JP2007299748A - Exhaust equipment - Google Patents

Exhaust equipment Download PDF

Info

Publication number
JP2007299748A
JP2007299748A JP2007116835A JP2007116835A JP2007299748A JP 2007299748 A JP2007299748 A JP 2007299748A JP 2007116835 A JP2007116835 A JP 2007116835A JP 2007116835 A JP2007116835 A JP 2007116835A JP 2007299748 A JP2007299748 A JP 2007299748A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exhaust
shaft portion
vacuum
exhaust system
lamp
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2007116835A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Feng-Li Lin
峰立 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KEIHO KAGI YUGENKOSHI
Original Assignee
KEIHO KAGI YUGENKOSHI
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by KEIHO KAGI YUGENKOSHI filed Critical KEIHO KAGI YUGENKOSHI
Publication of JP2007299748A publication Critical patent/JP2007299748A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Sealing Devices (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exhaust equipment high in exhaust efficiency, of which cost for production and maintenance is suppressed. <P>SOLUTION: The exhaust equipment comprises an axis of rotation 31, an exhaust set 32, and an exhaust head 33. The axis of rotation 31 has a first axial portion 311 and a second axial portion 312, and the first axial portion 311 rotates corresponding to the second axial portion 312. The exhaust set 32 is placed on the first axial portion 311 of the axis of rotation 31, and the exhaust head 33 is connected to the exhaust set 32. Since the exhaust equipment does not need a center valve which is used in conventional technologies, contamination of volatile oil due to circulation using the center valve is avoided. Moreover, placing the exhaust set directly on the first axial portion reduces distance between the set and an object to be exhausted effectively, and results in increase of exhaust efficiency. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、排気設備に関し、特にランプの排気設備に関する。   The present invention relates to an exhaust system, and more particularly, to an exhaust system for a lamp.

ランプの製造工程において、排気設備は重要な設備の1つであり、ランプの加熱、真空吸引、クリーニング、気体の充填及びシーリング等の製造工程には欠かせない。   In the lamp manufacturing process, the exhaust system is one of the important equipments, and is indispensable for the manufacturing process such as lamp heating, vacuum suction, cleaning, gas filling and sealing.

このうち、真空システムは、排気設備の核心システムの1つである。
一般に、真空システムの真空ポンプ(pump)は、排気設備の本体の外に配置され、真空パイプラインを介して、真空ポンプと排気ヘッドの間が接続される。
ランプの真空化工程は順序通りに徐々に行なう必要があり、真空吸引のステップが何度も繰り返される。
ランプが各真空ポンプを介して真空吸引が順序に徐々に行なわれるように、真空ポンプ及び排気ヘッドの間にはセンターバルブ(Center Valve)が配置されており、これによってランプの真空化がスムーズに行われる。
Of these, the vacuum system is one of the core systems of exhaust equipment.
Generally, the vacuum pump of the vacuum system is disposed outside the main body of the exhaust equipment, and is connected between the vacuum pump and the exhaust head via a vacuum pipeline.
The lamp vacuuming process needs to be performed gradually in order, and the vacuum suction step is repeated many times.
A center valve (Center Valve) is placed between the vacuum pump and the exhaust head so that the vacuum is gradually drawn in sequence through the vacuum pumps. Done.

図1を参照しながら説明する。
これは一般の排気設備の真空システムを側面から見た部分断面図である。
図に示したように、この真空システムは、センター柱部分11、センターバルブ12、ターンテーブル13、複数の真空ポンプ14、複数の第一真空パイプライン15a、複数の第二真空パイプライン15b及び複数の排気ヘッド16を備える。
This will be described with reference to FIG.
This is a partial cross-sectional view of a general exhaust system vacuum system as seen from the side.
As shown in the figure, the vacuum system includes a center column portion 11, a center valve 12, a turntable 13, a plurality of vacuum pumps 14, a plurality of first vacuum pipelines 15a, a plurality of second vacuum pipelines 15b, and a plurality of vacuum systems. The exhaust head 16 is provided.

