JP2007310282A - Filter substrate and its manufacturing method - Google Patents

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Hiroyuki Osada
洋之 長田
Atsuyuki Manabe
敦行 真鍋
Takashi Doi
崇 土井
Katsuhiko Inada
克彦 稲田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an array substrate in which a frame-shaped pattern is made to have low visibility and is hardly exfoliated. <P>SOLUTION: A projecting piece part 32 projecting vertically is formed at the outside edge of a right-and-left side part 31b of the frame-shaped pattern 31. An external force to be exerted along such a direction that the right-and-left side part 31b is exfoliated can be received by the projecting piece part 32. The exfoliating resistance of the right-and-left side part 31b can be improved. The right-and-left side part 31b can be made narrower. The projecting piece part 32 is arranged in such a position that is superimposed on an auxiliary capacitance line. The light leakage from the projecting piece part 32 can be restrained/prevented by the auxiliary capacitance line 13 and the projecting piece part 32 can be made wider. The projecting piece part 32 is formed from the same material as that of a green filter part 23 to prevent the coloration of transmitted light. The right-and-left side part 31b is narrowed to have low visibility and improved appearance. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、複数のフィルタ部を備えたフィルタ基板およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a filter substrate having a plurality of filter portions and a method for manufacturing the same.

現在、一般的に設けられている液晶表示装置は、アレイ基板と対向基板との間に液晶が介在されて構成されている。そして、これらアレイ基板と対向基板との周縁の液晶封止口を除く部分が接着剤で固定され、この液晶封止口が封止剤にて封止されている。さらに、これらアレイ基板と対向基板との間には、これらアレイ基板と対向基板との間の距離を一定に保つためにスペーサとして粒径が均一なプラスチックビーズなどが散在されたり、これらアレイ基板および対向基板のいずれかに柱状スペーサ37が形成されたりしている。   Currently, a generally provided liquid crystal display device is configured by interposing a liquid crystal between an array substrate and a counter substrate. And the part except the liquid crystal sealing port of the periphery of these array substrates and a counter substrate is fixed with the adhesive agent, and this liquid crystal sealing port is sealed with the sealing agent. Further, between these array substrates and the counter substrate, plastic beads having a uniform particle diameter are scattered as spacers in order to keep the distance between the array substrate and the counter substrate constant. A columnar spacer 37 is formed on one of the counter substrates.

さらに、これら液晶表示装置のうち、カラー表示が可能な液晶表示装置には、この液晶表示装置のアレイ基板および対向基板のいずれか一方にＲ（Red:赤）、Ｇ（Green:緑）およびＢ（Blue:青）の着色層にて構成されたカラーフィルタ層22が形成されている。そして、この液晶表示装置の表示方式としては、例えばＴＮ（Twisted Nematic）形、ＩＰＳ（In-plane Switching）形、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）形や、強誘電性液晶などが用いられている。また、封止剤としては、例えば熱にて硬化する熱硬化型や紫外線の照射にて硬化する紫外線硬化型のアクリル系またはエポキシ系の接着剤などが用いられている。   Further, among these liquid crystal display devices, a liquid crystal display device capable of color display includes R (Red), G (Green) and B on either the array substrate or the counter substrate of the liquid crystal display device. A color filter layer 22 composed of a colored layer of (Blue) is formed. As a display method of the liquid crystal display device, for example, a TN (Twisted Nematic) type, an IPS (In-plane Switching) type, an OCB (Optically Compensated Bend) type, a ferroelectric liquid crystal, or the like is used. In addition, as the sealant, for example, a thermosetting type that is cured by heat or an ultraviolet curable type acrylic or epoxy adhesive that is cured by irradiation with ultraviolet rays is used.

また、カラー表示可能なアクティブマトリクス駆動の液晶表示装置としては、絶縁基板上に走査線および信号線が格子状に設けられ、これら走査線および信号線の交点に対応してアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）あるいはポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）を半導体層とした薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）が設けられ、これら薄膜トランジスタに画素電極が電気的に接続されたアクティブマトリクス基板としてのアレイ基板を備えている。   Further, as an active matrix driving liquid crystal display device capable of color display, scanning lines and signal lines are provided in a lattice pattern on an insulating substrate, and amorphous silicon (a-Si) corresponding to the intersections of these scanning lines and signal lines. ) Or a thin film transistor (TFT) using polysilicon (p-Si) as a semiconductor layer, and an array substrate as an active matrix substrate having a pixel electrode electrically connected to the thin film transistor.

そして、このアレイ基板に対向して対向基板が配設されており、この対向基板上にカラーフィルタ層が設けられている。また、このカラーフィルタ層の周縁には、遮光性を有する額縁部が設けられており、このカラーフィルタ層上に対向電極が設けられている。さらに、これらアレイ基板と対向基板との間の画面周辺部には、アレイ基板から対向基板へ電圧を印加するトランスファである電極転移材が配置されている。この電極転移材としては、導電性の銀粒子をバインダにてペースト状にした銀ペーストなどが用いられる。また、これらアレイ基板と対向基板とのそれぞれは偏光板にて挟持されており、光シャッタとしてカラー画像が表示可能に構成されている。   A counter substrate is disposed opposite to the array substrate, and a color filter layer is provided on the counter substrate. Further, a frame portion having a light shielding property is provided on the periphery of the color filter layer, and a counter electrode is provided on the color filter layer. Further, an electrode transfer material, which is a transfer for applying a voltage from the array substrate to the counter substrate, is disposed at the periphery of the screen between the array substrate and the counter substrate. As the electrode transition material, a silver paste or the like in which conductive silver particles are pasted with a binder is used. Each of the array substrate and the counter substrate is sandwiched between polarizing plates, and is configured to display a color image as an optical shutter.

さらに、この種の液晶表示装置としては、コスト上昇を招かずに開口率を向上させることを目的として、対向基板上に形成していたカラーフィルタ層22をアレイ基板上に形成したカラーフィルタオンアレイ（ＣＯＡ）方式が知られている（例えば、特許文献１参照。）。   Further, as this type of liquid crystal display device, a color filter-on-array in which the color filter layer 22 formed on the counter substrate is formed on the array substrate for the purpose of improving the aperture ratio without causing an increase in cost. A (COA) system is known (for example, see Patent Document 1).

ところが、このカラーフィルタ層、ブラックマトリクスおよび柱状スペーサは、通常、感光性樹脂、紫外光、フォトマスク、現像液などを用いたフォトリソグラフィ法にて形成されている。具体的に、このフォトリソグラフィ法は、ガラス基板を洗浄してから乾燥させた後に、このガラス基板上の全面に着色層を感光性樹脂として塗布してから乾燥させ、この着色層を、フォトマスクを介して紫外光で露光してパターニングしてから現像液にて余分なパターンを除去した後に、このパターニングされた着色層を焼成（ベーク）して硬化させる。   However, the color filter layer, the black matrix, and the columnar spacer are usually formed by a photolithography method using a photosensitive resin, ultraviolet light, a photomask, a developer, or the like. Specifically, in this photolithography method, the glass substrate is washed and dried, and then a colored layer is applied as a photosensitive resin on the entire surface of the glass substrate and then dried. Then, after patterning by exposure with ultraviolet light through a developer, the excess pattern is removed with a developer, and then the patterned colored layer is baked (baked) and cured.

そして、ＲＧＢ３色の着色層をパターニングしてガラス基板上に塗布する場合において、一色目の着色層を塗布する際には、ガラス基板の表面が比較的平坦であるが、二色目や三色目の着色層を塗布する際には、これら二色目や三色目の着色層より先に塗布した着色層のパターンによる凹凸の影響を受けてしまうので、これら着色層の塗布むらが発生してしまうおそれがある。   When the RGB three-color colored layer is patterned and applied on the glass substrate, when the first colored layer is applied, the surface of the glass substrate is relatively flat. When applying the colored layer, since it is affected by unevenness due to the pattern of the colored layer applied before the second or third colored layer, there is a possibility that uneven application of these colored layers may occur. is there.

そこで、この塗布むらを避けることを目的として、ガラス基板上の画像表示が可能な表示領域７の周辺を一色目の着色層のパターンで枠状パターンを形成して囲うと良いが、この枠状パターンの幅を太くすると、この枠状パターンが視認されてしまうこととなり見栄えが悪くなるおそれがある。そして、この枠状パターンの幅を細くすると、この枠状パターン自体が剥がれやすくなってしまう。   Therefore, for the purpose of avoiding this coating unevenness, it is preferable to form a frame-shaped pattern around the display area 7 capable of displaying an image on the glass substrate with a colored layer pattern of the first color. If the width of the pattern is increased, this frame-shaped pattern will be visually recognized, and the appearance may be deteriorated. If the width of the frame-shaped pattern is narrowed, the frame-shaped pattern itself is easily peeled off.

一方、上述したフォトリソグラフィ法は、パターニングのしやすさから加工精度に優れているが、非常に製造コストが高い。そこで、製造コストが安価な手段として、インクジェット方式によるパターニングが知られている（例えば、特許文献２参照。）。このインクジェット方式は、光を透過させないことを目的としてブラックマトリクスが設けられているため、このブラックマトリクスをリソグラフィによってパターン形成することが容易でないことから、このブラックマトリクスの形成に好適である。
特開２００２−３５０８３２号公報 特開２０００−１２２０７２号公報 On the other hand, the above-described photolithography method is excellent in processing accuracy because of easy patterning, but the manufacturing cost is very high. Then, as a means with low manufacturing cost, patterning by an ink jet method is known (for example, refer to Patent Document 2). This ink jet method is suitable for forming a black matrix because a black matrix is provided for the purpose of preventing light from being transmitted, and thus it is not easy to pattern the black matrix by lithography.
JP 2002-350832 A JP 2000-120702 A

しかしながら、上述のようにインクジェット方式でブラックマトリクスを形成する場合には、インクを所定の場所に留めさせるために、パターンを形成したい両端部に一対の隔壁を形成する必要がある。この隔壁としては、高さが高いほどインクを留める効果が大きいため、複数の着色層を積層させて隔壁の高さを高くすることがあるが、この隔壁についても、上述した枠状パターンと同様に、幅を太くすると視認されるので見栄えが悪くなり、幅を細くすると剥がれやすくなってしまうという問題を有している。   However, when the black matrix is formed by the ink jet method as described above, it is necessary to form a pair of partition walls at both ends where a pattern is to be formed in order to keep the ink in a predetermined place. As this partition wall, the higher the height, the greater the effect of retaining the ink. Therefore, the height of the partition wall may be increased by laminating a plurality of colored layers. This partition wall is also the same as the frame-shaped pattern described above. In addition, when the width is increased, it is visually recognized, so that the appearance is deteriorated, and when the width is decreased, it is easily peeled off.

本発明は、このような点に鑑みなされたもので、枠状部の視認性が低く剥がれにくいフィルタ基板およびその製造方法を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of the above points, and an object of the present invention is to provide a filter substrate in which the visibility of the frame-shaped portion is low and difficult to peel off, and a method for manufacturing the same.

本発明は、基板と、この基板上に設けられ異なる色の複数のフィルタ部と、これら複数のフィルタ部の少なくともいずれかを囲んで前記基板上に付着された枠状部と、前記基板上に付着され前記枠状部より外側にこの枠状部から一体的に形成されて突出した突出部と、を具備したものである。   The present invention includes a substrate, a plurality of different color filter portions provided on the substrate, a frame-shaped portion attached to the substrate so as to surround at least one of the plurality of filter portions, and the substrate. And a protruding portion that is integrally formed and protruded from the frame-shaped portion on the outside of the frame-shaped portion.

本発明によれば、基板上の複数のフィルタ部の少なくともいずれかを囲む枠状部の外側に、この枠状部から一体的に突出した突出部を設けたことにより、この突出部と基板との間の付着で枠状部と基板との間の付着を保つことができ、この枠状部が基板から剥がれにくくなるので、この枠状部を細くできるとともに、この枠状部を細くして視認性を低くできる。   According to the present invention, by providing a protruding portion integrally protruding from the frame-shaped portion outside the frame-shaped portion surrounding at least one of the plurality of filter portions on the substrate, the protruding portion and the substrate The adhesion between the frame-shaped portion and the substrate can be maintained, and the frame-shaped portion is difficult to peel off from the substrate. Therefore, the frame-shaped portion can be thinned, and the frame-shaped portion can be thinned. Visibility can be lowered.

以下、本発明の液晶表示装置の第１の実施の形態の構成を図１ないし図１３を参照して説明する。   The configuration of the first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention will be described below with reference to FIGS.

図１ないし図３および図１３において、１は液晶表示装置で、この液晶表示装置１は、例えばアクティブマトリクス型の平面表示装置である液晶表示パネル２を備えている。この液晶表示パネル２は、第１の基板としてのフィルタ基板である略矩形平板状のアレイ基板３を備えている。このアレイ基板３は、カラーフィルタオンアレイ方式（ＣＯＡ）であって、例えば縦４８０ピクセルおよび横６４０×４ピクセルを有するＴＦＴ基板である。そして、このアレイ基板３の一主面である表面には、一主面である表面を対向させて第２の基板としての略矩形平板状の対向基板４が配設されている。   1 to 3 and FIG. 13, reference numeral 1 denotes a liquid crystal display device. The liquid crystal display device 1 includes a liquid crystal display panel 2 which is, for example, an active matrix type flat display device. The liquid crystal display panel 2 includes a substantially rectangular flat plate-like array substrate 3 which is a filter substrate as a first substrate. The array substrate 3 is a color filter on array system (COA), and is, for example, a TFT substrate having 480 pixels vertically and 640 × 4 pixels horizontally. Then, on the surface which is one main surface of the array substrate 3, a counter substrate 4 having a substantially rectangular flat plate shape as a second substrate is disposed so that the surface which is the one main surface is opposed.

