JP2007311373A - 露光方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 露光装置の精度を低下させることなく露光装置の稼働率を向上させることができる露光方法を提供する。
【解決手段】 基板と共に該基板を処理するジョブが露光装置に送られ、前記ジョブに基づき前記基板にパターンを露光する露光方法において、前記露光装置の装置情報を記憶する記憶ステップ（Ｓ１８）と、前記露光装置を調整する調整ステップ（Ｓ２０）と、前記装置情報に応じて前記調整ステップ（Ｓ２０）を省略して、前記ジョブに基づき前記基板に前記パターンを露光する露光ステップ（Ｓ２９）とを含む。
【選択図】 図３

Description

この発明は、半導体素子、液晶表示素子等のマイクロデバイスをリソグラフィ工程で製造するための露光装置を用いた露光方法に関するものである。

液晶表示素子等を製造するリソグラフィ工程においては、マスク上に形成されたパターンを、表面にレジスト（感光剤）が塗布された感光性基板（プレート等）上に投影光学系を介して転写する投影露光装置が使用されている（例えば、特許文献１参照）。投影露光装置においては、高い露光精度を維持するために、例えば投影光学系の光学特性等のさまざまな計測及び調整を行う必要がある。
特開平７−５７９８６号公報

ところで、投影露光装置の露光精度を維持するための計測及び調整は、露光装置の露光処理を停止させて行う必要があり、露光装置の稼働率の低下等の問題が生じていた。

この発明の課題は、露光装置の精度を低下させることなく露光装置の稼働率を向上させることができる露光方法を提供することである。

この発明の露光方法は、基板（Ｐ）と共に該基板（Ｐ）を処理するジョブが露光装置（ＥＸ）に送られ、前記ジョブに基づき前記基板（Ｐ）にパターンを露光する露光方法において、前記露光装置（ＥＸ）の装置情報を記憶する記憶ステップ（Ｓ１８）と、前記装置情報を用いて前記露光装置（ＥＸ）を調整する調整ステップ（Ｓ２０）と、前記装置情報に応じて前記調整ステップ（Ｓ２０）を省略して、前記ジョブに基づき前記基板（Ｐ）に前記パターンを露光する露光ステップ（Ｓ２９）とを含むことを特徴とする。

この発明の露光方法によれば、装置情報に応じて調整ステップによる露光装置の調整を省略して露光を行うことができるため、露光装置の稼働率を向上させることができる。また、露光装置が稼動を休止している間等の露光装置の空時間に露光装置の調整やメンテナンスを行うことができるため、露光装置の空時間を有効に利用することができ、かつ露光精度を低下させることなく露光装置の稼働率を向上させることができる。

以下、図面を参照して、この発明の実施の形態にかかる露光装置について説明する。図１は実施の形態にかかる露光装置の概略を示す斜視図、図２は概略構成図である。図１及び図２に示すように、露光装置ＥＸは、パターンが形成されているマスクＭを載置するマスクステージＭＳＴと、感光性基板Ｐを載置する基板ステージＰＳＴと、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明光学系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンを感光性基板Ｐ上に投影する投影光学系ＰＬと、露光処理の制御を行う制御装置ＣＯＮＴとを備えている。

この実施の形態においては、投影光学系ＰＬは、投影領域を分割して投影する複数（この実施の形態においては１１個）の投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋを有している。また、照明光学系ＩＬは、各投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋに対応して複数（この実施の形態においては１１個）の照明光学ユニット（図示せず）を有している。

この露光装置ＥＸは、投影光学系ＰＬに対してマスクＭ（マスクステージＭＳＴ）と感光性基板Ｐ（基板ステージＰＳＴ）とを相対的に所定の方向に走査させて露光する走査型露光装置、所謂マルチレンズスキャン型露光装置である。なお、以下の説明においては、投影光学系ＰＬの光軸方向をＺ方向、Ｚ方向に垂直な方向でマスクＭ及び感光性基板Ｐの同期移動方向をＸ方向、Ｚ方向とＸ方向と直交する方向をＹ方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸まわりのそれぞれの方向をθＸ、θＹ及びθＺとする。

