JP2007308377A - 日焼け止め化粧料 - Google Patents
日焼け止め化粧料 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007308377A JP2007308377A JP2006136124A JP2006136124A JP2007308377A JP 2007308377 A JP2007308377 A JP 2007308377A JP 2006136124 A JP2006136124 A JP 2006136124A JP 2006136124 A JP2006136124 A JP 2006136124A JP 2007308377 A JP2007308377 A JP 2007308377A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- butyl
- methoxydibenzoylmethane
- tert
- acid
- powder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E40/00—Technologies for an efficient electrical power generation, transmission or distribution
- Y02E40/40—Arrangements for reducing harmonics
Landscapes
- Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
- Glanulating (AREA)
- Cosmetics (AREA)
Abstract
【課題】４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの衣服への染着性を改善した日焼け止め化粧料を提供すること。
【解決手段】４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま配合することにより衣服への染着性を改善したことを特徴とする日焼け止め化粧料である。
【選択図】なし
【解決手段】４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま配合することにより衣服への染着性を改善したことを特徴とする日焼け止め化粧料である。
【選択図】なし
Description
本発明は日焼け止め化粧料に関するものである。さらに詳しくは、衣服への２次付着による染着性を改善した日焼け止め化粧料に関する。
日焼け止め化粧料に配合される紫外線吸収剤を、その吸収領域から分類すると、ＵＶ−Ａ領域（３２０〜４００ｎｍ）とＵＶ−Ｂ領域（２９０〜３２０ｎｍ）の紫外線吸収剤が存在する。また、今日までに使用されて来た紫外線吸収剤を、その構造面から分類すると、例えば、（１）安息香酸誘導体、（２）ケイ皮酸誘導体、（３）ベンゾフェノン誘導体、（４）ジベンゾイルメタン誘導体、（５）サリチル酸誘導体等が存在する。
特に近年使用される紫外線吸収剤は、特許文献１〜３の日焼け止め化粧料に例示されているように多種多様である。以下に具体的な紫外線吸収剤を例示する。
(1)安息香酸系紫外線吸収剤
例えば、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略す)、PABAモノグリセリンエステル、N,N-ジプロポキシPABAエチルエステル、N,N-ジエトキシPABAエチルエステル、N,N-ジメチルPABAエチルエステル、N,N-ジメチルPABAブチルエステル、N,N-ジメチルPABAエチルエステルなど。
(2)アントラニル酸系紫外線吸収剤
例えば、ホモメンチル-N- アセチルアントラニレートなど。
(3)サリチル酸系紫外線吸収剤
例えば、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p-イソプロパノールフェニルサリシレートなど。
(4)ケイ皮酸系紫外線吸収剤
例えば、オクチルシンナメート、エチル-4-イソプロピルシンナメート、メチル-2,5-ジイソプロピルシンナメート、エチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、メチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、プロピル-p-メトキシシンナメート、イソプロピル-p-メトキシシンナメート、イソアミル-p-メトキシシンナメート、オクチル-p-メトキシシンナメート(2-エチルヘキシル-p-メトキシシンナメート) 、2-エトキシエチル-p-メトキシシンナメート、シクロヘキシル-p-メトキシシンナメート、エチル-α-シアノ-β-フェニルシンナメート、2-エチルヘキシル-α-シアノ-β-フェニルシンナメート、グリセリルモノ-2-エチルヘキサノイル-ジパラメトキシシンナメートなど。
(5)トリアジン系紫外線吸収剤
例えば、ビスレゾルシニルトリアジン。
さらに具体的には、ビス{〔４−(２−エチルヘキシロキシ)−２−ヒドロキシ〕フェニル}−６−（４−メトキシフェニル）１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス｛４−（２−エチルヘキシロキシカルボニル）アニリノ｝１，３，５−トリアジンなど。
(6)その他の紫外線吸収剤
例えば、3-(4'-メチルベンジリデン)-d,l-カンファー、3-ベンジリデン-d,l-カンファー、2-フェニル-5-メチルベンゾキサゾール、2,2'-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニルベンゾトリアゾール、ジアニソイルメタン、4-メトキシ-4'-t-ブチルジベンゾイルメタン、5-(3,3-ジメチル-2-ノルボルニリデン)-3-ペンタン-2-オン。ジモルホリノピリダジノンなどのピリダジン誘導体。
(1)安息香酸系紫外線吸収剤
例えば、パラアミノ安息香酸(以下、PABAと略す)、PABAモノグリセリンエステル、N,N-ジプロポキシPABAエチルエステル、N,N-ジエトキシPABAエチルエステル、N,N-ジメチルPABAエチルエステル、N,N-ジメチルPABAブチルエステル、N,N-ジメチルPABAエチルエステルなど。
(2)アントラニル酸系紫外線吸収剤
例えば、ホモメンチル-N- アセチルアントラニレートなど。
(3)サリチル酸系紫外線吸収剤
例えば、アミルサリシレート、メンチルサリシレート、ホモメンチルサリシレート、オクチルサリシレート、フェニルサリシレート、ベンジルサリシレート、p-イソプロパノールフェニルサリシレートなど。
