合した適性かつ必要な強度を有している。基材フィルムの膜厚は、好ましくは4〜300μmであり、より好ましくは、10〜200μmである。これらの基材フィルムは、必要に応じて、コロナ処理、帯電防止処理あるいは易接着処理などを施してもよい。   As a base film used by this invention, the film which uses polyester, a polycarbonate, polyacrylate, a cycloolefin, a polyimide, polyethylene, a polypropylene etc. as a component is mentioned, for example. Particularly preferred is a biaxially stretched polyethylene terephthalate film, which is suitable for the antistatic film and has the required strength. The film thickness of the base film is preferably 4 to 300 μm, more preferably 10 to 200 μm. These base films may be subjected to corona treatment, antistatic treatment or easy adhesion treatment as necessary.

本発明の帯電防止フィルムは、前記の塗料を用い、従来公知の方法で製造することができ、製造方法自体は特に限定されない。また、基材フィルムなどの帯電防止層形成用材料以外の材料は、いずれも公知の材料が使用でき、特に限定されない。本発明の帯電防止フィルムの帯電防止層の形成に際しては、本発明の塗料を、従来公知の方法によって、基材フィルムの表面(および/または両面)に、乾燥厚さが0.01〜1μm程度となるよう塗布して被膜を形成させる。   The antistatic film of this invention can be manufactured by a conventionally well-known method using the said coating material, and manufacturing method itself is not specifically limited. Moreover, as for materials other than the material for forming an antistatic layer such as a base film, any known material can be used, and is not particularly limited. In forming the antistatic layer of the antistatic film of the present invention, the coating material of the present invention is dried on the surface (and / or both surfaces) of the base film by a conventionally known method with a dry thickness of about 0.01 to 1 μm. The film is formed by coating.

このようにして得られた帯電防止層は、樹脂(A)と樹脂(B)中のポリシロキサン基との表面エネルギーの相違により、樹脂(A)の活性水素基は親水性のため基材フィルム表面に配向して帯電防止層の基材フィルムに対する密着性を向上させる。一方、表面エネルギーの低いポリシロキサン基を含有する成分(B)は基材フィルムの反対側(空気側)に配向することで、耐水性および適度な滑り性が付与される。   The antistatic layer thus obtained is a base film because the active hydrogen group of the resin (A) is hydrophilic due to the difference in surface energy between the resin (A) and the polysiloxane group in the resin (B). Oriented on the surface to improve the adhesion of the antistatic layer to the substrate film. On the other hand, the component (B) containing a polysiloxane group having a low surface energy is oriented on the opposite side (air side) of the base film, thereby imparting water resistance and appropriate slipperiness.

帯電防止層を形成する前記ポリイソシアネート(C)は、被膜形成材料内の成分を架橋するので、帯電防止層の耐溶剤性および耐スクラッチ性(表面硬度アップ)をさらに向上させることができる。帯電防止機能については、塗料中にイオン性導電剤(D)を含有させることでその機能は保たれている。   Since the polyisocyanate (C) forming the antistatic layer crosslinks the components in the film forming material, the solvent resistance and scratch resistance (up the surface hardness) of the antistatic layer can be further improved. About the antistatic function, the function is maintained by containing an ionic conductive agent (D) in a coating material.

以上の如き本発明の帯電防止フィルムにおいては、帯電防止層の表面抵抗値が105〜1012Ω/cm2であることが好ましい。表面抵抗値が上記範囲を超えると、帯電防止性が不十分であり、一方、表面抵抗値が上記範囲未満であっても特に利益はない。 In the antistatic film of the present invention as described above, the surface resistance value of the antistatic layer is preferably from 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 . When the surface resistance value exceeds the above range, the antistatic property is insufficient. On the other hand, even if the surface resistance value is less than the above range, there is no particular advantage.

また、上記帯電防止層のヘイズ値は3.0%以下であることが好ましい。ヘイズ値が3.0%を超えると、本発明の帯電防止フィルムを光学用フィルムの基材として使用した場合に、透明性が不足する場合がある。なお、用途が他の用途であれば、ヘイズ値は3.0%を超えても問題はない。   The haze value of the antistatic layer is preferably 3.0% or less. When the haze value exceeds 3.0%, transparency may be insufficient when the antistatic film of the present invention is used as a substrate for an optical film. If the usage is other usage, there is no problem even if the haze value exceeds 3.0%.

