JP2007291487A - Tantalum powder and production method therefor - Google Patents

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良輔 松岡
Yujiro Mizusaki
雄二郎 水崎
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a tantalum powder which is highly handleable, and can surely impart superior performance to a tantalum electrolytic capacitor. <P>SOLUTION: The tantalum powder has a particle diameter D<SB>1</SB>of 0.2 to 1.0 μm, which is measured with an air-permeable type specific surface area measurement instrument, and shows a ratio (D<SB>2</SB>/D<SB>1</SB>) of the above particle diameter D<SB>1</SB>to a particle diameter D<SB>2</SB>of 1.0 to 3.0, which is measured according to ASTM B330-02. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、タンタル電解コンデンサに用いられるタンタル粉末およびその製造方法に関する。   The present invention relates to a tantalum powder used for a tantalum electrolytic capacitor and a manufacturing method thereof.

タンタル電解コンデンサは、タンタル粉末の成形体からなる陽極と、陽極を化成処理して設けた誘電体である酸化膜と、酸化膜に対向して設けられた陰極とを備えたものである。
タンタル電解コンデンサの性能、特に容量は、陽極を構成するタンタル粉末の粒子径に影響を受け、また、漏れ電流、等価直列抵抗はタンタル粉末の高次構造に影響を受ける。そのため、通常、タンタル電解コンデンサの性能を向上させるために、タンタル粉末の粒子径が特定の範囲になるように調整する(例えば特許文献1参照)。
タンタル粉末の粒子径の測定方法としては、ASTM B330−20に基づいた方法が広く用いられる。
特表2002−516385号公報
The tantalum electrolytic capacitor includes an anode made of a molded body of tantalum powder, an oxide film that is a dielectric provided by chemical conversion of the anode, and a cathode provided to face the oxide film.
The performance, particularly capacity, of the tantalum electrolytic capacitor is affected by the particle size of the tantalum powder constituting the anode, and the leakage current and equivalent series resistance are affected by the higher order structure of the tantalum powder. Therefore, normally, in order to improve the performance of the tantalum electrolytic capacitor, adjustment is made so that the particle diameter of the tantalum powder falls within a specific range (see, for example, Patent Document 1).
As a method for measuring the particle diameter of the tantalum powder, a method based on ASTM B330-20 is widely used.
Special table 2002-516385 gazette

しかし、特許文献1のように、タンタル電解コンデンサの性能を向上させるために、ASTM B330−20に基づいて測定されるタンタル粉末の粒子径を特定範囲にしたにもかかわらず、タンタル電解コンデンサの性能が高くならないことがあった。さらに、粒子径によってはタンタル粉末の取り扱い性が困難になり、タンタル電解コンデンサとした際に期待される性能が発揮されないことがあった。
本発明は、前記事情を鑑みてなされたものであり、取り扱い性が高く、優れた性能のタンタル電解コンデンサを確実に製造できるタンタル粉末およびその製造方法を提供することを目的とする。
However, as described in Patent Document 1, in order to improve the performance of the tantalum electrolytic capacitor, the particle size of the tantalum powder measured based on ASTM B330-20 is set in a specific range, but the performance of the tantalum electrolytic capacitor is improved. Sometimes did not increase. Furthermore, depending on the particle size, handling of the tantalum powder becomes difficult, and the performance expected when used as a tantalum electrolytic capacitor may not be exhibited.
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a tantalum powder capable of reliably producing a tantalum electrolytic capacitor having high handling properties and excellent performance, and a method for producing the same.

本発明者らが、タンタル粉末の粒子径を特定範囲にしても必ずしもタンタル電解コンデンサの性能が高くならない原因について調べた結果、タンタル粉末の粒子径測定で従来採用されていたASTM B330−02に基づく粒子径測定方法に問題があることを見出した。すなわち、ASTM B330−02に基づく粒子径測定方法では、粉末を圧縮せずに測定するが、通常、タンタル電解コンデンサを製造する際にはタンタル粉末を圧縮成形するため、圧縮成形前と後では粒子径が変化することを見出した。したがって、ASTM B330−02に基づいて測定した粒子径を特定しても、圧縮成形後には粒子径が変化してしまって、タンタル電解コンデンサとして充分に性能を発揮しない、あるいは、取り扱い性の低いタンタル粉末となる場合があることを見出した。そして、このような知見に基づき、さらに検討して、以下のタンタル粉末およびその製造方法を発明した。   As a result of investigating the reason why the performance of the tantalum electrolytic capacitor is not necessarily improved even if the particle diameter of the tantalum powder is in a specific range, the present inventors are based on ASTM B330-02, which has been conventionally adopted in the particle diameter measurement of the tantalum powder. It has been found that there is a problem in the particle size measurement method. That is, in the particle size measurement method based on ASTM B330-02, the measurement is performed without compressing the powder. Usually, when manufacturing a tantalum electrolytic capacitor, the tantalum powder is compression-molded. We found that the diameter changed. Therefore, even if the particle diameter measured based on ASTM B330-02 is specified, the particle diameter is changed after compression molding, so that the performance as a tantalum electrolytic capacitor is not sufficiently exhibited, or tantalum having low handleability. It has been found that it may be powdered. And based on such knowledge, it further examined and invented the following tantalum powder and its manufacturing method.