照明光学系ＩＬは、図示していないが、各投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋに対応する複数の照明光学ユニットを備えて構成されている。照明光学系ＩＬから射出された露光光ＥＬは、マスクＭを照明する。マスクＭの走査方向両側（±Ｘ側）には、複数のマークを有するマーク形成領域２７，２８が設けられている。マーク形成領域２７，２８には、Ｙ方向に所定の間隔で並ぶ複数のマーク（図示せず）が形成されている。マーク形成領域２７，２８上に形成されているマークは、投影光学系ＰＬの光学特性を調整するキャリブレーションに用いられる。

マスクＭを載置するマスクステージＭＳＴは移動可能に構成されており、一次元の走査露光を行うべくＸ方向への長いストロークと、走査方向と直交するＹ方向への所定距離のストロークとを有している。図２に示すように、マスクステージＭＳＴにはマスクステージ駆動部ＭＳＴＤが接続されている。マスクステージＭＳＴは、マスクステージ駆動部ＭＳＴＤの駆動により、Ｘ方向及びＹ方向に移動する。マスクステージ駆動部ＭＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。

また、露光装置ＥＸは、図１に示すように、マスクステージＭＳＴのＸ方向における位置を検出するＸレーザ干渉計１ｘと、マスクステージＭＳＴのＹ方向における位置を検出するＹレーザ干渉計１ｙとを備えている。Ｘレーザ干渉計１ｘは、Ｘ移動鏡２ｘにレーザ光を照射してＸ移動鏡２ｘとの距離を検出する。Ｙレーザ干渉計１ｙは、Ｙ移動鏡２ｙにレーザ光を照射してＹ移動鏡２ｙとの距離を検出する。制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計１ｘ，１ｙの検出結果に基づいて、マスクステージ駆動部ＭＳＴＤを制御することによりマスクステージＭＳＴを所望の位置に設定する。

マスクＭを通過した露光光ＥＬは、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋのそれぞれに入射する。投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋは、マスクＭの照明領域に存在するパターン像を感光性基板Ｐに投影露光するものであり、各照明光学ユニットに対応して設けられている。図１に示すように、複数の投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋのうち、投影光学ユニットＰＬａ，ＰＬｃ，ＰＬｅ，ＰＬｇ，ＰＬｉ，ＰＬｋがＹ方向に配列されており、また投影光学ユニットＰＬｂ，ＰＬｄ，ＰＬｆ，ＰＬｈ，ＰＬｊがＹ方向に配列されている。

図２に示すように、投影光学ユニットＰＬｊは、シフト調整機構５、二組の反射屈折型光学系１０，２０、像面調整機構６、図示しない視野絞り、スケーリング調整機構７を備えている。なお、他の投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｉ，ＰＬｋも投影光学ユニットＰＬｊと同一の構成である。

マスクＭを通過した光束は、シフト調整機構５に入射する。シフト調整機構５は、Ｙ軸まわりに回転可能に設けられた平行平面ガラス板５Ａと、Ｘ軸まわりに回転可能に設けられた平行平面ガラス板５Ｂを備えている。平行平面ガラス板５Ａはモータ等の駆動装置５ＡｄによりＹ軸まわりに回転し、平行平面ガラス板５Ｂはモータ等の駆動装置５ＢｄによりＸ軸まわりに回転する。平行平面ガラス板５ＡがＹ軸まわりに回転することにより感光性基板Ｐ上におけるマスクＭのパターン像はＸ方向にシフトし、平行平面ガラス板５ＢがＸ軸まわりに回転することにより感光性基板Ｐ上におけるマスクＭのパターンの像はＹ方向にシフトする。駆動装置５Ａｄ，５Ｂｄは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。