また、上記帯電防止層の動摩擦係数は0.05〜0.30であることが好ましい。動摩擦係数が0.05未満であると、得られる帯電防止フィルムが滑り過ぎて、該フィルムの加工時に巻き皺が発生したり、経時的にシリコーン成分の裏移りや後加工(成形、重ね刷り、複合化など)に不都合があり、一方、動摩擦係数が0.30を超えると、該帯電防止フィルムの塗工処理に際し、塗工スピードが上がらないことに加え、後加工性も悪くなる傾向がある。   The dynamic friction coefficient of the antistatic layer is preferably 0.05 to 0.30. When the coefficient of dynamic friction is less than 0.05, the resulting antistatic film is too slippery, and curling occurs when the film is processed, or the silicone component is backed out or processed over time (molding, overprinting, On the other hand, if the coefficient of dynamic friction exceeds 0.30, the coating speed of the antistatic film does not increase and the post-processability tends to deteriorate. .

以上の本発明の帯電防止フィルムは、例えば、光学用保護フィルムの基材フィルム、光拡散フィルム、反射フィルム、反射防止フィルム、導光板(バックライト部材)、キャリヤーテープやカバーテープ(電子部品搬送用)、バックグラウンドテープ、ダイシングテープ、帯電防止付与リリースフィルム、OHPシート、写真フィルム、フレキシブルプリント配線板などの帯電防止付与保護フィルム、トリアセチルセルロース保護フィルム、タッチパネル、各種包装材・袋、ディスプレイ、ベルト、ロールなどの用途に有用であり、また、本発明の塗料は上記各種物品の製造の他に、例えば、光学レンズや光ディスク基板などの光学材料などの表面処理剤、繊維コーティング剤および汚れ防止(帯電防止)塗料などとしても有用である。   The above-described antistatic film of the present invention includes, for example, a base film of an optical protective film, a light diffusing film, a reflective film, an antireflection film, a light guide plate (backlight member), a carrier tape and a cover tape (for transporting electronic components) ), Background tape, dicing tape, antistatic imparting release film, OHP sheet, photographic film, flexible printed wiring board and other antistatic imparting protective films, triacetylcellulose protective film, touch panel, various packaging materials and bags, displays, belts In addition to the production of the above-mentioned various articles, the coating of the present invention is useful for surface treatment agents such as optical materials such as optical lenses and optical disk substrates, fiber coating agents, and antifouling ( It is also useful as an antistatic coating.

以下に合成例、実施例および比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。また、以下の文中の「部」は質量部、「%」は質量%を示す。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to synthesis examples, examples and comparative examples, but the present invention is not limited thereto. Moreover, in the following sentence, “part” indicates mass part, and “%” indicates mass%.

[合成例1〜3]
攪拌機、温度計、窒素ガス導入管および還流冷却器を具備した反応器に、窒素ガスで置換した後、表1に記載したラクトン化合物およびシロキサン化合物を所定の濃度まで投入し窒素気流下、100℃にて均一になるまで攪拌した。続いて所定のテトラ−n−ブチルチタネートを投入し、窒素気流下180℃の温度下で10時間反応させた。反応の進行とともに反応物の粘度が上昇してくる。その後、180℃で5mmHgの減圧下で1時間反応を続け、反応を完了させるとともに、原料のシロキサン化合物に含まれていた非反応性シロキサン化合物および未反応物を完全に除去した。得られたポリカプロラクトン変性ポリシロキサン化合物の組成および性状を表1に示す。
[Synthesis Examples 1 to 3]
A reactor equipped with a stirrer, a thermometer, a nitrogen gas inlet tube and a reflux condenser was replaced with nitrogen gas, and then the lactone compound and siloxane compound shown in Table 1 were charged to a predetermined concentration and 100 ° C. under a nitrogen stream. The mixture was stirred until uniform. Subsequently, predetermined tetra-n-butyl titanate was added and reacted for 10 hours at a temperature of 180 ° C. under a nitrogen stream. As the reaction proceeds, the viscosity of the reactant increases. Thereafter, the reaction was continued at 180 ° C. under a reduced pressure of 5 mmHg for 1 hour to complete the reaction, and the non-reactive siloxane compound and unreacted substances contained in the starting siloxane compound were completely removed. Table 1 shows the composition and properties of the obtained polycaprolactone-modified polysiloxane compound.

