JP2007292635A - Production method of radiation image conversion panel, production device of radiation image conversion panel, radiation image conversion panel, and radiation detector using the panel - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a production method of a radiation image conversion panel of stable thickness of phosphor film and provide a high-sensitive radiation image conversion panel and a radiation detector using it. <P>SOLUTION: In production methods of the radiation image conversion panel containing a phosphor layer converting radiation into visible light, the production method of the radiation image conversion panel is characterized by implementing deposition on the phosphor layer concerned by using deposition techniques where phosphor basic ingredient particles treated with heat before their filling into an aerosol-generating room are forced to collide to a substrate with carrier gas of high flow rate to be deposited on the substrate (the gas deposition deposition technique (the aerosol deposition film-formation technique or the AD film formation technique)). <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、医療診断機器に用いられる放射線画像変換パネルの製造方法、放射線画像変換パネルの製造装置、放射線画像変換パネル及び該放射線画像変換パネルを用いた放射線検出装置に関するものである。   The present invention relates to a method for manufacturing a radiation image conversion panel used in medical diagnostic equipment, a device for manufacturing a radiation image conversion panel, a radiation image conversion panel, and a radiation detection apparatus using the radiation image conversion panel.

従来、放射線写真法に代わる有効な診断手段として、特開昭55−12145号などに記載の輝尽性蛍光体を用いる放射線像記録再生方法、所謂コンピューテッド・ラジオグラフィ(CR)システムが知られている。   Conventionally, a radiation image recording / reproducing method using a stimulable phosphor described in JP-A No. 55-12145, a so-called computed radiography (CR) system is known as an effective diagnostic means in place of radiography. It has been.

この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射線画像変換パネルを利用するもので、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた放射線を輝尽性蛍光体に吸収させ、可視光線、紫外線などの電磁波(励起光とも言う)で時系列的に輝尽性蛍光体を励起して、蓄積されている放射線エネルギーを蛍光(輝尽発光光とも言う)として放射させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号とし、得られた電気信号に基づいて被写体あるいは被検体の放射線画像を可視画像として再生するものである。読み取り後の変換パネルは、残存画像の消去が行われ、次の撮影に供される。   This method uses a radiation image conversion panel containing a stimulable phosphor, and absorbs the radiation transmitted through the subject or emitted from the subject into the stimulable phosphor, visible light, ultraviolet light, etc. The stimulable phosphor is excited in time series with electromagnetic waves (also called excitation light), and the stored radiation energy is emitted as fluorescence (also called stimulated emission light), and this fluorescence is read photoelectrically. The radio image is reproduced as a visible image based on the obtained electrical signal. The conversion panel after reading is subjected to erasure of the remaining image and used for the next photographing.

この方法によれば、放射線写真フィルムと増感紙とを組み合わせて用いる放射線写真法に比して、はるかに少ない被爆線量で情報量豊富な放射線画像が得られる利点がある。又、放射線写真法では撮影毎にフィルムを消費するのに対して、放射線変換パネルは繰り返し使用されるので、資源保護や経済効率の面から有利である。   According to this method, there is an advantage that a radiographic image with a large amount of information can be obtained with a much smaller exposure dose than the radiographic method using a combination of a radiographic film and an intensifying screen. In contrast, the radiographic method consumes a film every time it is taken, whereas the radiation conversion panel is used repeatedly, which is advantageous in terms of resource protection and economic efficiency.

放射線変換パネルは、支持体とその表面に設けられた輝尽性蛍光体層、又は自己支持性の輝尽性蛍光体層のみからなり、輝尽性蛍光体層は、通常、輝尽性蛍光体とこれを分散支持する結合剤からなるものと、蒸着法や焼結法によって形成される輝尽性蛍光体の凝集体のみから構成されるものがある。又、該凝集体の間隙に高分子物質が含浸されているものも知られている。更に、輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対側の表面には通常、ポリマーフィルムや無機物の蒸着膜からなる保護膜が設けられる。   The radiation conversion panel is composed only of a support and a photostimulable phosphor layer provided on the surface or a self-supporting photostimulable phosphor layer. The photostimulable phosphor layer is usually a stimulable phosphor layer. There are those composed of a body and a binder that supports and disperses it, and those composed only of aggregates of stimulable phosphors formed by vapor deposition or sintering. Also known is a polymer material impregnated in the gaps between the aggregates. Further, a protective film made of a polymer film or an inorganic vapor deposition film is usually provided on the surface of the photostimulable phosphor layer opposite to the support side.

更に、最近ではX線蛍光体層と2次元光検出器を用いたフラットパネル型のデジタル放射線検出装置(以下、FPDとも言う)が普及しつつある。これは、画像特性が良好であること、画像の読み取り速度が高速であること等の利点があり、盛んに研究開発が行われている。   Furthermore, recently, a flat panel type digital radiation detection apparatus (hereinafter also referred to as FPD) using an X-ray phosphor layer and a two-dimensional photodetector is becoming widespread. This has advantages such as good image characteristics and high image reading speed, and has been actively researched and developed.

従来のCRシステムに用いられる輝尽性蛍光体プレートやFPDの蛍光体層は、粒径0.1〜20μm程度の微粒子からなる蛍光体微粒子、その蛍光体微粒子を結合させるための樹脂バインダー、これらの隙間に存在する空隙から構成されたシート状の形態からなっている。   Stimulable phosphor plates used in conventional CR systems and phosphor layers of FPD are phosphor particles composed of particles having a particle size of about 0.1 to 20 μm, resin binders for bonding the phosphor particles, It consists of the sheet-like form comprised from the space | gap which exists in this clearance gap.

しかしながら、従来の構成では、X線を照射された蛍光体から放出された光の一部が樹脂バインダーで吸収されることによって蛍光体層の発光量が低下すると言う問題があった。この課題に対し、樹脂バインダーが存在しない蛍光体膜を用いた放射線画像変換パネルとして、気相成長法(気相堆積法)によって支持体上に、細長い柱状結晶を形成した輝尽性蛍光体層を有する放射線画像変換パネルが開示されている(例えば、特許文献1を参照。)。しかし、この様な気相成長法の適用が困難な蛍光体材料が多数あり、製造装置は高真空を必要とするため高価であると言う課題があった。   However, the conventional configuration has a problem in that the amount of light emitted from the phosphor layer is reduced by absorbing a part of the light emitted from the phosphor irradiated with X-rays with the resin binder. In response to this problem, as a radiation image conversion panel using a phosphor film without a resin binder, a stimulable phosphor layer in which elongated columnar crystals are formed on a support by a vapor phase growth method (vapor phase deposition method). (See, for example, Patent Document 1). However, there are many phosphor materials that are difficult to apply such a vapor phase growth method, and there is a problem that the manufacturing apparatus is expensive because it requires a high vacuum.

一方、樹脂バインダーを用いずに高充填率の蛍光体膜を作製する方法として、ガスデポジション法(エアロゾル・デポジション成膜法、AD成膜法)による成膜法が開示されている(例えば、特許文献2を参照。)。しかし、特許文献2に記載の製造条件では、ノズルから噴出された蛍光体粒子が基板に着弾する時の着弾角度が基板の場所により異なるため、得られる蛍光体膜の膜厚が安定せず品質は十分なものではなかった。   On the other hand, as a method for producing a phosphor film having a high filling rate without using a resin binder, a film deposition method by a gas deposition method (aerosol deposition film formation method, AD film formation method) is disclosed (for example, , See Patent Document 2). However, under the manufacturing conditions described in Patent Document 2, since the landing angle when the phosphor particles ejected from the nozzle land on the substrate differs depending on the location of the substrate, the thickness of the resulting phosphor film is not stable and the quality Was not enough.

この様な状況から、エアロゾル・デポジション成膜法(AD成膜法)により蛍光体膜の膜厚が安定した品質を有する放射線画像変換パネルの製造方法、該製造方法により製造された放射線画像変換パネル及びこの放射線画像変換パネルを使用した放射線検出装置を開発することが望まれていた。
特開平2−58000号公報 特開2003−215256号公報
Under such circumstances, a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a quality with a stable phosphor film thickness by an aerosol deposition film forming method (AD film forming method), and a radiation image conversion manufactured by the manufacturing method. It has been desired to develop a panel and a radiation detection apparatus using the radiation image conversion panel.
JP-A-2-58000 JP 2003-215256 A

本発明は、上記問題に鑑みなされたものであり、本発明の目的は、蛍光体膜の膜厚が安定した品質を有する放射線画像変換パネルの製造方法を提供でき、且つ、高感度の放射線画像変換パネル及びそれを用いた放射線検出装置を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a quality with a stable film thickness of a phosphor film, and a highly sensitive radiation image. An object of the present invention is to provide a conversion panel and a radiation detection apparatus using the same.

1.放射線を可視光に変換する蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造法において、該蛍光体層がエアロゾル化室内に充填する前に加熱処理を施した蛍光体原料粒子を基板に高流速のキャリアガスで衝突させて堆積する成膜法(ガスデポジション成膜法(エアロゾル・デポジション成膜法、AD成膜法))を用いて成膜されることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。   1. In a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a phosphor layer for converting radiation into visible light, a phosphor material particle that has been subjected to heat treatment before filling the phosphor layer into an aerosol chamber is loaded onto a substrate at a high flow rate. Production of a radiation image conversion panel characterized by being formed using a film deposition method (gas deposition film formation method (aerosol deposition film formation method, AD film formation method)) deposited by collision with gas Method.

2.加熱処理を300〜1600℃のガス雰囲気下で実施することを特徴とする前記1に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。   2. 2. The method for producing a radiation image conversion panel according to 1 above, wherein the heat treatment is performed in a gas atmosphere at 300 to 1600 ° C.

3.キャリアガスの流速が100〜400m/secであることを特徴とする前記1又は2に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。   3. 3. The method for producing a radiation image conversion panel as described in 1 or 2 above, wherein the flow rate of the carrier gas is 100 to 400 m / sec.

4.前記1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法に使用する放射線画像変換パネルの製造装置が、エアロゾル化室内に充填する前に蛍光体原料粒子を加熱処理手段を有するエアロゾル・デポジション法による成膜装置(エアロゾル・デポジション成膜装置、AD成膜装置)であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造装置。   4). 4. An aerosol having a heat treatment means for phosphor raw material particles before the radiation image conversion panel manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a radiation image conversion panel according to any one of 1 to 3 fills the aerosol generation chamber. An apparatus for manufacturing a radiation image conversion panel, which is a deposition apparatus (aerosol deposition deposition apparatus, AD deposition apparatus) by a deposition method.

5.前記1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。   5. A radiation image conversion panel obtained by the method for manufacturing a radiation image conversion panel according to any one of 1 to 3 above.

6.前記4に記載の放射線画像変換パネルの製造装置で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。   6). 5. A radiographic image conversion panel obtained by the apparatus for manufacturing a radiographic image conversion panel as described in 4 above.

7.前記5又は6に記載の放射線画像変換パネルを用いて放射線を検知することを特徴とする放射線検出装置。   7). 7. A radiation detection apparatus that detects radiation using the radiation image conversion panel according to 5 or 6 above.

本発明による放射線画像変換パネルの製造方法、放射線画像変換パネル及びそれを用いた放射線検出装置は蛍光体膜の膜厚が安定した品質を有するを提供でき、且つ、高感度で優れた効果を有する。   The manufacturing method of the radiation image conversion panel according to the present invention, the radiation image conversion panel, and the radiation detection apparatus using the same can provide the phosphor film having a stable film quality, and have excellent effects with high sensitivity. .

図1は、本発明の放射線画像変換パネルの製造方法によって製造された放射線画像変換パネルの一例を示す断面図である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing an example of a radiation image conversion panel manufactured by the method for manufacturing a radiation image conversion panel of the present invention.

図1において、22はガラス基板等からなる絶縁性基板である。絶縁性基板22上に非晶質シリコンより成る半導体薄膜を用いたフォトダイオードとTFT(薄膜トランジスタ)よりなる光電変換素子23が複数2次元に形成され、その表面に半導体保護層24が形成され、全体として光検出器25が構成されている。ついで、上記光検出器に、蛍光体層26を形成してシンチレータが構成されている。   In FIG. 1, 22 is an insulating substrate made of a glass substrate or the like. A plurality of photodiodes and TFTs (thin film transistors) using a semiconductor thin film made of amorphous silicon are two-dimensionally formed on an insulating substrate 22 and a semiconductor protective layer 24 is formed on the surface thereof. As shown in FIG. Next, a phosphor layer 26 is formed on the photodetector to form a scintillator.

蛍光体層26をシンチレータに設ける方法としては、支持基板12(図1には図示しない)に形成された蛍光体層26を光検出器にはりあわせればよく、必要に応じて接着剤を使用することができる。支持基板が不透明な場合は蛍光体層26と光検出器と接するように形成し、支持基板が光学的に透明な場合は、支持基板を光検出器と接するように形成することができる。   As a method of providing the phosphor layer 26 on the scintillator, the phosphor layer 26 formed on the support substrate 12 (not shown in FIG. 1) may be bonded to the photodetector, and an adhesive is used as necessary. be able to. When the support substrate is opaque, it can be formed so as to contact the phosphor layer 26 and the photodetector, and when the support substrate is optically transparent, the support substrate can be formed so as to contact the photodetector.

また、光検出器が支持基板を兼ねても良く、光検出器の半導体保護層24に、直接、蛍光体層26を形成しても良い。また必要に応じて、光検出器と接しない面の蛍光体層26には光反射層が配置されてもよい。   The photodetector may also serve as a support substrate, and the phosphor layer 26 may be formed directly on the semiconductor protective layer 24 of the photodetector. If necessary, a light reflection layer may be disposed on the phosphor layer 26 on the surface not in contact with the photodetector.

基板としては、特に材料に限定されることはないが、一般的な基板、例えば、樹脂基板、セラミックス、石英ガラス等のほか、チタン、ステンレス、アルミニウム等の金属基板を使用出来る。   The substrate is not particularly limited to the material, but a general substrate, for example, a resin substrate, ceramics, quartz glass, or a metal substrate such as titanium, stainless steel, or aluminum can be used.

蛍光体膜を構成している蛍光体微粒子としては、CaWO4、Gd22S:Tb、BaSO4:Pb、CsI:Tl等の従来知られている蛍光体材料を使用出来る。(Gd,M,Eu)23の一般式で示される蛍光体粒子は、特に発光効率が高いので好ましい。ここで、希土類元素MとしてイットリウムY、ニオブNd、テルビウムTb、ジスプロシウムDy、ホルミウムHo、エルビウムEr、ツリウムTm、イッテルビウムYbの少なくとも1つ以上の元素を含むものとする。これらの元素は放射線吸収率が高いので、粒状性が更に良好な放射線画像を得ることが出来る。又、ガドリニウムGdを40〜95質量%、希土類元素Mを5〜40質量%、ユーロピウムEuを2〜20質量%含有させることで、放射線吸収率及び発光効率を高く出来る。特に、ガドリニウムGdは70〜90質量%が好ましく、ユーロピウムEuは5〜10質量%が好ましい。 As the phosphor fine particles constituting the phosphor film, conventionally known phosphor materials such as CaWO 4 , Gd 2 O 2 S: Tb, BaSO 4 : Pb, CsI: Tl can be used. The phosphor particles represented by the general formula of (Gd, M, Eu) 2 O 3 are preferable because they have particularly high luminous efficiency. Here, the rare earth element M includes at least one element of yttrium Y, niobium Nd, terbium Tb, dysprosium Dy, holmium Ho, erbium Er, thulium Tm, and ytterbium Yb. Since these elements have a high radiation absorptance, it is possible to obtain a radiographic image with better granularity. Further, by containing 40 to 95% by mass of gadolinium Gd, 5 to 40% by mass of rare earth element M, and 2 to 20% by mass of europium Eu, the radiation absorption rate and the light emission efficiency can be increased. In particular, gadolinium Gd is preferably 70 to 90% by mass, and europium Eu is preferably 5 to 10% by mass.

保護層として光透過性の高い樹脂フィルム、例えば、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートフィルム等もしくはガラス等の無機基板等を蛍光体層に接着剤で貼り合わせることも可能である。   As the protective layer, a resin film having high light transmittance, for example, a polyester film, a vinyl chloride film, a polycarbonate film, an inorganic substrate such as glass, or the like can be bonded to the phosphor layer with an adhesive.

また、保護層は、蛍光体層に接着層を介して密着していても良いが、蛍光体面を被覆するように設けられた構造(以下、封止又は封止構造ともいう)であることがより好ましい。蛍光体面を封止するに当たっては、公知のいずれの方法でもよいが、防湿性保護フィルムの蛍光体面に接する側の最外層樹脂層を熱融着性を有する樹脂フィルムとすることは、防湿性保護フィルムが融着可能となり放射線画像変換パネルの封止作業が効率化される点で、好ましい形態の1つである。   The protective layer may be in close contact with the phosphor layer via an adhesive layer, but has a structure (hereinafter also referred to as a sealing or sealing structure) provided to cover the phosphor surface. More preferred. Any known method may be used for sealing the phosphor surface, but the outermost resin layer on the side in contact with the phosphor surface of the moisture-proof protective film may be a moisture-proof protective film. This is one of the preferred embodiments in that the film can be fused and the sealing operation of the radiation image conversion panel is made efficient.

尚、上記熱融着性を有する樹脂フィルムとは、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルムのことであり、例えば、エチレン酢酸ビニルコポリマー(EVA)やポリプロピレン(PP)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム等を挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。   The resin film having the heat-fusible property is a resin film that can be fused with a commonly used impulse sealer. For example, ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), polypropylene (PP) film, polyethylene ( PE) film and the like can be mentioned, but the present invention is not limited to this.

更には、輝尽性蛍光体プレートの上下に防湿性保護フィルムを配置し、その周縁が前記パネルの周縁より外側にある領域で、上下の防湿性保護フィルムをインパルスシーラー等で加熱、融着して封止構造とすることで、前記プレートの外周部からの水分進入も阻止でき好ましい。又、支持体面側の防湿性保護フィルムを1層以上のアルミフィルムをラミネートしてなる積層フィルムとすることで、より確実に水分の進入を低減でき、又この封止方法は作業的にも容易であり好ましい。上記インパルスシーラーで加熱融着する方法においては、減圧環境下で加熱融着することが、プレートの防湿性保護フィルム内での位置ずれ防止や大気中の湿気を排除する意味でより好ましい。   Furthermore, a moisture-proof protective film is arranged above and below the photostimulable phosphor plate, and the upper and lower moisture-proof protective films are heated and fused with an impulse sealer or the like in a region where the peripheral edge is outside the peripheral edge of the panel. The sealing structure is preferable because it prevents water from entering from the outer periphery of the plate. In addition, the moisture-proof protective film on the support surface side is a laminated film formed by laminating one or more aluminum films, so that moisture entry can be reduced more reliably, and this sealing method is easy in terms of work. It is preferable. In the method of heat-sealing with the impulse sealer, heat-sealing in a reduced pressure environment is more preferable in terms of preventing displacement of the plate in the moisture-proof protective film and eliminating moisture in the atmosphere.

防湿性保護フィルムの蛍光体面が接する側の熱融着性を有する最外層の樹脂層と蛍光体面は、接着していても接着していなくてもかまわない。ここでいう接着していない状態とは、微視的には蛍光体面と防湿性保護フィルムとが点接触していても、光学的、力学的には殆ど蛍光体面と防湿性保護フィルムは不連続体として扱える状態のことである。   The outermost resin layer and the phosphor surface having the heat-sealing property on the side where the phosphor surface of the moisture-proof protective film is in contact may or may not be adhered. Here, the state of non-adhesion means that the phosphor surface and the moisture-proof protective film are optically and mechanically discontinuous even if the phosphor surface and the moisture-proof protective film are in point contact. It is a state that can be treated as a body.

成膜装置
図2は本発明の放射線画像変換パネルの製造方法に使用するエアロゾル・デポジション成膜装置の一例を示す模式図である。
Film Forming Apparatus FIG. 2 is a schematic diagram showing an example of an aerosol deposition film forming apparatus used in the method for manufacturing a radiation image conversion panel of the present invention.

本発明の放射線画像変換パネルの製造方法(以下、本発明の製造方法ともいう)で用いることのできる成膜装置の実施形態を例示する。   An embodiment of a film forming apparatus that can be used in the method for manufacturing a radiation image conversion panel of the present invention (hereinafter also referred to as the manufacturing method of the present invention) is illustrated.

エアロゾル・デポジション法による成膜装置(エアロゾル・デポジション成膜装置、AD成膜装置)としては、「応用物理」誌68巻1号44ページ、特開2003−215256号公報等に開示されている。   As a film deposition apparatus (aerosol deposition deposition apparatus, AD film deposition apparatus) by the aerosol deposition method, it is disclosed in "Applied Physics" magazine Vol. 68, No. 1, p. 44, JP-A No. 2003-215256, etc. Yes.

本発明の成膜装置1は、蛍光体膜形成用基板12(以下、単に基板ともいう)を保持する基板ホルダー13、ホルダーをXYZθで3次元に作動させるXYZθステージ14、基板に蛍光体原料を噴出させる細い開口を備えたノズル、ノズル11をエアロゾル化室17とつなぐ配管15を備えたチャンバー16、更に、搬送ガスを貯留する高圧ガスボンベ19、蛍光体粒子原料とキャリアガスが攪拌・混合されるエアロゾル化室17、およびこれらをつなぐ搬送ガス配管21によって構成される。XYZθステージ14の裏面には、ペルチェ素子による温度制御機構が設置され、基板22を最適な温度に保つことができる。   A film forming apparatus 1 of the present invention includes a substrate holder 13 for holding a phosphor film forming substrate 12 (hereinafter also simply referred to as a substrate), an XYZθ stage 14 for operating the holder in three dimensions with XYZθ, and a phosphor material on the substrate. A nozzle having a narrow opening to be ejected, a chamber 16 having a pipe 15 for connecting the nozzle 11 to the aerosol-generating chamber 17, a high-pressure gas cylinder 19 for storing a carrier gas, a phosphor particle material and a carrier gas are agitated and mixed. It comprises an aerosol chamber 17 and a carrier gas pipe 21 connecting them. A temperature control mechanism using a Peltier element is installed on the back surface of the XYZθ stage 14, and the substrate 22 can be maintained at an optimum temperature.

更に、エアロゾル化室17内の蛍光体粒子原料は、以下のような手順によって蛍光体と膜形成基板に形成される。   Furthermore, the phosphor particle raw material in the aerosol chamber 17 is formed on the phosphor and the film forming substrate by the following procedure.

本発明では、蛍光体粒子原料(以下、粒子原料ともいう)をエアロゾル化室17内に充填する前に所定の温度で保持されたガス雰囲気下で加熱処理することを必須としている。好ましくは300℃〜1600℃で加熱処理する。即ち、この加熱処理が本発明の重要な特徴である。   In the present invention, it is essential that the phosphor particle raw material (hereinafter also referred to as particle raw material) is heat-treated in a gas atmosphere maintained at a predetermined temperature before filling the aerosol forming chamber 17. Preferably, heat treatment is performed at 300 ° C to 1600 ° C. That is, this heat treatment is an important feature of the present invention.

その後、エアロゾル化室17内に充填された、好ましくは0.1〜2μmの平均粒径を有する蛍光体微粒子原料は、キャリアガスを貯留する高圧ガスボンベ19から搬送ガス配管21を通ってエアロゾル化室17に導入されキャリアガスと共に、振動、撹拌されてエアロゾル化される。エアロゾル化した蛍光体微粒子原料は配管15を通り、チャンバー16内の細い開口を備えたノズル11から蛍光体膜形成用基板12にキャリアガスとともに吹き付けられ塗膜を形成する。チャンバー16は、真空ポンプ等で排気され、チャンバー16内の真空度は必要に応じて調整されており、0.1〜1000Paの真空度で調整されることが好ましい。   Thereafter, the phosphor fine particle raw material having an average particle diameter of preferably 0.1 to 2 μm filled in the aerosolization chamber 17 passes through the carrier gas pipe 21 from the high-pressure gas cylinder 19 for storing the carrier gas, and is in the aerosolization chamber. Introduced into 17, it is vibrated and stirred together with the carrier gas to be aerosolized. The aerosolized phosphor fine particle raw material passes through the pipe 15 and is sprayed together with the carrier gas from the nozzle 11 having a narrow opening in the chamber 16 to the phosphor film forming substrate 12 to form a coating film. The chamber 16 is evacuated by a vacuum pump or the like, and the degree of vacuum in the chamber 16 is adjusted as necessary, and is preferably adjusted at a degree of vacuum of 0.1 to 1000 Pa.

更に、基板ホルダー13はXYZθステージ14により3次元に動くことができるため、基板の所定の部分に必要な厚みの蛍光体層26が形成できる。基板に形成された蛍光体層26上には、必要に応じて蛍光体保護層24を設けることもできる。   Further, since the substrate holder 13 can be moved three-dimensionally by the XYZθ stage 14, a phosphor layer 26 having a necessary thickness can be formed on a predetermined portion of the substrate. A phosphor protective layer 24 can be provided on the phosphor layer 26 formed on the substrate as necessary.

エアロゾル化された蛍光体微粒子原料は、好ましくは流速100〜400m/secのキャリアガスによって衝突することによって、基板12上に堆積することができる。キャリアガスにより衝突した蛍光体微粒子は、互いに衝突の衝撃によって接合し膜を形成する。   The aerosolized phosphor fine particle material can be deposited on the substrate 12 by colliding with a carrier gas preferably having a flow rate of 100 to 400 m / sec. The phosphor fine particles colliding with the carrier gas are bonded to each other by the impact of the collision to form a film.

尚、蛍光体微粒子18を加速・噴出するためのキャリアガスとしては、窒素ガス、炭酸ガス、アルゴンガス、ヘリウムガス等の不活性ガスが挙げられ、中でも、窒素ガスが好ましい。   Examples of the carrier gas for accelerating and ejecting the fluorescent fine particles 18 include inert gases such as nitrogen gas, carbon dioxide gas, argon gas, and helium gas, and nitrogen gas is preferable.

また、蛍光体微粒子18を衝突させる基板の温度は、−100℃以上、200℃以下に保持することが好ましい。   Moreover, it is preferable to hold | maintain the temperature of the board | substrate which the fluorescent fine particle 18 collides to -100 degreeC or more and 200 degrees C or less.

放射線を効率よく吸収するための蛍光体層の厚みとしては、蛍光体の種類により異なるが、通常50〜500μmの範囲の厚みが好ましい。
また、支持基板に蛍光体層を形成後に、熱処理を行うことで膜の緻密度を調整することもできる。
The thickness of the phosphor layer for efficiently absorbing radiation varies depending on the type of phosphor, but a thickness in the range of 50 to 500 μm is usually preferable.
In addition, after forming the phosphor layer on the supporting substrate, heat treatment is performed to adjust the film density.

(フラットパネル型放射線ディテクタ)
本発明の製造方法によって構成される放射線検出器の他の例として、フラットパネル型の放射線ディテクタ(FPD)について述べる。
(Flat panel type radiation detector)
A flat panel type radiation detector (FPD) will be described as another example of the radiation detector constituted by the manufacturing method of the present invention.

ガラス基板等からなる絶縁性基板上に非晶質シリコンより成る半導体薄膜を用いたフォトダイオードとTFT(薄膜トランジスタ)よりなる光電変換素子が複数2次元に形成され、その表面に半導体保護層が形成され、全体として光検出器が構成される。ついで、上記光検出器に、蛍光体層を形成してFPDが構成される。   A photodiode using a semiconductor thin film made of amorphous silicon and a photoelectric conversion element made of TFT (thin film transistor) are formed two-dimensionally on an insulating substrate made of a glass substrate or the like, and a semiconductor protective layer is formed on the surface. The photodetector is configured as a whole. Next, an FPD is configured by forming a phosphor layer on the photodetector.

蛍光体層をFPDに設ける方法としては、支持基板に形成された蛍光体層、すなわち放射線画像変換パネルを光検出器に貼り合わせればよく、必要に応じて接着剤を使用することができる。支持基板が不透明な場合は、蛍光体層と光検出器と接するように形成し、支持基板が光学的に透明な場合は、支持基板を光検出器と接するように形成することができる。   As a method of providing the phosphor layer on the FPD, the phosphor layer formed on the support substrate, that is, the radiation image conversion panel may be bonded to the photodetector, and an adhesive can be used as necessary. When the support substrate is opaque, it can be formed so as to be in contact with the phosphor layer and the photodetector, and when the support substrate is optically transparent, it can be formed so as to be in contact with the photodetector.

また、光検出器が支持基板を兼ねても良く、光検出器の半導体保護層に、直接、蛍光体層を形成しても良い。また必要に応じて、光検出器と接しない面の蛍光体層には光反射層が配置されてもよい。   The photodetector may also serve as a support substrate, and the phosphor layer may be formed directly on the semiconductor protective layer of the photodetector. If necessary, a light reflecting layer may be disposed on the phosphor layer on the surface not in contact with the photodetector.

本実施形態において、光検出器の詳細な構成、材料、製法等は、特開2003−57353号公報に記載される構成、材料であり、安価で軽量のFPDが得られるため好ましい。   In the present embodiment, the detailed configuration, material, manufacturing method, and the like of the photodetector are the configurations and materials described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-57353, which are preferable because an inexpensive and lightweight FPD can be obtained.

上述の蛍光体粉体としては、CaWO4、Gd22S:Tb、BaSO4:Pb、CsI:Tl等の従来知られている蛍光体材料を使用できる。(Gd,M,Eu)23の一般式で示される蛍光体粒子は、特に発光効率が高いので好ましい。
ここで、希土類元素MとしてイットリウムY、ニオブNd、テルビウムTb、ジスプロシウムDy、ホルミウムHo、エルビウムEr、ツリウムTm、イッテルビウムYbの少なくとも一つ以上の元素を含むものとする。
As the above-mentioned phosphor powder, conventionally known phosphor materials such as CaWO 4 , Gd 2 O 2 S: Tb, BaSO 4 : Pb, CsI: Tl can be used. The phosphor particles represented by the general formula of (Gd, M, Eu) 2 O 3 are preferable because they have particularly high luminous efficiency.
Here, the rare earth element M includes at least one element of yttrium Y, niobium Nd, terbium Tb, dysprosium Dy, holmium Ho, erbium Er, thulium Tm, and ytterbium Yb.

これらの元素は放射線吸収率が高いので、粒状性が更に良好な放射線画像を得ることができる。また、ガドリニウムGdを40〜95質量%、希土類元素Mを5〜40質量%、ユウロピウムEuを2〜20質量%含有させることで、放射線吸収率および発光効率を高くできる。特に、ガドリニウムGdは70〜90質量%が好ましく、ユウロピウムEuは5〜10質量%が好ましい。
上述の蛍光体の支持基板としては、特に材料に限定されることはないが、一般的な基板、例えば、樹脂基板、セラミックス、石英ガラス等のほか、チタン、ステンレス、アルミニウム等の金属基板を使用できる。
Since these elements have high radiation absorptance, it is possible to obtain a radiation image with better granularity. Moreover, a radiation absorption factor and luminous efficiency can be made high by containing 40-95 mass% of gadolinium Gd, 5-40 mass% of rare earth elements M, and 2-20 mass% of europium Eu. In particular, gadolinium Gd is preferably 70 to 90% by mass, and europium Eu is preferably 5 to 10% by mass.
The above-mentioned phosphor support substrate is not particularly limited to materials, but a general substrate such as a resin substrate, ceramics, quartz glass, or a metal substrate such as titanium, stainless steel, or aluminum is used. it can.

接着層、蛍光体保護層、半導体保護層は、これらの層の機能が発揮できる厚さであればできるだけ薄い方が、輝度、鮮鋭度を高めることができるために好ましく、通常20μm以下が好ましい。   The adhesive layer, the phosphor protective layer, and the semiconductor protective layer are preferably as thin as possible so long as the functions of these layers can be exerted because the brightness and sharpness can be increased, and are usually preferably 20 μm or less.

光反射層としては、一般的な光反射性材料を形成することにより蛍光体層の輝度を向上できる。これらの材料としては、スパッタ、蒸着等の従来知られている成膜方法により作製される金属膜、例えば、チタン、ニッケル、白金、パラジウム、アルミニウム等の単一金属又はそれらの合金が挙げられる。   As the light reflecting layer, the luminance of the phosphor layer can be improved by forming a general light reflecting material. Examples of these materials include metal films prepared by conventionally known film forming methods such as sputtering and vapor deposition, for example, single metals such as titanium, nickel, platinum, palladium, and aluminum, or alloys thereof.

また、例えば、カーボン粉体をプレス成形し板状としたもの等により光吸収層を形成することで蛍光体層の鮮鋭度を向上できる。反射層、吸収層の形成はX線撮影の目的により適宜選択すればよい。   In addition, for example, the sharpness of the phosphor layer can be improved by forming the light absorption layer using a carbon powder that is press-molded into a plate shape. The formation of the reflection layer and the absorption layer may be appropriately selected depending on the purpose of X-ray photography.

更に、必要に応じて蛍光体の保護層として光透過性の高い樹脂フィルム、例えば、ポリエステルフィルム、塩化ビニルフィルム、ポリカーボネートフィルム等もしくはガラス等の無機基板等を蛍光体層に接着剤で貼り合わせることも可能である。以上のように蛍光体粒子が焼結により一体化された蛍光体層を含むシンチレータを光検出器に接着層を介して接合することにより、放射線検出装置を作製できる。   Further, if necessary, a highly transparent resin film such as a polyester film, a vinyl chloride film, a polycarbonate film, or an inorganic substrate such as glass is bonded to the phosphor layer with an adhesive as a protective layer for the phosphor. Is also possible. As described above, a radiation detection apparatus can be manufactured by joining a scintillator including a phosphor layer in which phosphor particles are integrated by sintering to a photodetector through an adhesive layer.

(輝尽性蛍光体プレート)
本発明の製造方法によって構成された放射線検出器の別の実施形態として、輝尽性蛍光体プレートについて例示する。
(Stimulable phosphor plate)
As another embodiment of the radiation detector constituted by the production method of the present invention, a photostimulable phosphor plate is illustrated.

この態様は、支持体とその表面に設けられた輝尽性蛍光体層からなり、更に輝尽性蛍光体層の支持体側とは反対側の表面には通常、ポリマーフィルムや無機物の蒸着膜からなる保護膜が設けられる。   This embodiment is composed of a support and a photostimulable phosphor layer provided on the surface of the support, and a surface opposite to the support side of the stimulable phosphor layer is usually a polymer film or an inorganic vapor deposition film. A protective film is provided.

輝尽性蛍光体としては、通常400〜900nmの範囲にある励起光によって波長300〜500nmの範囲にある輝尽発光を示すものが一般的に利用され、特開昭55−12145号、同55−160078号、同56−74175号、同56−116777号、同57−23673号、同57−23675号、同58−206678号、同59−27289号、同59−27980号、同59−56479号、同59−56480号等に記載の希土類元素賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体;特開昭59−75200号、同60−84381号、同60−106752号、同60−166379号、同60−221483号、同60−228592号、同60−228593号、同61−23679号、同61−120882号、同61−120883号、同61−120885号、同61−235486号、同61−235487号等に記載の2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体;特開昭55−12144号に記載の希土類元素賦活オキシハライド蛍光体;特開昭58−69281号に記載のセリウム賦活3価金属オキシハライド蛍光体;特開昭60−70484号に記載のビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物蛍光体;特開昭60−141783号、同60−157100号に記載の2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロ燐酸塩蛍光体;特開昭60−157099号に記載の2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属ハロホウ酸塩蛍光体;特開昭60−217354号に記載の2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属水素化ハロゲン化物蛍光体;特開昭61−21173号、同61−21182号に記載のセリウム賦活希土類複合ハロゲン化物蛍光体;特開昭61−40390号に記載のセリウム賦活希土類ハロ燐酸塩蛍光体;特開昭60−78151号に記載の2価のユーロピウム賦活ハロゲン化セリウム・ルビジウム蛍光体;特開昭60−78151号に記載の2価のユーロピウム賦活複合ハロゲン化物蛍光体、等が挙げられ、中でも、沃素を含有する2価のユーロピウム賦活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系蛍光体、沃素を含有する希土類元素賦活オキシハロゲン化物蛍光体及び沃素を含有するビスマス賦活アルカリ金属ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示す。   As the photostimulable phosphor, those that exhibit photostimulated luminescence in the wavelength range of 300 to 500 nm by excitation light in the range of usually 400 to 900 nm are generally used. -160078, 56-74175, 56-116777, 57-23673, 57-23675, 58-206678, 59-27289, 59-27980, 59-56479 Rare earth element activated alkaline earth metal fluoride halide phosphors described in JP-A-59-75200, JP-A-60-84381, JP-A-60-106752, and JP-A-60-166379. , 60-222143, 60-228592, 60-228593, 61-23679, 61-12088 Divalent europium-activated alkaline earth metal fluorohalide-based phosphors described in JP-A Nos. 61-120883, 61-120485, 61-235486, and 61-235487; Rare earth element activated oxyhalide phosphor described in JP-A-12144; cerium-activated trivalent metal oxyhalide phosphor described in JP-A-58-69281; bismuth-activated alkali metal halide described in JP-A-60-70484 Phosphor: divalent europium activated alkaline earth metal halophosphate phosphor described in JP-A-60-141783 and JP-A-60-157100; divalent europium activated alkali described in JP-A-60-157099 Earth metal haloborate phosphor; divalent europium activated alkaline earth described in JP-A-60-217354 Metal hydride halide phosphor; cerium-activated rare earth composite halide phosphor described in JP-A-61-2173 and JP-A-6-21182; cerium-activated rare earth halophosphate fluorescence described in JP-A-61-1390 A divalent europium-activated cerium / rubidium phosphor described in JP-A-60-78151; a divalent europium-activated composite halide phosphor described in JP-A-60-78151; In particular, a divalent europium activated alkaline earth metal fluoride halide phosphor containing iodine, a rare earth element activated oxyhalide phosphor containing iodine, and a bismuth activated alkali metal halide phosphor containing iodine. Indicates high-intensity stimulated luminescence.

特に好ましい輝尽性蛍光体の組成としては、
一般式Ba1-x(M2xFBry1-y:aM1,bLn,cO
〔式中、M1:Li、Na、K、Rb及びCsから選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属原子、M2:Be、Mg、Sr及びCaから選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属原子、Ln:Ce、Pr、Sm、Eu、Gd、Tb、Tm、Dy、Ho、Nd、Er及びYbから選ばれる少なくとも一種の希土類元素、x、y、a、b及びcは、それぞれ0≦x≦0.3、0<y≦0.3、0≦a≦0.05、0<b≦0.2,0<c≦0.1の範囲の数値を表す。〕
または、
一般式M1X・aM2X′2・bM3X″3:eA
〔式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価の金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価の金属原子であり、X、X′、X″は各々F、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲンで原子であり、Aは、Eu、Tb、In、Cs、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgから選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。〕
輝尽性蛍光体プレートに用いられる支持体としては、各種高分子材料、ガラス、金属等が用いられる。特に情報記録材料としての取り扱い上可撓性のあるシートあるいはウェブに加工できるものが好適であり、この点からいえばセルロースアセテートフィルム、ポリエステルフィルム、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリアミドフィルム、ポリイミドフィルム、トリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィルム等のプラスチックフィルム、アルミニウム、鉄、銅、クロム等の金属シートあるいは該金属酸化物の被覆層を有する金属シートが好ましい。また、これら支持体の膜厚は用いる支持体の材質等によって異なるが、一般的には80〜1000μmであり、取り扱い上の点から、さらに好ましくは80〜500μmである。これらの支持体の表面は滑面であってもよいし、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面としても良い。
As a particularly preferred stimulable phosphor composition,
Formula Ba 1-x (M 2) x FBr y I 1-y: aM 1, bLn, cO
Wherein, M 1: Li, Na, K, of at least one alkali metal atom selected from Rb and Cs, M 2: Be, Mg , at least one alkaline earth metal atom selected from Sr and Ca, Ln: At least one rare earth element selected from Ce, Pr, Sm, Eu, Gd, Tb, Tm, Dy, Ho, Nd, Er, and Yb, x, y, a, b, and c are 0 ≦ x ≦ 0. 3, 0 <y ≦ 0.3, 0 ≦ a ≦ 0.05, 0 <b ≦ 0.2, 0 <c ≦ 0.1. ]
Or
The general formula M 1 X · aM 2 X'2 · bM 3 X "3: eA
[Wherein, M 1 is at least one alkali metal atom selected from Li, Na, K, Rb and Cs atoms, and M 2 is Be, Mg, Ca, Sr, Ba, Zn, Cd, Cu. And at least one divalent metal atom selected from each atom of Ni and M 3 is Sc, Y, La, Ce, Pr, Nd, Pm, Sm, Eu, Gd, Tb, Dy, Ho, Er , Tm, Yb, Lu, Al, Ga, and In, and at least one trivalent metal atom selected from each atom, X, X ′, and X ″ are F, Cl, Br, and I, respectively. At least one selected halogen is an atom, and A is Eu, Tb, In, Cs, Ce, Tm, Dy, Pr, Ho, Nd, Yb, Er, Gd, Lu, Sm, Y, Tl, Na At least one metal atom selected from Ag, Cu and Mg Ri, also, a, b, e each represent a number between 0 ≦ a <0.5,0 ≦ b <0.5,0 <e ≦ 0.2.]
As the support used for the photostimulable phosphor plate, various polymer materials, glass, metal and the like are used. In particular, a material that can be processed into a flexible sheet or web for handling as an information recording material is suitable. From this point, a cellulose acetate film, a polyester film, a polyethylene terephthalate film, a polyamide film, a polyimide film, a triacetate film, A plastic film such as a polycarbonate film, a metal sheet such as aluminum, iron, copper, and chromium, or a metal sheet having a coating layer of the metal oxide is preferable. Moreover, although the film thickness of these support bodies changes with materials etc. of the support body to be used, generally it is 80-1000 micrometers, More preferably, it is 80-500 micrometers from the point on handling. The surface of these supports may be a smooth surface, or may be a mat surface for the purpose of improving the adhesion to the photostimulable phosphor layer.

更に、これら支持体は、輝尽性蛍光体層との接着性を向上させる目的で輝尽性蛍光体層が設けられる面に下引層を設けても良い。   Further, these supports may be provided with an undercoat layer on the surface on which the photostimulable phosphor layer is provided for the purpose of improving the adhesiveness with the photostimulable phosphor layer.

輝尽性蛍光体プレートに設ける保護層としては、ポリエステルフィルム、ポリメタクリレートフィルム、ニトロセルロースフィルム、セルロースアセテートフィルム等が使用できるが、ポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンナフタレートフィルム等の延伸加工されたフィルムが、透明性、強さの面で保護層として好ましく、更には、これらのポリエチレンテレフタレートフィルムやポリエチレンテレフタレートフィルム上に金属酸化物、窒化珪素などの薄膜を蒸着した蒸着フィルムが防湿性の面からより好ましい。   As a protective layer provided on the photostimulable phosphor plate, polyester film, polymethacrylate film, nitrocellulose film, cellulose acetate film, etc. can be used, but stretched films such as polyethylene terephthalate film and polyethylene naphthalate film are used. From the viewpoint of transparency and strength, it is preferable as a protective layer. Further, a vapor deposition film obtained by depositing a thin film such as a metal oxide or silicon nitride on the polyethylene terephthalate film or polyethylene terephthalate film is more preferable from the viewpoint of moisture resistance.

前記保護層に用いるフィルムは、必要とされる防湿性に合わせて、樹脂フィルムや樹脂フィルムに金属酸化物などを蒸着した蒸着フィルムを複数枚積層することで最適な防湿性とすることができ、蛍光体の吸湿劣化防止を考慮して、透湿度は少なくとも50g/m2・day以下であることが好ましい。樹脂フィルムの積層方法としては、特に制限はなく、公知のいずれの方法を用いても良い。 The film used for the protective layer can be made optimal moisture-proof by laminating a plurality of vapor-deposited films obtained by vapor-depositing a metal oxide or the like on a resin film or resin film according to the required moisture-proof property, In consideration of preventing moisture absorption deterioration of the phosphor, the moisture permeability is preferably at least 50 g / m 2 · day or less. There is no restriction | limiting in particular as a lamination method of a resin film, You may use any well-known method.

また、積層された樹脂フィルム間に励起光吸収層を設けることによって、励起光吸収層が物理的な衝撃や化学的な変質から保護され安定したプレート性能が長期間維持でき好ましい。又、励起光吸収層は複数箇所設けてもよいし、積層する為の接着剤層に色剤を含有して、励起光吸収層としても良い。   In addition, it is preferable to provide an excitation light absorption layer between the laminated resin films so that the excitation light absorption layer is protected from physical impact and chemical alteration and stable plate performance can be maintained for a long period of time. In addition, the excitation light absorption layer may be provided at a plurality of locations, or a colorant may be contained in the adhesive layer for lamination to form an excitation light absorption layer.

保護層は、蛍光体層に接着層を介して密着していても良いが、蛍光体面を被覆するように設けられた構造(以下、封止又は封止構造ともいう)であることがより好ましい。蛍光体面を封止するに当たっては、公知のいずれの方法でもよいが、防湿性保護フィルムの蛍光体面に接する側の最外層樹脂層を熱融着性を有する樹脂フィルムとすることは、防湿性保護フィルムが融着可能となり放射線画像変換パネルの封止作業が効率化される点で、好ましい形態の1つである。尚、上記熱融着性を有する樹脂フィルムとは、一般に使用されるインパルスシーラーで融着可能な樹脂フィルムのことであり、例えば、エチレン酢酸ビニルコポリマー(EVA)やポリプロピレン(PP)フィルム、ポリエチレン(PE)フィルム等を挙げることができるが、本発明はこれに限定されるものではない。   The protective layer may be in close contact with the phosphor layer via an adhesive layer, but more preferably has a structure (hereinafter also referred to as a sealing or sealing structure) provided to cover the phosphor surface. . Any known method may be used for sealing the phosphor surface, but the outermost resin layer on the side in contact with the phosphor surface of the moisture-proof protective film may be a moisture-proof protective film. This is one of the preferred embodiments in that the film can be fused and the sealing operation of the radiation image conversion panel is made efficient. The resin film having the heat-fusible property is a resin film that can be fused with a commonly used impulse sealer. For example, ethylene vinyl acetate copolymer (EVA), polypropylene (PP) film, polyethylene ( PE) film and the like can be mentioned, but the present invention is not limited to this.

更には、輝尽性蛍光体プレートの上下に防湿性保護フィルムを配置し、その周縁が前記パネルの周縁より外側にある領域で、上下の防湿性保護フィルムをインパルスシーラー等で加熱、融着して封止構造とすることで、前記プレートの外周部からの水分進入も阻止でき好ましい。又、支持体面側の防湿性保護フィルムを1層以上のアルミフィルムをラミネートしてなる積層フィルムとすることで、より確実に水分の進入を低減でき、又この封止方法は作業的にも容易であり好ましい。上記インパルスシーラーで加熱融着する方法においては、減圧環境下で加熱融着することが、プレートの防湿性保護フィルム内での位置ずれ防止や大気中の湿気を排除する意味でより好ましい。   Furthermore, a moisture-proof protective film is arranged above and below the photostimulable phosphor plate, and the upper and lower moisture-proof protective films are heated and fused with an impulse sealer or the like in a region where the peripheral edge is outside the peripheral edge of the panel. The sealing structure is preferable because it prevents water from entering from the outer periphery of the plate. In addition, the moisture-proof protective film on the support surface side is a laminated film formed by laminating one or more aluminum films, so that moisture entry can be reduced more reliably, and this sealing method is easy in terms of work. It is preferable. In the method of heat-sealing with the impulse sealer, heat-sealing in a reduced pressure environment is more preferable in terms of preventing displacement of the plate in the moisture-proof protective film and eliminating moisture in the atmosphere.

防湿性保護フィルムの蛍光体面が接する側の熱融着性を有する最外層の樹脂層と蛍光体面は、接着していても接着していなくてもかまわない。ここでいう接着していない状態とは、微視的には蛍光体面と防湿性保護フィルムとが点接触していても、光学的、力学的には殆ど蛍光体面と防湿性保護フィルムは不連続体として扱える状態のことである。   The outermost resin layer and the phosphor surface having the heat-sealing property on the side where the phosphor surface of the moisture-proof protective film is in contact may or may not be adhered. Here, the state of non-adhesion means that the phosphor surface and the moisture-proof protective film are optically and mechanically discontinuous even if the phosphor surface and the moisture-proof protective film are in point contact. It is a state that can be treated as a body.

以上、本発明で作製できる放射線画像変換パネルの利用例として、FPDと輝尽性蛍光体プレートについて示したが、本発明はこれらに限定されるものでは無い。他の利用例としては、従来の蛍光増感紙と放射線写真フィルムを組み合わせた所謂スクリーンフィルムシステムに用いる蛍光増感紙等が挙げられる。   As mentioned above, although the FPD and the photostimulable phosphor plate have been shown as examples of use of the radiation image conversion panel that can be produced by the present invention, the present invention is not limited to these. Another example of use is a fluorescent intensifying screen used in a so-called screen film system in which a conventional fluorescent intensifying screen and a radiographic film are combined.

以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明の実施態様はこれらに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example is given and this invention is demonstrated concretely, the embodiment of this invention is not limited to these.

以下、フラットパネル型のデジタル放射線検出装置(FPD)を用いた実施例を説明する。   Hereinafter, an embodiment using a flat panel type digital radiation detector (FPD) will be described.

実施例1
《放射線検出装置の作製》
(放射線検出装置1の作製:本発明)
厚さ1.0mmの無アルカリガラス基板上の非晶質シリコンから成る半導体薄膜上に、フォトダイオードとTFTからなる光電変換素子を形成し、その上にSiNxよりなる保護膜を形成して光検出器を作製した。
Example 1
<Production of radiation detection device>
(Preparation of radiation detector 1: the present invention)
A photoelectric conversion element composed of a photodiode and a TFT is formed on a semiconductor thin film composed of amorphous silicon on a non-alkali glass substrate having a thickness of 1.0 mm, and a protective film composed of SiNx is formed on the photoelectric conversion element. A vessel was made.

成膜前に200℃のガス雰囲気下で加熱処理した粒度分布0.1〜1μm、平均粒径0.5μmの(Y,Gd,Eu)23の蛍光体粒子をエアロゾル化室に充填し、キャリアガスとして流速600m/sのN2ガスを用い、チャンバーの真空度は100Pa、基板温度を20℃として、厚さ1mmのステンレス製支持基板に板吹を吹き付けるて200μmの成膜を行った。更に、蛍光体層及び基板と光検出器を、アクリル系接着剤(協立化学社製;商品名ワールドロックNO.XSG−5)により接合することで放射線検出装置1を作製した。 The particle size was heat treated in a gas atmosphere of 200 ° C. before the formation distribution 0.1 to 1 [mu] m, average particle diameter 0.5μm of (Y, Gd, Eu) phosphor particles 2 O 3 was charged into aerosolizing chamber Then, N 2 gas having a flow rate of 600 m / s was used as a carrier gas, the degree of vacuum in the chamber was 100 Pa, the substrate temperature was 20 ° C., and a film was formed to a thickness of 200 μm by blowing a plate on a 1 mm-thick stainless steel support substrate. . Furthermore, the radiation detection apparatus 1 was produced by joining the phosphor layer and the substrate to the photodetector with an acrylic adhesive (manufactured by Kyoritsu Chemical Co., Ltd .; trade name: Worldlock NO. XSG-5).

実施例2〜5
成膜前のガス雰囲気下で蛍光体粒子を加熱処理する温度を表1に示す温度、キャリアーガスの流速を表1に示す流速を替えた以外は実施例1と同様にして放射線検出装置2〜5作製した。
Examples 2-5
The radiation detectors 2 to 2 were prepared in the same manner as in Example 1 except that the temperature at which the phosphor particles were heat-treated in the gas atmosphere before film formation was changed to the temperature shown in Table 1, and the flow rate of the carrier gas was changed to the flow rate shown in Table 1. 5 were produced.

蛍光体粒子
実施例6
(放射線検出装置6の作製:比較例)
上記放射線検出装置1の作製と同様にして光検出器を作製した。
Phosphor particles Example 6
(Production of radiation detector 6: comparative example)
A photodetector was produced in the same manner as in the production of the radiation detection apparatus 1.

粒度分布0.1〜1μm、平均粒径0.5μmの(Y,Gd,Eu)23の蛍光体粒子をエアロゾル化室に充填し、キャリアガスとして流速600m/sのHeガスを用い、チャンバーの真空度は100Paとして、厚さ1mmのステンレス製支持基板に吹きつけて200μmの成膜を試みた。更に、蛍光体層及び基板と光検出器をアクリル系接着剤(協立化学社製;商品名ワールドロックNO.XSG−5)により接合することで放射線検出装置6を作製した。 (Y, Gd, Eu) 2 O 3 phosphor particles having a particle size distribution of 0.1 to 1 μm and an average particle size of 0.5 μm are filled in an aerosol chamber, and He gas having a flow rate of 600 m / s is used as a carrier gas. The chamber was vacuumed at 100 Pa and sprayed onto a 1 mm thick stainless steel support substrate to attempt a 200 μm film formation. Furthermore, the radiation detection apparatus 6 was produced by joining a fluorescent substance layer, a board | substrate, and a photodetector with the acrylic adhesive (the Kyoritsu-Chemical company make; brand name Worldlock NO.XSG-5).

《放射線検出装置の評価》
各放射線検出装置について、鮮鋭度を測定し、得られた結果を表1に示す。
感度測定は、厚さ100mmの水ファントムを通して、管電圧100kVのX線で撮影した時の値であり、比較例である放射線検出装置6の感度を1とした相対感度で表示した。
<< Evaluation of radiation detector >>
The sharpness was measured for each radiation detection device, and the results obtained are shown in Table 1.
The sensitivity measurement is a value obtained by photographing with an X-ray having a tube voltage of 100 kV through a water phantom having a thickness of 100 mm, and is displayed as a relative sensitivity with the sensitivity of the radiation detection device 6 as a comparative example being set to 1.

Figure 2007292635
Figure 2007292635

表1から明らかなように、本発明が比較に比して優れていることが分かる。   As is apparent from Table 1, the present invention is superior to the comparison.

本発明の放射線画像変換パネルの製造方法によって製造された放射線画像変換パネルの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the radiographic image conversion panel manufactured by the manufacturing method of the radiographic image conversion panel of this invention. 本発明の放射線画像変換パネルの製造方法に使用するエアロゾル・デポジション成膜装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the aerosol deposition film-forming apparatus used for the manufacturing method of the radiographic image conversion panel of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 製造放置
11 ノズル
12 蛍光体塗膜形成用基板
13 基板ホルダー
14 XYZθステージ
15 配管
16 チャンバー
17 エアロゾル化室
18 蛍光体微粒子
19 高圧ガスボンベ
20 振動撹拌
21 搬送ガス配管
22 基板
23 画素
24 保護層
25 光検出器
26 蛍光体層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Manufacture 11 nozzle 12 Substrate for phosphor coating film 13 Substrate holder 14 XYZθ stage 15 Piping 16 Chamber 17 Aerosolization chamber 18 Phosphor fine particles 19 High-pressure gas cylinder 20 Vibrating stirring 21 Carrier gas piping 22 Substrate 23 Pixel 24 Protective layer 25 Detector 26 Phosphor layer

Claims (7)

放射線を可視光に変換する蛍光体層を有する放射線画像変換パネルの製造法において、該蛍光体層がエアロゾル化室内に充填する前に加熱処理を施した蛍光体原料粒子を基板に高流速のキャリアガスで衝突させて堆積する成膜法(ガスデポジション成膜法(エアロゾル・デポジション成膜法、AD成膜法))を用いて成膜されることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造方法。 In a method for manufacturing a radiation image conversion panel having a phosphor layer for converting radiation into visible light, a phosphor material particle that has been subjected to heat treatment before filling the phosphor layer into an aerosol chamber is loaded onto a substrate at a high flow rate. Production of a radiation image conversion panel characterized by being formed using a film deposition method (gas deposition film formation method (aerosol deposition film formation method, AD film formation method)) deposited by collision with gas Method. 加熱処理を300〜1600℃のガス雰囲気下で実施することを特徴とする請求項1に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the heat treatment is performed in a gas atmosphere at 300 to 1600 ° C. キャリアガスの流速が100〜400m/secであることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線画像変換パネルの製造方法。 The method for producing a radiation image conversion panel according to claim 1, wherein the flow rate of the carrier gas is 100 to 400 m / sec. 請求項1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法に使用する放射線画像変換パネルの製造装置が、エアロゾル化室内に充填する前に蛍光体原料粒子を加熱処理手段を有するエアロゾル・デポジション法による成膜装置(エアロゾル・デポジション成膜装置、AD成膜装置)であることを特徴とする放射線画像変換パネルの製造装置。 The radiation image conversion panel manufacturing apparatus used in the method for manufacturing a radiation image conversion panel according to any one of claims 1 to 3 has a heat treatment means for phosphor raw material particles before filling into the aerosolization chamber. An apparatus for producing a radiation image conversion panel, which is a film deposition apparatus (aerosol deposition deposition apparatus, AD film deposition apparatus) by an aerosol deposition method. 請求項1〜3の何れか1項に記載の放射線画像変換パネルの製造方法で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。 A radiation image conversion panel obtained by the method for manufacturing a radiation image conversion panel according to claim 1. 請求項4に記載の放射線画像変換パネルの製造装置で得られることを特徴とする放射線画像変換パネル。 A radiation image conversion panel obtained by the apparatus for manufacturing a radiation image conversion panel according to claim 4. 請求項5又は6に記載の放射線画像変換パネルを用いて放射線を検知することを特徴とする放射線検出装置。 A radiation detection apparatus that detects radiation using the radiation image conversion panel according to claim 5.
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