シフト調整機構５を通過した光束は、１組目の反射屈折型光学系１０に入射する。反射屈折型光学系１０は、直角プリズム１１、レンズ１２、凹面鏡１３を備え、マスクＭのパターンの中間像を形成する。直角プリズム１１はＺ軸まわりに回転可能に構成されており、モータ等の駆動装置１１ｄによりＺ軸まわりに回転する。直角プリズム１１がＺ軸まわりに回転することにより感光性基板Ｐ上におけるマスクＭのパターンの像はＺ軸まわりに回転する。即ち、直角プリズム１１はローテーション調整機構として機能する。駆動装置１１ｄは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。反射屈折型光学系１０の中間像が形成される位置には、図示しない視野絞りが配置されている。視野絞りは、感光性基板Ｐ上に投影される投影領域を形成する。視野絞りの開口を通過した光束は、像面調整機構６に入射する。

像面調整機構６は、反射屈折光学系１０の中間像が形成される位置またはその近傍に設置され、投影光学系ＰＬｊの結像位置を調整する。像面調整機構６は、第１光学部材６Ａ、第２光学部材６Ｂ，第１光学部材６Ａ及び第２光学部材６Ｂを相対的に移動する駆動装置６Ａｄ，６Ｂｄを備えている。第１光学部材６Ａ及び第２光学部材６Ｂは、くさび状に形成されており、一対のくさび型光学部材を構成している。駆動装置６Ａｄ，６Ｂｄにより第１光学部材６Ａ及び第２光学部材６Ｂを相対的にＸ方向にスライドさせることにより、投影光学系ＰＬｊの像面位置がＺ方向に移動する。駆動装置６Ａｄ，６Ｂｄは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。像面調整機構６を通過した光束は、２組目の反射屈折型光学系２０に入射する。

反射屈折型光学系２０は、反射屈折型光学系１０と同様の構成を有している。反射屈折光学系２０を通過した光束は、スケーリング調整機構７を通過し、感光性基板Ｐ上にマスクＭのパターンの像を形成する。スケーリング調整機構７は、レンズ及び駆動装置７ｄを備えている。駆動装置７ｄによりレンズをＺ方向に移動させることにより、マスクＭのパターンの像の倍率（スケーリング）を調整することができる。駆動装置７ｄは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。

このように、各投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋは、照明光学ユニットから射出しマスクＭを通過した複数の露光光ＥＬを通過させ、感光性基板ＰにマスクＭのパターン像を投影する。

基板ステージＰＳＴは、一次元の走査露光を行うべく、Ｘ方向に長いストロークと、走査方向と直交するＹ方向にステップ移動するための長いストロークとを有している。図２に示すように、基板ステージＰＳＴには基板ステージ駆動部ＰＳＴＤが接続されている。基板ステージＰＳＴは、基板ステージ駆動部ＰＳＴＤの駆動により、Ｘ方向、Ｙ方向、Ｚ方向、θＸ、θＹ、θＺ方向に移動する。基板ステージ駆動部ＰＳＴＤは、制御装置ＣＯＮＴにより制御されている。

図１に示すように、露光装置ＥＸは、基板ステージＰＳＴのＸ方向における位置を検出するＸレーザ干渉計３ｘと、基板ステージＰＳＴのＹ方向における位置を検出するＹレーザ干渉計３ｙとを備えている。Ｘレーザ干渉計３ｘは、Ｘ移動鏡４ｘにレーザ光を照射してＸ移動鏡４ｘとの距離を検出する。Ｙレーザ干渉計３ｙは、Ｙ移動鏡４ｙにレーザ光を照射してＹ移動鏡４ｙとの距離を検出する。制御装置ＣＯＮＴは、レーザ干渉計３ｘ，３ｙの検出結果に基づいて、基板ステージ駆動部ＰＳＴＤを制御することにより基板ステージＰＳＴを所望の位置に設定する。

また、基板ステージＰＳＴの−Ｘ側の所定位置には、Ｙ方向に沿って延在する基準指標板２９が設けられている。基準指標板２９は、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋのキャリブレーションを行う際に用いられる。基準指標板２９には、投影光学系ＰＬを介して投影される像の基準となる基準マーク（図示せず）が形成されている。マスクＭに設けられているマークと基準指標板２９に設けられている基準マークの相対的な位置関係を投影光学系ＰＬを介して測定することにより、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの像回転シフトなどを計測することができる。