(4)ケイ皮酸系紫外線吸収剤
例えば、オクチルシンナメート、エチル-4-イソプロピルシンナメート、メチル-2,5-ジイソプロピルシンナメート、エチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、メチル-2,4-ジイソプロピルシンナメート、プロピル-p-メトキシシンナメート、イソプロピル-p-メトキシシンナメート、イソアミル-p-メトキシシンナメート、オクチル-p-メトキシシンナメート(2-エチルヘキシル-p-メトキシシンナメート) 、2-エトキシエチル-p-メトキシシンナメート、シクロヘキシル-p-メトキシシンナメート、エチル-α-シアノ-β-フェニルシンナメート、2-エチルヘキシル-α-シアノ-β-フェニルシンナメート、グリセリルモノ-2-エチルヘキサノイル-ジパラメトキシシンナメートなど。
(5)トリアジン系紫外線吸収剤
例えば、ビスレゾルシニルトリアジン。
さらに具体的には、ビス{〔４−(２−エチルヘキシロキシ)−２−ヒドロキシ〕フェニル}−６−（４−メトキシフェニル）１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス｛４−（２−エチルヘキシロキシカルボニル）アニリノ｝１，３，５−トリアジンなど。
(6)その他の紫外線吸収剤
例えば、3-(4'-メチルベンジリデン)-d,l-カンファー、3-ベンジリデン-d,l-カンファー、2-フェニル-5-メチルベンゾキサゾール、2,2'-ヒドロキシ-5-メチルフェニルベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-t-オクチルフェニル) ベンゾトリアゾール、2-(2'-ヒドロキシ-5'-メチルフェニルベンゾトリアゾール、ジアニソイルメタン、4-メトキシ-4'-t-ブチルジベンゾイルメタン、5-(3,3-ジメチル-2-ノルボルニリデン)-3-ペンタン-2-オン。ジモルホリノピリダジノンなどのピリダジン誘導体。
上記の紫外線吸収剤は、紫外線吸収効果の観点から、化粧料中に均一に存在し、また経時で析出することなく安定した状態で存在する必要があるため、化粧料配合油分等に十分に溶解させこれを配合することによって日焼け止め化粧料が製造されている。
これに対して、特許文献４には、トリアジン若しくはベンゾトリアゾール誘導体類、ビニル基を有するアミド類、ケイ皮酸誘導体類、スルホン化ベンズイミダゾール類、フィッシャー塩基誘導体類、ジフェニルマロニトリル類、オキサリアミド類、カンファー誘導体類、ジフェニルアクリラート類、パラアミノ安息香酸（ＰＡＢＡ）及びそれらの誘導体類、サリシラート類並びにベンゾフェノン類から選択される紫外線吸収剤を、皮膚及び毛髪に輝きを与えるために微粉化して使用することが記載されている。上記紫外線吸収剤の具体的化合物は、［０００７］〜［０１１２］に例示されている。
そして、特許文献４の［０１５０］〜［０１５２］には、上記紫外線吸収剤を微粉化する方法として様々な方法が記載され、平均粒径が０．０２〜２ｎｍの超微粒子が得られるとの記載がある。具体的には、「例えば−硬い粉砕媒体、水又は適切な有機溶媒中での、例えばジルコニウムシリカート、及び保護的表面又は保護的ポリマー、との湿潤粉砕；−適切な溶媒、例えば溶媒を含む、水性又は有機懸濁物、又は水、エタノール、ジクロロエタン、トルエン、Ｎ−メチルピロリドンなどの真の溶液からの噴霧乾燥；−ＲＥＳＳ方法（超臨界溶液からの急速膨張（Rapid Expansion of Supercritical Solutions）による超臨界液体（例えばＣＯ2）の膨張（そこで、ＵＶフィルター（類）は、溶解される）、又は適切な有機溶媒中のＵＶフィルター１種以上の溶液と一緒に液体炭酸の膨張；−超臨界液体を含む適切な溶媒からの再沈殿（ＧＡＳＲ方法＝Gas Anti−Solvent Recrystalization/PCA方法＝圧縮された反溶媒での沈殿）。本発明による微粉化された有機ＵＶ吸収剤の製造に用いることができる粉砕装置は、例えば、ジェット、ボール、振動又はハンマーミル、好適には高速回転ミルである。粉砕は、好適には粉砕助剤、例えばアルキル化ビニルピロリドンポリマー、ビニルピロリドン／ビニルアセタートコポリマー、アシルグルタマート、アルキルポリグルコシド、セテアレス−２５又は特にリン脂質を用いて行われる。」と記載されている。
なお、特許文献４には４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンは記載されていない。また、その実施例１〜１１では、１９０，３００ｎｍの紫外線吸収剤の微粒子顔料の水性懸濁物が得られ、Ｏ／Ｗローションに配合されている。
なお、特許文献４には４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンは記載されていない。また、その実施例１〜１１では、１９０，３００ｎｍの紫外線吸収剤の微粒子顔料の水性懸濁物が得られ、Ｏ／Ｗローションに配合されている。
本発明者は、多くの紫外線吸収剤の中から、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを日焼け止め化粧料に配合すると現実の使用過程において、衣服に付着して衣服が染着してしまうという問題点を見出した。そして、この問題点に鑑み鋭意研究を重ねた結果、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま配合すると、衣服への染着性が極端に改善されることを見出し本発明を完成するに至った。
本発明の目的は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを紫外線吸収剤として配合する日焼け止め化粧料が衣服に付着して染着するという問題点を解決することにある。
すなわち、本発明は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま配合することにより衣服への染着性を改善したことを特徴とする日焼け止め化粧料を提供するものである。
また、本発明は、前記微粒子化して粉末のまま配合する４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの平均粒子径が０．０１〜５０μｍであることを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