センターバルブ12は、センター柱部分11及びターンテーブル13の間に設置され、さらにセンターバルブ12は回転部分12a及び固定部分12bを有する。
ターンテーブル13は中心バルブ12の回転部分12aと共に回転する。
The center valve 12 is installed between the center column portion 11 and the turntable 13, and the center valve 12 further includes a rotating portion 12a and a fixed portion 12b.
The turntable 13 rotates with the rotating portion 12 a of the central valve 12.

第一真空パイプライン15aの一端は、それぞれセンターバルブ12の固定部分12bに接続され、他端はそれぞれ一真空ポンプ14に接続される。
センターバルブ12の回転部分12aは各第二真空パイプライン15bを介してそれぞれ排気ヘッド16に接続される。
また、各排気ヘッド16は、ランプ2をはさんで、真空ポンプ14の作動によってランプ2内の気体を第二真空パイプライン15b及び第一真空パイプライン15aから排出することにより、ランプ2を真空吸引する目的を達成する。
One end of the first vacuum pipeline 15 a is connected to the fixed portion 12 b of the center valve 12, and the other end is connected to one vacuum pump 14.
The rotating portion 12a of the center valve 12 is connected to the exhaust head 16 via each second vacuum pipeline 15b.
Further, each exhaust head 16 evacuates the lamp 2 by discharging the gas in the lamp 2 from the second vacuum pipeline 15b and the first vacuum pipeline 15a by operating the vacuum pump 14 with the lamp 2 interposed therebetween. Achieve the purpose of aspiration.

また、ランプ2内部には、液体あるいはその他の雑物が残存する可能性がある。
このため、ランプ2を真空化する工程においては、加熱炉17によってランプを加熱して、内部の雑物を気体に変換させる必要がある。
そして、真空ポンプ14によってこれを排出させる。
このうち、加熱炉17は排気設備に環状に設置されており、ランプ2を均一に加熱する。
Further, there is a possibility that liquid or other miscellaneous matters remain in the lamp 2.
For this reason, in the process of evacuating the lamp 2, it is necessary to heat the lamp by the heating furnace 17 and convert the internal impurities into gas.
Then, this is discharged by the vacuum pump 14.
Among these, the heating furnace 17 is annularly installed in the exhaust equipment, and heats the lamp 2 uniformly.

センターバルブ12に接続される第一真空パイプライン15a及び第二真空パイプライン15bは、いずれも真空状態が保たれているため、センターバルブ12の回転部分12aと固定部分12bの間は密封状態を保って雑物が進入するのを回避する必要がある。
一般的には、回転部分12aと固定部分12bの接触面は精密バフ加工された後、接触する表面をオイルシーリングを利用して気密にすることで、回転時に空気が内外に漏れるのを回避する。
Since both the first vacuum pipeline 15a and the second vacuum pipeline 15b connected to the center valve 12 are kept in a vacuum state, the rotating portion 12a and the fixed portion 12b of the center valve 12 are sealed. It is necessary to keep it and avoid the entry of miscellaneous matters.
In general, after the contact surfaces of the rotating portion 12a and the fixed portion 12b are precision buffed, the contacting surfaces are hermetically sealed using oil sealing to prevent air from leaking in and out during rotation. .

しかしながら、従来の排気設備は、真空ポンプが排気設備の本体の外に設置されているため、長い距離の真空パイプラインの配置が必要となり、排気率の低下を招くことになる。
あるいは、規模の大きい真空ポンプによって効率の悪さを補う必要が生じる。
また、センターバルブはオイルシーリング式のため、排気設備が作動される時、回転により一部の揮発したオイルが回流現象を生じ、この揮発したオイルが製品を汚染する。
さらに、センターバルブの回転部分及び固定部分の接触面は、精密バフ加工されているため、粉塵や異物が進入すると、接触面に傷がつき、気体の漏れを防いで、生産ラインがストップすることも考えられる。
However, in the conventional exhaust equipment, since the vacuum pump is installed outside the main body of the exhaust equipment, it is necessary to dispose a long-distance vacuum pipeline, resulting in a reduction in the exhaust rate.
Alternatively, it is necessary to compensate for the inefficiency with a large-scale vacuum pump.
Further, since the center valve is an oil sealing type, when the exhaust system is operated, a part of the volatilized oil is caused to circulate by rotation, and the volatilized oil contaminates the product.
In addition, the contact surface of the rotating part and the fixed part of the center valve is precision buffed, so if dust or foreign matter enters, the contact surface will be scratched, preventing gas leakage and stopping the production line. Is also possible.