さらに、これらアレイ基板３および対向基板４の間には、光変調層として液晶層５が介在されて設けられている。さらに、これらアレイ基板３と対向基板４とは、液晶層５に液晶組成物Ｌを挟持するための所定のセルギャップＳを介して貼り合わされている。また、液晶層５は、アレイ基板３と対向基板４との間の間隙である液晶封止領域Ｃ内に液晶組成物Ｌを封入させて構成されている。   Further, a liquid crystal layer 5 is provided as an optical modulation layer between the array substrate 3 and the counter substrate 4. Further, the array substrate 3 and the counter substrate 4 are bonded to each other with a predetermined cell gap S for sandwiching the liquid crystal composition L between the liquid crystal layer 5. The liquid crystal layer 5 is configured by enclosing a liquid crystal composition L in a liquid crystal sealing region C that is a gap between the array substrate 3 and the counter substrate 4.

具体的に、アレイ基板３は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板６を有している。そして、このガラス基板６の一主面である表面上の中央部には、画像表示が可能な領域である表示領域７が形成されている。そして、このガラス基板６上の表示領域７には、アレイ下地９が形成されており、このアレイ下地９に複数の表示画素８がマトリクス状に設けられて配置されている。これら複数の表示画素８は、ガラス基板６の縦方向に沿ってｎ個形成されており、このガラス基板６の横方向に沿ってｍ個形成されている。したがって、これら複数の表示画素８は、ガラス基板６上にｎ×ｍ個形成されている。   Specifically, the array substrate 3 includes a glass substrate 6 that is a light-transmitting substrate as a substantially transparent rectangular flat plate-like insulating substrate. A display area 7 which is an area capable of displaying an image is formed in the central portion on the surface which is one main surface of the glass substrate 6. An array base 9 is formed in the display region 7 on the glass substrate 6, and a plurality of display pixels 8 are arranged in a matrix on the array base 9. The plurality of display pixels 8 are formed along the longitudinal direction of the glass substrate 6, and m are formed along the lateral direction of the glass substrate 6. Therefore, n × m display pixels 8 are formed on the glass substrate 6.

ここで、表示領域７の幅方向の一側縁には、この表示領域７内に設けられている複数の表示画素８の横方向に沿った列の段数を示す列番号10が記されている。この列番号10は、表示領域７の縦方向の一側縁である上端側から順番に、例えば「００１」,「００２」,「００３」,……,「ｍｎｌ」などと表示されている。   Here, on one side edge of the display region 7 in the width direction, a column number 10 indicating the number of columns along the horizontal direction of the plurality of display pixels 8 provided in the display region 7 is written. . For example, “001”, “002”, “003”,..., “Mnl”, and the like are displayed in order from the upper end side that is one side edge in the vertical direction of the display area 7.

さらに、ガラス基板６の表面には、ゲート電極配線としてのゲートラインである複数の走査線11が、このガラス基板６の幅方向に沿って配設されている。これら走査線11は、電極配線としてのアレイ配線であって、ガラス基板６の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。また、これら走査線11間のそれぞれには、画像信号配線としてのシグナルラインである複数の信号線12が、ガラス基板６の縦方向に沿って配設されている。これら信号線12は、電極配線としてのアレイ配線であって、ガラス基板６の横方向に向けて等間隔に平行に離間されている。したがって、これら走査線11および信号線12は、ガラス基板６上に互いに間隙を介して電気的に絶縁されて交差して格子状であるマトリクス状に配線されたアレイ配線である。   Further, on the surface of the glass substrate 6, a plurality of scanning lines 11 which are gate lines as gate electrode wirings are arranged along the width direction of the glass substrate 6. These scanning lines 11 are array wirings as electrode wirings, and are spaced in parallel at equal intervals in the lateral direction of the glass substrate 6. A plurality of signal lines 12 as signal lines as image signal wirings are arranged along the vertical direction of the glass substrate 6 between the scanning lines 11. These signal lines 12 are array wirings as electrode wirings, and are spaced in parallel at equal intervals in the lateral direction of the glass substrate 6. Accordingly, the scanning lines 11 and the signal lines 12 are array wirings that are electrically insulated from each other through a gap on the glass substrate 6 and crossed so as to be arranged in a matrix that is a lattice shape.

さらに、各走査線11上には、これら走査線11に重なるように、補助ラインとしての遮光部である補助容量線13が設けられている。これら補助容量線13は、走査線11の幅寸法より大きな幅寸法を有するとともに、ガラス基板６の幅方向に沿って配設されている。さらに、この補助容量線13は、走査線11上に積層されている図示しない絶縁層上に積層されており、この絶縁層によって走査線11に対して電気的に絶縁された状態で設けられている。   Further, on each scanning line 11, an auxiliary capacitance line 13 that is a light shielding portion as an auxiliary line is provided so as to overlap the scanning lines 11. These auxiliary capacitance lines 13 have a width dimension larger than the width dimension of the scanning lines 11 and are disposed along the width direction of the glass substrate 6. Further, the auxiliary capacitance line 13 is laminated on an insulating layer (not shown) laminated on the scanning line 11, and is provided in a state of being electrically insulated from the scanning line 11 by this insulating layer. Yes.

また、これら補助容量線13の間には、表示領域７の外側縁から垂直に突出した静電気防止用のラインであるダミー配線14が配線されている。これらダミー配線14は、信号線12と同じ層に形成されており、この信号線12と同一材料および同一工程で形成されている。さらに、これらダミー配線14は、信号線12に対して並行に配線されており、これら信号線12の間の中間部に設けられている。   Further, between these auxiliary capacitance lines 13, dummy wirings 14, which are antistatic lines protruding vertically from the outer edge of the display area 7, are wired. These dummy wirings 14 are formed in the same layer as the signal line 12, and are formed of the same material and the same process as the signal line 12. Further, the dummy wirings 14 are wired in parallel to the signal lines 12 and are provided in an intermediate portion between the signal lines 12.

ここで、これら走査線11、信号線12、補助容量線13およびダミー配線14のそれぞれは、例えばアルミニウム（Ａｌ）などの遮光性を有する遮光性膜である金属材料などの下地金属にて形成されている。さらに、これら走査線11、信号線12、補助容量線13およびダミー配線14のそれぞれは、ガラス基板６上の表示領域７より外側に突出して配線されている。   Here, each of the scanning line 11, the signal line 12, the auxiliary capacitance line 13, and the dummy wiring 14 is formed of a base metal such as a metal material that is a light-shielding film having a light shielding property such as aluminum (Al). ing. Further, each of the scanning line 11, the signal line 12, the auxiliary capacitance line 13, and the dummy wiring 14 is wired so as to protrude outward from the display area 7 on the glass substrate 6.

一方、このガラス基板６の表面には、トップゲートタイプの薄膜トランジスタ15が１画素構成要素として配設されている。この薄膜トランジスタ15は、スイッチング素子であるとともに半導体素子としてのＴＦＴ素子である。そして、これら薄膜トランジスタ15は、ガラス基板６上に形成されたソース電極16およびドレイン電極17を備えている。これらソース電極16およびドレイン電極17は、所定の間隙を介して電気的に絶縁された状態で設けられている。ここで、これらソース電極16は、信号線12の一側縁に一体的に設けられて電気的に接続されている。   On the other hand, on the surface of the glass substrate 6, a top gate type thin film transistor 15 is arranged as one pixel component. The thin film transistor 15 is a switching element and a TFT element as a semiconductor element. These thin film transistors 15 include a source electrode 16 and a drain electrode 17 formed on the glass substrate 6. The source electrode 16 and the drain electrode 17 are provided in a state of being electrically insulated through a predetermined gap. Here, the source electrodes 16 are integrally provided on one side edge of the signal line 12 and are electrically connected.

さらに、これらソース電極16およびドレイン電極17の間には、半導体層としての活性層18が設けられている。この活性層18は、ソース電極16およびドレイン電極17のそれぞれを覆ってガラス基板６上に設けられている。そして、この活性層18は、多結晶半導体としてのポリシリコン（ｐ−Ｓｉ）にて構成されている。また、この活性層18上には、導電性を有するゲート電極19が積層されて成膜されている。このゲート電極19は、走査線11の一側縁に一体的に設けられて電気的に接続されており、この走査線11の一部を構成する。ここで、このゲート電極19は、活性層18の長手方向に直交する長手方向を有している。   Further, an active layer 18 as a semiconductor layer is provided between the source electrode 16 and the drain electrode 17. The active layer 18 is provided on the glass substrate 6 so as to cover the source electrode 16 and the drain electrode 17. The active layer 18 is made of polysilicon (p-Si) as a polycrystalline semiconductor. On the active layer 18, a gate electrode 19 having conductivity is laminated and formed. The gate electrode 19 is integrally provided on one side edge of the scanning line 11 and electrically connected thereto, and constitutes a part of the scanning line 11. Here, the gate electrode 19 has a longitudinal direction orthogonal to the longitudinal direction of the active layer 18.

さらに、ガラス基板６上には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）にて構成された透明な透明電極としての画素電極21が積層されて設けられている。この画素電極21は、薄膜トランジスタ15が設けられている部分に隣接した各表示画素８内のそれぞれ設けられており、この薄膜トランジスタ15のドレイン電極17に電気的に接続されている。すなわち、この画素電極21は、この画素電極21にドレイン電極17が電気的に接続されている薄膜トランジスタ15によって駆動が制御される。   Further, a pixel electrode 21 as a transparent transparent electrode made of ITO (Indium Tin Oxide) is laminated on the glass substrate 6. The pixel electrode 21 is provided in each display pixel 8 adjacent to the portion where the thin film transistor 15 is provided, and is electrically connected to the drain electrode 17 of the thin film transistor 15. That is, the driving of the pixel electrode 21 is controlled by the thin film transistor 15 in which the drain electrode 17 is electrically connected to the pixel electrode 21.

また、ガラス基板６上の表示領域７の全面には、カラーフィルタの機能を有する着色層であるカラーフィルタ層22が積層されて設けられている。このカラーフィルタ層22は、ガラス基板６の表面より突出して設けられている。具体的に、このカラーフィルタ層22は、少なくとも２色以上である１組の色単位、例えば光の三原色に対応した緑（Green:Ｇ）色の緑色着色層としての第１色部である緑色フィルタ部23と、青（Blue:Ｂ）色の青色着色層としての第２色部である青色フィルタ部24と、赤（Red:Ｒ）色の赤色着色層としての第３色部である赤色フィルタ部25との３つのライン状のフィルタ部が各表示画素８の幅方向に対応して、ガラス基板６の横方向に向けて繰り返し配置されて縞状に構成されている。   In addition, a color filter layer 22 which is a colored layer having a color filter function is provided on the entire surface of the display region 7 on the glass substrate 6. The color filter layer 22 is provided so as to protrude from the surface of the glass substrate 6. Specifically, the color filter layer 22 is a set of color units of at least two colors, for example, a first color portion as a green colored layer of green (Green: G) corresponding to the three primary colors of light. The filter part 23, the blue color filter part 24 as the second color part as a blue (Blue: B) colored layer, and the red color as the third color part as a red (Red: R) colored layer Three line-shaped filter portions with the filter portion 25 are repeatedly arranged in the horizontal direction of the glass substrate 6 corresponding to the width direction of each display pixel 8, and are configured in a stripe shape.

ここで、緑色フィルタ部23は、緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストである緑色レジストＧから形成されている。また、青色フィルタ部24は、青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストである青色レジストＢから形成されている。そして、赤色フィルタ部25は、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストとしての赤色レジストＲから形成されている。そして、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、略等しい厚さ寸法に形成されている。   Here, the green filter portion 23 is formed of a green resist G which is an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a green pigment is dispersed. The blue filter portion 24 is formed of a blue resist B which is an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a blue pigment is dispersed. The red filter portion 25 is formed of a red resist R as an ultraviolet curable acrylic resin resist in which a red pigment is dispersed. Each of the green filter part 23, the blue filter part 24, and the red filter part 25 is formed to have substantially the same thickness.

さらに、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、各表示画素８の幅寸法に等しい幅寸法を有するライン状に形成されており、表示領域７の横方向に沿って順番に規則的に配設されている。すなわち、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、表示領域７の横方向に沿って順番に交互に配設されている。よって、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、表示領域７内に規則的な縞状に設けられている。   Further, each of the green filter portion 23, the blue filter portion 24 and the red filter portion 25 is formed in a line shape having a width dimension equal to the width dimension of each display pixel 8, and extends along the horizontal direction of the display region 7. Are arranged regularly in order. That is, the green filter unit 23, the blue filter unit 24, and the red filter unit 25 are alternately arranged in order along the horizontal direction of the display region 7. Therefore, each of the green filter unit 23, the blue filter unit 24, and the red filter unit 25 is provided in a regular stripe shape in the display region 7.