また、基準指標板２９の下方には、基板ステージＰＳＴに埋設されるように、基準マークを通過した光を受光することにより、基準マークを計測するＡＩＳ受光系６０が設けられている。ＡＩＳ受光系６０は、レンズ系６１、レンズ系６１を介した光を受光するＣＣＤからなる撮像素子６２を備えている。ＡＩＳ受光系６０による計測結果は、制御装置ＣＯＮＴに対して出力される。

また、制御装置ＣＯＮＴには、記憶装置７０が接続されている。記憶装置７０は、露光装置ＥＸの装置情報、例えばＡＩＳ受光系６０により計測された投影光学系ＰＬ（投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋ）の光学特性（以下、基準光学特性という。）、露光装置ＥＸの調整項目等が記憶されている。

この実施の形態にかかる露光装置ＥＸにおいては、高い露光精度を維持するための調整、例えば、基板ステージＰＳＴの真直度キャリブレーション、投影光学系ＰＬの光学特性の調整、各種センサ（図示せず）の再現性チェック、各部材の清掃及びメンテナンス等のさまざまな調整を行う。従来の露光装置においても、これらの調整は高い露光精度を維持するために実行しなければならないタスクであったが、露光装置の露光処理を停止して行う必要があり、露光装置の稼働率を低下させていた。しかしながら、この実施の形態にかかる露光装置ＥＸにおいては、装置の稼動状況を記録した露光装置の稼動記録に基づき、露光処理が行われる可能性が低い時間帯に上述の各種調整を行うことができるため、露光装置の稼働率を低下させることなく高い露光精度を維持することができる。

以下、この実施の形態にかかる露光装置ＥＸを用いた露光方法（調整方法）について図３に示すフローチャートを用いて説明する。

まず、制御装置ＣＯＮＴは、感光性基板が搬入されない、露光処理の終えた感光性基板が搬出されない、または感光性基板の処理単位であるロットの露光処理が終了した等により露光処理がストップした際の時刻（空時間発生時刻）を記憶装置７０に記憶させる（ステップＳ１０）。即ち、制御装置ＣＯＮＴは、露光が実施されていない空時間の発生時刻を記憶装置７０に記憶させる。

次に、制御装置ＣＯＮＴは、空時間が発生してから所定時間（例えば、約２分）経過するまでに、感光性基板を処理する露光ジョブを受信した場合（ステップＳ１１、Ｎｏ）、露光処理を開始する（ステップＳ２９、露光ステップ）。一方、空時間が発生してから感光性基板を処理する露光ジョブが受信されず所定時間が経過した場合には（ステップＳ１１、Ｙｅｓ）、露光装置ＥＸの装置情報の計測を開始する（ステップＳ１２、計測ステップ）。即ち、露光装置ＥＸの装置情報として、例えば投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性（結像特性及び照明特性）をＡＩＳ受光系６０を用いて計測する。

具体的には、制御装置ＣＯＮＴは、マスクステージ駆動装置ＭＳＴＤに対して制御信号を出力し、マスクステージ駆動装置ＭＳＴＤを駆動させることによりマスクステージＭＳＴを移動させて、マーク形成領域２７または２８を照明光学系ＩＬを介した光が照射される位置に配置する。また、同様に、基板ステージ駆動装置ＰＳＴＤに対して制御信号を出力し、基板ステージ駆動装置ＰＳＴＤを駆動させることにより基板ステージＰＳＴを移動させて、基準指標板２９を投影光学ユニットＰＬａ，ＰＬｃ，ＰＬｅ，ＰＬｇ，ＰＬｉ，ＰＬｋを介した光が照射される位置に配置する。

制御装置ＣＯＮＴは、照明光学系ＩＬでマスク形成領域２７または２８に形成されているマークを照明する。マークを通過した光は、投影光学ユニットＰＬａ，ＰＬｃ，ＰＬｅ，ＰＬｇ，ＰＬｉ，ＰＬｋを介して、基準指標板２９上に形成されている基準マークを通過し、ＡＩＳ受光系６０のレンズ６１を通過して、撮像素子６２に導かれる。撮像素子６２による計測結果は、制御装置ＣＯＮＴに対して出力される。同様に、マスク形成領域２７または２８に形成されているマークを通過し、投影光学ユニットＰＬｂ，ＰＬｄ，ＰＬｆ，ＰＬｈ，ＰＬｊを介して、基準指標板２９上に形成されている基準マークを通過し、ＡＩＳ受光系６０のレンズ６１を通過した光を撮像素子６２により計測する。