さらに、本発明は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを超臨界流体中に溶解後、噴霧して微粒子化することを特徴とする上記の日焼け止め化粧料を提供するものである。
また、本発明は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま日焼け止め化粧料の基剤に混合することを特徴とする日焼け止め化粧料の製造方法を提供するものである。
本発明の日焼け止め化粧料は衣服に対する染着性が大きく改善される。しかも、粉末として配合した本発明の日焼け止め化粧料は、油分に溶解して配合する場合と比較しても、その紫外線吸収効果が大きく低下することはない。したがって、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを紫外線吸収剤として配合する好適な日焼け止め化粧料が提供できる。
以下、本発明について詳述する。
「４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタン」
本発明に用いる紫外線吸収剤は、下記式で示される４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタン｛４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン｝であり、従来は必ず油分に溶解して基剤に混合されていた紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（パルソール１７８９：ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ製）を利用できる。
分子量：３１０
融点：８１〜８４℃
本発明に用いる紫外線吸収剤は、下記式で示される４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタン｛４−（１，１−ジメチルエチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン｝であり、従来は必ず油分に溶解して基剤に混合されていた紫外線吸収剤である。本発明においては、市販品（パルソール１７８９：ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ製）を利用できる。
融点：８１〜８４℃
４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの配合量は、目的の製品に応じて適宜決定されるが、日焼け止め化粧料全量に対して０．０１〜１０質量％程度が配合され、０．１〜５質量％が好ましく、２〜３質量％がさらに好ましい。本発明によらない従来技術の日焼け止め化粧料においては高配合するほど染着性の問題が大きくなるので、本発明の意義は２質量％以上の高配合の場合に特に大きいものとなる。
本発明の特徴は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを粒子化して粉末のまま、日焼け止め化粧料の基剤中に配合することである。本発明において「微粒子化して粉末のまま」とは、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの粉末を、その平均粒子径が５０μｍ以下まで好ましくは３０μｍ以下の微粒子処理し、その微粒子粉末を基剤に配合することを意味する。すなわち、微粒子化粉末は、そのまま基剤の油相に分散させるか、若しくは疎水化処理したのち油相に分散させることも可能である。また、親水化処理後、基剤の水相に分散させることも可能である
従来の技術では、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンは油分に溶解して日焼け止め化粧料に配合することが当業者の常識であった。日焼け止め化粧料は、紫外線吸収剤を均一に存在させ、経時で析出することがない安定性を確保するため、油分やエタノールに十分に溶解させてこれを基剤と混合して製造するからである。特に４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンは難溶性の紫外線吸収剤であるため、これを析出しないために油分に十分に溶解させて配合する必要があった。本発明はこの常識に反するものであり、油分に溶解させずに、微粒子の粉末をそのまま基剤に配合することを特徴とする。
一方、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化せずに市販の粉末のままで基剤に配合すると、その粒子が大きいためザラツキを生じてしまう。また、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの融点は８１〜８４℃と低く、ジェットミル粉砕機などの機械的な粉砕では発生した熱により溶融してしまうため微細化は困難であった。そこで、本発明においては、超臨界流体中に溶解させた後、減圧し噴霧することにより、これまで不可能であった微粒子化を可能とならしめたのである。溶媒となる超臨界流体中には、収率を上げるために、エタノール、ジクロロエタン、トルエンなどの補助溶媒を入れることも可能である。
本発明において特に好ましい方法は、二酸化炭素からなる超臨界流体中に溶解後減圧して噴霧する方法である。超臨界流体を利用した粉体の微粒子化方法は公知であるが、個々の紫外線吸収剤の微粒子化が実際に可能かどうかは予測出来るものではなく、本発明は、この方法を採用することにより、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの微粒子化に成功した。具体的には、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの粉末と二酸化炭素ガスを反応容器に仕込み、二酸化炭素の臨界点である７．３８Ｍｐａ（３１度）以上に昇圧して、二酸化炭素の超臨界流体中に溶解させ、これを大気中に噴霧する。噴霧された微粒子粉末はフィルターにより回収でき、この微粒子粉末を日焼け止め化粧料に配合する。
本発明において特に好ましい方法は、二酸化炭素からなる超臨界流体中に溶解後減圧して噴霧する方法である。超臨界流体を利用した粉体の微粒子化方法は公知であるが、個々の紫外線吸収剤の微粒子化が実際に可能かどうかは予測出来るものではなく、本発明は、この方法を採用することにより、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの微粒子化に成功した。具体的には、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの粉末と二酸化炭素ガスを反応容器に仕込み、二酸化炭素の臨界点である７．３８Ｍｐａ（３１度）以上に昇圧して、二酸化炭素の超臨界流体中に溶解させ、これを大気中に噴霧する。噴霧された微粒子粉末はフィルターにより回収でき、この微粒子粉末を日焼け止め化粧料に配合する。