具体的に、この表示領域７に設けられている赤色フィルタ部25の横方向の一方に隣接して緑色フィルタ部23が設けられ、この緑色フィルタ部23の横方向の一方に隣接して青色フィルタ部24が設けられている。さらに、この青色フィルタ部24の横方向の一方に隣接して赤色フィルタ部25が設けられ、この赤色フィルタ部25の横方向の一方に隣接して緑色フィルタ部23が設けられている。したがって、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、表示領域７の縦方向に沿った各表示画素８上に亘って連続して積層されて設けられている。   Specifically, a green filter unit 23 is provided adjacent to one side of the red filter unit 25 provided in the display area 7 in the horizontal direction, and a blue filter is provided adjacent to one side of the green filter unit 23 in the horizontal direction. Part 24 is provided. Further, a red filter portion 25 is provided adjacent to one side of the blue filter portion 24 in the horizontal direction, and a green filter portion 23 is provided adjacent to one side of the red filter portion 25 in the horizontal direction. Accordingly, each of the green filter unit 23, the blue filter unit 24, and the red filter unit 25 is provided by being continuously stacked over the display pixels 8 along the vertical direction of the display region 7.

さらに、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25は、緑色、青色あるいは赤色の顔料あるいは染料を含有させた感光性樹脂材にて形成されている。よって、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれは、緑色、青色あるいは赤色の各色成分の光を透過させる光透過性を有している。さらに、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれの長手方向の一端縁には、スルーホールとしての細長矩形状のコンタクトホール26が形成されている。これらコンタクトホール26は、薄膜トランジスタ15のドレイン電極17に電気的に導通させる開口部である。そして、緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25上には、各表示画素８に対応して画素電極21が積層されている。これら画素電極21は、透明電極としてのＩＴＯ膜にて構成されており、これら画素電極21が設けられている表示画素８内のコンタクトホール26を介して薄膜トランジスタ15のドレイン電極17に電気的に接続されている。   Further, the green filter portion 23, the blue filter portion 24, and the red filter portion 25 are formed of a photosensitive resin material containing a green, blue, or red pigment or dye. Therefore, each of the green filter unit 23, the blue filter unit 24, and the red filter unit 25 has a light transmission property that transmits light of each color component of green, blue, or red. Further, an elongated rectangular contact hole 26 as a through hole is formed at one end edge in the longitudinal direction of each of the green filter portion 23, the blue filter portion 24, and the red filter portion 25. These contact holes 26 are openings that are electrically connected to the drain electrode 17 of the thin film transistor 15. On the green filter unit 23, the blue filter unit 24, and the red filter unit 25, pixel electrodes 21 are stacked corresponding to the display pixels 8. These pixel electrodes 21 are made of an ITO film as a transparent electrode, and are electrically connected to the drain electrode 17 of the thin film transistor 15 through a contact hole 26 in the display pixel 8 in which these pixel electrodes 21 are provided. Has been.

また、複数の緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25が縞状に配設されて構成されたカラーフィルタ層22の外側には、このカラーフィルタ層22の外周縁に沿って連続して積層された外周シール部としての枠状部である平面視矩形枠状の枠状パターン31が、ガラス基板６の上面より上方に突出した状態で設けられている。この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22の塗布むら防止のために設けられており、ガラス基板６上に積層されて、このガラス基板６上に付着されている。また、この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22の幅方向の両側および縦方向の両端のそれぞれに対して連続して設けられており、このカラーフィルタ層22の外周縁を周方向に亘って連続して囲んでいる。さらに、この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22の縦方向の両端部において、このカラーフィルタ層22を構成する各緑色フィルタ部23の長手方向の両端部に対して連続して設けられている。   In addition, a plurality of green filter portions 23, blue filter portions 24, and red filter portions 25 are continuously arranged along the outer peripheral edge of the color filter layer 22 on the outer side of the color filter layer 22 configured by being arranged in a stripe pattern. Then, a frame-like pattern 31 having a rectangular frame shape in plan view, which is a frame-like portion as an outer peripheral seal portion that is laminated, is provided in a state of protruding upward from the upper surface of the glass substrate 6. The frame pattern 31 is provided to prevent uneven application of the color filter layer 22, and is laminated on the glass substrate 6 and attached on the glass substrate 6. The frame pattern 31 is continuously provided on both sides in the width direction and both ends in the vertical direction of the color filter layer 22, and the outer peripheral edge of the color filter layer 22 extends in the circumferential direction. Surrounding continuously. Further, the frame pattern 31 is continuously provided at both longitudinal end portions of the color filter layer 22 with respect to both longitudinal end portions of the green filter portions 23 constituting the color filter layer 22. .

ここで、この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22のいずれか１つのフィルタ部である最も硬い緑色フィルタ部23を構成する緑色の顔料あるいは染料を含有させた感光性樹脂材である緑色レジストＧにて構成されている。さらに、この枠状パターン31は、緑色フィルタ部23と同じ材料および同一工程で同時に形成されている。したがって、この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22の緑色フィルタ部23の厚さ寸法に等しい厚さ寸法に形成されている。   Here, the frame-shaped pattern 31 is a green resist G which is a photosensitive resin material containing a green pigment or dye constituting the hardest green filter portion 23 which is one of the color filter layers 22. It is composed of. Further, the frame-shaped pattern 31 is formed simultaneously with the same material and the same process as the green filter portion 23. Therefore, the frame pattern 31 is formed to have a thickness dimension equal to the thickness dimension of the green filter portion 23 of the color filter layer 22.

また、この枠状パターン31は、この枠状パターン31のうちの表示領域７の上側縁および下側縁を囲む上下辺に相当する部分である上下辺部31aの幅寸法が、この表示領域７の幅方向の両側縁を囲む左右辺に相当する部分である左右辺部31bの幅寸法の２倍程度に構成されている。具体的に、この枠状パターン31の左右辺部31bは、例えば２０μｍ以上３０μｍ以下程度の幅寸法に形成されている。   Further, the frame-shaped pattern 31 has a width dimension of an upper and lower side portion 31a which is a portion corresponding to the upper and lower sides surrounding the upper and lower edges of the display region 7 in the frame-shaped pattern 31. The width dimension of the left and right side portions 31b, which are portions corresponding to the left and right sides surrounding both side edges in the width direction, is approximately twice as large. Specifically, the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 are formed to have a width dimension of, for example, about 20 μm to 30 μm.

さらに、この枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁部には、この枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁から、この外周縁に対して外側に向けて垂直に突出した突出部としての帯状の突き出し部である複数の突出片部32が一体的に設けられている。これら突出片部32は、ガラス基板６の表示領域７より外側の部分上に積層されて、このガラス基板６上に付着されている。そして、これら突出片部32は、枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁に、この表示領域７の縦方向に亘って等間隔に離間させた位置のそれぞれに設けられており、この左右辺部31bの外側縁からガラス基板６の表面に沿って垂直に突出している。   Further, the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 project from the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 so as to protrude perpendicularly outward from the outer peripheral edge. A plurality of projecting piece portions 32 which are belt-like protruding portions are integrally provided. These protruding piece portions 32 are laminated on a portion of the glass substrate 6 outside the display region 7 and attached to the glass substrate 6. The projecting piece portions 32 are provided on the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 at positions spaced apart at equal intervals in the vertical direction of the display area 7. It protrudes vertically along the surface of the glass substrate 6 from the outer edge of the side portion 31b.

すなわち、これら突出片部32は、左右辺部31bを構成する材料である緑色レジストＧを、この左右辺部31bの外側縁から外側に向けて水平に突出するように連続して積層させることによって設けられている。したがって、これら突出片部32は、緑色レジストＧにて構成され、左右辺部31bの外側縁に局所的に設けられている。また、これら突出片部32は、ガラス基板６の表面より上方に向けて突出した状態で形成されており、枠状パターン31の厚さ寸法に等しい厚さ寸法を有している。   That is, the protruding piece portions 32 are formed by continuously laminating the green resist G, which is a material constituting the left and right side portions 31b, so as to protrude horizontally from the outer edges of the left and right side portions 31b. Is provided. Therefore, these protruding piece portions 32 are made of green resist G and are locally provided on the outer edges of the left and right side portions 31b. Further, these protruding piece portions 32 are formed so as to protrude upward from the surface of the glass substrate 6, and have a thickness dimension equal to the thickness dimension of the frame-shaped pattern 31.

さらに、これら突出片部32は、枠状パターン31に対して一体的に設けられており、この枠状パターン31のガラス基板６からの剥がれを防止させる補強片である。具体的に、これら突出片部32は、枠状パターン31の左右辺部31bの幅寸法に等しい幅寸法を有するとともに、この左右辺部31bの幅寸法の２倍程度の長さ寸法を有している。   Further, the protruding piece portions 32 are provided integrally with the frame-shaped pattern 31 and are reinforcing pieces that prevent the frame-shaped pattern 31 from peeling off from the glass substrate 6. Specifically, the projecting piece portions 32 have a width dimension equal to the width dimension of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31, and have a length dimension that is about twice the width dimension of the left and right side portions 31b. ing.

また、これら突出片部32は、補助容量線13のうちの表示領域７から外側に向けて突出している部分である延長部13a上に平面視で垂直に重なる位置に設けられている。すなわち、これら突出片部32は、補助容量線13の幅寸法に略等しい幅寸法に形成されており、平面視で、この補助容量線13の延長部13aの幅方向の一側縁上に突出片部32の幅方向の一側縁が重なり、この延長部13aの幅方向の他側縁上に突出片部32の幅方向の他側縁が重なるように設けられている。   Further, these protruding piece portions 32 are provided at positions that vertically overlap the extended portion 13a that is a portion protruding outward from the display region 7 of the auxiliary capacitance line 13 in plan view. That is, the protruding piece portions 32 are formed to have a width dimension substantially equal to the width dimension of the auxiliary capacitance line 13, and protrude on one side edge in the width direction of the extension portion 13a of the auxiliary capacitance line 13 in plan view. One side edge in the width direction of the piece portion 32 overlaps, and the other side edge in the width direction of the protruding piece portion 32 overlaps with the other side edge in the width direction of the extension portion 13a.

ここで、カラーフィルタ層22のうち、ガラス基板６上に最初に積層させる緑色フィルタ部23、枠状パターン31および突出片部32それぞれの外側面は、図６に示すように、下側から上側に向けて徐々に拡開した逆テーパ状の逆テーパ面33に形成される。これら逆テーパ面33は、緑色フィルタ部23、枠状パターン31および突出片部32のそれぞれに上に積層させる図示しないフォトレジストが透明で、これら緑色フィルタ部23、枠状パターン31および突出片部32の表面のみが硬化するにすぎないことから、これら緑色フィルタ部23、枠状パターン31および突出片部32それぞれの両側部に、例えば数μｍ幅程度に形成されている。   Here, among the color filter layers 22, the outer surfaces of the green filter portion 23, the frame-shaped pattern 31 and the protruding piece portion 32 that are first laminated on the glass substrate 6 are as shown in FIG. Is formed on a reverse taper surface 33 having a reverse taper shape that gradually expands toward. These reverse taper surfaces 33 are transparent with a photoresist (not shown) laminated on each of the green filter part 23, the frame-like pattern 31 and the protruding piece part 32, and the green filter part 23, the frame-like pattern 31 and the protruding piece part Since only the surface of 32 is cured, the green filter portion 23, the frame pattern 31 and the protruding piece portion 32 are formed with a width of, for example, about several μm on both sides thereof.

さらに、これら突出片部32および枠状パターン31によって外壁パターン34が構成されており、この外壁パターン34の外側には、この外壁パターン34を覆うようにブラックマトリクスとしての遮光部としての額縁パターン35が積層されている。この額縁パターン35は、表示領域７の周辺部を遮光するための黒額縁であって、例えば黒色樹脂層などの遮光性を有する有色樹脂にて構成されている。そして、この額縁パターン35は、ガラス基板６の表面より上方に向けて突出した状態で形成されており、カラーフィルタ層22および外壁パターン34の厚さ寸法より大きな厚さ寸法を有している。   Further, an outer wall pattern 34 is constituted by the projecting piece portion 32 and the frame-shaped pattern 31, and a frame pattern 35 as a light shielding portion as a black matrix is provided outside the outer wall pattern 34 so as to cover the outer wall pattern 34. Are stacked. The frame pattern 35 is a black frame for shielding the periphery of the display area 7 and is made of a colored resin having a light shielding property such as a black resin layer. The frame pattern 35 is formed so as to protrude upward from the surface of the glass substrate 6, and has a thickness dimension larger than the thickness dimension of the color filter layer 22 and the outer wall pattern 34.

また、この額縁パターン35は、枠状パターン31の上端部および両側部それぞれでの幅寸法より大きな幅寸法を有する枠状に形成されている。そして、この額縁パターン35は、外壁パターン34の枠状パターン31および突出片部32それぞれの外側に位置する外側縁部に連続して設けられており、これら枠状パターン31および突出片部32の外周を囲んでいる。   Further, the frame pattern 35 is formed in a frame shape having a width dimension larger than the width dimension at each of the upper end portion and both side portions of the frame pattern 31. The frame pattern 35 is provided continuously to the outer edge portions located outside the frame-shaped pattern 31 and the protruding piece portion 32 of the outer wall pattern 34, and the frame-shaped pattern 31 and the protruding piece portion 32 Surrounds the perimeter.

さらに、アレイ基板３の表示領域７のいずれかの表示画素８間には、このアレイ基板３の厚さ方向に沿った長手方向を有する細長円柱状の柱状スペーサ37が突設されている。これら柱状スペーサ37は、スペーサの機能を有する突起物であって、表示領域７の縦方向および横方向のそれぞれに向けて所定個数、例えば縦方向に２個の表示画素８を介した位置の表示画素８間のそれぞれに設けられている。   Further, an elongated columnar columnar spacer 37 having a longitudinal direction along the thickness direction of the array substrate 3 is provided between any display pixel 8 in the display region 7 of the array substrate 3. These columnar spacers 37 are protrusions that function as spacers, and display a predetermined number of positions in the vertical and horizontal directions of the display area 7, for example, positions via two display pixels 8 in the vertical direction. It is provided between each of the pixels 8.