Figure 2007320093
Figure 2007320093

表1中のシロキサン化合物(a)は下記の構造を有する。

Figure 2007320093
The siloxane compound (a) in Table 1 has the following structure.
Figure 2007320093

Figure 2007320093
Figure 2007320093

Figure 2007320093
Figure 2007320093

[合成例4〜7]
攪拌機、還流冷却管、温度計、窒素吹き込み管およびマンホールを備えた反応容器を窒素ガスで置換した後、前記合成例で得られた水酸基を有するポリカプロラクトン変性ポリシロキサン化合物(または、ポリエチレンオキシド変性ポリシロキサン化合物:a−4)、ポリオール化合物、鎖伸長剤化合物および溶剤を所定量加え、均一に溶解させ、溶液濃度を30%に調節した。続いてジイソシアネート化合物を所定量(活性水素基1モルに対して等モル)加えて80℃で反応を行い、赤外吸収スペクトルで2,270cm-1の遊離イソシアネート基による吸収が認められなくなるまで反応を行った。得られたシロキサン含有ポリウレタン樹脂の原料組成、性状および物性を表2に示す。
[Synthesis Examples 4 to 7]
After replacing the reaction vessel equipped with a stirrer, reflux condenser, thermometer, nitrogen blowing tube and manhole with nitrogen gas, the polycaprolactone-modified polysiloxane compound having a hydroxyl group obtained in the above synthesis example (or polyethylene oxide-modified polysiloxane) Siloxane compound: a-4), a polyol compound, a chain extender compound, and a solvent were added in predetermined amounts and uniformly dissolved, and the solution concentration was adjusted to 30%. Subsequently, a predetermined amount of diisocyanate compound (equal mole to 1 mole of active hydrogen groups) is added and the reaction is carried out at 80 ° C., and the reaction is continued until no absorption due to 2,270 cm −1 free isocyanate groups is observed in the infrared absorption spectrum. Went. Table 2 shows the raw material composition, properties and physical properties of the resulting siloxane-containing polyurethane resin.

Figure 2007320093
Figure 2007320093

Figure 2007320093
・PEG:ポリエチレンオキサイドジオール
(東邦化学工業社製、商品名PEG−2000、平均分子量2,000)
・1,3−BD:1,3−ブタンジオール
・HDI:ヘキサメチレンジイソシアネート
・MEK:メチルエチルケトン
Figure 2007320093
PEG: polyethylene oxide diol (manufactured by Toho Chemical Co., Ltd., trade name PEG-2000, average molecular weight 2,000)
・ 1,3-BD: 1,3-butanediol ・ HDI: Hexamethylene diisocyanate ・ MEK: Methyl ethyl ketone

[実施例1〜4、比較例1〜4]
実施例および比較例の塗料(固形分5%)を表3および表4の組成により作製した。

Figure 2007320093
[Examples 1-4, Comparative Examples 1-4]
The paints of Examples and Comparative Examples (solid content 5%) were prepared according to the compositions shown in Tables 3 and 4.
Figure 2007320093