微粒子の大きさは平均粒子径０．０１〜５０μｍが好ましく、さらに好ましくは０.１〜３０μｍである。この範囲であれば、上述した超臨界流体による微粒子化方法により容易に調整可能である。５０μｍを超えるとザラツキを生じてしまうので好ましくない。
本発明の顕著な効果は、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化した粉末のまま基剤に配合することにより、衣服に対する染着性が大きく改善されることである。
すなわち、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料は、衣服へ２次付着して染着するという問題点が生じたが、これを洗濯することにより染着の度合いが低減される。その低減効果は、油分に溶解して配合した場合と比較して格別顕著なものであり、日焼け止め化粧料の使用上望まれることがない衣服への染着性が大きく改善される。
一方、微粒子化した状態で配合しても、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの紫外線吸収効果が大きく損なわれることがないことが本発明者等によって見出された。
すなわち、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを配合する日焼け止め化粧料は、衣服へ２次付着して染着するという問題点が生じたが、これを洗濯することにより染着の度合いが低減される。その低減効果は、油分に溶解して配合した場合と比較して格別顕著なものであり、日焼け止め化粧料の使用上望まれることがない衣服への染着性が大きく改善される。
一方、微粒子化した状態で配合しても、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの紫外線吸収効果が大きく損なわれることがないことが本発明者等によって見出された。
本発明の日焼け止め化粧料は、上記必須成分以外に、通常化粧料に用いられる成分、例えば、美白剤、保湿剤、酸化防止剤、油性成分、その他の紫外線吸収剤、界面活性剤、増粘剤、アルコール類、粉末成分、色剤、水性成分、水、各種皮膚栄養剤等を必要に応じて適宜配合して常法により製造することができる。具体的には次のような配合成分が挙げられる。
スクワレン、流動パラフィン、牛脂、モクロウ、ミツロウ、キャンデリラロウ、カルナバロウ、鯨ロウ、ラノリン、シクロメチコン、ジメチルポリシロキサン、ジフェニルポリシロキサンなどの油分。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
カプリルアルコール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、セチルアルコール、コレステロール、フィトステロールなどの高級アルコール。
カプリン酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘニン酸、ラノリン脂肪酸、リノール酸、リノレン酸などの高級脂肪酸。
ポリエチレングリコール、グリセリン、ソルビトール、キシリトール、マルチトール、ムコ多糖、ヒアルロン酸、コンドロイチン硫酸、キトサンなどの保湿剤。
メチルセルロース、エチルセルロース、アラビアガム、ポリビニルアルコールなどの増粘剤。
エタノール、１，３−ブチレングリコールなどの有機溶剤。
ブチルヒドロキシトルエン、トコフェロール、フィチン酸などの酸化防止剤。
安息香酸、サリチル酸、ソルビン酸、パラオキシ安息香酸エステル（エチルパラベン、ブチルパラベンなど）、ヘキサクロロフェンなどの抗菌防腐剤。
グリシン、アラニン、バリン、ロイシン、セリン、トレオニン、フェニルアラニン、チロシン、アスパラギン酸、アスパラギン、グルタミン、タウリン、アルギニン、ヒスチジンなどのアミノ酸と塩酸塩。
アシルサルコシン酸（例えばラウロイルサルコシンナトリウム）、グルタチオン、クエン酸、リンゴ酸、酒石酸、乳酸などの有機酸。
ビタミンＡ及びその誘導体、ビタミンＢ６塩酸塩、ビタミンＢ６トリパルミテート、ビタミンＢ６ジオクタノエート、ビタミンＢ２及びその誘導体、ビタミンＢ１２、ビタミンＢ１５及びその誘導体などのビタミンＢ類、アスコルビン酸、アスコルビン酸リン酸エステル（塩）、アスコルビン酸ジパルミテートなどのビタミンＣ類、α−トコフェロール、β−トコフェロール、γ−トコフェロール、ビタミンＥアセテート、ビタミンＥニコチネートなどのビタミンＥ類、ビタミンＤ類、ビタミンＨ、パントテン酸、パンテチンなどのビタミン類。
ニコチン酸アミド、ニコチン酸ベンジル、γ−オリザノール、アラントイン、グリチルリチン酸（塩）、グリチルレチン酸及びその誘導体、ヒノキチオール、ムシジン、ビサボロール、ユーカリプトール、チモール、イノシトール、サポニン類（サイコサポニン、ニンジンサポニン、ヘチマサポニン、ムクロジサポニンなど）、パントテニルエチルエーテル、エチニルエストラジオール、トラネキサム酸、セファランチン、プラセンタエキスなどの各種薬剤。
ギシギシ、クララ、コウホネ、オレンジ、セージ、タイム、ノコギリソウ、ゼニアオイ、センキュウ、センブリ、トウキ、トウヒ、バーチ、スギナ、ヘチマ、マロニエ、ユキノシタ、アルニカ、ユリ、ヨモギ、シャクヤク、アロエ、クチナシ、サワラなどの有機溶剤、アルコール、多価アルコール、水、水性アルコールなどで抽出した天然エキス。
ステアリルトリメチルアンモニウムクロライド、塩化ベンザルコニウム、ラウリルアミンオキサイドなどのカチオン界面活性剤。
エデト酸二ナトリウム、エデト酸三ナトリウム、クエン酸ナトリウム、ポリリン酸ナトリウム、メタリン酸ナトリウム、グルコン酸等の金属封鎖剤。
香料、スクラブ剤、精製水など。
本発明の日焼け止め化粧料の好ましい基剤は、デカメチルシクロペンタシロキサン、ジメチルポリシロキサン、ヘプタメチルオクチルトリシロキサン、トリメチルシロキシケイ酸、スクワラン、イソオクタン酸セチル、イソオクタン酸トリグリセライド、コハク酸ジ２−エチルヘキシルの油分を含有する基剤である。特にデカメチルシクロペンタシロキサンを油相の主成分とするＷ／Ｏ又はＯ／Ｗエマルジョン基剤が好ましい。
なお、イソノナン酸イソノニルなどの、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンが溶解してしまう油分は配合しないことが好ましい。