このため本発明は、排気効率が高く、設備製造及びメンテナンスコストを抑えた排気設備を提供することを課題とする。   For this reason, this invention makes it a subject to provide the exhaust equipment with high exhaust efficiency and restrained equipment manufacture and a maintenance cost.

上記課題を解決するため、本発明はセンターバルブを必要としない排気設備を提供することを目的とする。   In order to solve the above problems, an object of the present invention is to provide an exhaust system that does not require a center valve.

上記目的を達成するために、本発明の排気設備は、回転軸、排気セット及び排気ヘッドを備える。
回転軸は第一軸部分及び第二軸部分を有する。
さらに、第一軸部分は第二軸部分に対応して回転する。
排気セットは回転軸の第一軸部分に設置される。
そして、排気ヘッドは排気セットに接続される。
In order to achieve the above object, an exhaust system of the present invention includes a rotating shaft, an exhaust set, and an exhaust head.
The rotating shaft has a first shaft portion and a second shaft portion.
Further, the first shaft portion rotates corresponding to the second shaft portion.
The exhaust set is installed on the first shaft portion of the rotating shaft.
The exhaust head is connected to the exhaust set.

本発明の排気設備は、排気セットが回転軸の第一軸部分に設置されるため、第一軸部分が第二軸部分に対応して回転する時、排気セットもまたそれに伴って回転する。
このため、従来の技術に用いられたセンターバルブを必要としない。
言い換えれば、センターバルブを使用することで発生する揮発オイルの回流による汚染が回避されることになる。
さらに、排気セットが直接第一軸部分に設置されることで、効果的に排気セットと排気される対象物との距離が短縮される。
すなわち、その排気効率が高くなる。
In the exhaust system of the present invention, since the exhaust set is installed on the first shaft portion of the rotary shaft, when the first shaft portion rotates corresponding to the second shaft portion, the exhaust set also rotates accordingly.
For this reason, the center valve used in the prior art is not required.
In other words, contamination due to the circulation of volatile oil generated by using the center valve is avoided.
Furthermore, the distance between the exhaust set and the object to be exhausted is effectively shortened by installing the exhaust set directly on the first shaft portion.
That is, the exhaust efficiency is increased.

本発明の排気設備は、排気セットが回転軸の第一軸部分に設置されるため、第一軸部分が第二軸部分に対応して回転する時、排気セットもまたそれに伴って回転する。
このため、従来の技術に用いられたセンターバルブを必要としない。
言い換えれば、センターバルブを使用することで発生する揮発オイルの回流による汚染が回避されることになる。
さらに、排気セットが直接第一軸部分に設置されることで、効果的に排気セットと排気される対象物との距離が短縮される。
すなわち、その排気効率が高くなる。
したがって、本発明の排気設備は、排気効率が高く、設備製造及びメンテナンスコストを低く抑えることが可能である。
In the exhaust system of the present invention, since the exhaust set is installed on the first shaft portion of the rotary shaft, when the first shaft portion rotates corresponding to the second shaft portion, the exhaust set also rotates accordingly.
For this reason, the center valve used in the prior art is not required.
In other words, contamination due to the circulation of volatile oil generated by using the center valve is avoided.
Furthermore, the distance between the exhaust set and the object to be exhausted is effectively shortened by installing the exhaust set directly on the first shaft portion.
That is, the exhaust efficiency is increased.
Therefore, the exhaust equipment of the present invention has high exhaust efficiency, and can reduce equipment manufacturing and maintenance costs.