Figure 2007320093
Figure 2007320093

・EVOH;エチレンビニルアルコール、商品名:DC4212
(エチレン共重合比率=32mol%、ガラス転移温度=61℃、日本合成化学工業(株)製)
・PVA;部分けん化ポリビニルアルコール、商品名:PVA−217
(けん化度=87〜89、重合度=1,700、(株)クラレ製)
・YP−50S;フェノキシ樹脂、商品名:フェノトートYP−50S
(重量平均分子量=40,000、東都化成工業(株)製)
・BL−S;ブチラール基/アセチル基含有ポリビニルアルコール共重合体、商品名:BL−S
(水酸基=22mol%、アセチル基=3〜5mol%、ブチラール化度=70mol%以下、積水化学工業(株)製)
・PHDI;HDIのビウレット型、商品名:デュラネート24A-100
(旭化成ケミカルズ(株)製)
・イオン性導電剤;IL
(カチオン成分;N,N−ジエチル−N−メチル−N−(2−メタオキシエチレン)アンモニウム、アニオン成分;(CF3SO22-
・L;過塩素酸リチウム
・アノン:シクロヘキサノン
EVOH; ethylene vinyl alcohol, trade name: DC4212
(Ethylene copolymerization ratio = 32 mol%, glass transition temperature = 61 ° C., manufactured by Nippon Synthetic Chemical Industry Co., Ltd.)
-PVA; partially saponified polyvinyl alcohol, trade name: PVA-217
(Saponification degree = 87-89, polymerization degree = 1,700, manufactured by Kuraray Co., Ltd.)
YP-50S; phenoxy resin, trade name: phenototo YP-50S
(Weight average molecular weight = 40,000, manufactured by Toto Kasei Kogyo Co., Ltd.)
BL-S: Butyral group / acetyl group-containing polyvinyl alcohol copolymer, trade name: BL-S
(Hydroxyl group = 22 mol%, acetyl group = 3-5 mol%, butyral degree = 70 mol% or less, manufactured by Sekisui Chemical Co., Ltd.)
-PHDI; HDI biuret type, trade name: Duranate 24A-100
(Asahi Kasei Chemicals Corporation)
・ Ionic conductive agent; IL
(Cation component; N, N-diethyl-N-methyl-N- (2-metaoxyethylene) ammonium, anion component; (CF 3 SO 2 ) 2 N )
・ L: Lithium perchlorate ・ Anone: Cyclohexanone

本発明の帯電防止フィルムの製造に使用する前記塗料は、樹脂(B)とイオン性導電剤(D)を有機溶剤に溶解または分散した後、樹脂(A)と混合して作製した。各成分の溶解または分散方法としては、公知のいずれの方法を使用してもよく、特に限定されない。   The paint used for the production of the antistatic film of the present invention was prepared by dissolving or dispersing the resin (B) and the ionic conductive agent (D) in an organic solvent and then mixing with the resin (A). Any known method may be used as a method for dissolving or dispersing each component, and is not particularly limited.

各実施例および比較例で得られた各塗料を用い、グラビア印刷により、厚さ38μmのポリエチレンテレフタレートフィルム(東レ製)の表面に、乾燥後の厚みが0.5μmになるように塗布した後、乾燥機中で前記表中に記載の条件で溶剤を乾燥させた。実施例1〜4および比較例1、2、4の塗料を用いた場合は塗布および乾燥後、40℃のオーブンにて48時間熟成させて帯電防止層を形成させた。比較例3はPHDIを使用していないので熟成を行わずに溶剤を乾燥した。これらの帯電防止フィルムについて下記の試験を行った。   After applying each paint obtained in each Example and Comparative Example, by gravure printing, on the surface of a polyethylene terephthalate film having a thickness of 38 μm (manufactured by Toray) so that the thickness after drying becomes 0.5 μm, The solvent was dried in the dryer under the conditions described in the above table. When the paints of Examples 1 to 4 and Comparative Examples 1, 2, and 4 were used, after application and drying, they were aged in an oven at 40 ° C. for 48 hours to form an antistatic layer. In Comparative Example 3, since no PHDI was used, the solvent was dried without aging. The following tests were conducted on these antistatic films.

[試験例]
上記で得られた実施例および比較例の帯電防止層の塗膜および帯電防止フィルムの性能を以下の項目について試験し、表5の結果を得た。
<表面抵抗値>
三菱化学(株)製のMCP−HT450を使用して帯電防止フィルムの帯電防止性の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、印加電圧100V、30秒で行った。帯電防止効果を発揮するには、表面抵抗値が1×1010Ω/cm2以下が望ましい。
[Test example]
The performance of the antistatic layer coating film and antistatic film obtained in the above examples and comparative examples was tested for the following items, and the results shown in Table 5 were obtained.
<Surface resistance value>
The antistatic property of the antistatic film is measured using MCP-HT450 manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation. The measurement conditions were as follows: temperature 23 ° C., humidity 65% RH, applied voltage 100 V, 30 seconds. In order to exhibit the antistatic effect, the surface resistance value is desirably 1 × 10 10 Ω / cm 2 or less.