なお、イソノナン酸イソノニルなどの、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンが溶解してしまう油分は配合しないことが好ましい。
本発明の日焼け止め化粧料は、例えば、軟膏、クリーム、乳液、ローション等の製品形態が挙げられる。また、その剤型も特に限定されないが、Ｗ／Ｏサンスクリーン、Ｏ／Ｗサンスクリーンとして特に好ましく利用される。
以下に実施例により本発明を具体的に説明する。本発明はこれらの実施例に限定されない。
＜微粒子化処理＞
４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタン（パルソール１７８９：ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ製）の粉末を反応容器に仕込み、反応容器内に二酸化炭素を送り込み２０Ｍｐａ（３５度）に昇圧する。４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンが超臨界流体の二酸化炭素中に溶解したことを確認した後、ノズルを通して大気圧下に噴霧することにより結晶が析出し微粒子粉末（平均粒子径は約５μｍ）を得た。
図１に微粒子化処理前の粉末の３００倍の電子顕微鏡写真を示す。また、図２及び図３に微粒子化処理した粉末の電子顕微鏡写真を示す。図２が３００倍の電子顕微鏡写真であり、図３は２０００倍の電子顕微鏡写真である。
４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタン（パルソール１７８９：ＤＳＭ Ｎｕｔｒｉｔｉｏｎａｌ Ｐｒｏｄｕｃｔｓ製）の粉末を反応容器に仕込み、反応容器内に二酸化炭素を送り込み２０Ｍｐａ（３５度）に昇圧する。４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンが超臨界流体の二酸化炭素中に溶解したことを確認した後、ノズルを通して大気圧下に噴霧することにより結晶が析出し微粒子粉末（平均粒子径は約５μｍ）を得た。
図１に微粒子化処理前の粉末の３００倍の電子顕微鏡写真を示す。また、図２及び図３に微粒子化処理した粉末の電子顕微鏡写真を示す。図２が３００倍の電子顕微鏡写真であり、図３は２０００倍の電子顕微鏡写真である。
上記で微粒子化した粉末を下記の実施例１と比較例１に配合してＷ／Ｏサンスクリーンを製造し、２次付着による染着性を調べた。実施例１は上記粉末をそのまま基剤に配合して製造したものである。比較例１は、上記粉末を溶解するイソノナン酸イソノニルの油分に溶解させて基剤に配合したものである。
実施例１：Ｗ／Ｏサンスクリーン
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
３
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン ３０
（４）ジメチルポリシロキサン ２０
（５）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ２
（６）香料 ０．１
（７）１，３−ブチレングリコール ８
（８）フェノキシエタノール ０．３
（９）イオン交換水 残余
製造方法：（３）〜（６）を混合し、油相とする。別に、（７）〜（９）を混合し水相とした。（１）と（２）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
３
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン ３０
（４）ジメチルポリシロキサン ２０
（５）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ２
（６）香料 ０．１
（７）１，３−ブチレングリコール ８
（８）フェノキシエタノール ０．３
（９）イオン交換水 残余
製造方法：（３）〜（６）を混合し、油相とする。別に、（７）〜（９）を混合し水相とした。（１）と（２）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
比較例１：Ｗ／Ｏサンスクリーン
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
３
（３）イソノナン酸イソノニル １５
（４）デカメチルシクロペンタシロキサン ２５
（５）ジメチルポリシロキサン １０
（６）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ２
（７）香料 ０．１
（８）１，３−ブチレングリコール ８
（９）フェノキシエタノール ０．３
（１０）イオン交換水 残余
製造方法：（３）に（２）を混合し加熱溶解したのち（４）〜（７）を混合し、油相とする。別に、（８）〜（１０）を混合し水相とする。（１）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
３
（３）イソノナン酸イソノニル １５
（４）デカメチルシクロペンタシロキサン ２５
（５）ジメチルポリシロキサン １０
（６）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ２
（７）香料 ０．１
（８）１，３−ブチレングリコール ８
（９）フェノキシエタノール ０．３
（１０）イオン交換水 残余
製造方法：（３）に（２）を混合し加熱溶解したのち（４）〜（７）を混合し、油相とする。別に、（８）〜（１０）を混合し水相とする。（１）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
「染着性の評価」
上記の日焼け止め化粧料を、綿布に一定量（２ｍｇ／ｃｍ2）塗布し、１日放置後、通常の衣類用洗剤を使用して洗濯し、分光測色計（ミノルタ（株）：現コニカミノルタセンシング（株）製CM-2002）で、無塗布部に対する塗布部のΔＥ及びΔＹＩを測定した。また、外観の染着性を目視により評価した。結果を「表１」及び「図４」に示す。
洗濯機により洗濯洗剤を用いて洗浄した。乾燥させた後、測色計によりサンプルの測定を行った。
上記の日焼け止め化粧料を、綿布に一定量（２ｍｇ／ｃｍ2）塗布し、１日放置後、通常の衣類用洗剤を使用して洗濯し、分光測色計（ミノルタ（株）：現コニカミノルタセンシング（株）製CM-2002）で、無塗布部に対する塗布部のΔＥ及びΔＹＩを測定した。また、外観の染着性を目視により評価した。結果を「表１」及び「図４」に示す。