以下に、図を参照しながら、本発明の排気設備における好適な実施例について説明する。   Hereinafter, preferred embodiments of the exhaust system of the present invention will be described with reference to the drawings.

図2に示したのは、本発明の好適な実施例の排気設備の側面から見た部分断面図である。
本発明の好適な実施例における排気設備は、回転軸31、排気セット32及び排気ヘッド33を備える。
本実施例において、排気設備はランプ4の排気設備である。
このうち、ランプ4は、熱陰極蛍光ランプ(HCFL)、冷陰極蛍光ランプ(CCFL)あるいはその他の製造の際に排気工程を必要とするランプである。
ランプ4に対して排気(真空)工程が実施される時、ランプ4は排気ヘッド33にはさんで設置される。
FIG. 2 is a partial sectional view seen from the side of the exhaust system of the preferred embodiment of the present invention.
The exhaust system according to a preferred embodiment of the present invention includes a rotating shaft 31, an exhaust set 32, and an exhaust head 33.
In this embodiment, the exhaust equipment is an exhaust equipment for the lamp 4.
Among these, the lamp 4 is a hot cathode fluorescent lamp (HCFL), a cold cathode fluorescent lamp (CCFL), or a lamp that requires an exhaust process in manufacturing.
When the exhaust (vacuum) process is performed on the lamp 4, the lamp 4 is installed across the exhaust head 33.

回転軸31は第一軸部分311及び第二軸部分312を備える。
さらに、第一軸部分311は第二軸部分312に対応して回転する。
第一軸部分311はキャリアプレート(Carried Plate)311aを有し、第一軸部分311と同時に回転する。
本実施例において、第一軸部分311は回転軸部分であり、第二軸部分312は固定軸部分である。
これは例えばセンター柱部分で、排気設備の本体35に固定されるか、あるいは地面に固定される。
第一軸部分311が支えることにより、さらに、回転軸31、排気セット32及び排気ヘッド33が本体35内に設置される。
また、キャリアプレート311aは円形の平らなプレート状で、第二軸部分312によって円心回転する。
The rotating shaft 31 includes a first shaft portion 311 and a second shaft portion 312.
Further, the first shaft portion 311 rotates corresponding to the second shaft portion 312.
The first shaft portion 311 has a carrier plate 311 a and rotates simultaneously with the first shaft portion 311.
In the present embodiment, the first shaft portion 311 is a rotating shaft portion, and the second shaft portion 312 is a fixed shaft portion.
This is, for example, a center column portion, which is fixed to the main body 35 of the exhaust equipment or fixed to the ground.
By supporting the first shaft portion 311, the rotating shaft 31, the exhaust set 32, and the exhaust head 33 are further installed in the main body 35.
The carrier plate 311 a is a circular flat plate and is rotated by the second shaft portion 312.

排気セット32は回転軸31の第一軸部分311上に設置される。
本実施例においては、排気セット32は第一軸部分311のキャリアプレート311a上に設置される。
さらに、排気セット32は第一排気機321及び第一パイプ322を有する。
排気ヘッド33は第一パイプ322によって排気セット31に接続される。
第一排気機321は真空排気機(真空ポンプ)で、第一パイプ322は真空パイプである。
ランプ4は排気ヘッド33にはさんで設置され、排気セット31の動作によって、ランプ4内の気体が排出される。
第一軸部分311の構造が堅固であれば、排気セット31も直接第一軸部分311上に吊るす形で設置されることが可能で、当然キャリアプレート311aも不要である。
The exhaust set 32 is installed on the first shaft portion 311 of the rotating shaft 31.
In the present embodiment, the exhaust set 32 is installed on the carrier plate 311 a of the first shaft portion 311.
Further, the exhaust set 32 includes a first exhaust machine 321 and a first pipe 322.
The exhaust head 33 is connected to the exhaust set 31 by a first pipe 322.
The first exhauster 321 is a vacuum exhauster (vacuum pump), and the first pipe 322 is a vacuum pipe.
The lamp 4 is installed between the exhaust heads 33, and the gas in the lamp 4 is discharged by the operation of the exhaust set 31.
If the structure of the first shaft portion 311 is firm, the exhaust set 31 can also be installed directly on the first shaft portion 311 so that the carrier plate 311a is not necessary.

図3は本発明の好適な実施例の排気設備を他の側面から見た部分断面図である。
本実施例において、排気セット31は順を追って徐々にランプ4の真空化工程が行なわれるように、さらに第二排気機323及び第二パイプ324が追加されている。
このうち、第二排気機323は第一排気機と同様真空排気機であり、第二パイプ324は第一パイプ322と同様真空パイプである。
FIG. 3 is a partial cross-sectional view of the exhaust system of the preferred embodiment of the present invention as seen from another side.
In the present embodiment, a second exhauster 323 and a second pipe 324 are further added so that the exhausting set 31 is gradually evacuated in order.
Among these, the second exhauster 323 is a vacuum exhauster like the first exhauster, and the second pipe 324 is a vacuum pipe like the first pipe 322.

空間を有効に利用するために、本実施例では第一軸部分311はさらに付属キャリアプレート311bを有する。
これはキャリアプレート311aと同様第二軸部分312によって円心回転する。
第二排気機323はキャリアプレート311b上に設置されて、第二パイプ324を介して第一排気機321及び第二排気機323に接続されることにより、レベルの相違(すなわちパワーの相違)を利用して排気機を交替で起動させることで、順を追ったスムーズな真空化工程の実施が可能である。
In order to effectively use the space, the first shaft portion 311 further includes an attached carrier plate 311b in the present embodiment.
As with the carrier plate 311a, the second shaft portion 312 rotates the center of the circle.
The second exhauster 323 is installed on the carrier plate 311b and connected to the first exhauster 321 and the second exhauster 323 via the second pipe 324, so that the level difference (that is, the power difference) is reduced. It is possible to implement a smooth evacuation process step by step by using the exhaust device in turn.

また本実施例において、排気設備の回転軸31はさらにインデックス(Index)板313、インデックス軸314及び駆動ユニット315を備える。
インデックス(Index)板313はインデックス軸314によって、回転軸31の第一軸部分311に接続されて、駆動ユニット315によってインデックス板313が駆動されることで、インデックス軸314が第一軸部分311を動かして回転させる。
インデックス板313の機能は、第一軸部分311をジョグ(Jog)方式で回転させるためである。
つまり、第一軸部分311を一度に少しだけ回転させることで、何度も分けて(順を追って徐々に)真空化の工程を進めるのである。
In this embodiment, the rotary shaft 31 of the exhaust equipment further includes an index plate 313, an index shaft 314, and a drive unit 315.
The index plate 313 is connected to the first shaft portion 311 of the rotating shaft 31 by the index shaft 314, and the index plate 313 is driven by the drive unit 315, so that the index shaft 314 moves the first shaft portion 311. Move and rotate.
The function of the index plate 313 is to rotate the first shaft portion 311 by the jog method.
That is, by rotating the first shaft portion 311 only a little at a time, the vacuuming process is advanced several times (gradually in order).