<透明性>
スガ試験機(株)製直読ヘーズコンピューターHGM−2DPを使用し、帯電防止フィルムのヘイズ値を測定した。
ヘイズ値=測定値−基材のヘイズ値
ヘイズ値は1.0%未満であれば透過性が高く、帯電防止フィルムに適する。
<Transparency>
Using a direct reading haze computer HGM-2DP manufactured by Suga Test Instruments Co., Ltd., the haze value of the antistatic film was measured.
Haze value = Measured value−Haze value of base material If the haze value is less than 1.0%, the transparency is high and it is suitable for an antistatic film.

<耐溶剤性>
帯電防止フィルム表面に1gの酢酸エチルを垂らし、荷重50g/cm2でラビングした際の帯電防止層の塗膜の外観を観察した。
○:帯電防止層の塗膜外観の変化がない
△:帯電防止層の塗膜外観がやや変化している
×:帯電防止層の塗膜外観が変化している
<Solvent resistance>
1 g of ethyl acetate was dropped on the surface of the antistatic film, and the appearance of the coating film of the antistatic layer was observed when rubbed with a load of 50 g / cm 2 .
○: There is no change in the coating film appearance of the antistatic layer. Δ: The coating film appearance of the antistatic layer is slightly changed. X: The coating film appearance of the antistatic layer is changed.

<耐傷付き性>
帯電防止フィルムの帯電防止層の塗膜を約10g/cm2の荷重にてスコッチブライト(住友スリーエム(株)製)で擦り、表面の傷付きを目視にて確認した。
○:確認できる傷が0本以上5本未満
△:確認できる傷が5本以上10本未満
×:確認できる傷が10本以上
<Scratch resistance>
The coating film of the antistatic layer of the antistatic film was rubbed with Scotch Bright (manufactured by Sumitomo 3M Co., Ltd.) under a load of about 10 g / cm 2 , and surface damage was visually confirmed.
○: 0 or more and less than 5 scratches that can be confirmed Δ: 5 or more and less than 10 scratches that can be confirmed ×: 10 or more scratches that can be confirmed

<密着性>
帯電防止フィルムの帯電防止層の塗膜と基材PETフィルムとの接着性を碁盤目試験(セロハンテープ剥離クロスカット法)にて行った。
<Adhesion>
The adhesion between the coating film of the antistatic layer of the antistatic film and the substrate PET film was measured by a cross cut test (cellophane tape peeling cross-cut method).

<滑り性>
新東科学(株)製のHEIDON−14DRを使用して帯電防止フィルムの動摩擦係数の測定を行う。測定条件は、温度23℃、湿度65%RH、測定数5回の平均値で行った。動摩擦係数は、0.05〜0.30の範囲が望ましい。
<Slipperiness>
The dynamic friction coefficient of the antistatic film is measured using HEIDON-14DR manufactured by Shinto Kagaku Co., Ltd. The measurement conditions were a temperature of 23 ° C., a humidity of 65% RH, and an average value of 5 measurements. The dynamic friction coefficient is desirably in the range of 0.05 to 0.30.

<印刷適性>
寺西化学工業(株)製マジックインキNo.500を使用して帯電防止層の塗膜面に記載し、インキの筆記状況を観察した。
○:マジックインキの筆記状況が良好である
△:ややインキのハジキがあるが問題ないレベルである
×:インキがはじき筆記できない
<Printability>
Magic Ink No. manufactured by Teranishi Chemical Industry Co., Ltd. 500 was written on the coating surface of the antistatic layer, and the writing state of the ink was observed.
○: The writing status of the magic ink is good. △: There is a slight ink repellency, but there is no problem. ×: The ink cannot be repelled and written.

Figure 2007320093
Figure 2007320093

Figure 2007320093
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以上のように、本発明によれば、帯電防止機能、透明性、耐溶剤性、耐水性、印刷適性、滑り性、加工適性、基材フィルムとの密着性および外部環境(湿度)にも影響され難い性能などを有する帯電防止フィルムおよび該フィルムの製造に有用な塗料が提供される。
As described above, according to the present invention, the antistatic function, transparency, solvent resistance, water resistance, printability, slipperiness, processability, adhesion to the substrate film, and external environment (humidity) are also affected. An antistatic film having performance that is difficult to achieve and a paint useful for producing the film are provided.