洗濯機により洗濯洗剤を用いて洗浄した。乾燥させた後、測色計によりサンプルの測定を行った。
上記の結果から、実施例１の本発明は、比較例１よりも布への染着性が大きく低下していることが分かる。したがって、日焼け止め化粧料には好ましくない４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの染着性が改善される。
次に、実施例１と比較例１の紫外線吸収効果を比較した。それぞれの日焼け止め化粧料を一定量（１mg／cm2）塗布したＰＭＭＡ板の透過率を図５に示す。図５から実施例１と比較例１の透過率はほぼ同じであることが分かる。したがって、本発明により、紫外線吸収効果を低下させることなく、衣服への染着性を低減することが可能である。
以下に、上記の微粒子化処理した４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを配合した日焼け止め化粧料の処方例を挙げる。いずれも、衣服に対する染着性が低減し、優れた紫外線吸収能を発揮する日焼け止め化粧料である。
実施例 ２： Ｗ／Ｏサンスクリーン
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン ３５
（４）ジメチルポリシロキサン １５
（５）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ３
（６）香料 ０．１
（７）１，３−ブチレングリコール ５
（８）フェノキシエタノール ０．３
（９）イオン交換水 残余
製造方法：（３）〜（６）を混合し、油相とする。別に、（７）〜（９）を混合し水相とする。（１）、（２）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン １５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン ３５
（４）ジメチルポリシロキサン １５
（５）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ３
（６）香料 ０．１
（７）１，３−ブチレングリコール ５
（８）フェノキシエタノール ０．３
（９）イオン交換水 残余
製造方法：（３）〜（６）を混合し、油相とする。別に、（７）〜（９）を混合し水相とする。（１）、（２）を油相に加え、ホモミキサーで混合する。これに、水相を加えて乳化し、容器に充填する。
実施例３：Ｏ／Ｗサンスクリーン
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン ５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン １２
（４）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ３
（５）香料 ０．１
（６）ＰＥＧ−６０水添ヒマシ油 ２
（７）ダイナマイトグリセリン ５
（８）サクシノグリカン ０．３
（９）カルボキシメチルセルロース ０．３
（１０）エタノール ５
（１１）イオン交換水 残余
製造方法：（１）〜（５）を混合し、ビーズミルで分散破砕した後、（６）〜（１１）を溶解した水相に対して、ホモミキサーをかけながら添加する。
配合成分 質量％
（１）シリコーン処理微粒子二酸化チタン ５
（２）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２
（３）デカメチルシクロペンタシロキサン １２
（４）ＰＯＥ変性ジメチルポリシロキサン ３
（５）香料 ０．１
（６）ＰＥＧ−６０水添ヒマシ油 ２
（７）ダイナマイトグリセリン ５
（８）サクシノグリカン ０．３
（９）カルボキシメチルセルロース ０．３
（１０）エタノール ５
（１１）イオン交換水 残余
製造方法：（１）〜（５）を混合し、ビーズミルで分散破砕した後、（６）〜（１１）を溶解した水相に対して、ホモミキサーをかけながら添加する。
実施例４：Ｏ／Ｗ／Ｏサンスクリーン
質量％
（１）ポリオキシエチレン(50)ポリオキシプロピレン(40)
ブロック共重合体ジメチルエチル ０．５
（２）イソステアリン酸 ０．２
（３）スクワラン ５．０
（４）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２．０
（５）デカメチルシクロペンタシロキサン ３５
（６）ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール ２．０
（７）ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト ０．５
（８）疎水化処理酸化チタン １２．０
（９）クエン酸 ０．０４
（１０）クエン酸ナトリウム ０．０６
（１１）ジプロピレングリコール ２．０
（１２）メチルグルコース １．０
（１３）ダイナマイトグリセリン １．０
（１４）食塩 ０．１
（１５）メチルパラベン 適量
（１６）フェノキシエタノール 適量
（１７）イオン交換水 残余
製造方法
（１）〜（４）の油相を（９）〜（１７）の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得る。この製剤を（５）〜（８）の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的の乳液を得る。
質量％
（１）ポリオキシエチレン(50)ポリオキシプロピレン(40)
ブロック共重合体ジメチルエチル ０．５
（２）イソステアリン酸 ０．２
（３）スクワラン ５．０
（４）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２．０
（５）デカメチルシクロペンタシロキサン ３５
（６）ポリオキシブチレンポリオキシプロピレングリコール ２．０
（７）ジメチルジステアリルアンモニウムヘクトライト ０．５
（８）疎水化処理酸化チタン １２．０
（９）クエン酸 ０．０４
（１０）クエン酸ナトリウム ０．０６
（１１）ジプロピレングリコール ２．０
（１２）メチルグルコース １．０
（１３）ダイナマイトグリセリン １．０
（１４）食塩 ０．１
（１５）メチルパラベン 適量
（１６）フェノキシエタノール 適量
（１７）イオン交換水 残余
製造方法
（１）〜（４）の油相を（９）〜（１７）の水相に徐々に添加してＯ／Ｗ製剤を得る。この製剤を（５）〜（８）の油相中に徐々に添加後、ホモミキサーで攪拌を行い目的の乳液を得る。