ここで、制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸの装置情報を計測中に、感光性基板を処理する露光ジョブを受信した場合（ステップＳ１３、Ｙｅｓ）、露光装置ＥＸの装置情報を計測を続行するか否かを判断する（ステップＳ１４、判断ステップ）。例えば、露光装置ＥＸの装置情報を前回計測してからの時間経過が少なく、前回計測した露光装置ＥＸの装置情報から露光装置ＥＸの調整が必要でないと判断された場合、露光装置ＥＸの装置情報の計測を中断して（ステップＳ１４、Ｎｏ）、露光処理を開始する（ステップＳ２９、露光ステップ）。また、計測中の露光装置ＥＸの装置情報に応じた露光装置ＥＸの調整の有効期間が切れていない場合、計測中に露光装置ＥＸの装置情報に応じた露光装置ＥＸの調整の優先度が低い場合についても、露光装置ＥＸの装置情報の計測を中断して、露光処理を開始する。

なお、図４の表に示すように、調整項目（基板ステージＰＳＴの真直度キャリブレーション、投影光学系ＰＬの光学特性の調整、各種センサの再現性チェック、各部材の清掃及びメンテナンス等）毎の優先度、有効期間、実施予定時間、前回の処理時刻が、露光装置ＥＸの装置情報として予め記憶装置７０に記憶されている。優先度とは、有効期間が経過した調整項目が複数存在する場合、調整を行う優先順位を示すものである。この実施の形態においては、図４の表に示すように、優先度として調整項目毎に１〜３までの番号を付すことにより、調整を行う優先順位を示している。優先度１は優先度が高く、優先度２は普通、優先度３は優先度が低いことを示している。例えば、調整項目Ａ，Ｂの有効期間が切れている場合、優先度１の調整項目Ａは、優先度３の調整項目Ｂより先に調整が行われる。また、有効期間とは、前回調整が行われてからその調整の効果を維持することができる期間のことである。また、実施予定時間とは調整を行う際に要する処理時間のことであり、前回の処理時刻とは前回調整を行った時刻のことである。

また、例えば、計測中の露光装置ＥＸの装置情報に応じた露光装置ＥＸの調整の有効期間が切れている場合、計測中に露光装置ＥＸの装置情報に応じた露光装置ＥＸの調整の優先度が高い場合、露光装置ＥＸの装置情報の計測を続行して（ステップＳ１４、Ｙｅｓ）、露光処理を開始させずに装置情報の計測を終了させる（ステップＳ１６）。一方、制御装置ＣＯＮＴは、露光装置ＥＸの装置情報を計測中に、感光性基板を処理する露光ジョブを受信しなかった場合（ステップＳ１３、Ｎｏ）、露光装置ＥＸの装置情報の計測を終了させる（ステップＳ１６）。このようにして計測された露光装置ＥＸの装置情報を記憶装置７０に記憶させる（ステップＳ１８、記憶ステップ）。

次に、制御装置ＣＯＮＴは、ステップＳ１８において記憶装置７０に記憶された露光装置ＥＸの装置情報から、露光装置ＥＸの調整が必要か否かを判断する（ステップＳ１９）。例えば、ステップＳ１８において記憶装置７０に記憶された投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性から、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性の調整が必要か否かを判断する。

ステップＳ１９において露光装置ＥＸの調整が必要であると判断された場合には、露光装置ＥＸの調整を行う（ステップＳ２０）。一方、ステップＳ１９において露光装置ＥＸの調整が必要でないと判断された場合には、露光装置ＥＸの調整を省略する。

図５は、露光装置の各種調整を行うための方法について説明するためのフローチャートである。まず、図５に示すように、空時間の継続時間を算出する（ステップＳ３０）。具体的には、制御装置ＣＯＮＴは、露光処理を行う稼働状況等の稼動記録、または露光処理を実施していない空時間（発生時刻及び継続時間）を記憶装置７０に記憶させており、この記憶されている稼動記録または空時間を用いて露光処理を実施していない時間の規則性を求める。例えば、空時間の発生が午前８時であり、毎日午前８時〜１１時までは露光処理を実施していないという規則性を有している場合には、空時間の継続時間が３時間であると推定する。このように、所定の時間帯、所定の曜日、１ヶ月に一度以上の所定の日等で露光処理を実施していない時間に所定の規則性を有している場合には、その規則性から空時間の継続時間を推定する。

次に、今回実施していない調整項目（基板ステージＰＳＴの真直度キャリブレーション、投影光学系ＰＬの光学特性の調整、各種センサの再現性チェック、各部材の清掃及びメンテナンス等）があるか否かを判別する（ステップＳ３１）。今回実施していない調整項目があると判別された場合には、その中で有効期間が切れた調整項目があるか否かを判別する（ステップＳ３２）。なお、上述したように、調整項目、及び調整項目毎の優先度、有効期間、実施予定時間、前回の処理時刻（図４参照）は記憶装置７０に記憶されている。

ステップＳ３２において有効期間が切れた調整項目がないと判別された場合には、今回実施していない調整項目の中で、有効期間が短く、かつ実施予定時間が空時間の継続時間より短い調整項目を選択し、選択された調整項目の調整タスクを実行する（ステップＳ３７）。

一方、ステップＳ３２において有効期間が切れた調整項目があると判別された場合には、その有効期間が切れた調整項目の中で優先度が高い調整項目、即ち優先度１の調整項目があるか否かを判別する（ステップＳ３３）。

ステップＳ３３において優先度１の調整項目がないと判別された場合には、優先度２の調整項目があるか否かを判別する。優先度２の調整項目があると判別された場合には、優先度２の調整項目の中で、実施予定時間が空時間の継続時間より短い調整項目を割り当て（割り当てステップ）、割り当てられた調整項目の調整タスクを実行する（ステップＳ３８、調整ステップ）。優先度２の調整項目がないと判別された場合には、優先度３の調整項目の中で、実施予定時間が空時間の継続時間より短い調整項目を割り当て（割り当てステップ）、割り当てられた調整項目の調整タスクを実行する（ステップＳ３８、調整ステップ）。

一方、ステップＳ３３において優先度１の調整項目があると判別された場合には、優先度１の調整項目の中で処理時間が最も長い調整項目を割り当て（ステップＳ３４、割り当てステップ）、割り当てられた調整項目の調整タスクを実行する（ステップＳ３５、調整ステップ）。例えば、投影光学ユニットＰＬａの光学特性（結像特性）の調整を行う場合、まず、制御装置ＣＯＮＴは、ステップＳ１３において記憶された投影光学ユニットＰＬａの光学特性から、投影光学ユニットＰＬａの像回転シフト量などを算出する。そして、算出結果からシフト調整機構５、直角プリズム１１、像面調整機構６、スケーリング調整機構７の少なくとも１つの補正量を算出する。そして、駆動装置５Ａｄ，５Ｂｄ、駆動装置１１ｄ、駆動装置６Ａｄ，６Ｂｄ、駆動装置７ｄの少なくとも１つを介して、算出された補正量だけシフト調整機構５、直角プリズム１１、像面調整機構６、スケーリング調整機構７を駆動させる。

また、照明光学系ＩＬを構成する光源から射出される光の量の調整、光源からマスクＭの間の光路中のいずれかに照明光の照度ムラを補正するための補正フィルタの挿入、ブラインドの開口部の大きさの調整等を行うことにより、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性（照明特性）の調整を行うことができる。

次に、ステップＳ３５、ステップＳ３７、ステップＳ３８において調整タスクが実行された調整項目の有効期間を更新する（ステップＳ３６）。即ち、制御装置ＣＯＮＴは、調整タスクの実行がされた後を基準とする有効期間を記憶装置７０に記憶させる。

制御装置ＣＯＮＴが感光性基板を処理する露光ジョブの受信をしない間、ステップＳ３１〜ステップＳ３８の動作を繰り返す。一方、調整タスクが実行されている最中、すべての調整タスクを終了後、またはステップＳ１９において調整が必要でないと判別された後に制御装置ＣＯＮＴが感光性基板を処理する露光ジョブを受信した場合、（ステップＳ２１）、まず、制御装置ＣＯＮＴは、空時間終了時刻を記憶装置７０に記憶させる（ステップＳ２２）。ステップＳ１０において記憶された空時間発生時刻と、ステップＳ２２において記憶された空時間終了時刻は、空時間の継続時間の算出に用いられる。

次に、制御装置ＣＯＮＴは、現在調整タスクが実行されているか否かを判別する（ステップＳ２３）。現在調整タスクが実行されていないと判別された場合には、受信した露光ジョブに基づいて露光処理を開始する（ステップＳ２９、露光ステップ）。一方、現在調整タスクが実行されていると判別された場合には、実行されている調整タスクの調整項目の優先度が２または３であるか否かを判別する（ステップＳ２４）。調整項目の優先度が２または３であると判別された場合には、現在実行されている調整タスクを中止する（ステップＳ２８）。このとき、記憶装置７０に記憶されている露光装置ＥＸの装置情報に基づいて露光装置ＥＸを調整前の装置状態にほぼ戻す。例えば、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性の調整が行われていた場合には、投影光学ユニットＰＬａ〜ＰＬｋの光学特性を調整前の光学特性にほぼ戻す。また、図５のフローチャートに示すステップＳ３６において更新された有効期間も調整前の有効期間に戻す。そして、受信した露光ジョブに基づいて露光処理を開始する（ステップＳ２９、露光ステップ）。

一方、調整項目の優先度が２または３でない、即ち優先度が１であると判別された場合には、現在実行されている調整タスクを続行する（ステップＳ２５）。そして、調整が終了した後（ステップＳ２６）、実施予定時間を更新する（ステップＳ２７）。即ち、制御装置ＣＯＮＴは、調整に要した時間（処理時間）を実施予定時間として記憶装置７０に記憶させる。例えば、実施予定時間として当初予定していた時間よりも処理時間が短い場合や長い場合に、この実際の処理時間を実施予定時間として更新することにより、より正確な実施予定時間とすることができる。そして、次回の調整時に露光処理が行われない空時間の継続時間と更新された実施予定時間から、調整項目の割り当てを行うことができる。そして、受信した露光ジョブに基づいて露光処理を開始する（ステップＳ２９、露光ステップ）。

この実施の形態にかかる露光方法によれば、調整タスクに応じて露光装置の調整を省略して露光を行うことができるため、露光装置の稼働率を向上させることができる。また、露光装置が稼動を休止している間等の露光装置の空時間に露光装置の調整やメンテナンスを行うことができるため、露光装置の空時間を有効に利用することができ、かつ露光精度を低下させることなく露光装置の稼働率を向上させることができる。

なお、この実施の形態においては、調整項目毎に優先度１〜３（高〜低）を定めているが、露光処理中あるいは調整中に突然の精度悪化により早急に調整を行う必要がある調整項目が発生した場合には、その調整項目を優先度１よりも優先して調整を行う優先度０に設定し、割り込んで調整を行うようにしてもよい。この場合、調整を完了した際には、再度割り込み調整を行わないように元の優先度の設定に戻す必要がある。

実施の形態にかかる露光装置の構成を示す図である。 実施の形態にかかる投影光学ユニットの構成を示す図である。 実施の形態にかかる露光方法について説明するためのフローチャートである。 実施の形態にかかる露光装置の各種調整項目の優先度、有効期間等を示す表である。 実施の形態にかかる露光装置の調整方法について説明するためのフローチャートである。

符号の説明

１ｘ，１ｙ，３ｘ，３ｙ…レーザ干渉計、２７，２８…マーク形成領域、２９…基準指標板、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明光学系、Ｍ…マスク、ＭＳＴ…マスクステージ、ＰＬ…投影光学系、ＰＬａ〜ＰＬｋ…投影光学ユニット、Ｐ…感光性基板、ＰＳＴ…基板ステージ。