Claims (10)

基材フィルムと、該基材フィルムの少なくとも一方の面に設けられた帯電防止層とからなる帯電防止フィルムにおいて、上記帯電防止層が、分子内に活性水素基を有する樹脂(A)とポリシロキサン基を含有するポリウレタン樹脂(B)とポリイソシアネート(C)とイオン性導電剤(D)とを被膜形成成分として形成されていることを特徴とする帯電防止フィルム。   An antistatic film comprising a base film and an antistatic layer provided on at least one surface of the base film, wherein the antistatic layer comprises a resin (A) having an active hydrogen group in the molecule and polysiloxane An antistatic film comprising a polyurethane resin (B) containing a group, a polyisocyanate (C), and an ionic conductive agent (D) as a film-forming component. 樹脂(A)が、水酸基、カルボキシル基、アミノ基、チオール基およびエポキシ基から選ばれる少なくとも1つの基を主鎖および/または側鎖に有する樹脂である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the resin (A) is a resin having at least one group selected from a hydroxyl group, a carboxyl group, an amino group, a thiol group, and an epoxy group in the main chain and / or the side chain. 樹脂(B)が、分子内に少なくとも1個の活性水素基を有するポリシロキサン化合物とポリイソシアネートとポリオールまたはポリアミンとを反応させて得られるポリウレタン樹脂であって、その重量平均分子量が5,000〜300,000である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The resin (B) is a polyurethane resin obtained by reacting a polysiloxane compound having at least one active hydrogen group in the molecule, a polyisocyanate, a polyol or a polyamine, and has a weight average molecular weight of 5,000 to The antistatic film according to claim 1, which is 300,000. イオン性導電剤(D)が、イミダゾリウムイオン、ピリジニウムイオン、アンモニウムイオンおよびホスホニウムイオンなどの有機カチオン成分と、BF4 -、PF6 -、CF3CO2 -、(CF3SO22-およびCF3SO2 -などのフッ素系イオン化合物やCH3CO2 -およびNO3 -などの無機または有機アニオン成分とからなる塩である請求項1に記載の帯電防止フィルム。 The ionic conductive agent (D) contains an organic cation component such as imidazolium ion, pyridinium ion, ammonium ion and phosphonium ion, BF 4 , PF 6 , CF 3 CO 2 , (CF 3 SO 2 ) 2 N - and CF 3 SO 2 - fluorinated ion compounds such as and CH 3 CO 2 - and NO 3 - antistatic film according to claim 1 which is composed of an inorganic or organic anion component salt such. 帯電防止層の表面抵抗値が、105〜1012Ω/cm2である請求項1に記載の帯電防止フィルム。 The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a surface resistance value of 10 5 to 10 12 Ω / cm 2 . 帯電防止層のヘイズ値が、3.0%以下である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a haze value of 3.0% or less. 帯電防止層の動摩擦係数が、0.05〜0.30である請求項1に記載の帯電防止フィルム。   The antistatic film according to claim 1, wherein the antistatic layer has a dynamic friction coefficient of 0.05 to 0.30. 樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)とを有機溶剤に溶解または分散してなることを特徴とする帯電防止層形成用塗料。   A paint for forming an antistatic layer, wherein the resin (A), the resin (B), and the ionic conductive agent (D) are dissolved or dispersed in an organic solvent. 樹脂(A)が、樹脂(A)と樹脂(B)とイオン性導電剤(D)の合計量(100質量%)のうちの15〜98.9質量%であり、樹脂(B)が55〜1質量%であり、イオン性導電剤(D)が30〜0.1質量%である請求項8に記載の塗料。   Resin (A) is 15-98.9 mass% of the total amount (100 mass%) of resin (A), resin (B), and ionic conductive agent (D), and resin (B) is 55 The coating material according to claim 8, which is ˜1% by mass and the ionic conductive agent (D) is 30 to 0.1% by mass. さらに使用前にポリイソシアネートを添加するか、あるいは安定化ポリイソシアネートを含有している請求項8に記載の塗料。
The paint according to claim 8, further comprising adding a polyisocyanate before use or containing a stabilized polyisocyanate.
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