実施例５：セルフタンニング化粧料
質量％
Ａ部
（１）１，３−ブチレングリコール ５．０
（２）グリセリン ２．０
（３）ジヒドロキシアセトン ５．０
（４）エデト酸二ナトリウム ０．０５
（５）パラベン 適量
（６）イオン交換水 残余
Ｂ部
（７）ステアリン酸グリセリル ４．０
（８）ベヘニルアルコール ３．０
（９）ステアリルアルコール ２．０
（１０）シリコーン油 １．０
（１１）パーム硬化油 ２．０
（１２）流動パラフィン ７．０
（１３）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２．０
（１４）香料 適量
製造方法
Ａ部のイオン交換水にエデト酸二ナトリウム、ジヒドロキシアセトン、グリセリン、１，３−ブチレングリコールに加熱溶解したパラベンを添加し溶解する。Ｂ部の（７）〜（１２）を十分に加熱溶解したのち、さらに（１３）、（１４）を加えてＢ部としたものをＡ部に添加して乳化する。これを冷却してセルフタンニングクリームを得る。
質量％
Ａ部
（１）１，３−ブチレングリコール ５．０
（２）グリセリン ２．０
（３）ジヒドロキシアセトン ５．０
（４）エデト酸二ナトリウム ０．０５
（５）パラベン 適量
（６）イオン交換水 残余
Ｂ部
（７）ステアリン酸グリセリル ４．０
（８）ベヘニルアルコール ３．０
（９）ステアリルアルコール ２．０
（１０）シリコーン油 １．０
（１１）パーム硬化油 ２．０
（１２）流動パラフィン ７．０
（１３）４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４’−メトキシジベンゾイルメタン
２．０
（１４）香料 適量
製造方法
Ａ部のイオン交換水にエデト酸二ナトリウム、ジヒドロキシアセトン、グリセリン、１，３−ブチレングリコールに加熱溶解したパラベンを添加し溶解する。Ｂ部の（７）〜（１２）を十分に加熱溶解したのち、さらに（１３）、（１４）を加えてＢ部としたものをＡ部に添加して乳化する。これを冷却してセルフタンニングクリームを得る。
本発明によれば、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの衣服に対する染着性が低減し、紫外線吸収特性にも優れた日焼け止め化粧料を提供できる。本発明により、衣服に対する染着性が低減するので、４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを高配合することが可能となり、ＳＰＦ（Sun Protection Factor：UVB防御能）、ＰＡ（Protection Grade of UVA：UVA防御能）を向上させることが可能となる。
Claims (4)
- ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま配合することにより衣服への染着性を改善したことを特徴とする日焼け止め化粧料。
- 前記微粒子化して粉末のまま配合する４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンの平均粒子径が０．０１〜５０μｍであることを特徴とする請求項１記載の日焼け止め化粧料。
- ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを超臨界流体中に溶解後、噴霧して微粒子化することを特徴とする請求項１又は２記載の日焼け止め化粧料。
- ４−（ｔｅｒｔ−ブチル）−４'−メトキシジベンゾイルメタンを微粒子化して粉末のまま日焼け止め化粧料の基剤に混合することを特徴とする日焼け止め化粧料の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006136124A JP5083856B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 日焼け止め化粧料 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006136124A JP5083856B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 日焼け止め化粧料 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007308377A true JP2007308377A (ja) | 2007-11-29 |
| JP5083856B2 JP5083856B2 (ja) | 2012-11-28 |
Family
ID=38841581
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006136124A Active JP5083856B2 (ja) | 2006-05-16 | 2006-05-16 | 日焼け止め化粧料 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5083856B2 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009119363A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Nikkiso Co Ltd | 微粒子化方法 |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06116129A (ja) * | 1992-10-07 | 1994-04-26 | Pias Arise Kk | 紫外線防止剤 |
| JP2001048764A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-02-20 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 日焼けを防止し、かつ皮膚及び毛髪に輝きを与えるための微粉化された顔料混合物の使用 |
| WO2005058472A2 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-30 | Scf Technologies A/S | Systems for preparing fine particles and other substances |
| WO2005084631A1 (de) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Merck Patent Gmbh | Uv-filter in puderform |