[1] 空気透過式比表面積測定装置を用いて測定した粒子径Dが0.2〜1.0μm、かつ、ASTM B330−02に準拠して測定した粒子径Dと前記粒子径Dとの比(D/D)が1.0〜3.0であることを特徴とするタンタル粉末。
[2] [1]に記載のタンタル粉末を製造するタンタル粉末の製造方法であって、
タンタルの凝集粉を解砕して解砕粉を得る解砕工程と、
解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱し、凝集させて第1の再凝集粉を得る第1の再凝集工程と、
第1の再凝集粉を解砕して第1の再解砕粉を得る第1の再解砕工程と、
第1の再解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱し、凝集させて第2の再凝集粉を得る第2の再凝集工程と、
第2の再凝集粉を解砕して第2の再解砕粉を得る第2の再解砕工程とを有することを特徴とすることを特徴とするタンタル粉末の製造方法。
[1] particle diameter D 1 measured using an air permeability type specific surface area measuring device 0.2 to 1.0 [mu] m, and the particle diameter D 2 as measured in accordance with ASTM B330-02 particle diameter D 1 tantalum powder wherein a ratio (D 2 / D 1) is 1.0 to 3.0 with.
[2] A tantalum powder production method for producing the tantalum powder according to [1],
A crushing step of crushing the tantalum agglomerated powder to obtain a crushed powder;
A first re-aggregation step in which the pulverized powder is heated in the presence of an oxygen scavenger and agglomerated to obtain a first re-agglomerated powder;
A first re-pulverization step of pulverizing the first re-agglomerated powder to obtain a first re-pulverized powder;
A second re-aggregation step of heating the first re-pulverized powder in the presence of an oxygen scavenger and agglomerating to obtain a second re-agglomerated powder;
And a second re-pulverization step of pulverizing the second re-agglomerated powder to obtain a second re-pulverized powder.

本発明のタンタル粉末は、取り扱い性が高く、優れた性能のタンタル電解コンデンサを確実に製造できるものである。
本発明のタンタル粉末の製造方法によれば、取り扱い性が高く、優れた性能のタンタル電解コンデンサを確実に製造できるタンタル粉末を製造できる。
The tantalum powder of the present invention has high handleability and can reliably produce a tantalum electrolytic capacitor with excellent performance.
According to the method for producing a tantalum powder of the present invention, it is possible to produce a tantalum powder that can reliably produce a tantalum electrolytic capacitor having high handleability and excellent performance.

(タンタル粉末)
本発明のタンタル粉末は、空気透過式比表面積測定装置を用いて測定した粒子径Dが0.2〜1.0μm、好ましくは0.2〜0.85μm、より好ましくは0.2〜0.6μmである。本発明者らが調べたところ、粒子径Dが1.0μm以下のタンタル粉末を用いたタンタル電解コンデンサはCV値が向上し、漏れ電流およびESRも向上することがわかった。また、粒子径Dが0.2μm以上であることにより、タンタル粉末に必要な強度が確保され、取り扱い性が高くなることがわかった。
(Tantalum powder)
Tantalum powder of the present invention, the particle diameter D 1 measured using an air permeability type specific surface area measuring device 0.2 to 1.0 [mu] m, preferably 0.2~0.85Myuemu, more preferably 0.2 to 0 .6 μm. The present inventors have investigated, tantalum electrolytic capacitor having a particle diameter D 1 used the following tantalum powder 1.0μm is improved CV value was found to be improved leakage current and ESR. Further, by the particle size D 1 is 0.2μm or more, the strength required for tantalum powder is secured, it was found that the handling property becomes high.

空気透過式比表面積測定装置を用いた粒子径Dは、空気透過式比表面積測定装置を用いて粉末の比表面積S(cm/g)を求め、その比表面積Sを、D=6/(ρ・S) (1)に代入することにより求められる(式(1)におけるρは金属タンタルの密度;16.6g/cm)。
なお、式(1)は、球体の体積V=(1/6)・π・D と球体の比表面積S=π・D /w(wはタンタル粉末の質量(g))の式およびρ=w/Vの式により導出される。
Particle diameter D 1 using an air permeability type specific surface area measuring apparatus obtains powder having a specific surface area S w a (cm 2 / g) using an air permeability type specific surface area measuring device, the specific surface area S w, D 1 = 6 / (ρ · S w ) It is obtained by substituting into (1) (ρ in formula (1) is the density of metal tantalum; 16.6 g / cm 3 ).
Note that equation (1) has a specific surface area of the volume V = (1/6) · π · D 1 3 and the sphere of the sphere S w = π · D 1 2 / w (w is the tantalum powder mass (g)) And ρ = w / V.

空気透過式比表面積測定装置による比表面積の測定方法は、粉末を球状粒子と仮定した場合に、粉末からなる試料層を透過する空気の透過性と比表面積との関係を表した下記の式(2)(コゼニー−カーマンの式)を利用する測定方法である。
この測定で使用される空気透過式比表面積測定装置は、図1に示すように、粉末の試料からなる試料層11aが充填される管状のセル11と、セル11が装着され、底部12aが有孔部材からなるセル装着部12と、標線Xと標線Yが記された液面計13aを備え、鉛直に配置され、水が充填される水充填管13と、水を排出する排出口14と、水充填管13および排出口14を接続する可撓性の接続管15と、接続管15に設けられた開閉弁16と、排出口14から排出された水を受ける容器17とを備える測定装置10である。なお、この測定装置10の例としては、島津製作所製粉体比表面積測定装置SS−100形などが挙げられる。
The specific surface area measurement method using an air permeation type specific surface area measuring apparatus is the following formula (representing the relationship between the permeability and the specific surface area of air passing through a sample layer made of powder, assuming that the powder is a spherical particle ( 2) It is a measuring method using (Cozeny-Kerman formula).
As shown in FIG. 1, the air permeation specific surface area measuring apparatus used in this measurement has a tubular cell 11 filled with a sample layer 11a made of a powder sample, a cell 11 and a bottom 12a. A cell mounting portion 12 made of a hole member, a liquid level gauge 13a on which a marked line X and a marked line Y are marked, a water filling pipe 13 which is arranged vertically and filled with water, and an outlet for discharging water 14, a flexible connection pipe 15 that connects the water filling pipe 13 and the discharge port 14, an on-off valve 16 provided in the connection pipe 15, and a container 17 that receives the water discharged from the discharge port 14. This is a measuring device 10. An example of the measuring device 10 is a powder specific surface area measuring device SS-100 manufactured by Shimadzu Corporation.

Figure 2007291487
Figure 2007291487

式(2)において、Sはタンタル粉末の比表面積、ρは金属タンタルの密度(16.6g/cm)、△Pは試料層11aを透過する空気の圧力(以下、透過圧力という。)、μは空気の粘度(0.00018g/(cm・秒))、Aは試料層11aの断面積(セル11の孔の断面積)、tは、排出口14から水を排出した際に水面が標線Xから標線Yに降下するまでの時間、Lは試料層11aの高さ、Qは試料層11aを透過する空気の体積、εは試料層11aの空隙率であり、1−{W/(ρ・A・L)}の式で求められる値である(Wは試料層11aの質量である。)。なお、本発明における測定では、△Pは排出口14の高さを調節して200mmHOになるように調整する。また、試料層11aを透過する空気の体積Qは、水面が標線Xから標線Yに降下した際に水充填管13から流出する水の体積に等しい。 In Equation (2), S w is the specific surface area of the tantalum powder, ρ is the density of metal tantalum (16.6 g / cm 3 ), and ΔP 1 is the pressure of the air that passes through the sample layer 11a (hereinafter referred to as the permeation pressure). ), Μ is the viscosity of the air (0.00018 g / (cm · sec)), A is the cross-sectional area of the sample layer 11a (cross-sectional area of the hole of the cell 11), and t is when water is discharged from the discharge port 14. The time until the water surface falls from the marked line X to the marked line Y, L is the height of the sample layer 11a, Q is the volume of air that passes through the sample layer 11a, ε is the porosity of the sample layer 11a, 1− This is a value obtained by the equation {W / (ρ · A · L)} (W is the mass of the sample layer 11a). In the measurement according to the present invention, ΔP 1 is adjusted to 200 mmH 2 O by adjusting the height of the discharge port 14. Moreover, the volume Q of the air which permeate | transmits the sample layer 11a is equal to the volume of the water which flows out from the water filling pipe | tube 13 when a water surface falls from the marked line X to the marked line Y.

空気透過式比表面積測定装置による比表面積の測定方法では、まず、セル11内にタンタル粉末を充填し、圧縮して試料層11aを形成する。試料層11aを形成する際のタンタル粉末の充填質量Wは16.6gである。また、測定精度が高くなることから、試料層11aの密度が4.0〜4.5g/cmになるように圧縮することが好ましい。
また、開閉弁16を閉じた状態で、液面計13aの標線Xより水面が上に位置するように水充填管13に水を充填する。
次いで、試料層11aの高さLを測定した後、セル11をセル装着部12に装着する。次いで、開閉弁16を開き、排出口14から水を排出させて、試料層11aを介して水充填管13に空気を流入させる。これにより、セル11内の試料層11aに空気を透過させ、液面計13aにおける水面が標線Xから標線Yに降下するまでの時間tを測定する。
そして、式(2)にρ,△P,A,t,μ、L,Q,εの各値を代入して、Sを求める。
空気透過式比表面積測定装置を用いた測定では、粉末内での空気の流れの状態が反映されるため、求められた粒子径Dは、二次粒子の構造および三次粒子の構造が反映されている。
In the specific surface area measurement method using an air permeable specific surface area measurement device, first, the cell 11 is filled with tantalum powder and compressed to form the sample layer 11a. The filling mass W of the tantalum powder when forming the sample layer 11a is 16.6 g. Moreover, since measurement accuracy becomes high, it is preferable to compress so that the density of the sample layer 11a may be set to 4.0-4.5 g / cm < 3 >.
Further, with the open / close valve 16 closed, the water filling tube 13 is filled with water so that the water surface is located above the marked line X of the liquid level gauge 13a.
Next, after measuring the height L of the sample layer 11 a, the cell 11 is mounted on the cell mounting portion 12. Next, the on-off valve 16 is opened, water is discharged from the discharge port 14, and air is caused to flow into the water filling tube 13 through the sample layer 11a. Thereby, air is permeate | transmitted to the sample layer 11a in the cell 11, and the time t until the water surface in the liquid level meter 13a falls from the marked line X to the marked line Y is measured.
Then, [rho in Equation (2), △ P 1, A, t, μ, L, Q, by replacing the values of epsilon, obtaining the S w.
In the measurement using the air permeation type specific surface area measuring device, the state of the air flow in the powder is reflected, so the obtained particle diameter D 1 reflects the structure of the secondary particles and the structure of the tertiary particles. ing.

また、本発明のタンタル粉末は、ASTM B330−02に準拠して測定した粒子径Dと前記粒子径Dとの比(D/D)が1.0〜3.0であり、1.0〜1.6 であることが好ましく、1.0〜1.3であることがより好ましい。本発明者らが調べたところ、D/Dの比が3.0以下であることにより、性能の優れたタンタル電解コンデンサを確実に製造できるタンタル粉末となることがわかった。D/Dの比が3.0以下のタンタル粉末でタンタル電解コンデンサの性能が高くなるのは、圧縮時に二次粒子または三次粒子の構造が壊れにくいためであると考えられる。
なお、D/Dの比が1.0未満になることはない。
Moreover, the tantalum powder of the present invention has a ratio (D 2 / D 1 ) of the particle diameter D 2 measured according to ASTM B330-02 and the particle diameter D 1 of 1.0 to 3.0, It is preferable that it is 1.0-1.6, and it is more preferable that it is 1.0-1.3. As a result of investigation by the present inventors, it was found that when the ratio of D 2 / D 1 is 3.0 or less, a tantalum powder capable of reliably producing a tantalum electrolytic capacitor having excellent performance is obtained. The reason why the performance of the tantalum electrolytic capacitor is enhanced with a tantalum powder having a D 2 / D 1 ratio of 3.0 or less is considered to be because the structure of secondary particles or tertiary particles is not easily broken during compression.
Note that the ratio D 2 / D 1 is never less than 1.0.

ASTM B330−02に準拠して測定した粒子径Dは、下記の式(3)を利用して求められる粒子径である。
粒子径Dを測定する測定装置は、図2に示すように、空気を供給するポンプ等の送気手段21と、第1の配管22aを介して送気手段21に接続され、空気を乾燥する乾燥手段22と、第2の配管23aを介して乾燥手段22に接続され、試料層23bが充填された管状の測定用セル23と、第3の配管24aを介して測定用セル23に接続され、水が充填されたマノメータ24と、第1の配管22aに接続され、先端が開放された管が水中に配置されている圧力調整器25と、第3の配管24aに接続された圧力調整弁26とを備える測定装置20である。
Particle diameter D 2 as measured in accordance with ASTM B330-02 is a particle diameter determined by using the equation (3) below.
The measuring apparatus for measuring a particle diameter D 2, as shown in FIG. 2, the air supply means 21 such as a pump for supplying air is connected to the blowing means 21 through the first pipe 22a, dry air Connected to the drying means 22 through the second pipe 23a, and connected to the measurement cell 23 through the third pipe 24a and the tubular measurement cell 23 filled with the sample layer 23b. The pressure regulator 25 is connected to the manometer 24 filled with water, the first pipe 22a, and the pressure regulator 25 is connected to the third pipe 24a. A measuring device 20 including a valve 26.

Figure 2007291487
Figure 2007291487

式(3)において、Lは試料層23bの高さ、Wは試料層23bの質量、ρは金属タンタルの密度(16.6g/cm)、△Pは試料層23bを透過した空気の圧力、Pは試料層23bに供給する空気の圧力、Aは試料層23bの断面積(測定用セル23の孔の断面積)である。 In Equation (3), L is the height of the sample layer 23b, W is the mass of the sample layer 23b, ρ is the density of metal tantalum (16.6 g / cm 3 ), and ΔP 2 is the air that has passed through the sample layer 23b. Pressure, P is the pressure of the air supplied to the sample layer 23b, and A is the cross-sectional area of the sample layer 23b (the cross-sectional area of the hole of the measurement cell 23).

粒子径Dの測定では、まず、測定用セル23の代わりに、圧力損失を測定用セルに近似させた流量校正用セルを取り付け、送気手段21により空気を供給し、圧力調整弁26の開放度合いを調節して、圧力調整器25の管先端から泡が2〜3個/秒の間隔で生じるように流量を調整する。
また、測定用セル23内にタンタル粉末を16.6g(W)充填して試料層23bを形成する。試料層23b形成では、第1のろ紙23c上にタンタル粉を充填した後、2〜3回程度タッピングし、第2のろ紙23dを被せ、トルクレンチにて222N(ニュートン)=50lbf(エルビーエフ:重量ポンド)で加圧する。
次いで、試料層23bの高さLを測定した後、流量校正用セルを取り外して測定用セル23を取り付け、測定用セル23の試料層23bに圧力Pが50cmHOの空気を供給する。
そして、試料層23bを透過した空気の圧力が安定してからさらに5分間その状態を保った後、試料層23bを透過した空気の圧力△Pをマノメータ24により測定する。そして、式(3)にρ,△P,A,L、Wの各値を代入して、Dを求める。また、測定装置20に付属された、△Pと粒子径Dとの相関図により粒子径Dを求めることができる。
上記粒子径D2の測定では、タンタル粉末内での空気の流れの状態が反映されるため、求められた粒子径Dは、二次粒子の構造および三次粒子の構造が反映されている。
In the measurement of the particle diameter D 2 , first, instead of the measurement cell 23, a flow rate calibration cell whose pressure loss is approximated to the measurement cell is attached, air is supplied by the air supply means 21, and the pressure regulating valve 26 The flow rate is adjusted so that bubbles are generated at intervals of 2 to 3 bubbles / second from the tube tip of the pressure regulator 25 by adjusting the degree of opening.
Further, 16.6 g (W) of tantalum powder is filled in the measurement cell 23 to form the sample layer 23b. In forming the sample layer 23b, the first filter paper 23c is filled with tantalum powder, tapped about 2 to 3 times, covered with the second filter paper 23d, and 222N (Newton) = 50 lbf (Lf: weight) with a torque wrench. Pressure).
Next, after measuring the height L of the sample layer 23 b, the flow rate calibration cell is removed and the measurement cell 23 is attached, and air with a pressure P of 50 cmH 2 O is supplied to the sample layer 23 b of the measurement cell 23.
Then, after the pressure of the air that has passed through the sample layer 23 b is stabilized, the state is maintained for another 5 minutes, and then the pressure ΔP 2 of the air that has passed through the sample layer 23 b is measured by the manometer 24. Then, D 2 is obtained by substituting each value of ρ, ΔP 2 , A, L, and W into Equation (3). Further, the particle diameter D 2 can be obtained from a correlation diagram between ΔP 2 and the particle diameter D 2 attached to the measuring device 20.
In the measurement of the particle diameter D2, since the air flow in the tantalum powder state is reflected, the particle size D 2 obtained, the structure of the structure and tertiary particles of secondary particles is reflected.

タンタル電解コンデンサを製造する際にはタンタル粉末を圧縮してペレット化するため、タンタル粉末をセル内で圧縮して測定して求めた粒子径Dは、タンタル電解コンデンサ製造の実情に合った粒子径である。したがって、空気透過式比表面積測定装置を用いて測定した粒子径DおよびD/Dを特定したタンタル粉末を用いることにより、優れた性能のタンタル電解コンデンサを確実に製造できる。
およびD/Dが前記特定範囲であることにより、タンタル電解コンデンサの性能が高くなるのは、タンタル粉末を圧縮成形した後でも、化成処理する際に酸化液が浸透しやすく、酸化膜を均一に形成でき、タンタル電解コンデンサの漏れ電流を小さくできるためと考えられる。また、電解質が浸透しやすく、タンタル電解コンデンサのESRが小さくなるためと考えられる。
Since the tantalum powder is compressed and pelletized when the tantalum electrolytic capacitor is manufactured, the particle diameter D 1 obtained by compressing and measuring the tantalum powder in the cell is a particle that matches the actual situation of manufacturing the tantalum electrolytic capacitor. Is the diameter. Therefore, by using the tantalum powder specifying the particle diameters D 1 and D 2 / D 1 measured using an air permeation specific surface area measuring device, a tantalum electrolytic capacitor having excellent performance can be reliably manufactured.
When D 1 and D 2 / D 1 are within the specific range, the performance of the tantalum electrolytic capacitor is enhanced because the oxidation solution easily penetrates during the chemical conversion treatment even after the tantalum powder is compression-molded. This is because the film can be formed uniformly and the leakage current of the tantalum electrolytic capacitor can be reduced. Moreover, it is thought that electrolyte permeates easily and ESR of the tantalum electrolytic capacitor is reduced.

(タンタル粉末の製造方法)
次に、上記タンタル粉末を得るためのタンタル粉末の製造方法の一実施形態について説明する。
本実施形態のタンタル粉末の製造方法では、まず、解砕工程にて、タンタルの凝集粉を解砕して解砕粉を得る。
この解砕工程で解砕するタンタルの凝集粉とは、タンタル二次粒子を凝集させた三次粒子のことである。
以下、タンタルの凝集粉を得る方法の一例を示す。
(Method for producing tantalum powder)
Next, an embodiment of a method for producing tantalum powder for obtaining the tantalum powder will be described.
In the method for producing tantalum powder of the present embodiment, first, in the crushing step, the aggregated powder of tantalum is crushed to obtain a crushed powder.
The aggregated powder of tantalum to be crushed in this crushing step is tertiary particles obtained by agglomerating tantalum secondary particles.
Hereinafter, an example of a method for obtaining an aggregated powder of tantalum will be described.

本例では、凝集粉用のタンタル二次粒子を形成するために、図3に示すタンタル粉末の製造装置30(以下、製造装置30と略す。)を用いる。この製造装置30は、タンタル製の反応器31と、反応器31内に設置された撹拌手段32と、フッ化タンタルカリウム(KTaF)を反応器31内に添加するための第1の添加手段33と、還元剤を反応器31内に添加するための第2の添加手段34と、窒素を容器31内に添加するための第3の添加手段35と、排気管36を具備するものである。 In this example, in order to form tantalum secondary particles for agglomerated powder, a tantalum powder production apparatus 30 (hereinafter, abbreviated as production apparatus 30) shown in FIG. 3 is used. The production apparatus 30 includes a tantalum reactor 31, a stirring means 32 installed in the reactor 31, and a first tantalum fluoride (K 2 TaF 7 ) for adding the tantalum fluoride to the reactor 31. An addition means 33, a second addition means 34 for adding a reducing agent into the reactor 31, a third addition means 35 for adding nitrogen into the container 31, and an exhaust pipe 36 It is.

そして、タンタル二次粒子を製造するためには、まず、反応器31内に希釈塩を添加し、反応器31内を加熱して溶融塩31aを調製し、第3の添加手段35により窒素を添加する。次いで、撹拌手段32により反応器31内を撹拌しながら、その溶融塩31a中に、第1の添加手段33を介してフッ化タンタルカリウムを添加して溶融させる。
次いで、撹拌を継続させながら、溶融塩31a中で溶融させたフッ化タンタルカリウムに、第2の添加手段34により還元剤を添加すると共に、これにより、フッ化タンタルカリウムを還元して、一次粒子を形成させると共に一次粒子を凝集させてタンタル二次粒子を得る。この操作を適量ずつ数十回繰り返す。
In order to produce tantalum secondary particles, first, a diluted salt is added into the reactor 31, the inside of the reactor 31 is heated to prepare a molten salt 31 a, and nitrogen is added by the third addition means 35. Added. Next, while stirring the reactor 31 with the stirring means 32, tantalum potassium fluoride is added to the molten salt 31a via the first addition means 33 and melted.
Next, while continuing stirring, the reducing agent is added to the potassium tantalum fluoride melted in the molten salt 31a by the second addition means 34, thereby reducing the potassium tantalum fluoride to produce primary particles. And the primary particles are aggregated to obtain tantalum secondary particles. This operation is repeated several tens of times for each appropriate amount.

溶融塩を構成する希釈塩としては、例えば、塩化カリウム(KCl)、塩化ナトリウム(NaCl)、フッ化カリウム(KF)やこれらの共晶塩などが挙げられる。
還元剤としては、たとえば、ナトリウム、マグネシウム、カルシウム等のアルカリ金属やアルカリ土類金属、これらの水素化物、すなわち水素化マグネシウム、水素化カルシウムが挙げられるが、これらの中ではナトリウムが好ましい。還元剤としてナトリウムを使用すると、フッ化タンタルカリウム中のフッ素とナトリウムとが反応して、ナトリウムのフッ化物が生成する。このフッ化物は水溶性であるため、後の工程で容易に除去可能である。
Examples of the diluted salt constituting the molten salt include potassium chloride (KCl), sodium chloride (NaCl), potassium fluoride (KF), and eutectic salts thereof.
Examples of the reducing agent include alkali metals and alkaline earth metals such as sodium, magnesium and calcium, and hydrides thereof, that is, magnesium hydride and calcium hydride. Among these, sodium is preferable. When sodium is used as the reducing agent, fluorine in sodium tantalum fluoride reacts with sodium to produce sodium fluoride. Since this fluoride is water-soluble, it can be easily removed in a later step.

反応器31内の温度は、800〜900℃であることが好ましい。反応器31内の温度が800℃以上であれば、反応器31内の成分を確実に溶解させることができ、900℃以下であれば、生成したタンタル一次粒子の自己焼結を防止できるため、生成する粒子の粗大化を防ぐことができる。   The temperature in the reactor 31 is preferably 800 to 900 ° C. If the temperature in the reactor 31 is 800 ° C. or higher, the components in the reactor 31 can be reliably dissolved, and if it is 900 ° C. or lower, self-sintering of the generated tantalum primary particles can be prevented. The coarsening of the produced | generated particle | grains can be prevented.

上記方法により得たタンタル二次粒子を凝集させる方法としては、例えば、タンタル二次粒子を熱凝集させる方法が採られる。
タンタル二次粒子を熱凝集する際の加熱温度は900〜1300℃であることが好ましい。加熱温度が900℃以上であれば充分に熱凝集して微粉の発生を抑制でき、加熱温度が1300℃以下であれば、過度の熱凝集を防ぎ、粗大化を防止できる。
また、熱凝集の際には、タンタル二次粒子にバインダとして水を含ませておき、しばらく静置し、染み出した水分を除去した後に乾燥しておくことが好ましい。
As a method of aggregating the tantalum secondary particles obtained by the above method, for example, a method of thermally aggregating the tantalum secondary particles is employed.
The heating temperature when the tantalum secondary particles are thermally aggregated is preferably 900 to 1300 ° C. If heating temperature is 900 degreeC or more, it can fully heat-aggregate and generation | occurrence | production of a fine powder can be suppressed, and if heating temperature is 1300 degrees C or less, excessive thermal aggregation can be prevented and coarsening can be prevented.
Further, at the time of thermal aggregation, it is preferable that water is contained as a binder in the tantalum secondary particles, left standing for a while, and the exuded water is removed and then dried.

解砕工程では、以上のようにして得たタンタルの凝集粉を解砕する。
凝集粉の解砕方法としては、例えば、差動ロールを備えたロールグラニュレータを用いる方法などが挙げられる。ここで、差動ロールとは、2本のロールが間隔を有して配置され、これらが互いに逆回転し、その回転数が異なるものである。
差動ロールにおける2本のロールの周速度の差は、44〜150μmのタンタル粉末がより高い収率で得られることから、一方のロールの周速度が他方のロールの周速度より20%以上速いことが好ましい。
また、解砕方法として、スリットロールを用いる方法を適用することもできる。
In the crushing step, the tantalum agglomerated powder obtained as described above is crushed.
Examples of the method for pulverizing the agglomerated powder include a method using a roll granulator equipped with a differential roll. Here, with a differential roll, two rolls are arrange | positioned with a space | interval, these mutually reversely rotate, and the rotation speed differs.
The difference between the peripheral speeds of the two rolls in the differential roll is that 44-150 μm tantalum powder is obtained in a higher yield, so that the peripheral speed of one roll is 20% or more faster than the peripheral speed of the other roll. It is preferable.
Moreover, the method of using a slit roll is also applicable as a crushing method.

解砕では、凝集粉が二次粒子まで粉砕されることはなく、得られる解砕粉も三次粒子である。   In pulverization, the agglomerated powder is not pulverized to secondary particles, and the obtained pulverized powder is also tertiary particles.

次いで、第1の再凝集工程にて、解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱して凝集させて第1の再凝集粉を得る。
第1の再凝集工程にて使用する脱酸素剤としては、例えば、マグネシウム、カルシウムなどが挙げられるが、マグネシウムが好ましく用いられる。
第1の再凝集工程における加熱温度は700〜1000℃であることが好ましく、700〜870℃であることがより好ましい。第1の再凝集工程における加熱温度が700℃以上であれば、充分に再凝集させることができ、1000℃以下であれば、一次粒子の粗大化を防ぐことができる。そのため、第1の再凝集工程における加熱温度が700〜1000℃であれば、粒子径Dが0.2〜1.0μm、かつ、(D/D)が1.0〜3.0であるタンタル粉末を容易に製造できる。
Next, in the first reaggregation step, the pulverized powder is heated and aggregated in the presence of an oxygen scavenger to obtain a first reaggregated powder.
Examples of the oxygen scavenger used in the first reaggregation step include magnesium and calcium, and magnesium is preferably used.
The heating temperature in the first reaggregation step is preferably 700 to 1000 ° C, and more preferably 700 to 870 ° C. If the heating temperature in the first reaggregation step is 700 ° C. or higher, it can be sufficiently reaggregated, and if it is 1000 ° C. or lower, the primary particles can be prevented from becoming coarse. Therefore, if the heating temperature in the first reaggregation step is 700 to 1000 ° C., the particle diameter D 1 is 0.2 to 1.0 μm, and (D 2 / D 1 ) is 1.0 to 3.0. The tantalum powder can be easily manufactured.