図2及び図3を同時に参照しながら説明する。
ランプ4の排気設備は、ランプ4に対して行なう加熱、真空吸引、クリーニング、気体充填及びシーリング等の製造工程には欠かせない。
このうち、真空吸引を実施する時、ランプ4の中に雑物が残留するのを回避するために、本実施例においては、加熱機セット34によって高温を発生させて、ランプ4の中の雑物を蒸発あるいは揮発させて気体にし、さらに排気セット31の排気動作によってランプ4内の雑物を除去する。
加熱機セット34は、回転軸31を軸心として本体35内に環状に設置され、加熱機セット34は溝槽341を有することで、排気ヘッド33がランプ4をはさんで、溝槽341の中を移動できることにより、ランプ4が均一に加熱される。
This will be described with reference to FIGS. 2 and 3 simultaneously.
The exhaust system of the lamp 4 is indispensable for manufacturing processes such as heating, vacuum suction, cleaning, gas filling and sealing performed on the lamp 4.
Among these, when vacuum suction is performed, in order to avoid the residue from remaining in the lamp 4, in this embodiment, a high temperature is generated by the heater set 34, and the dust in the lamp 4 is The matter is evaporated or volatilized to form a gas, and the exhaust set 31 exhausts the foreign matter in the lamp 4.
The heater set 34 is annularly installed in the main body 35 with the rotary shaft 31 as an axis, and the heater set 34 has a groove tank 341, so that the exhaust head 33 sandwiches the lamp 4 and the groove tank 341. By being able to move inside, the lamp 4 is heated uniformly.

このように、本発明の排気設備は、従来の排気設備の技術と異なり、センターバルブが設置されていないため、センターバルブによって発生する揮発オイルが回流することによる汚染を回避する。
そして、センターバルブを設置しないことで生まれた空間を利用して排気セットを設置している。
この排気セットは直接排気設備に設置されるため、その距離は真空化工程を待つランプの距離より短い。
このため、レベルの低い(すなわちパワーの小さい)排気セットを選択しても、高い真空吸引効率が達成できる。
したがって、設備コストが節減できる。
また、センターバルブを設置しないことで、メンテナンスコストも節減できる。
すなわち、設備製造及びメンテナンスのコストがいずれも大幅に節約できる。
Thus, unlike the conventional exhaust equipment technology, the exhaust equipment of the present invention does not have a center valve, and thus avoids contamination due to the circulation of volatile oil generated by the center valve.
And the exhaust set is installed using the space created by not installing the center valve.
Since this exhaust set is installed directly in the exhaust facility, the distance is shorter than the distance of the lamp waiting for the vacuuming process.
For this reason, even if an exhaust set having a low level (that is, low power) is selected, high vacuum suction efficiency can be achieved.
Therefore, the equipment cost can be reduced.
Also, maintenance costs can be reduced by not installing a center valve.
That is, both equipment manufacturing and maintenance costs can be saved significantly.

以上、本発明の実施例を図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成は、これらの実施例に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更などがあっても、本発明に含まれる。   As described above, the embodiments of the present invention have been described in detail with reference to the drawings. However, the specific configuration is not limited to these embodiments, and there are design changes and the like without departing from the gist of the present invention. However, it is included in the present invention.

従来の排気設備を側面から見た部分断面図である。It is the fragmentary sectional view which looked at the conventional exhaust equipment from the side. 本発明の好適な実施例の排気設備を側面から見た部分断面図である。It is the fragmentary sectional view which looked at the exhaust equipment of the suitable Example of this invention from the side. 本発明の好適な他の実施例の排気設備を側面から見た部分断面図である。It is the fragmentary sectional view which looked at the exhaust equipment of other suitable Examples of this invention from the side.

符号の説明Explanation of symbols

1 真空システム
11 センター柱部分
12 センターバルブ
12a 回転軸部分
12b 固定軸部分
13 ターンテーブル
14 真空ポンプ
15a 第一真空パイプライン
15b 第一真空パイプライン
16 排気ヘッド
17 加熱炉
2,4 ランプ
31 回転軸
311 第一軸部分
311a キャリアプレート(Carried Plate)
311b 付属キャリアプレート(Carried Plate)
312 第二軸部分
313 インデックス板
314 インデックス軸
315 駆動ユニット
32 排気セット
321 第一排気機
322 第一パイプ
323 第二排気機
324 第二パイプ
33 排気ヘッド
34 加熱機セット
341 溝槽
35 本体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Vacuum system 11 Center pillar part 12 Center valve 12a Rotating shaft part 12b Fixed shaft part 13 Turntable 14 Vacuum pump 15a First vacuum pipeline 15b First vacuum pipeline 16 Exhaust head 17 Heating furnace 2, 4 Lamp 31 Rotating shaft 311 First shaft portion 311a Carrier plate
311b Carried Plate
312 Second shaft portion 313 Index plate 314 Index shaft 315 Drive unit 32 Exhaust set 321 First exhaust machine 322 First pipe 323 Second exhaust machine 324 Second pipe 33 Exhaust head 34 Heater set 341 Groove tank 35 Main body