-
2006
- 2006-05-16 JP JP2006136124A patent/JP5083856B2/ja active Active
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06116129A (ja) * | 1992-10-07 | 1994-04-26 | Pias Arise Kk | 紫外線防止剤 |
| JP2001048764A (ja) * | 1999-07-12 | 2001-02-20 | Ciba Specialty Chem Holding Inc | 日焼けを防止し、かつ皮膚及び毛髪に輝きを与えるための微粉化された顔料混合物の使用 |
| WO2005058472A2 (en) * | 2003-12-19 | 2005-06-30 | Scf Technologies A/S | Systems for preparing fine particles and other substances |
| WO2005084631A1 (de) * | 2004-03-03 | 2005-09-15 | Merck Patent Gmbh | Uv-filter in puderform |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2009119363A (ja) * | 2007-11-14 | 2009-06-04 | Nikkiso Co Ltd | 微粒子化方法 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP5083856B2 (ja) | 2012-11-28 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP5083933B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| KR101536789B1 (ko) | 자외선 흡수제 수-분산 조성물 | |
| EP1702607B1 (en) | Monophase microemulsion composition, o/w ultrafine emulsion external formulation and process for producing the same | |
| JP5553377B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| EP2027847A1 (en) | Sunscreen preparations | |
| WO2010110020A1 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| WO2006064821A1 (ja) | 改質粉体及びそれを用いた化粧料 | |
| JP7064580B2 (ja) | より高度な紫外線防御を有する無機日焼け防止剤 | |
| JP5723359B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP2013193999A (ja) | 水中油型乳化化粧料 | |
| WO2010026755A1 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP5792493B2 (ja) | 油中水型乳化化粧料 | |
| JP2007320916A (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP2007182388A (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP3886047B2 (ja) | 水中油型乳化化粧料 | |
| JP2009102236A (ja) | 水中油型乳化組成物及びその製造方法 | |
| JP4827877B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP3415716B2 (ja) | 紫外線遮蔽剤及び紫外線遮蔽効果を有する皮膚外用剤 | |
| JP5083856B2 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP4995473B2 (ja) | 水中油型日焼け止め料 | |
| WO2007077729A1 (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP2005068028A (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP2005281134A (ja) | 皮膚外用剤 | |
| JP2011068566A (ja) | 日焼け止め化粧料 | |
| JP2010077032A (ja) | 酸化チタン分散体およびそれを配合した化粧料 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090421 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20111208 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111226 |
|
| A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20120418 |
|
| A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20120423 |
|
| TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20120830 |
|
| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20120830 |
|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 5083856 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20150914 Year of fee payment: 3 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |