JP2007318032A - Wiring substrate and semiconductor device mounting structure using the same - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、各種オーディオビジュアル(略称AV:Audio Visual)機器や家電機器,通信機器,コンピュータ装置およびその周辺機器などの電子機器に使用される配線基板およびそれを用いた半導体素子の実装構造に関するものである。 The present invention relates to a wiring board used in various audio visual (abbreviated as AV: Audio Visual) devices, home appliances, communication devices, computer devices and peripheral devices, and a mounting structure of a semiconductor element using the same. It is.
従来より、IC(Integrated Circuit),LSI(Large Scale Integration)などの半導体素子などを上面に搭載する配線基板として、樹脂製の配線基板が用いられている。 Conventionally, resin wiring boards have been used as wiring boards on which semiconductor elements such as IC (Integrated Circuit) and LSI (Large Scale Integration) are mounted.
ところが、樹脂製の配線基板は、樹脂の特性に起因して、その線膨張係数が半導体素子の線膨張係数に比べて大きい。このため、樹脂製の配線基板上に半導体素子を実装すると、両者の線膨張係数の差に起因して両者間に大きな熱応力が印加され、配線基板と半導体素子との接続状態が不安定となり、歩留まり低下が懸念される。 However, a resin wiring board has a larger linear expansion coefficient than that of a semiconductor element due to the characteristics of the resin. For this reason, when a semiconductor element is mounted on a resin wiring board, a large thermal stress is applied between the two due to the difference in coefficient of linear expansion between the two, and the connection state between the wiring board and the semiconductor element becomes unstable. There is a concern about the yield drop.
それ故、半導体素子の線膨張係数に近い低線膨張係数の配線基板及び半導体素子の実装構造体を実現することが求められている。 Therefore, it is required to realize a wiring board having a low linear expansion coefficient close to that of the semiconductor element and a semiconductor element mounting structure.
本発明の第1の配線基板は、第1方向に沿って配置される複数の第1繊維束と、前記第1方向と異なる第2方向に沿って配置され、前記第1繊維束よりも小さな断面積を有する複数の第2繊維束と、を編み込んで構成される第1織布と、前記第1織布を内部に収容する樹脂板と、前記樹脂板上に配置される複数の配線導体と、を備えている。 The first wiring board of the present invention is arranged along a plurality of first fiber bundles arranged along a first direction and a second direction different from the first direction, and is smaller than the first fiber bundle. A first woven fabric formed by weaving a plurality of second fiber bundles having a cross-sectional area, a resin plate that accommodates the first woven fabric therein, and a plurality of wiring conductors disposed on the resin plate And.
また、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1方向と異なる第3方向に沿って配置される複数の第3繊維束と、前記第2方向及び前記第3方向とは異なる第4方向に沿って配置され、前記第3繊維束よりも小さな断面積を有する複数の第4繊維束と、を編み込んで構成され、前記樹脂板内に収容されるように配置される第2織布を、更に備えている。 The first wiring board of the present invention includes a plurality of third fiber bundles arranged along a third direction different from the first direction, the second direction, and the first wiring board in the first wiring board. A plurality of fourth fiber bundles arranged along a fourth direction different from the three directions and having a smaller cross-sectional area than the third fiber bundle, and are accommodated in the resin plate. A second woven fabric is further provided.
さらに、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第3繊維束は、前記第4繊維束よりも線膨張係数が小さい。 Furthermore, in the first wiring board of the present invention, in the first wiring board, the third fiber bundle has a smaller linear expansion coefficient than the fourth fiber bundle.
また、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1繊維束は、前記第2繊維束よりも線膨張係数が小さい。 In the first wiring board of the present invention, in the first wiring board, the first fiber bundle has a smaller coefficient of linear expansion than the second fiber bundle.
さらに、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1方向と前記第4方向とが互いに略平行に配置され、前記第2方向と前記第3方向とが互いに略平行に配置される。 Furthermore, in the first wiring board of the present invention, in the first wiring board, the first direction and the fourth direction are arranged substantially parallel to each other, and the second direction and the third direction are It arrange | positions substantially parallel.
また、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1織布の数と前記第2織布の数が等しい。 In the first wiring board of the present invention, the number of the first woven cloths is equal to the number of the second woven cloths in the first wiring board.
さらに、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1繊維束と前記第2繊維束との交差領域の幅は、前記第1繊維束と前記第2繊維束との非交差領域の幅よりも大きく、前記第3繊維束と前記第4繊維束との交差領域の幅は、前記第3繊維束と前記第4繊維束との非交差領域の幅よりも大きい。 Furthermore, in the first wiring board of the present invention, in the first wiring board, the width of the intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle may be the first fiber bundle and the second fiber bundle. The width of the intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle is larger than the width of the non-intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle. large.
また、本発明の第1の配線基板は、上記第1の配線基板において、前記第1繊維束乃至前記第4繊維束は、各々がその長手方向と略直交する方向に沿って間隔を空けて配列されており、前記第2繊維束の配列ピッチは前記第1繊維束の配列ピッチよりも大きく設定され、前記第4繊維束の配列ピッチは前記第3繊維束の配列ピッチよりも大きく設定されている。 In the first wiring board of the present invention, in the first wiring board, the first fiber bundle to the fourth fiber bundle are spaced from each other along a direction substantially orthogonal to the longitudinal direction. The arrangement pitch of the second fiber bundle is set larger than the arrangement pitch of the first fiber bundle, and the arrangement pitch of the fourth fiber bundle is set larger than the arrangement pitch of the third fiber bundle. ing.
一方、本発明の第2の配線基板は、第1方向に沿って配置され、該第1方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第1繊維束と、前記第1方向とは異なる第2方向に沿って配置され、該第2方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第2繊維束と、を編み込んで構成され、前記第2繊維束の配列ピッチが前記第1繊維束の配列ピッチよりも大きく設定された第1織布と、前記第1織布を内部に収容する樹脂板と、前記樹脂板上に配置される複数の配線導体と、を備えている。 On the other hand, the second wiring board of the present invention is arranged along the first direction, and a plurality of first fiber bundles arranged at intervals in a direction substantially orthogonal to the first direction, and the first direction A plurality of second fiber bundles arranged along a second direction different from the second direction and arranged at intervals in a direction substantially orthogonal to the second direction, and the arrangement of the second fiber bundles A first woven fabric in which the pitch is set larger than the arrangement pitch of the first fiber bundles, a resin plate that houses the first woven fabric, and a plurality of wiring conductors disposed on the resin plate; It has.
また、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第1方向と異なる第3方向に沿って配置され、該第3方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第3繊維束と、前記第2方向及び前記第3方向とは異なる第4方向に沿って配置され、該第4方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第4繊維束と、を編み込んで構成されるとともに、前記第4繊維束の配列ピッチが前記第3繊維束の配列ピッチよりも大きく設定され、前記樹脂板の内部に収容される第2織布と、を備えている。 Further, the second wiring board of the present invention is arranged along a third direction different from the first direction in the second wiring board, and is arranged with an interval in a direction substantially orthogonal to the third direction. A plurality of third fiber bundles, and a plurality of third fiber bundles arranged along a fourth direction different from the second direction and the third direction, and arranged at intervals in a direction substantially orthogonal to the fourth direction. A second woven fabric that is configured by weaving a fourth fiber bundle, and in which the arrangement pitch of the fourth fiber bundle is set larger than the arrangement pitch of the third fiber bundle, and is accommodated inside the resin plate. And.
さらに、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第3繊維束は、前記第4繊維束よりも線膨張係数が小さい。 Furthermore, in the second wiring board of the present invention, in the second wiring board, the third fiber bundle has a smaller linear expansion coefficient than the fourth fiber bundle.
また、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第1繊維束は、前記第2繊維束よりも線膨張係数が小さい。 In the second wiring board of the present invention, in the second wiring board, the first fiber bundle has a smaller coefficient of linear expansion than the second fiber bundle.
さらに、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第1方向と前記第4方向とが互いに略平行に配置され、前記第2方向と前記第3方向とが互いに略平行に配置される。 Furthermore, in the second wiring board of the present invention, in the second wiring board, the first direction and the fourth direction are arranged substantially parallel to each other, and the second direction and the third direction are It arrange | positions substantially parallel.
また、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第1織布の数と前記第2織布の数が等しい。 In the second wiring board of the present invention, the number of the first woven cloths is equal to the number of the second woven cloths in the second wiring board.
さらに、本発明の第2の配線基板は、上記第2の配線基板において、前記第1繊維束と前記第2繊維束との交差領域の幅は、前記第1繊維束と前記第2繊維束との非交差領域の幅よりも大きく、前記第3繊維束と前記第4繊維束との交差領域の幅は、前記第3繊維束と前記第4繊維束との非交差領域の幅よりも大きい。 Furthermore, the second wiring board of the present invention is the above-mentioned second wiring board, wherein the width of the intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle is the first fiber bundle and the second fiber bundle. The width of the intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle is larger than the width of the non-intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle. large.
そして、本発明の半導体素子の実装構造体は、上述の第1または第2の配線基板と、該配線基板の配線導体に接続される半導体素子と、を備えている。 The semiconductor element mounting structure of the present invention includes the first or second wiring board described above and a semiconductor element connected to the wiring conductor of the wiring board.
本発明によれば、樹脂板により構成される配線基板の線膨張係数を低減することができる。また、配線基板内における線膨張係数に関して、方向によるばらつきを抑制することが可能となる。その結果、接続状態が良好な高性能の半導体素子の実装構造体が実現される。 According to the present invention, it is possible to reduce the linear expansion coefficient of a wiring board made of a resin plate. Further, it is possible to suppress the variation due to the direction with respect to the linear expansion coefficient in the wiring board. As a result, a high-performance semiconductor element mounting structure with a good connection state is realized.
本願発明者は、異なる方向に配置される複数の繊維束を編み込んで成る織布を適用し、該織布をエポキシ樹脂等の樹脂材料から成る樹脂板と、該樹脂板に形成される配線導体と、を有する配線基板を提案している。かかる配線基板は、線膨張係数が大きな樹脂板の伸びを線膨張係数が小さな材料から成る織布によって抑制し、配線基板全体としての線膨張係数の低減を図るものである。 The present inventor applies a woven fabric formed by weaving a plurality of fiber bundles arranged in different directions, and uses the woven fabric as a resin plate made of a resin material such as an epoxy resin, and a wiring conductor formed on the resin plate. And a wiring board having the following. In such a wiring board, the expansion of a resin plate having a large linear expansion coefficient is suppressed by a woven fabric made of a material having a small linear expansion coefficient, and the linear expansion coefficient of the entire wiring board is reduced.
しかしながら、配線基板の線膨張係数には、織布の構成材料のみが関係するのではなく、織布を構成する繊維束の形状や配列ピッチ等が大きく関係していることが判明し、本発明が案出された。以下、図面を参照しながら本発明を実施するための形態を説明する。 However, it has been found that the linear expansion coefficient of the wiring board is not only related to the constituent material of the woven fabric, but is greatly related to the shape and arrangement pitch of the fiber bundles constituting the woven fabric. Was devised. DESCRIPTION OF EMBODIMENTS Hereinafter, embodiments for carrying out the present invention will be described with reference to the drawings.
(第1の実施形態)
図1は、本発明の実施形態に係る半導体素子の実装構造体の断面図、図2の(a)は、図1に示す配線基板に用いられる織布の平面図、図2の(b)は、(a)に示す織布のA−A線断面図である。なお、図2(a)は、便宜上、織布を1枚のみ図示している。
(First embodiment)
1 is a cross-sectional view of a semiconductor element mounting structure according to an embodiment of the present invention, FIG. 2A is a plan view of a woven fabric used for the wiring board shown in FIG. 1, and FIG. These are AA sectional view taken on the line of the woven fabric shown to (a). Note that FIG. 2A shows only one woven fabric for convenience.
本実施形態に係る半導体素子の実装構造体は、大略的に、配線基板1と、該配線基板1上に搭載されるIC、LSI等の半導体素子6で構成されている。ここでは、半導体素子6は、半田等の接合材7を介して配線基板1にフリップチップ実装されている。以下、配線基板1を中心に説明する。
The semiconductor element mounting structure according to the present embodiment is generally composed of a
配線基板1は、たとえば各種オーディオビジュアル(略称AV:Audio Visual)機器や家電機器,通信機器,コンピュータ装置およびその周辺機器などの電子機器に使用されるものであり、複数の織布2と、該織布2を収容する樹脂板3と、該樹脂板3に形成される配線導体4と、を備えた構成を有している。
The
・織布
複数の織布2は、x方向に対して略平行に配置される複数の繊維束2xと、y方向に対して略平行に配置される複数の繊維束2yとを互いに交差させた形で編み込んで構成されており、各繊維束2xは、図2(b)に示すように周期的に繊維束2yの上面側、下面側に交互に配置され、全体としてz方向にうねった波状に形成されている。一方、各繊維束2yは、図2(b)に示すように周期的に繊維束2xの上面側、下面側に交互に配置され、全体としてz方向にうねった波状に形成されている。なお、x方向、y方向、z方向は互いに直交しているものとする。
The
このような織布2は、z方向に積層された形で樹脂板3の内部に収容されており、線膨張係数の大きな樹脂板3の伸縮を抑え、配線基板1の線膨張係数を小さくするためのものである。樹脂板3の表面より織布2の一部が露出していても良いが、織布2の露出部に対して樹脂板3上に配線導体4を形成すると、配線導体4が樹脂板3より剥離しやすくなることから、織布2は樹脂板2に完全に収容されていることが好ましい。
Such a
織布2の数は単数であっても構わないが、樹脂板3に対する織布2の体積比率(織布2の体積V2、樹脂板3の体積V3とすると、V2/V3)は、45%以上70%以下に設定することが好ましい。織布2の体積比率が45%未満であると、樹脂板2の伸びを織布2が抑制する力が小さくなり、一方、織布2の体積比率が70%を超えると、樹脂板3の体積が不足するため、繊維束2x、2yとの間、あるいは、繊維束2x、2yを構成する複数の単繊維5の間に、樹脂が充填されない空隙が多数発生するおそれがあり、その結果、絶縁不良や樹脂板の膨れなどが生じて不良の原因となり易いからである。
The number of
織布2を構成する繊維束2x、2yは、図3に示すように、各々が樹脂板3よりも線膨張係数が小さな材料からなる複数の単繊維5を束にして構成されており、繊維束2xのy方向に関する配列ピッチと、繊維束2yのx方向に関する配列ピッチとが略等しく設定されている。一方、繊維束2yの断面積は、繊維束2xの断面積よりも小さく設定されている。
As shown in FIG. 3, the
ここで、繊維束の配列ピッチとは、隣り合う繊維束同士の中心軸間の間隔(隣り合う一対の繊維束同士で間隔が不均一である場合は最大間隔)をいう。図11に示す織布のように各繊維束の配列ピッチが織布2内でばらつきがある場合を考慮し、基本的には配列ピッチは繊維束間の配列ピッチの平均値のことをいう。ただし、全ての配列ピッチを測定しなくとも、連続して配列される任意の10本の中での繊維束の配列ピッチの平均値を採用しても良い。
Here, the arrangement pitch of the fiber bundles refers to an interval between the central axes of adjacent fiber bundles (the maximum interval when the interval between the pair of adjacent fiber bundles is not uniform). Considering the case where the arrangement pitch of each fiber bundle varies within the woven
また、繊維束の断面積とはz方向に平行な断面の面積(1本の繊維束で断面積が不均一である場合は断面積の最大値)をいい、基本的には平均値をとるが、連続して配列される任意の5本の繊維束の断面積の平均値を採用しても良い。 The cross-sectional area of the fiber bundle refers to the cross-sectional area parallel to the z-direction (the cross-sectional area is the maximum when the cross-sectional area is not uniform for one fiber bundle), and basically takes an average value. However, you may employ | adopt the average value of the cross-sectional area of the arbitrary five fiber bundles arranged continuously.
繊維束2yの断面積を繊維束2xの断面積よりも小さく設定するには、単繊維5の数を繊維束2xよりも繊維束2yで小さくするか、あるいは、単繊維5の断面積を繊維束2xよりも繊維束2yで小さくすれば良い。
In order to set the cross-sectional area of the
このようにx方向、y方向に対して単に同じ断面積の繊維束を用いるのではなく、繊維束2yの断面積を繊維束2xに比べて小さくしたことから、繊維束2yに対して編みこまれる繊維束2xのz方向へのうねりが小さくなる。うねりが小さいと、繊維束のばね性が損なわれ、その結果、繊維束がx方向に伸びようとする力が小さくなる。それ故、繊維束2xのx方向への伸びは低減されることとなり、織布2のx方向に関する線膨張係数を小さくすることが可能となる。
In this way, instead of simply using fiber bundles having the same cross-sectional area in the x and y directions, the cross-sectional area of the
なお、繊維束2yの断面積Syに対する繊維束2xの断面積Sxの比率Sx/Syは3〜100の範囲に設定することが好ましい。Sx/Syが3よりも小さいと、繊維束2xのz方向へのうねりをそれほど小さくできないため、繊維束2xの構成材料を比較的低線膨張係数の材料で構成されることとなり、材料の選択の幅が狭くなるおそれがあり、一方、Sx/Syが100よりも大きいと、繊維束2yが繊維束2xを保持する力が相対的に弱くなるため、繊維束2yと繊維束2xとがずれ易くなり、いわゆる目ずれと呼ばれる現象が生じる。目ずれが起きるとこの部分で基板に不均一な変形が生じ、微細高精度の配線形成が困難になる。
The ratio Sx / Sy of the cross-sectional area Sx of the
また、繊維束2x、2yの幅は、図4に示すように、繊維束2x、2yが交差していない非交差領域よりも繊維束2x、2yが交差している交差領域Cで広く形成されている。すなわち、交差領域Cにおける繊維束2x、2yの幅2xw1、2yw1は非交差領域における繊維束2x、2yの幅2xw2、2yw2よりも広く形成されている。この場合、交差領域Cの接触面積が大きくなるので、繊維束2xと繊維束2yとの密着強度が高まり、織布2の強度を長期にわたり高く維持することが可能となる。したがって、繊維束2x、2yの幅は、非交差領域よりも繊維束2x、2yが交差している交差領域Cで広く形成することが好ましい。
Further, as shown in FIG. 4, the width of the
繊維束2x、2yを構成する単繊維5の材料としては、ヤング率が10GPa以上の材料が適用されることが好ましい。さらに、単繊維5の長手方向の線膨張係数(25℃以上200℃以下)は、−10ppm/℃以上0ppm/℃以下のものが好ましい。
As a material of the
単繊維5の長手方向の線膨張係数は、低いほど繊維束2x、2yの長手方向の線膨張係数が低くなり、樹脂板3の伸びを抑制する効果が大きくなるため、線膨張係数は0ppm/℃以下であることが好ましい。
The lower the linear expansion coefficient in the longitudinal direction of the
なお、繊維束2xの断面積は繊維束2yの断面積よりも大きいため、繊維束2xの線膨張係数は繊維束2yの線膨張係数が小さい方が織布2の線膨張係数の低減という観点で好ましい。
In addition, since the cross-sectional area of the
ヤング率が10GPa以上で、長手方向の線膨張係数(25℃以上200℃以下)が−10ppm/℃以上0ppm/℃以下の単繊維4aを構成する材料としては、全芳香族ポリエステル繊維、全芳香族ポリアミド、ポリベンズオキサゾール、液晶ポリマーを主成分とする有機繊維が良好に用いられる。織布を樹脂以外の材料で形成する場合、ヤング率が10GPa以上で、長手方向の線膨張係数(25℃以上200℃以下)が−10ppm/℃以上0ppm/℃以下の材料として、Sガラス、Tガラスを適用することも可能である。Eガラスも適用可能であるが、線膨張係数がSガラス、Tガラスよりも大きいため、Sガラス、Tガラスを適用することが好ましい。 The material constituting the single fiber 4a having a Young's modulus of 10 GPa or more and a linear expansion coefficient in the longitudinal direction (25 ° C. or more and 200 ° C. or less) of −10 ppm / ° C. or more and 0 ppm / ° C. or less includes wholly aromatic polyester fibers and wholly aromas. Organic fibers mainly composed of a group polyamide, polybenzoxazole, and a liquid crystal polymer are preferably used. When the woven fabric is formed of a material other than resin, the Young's modulus is 10 GPa or more, and the longitudinal linear expansion coefficient (25 ° C. or more and 200 ° C. or less) is −10 ppm / ° C. or more and 0 ppm / ° C. or less as S glass, It is also possible to apply T-glass. Although E glass can also be applied, it is preferable to use S glass or T glass because the linear expansion coefficient is larger than that of S glass or T glass.
・樹脂板
織布2を被覆する樹脂板3は、例えば、非金属無機フィラー(たとえば球状シリカ)を20wt%以上80wt%以下含有するエポキシ樹脂により形成されている。かかる構成により、20ppm/℃〜60ppm/℃の線膨張係数、2GPa〜5GPaのヤング率を実現できる。なお、樹脂板3は、単層であってもよいし、複数層で構成されていても良い。
-The resin board 3 which coat | covers the resin board woven
樹脂板3の線膨張係数は低いほど良いが、10ppm/℃よりも小さい線膨張係数を有するものは現在市販されていないため試験ができていない。従って、現時点では、樹脂板3の線膨張係数は10ppm/℃以上60ppm/℃以下のものが好適に用いられる。樹脂板3の線膨張係数が60ppm/℃を超えると、配線基板1全体の熱膨張率をシリコンと同等にすることが困難となるためである。また、樹脂板5は、ヤング率が小さいほど単繊維4aによって樹脂板5の膨張が抑制されやすくなるため、ヤング率は5GPa以下が好ましい。また、樹脂板5のヤング率が小さすぎると、配線基板の剛性が不足気味になる傾向にあるため、樹脂板5のヤング率は0.05GPa以上のものが好ましい。
The lower the linear expansion coefficient of the resin plate 3 is, the better. However, a resin plate having a linear expansion coefficient smaller than 10 ppm / ° C. is not commercially available and has not been tested. Therefore, at the present time, the linear expansion coefficient of the resin plate 3 is preferably 10 ppm / ° C. or more and 60 ppm / ° C. or less. This is because if the linear expansion coefficient of the resin plate 3 exceeds 60 ppm / ° C., it is difficult to make the thermal expansion coefficient of the
本実施形態では、樹脂板5の材料としてエポキシ樹脂を使用しているが、勿論、エポキシ樹脂だけに限定されるものではない。たとえば、シアネート樹脂、ビスマレイミドトリアジンなどの樹脂材料を樹脂板の材料として適用可能である。ただし、ヤング率、線膨張係数については、前記エポキシ樹脂で適用した数値範囲と同一の数値範囲が好適な範囲である。非金属無機フィラーの量は、樹脂板5を構成する樹脂材料の種類に応じて適宜変更する。また、非金属無機フィラーとしては、シリカ以外には、水酸化アルミニウム、酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウム等の材料を使用することができる。
In the present embodiment, an epoxy resin is used as the material of the
・ヤング率の測定方法
単繊維5、繊維束2x、2yおよび樹脂板3のヤング率は、次のような方法で計測可能である。単繊維5のヤング率は、織布2を構成する繊維束2x、2yをほぐして、一本の単繊維5を取出し、この単繊維5について引張り試験機により測定して得られた単位断面積あたりの引張り応力を単繊維の伸び量で割ることで計測できる。また、繊維束2x、2yのヤング率は、繊維束2x、2yを引張り試験機により測定して得られた単位断面積あたりの引張り応力を繊維束2x、2yの伸び量で割ることで計測できる。そして、樹脂板3の場合、配線基板1を作製するときと同条件で硬化して作成したフィルムを矩形状の試験片に切り出し、この試験片を引張り試験機で測定して得られた単位断面積あたりの引張り応力を樹脂の伸び量で割ることにより計測できる。また従来周知のナノインデンテーション法を用いて計測することもできる。
-Measuring method of Young's modulus The Young's modulus of the
一方、配線基板1となった状態から単繊維5および樹脂板3のヤング率を計測することもできる。単繊維5のヤング率は、樹脂板3を除去して繊維束2x、2yを取り出した後、該繊維束2x、2yをほぐして一本の単繊維5を取出し、この単繊維5について引張り試験機により測定して得られた単位断面積あたりの引張り応力を繊維の伸び量で割ることで計測できる。また、繊維束2x、2yのヤング率は、樹脂板3を除去して取り出した繊維束2x、2yを引っ張り試験機により測定して得られた単位断面積あたりの引っ張り応力を繊維の伸び量で割ることで計測できる。樹脂板3のヤング率は、樹脂板3を薄片状に切り出し、四角柱や三角錐などの圧子を薄片表面に押し込み、その時の圧子にかかる荷重と圧子の下の射影面積から求める。なお、繊維束2x、2yのヤング率は、予め測定した樹脂板3のヤング率と、樹脂板3と単繊維5との複合体の状態でヤング率とを測定し、この複合体のヤング率と樹脂板3のヤング率とから、シミュレーションにより繊維束2x、2yのヤング率を計測することもできる。
On the other hand, the Young's modulus of the
・線膨張係数の測定方法
また、単繊維5及び繊維束2x、2yの長手方向の線膨張係数及び樹脂板3の線膨張係数は、次のような方法で計測可能である。単繊維5の線膨張係数は、繊維束2x、2yから単繊維5を取り出し、これを寸法測定用のプローブに取り付け、単繊維5を引っ張る方向に加重を加えながら温度を上げ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。繊維束2x、2yの線膨張係数は、繊維束2x、2yを寸法測定用のプローブに取り付け、繊維束2x、2yを引っ張る方向に加重を加えながら温度を上げ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。樹脂板3の線膨張係数は、たとえば2mm×3mm×15mmの試験片を切り出し、この試験片に寸法測定用のプローブを接触させつつ温度を上げ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。
-Measuring method of linear expansion coefficient Moreover, the linear expansion coefficient of the longitudinal direction of the
一方、配線基板1となった状態から単繊維5、繊維束2x、2y及び樹脂板3の線膨張係数を計測することもできる。単繊維5の線膨張係数は、樹脂板3を除去して繊維束2x、2yを取り出した後、繊維束2x、2yから単繊維5を取り出し、該単繊維5を寸法測定用のプローブに取り付け、単繊維5を引っ張る方向に加重を加えながら温度を上げ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。繊維束2x、2yの線膨張係数は、樹脂板3を除去して繊維束2x、2yを取り出し、繊維束2x、2yを寸法測定用のプローブを取り付け、繊維束2x、2yを引っ張りながら温度を上昇させ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。樹脂板3の線膨張係数は、樹脂板3を適当な大きさの薄片状に切り出し、この薄片を試験片として寸法測定用のプローブに取り付け、試験片を引っ張る方向に加重を加えながら温度を上げ、温度変化による寸法変化を測定することにより計測できる。なお、繊維束2x、2yの線膨張係数は、予め樹脂板3の線膨張係数を測定するとともに、樹脂板3と繊維束2x、2yの複合体の状態で線膨張係数を測定し、この複合体の線膨張係数と樹脂板3の線膨張係数とから、シミュレーションにより繊維束2x、2yの線膨張係数を計測することもできる。
On the other hand, the linear expansion coefficients of the
・配線導体
配線導体4は、樹脂板3の上面や内部、場合によっては下面にも形成されており、銅や 銀、金、アルミニウム、ニッケル、クロム等の導電性材料により所定パターンに形成されている。かかる配線導体4は、配線基板1に搭載されるICやLSI等の半導体素子に電気的に接続されており、該半導体素子に電力を供給する給電配線として機能する。なお、配線導体4としては、スルーホール導体や電極パッドを含んでも良い。
-Wiring conductor The
・配線基板の製造方法
本実施形態に係る配線基板1は、例えば、以下の工程を経て製作される。
-Wiring board manufacturing method The
(1)まず、織布2を形成する。織布2は、単繊維5を束ねて糸状とすることで断面積の異なる繊維束2x、2yを形成する。次に、繊維束2x、2yを互いの配列ピッチが略等しくなるように織機を用いて平織りにすることで繊維束2x、2yを編みこみ、織布2を形成する。繊維束2x、2yの交差領域において繊維束2x、2yの幅を広くしたい場合は、プレス装置等を用いて織布2をz方向に加熱プレスする。以上の方法によって織布2が完成する。
(1) First, the
(2)次に、樹脂板3を構成する樹脂材料(例えばエポキシ樹脂の前駆体)を準備し、これに予めシランカップリング処理を行った球状シリカ粉末と溶剤を混合することでワニスを作製する。そして、作製したワニスを織布2に含浸させ、樹脂シート(プリプレグ)を作製する。
(2) Next, a resin material (for example, a precursor of an epoxy resin) constituting the resin plate 3 is prepared, and a varnish is prepared by mixing a spherical silica powder that has been previously subjected to silane coupling treatment and a solvent. . And the produced varnish is impregnated in the
(3)続いて、得られた樹脂シートを複数積層して、その表裏に金属箔(たとえば銅箔)を被着させ、これを樹脂シートの厚み方向に加熱プレスを行い、更に、レーザーやドリル等で形成された貫通孔に対して無電解めっきや電気めっき等によりスリーホール導体を形成する。そして、銅箔を従来周知のフォトリソグラフィー及びエッチングにより所定パターンに加工することによって織布2を内部に収容した樹脂板2を有する配線基板1が完成する。
(3) Subsequently, a plurality of the obtained resin sheets are laminated, and a metal foil (for example, a copper foil) is deposited on the front and back, and this is heated and pressed in the thickness direction of the resin sheet. A three-hole conductor is formed by electroless plating, electroplating or the like on the through-hole formed by, for example. Then, the copper substrate is processed into a predetermined pattern by photolithography and etching that are conventionally known, thereby completing the
この後、得られた配線基板上にビルドアップ法で樹脂層及び配線層を積層し、多層基板を作製しても良いし、配線基板1上にICやLSI等の半導体素子を実装し、半導体素子の実装構造体を形成しても良い。
Thereafter, a resin layer and a wiring layer may be laminated on the obtained wiring board by a build-up method to produce a multilayer board, or a semiconductor element such as an IC or LSI may be mounted on the
(第2の実施形態)
図5は、第2の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は原則的に省略する。
(Second Embodiment)
FIG. 5 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the second embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the first embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted in principle.
本実施形態における織布2は、繊維束2x、2yの断面積が略等しく、繊維束2xの配列ピッチを繊維束2yの配列ピッチよりも小さく設定している。かかる構成とすることにより、単位長さあたりの繊維束2xの数を多くすることができ、x方向への樹脂板3の伸びを抑制する力を、繊維束2x、2yの配列ピッチを互いに等しくする場合に比べて大きくすることが可能となる。その結果、織布2全体の線膨張係数を低減できる。
In the
繊維束2yの配列ピッチPyに対する繊維束2xの配列ピッチPxの比率Px/Pyは1/100〜1/3の範囲に設定することが好ましい。Px/Pyが1/100よりも小さいと、繊維束2yのz方向へのうねり回数が多くなり、繊維束2yのばね性が増大し、線膨張係数の低減効果が小さくなる場合がある。一方、Px/Pyが1/3よりも大きいと、繊維束2xのx方向の線膨張係数の低減効果がそれほど顕著ではないため、配線基板1全体の線膨張係数を大幅に低減する際には、繊維束2xの選択材料を十分に考慮する必要があり、繊維束2xの選択材料の幅が狭くなる。
The ratio Px / Py of the arrangement pitch Px of the
(第3の実施形態)
図6は、第3の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は原則的に省略する。
(Third embodiment)
FIG. 6 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the third embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the first embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted in principle.
本実施形態における織布2は、繊維束2x、2yの断面積の関係は第1の実施形態と同様に、繊維束2yの断面積を繊維束2xの断面積よりも小さく設定されているが、繊維束2xの配列ピッチが繊維束2yの配列ピッチよりも小さく設定されている。かかる構成とすることにより、繊維束2xのz方向へのうねりを小さく抑制しつつ、単位長さあたりの繊維束2xの数を多くすることができる。その結果、x方向に伸びようとする樹脂板3を抑制する力が第1実施形態や第2実施形態よりも大きくなり、ひいては織布2全体の線膨張係数の低減化につながる。
In the
(第4の実施形態)
図7は、第4の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第1の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は原則的に省略する。
(Fourth embodiment)
FIG. 7 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the fourth embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the first embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted in principle.
本実施形態における配線基板は、第1の実施形態における織布2に相当する織布2A上に、該織布2Aと略同様の構成を有する織布2Bを約90度(±10度、すなわち80度〜100度まで許容されるとする)右方向(時計回り)に回転させた形で配置し、これら織布2A、2Bを樹脂板3の内部に収容した構成を有している。すなわち、織布2Aを構成する繊維束2Ax、2Ayは、互いに配列ピッチが略等しく、繊維束2Ayの断面積は繊維束2Axの断面積よりも小さく設定されているが、織布2Bを構成する繊維束2Bx、2Byは、互いに配列ピッチが略等しいが、繊維束2Byの断面積は繊維束2Bxの断面積よりも大きく設定されており、繊維束の断面積の大小関係が織布2Aと織布2Bとで逆になっている。
In the wiring board in the present embodiment, a
このような構成を採用するに至った理由は以下の通りである。すなわち、第1の実施形態に係る織布2をそのままz方向に積層する場合、確かに配線基板全体の線膨張係数を低減できるが、x方向に関する配線基板1の線膨張係数とy方向に関する配線基板1の線膨張係数との差が拡大する傾向にある。このような傾向は、配線基板1の歪みの原因となるものであるが、かかる傾向は配線基板1が多層配線基板の用途に用いられる場合に特に強くなるため、あまり好ましくない。それ故、配線基板1の線膨張係数を低く抑えつつもx方向に関する配線基板1の線膨張係数とy方向に関する配線基板1の線膨張係数との差を小さくすることが望まれる。
The reason for adopting such a configuration is as follows. That is, when the
そこで、本実施形態に係る配線基板1により、織布2Aでx方向に関する配線基板1の線膨張係数を低減するとともに、織布2Bでy方向に関する配線基板1の線膨張係数を低減することができる。その結果、配線基板全体の線膨張係数を低減しつつ、x方向とy方向の線膨張係数の差に起因した配線基板1の歪みが良好に抑制される。したがって、特に配線基板を多層配線基板の用途や、半導体素子のフリップチップ実装用の配線基板の用途として用いる場合、特に有効である。
Therefore, the
(第5の実施形態)
図8は、第5の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第4の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は原則的に省略する。
(Fifth embodiment)
FIG. 8 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the fifth embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the fourth embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted in principle.
本実施形態における配線基板は、織布2Bが織布2Aを45度右方向(時計回り)に回転させた形で織布2A上に配置されている点で第4の実施形態に係る配線基板と構成を異にしている。このような構成であっても、第4の実施形態と同様にx方向及びy方向の線膨張係数の差を小さくできるが、第4の実施形態の方がその効果は大きい。
The wiring board according to the fourth embodiment is the wiring board according to the fourth embodiment in that the
なお、織布2Bの織布2Aに対する回転の角度は45度でなくとも良いのは勿論であるが、10度以上回転させることが好ましい。また第4の実施形態から明らかなように80度〜100度回転させることが更に好ましい。100度よりも大きく回転させると、織布2A,2Bが軸対称の構成を有している関係で80度未満の角度で回転させているのと同様の構成となってしまうので、80度〜100度が最も好ましい。
The rotation angle of the woven
(第6の実施形態)
図9は、第6の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第4の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は原則的に省略する。
(Sixth embodiment)
FIG. 9 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the sixth embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the fourth embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted in principle.
本実施形態における配線基板は、織布2A、2Bとして第2の実施形態における織布に相当するものを用いている点で第4の実施形態と異なる。織布2Aと織布2Bとを約90度回転させた関係に配置させる点は共通している。
The wiring board in the present embodiment is different from the fourth embodiment in that the woven
かかる構成においても第4の実施形態と同様の効果を奏する。なお、織布2A,2Bの回転角度が90度に限定されないことは言うまでもない。
Even in such a configuration, the same effects as in the fourth embodiment are obtained. Needless to say, the rotation angle of the woven
(第7の実施形態)
図10は、第7の実施形態に係る配線基板の織布を示す平面図である。以下では、本実施形態が第4の実施形態と異なる構成について主に説明し、共通する構成に関する説明は省略する。
(Seventh embodiment)
FIG. 10 is a plan view showing a woven fabric of a wiring board according to the seventh embodiment. In the following, the configuration of the present embodiment that is different from that of the fourth embodiment will be mainly described, and the description of the common configuration will be omitted.
本実施形態における配線基板は、織布2A、2Bとして第3の実施形態における織布に相当するものを用いている点で第4の実施形態と異なる。織布2Aと織布2Bとを約90度回転させた関係に配置させる点は共通している。
The wiring board in this embodiment is different from that in the fourth embodiment in that the woven
かかる構成においても第4の実施形態と同質の効果を奏するが、個々の織布2A,2Bに関する線膨張係数の低減効果が第4の実施形態と比べて大きいため、第4の実施形態に比べてより効果が大きい。なお、織布2A,2Bの回転角度が90度に限定されないことは言うまでもない。
Even in such a configuration, the same effect as that of the fourth embodiment is obtained, but the effect of reducing the linear expansion coefficient for each of the woven
(その他の実施形態)
本発明は、上述の第1乃至第7の実施形態に特に限定されるものではなく、種々の変更・改良が可能である。
(Other embodiments)
The present invention is not particularly limited to the first to seventh embodiments described above, and various modifications and improvements can be made.
例えば、第1乃至第3の実施形態のように、線膨張係数がy方向よりもx方向で小さい織布2をz方向に積層する場合は、配線基板1の線膨張係数はy方向よりもx方向で小さくなるが、x方向とy方向との配線基板1の線膨張係数の差を緩和するため、樹脂板3に形成される配線導体4の長手方向をx方向に略平行とすることが好ましい。配線導体4は線膨張係数が大きいため、かかる構成を採用すれば、配線基板全体として見れば、配線導体4による配線基板1のy方向の線膨張係数の増加を抑え、配線基板1の歪みの増加を良好に防止することができる。
For example, as in the first to third embodiments, when the
また、第4乃至第7の実施形態においては、織布2Aと織布2Bの数は等しいことが好ましい。織布2A,2Bの数が異なると、その数の差に応じてx方向とy方向の線膨張係数の差が大きくなるからである。また織布2A、織布2Bの配置は、z方向に関して対称的な配置となることが好ましく、この場合、x方向とy方向の線膨張係数の差をより小さくできる。
In the fourth to seventh embodiments, it is preferable that the numbers of the woven
さらに、第1乃至第7の実施形態においては、繊維束をxおよびy方向の二方向に配列しているが、この配列方向は二方向だけに限定されるものではない。たとえば繊維束を三方向以上に配列して相互に編み込んで形成する場合もあり得る。この場合には、配線基板の剛性強度を、二方向に配列しているものに比べて高めることができる。また二方向に配列される繊維束は、z方向に対しては垂直に規定されるものの、垂直に交差しない場合もある。 Furthermore, in the first to seventh embodiments, the fiber bundles are arranged in two directions in the x and y directions, but this arrangement direction is not limited to only two directions. For example, there may be a case where fiber bundles are arranged in three or more directions and knitted together. In this case, the rigidity strength of the wiring board can be increased as compared with those arranged in two directions. In addition, fiber bundles arranged in two directions may be perpendicular to the z direction but may not intersect perpendicularly.
1・・・配線基板
2、2A、2B・・・織布
2x、2Ax、2Bx・・・繊維束
2y、2Ay、2By・・・繊維束
3・・・樹脂板
4・・・配線導体
5・・・単繊維
6・・・半導体素子
C・・・交差領域
DESCRIPTION OF
Claims (16)
前記第1織布を内部に収容する樹脂板と、
前記樹脂板上に配置される複数の配線導体と、
を備えた配線基板。 A plurality of first fiber bundles arranged along the first direction and a plurality of second fiber bundles arranged along a second direction different from the first direction and having a smaller cross-sectional area than the first fiber bundle. And a first woven fabric configured by weaving,
A resin plate for accommodating the first woven fabric therein;
A plurality of wiring conductors disposed on the resin plate;
Wiring board equipped with.
前記第1方向と異なる第3方向に沿って配置される複数の第3繊維束と、前記第2方向及び前記第3方向とは異なる第4方向に沿って配置され、前記第3繊維束よりも小さな断面積を有する複数の第4繊維束と、を編み込んで構成され、前記樹脂板内に収容されるように配置される第2織布を、更に備えた配線基板。 The wiring board according to claim 1,
A plurality of third fiber bundles arranged along a third direction different from the first direction, and arranged along a fourth direction different from the second direction and the third direction, from the third fiber bundle A wiring board further comprising a second woven fabric, which is formed by weaving a plurality of fourth fiber bundles having a small cross-sectional area, and is arranged so as to be accommodated in the resin plate.
前記第3繊維束は、前記第4繊維束よりも線膨張係数が小さい配線基板。 The wiring board according to claim 2,
The third fiber bundle is a wiring board having a smaller linear expansion coefficient than the fourth fiber bundle.
前記第1繊維束は、前記第2繊維束よりも線膨張係数が小さい配線基板。 In the wiring board according to any one of claims 1 to 3,
The first fiber bundle is a wiring board having a smaller linear expansion coefficient than the second fiber bundle.
前記第1方向と前記第4方向とが互いに略平行に配置され、
前記第2方向と前記第3方向とが互いに略平行に配置される配線基板。 In the wiring board according to any one of claims 2 to 4,
The first direction and the fourth direction are arranged substantially parallel to each other;
A wiring board in which the second direction and the third direction are arranged substantially parallel to each other.
前記第1織布の数と前記第2織布の数が等しい配線基板。 In the wiring board according to any one of claims 2 to 5,
A wiring board in which the number of the first woven fabric and the number of the second woven fabric are equal.
前記第1繊維束と前記第2繊維束との交差領域の幅は、前記第1繊維束と前記第2繊維束との非交差領域の幅よりも大きく、
前記第3繊維束と前記第4繊維束との交差領域の幅は、前記第3繊維束と前記第4繊維束との非交差領域の幅よりも大きい配線基板。 The wiring board according to any one of claims 2 to 6,
The width of the intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle is larger than the width of the non-intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle,
The width of the intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle is larger than the width of the non-intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle.
前記第1繊維束乃至前記第4繊維束は、各々がその長手方向と略直交する方向に沿って間隔を空けて配列されており、
前記第2繊維束の配列ピッチは前記第1繊維束の配列ピッチよりも大きく設定され、前記第4繊維束の配列ピッチは前記第3繊維束の配列ピッチよりも大きく設定されている配線基板。 The wiring board according to any one of claims 2 to 7,
The first fiber bundle to the fourth fiber bundle are each arranged at intervals along a direction substantially orthogonal to the longitudinal direction thereof,
The wiring board in which the arrangement pitch of the second fiber bundle is set larger than the arrangement pitch of the first fiber bundle, and the arrangement pitch of the fourth fiber bundle is set larger than the arrangement pitch of the third fiber bundle.
前記第1織布を内部に収容する樹脂板と、
前記樹脂板上に配置される複数の配線導体と、
を備えたことを特徴とする配線基板。 A plurality of first fiber bundles arranged along the first direction and arranged at intervals in a direction substantially perpendicular to the first direction, and arranged along a second direction different from the first direction; A plurality of second fiber bundles arranged at intervals in a direction substantially perpendicular to the second direction, and the arrangement pitch of the second fiber bundles is greater than the arrangement pitch of the first fiber bundles. A first woven fabric set large,
A resin plate for accommodating the first woven fabric therein;
A plurality of wiring conductors disposed on the resin plate;
A wiring board comprising:
前記第1方向と異なる第3方向に沿って配置され、該第3方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第3繊維束と、前記第2方向及び前記第3方向とは異なる第4方向に沿って配置され、該第4方向と略直交する方向に間隔を空けて配列される複数の第4繊維束と、を編み込んで構成されるとともに、前記第4繊維束の配列ピッチが前記第3繊維束の配列ピッチよりも大きく設定され、前記樹脂板の内部に収容される第2織布と、を備えた配線基板。 The wiring board according to claim 9,
A plurality of third fiber bundles arranged along a third direction different from the first direction and arranged at intervals in a direction substantially orthogonal to the third direction; the second direction and the third direction; Are arranged along different fourth directions, and are knitted with a plurality of fourth fiber bundles arranged at intervals in a direction substantially orthogonal to the fourth direction. And a second woven fabric having an arrangement pitch set larger than the arrangement pitch of the third fiber bundle and housed inside the resin plate.
前記第3繊維束は、前記第4繊維束よりも線膨張係数が小さいことを特徴とする配線基板。 The wiring board according to claim 10,
The wiring board according to claim 3, wherein the third fiber bundle has a smaller linear expansion coefficient than the fourth fiber bundle.
前記第1繊維束は、前記第2繊維束よりも線膨張係数が小さいことを特徴とする配線基板。 The wiring board according to any one of claims 9 to 11,
The wiring board, wherein the first fiber bundle has a smaller linear expansion coefficient than the second fiber bundle.
前記第1方向と前記第4方向とが互いに略平行に配置され、
前記第2方向と前記第3方向とが互いに略平行に配置されることを特徴とする配線基板。 The wiring board according to any one of claims 9 to 12,
The first direction and the fourth direction are arranged substantially parallel to each other;
The wiring board, wherein the second direction and the third direction are arranged substantially parallel to each other.
前記第1織布の数と前記第2織布の数が等しい配線基板。 The wiring board according to any one of claims 9 to 13,
A wiring board in which the number of the first woven fabric and the number of the second woven fabric are equal.
前記第1繊維束と前記第2繊維束との交差領域の幅は、前記第1繊維束と前記第2繊維束との非交差領域の幅よりも大きく、
前記第3繊維束と前記第4繊維束との交差領域の幅は、前記第3繊維束と前記第4繊維束との非交差領域の幅よりも大きい配線基板。 The wiring board according to any one of claims 9 to 14,
The width of the intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle is larger than the width of the non-intersecting region between the first fiber bundle and the second fiber bundle,
The width of the intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle is larger than the width of the non-intersection region between the third fiber bundle and the fourth fiber bundle.
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009730A (en) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Kyocera Corp | Wiring board and mounting structure thereof |
JP2015032790A (en) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 株式会社デンソー | Multilayer substrate and electronic device using the same |
JP2015118992A (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 株式会社デンソー | Electronic device |
JP2016051827A (en) * | 2014-08-30 | 2016-04-11 | 京セラサーキットソリューションズ株式会社 | Wiring board |
JP2019036710A (en) * | 2017-08-14 | 2019-03-07 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | Circuit board and semiconductor package using the same |
Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60262634A (en) * | 1984-06-09 | 1985-12-26 | 株式会社有沢製作所 | Manufacture of low resin-quantity laminated board and base material cloth for manufacturing low resin-quantity laminated board |
JPH05283828A (en) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Asahi Shiyueebell Kk | Laminate for printed-circuit board |
JPH07259455A (en) * | 1987-03-24 | 1995-10-09 | Sugie Yorishige | Manufacture of light shading net for automobile |
JPH0987941A (en) * | 1995-09-26 | 1997-03-31 | Nitto Boseki Co Ltd | Woven glass fabric substrate and printed circuit board produced by using the substrate |
JPH10310967A (en) * | 1997-04-28 | 1998-11-24 | Nitto Boseki Co Ltd | Glass cloth and laminated plate |
JPH1197610A (en) * | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Hitachi Ltd | Mounting of electronic and the electronic component |
JPH11186039A (en) * | 1997-12-17 | 1999-07-09 | Nissha Printing Co Ltd | Printed wiring board having printed coil, printed coil sheet, and manufacture of printed coil chip |
JP2001207375A (en) * | 1999-11-19 | 2001-08-03 | Arisawa Mfg Co Ltd | Method for producing textile fabric for printed wiring board, the resultant textile fabric for printed wiring board and prepreg for printed wiring board |
JP2003201641A (en) * | 2002-01-08 | 2003-07-18 | Nitto Boseki Co Ltd | Glass fiber woven fabric, prepreg and printed wiring board |
-
2006
- 2006-05-29 JP JP2006148577A patent/JP5132085B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60262634A (en) * | 1984-06-09 | 1985-12-26 | 株式会社有沢製作所 | Manufacture of low resin-quantity laminated board and base material cloth for manufacturing low resin-quantity laminated board |
JPH07259455A (en) * | 1987-03-24 | 1995-10-09 | Sugie Yorishige | Manufacture of light shading net for automobile |
JPH05283828A (en) * | 1992-03-31 | 1993-10-29 | Asahi Shiyueebell Kk | Laminate for printed-circuit board |
JPH0987941A (en) * | 1995-09-26 | 1997-03-31 | Nitto Boseki Co Ltd | Woven glass fabric substrate and printed circuit board produced by using the substrate |
JPH10310967A (en) * | 1997-04-28 | 1998-11-24 | Nitto Boseki Co Ltd | Glass cloth and laminated plate |
JPH1197610A (en) * | 1997-09-25 | 1999-04-09 | Hitachi Ltd | Mounting of electronic and the electronic component |
JPH11186039A (en) * | 1997-12-17 | 1999-07-09 | Nissha Printing Co Ltd | Printed wiring board having printed coil, printed coil sheet, and manufacture of printed coil chip |
JP2001207375A (en) * | 1999-11-19 | 2001-08-03 | Arisawa Mfg Co Ltd | Method for producing textile fabric for printed wiring board, the resultant textile fabric for printed wiring board and prepreg for printed wiring board |
JP2003201641A (en) * | 2002-01-08 | 2003-07-18 | Nitto Boseki Co Ltd | Glass fiber woven fabric, prepreg and printed wiring board |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2012009730A (en) * | 2010-06-28 | 2012-01-12 | Kyocera Corp | Wiring board and mounting structure thereof |
JP2015032790A (en) * | 2013-08-06 | 2015-02-16 | 株式会社デンソー | Multilayer substrate and electronic device using the same |
JP2015118992A (en) * | 2013-12-17 | 2015-06-25 | 株式会社デンソー | Electronic device |
JP2016051827A (en) * | 2014-08-30 | 2016-04-11 | 京セラサーキットソリューションズ株式会社 | Wiring board |
JP2019036710A (en) * | 2017-08-14 | 2019-03-07 | 三星電子株式会社Samsung Electronics Co.,Ltd. | Circuit board and semiconductor package using the same |
JP7193930B2 (en) | 2017-08-14 | 2022-12-21 | 三星電子株式会社 | Circuit board and semiconductor package using the same |
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Publication number | Publication date |
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