Claims (12)

第一軸部分及び第二軸部分を有し、
前記第一軸部分は前記第二軸部分に対応して回転する回転軸と、
前記回転軸の前記第一軸部分上に設置される排気セットと、
前記排気セットに接続される排気ヘッドとを備える
排気設備。
Having a first shaft portion and a second shaft portion;
The first shaft portion is a rotating shaft that rotates corresponding to the second shaft portion;
An exhaust set installed on the first shaft portion of the rotating shaft;
An exhaust system comprising an exhaust head connected to the exhaust set.
前記第一軸部分は回転軸部分であり、
前記第二軸部分は固定軸部分であることを特徴とする
請求項1に記載の排気設備。
The first shaft portion is a rotating shaft portion;
The exhaust system according to claim 1, wherein the second shaft portion is a fixed shaft portion.
前記第一軸部分はキャリアプレート(Carried Plate)を有し、
前記排気セットは前記キャリアプレートに設置されることを特徴とする
請求項1に記載の排気設備。
The first shaft portion has a carrier plate,
The exhaust system according to claim 1, wherein the exhaust set is installed on the carrier plate.
前記排気セットは第一排気機及び第一パイプを有し、
前記第一パイプは前記第一排気機と前記排気ヘッドとの間に接続されることを特徴とする
請求項1に記載の排気設備。
The exhaust set includes a first exhaust and a first pipe;
The exhaust system according to claim 1, wherein the first pipe is connected between the first exhaust machine and the exhaust head.
前記第一パイプは真空パイプであり、
前記第一排気機は真空排気機であることを特徴とする
請求項4に記載の排気設備。
The first pipe is a vacuum pipe;
The exhaust system according to claim 4, wherein the first exhaust device is a vacuum exhaust device.
前記排気機はさらに第二排気機を備え、
第二パイプによって前記第一排気機に接続されることを特徴とする
請求項4に記載の排気設備。
The exhaust device further includes a second exhaust device,
The exhaust system according to claim 4, wherein the exhaust system is connected to the first exhaust machine by a second pipe.
前記第二排気機は真空排気機であり、
前記第二パイプは真空パイプであることを特徴とする
請求項6に記載の排気設備。
The second exhaust is a vacuum exhaust;
The exhaust system according to claim 6, wherein the second pipe is a vacuum pipe.
加熱機セットをさらに備えて、少なくとも1個のランプに対して加熱を行なうことを特徴とする
請求項1に記載の排気設備。
The exhaust system according to claim 1, further comprising a heater set, wherein heating is performed on at least one lamp.
前記ランプは冷陰極蛍光ランプであることを特徴とする
請求項8に記載の排気設備。
The exhaust system according to claim 8, wherein the lamp is a cold cathode fluorescent lamp.
本体をさらに備え、
前記回転軸、前記排気セット、前記排気ヘッド及び加熱機セットが前記本体内に設置されることを特徴とする
請求項8に記載の排気設備。
The main body is further provided,
The exhaust system according to claim 8, wherein the rotating shaft, the exhaust set, the exhaust head, and the heater set are installed in the main body.
前記回転軸は、
前記第一軸部分に接続されるインデックス板と、
前記インデックス板を駆動して、前記第一軸部分を回転させる駆動ユニットとを備えることを特徴とする
請求項1に記載の排気設備。
The rotation axis is
An index plate connected to the first shaft portion;
The exhaust system according to claim 1, further comprising a drive unit that drives the index plate to rotate the first shaft portion.
インデックス軸をさらに備え、
前記インデックス板及び前記第一軸部分に接続されることを特徴とする
請求項11に記載の排気設備。
An index axis,
The exhaust system according to claim 11, wherein the exhaust system is connected to the index plate and the first shaft portion.
JP2007116835A 2006-05-04 2007-04-26 Exhaust equipment Pending JP2007299748A (en)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
TW95115941A TWI304995B (en) 2006-05-04 2006-05-04 Exhausting apparatus