すなわち、これら柱状スペーサ37は、アレイ基板３の表示領域７内に等間隔に離間されてマトリクス状に設けられている。そして、これら柱状スペーサ37は、カラーフィルタ層22上に積層されて設けられており、このカラーフィルタ層22の表面より上方に向けて突出した状態で形成されている。さらに、これら柱状スペーサ37、画素電極21および薄膜トランジスタ15を含むガラス基板上の全面には、配向膜38が積層されて形成されている。   That is, these columnar spacers 37 are provided in a matrix in the display area 7 of the array substrate 3 so as to be spaced apart at equal intervals. These columnar spacers 37 are provided on the color filter layer 22 so as to protrude upward from the surface of the color filter layer 22. Further, an alignment film 38 is laminated on the entire surface of the glass substrate including the columnar spacers 37, the pixel electrodes 21, and the thin film transistors 15.

一方、対向基板４は、略透明な矩形平板状の絶縁基板としての透光性基板であるガラス基板41を備えている。このガラス基板41におけるアレイ基板３に対向した側の一主面である表面には、共通電極としてのコモン電極である矩形平板状の対向電極42が積層されて設けられている。この対向電極42は、透明電極としてのＩＴＯ膜にて構成されている。また、この対向電極42は、対向基板４の表面とアレイ基板３の表面とを対向させた際に、このアレイ基板３のガラス基板６の表示領域７全体に亘って対向する矩形状の大きな電極である。言い換えると、この対向電極42は、アレイ基板３に対向基板４を対向させた際に、このアレイ基板３の画素電極21と相対するように配置されている。さらに、ガラス基板41上の全面には、このガラス基板41上の対向電極42を覆うように配向膜43が積層されて形成されている。   On the other hand, the counter substrate 4 includes a glass substrate 41 which is a translucent substrate as a substantially transparent rectangular flat plate-like insulating substrate. A rectangular plate-like counter electrode 42 which is a common electrode as a common electrode is provided on the surface which is one main surface of the glass substrate 41 on the side facing the array substrate 3. The counter electrode 42 is composed of an ITO film as a transparent electrode. The counter electrode 42 is a large rectangular electrode facing the entire display area 7 of the glass substrate 6 of the array substrate 3 when the surface of the counter substrate 4 and the surface of the array substrate 3 are opposed to each other. It is. In other words, the counter electrode 42 is disposed so as to face the pixel electrode 21 of the array substrate 3 when the counter substrate 4 is opposed to the array substrate 3. Further, an alignment film 43 is laminated on the entire surface of the glass substrate 41 so as to cover the counter electrode 42 on the glass substrate 41.

そして、対向基板４は、この対向基板４の対向電極42側をアレイ基板３の画素電極21側に対向させた状態で、アレイ基板３に取り付けられている。すなわち、この対向基板４は、アレイ基板３に設けられている各柱状スペーサ37を対向基板４の対向電極42に当接させて、これらアレイ基板３と対向基板４との間に所定の間隔である液晶封止領域Ｃが形成されるように、平行に離間された状態で取り付けられている。   The counter substrate 4 is attached to the array substrate 3 with the counter electrode 42 side of the counter substrate 4 facing the pixel electrode 21 side of the array substrate 3. That is, the counter substrate 4 has each columnar spacer 37 provided on the array substrate 3 in contact with the counter electrode 42 of the counter substrate 4 so that the array substrate 3 and the counter substrate 4 are spaced at a predetermined interval. The liquid crystal sealing regions C are attached so as to be spaced apart in parallel so that a certain liquid crystal sealing region C is formed.

さらに、これら対向基板４の配向膜43とアレイ基板３の配向膜38との間に、液晶材料としての誘電異方性が正である液晶組成物Ｌが注入されて挟持されて光変調層としての液晶層５が形成されている。この液晶層５は、対向基板４の配向膜43とアレイ基板３の配向膜38との間に液晶組成物Ｌが介挿されて封止されて構成されている。さらに、この液晶層５は、アレイ基板３の画素電極21と対向基板４の対向電極42との間に液晶容量を形成させる。   Further, a liquid crystal composition L having a positive dielectric anisotropy as a liquid crystal material is injected and sandwiched between the alignment film 43 of the counter substrate 4 and the alignment film 38 of the array substrate 3 to form a light modulation layer. The liquid crystal layer 5 is formed. The liquid crystal layer 5 is configured by sealing a liquid crystal composition L interposed between the alignment film 43 of the counter substrate 4 and the alignment film 38 of the array substrate 3. Further, the liquid crystal layer 5 forms a liquid crystal capacitance between the pixel electrode 21 of the array substrate 3 and the counter electrode 42 of the counter substrate 4.

また、アレイ基板３と対向基板４との間の周縁部は、これらアレイ基板３と対向基板４との間の液晶封止領域Ｃに液晶層５を封止させる液晶封止部としてのシール材44が取り付けられている。このシール材44は、アレイ基板３と対向基板４との間に接着されて固定されている。また、このシール材44は、アレイ基板３の表示領域７の周縁を覆うように設けられており、このアレイ基板３の表示領域７と対向基板４との間に液晶封止領域Ｃを形成させる。そして、このシール材44は、アレイ基板３の額縁パターン35と対向基板４の対向電極42より外側の配向膜43との間に設けられている。   The peripheral portion between the array substrate 3 and the counter substrate 4 is a sealing material as a liquid crystal sealing portion that seals the liquid crystal layer 5 in the liquid crystal sealing region C between the array substrate 3 and the counter substrate 4. 44 is installed. The sealing material 44 is bonded and fixed between the array substrate 3 and the counter substrate 4. The sealing material 44 is provided so as to cover the periphery of the display area 7 of the array substrate 3, and a liquid crystal sealing area C is formed between the display area 7 of the array substrate 3 and the counter substrate 4. . The sealing material 44 is provided between the frame pattern 35 of the array substrate 3 and the alignment film 43 outside the counter electrode 42 of the counter substrate 4.

さらに、このシール材44の周辺には、アレイ基板３から対向電極42に電圧を印加するための図示しない電極転移材が形成されている。この電極転移材は、アレイ基板３と対向基板４との間の図示しない画面周辺部に設けられている図示しない電極転移電極上に形成されている。   Further, an electrode transition material (not shown) for applying a voltage from the array substrate 3 to the counter electrode 42 is formed around the seal material 44. This electrode transition material is formed on an electrode transition electrode (not shown) provided in the peripheral portion of the screen (not shown) between the array substrate 3 and the counter substrate 4.

一方、これらアレイ基板３のガラス基板６の裏面と対向基板４のガラス基板41の裏面とのそれぞれには、略矩形平板状の偏光板45,46が積層されて取り付けられている。これら偏光板45,46は、アレイ基板３のガラス基板６の裏面および対向基板４のガラス基板41の裏面の略全面を覆っている。   On the other hand, on each of the back surface of the glass substrate 6 of the array substrate 3 and the back surface of the glass substrate 41 of the counter substrate 4, substantially rectangular flat plate-like polarizing plates 45 and 46 are laminated and attached. These polarizing plates 45 and 46 cover substantially the entire back surface of the glass substrate 6 of the array substrate 3 and the back surface of the glass substrate 41 of the counter substrate 4.

次に、上記第１の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to the first embodiment will be described.

まず、成膜工程とパターニング工程とを繰り返してガラス基板６の表面上の表示領域７に走査線11および信号線12を格子状に形成するとともに、これら走査線11および信号線12にて囲まれた領域のそれぞれに薄膜トランジスタ15を形成して、図４に示すように、縦４８０ピクセル、横６４０×４ピクセルを有するアレイ下地９を形成する。   First, the film forming process and the patterning process are repeated to form the scanning lines 11 and the signal lines 12 in a lattice pattern in the display region 7 on the surface of the glass substrate 6 and are surrounded by the scanning lines 11 and the signal lines 12. A thin film transistor 15 is formed in each of the regions, and as shown in FIG. 4, an array base 9 having 480 vertical pixels and 640 × 4 horizontal pixels is formed.

この後、図５に示すように、このアレイ下地９上の全面に、緑色レジストＧをスピンナにて塗布し、この塗布した緑色レジストＧのうち、緑色の顔料を残して緑色フィルタ部23および外壁パターン34を形成したい部分に光を照射させる図示しないフォトマスクを介して、ガラス基板６上に、例えば３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量のレーザビームを照射してフォトリソグラフィする。 Thereafter, as shown in FIG. 5, a green resist G is applied to the entire surface of the array substrate 9 with a spinner, and the green filter portion 23 and the outer wall are left out of the applied green resist G, leaving a green pigment. The glass substrate 6 is irradiated with a laser beam with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm, for example, through a photomask (not shown) that irradiates light on a portion where the pattern 34 is to be formed.

次いで、このフォトリソグラフィしたガラス基板６を、例えば界面活性剤を含む水酸化カリウム（ＫＯＨ）の０．０５％水溶液を現像液として３０秒間現像してから、２３０℃の図示しないホットプレートで３分間焼成（ベーク）して硬化させて、このガラス基板６上に第１の着色層として、例えば３．０μｍの厚さ寸法を有する緑色フィルタ部23および外壁パターン34を形成する。   Next, the photolithography glass substrate 6 is developed for 30 seconds using, for example, a 0.05% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) containing a surfactant as a developing solution, and then for 3 minutes on a hot plate (not shown) at 230 ° C. The green filter part 23 and the outer wall pattern 34 having a thickness of, for example, 3.0 μm are formed on the glass substrate 6 as a first colored layer by baking (baking) and curing.

このとき、ガラス基板６のフォトリソグラフィでは、緑色の顔料を残して緑色フィルタ部23および外壁パターン34を形成したい部分の表面のみが硬化するに過ぎず、このガラス基板６の現像によって、このガラス基板６上に形成された緑色フィルタ部23および外壁パターン34の両側面に現像液が回り込むことから、図６に示すように、これら緑色フィルタ部23および外壁パターン34それぞれの両側面に、数μｍ幅の逆テーパ面33が形成される。また、このガラス基板６の焼成によって、このガラス基板６上の緑色フィルタ部23および外壁パターン34のそれぞれが一時的に溶けて、図７に示すように、これら緑色フィルタ部23および外壁パターン34それぞれの両側面が、上側から下側に向けて幅広になるように傾斜したテーパ面39となる。   At this time, in the photolithography of the glass substrate 6, only the surfaces of the portions where the green filter portion 23 and the outer wall pattern 34 are to be formed are cured while leaving the green pigment. 6, the developer wraps around both side surfaces of the green filter portion 23 and the outer wall pattern 34 formed on the upper surface 6. Therefore, as shown in FIG. The reverse taper surface 33 is formed. Further, by firing the glass substrate 6, the green filter portion 23 and the outer wall pattern 34 on the glass substrate 6 are temporarily melted, and as shown in FIG. Both side surfaces of the taper become a tapered surface 39 that is inclined so as to become wider from the upper side to the lower side.

また、このガラス基板６上の表示領域７を囲む外壁パターン34の枠状パターン31のうち、このガラス基板６の横方向の両側に位置する両側辺の外側に、このガラス基板６上に形成された補助容量線13の延長部13a上に平面視で重なるように、例えば２５μｍの幅寸法を有するとともに５０μｍの長さ寸法を有する突出片部32を一体的に形成させた。この結果、これら突出片部32を枠状パターン31に形成したことにより、上記現像の際に枠状パターン31に剥がれが発生しなくなった。   In addition, the frame pattern 31 of the outer wall pattern 34 surrounding the display area 7 on the glass substrate 6 is formed on the glass substrate 6 outside the both sides located on both sides of the glass substrate 6 in the lateral direction. For example, a protruding piece 32 having a width of 25 μm and a length of 50 μm is integrally formed on the extension 13 a of the auxiliary capacitance line 13 in a plan view. As a result, since the protruding piece portions 32 are formed in the frame-shaped pattern 31, the frame-shaped pattern 31 does not peel off during the development.

この後、緑色フィルタ部23を形成する場合と同様に、図８に示すように、青色レジストＢをガラス基板６上の全面に塗布してから、図９に示すように、このガラス基板６の表示領域７内の青色フィルタ部24を形成したい部分を現像してから焼成して、図１０に示すように、各緑色フィルタ部23の幅方向の一側に、第２の着色層として、例えば３．０μｍの厚さ寸法を有する青色フィルタ部24を形成する。   Thereafter, as in the case of forming the green filter portion 23, as shown in FIG. 8, the blue resist B is applied to the entire surface of the glass substrate 6, and then, as shown in FIG. A portion of the display area 7 where the blue filter portion 24 is to be formed is developed and baked, and as shown in FIG. 10, as a second colored layer on one side in the width direction of each green filter portion 23, for example, A blue filter portion 24 having a thickness dimension of 3.0 μm is formed.

さらに、青色フィルタ部24を形成する場合と同様に、図１１に示すように、赤色レジストＲをガラス基板６上の全面に塗布してから、図１２に示すように、このガラス基板６の表示領域７内の赤色フィルタ部25を形成したい部分を現像してから焼成して、各青色フィルタ部24と各緑色フィルタ部23との間のそれぞれに、第３の着色層として、例えば３．０μｍの厚さ寸法を有する赤色フィルタ部25を形成する。   Further, as in the case of forming the blue filter portion 24, the red resist R is applied to the entire surface of the glass substrate 6 as shown in FIG. 11, and then the display of the glass substrate 6 is displayed as shown in FIG. A portion of the region 7 where the red filter portion 25 is to be formed is developed and baked, and a third colored layer, for example, 3.0 μm, is formed between each blue filter portion 24 and each green filter portion 23. The red filter portion 25 having the thickness dimension of is formed.

この後、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25がそれぞれ形成されたガラス基板６を、例えば２２０℃の温度で６０分間ほど図示しないオーブンで加熱して焼成（ベーク）して、このガラス基板６上の各レジストＧ,Ｂ,Ｒを完全に硬化させてカラーフィルタ層22を形成する。   Thereafter, the glass substrate 6 on which the green filter portion 23, the blue filter portion 24, and the red filter portion 25 are respectively formed is heated (baked) by heating in an oven (not shown) for about 60 minutes at a temperature of 220 ° C., for example. Then, the resists G, B, and R on the glass substrate 6 are completely cured to form the color filter layer 22.

次いで、このガラス基板６上のカラーフィルタ層22の各緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25のそれぞれにコンタクトホール26を形成してから、これら各緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25上の全面に、例えば０．１５μｍの厚さほどＩＴＯ膜をスパッタ法にて成膜してから、このＩＴＯ膜を各表示画素８に対応させてフォトリソグラフィ法にてパターニングして、これら表示画素８上のそれぞれに画素電極21を形成する。   Next, contact holes 26 are formed in each of the green filter portion 23, the blue filter portion 24, and the red filter portion 25 of the color filter layer 22 on the glass substrate 6, and then the green filter portion 23, the blue filter portion, and the like. An ITO film having a thickness of, for example, 0.15 μm is formed on the entire surface of 24 and the red filter portion 25 by sputtering, and this ITO film is patterned by photolithography so as to correspond to each display pixel 8. Thus, the pixel electrode 21 is formed on each of the display pixels 8.

この後、ガラス基板６上に、黒色の顔料を分散させた感光性を有する樹脂材料をスピンナにて塗布し、このガラス基板６上に黒色の顔料を残して額縁パターン35および柱状スペーサ37を形成したい部分に光を照射させるフォトマスクを介して、このガラス基板６上に、例えば３６５ｎｍの波長で１００ｍＪ／ｃｍ２の露光量のレーザビームを照射してフォトリソグラフィする。 Thereafter, a photosensitive resin material in which a black pigment is dispersed is applied onto the glass substrate 6 with a spinner, and the frame pattern 35 and the columnar spacer 37 are formed on the glass substrate 6 while leaving the black pigment. The glass substrate 6 is irradiated with a laser beam with an exposure amount of 100 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm, for example, through a photomask that irradiates light on a desired portion, and photolithography is performed.

次いで、このフォトリソグラフィしたガラス基板６を、例えば界面活性剤を含む水酸化カリウム（ＫＯＨ）の０．０５％水溶液を現像液として６０秒間現像してから、２００℃で６０分間焼成させて、このガラス基板６上に額縁パターン35および柱状スペーサ37を形成する。   Next, the photolithographic glass substrate 6 is developed for 60 seconds using, for example, a 0.05% aqueous solution of potassium hydroxide (KOH) containing a surfactant as a developer, and then baked at 200 ° C. for 60 minutes. A frame pattern 35 and columnar spacers 37 are formed on the glass substrate 6.

さらに、このガラス基板６上の全面に、例えばＡＬ−１０５１（ＪＳＲ株式会社製）を配向膜材料として塗布してからラビング処理して配向膜38を形成してアレイ基板３とする。   Further, for example, AL-1051 (manufactured by JSR Corporation) is applied as an alignment film material on the entire surface of the glass substrate 6 and then rubbed to form an alignment film 38 to form the array substrate 3.

一方、対向基板４は、ガラス基板41の表面上に、例えば０．１５μｍの厚さほどＩＴＯ膜をスパッタ法にて成膜して対向電極42を形成してから、この対向電極42を形成したガラス基板41上の全面に、例えばＡＬ−１０５１（ＪＳＲ株式会社製）を配向膜材料として塗布してからラビング処理して配向膜43を形成する。   On the other hand, the counter substrate 4 is formed by forming an ITO electrode on the surface of the glass substrate 41 by a sputtering method to a thickness of 0.15 μm, for example, and then forming the counter electrode 42. For example, AL-1051 (manufactured by JSR Corporation) is applied as an alignment film material on the entire surface of the substrate 41 and then rubbed to form the alignment film 43.

この後、液晶組成物Ｌを注入する部分を除く対向基板４の配向膜43の周縁に沿ってシール材44となる接着剤を印刷する。   Thereafter, an adhesive serving as a sealing material 44 is printed along the peripheral edge of the alignment film 43 of the counter substrate 4 excluding the portion where the liquid crystal composition L is injected.

さらに、アレイ基板３から対向基板４の対向電極42に電圧を印加するための図示しない電極転移材を、対向基板４上の接着剤の周辺の対向電極42から突出した図示しない電極転移電極上に形成する。   Furthermore, an electrode transfer material (not shown) for applying a voltage from the array substrate 3 to the counter electrode 42 of the counter substrate 4 is placed on an electrode transfer electrode (not shown) protruding from the counter electrode 42 around the adhesive on the counter substrate 4. Form.

次いで、アレイ基板３の配向膜38と対向基板４の配向膜43とのラビング方向が９０゜となるように、これらアレイ基板３の配向膜38と対向基板４の配向膜43とを対向配置させてから、接着剤を加熱して硬化させてシール材44とし、これらアレイ基板３と対向基板４とをシール材44にて貼り合わせる。   Next, the alignment film 38 of the array substrate 3 and the alignment film 43 of the counter substrate 4 are arranged to face each other so that the rubbing direction between the alignment film 38 of the array substrate 3 and the alignment film 43 of the counter substrate 4 is 90 °. After that, the adhesive is heated and cured to form the sealing material 44, and the array substrate 3 and the counter substrate 4 are bonded together with the sealing material 44.

この後、これらアレイ基板３と対向基板４との間のシール材44にてシールされていない部分である液晶注入口から、例えば液晶材料に所定の液晶添加剤を添加したものを液晶組成物Ｌとして液晶封止領域Ｃに注入してから、このシール材44の液晶注入口を紫外線硬化樹脂にて封止して、これらアレイ基板３と対向基板４との間に液晶層５を形成して液晶表示パネル２とする。   Thereafter, for example, a liquid crystal composition obtained by adding a predetermined liquid crystal additive to a liquid crystal material from a liquid crystal injection port which is a portion not sealed by the sealing material 44 between the array substrate 3 and the counter substrate 4. After being injected into the liquid crystal sealing region C, the liquid crystal injection port of the sealing material 44 is sealed with an ultraviolet curable resin, and the liquid crystal layer 5 is formed between the array substrate 3 and the counter substrate 4. The liquid crystal display panel 2 is assumed.

さらに、図１３に示すように、この液晶表示パネル２の各ガラス基板６,41それぞれの裏面に偏光板45,46をそれぞれ貼り付けるとともに、この液晶表示パネル２のガラス基板６上に、この液晶表示パネル２を駆動させる図示しない駆動回路としてのドライバ回路を取り付けて、カラー表示可能なアクティブマトリクス型の液晶表示装置１とする。   Further, as shown in FIG. 13, polarizing plates 45 and 46 are respectively attached to the back surfaces of the glass substrates 6 and 41 of the liquid crystal display panel 2, and the liquid crystal is provided on the glass substrate 6 of the liquid crystal display panel 2. A driver circuit as a drive circuit (not shown) for driving the display panel 2 is attached to form an active matrix liquid crystal display device 1 capable of color display.

この後、この液晶表示装置１を点灯評価したところ、優れた表示品位を有していた。   Then, when this liquid crystal display device 1 was evaluated for lighting, it had excellent display quality.

次に、上記第１の実施の形態の液晶表示装置の作用について説明する。   Next, the operation of the liquid crystal display device of the first embodiment will be described.

ここで、液晶表示パネル２の表示領域７に周辺に形成されている枠状パターン31は、単一色の着色層、例えば緑色フィルタ部23と同じ緑色レジストＧの積層によって構成されている。そして、この枠状パターン31は、例えば略２０μｍ以上３０μｍ以下の幅寸法に形成されており、この枠状パターン31と表示領域７のカラーフィルタ層22の各フィルタ部との関係は、この枠状パターン31の辺によって異なる。   Here, the frame pattern 31 formed in the periphery of the display area 7 of the liquid crystal display panel 2 is configured by a single color layer, for example, a laminate of the same green resist G as the green filter portion 23. The frame pattern 31 is formed to have a width of about 20 μm to 30 μm, for example, and the relationship between the frame pattern 31 and each filter portion of the color filter layer 22 in the display area 7 is the frame shape. It depends on the side of the pattern 31.

すなわち、この枠状パターン31の辺のうち、液晶表示パネル２の上下に位置する上下辺に相当する上下辺部31aでは、表示領域７の各フィルタ部が交互に並んでいるので、枠状パターン31とカラーフィルタ層22とを緑色フィルタ部23が積層されている表示画素８毎、すなわち１画素ピッチ単位で接続できる。このため、この枠状パターン31の上下辺部31aが、この上下辺部31aより幅寸法が大きな太いパターンである緑色フィルタ部23にて支えられることによって、この上下辺部31aの剥がれが発生しにくい。   That is, among the sides of the frame-shaped pattern 31, the upper and lower sides 31a corresponding to the upper and lower sides positioned on the upper and lower sides of the liquid crystal display panel 2 have the filter portions of the display region 7 alternately arranged. 31 and the color filter layer 22 can be connected for each display pixel 8 on which the green filter portion 23 is laminated, that is, in units of one pixel pitch. For this reason, the upper and lower sides 31a of the frame-shaped pattern 31 are supported by the green filter portion 23, which is a thick pattern having a larger width dimension than the upper and lower sides 31a, so that the upper and lower sides 31a are peeled off. Hateful.

一方、この枠状パターン31のうち、液晶表示パネル２の左右に位置する左右辺に相当する左右辺部31bは、この左右辺部31bに隣接する表示画素８上に積層されているフィルタ部によって事情が相違する。すなわち、表示領域７の幅方向の最も一側寄りに位置する外側のフィルタ部の色と、枠状パターン31の色とが同一色である場合は、この枠状パターン31の右辺部31bを表示画素８上のフィルタ部とともに連続して一体的に太く形成できるので、この枠状パターン31の左右辺部31bの剥がれの問題が生じない。   On the other hand, the left and right side portions 31b corresponding to the left and right sides of the liquid crystal display panel 2 in the frame pattern 31 are formed by the filter units stacked on the display pixels 8 adjacent to the left and right side portions 31b. The situation is different. That is, when the color of the outer filter portion located closest to the one side in the width direction of the display area 7 and the color of the frame-shaped pattern 31 are the same color, the right side portion 31b of the frame-shaped pattern 31 is displayed. Since it can be continuously and integrally formed with the filter portion on the pixel 8, the problem of peeling off the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 does not occur.

これに対し、表示領域７の幅方向の最も一側寄りに位置する外側のフィルタ部の色と、枠状パターン31の色とが異なる色である場合は、この枠状パターン31の左右辺部31bを表示画素８上のフィルタ部と連続させて形成できないので、この枠状パターン31の左右辺部31bを細いパターンとして独立して形成しなければならないことから、この枠状パターン31の左右辺部31bが剥がれやすくなってしまう。   On the other hand, when the color of the outer filter portion located closest to the one side in the width direction of the display region 7 is different from the color of the frame-shaped pattern 31, the left and right side portions of the frame-shaped pattern 31 Since 31b cannot be formed continuously with the filter portion on the display pixel 8, the left and right sides 31b of the frame pattern 31 must be formed independently as thin patterns. The part 31b is easily peeled off.

例えば、図２５ないし図２７に示す第１の比較例のように、液晶表示パネル２の表示領域７の幅方向の左端部では、図２５に示すように、赤色フィルタ部25が積層されているが、この赤色フィルタ部25に隣接する枠状パターン31を、赤色フィルタ部25を構成する赤色レジストＲなどで形成できる場合には、この枠状パターン31の左辺部31bを赤色フィルタ部25と連続して形成できるので、この枠状パターン31の左辺部31bを独立して細く形成する必要がない。これに対し、この枠状パターン31を、赤色フィルタ部25以外の緑色フィルタ部23や青色フィルタ部24を構成する緑色レジストＧや青色レジストＢなどで形成した場合には、この枠状パターン31の左辺部31bをフィルタ部に連続させて形成できないので、この左辺部31bを独立させた細いパターンとして形成しなければならない。   For example, as in the first comparative example shown in FIGS. 25 to 27, the red filter portion 25 is stacked at the left end in the width direction of the display region 7 of the liquid crystal display panel 2 as shown in FIG. However, when the frame-shaped pattern 31 adjacent to the red filter portion 25 can be formed by the red resist R or the like constituting the red filter portion 25, the left side portion 31b of the frame-shaped pattern 31 is continuous with the red filter portion 25. Therefore, it is not necessary to form the left side portion 31b of the frame-shaped pattern 31 independently and thinly. On the other hand, when the frame-shaped pattern 31 is formed of a green resist G or a blue resist B constituting the green filter unit 23 or the blue filter unit 24 other than the red filter unit 25, the frame-shaped pattern 31 Since the left side portion 31b cannot be formed continuously with the filter portion, the left side portion 31b must be formed as an independent thin pattern.

さらに、この枠状パターン31は、フォトリソグラフィ時に緑色レジストＧの表面のみが硬化するため、この枠状パターン31の現像時に現像液が両側面に回りこむことから、この枠状パターン31の両側に数μｍ幅の逆テーパ面33が形成される。このため、この枠状パターン31が細い場合には、枠状パターン31の幅に相当する以上に剥がれやすい。また、液晶表示パネル２の表示領域７の幅方向の右端部では、図２６に示すように、青色フィルタ部24が積層されているが、この青色フィルタ部24と一体的に連続して枠状パターン31の右辺部31bを形成できればよいが、この枠状パターン31の右辺部31bを青色フィルタ部24と一体的に連続して形成できない場合には、この枠状パターン31の右辺部31bを独立して細いパターンとして形成しなければならないので、この枠状パターン31の右辺部31bが剥がれやすくなってしまう。   In addition, since only the surface of the green resist G is cured during photolithography, the frame-shaped pattern 31 has a developer that wraps around on both sides when the frame-shaped pattern 31 is developed. An inversely tapered surface 33 having a width of several μm is formed. For this reason, when the frame-shaped pattern 31 is thin, the frame-shaped pattern 31 is more easily peeled off than the width of the frame-shaped pattern 31. Further, as shown in FIG. 26, a blue filter portion 24 is laminated at the right end portion in the width direction of the display region 7 of the liquid crystal display panel 2, and the blue filter portion 24 is integrally and continuously formed in a frame shape. It is only necessary to form the right side 31b of the pattern 31, but when the right side 31b of the frame pattern 31 cannot be formed integrally with the blue filter part 24, the right side 31b of the frame pattern 31 is independent. Therefore, since it must be formed as a thin pattern, the right side portion 31b of the frame-shaped pattern 31 is easily peeled off.

このとき、この枠状パターン31を形成した場合には、この枠状パターン31の左右辺部31bのいたるところに剥がれが発生してしまう。そして、この剥がれが発生した枠状パターン31内のガラス基板６上に青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25を形成した場合には、この枠状パターン31に発生している剥がれを起点として塗布むらが発生してしまい、このガラス基板６を用いて液晶表示パネル２を作製した場合には、枠状パターン31の剥がれに起因する塗布むらの影響によって表示品位が低くなってしまう。   At this time, when the frame-shaped pattern 31 is formed, peeling occurs everywhere on the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31. When the blue filter portion 24 and the red filter portion 25 are formed on the glass substrate 6 in the frame-shaped pattern 31 where the peeling has occurred, the coating unevenness starts from the peeling that has occurred in the frame-shaped pattern 31. When the liquid crystal display panel 2 is manufactured using the glass substrate 6, the display quality is lowered due to the influence of coating unevenness due to the peeling of the frame pattern 31.

そこで、この枠状パターン31の左右辺部31bの剥がれが、この左右辺部31bの幅方向に沿った外力に対して生じると考えられることから、上述した第１の実施の形態のように、枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁に、これら左右辺部31bの外側縁から垂直に突出した帯状の複数の突出片部32を、これら左右辺部31bから一体的に連続させて突き出させた構成とした。この結果、これら突出片部32の長手方向が、枠状パターン31の左右辺部31bが剥がれる方向、すなわち幅方向に平行であることから、これら左右辺部31bが剥がれる方向に沿った外力を突出片部32で受け止めることができるので、この枠状パターン31の左右辺部31bの剥がれに対する耐久性を向上できる。   Therefore, since the peeling of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 is considered to occur with respect to the external force along the width direction of the left and right side portions 31b, as in the first embodiment described above, A plurality of strip-shaped projecting pieces 32 projecting perpendicularly from the outer edges of the left and right side portions 31b are integrally projected from the left and right side portions 31b to the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame pattern 31. It was set as the structure made to do. As a result, since the longitudinal direction of the protruding piece portions 32 is parallel to the direction in which the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 are peeled off, that is, in the width direction, external forces along the direction in which the left and right side portions 31b are peeled off are projected. Since it can be received by the piece portion 32, durability against peeling of the left and right side portions 31b of the frame pattern 31 can be improved.

すなわち、これら突出片部32によるガラス基板６との付着によって、枠状パターン31の左右辺部31bとガラス基板６との付着を保持できるから、このガラス基板６から枠状パターン31の左右辺部31bが剥がれにくくなる。したがって、この枠状パターン31をより細くすることができるので、この枠状パターン31を細くすることにより、この枠状パターン31の視認性を低下でき、この枠状パターン31の見栄えを向上できる。よって、液晶表示パネル２をより狭縁化できるとともに、この液晶表示パネル２の製造コストを削減できる。   That is, the adhesion between the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 and the glass substrate 6 can be maintained by the adhesion of the protruding piece portions 32 to the glass substrate 6, and therefore the left and right side portions of the frame-shaped pattern 31 from the glass substrate 6 31b is difficult to peel off. Therefore, since the frame-shaped pattern 31 can be made thinner, the visibility of the frame-shaped pattern 31 can be reduced and the appearance of the frame-shaped pattern 31 can be improved by making the frame-shaped pattern 31 thinner. Therefore, the liquid crystal display panel 2 can be further narrowed and the manufacturing cost of the liquid crystal display panel 2 can be reduced.

さらに、これら突出片部32を、遮光性を有する金属材料であって、ガラス基板６上に配線されている電極線のうち最も幅が広い補助容量線13上に重なる位置に設けたことにより、これら突出片部32への光の透過、すなわち光抜けを補助容量線13で抑えて防止しつつ、これら突出片部32の幅寸法を大きくできる。したがって、これら突出片部32による枠状パターン31の剥がれ防止効率を向上できつつ、これら突出片部32を、カラーフィルタ層22を構成する緑色フィルタ部23と同じ材料で形成したことによる、これら突出片部32を透過する光の着色を防止できるので、液晶表示パネル２の視認性の低下を防止できる。この結果、表示品位の高い液晶表示装置１を歩留まり良く製造できる。   Furthermore, these projecting piece portions 32 are made of a light-shielding metal material, and are provided at a position overlapping with the widest auxiliary capacitance line 13 among the electrode lines wired on the glass substrate 6, The width of the protruding piece portions 32 can be increased while preventing transmission of light to the protruding piece portions 32, that is, light leakage by suppressing the auxiliary capacitance line 13. Therefore, while the efficiency of preventing the peeling of the frame-shaped pattern 31 by the projecting piece portions 32 can be improved, the projecting piece portions 32 are formed of the same material as the green filter portion 23 constituting the color filter layer 22, and thus these projecting portions 32 are formed. Since the color of the light transmitted through the piece 32 can be prevented, the visibility of the liquid crystal display panel 2 can be prevented from being lowered. As a result, the liquid crystal display device 1 with high display quality can be manufactured with high yield.

なお、上記第１の実施の形態では、額縁パターン35をフォトリソグラフィにて形成したが、図１４ないし図２４に示す第２の実施の形態のように、この額縁パターン35をインクジェット法にて形成することもできる。この場合、この額縁パターン35の外側に、この額縁パターン35を囲むように外枠部としての枠状の受止パターン61が積層されて設けられている。すなわち、この額縁パターン35は、外壁パターン34と受止パターン61との間の間隙Ａに設けられている。   In the first embodiment, the frame pattern 35 is formed by photolithography. However, the frame pattern 35 is formed by the inkjet method as in the second embodiment shown in FIGS. You can also In this case, a frame-shaped receiving pattern 61 as an outer frame portion is laminated and provided outside the frame pattern 35 so as to surround the frame pattern 35. That is, the frame pattern 35 is provided in the gap A between the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61.

さらに、この受止パターン61は、ガラス基板６上に積層されて、このガラス基板６上に付着されている。すなわち、この受止パターン61は、ガラス基板６の表面より上方に向けて突出した状態で設けられており、カラーフィルタ層22および額縁パターン35それぞれの厚さ寸法より大きな厚さ寸法を有している。また、この受止パターン61は、額縁パターン35の幅方向の両側および縦方向の両端のそれぞれに連続して設けられており、この額縁パターン35の外周縁を周方向に亘って連続して囲んでいる。すなわち、この受止パターン61は、外壁パターン34の外側縁から額縁パターン35を形成するための所定の間隙Ａを介した位置に、この外壁パターン34を囲んで設けられている。   Further, the receiving pattern 61 is laminated on the glass substrate 6 and attached to the glass substrate 6. That is, the receiving pattern 61 is provided so as to protrude upward from the surface of the glass substrate 6, and has a thickness dimension larger than the thickness dimension of each of the color filter layer 22 and the frame pattern 35. Yes. The receiving pattern 61 is continuously provided on both sides in the width direction and both ends in the vertical direction of the frame pattern 35, and continuously surrounds the outer peripheral edge of the frame pattern 35 in the circumferential direction. It is out. That is, the receiving pattern 61 is provided so as to surround the outer wall pattern 34 at a position through a predetermined gap A for forming the frame pattern 35 from the outer edge of the outer wall pattern 34.

また、この受止パターン61は、アレイ下地９上に積層され緑色フィルタ部23を構成する緑色の感光性樹脂材にて構成された第１の層である下層としての第１受止層62と、この第１受止層62上に積層され青色フィルタ部24を構成する青色の感光性樹脂材にて構成された第２の層としての上層である第２受止層63とで構成された積層構造を有する積層体である。すなわち、この受止パターン61の第１受止層62は、緑色フィルタ部23と同じ材料および同一工程で同時に形成されている。さらに、この受止パターン61の第２受止層63は、青色フィルタ部24と同じ材料および同一工程で同時に形成されている。したがって、第１受止層62上に第２受止層63が積層されて構成された受止パターン61は、カラーフィルタ層22を構成する緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25それぞれの厚さ寸法の略２倍の厚さ寸法に形成されている。   The receiving pattern 61 includes a first receiving layer 62 as a lower layer, which is a first layer made of a green photosensitive resin material that is laminated on the array substrate 9 and constitutes the green filter portion 23. And a second receiving layer 63 which is an upper layer as a second layer made of a blue photosensitive resin material which is laminated on the first receiving layer 62 and constitutes the blue filter portion 24. A laminated body having a laminated structure. That is, the first receiving layer 62 of the receiving pattern 61 is formed simultaneously with the same material and the same process as the green filter portion 23. Further, the second receiving layer 63 of the receiving pattern 61 is formed at the same time using the same material and the same process as the blue filter portion 24. Therefore, the receiving pattern 61 formed by laminating the second receiving layer 63 on the first receiving layer 62 has the green filter portion 23, the blue filter portion 24, and the red filter portion 25 that constitute the color filter layer 22. The thickness is approximately twice as large as the thickness of each.

一方、外壁パターン34は、ガラス基板６上の各表示画素８それぞれの縦方向の上側縁および下側縁のそれぞれを囲う隔壁パターン65を備えている。この隔壁パターン65は、横方向に沿って連続している各表示画素８それぞれの上側縁および下側縁に連続して設けられており、これら表示画素８の横方向に亘って設けられている。さらに、この隔壁パターン65は、縦方向に連続している表示画素８の上端縁および下端縁のそれぞれも囲っている。   On the other hand, the outer wall pattern 34 includes a partition wall pattern 65 that surrounds the upper and lower edges in the vertical direction of each display pixel 8 on the glass substrate 6. The partition pattern 65 is provided continuously on the upper edge and the lower edge of each display pixel 8 that is continuous along the horizontal direction, and is provided across the horizontal direction of the display pixels 8. . Further, the partition pattern 65 also surrounds the upper edge and the lower edge of the display pixels 8 that are continuous in the vertical direction.

また、この隔壁パターン65は、緑色フィルタ部23を構成する緑色の感光性樹脂材にて構成されており、この緑色フィルタ部23と同じ材料および同一工程で同時に形成されている。したがって、この隔壁パターン65は、カラーフィルタ層22の厚さ寸法に等しい厚さ寸法に形成されており、このカラーフィルタ層22の各緑色フィルタ部23のそれぞれに対して連続して一体的に設けられている。また、この隔壁パターン65は、ガラス基板６の表面より上方に向けて突出した状態で形成されている。さらに、この隔壁パターン65には、各表示画素８に対応してコンタクトホール26が形成されている。   The partition pattern 65 is made of a green photosensitive resin material that constitutes the green filter portion 23, and is formed simultaneously with the same material and the same process as the green filter portion 23. Therefore, the partition pattern 65 is formed to have a thickness dimension equal to the thickness dimension of the color filter layer 22, and is provided continuously and integrally with each of the green filter portions 23 of the color filter layer 22. It has been. The partition pattern 65 is formed in a state of protruding upward from the surface of the glass substrate 6. Furthermore, contact holes 26 are formed in the partition pattern 65 corresponding to the display pixels 8.

そして、この隔壁パターン65およびカラーフィルタ層22を覆うように枠状パターン31が設けられている。すなわち、この枠状パターン31は、カラーフィルタ層22および隔壁パターン65が形成されている領域全体を周方向に亘って連続して囲んだ枠状に形成されている。さらに、この枠状パターン31は、この枠状パターン31の上下辺部31aの幅寸法と、この枠状パターン31の左右辺部31bとのそれぞれが、等しい幅寸法、例えば２０μｍ以上３０μｍ以下程度の幅寸法に形成されている。   A frame pattern 31 is provided so as to cover the partition pattern 65 and the color filter layer 22. That is, the frame pattern 31 is formed in a frame shape that continuously surrounds the entire region where the color filter layer 22 and the partition pattern 65 are formed in the circumferential direction. Furthermore, the frame-shaped pattern 31 has an equal width dimension, for example, about 20 μm or more and 30 μm or less, for each of the width dimension of the upper and lower sides 31a of the frame-shaped pattern 31 and the left and right sides 31b of the frame-shaped pattern 31 It is formed in the width dimension.

また、この枠状パターン31および突出片部32は、アレイ下地９上に積層され緑色フィルタ部23を構成する緑色の感光性樹脂材にて構成された第１の層としての下層である第１枠層66と、この第１枠層66上に積層され青色フィルタ部24を構成する青色の感光性樹脂材にて構成された第２の層としての上層である第２枠層67とで構成された積層構造を有する積層体である。したがって、これら枠状パターン31および突出片部32は、緑色フィルタ部23の厚さ寸法と青色フィルタ部24の厚さ寸法とを加えた厚さ寸法を有している。   The frame-shaped pattern 31 and the projecting piece 32 are a lower layer as a first layer made of a green photosensitive resin material that is stacked on the array base 9 and constitutes the green filter portion 23. Consists of a frame layer 66 and a second frame layer 67 that is an upper layer as a second layer made of a blue photosensitive resin material that is laminated on the first frame layer 66 and constitutes the blue filter portion 24. It is the laminated body which has the laminated structure made. Therefore, the frame-shaped pattern 31 and the protruding piece 32 have a thickness dimension obtained by adding the thickness dimension of the green filter part 23 and the thickness dimension of the blue filter part 24.

さらに、柱状スペーサ37は、画素電極21を構成する透明電極としてのＩＴＯ膜にて構成されている。すなわち、この柱状スペーサ37は、画素電極21と同じ材料および同一工程で同時に形成されている。   Further, the columnar spacer 37 is composed of an ITO film as a transparent electrode constituting the pixel electrode 21. That is, the columnar spacers 37 are formed simultaneously with the same material and the same process as the pixel electrode 21.

次に、上記第２の実施の形態の液晶表示装置の製造方法を説明する。   Next, a method for manufacturing the liquid crystal display device according to the second embodiment will be described.

まず、上記第１の実施の形態と同様に、ガラス基板６上にアレイ下地９を形成してから、このアレイ下地９上の全面に、緑色レジストＧをスピンナにて塗布してからフォトリソグラフィする。   First, as in the first embodiment, an array base 9 is formed on the glass substrate 6, and then a green resist G is applied to the entire surface of the array base 9 with a spinner, followed by photolithography. .

この後、このフォトリソグラフィしたガラス基板６を現像して、図１７に示す状態にしてから焼成して硬化させて、図１８に示すように、ガラス基板６上に緑色フィルタ部23と、隔壁パターン65と、外壁パターン34の第１枠層66と、受止パターン61の第１受止層62とのそれぞれを形成する。   Thereafter, the photolithographic glass substrate 6 is developed, brought into the state shown in FIG. 17, fired and cured, and as shown in FIG. 18, the green filter portion 23 and the partition pattern are formed on the glass substrate 6. 65, the first frame layer 66 of the outer wall pattern 34, and the first receiving layer 62 of the receiving pattern 61 are formed.

次いで、この緑色フィルタ部23を形成する場合と同様に、図１９に示すように、青色レジストＢをガラス基板６上の全面に塗布してからフォトリソグラフィしてから焼成して硬化させて、青色フィルタ部24と、外壁パターン34の第２枠層67と、受止パターン61の第２受止層63とのそれぞれを形成する。   Next, as in the case of forming the green filter portion 23, as shown in FIG. 19, a blue resist B is applied to the entire surface of the glass substrate 6, and then photolithography is performed and then baked and cured to obtain a blue color. The filter portion 24, the second frame layer 67 of the outer wall pattern 34, and the second receiving layer 63 of the receiving pattern 61 are formed.

このとき、ガラス基板６のフォトリソグラフィによって、図２０に示すように、これら青色フィルタ部24、第２枠層67および第２受止層63それぞれの両側面に、数μｍ幅の逆テーパ面33が形成される。さらに、このガラス基板６の焼成によって、図２１に示すように、このガラス基板６上の青色フィルタ部24、第２枠層67および第２受止層63それぞれが一時的に溶けて、これら青色フィルタ部24、第２枠層67および第２受止層63それぞれの両側面がテーパ面39となる。   At this time, by photolithography of the glass substrate 6, as shown in FIG. 20, reverse tapered surfaces 33 having a width of several μm are formed on both side surfaces of the blue filter portion 24, the second frame layer 67 and the second receiving layer 63. Is formed. Further, as shown in FIG. 21, by firing the glass substrate 6, the blue filter portion 24, the second frame layer 67 and the second receiving layer 63 on the glass substrate 6 are temporarily melted, and these blue Both side surfaces of the filter portion 24, the second frame layer 67, and the second receiving layer 63 are tapered surfaces 39.

さらに、この青色フィルタ部24を形成する場合と同様に、図２２に示すように、赤色レジストＲをガラス基板６上の全面に塗布してからフォトリソグラフィした後に焼成して硬化させて、図２３に示すように、赤色フィルタ部25を形成する。   Further, as in the case of forming the blue filter portion 24, as shown in FIG. 22, the red resist R is applied to the entire surface of the glass substrate 6, and then photolithography is performed and then baked and cured to obtain FIG. As shown in FIG. 4, the red filter portion 25 is formed.

この後、このガラス基板６を焼成して、このガラス基板６上にカラーフィルタ層22を形成してから、このカラーフィルタ層22の隔壁パターン65にコンタクトホール26を形成した後に、このカラーフィルタ層22上の全面にＩＴＯ膜をスパッタ法にて成膜してからフォトリソグラフィ法にてパターニングして、各表示画素８上のそれぞれに画素電極21を形成する。   Thereafter, the glass substrate 6 is baked to form the color filter layer 22 on the glass substrate 6, and then the contact hole 26 is formed in the partition wall pattern 65 of the color filter layer 22. An ITO film is formed on the entire surface of the substrate 22 by sputtering and then patterned by photolithography to form pixel electrodes 21 on the respective display pixels 8.

さらに、この画素電極21が形成されたカラーフィルタ層22上の全面に、感光性を有する透明樹脂材料を、スピンナを用いて、例えば５．５μｍの厚さ寸法ほど塗布してから、９０℃で１０分間乾燥させた後に、所定のフォトマスクを介して、例えば３６５ｎｍの波長で５００ｍＪ／ｃｍ２の露光量のレーザビームを照射してフォトリソグラフィする。 Further, a transparent resin material having photosensitivity is applied to the entire surface of the color filter layer 22 on which the pixel electrode 21 is formed using a spinner, for example, to a thickness of 5.5 μm, and then at 90 ° C. After drying for 10 minutes, photolithography is performed by irradiating a laser beam with an exposure amount of, for example, 500 mJ / cm 2 at a wavelength of 365 nm through a predetermined photomask.

この後、このフォトリソグラフィしたガラス基板６を、例えば水酸化カリウムの０．０５％水溶液を現像液として３０秒間現像してから、例えば２００℃で６０分間焼成して硬化させて、このガラス基板６上の所定位置に柱状スペーサ37を形成する。   Thereafter, the photolithography glass substrate 6 is developed for 30 seconds using, for example, a 0.05% aqueous solution of potassium hydroxide as a developer, and then baked and cured at 200 ° C. for 60 minutes, for example. Columnar spacers 37 are formed at predetermined positions above.

次いで、図２４に示すように、溶剤中に黒色顔料を分散させ、モノマ等の樹脂成分を含んだ液状の遮光材である黒色インクＤを、ガラス基板６上の受止パターン61と外壁パターン34とで囲まれた領域である間隙Ａ内に、インクジェット法にてガラス基板６上から滴下させて、これら受止パターン61と外壁パターン34との間の間隙Ａに黒色インクＤを隙間無く充填させて塗布する。   Next, as shown in FIG. 24, black pigment D is dispersed in a solvent, and black ink D, which is a liquid light-shielding material containing a resin component such as a monomer, is applied to receiving pattern 61 and outer wall pattern 34 on glass substrate 6. Is dropped from above the glass substrate 6 by the ink jet method, and the black ink D is filled in the gap A between the receiving pattern 61 and the outer wall pattern 34 without any gap. Apply.

この後、このガラス基板６を大気圧より気圧が低い減圧雰囲気下に設置させて、このガラス基板６上の間隙Ａに隙間無く塗布した黒色インクＤ中の溶剤を除去してから、例えば２００℃で３０分間ほど焼成して硬化させて、このガラス基板６上の受止パターン61と外壁パターン34との間の間隙Ａに額縁パターン35を形成する。   Thereafter, the glass substrate 6 is placed in a reduced-pressure atmosphere lower than the atmospheric pressure, and the solvent in the black ink D applied without gaps in the gap A on the glass substrate 6 is removed. The frame pattern 35 is formed in the gap A between the receiving pattern 61 and the outer wall pattern 34 on the glass substrate 6 by baking for about 30 minutes.

次いで、上記第１の実施の形態と同様にして、液晶表示装置１を作製した。   Next, a liquid crystal display device 1 was produced in the same manner as in the first embodiment.

この後、この液晶表示装置１を点灯評価したところ、優れた表示品位を有していた。   Then, when this liquid crystal display device 1 was evaluated for lighting, it had excellent display quality.

ここで、図２８および図２９に示す第２の比較例のように、外壁パターン34の枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁に突出片部32を設けない場合には、この枠状パターン31の第２枠層67のいたるところに剥がれが発生して剥がれ部が形成されてしまう。また、黒色インクＤをインクジェット法で塗布して額縁パターン35を形成しようとする際には、枠状パターン31に形成された剥がれ部から、黒色インクＤが表示領域７内に流れ込んでしまう。したがって、この黒色インクＤが表示領域７内に流れ込んだガラス基板６を用いて液晶表示パネル２を作製した場合には、枠状パターン31の第２枠層67の剥がれに起因した塗布むらや、この第２枠層67の剥がれ部への黒色インクＤの流れ込みの影響によって表示品位が低くなってしまう。   Here, as in the case of the second comparative example shown in FIGS. 28 and 29, when the protruding piece 32 is not provided on the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 of the outer wall pattern 34, this frame shape Peeling occurs everywhere in the second frame layer 67 of the pattern 31, and a peeling portion is formed. Further, when the black ink D is applied by the ink jet method to form the frame pattern 35, the black ink D flows into the display area 7 from the peeled portion formed in the frame pattern 31. Therefore, when the liquid crystal display panel 2 is manufactured using the glass substrate 6 into which the black ink D has flowed into the display region 7, uneven coating due to peeling of the second frame layer 67 of the frame-shaped pattern 31, The display quality is lowered by the influence of the black ink D flowing into the peeled portion of the second frame layer 67.

そこで、上述した第２の実施の形態のように、外壁パターン34の枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁に突出片部32を一体的に設けたことにより、これら突出片部32とガラス基板６との間の付着によって、枠状パターン31のガラス基板６からの剥がれが防止されるので、上記第１の実施の形態と同様の作用効果を奏することができる。   Therefore, as in the second embodiment described above, the protruding piece portions 32 are integrally provided on the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 of the outer wall pattern 34. Since the frame-shaped pattern 31 is prevented from peeling off from the glass substrate 6 due to adhesion to the glass substrate 6, the same effects as those of the first embodiment can be achieved.

さらに、この外壁パターン34を、カラーフィルタ層22の緑色フィルタ部23と同一材料および同一工程で形成された第１枠層66と、青色フィルタ部24と同一材料および同一工程で形成された第２枠層67とを重ね合わせた積層構造として、この外壁パターン34の高さを大きくするとともに、この外壁パターン34の外側に間隙Ａを介して受止パターン61を形成し、この受止パターン61も、カラーフィルタ層22の緑色フィルタ部23と同一材料および同一工程で形成された第１受止層62と、青色フィルタ部24と同一材料および同一工程で形成された第２受止層63との積層構造とした。   Further, the outer wall pattern 34 is formed of the same material and the same process as the green filter part 23 of the color filter layer 22 and the second frame formed of the same material and the same process as the blue filter part 24. As a laminated structure in which the frame layer 67 is overlaid, the height of the outer wall pattern 34 is increased, and a receiving pattern 61 is formed outside the outer wall pattern 34 via a gap A. The first receiving layer 62 formed in the same material and the same process as the green filter portion 23 of the color filter layer 22, and the second receiving layer 63 formed in the same material and the same process as the blue filter portion 24. A laminated structure was adopted.

この結果、これら外壁パターン34および受止パターン61のそれぞれに高さが生じ、これら外壁パターン34および受止パターン61のそれぞれがガラス基板６上から上方に突出した状態となる。したがって、これら外壁パターン34と受止パターン61との間に断面凹溝状の凹部Ｈが形成されるので、この凹部Ｈ内の間隙Ａに、黒色インクＤを滴下して隙間なく塗布することによって、この凹部Ｈの両側を囲う外壁パターン34および受止パターン61が土手として機能することから、これら外壁パターン34と受止パターン61との間の間隙Ａに塗布された黒色インクＤが、これら外壁パターン34と受止パターン61との間の凹部Ｈにて堰き止められて、この凹部Ｈより外側に流れ出すことが防止されるので、この凹部Ｈ内の黒色インクＤを硬化させることによって、この凹部Ｈ内の間隙Ａに額縁パターン35を形成できる。   As a result, each of the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61 has a height, and each of the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61 protrudes upward from the glass substrate 6. Accordingly, since the concave portion H having a concave groove shape is formed between the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61, the black ink D is dropped into the gap A in the concave portion H and applied without any gap. Since the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61 surrounding both sides of the recess H function as a bank, the black ink D applied to the gap A between the outer wall pattern 34 and the receiving pattern 61 is used as the outer wall. Since it is blocked by the concave portion H between the pattern 34 and the receiving pattern 61 and is prevented from flowing outside the concave portion H, the concave portion H is cured by hardening the black ink D. A frame pattern 35 can be formed in the gap A in H.

したがって、この額縁パターン35をインクジェット法にて形成することが可能となるので、この額縁パターン35の材料として感光性を有する材料などを用いる必要が無くなる。よって、突出片部32にて外壁パターン34の剥がれを防止しつつ、額縁パターン35の形成を容易にできるので、この額縁パターン35の製造性を向上できるとともに、この額縁パターン35の製造コストを削減できるから、液晶表示パネル２の製造性を向上できつつ製造コストを削減できる。   Accordingly, since the frame pattern 35 can be formed by an ink jet method, it is not necessary to use a photosensitive material or the like as the material of the frame pattern 35. Therefore, the frame pattern 35 can be easily formed while preventing the outer wall pattern 34 from being peeled off at the protruding piece 32, so that the productivity of the frame pattern 35 can be improved and the manufacturing cost of the frame pattern 35 can be reduced. Therefore, the manufacturing cost can be reduced while improving the manufacturability of the liquid crystal display panel 2.

なお、上記各実施の形態では、カラーフィルタ層22を囲む外壁パターン34の枠状パターン31の左右辺部31bの外側縁に突出片部32を設けたが、この枠状パターン31の上下辺部31aや、受止パターン61の両側縁、額縁パターン35の外側縁など、細くして剥がれを防止する必要のあるパターンに突出片部32を設けて、これらパターンを細くしつつ剥がれを防止させることもできる。   In each of the above embodiments, the protruding piece portions 32 are provided on the outer edges of the left and right side portions 31b of the frame-shaped pattern 31 of the outer wall pattern 34 surrounding the color filter layer 22, but the upper and lower side portions of the frame-shaped pattern 31 are provided. Protruding pieces 32 are provided in patterns that need to be prevented by thinning, such as 31a, both side edges of the receiving pattern 61, and the outer edge of the frame pattern 35, and these patterns are thinned to prevent peeling. You can also.

さらに、アレイ基板３上に配線されている配線のうちで横方向に沿って配線され幅寸法が大きな補助容量線13に重なる位置に突出片部32を形成したが、このアレイ基板３上に配線されている信号線12などのその他の配線や、遮光性を有する膜などに重なる位置に突出片部32を形成することもできる。この場合、ポリシリコンにて構成された活性層18を有する薄膜トランジスタ15をアレイ基板３上に形成した場合には、このアレイ基板３上の補助容量線13や信号線12などに重なる位置に突出片部32を設けると良いが、この薄膜トランジスタ15の活性層18を非結晶シリコンであるアモルファシリコン（ａ−Ｓｉ）にて構成した場合には、アレイ基板３上の走査線11に重なる位置に突出片部32を設けると良い。   Further, among the wirings arranged on the array substrate 3, the protruding piece 32 is formed at a position overlapping with the auxiliary capacitance line 13 which is arranged along the horizontal direction and has a large width dimension. It is also possible to form the protruding piece 32 at a position overlapping with other wiring such as the signal line 12 or a light-shielding film. In this case, when the thin film transistor 15 having the active layer 18 made of polysilicon is formed on the array substrate 3, a protruding piece is formed at a position overlapping the auxiliary capacitance line 13 and the signal line 12 on the array substrate 3. The portion 32 is preferably provided. However, when the active layer 18 of the thin film transistor 15 is formed of amorphous silicon (a-Si) which is amorphous silicon, the protruding piece is formed at a position overlapping the scanning line 11 on the array substrate 3. A portion 32 may be provided.

また、外壁パターン34の第１枠層66、受止パターン61の第１受止層62および隔壁パターン65を緑色フィルタ部23と同一材料および同一工程にて形成し、外壁パターン34の第２枠層67および受止パターン61の第２受止層63を青色フィルタ部24と同一材料および同一工程にて形成したが、これら外壁パターン34、受止パターン61および隔壁パターン65のそれぞれを、その他の緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24あるいは赤色フィルタ部25や、他の材料で形成することもできる。   Further, the first frame layer 66 of the outer wall pattern 34, the first receiving layer 62 of the receiving pattern 61 and the partition pattern 65 are formed by the same material and the same process as the green filter portion 23, and the second frame of the outer wall pattern 34 is formed. The second receiving layer 63 of the layer 67 and the receiving pattern 61 is formed by the same material and the same process as the blue filter portion 24. However, each of the outer wall pattern 34, the receiving pattern 61, and the partition pattern 65 is replaced with other The green filter portion 23, the blue filter portion 24, the red filter portion 25, or other materials can be used.

さらに、液晶表示パネル２のカラーフィルタ層22として、光の三原色に対応した緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25を幅方向に交互に配置させたが、これら緑色フィルタ部23、青色フィルタ部24および赤色フィルタ部25に用いられている以外の色、例えばイエロー、マゼンダおよびシアンなどの光の三原色に対応したフィルタ部や、これらフィルタ部として白色や透明なフィルタ部を組み合わせて明るさを向上させたりすることもできる。   Further, as the color filter layer 22 of the liquid crystal display panel 2, a green filter portion 23, a blue filter portion 24, and a red filter portion 25 corresponding to the three primary colors of light are alternately arranged in the width direction. Brightness is achieved by combining filter parts corresponding to the three primary colors of light, such as yellow, magenta and cyan, other than those used in the blue filter part 24 and the red filter part 25, and white and transparent filter parts as these filter parts. You can also improve.

また、ＣＯＡ方式の液晶表示パネル２について説明したが、その他の方式を用いた液晶表示パネル２であっても対応させて用いることができる。さらに、薄膜トランジスタ15をスイッチング素子とした液晶表示パネル２について説明したが、その他のスイッチング素子を用いた液晶表示パネル２などであっても対応させて用いることができる。また、液晶表示パネル２以外の、例えばエレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示パネルなどのカラーフィルタ層22が必要な平面表示装置やその他の種々のパネル基板についても、対応させて用いることができる。   Further, the COA type liquid crystal display panel 2 has been described, but the liquid crystal display panel 2 using other methods can be used correspondingly. Furthermore, although the liquid crystal display panel 2 using the thin film transistor 15 as a switching element has been described, the liquid crystal display panel 2 using other switching elements can be used correspondingly. Further, other than the liquid crystal display panel 2, a flat display device such as an electroluminescence (EL) display panel that requires the color filter layer 22 and other various panel substrates can be used correspondingly.

本発明の液晶表示装置の第１の実施の形態の一部を示す説明平面図である。FIG. 3 is an explanatory plan view showing a part of the first embodiment of the liquid crystal display device of the present invention. 同上液晶表示装置の枠状部および突出部を形成した状態を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows the state which formed the frame-shaped part and protrusion part of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置のフィルタ部を形成した状態を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows the state in which the filter part of the liquid crystal display device same as the above was formed. 同上液晶表示装置のアレイ下地を形成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state in which the array base | substrate of the liquid crystal display device same as the above was formed. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に緑色レジストを塗布した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which apply | coated the green resist on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の緑色レジストを現像した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which developed the green resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の緑色レジストを焼成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which baked the green resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に青色レジストを塗布した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which apply | coated blue resist on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の青色レジストを現像した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which developed the blue resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の青色レジストを焼成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which baked the blue resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に赤色レジストを塗布した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which apply | coated the red resist on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の赤色レジストを現像してから焼成した状態を示す図１中のａ−ａ断面図である。FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line aa in FIG. 1 showing a state in which the red resist of the liquid crystal display device is developed and baked. 同上液晶表示装置の一部を示す断面図である。It is sectional drawing which shows a part of liquid crystal display device same as the above. 本発明の液晶表示装置の第２の実施の形態の一部を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows a part of 2nd Embodiment of the liquid crystal display device of this invention. 同上液晶表示装置の第１色部を形成した状態を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows the state which formed the 1st color part of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の枠状部、突出部およびフィルタ部を形成した状態を示す説明平面図である。It is explanatory drawing which shows the state which formed the frame-shaped part of the liquid crystal display device same as the above, the protrusion part, and the filter part. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に形成した緑色レジストを現像した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which developed the green resist formed on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の緑色レジストを焼成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which baked the green resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に青色レジストを塗布した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which apply | coated blue resist on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の青色レジストを現像した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which developed the blue resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の青色レジストを焼成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which baked the blue resist of the liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置のアレイ下地上に赤色レジストを塗布した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state which apply | coated the red resist on the array base | substrate of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の赤色レジストを現像してから焼成した状態を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows the state baked after developing the red resist of a liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の枠状部と外枠部との間に額縁部を形成した状態を示す図１４中のｂ−ｂ断面図である。It is bb sectional drawing in FIG. 14 which shows the state which formed the frame part between the frame-shaped part and outer frame part of a liquid crystal display device same as the above. 第１の比較例の液晶表示装置の一部を示す説明平面図である。It is an explanatory plan view showing a part of the liquid crystal display device of the first comparative example. 同上液晶表示装置の一部を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows a part of liquid crystal display device same as the above. 同上液晶表示装置の一部を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows a part of liquid crystal display device same as the above. 第２の比較例の液晶表示装置の一部を示す説明平面図である。It is an explanatory top view which shows a part of liquid crystal display device of the 2nd comparative example. 同上液晶表示装置の一部を示す説明断面図である。It is explanatory sectional drawing which shows a part of liquid crystal display device same as the above.

符号の説明Explanation of symbols

３ フィルタ基板としてのアレイ基板
６ 基板としてのガラス基板
13 遮光部としての補助容量線
22 フィルタ部としてのカラーフィルタ層
23 第１色部としての緑色フィルタ部
24 第２色部としての青色フィルタ部
31 枠状部としての枠状パターン
32 突出部としての突出片部
35 額縁部としての額縁パターン
61 外枠部としての受止パターン
66 第１の層としての第１枠層
67 第２の層としての第２枠層 3 Array substrate as filter substrate 6 Glass substrate as substrate
13 Auxiliary capacitance line as light shielding part
22 Color filter layer as filter section
23 Green filter section as the first color section
24 Blue filter section as second color section
31 Frame pattern as frame
32 Projection piece as projection
35 Frame pattern as a frame
61 Receiving pattern as outer frame
66 First frame layer as first layer
67 Second frame layer as second layer

Claims (4)

基板と、
この基板上に設けられ異なる色の複数のフィルタ部と、
これら複数のフィルタ部の少なくともいずれかを囲んで前記基板上に付着された枠状部と、
前記基板上に付着され前記枠状部より外側にこの枠状部から一体的に形成されて突出した突出部と、を具備した
ことを特徴としたフィルタ基板。 A substrate,
A plurality of filter portions of different colors provided on the substrate;
A frame-shaped portion attached on the substrate surrounding at least one of the plurality of filter portions;
A filter substrate, comprising: a protrusion attached to the substrate and integrally formed from the frame-shaped portion and protruding outside the frame-shaped portion. 前記フィルタ部は、異なる色の第１色部および第２色部を備え、
前記突出部は、前記第１色部と同じ材料で構成された第１の層と、この第１の層上に積層され前記第２色部と同じ材料で構成された第２の層とを備えている
ことを特徴とした請求項１記載のフィルタ基板 The filter unit includes a first color unit and a second color unit of different colors,
The protrusion includes a first layer made of the same material as the first color part, and a second layer made of the same material as the second color part stacked on the first layer. The filter substrate according to claim 1, further comprising: 前記基板の一主面に設けられた遮光部を具備し、
前記突出部は、前記遮光部に重ねて設けられている
ことを特徴とした請求項１または２いずれか一記載のフィルタ基板。 Comprising a light-shielding portion provided on one main surface of the substrate;
The filter substrate according to claim 1, wherein the protruding portion is provided so as to overlap the light shielding portion. 基板と、
この基板上に設けられ異なる色の複数のフィルタ部と、
これら複数のフィルタ部の少なくともいずれかを囲んで前記基板上に付着して形成された枠状部と、
前記基板上に付着され前記枠状部より外側にこの枠状部から一体的に形成されて突出した突出部と、
前記枠状部を囲んで前記基板上に設けられ遮光性を有する額縁部と、
この額縁部を囲んで前記基板上に形成された外枠部と、を具備したフィルタ基板の製造方法であって、
前記枠状部と前記外枠部との間に液状の遮光材を滴下して前記額縁部を形成する
ことを特徴としたフィルタ基板の製造方法。 A substrate,
A plurality of filter portions of different colors provided on the substrate;
A frame-like portion formed on and adhering to the substrate surrounding at least one of the plurality of filter portions;
A protruding portion that is attached to the substrate and that is integrally formed and protruded from the frame-shaped portion outside the frame-shaped portion;
A frame portion provided on the substrate surrounding the frame-like portion and having a light shielding property;
An outer frame portion formed on the substrate surrounding the frame portion, and a method for manufacturing a filter substrate,
A method of manufacturing a filter substrate, comprising forming a frame portion by dropping a liquid light-shielding material between the frame-shaped portion and the outer frame portion.
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