Claims (15)

1. 基板と共に該基板を処理するジョブが露光装置に送られ、前記ジョブに基づき前記基板にパターンを露光する露光方法において、
   前記露光装置の装置情報を記憶する記憶ステップと、
   前記装置情報を用いて前記露光装置を調整する調整ステップと、
   前記装置情報に応じて前記調整ステップを省略して、前記ジョブに基づき前記基板に前記パターンを露光する露光ステップと
   を含むことを特徴とする露光方法。
2. 前記露光装置が前記調整ステップ実施の際、前記露光ステップは、前記装置情報に応じて前記調整ステップを中断するとともに、前記記憶ステップで記憶された前記装置情報に基づいて、前記露光装置を前記調整ステップ前の装置状態にほぼ戻して露光することを特徴とする請求項１記載の露光方法。
3. 前記露光装置が前記調整ステップ実施の際、前記露光ステップは、前記装置情報に応じて前記調整ステップを継続するとともに、該調整ステップ後、前記ジョブに基づき前記基板に前記パターンを露光することを特徴とする請求項１記載の露光方法。
4. 前記露光ステップの前に前記装置情報を計測する計測ステップと、
   前記計測ステップにより計測された前記装置情報と、前記記憶ステップにより記憶されている前記装置情報とを比較し、前記調整ステップを実施するかどうかを判断する判断ステップと
   を含むことを特徴とする請求項１乃至請求項３の何れか一項に記載の露光方法。
5. 前記調整ステップは、前記露光ステップが完了後もしくは実施されていない時間に、ほぼ定期的に実施されることを特徴とする請求項１乃至請求項４の何れか一項に記載の露光方法。
6. 前記調整ステップは、複数の調整項目を含むと共に、前回の調整ステップを実施してからの経過時間に基づいて前記複数の調整項目のうち少なくとも一つを選択して実施することを特徴とする請求項１乃至請求項５の何れか一項に記載の露光方法。
7. 前記調整ステップは、複数の調整項目を含むと共に、該複数の調整項目毎に優先度、調整後の有効期間、調整処理時間の少なくとも一つの要件に基づいて、前記複数の調整項目の前記調整タスクの割り当てを行うことを特徴とする請求項１乃至請求項６の何れか一項に記載の露光方法。
8. 前記調整ステップは、過去の処理時間を基に実施予定時間を更新することを特徴とする請求項１乃至請求項７の何れか一項に記載の露光方法。
9. 前記調整ステップは、前記基板に投影するパターンが形成されたマスク基板に形成されたマークを用いて調整することを特徴とする請求項１乃至請求項８の何れか一項に記載の露光方法。
10. 前記装置情報は、前記露光装置に設けられた投影光学系の光学特性であり、
    前記計測ステップは、前記光学特性を計測することを特徴とする請求項４乃至請求項９の何れか一項に記載の露光方法。
11. 前記記憶ステップは、複数の前記投影光学系の前記光学特性をそれぞれ記憶することを特徴とする請求項１０記載の露光方法。
12. 前記光学特性は、前記投影光学系の結像特性と照明特性との少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１０または請求項１１記載の露光方法。
13. 前記調整ステップは、前記基板の処理単位であるロットの露光ステップが終了し、さらに所定時間経過後に実行されることを特徴とする請求項１乃至請求項１２の何れか一項に記載の露光方法。
14. 前記調整ステップは、主に前記露光ステップを含む前記基板の処理を行う稼動状況を記録した露光装置の稼動記録に基づき、前記露光ステップが実施される可能性の低い時間帯に実施されることを特徴とする請求項１乃至請求項１３の何れか一項に記載の露光方法。
15. 前記記憶ステップは、前記露光装置が前記露光ステップを実施していない空き時間の発生時刻と継続時間とを記憶し、
    前記記憶ステップにおいて記憶された前記発生時刻と前記継続時間に基づいて、前記調整ステップで実施される前記調整タスクの割り当てを行う割り当てステップを含むことを特徴とする請求項１乃至請求項１４の何れか一項に記載の露光方法。
    

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