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2007299748A true JP2007299748A (en) 2007-11-15

Family

ID=38769048

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2007116835A Pending JP2007299748A (en) 2006-05-04 2007-04-26 Exhaust equipment

Country Status (2)

Country Link
JP (1) JP2007299748A (en)
TW (1) TWI304995B (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008047521A (en) * 2006-08-16 2008-02-28 Keiho Kagi Yugenkoshi Exhaust facility

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08115672A (en) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Home Electron Ltd Device for manufacturing noble-gas discharge lamp
JPH10283931A (en) * 1997-04-09 1998-10-23 Toto Ltd Lamp sealing device
JPH11191374A (en) * 1997-12-26 1999-07-13 Mitsubishi Electric Corp Correcting device and correcting method, correcting method of plasma display panel and correcting method of plasma display panel
JP2006019185A (en) * 2004-07-02 2006-01-19 Ckd Corp Gas exchange device and lamp manufacturing device

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08115672A (en) * 1994-10-14 1996-05-07 Nec Home Electron Ltd Device for manufacturing noble-gas discharge lamp
JPH10283931A (en) * 1997-04-09 1998-10-23 Toto Ltd Lamp sealing device
JPH11191374A (en) * 1997-12-26 1999-07-13 Mitsubishi Electric Corp Correcting device and correcting method, correcting method of plasma display panel and correcting method of plasma display panel
JP2006019185A (en) * 2004-07-02 2006-01-19 Ckd Corp Gas exchange device and lamp manufacturing device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008047521A (en) * 2006-08-16 2008-02-28 Keiho Kagi Yugenkoshi Exhaust facility

Also Published As

Publication number Publication date
TWI304995B (en) 2009-01-01
TW200743134A (en) 2007-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR102429861B1 (en) Substrate processing apparatus, substrate processing method, and recording medium
CN1643322A (en) Heat treatment system and formable vertical chamber
JP5090536B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
JP4813831B2 (en) Surface treatment stage structure
JP6222818B2 (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
KR20120028212A (en) Liquid processing apparatus, liquid processing method and storage medium
CN104347382A (en) Substrate treating apparatus
CN102686880A (en) Cryopump and vacuum pumping method
US20210398844A1 (en) Rotating shaft sealing device and processing apparatus for semiconductor substrate using the same
TWI462173B (en) Substrate processing method and substrate processing apparatus
JP2007299748A (en) Exhaust equipment
JP2008047521A (en) Exhaust facility
JP2013060853A (en) Vacuum processing device and vacuum processing method
JP2010225847A (en) Vacuum processing apparatus, pressure reduction processing method, and substrate processing method
US5718029A (en) Pre-installation of pumping line for efficient fab expansion
WO2012008439A1 (en) Substrate processing method and substrate processing system
TWI824722B (en) Focus ring and method for processing semiconductor wafer
CN1405863A (en) Method and apparatus for isolating air-tight packing in reaction chamber
JP6619905B1 (en) Substrate processing apparatus and method
KR100501618B1 (en) Plasma processing apparatus and shield ring
JPH0395952A (en) Device for manufacturing semiconductor device
JP2007287356A (en) Method for manufacturing organic el display device
CN114864472A (en) Transfer device
JP2008144766A (en) Vacuum apparatus
CN118142968A (en) Vacuum cleaning device and substrate cleaning method

Legal Events

Date Code Title Description
A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100305

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100316

A02 Decision of refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02

Effective date: 20100810