次いで、第1の再解砕工程にて、第1の再凝集粉を解砕して第1の再解砕粉を得る。その際の解砕方法は、上述した解砕工程と同様である。
そして、第1の再解砕工程後、第1の再解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱して凝集させる第2の再凝集工程を行って第2の再凝集粉を得る。第2の再凝集工程は第1の再凝集工程と同じ方法であるが、加熱温度等の条件を変更してもよい。また、各再凝集工程前に水をバインダとして造粒する造粒工程を実施してもよい。
次いで、第2の再解砕工程にて、第2の再凝集粉を解砕して第2の再解砕粉を得て、この第2の再解砕粉をタンタル粉末とする。第2の再解砕工程は第1の再解砕工程と同じ方法であるが、解砕装置を変更してもよい。
Next, in the first re-pulverization step, the first re-agglomerated powder is crushed to obtain the first re-pulverized powder. The crushing method in that case is the same as the crushing process mentioned above.
Then, after the first re-pulverization step, a second re-aggregation step is performed by heating and aggregating the first re-pulverization powder in the presence of an oxygen scavenger to obtain a second re-aggregation powder. The second reaggregation step is the same method as the first reaggregation step, but conditions such as heating temperature may be changed. Moreover, you may implement the granulation process of granulating water as a binder before each re-aggregation process.
Next, in the second re-pulverization step, the second re-agglomerated powder is crushed to obtain a second re-ground powder, and this second re-ground powder is used as tantalum powder. The second re-crushing step is the same method as the first re-crushing step, but the crushing apparatus may be changed.

以上説明した製造方法における第1の再凝集工程および第2の再凝集工程では、脱酸素剤存在下で加熱するため、解砕粉または第1の再解砕粉の表面に形成された酸化膜を還元して、金属のタンタルを露出させることができる。一般的に金属の表面は活性が高いため、金属が露出した解砕粉同士または第1の再解砕粉同士は容易にかつ強固に凝集できる。しかも、この凝集方法では、凝集の際の温度を低くできるため、一次粒子が粗大化しにくい。
また、第1の再解砕工程および第2の再解砕工程では、二次粒子同士の強固な結合を維持しながらも、三次粒子を均一に細かくできる。
このような再凝集、再解砕を繰り返す上記製造方法によれば、一次粒子の粗大化を防ぎつつ、タンタル二次粒子を強固に凝集させ、しかも三次粒子径が特定範囲にあるタンタル粉末を製造できる。具体的には、粒子径Dが0.2〜1.0μm、D/Dが1.0〜3.0のタンタル粉末を得ることができる。
In the first re-aggregation step and the second re-aggregation step in the manufacturing method described above, the oxide film formed on the surface of the crushed powder or the first re-pulverized powder is heated in the presence of the oxygen scavenger. Can be exposed to expose the metallic tantalum. In general, since the metal surface has high activity, the crushed powders exposed from the metal or the first re-pulverized powders can be easily and firmly aggregated. In addition, in this aggregation method, the temperature at the time of aggregation can be lowered, so that the primary particles are hardly coarsened.
Further, in the first re-pulverization step and the second re-pulverization step, the tertiary particles can be uniformly made fine while maintaining a strong bond between the secondary particles.
According to the above production method in which re-agglomeration and re-crushing are repeated, the tantalum secondary particles are strongly agglomerated while preventing coarsening of the primary particles, and the tantalum powder having a tertiary particle diameter in a specific range is produced. it can. Specifically, it is possible particle size D 1 0.2 to 1.0 [mu] m, the D 2 / D 1 to obtain a tantalum powder of 1.0 to 3.0.

なお、本発明のタンタル粉末の製造方法は上述した実施形態に限定されない。例えば、上述した実施形態では、タンタル二次粒子を形成させるために、溶融塩中で溶融させたフッ化タンタルカリウムに還元剤を添加したが、気体状のタンタル化合物に気体状の還元剤に接触させてタンタル二次粒子を形成させてもよい。
気体状のタンタル化合物に気体状の還元剤を接触させる方法としては、例えば、容器中に気体状のタンタル化合物を配置し、容器に気体状の還元剤を供給した後、容器を密閉し、加熱する方法(以下、この方法を気相法という。)などが挙げられる。
気体状の還元剤としては、例えば、水素、気化したナトリウム、気化したマグネシウムなどが挙げられる。
気相法における還元時の温度としては、タンタル化合物の沸点より10〜200℃高い温度であることが好ましい。還元時の温度が、タンタル化合物の沸点より10℃以上高ければ、反応を制御しやすく、タンタル化合物の沸点より200℃以下高い温度であれば、粒子の粗大化を防止できる。
In addition, the manufacturing method of the tantalum powder of this invention is not limited to embodiment mentioned above. For example, in the embodiment described above, a reducing agent is added to potassium tantalum fluoride melted in a molten salt in order to form tantalum secondary particles, but the gaseous tantalum compound is contacted with the gaseous reducing agent. And tantalum secondary particles may be formed.
As a method for bringing a gaseous reducing agent into contact with a gaseous tantalum compound, for example, a gaseous tantalum compound is placed in a container, and after supplying the gaseous reducing agent to the container, the container is sealed and heated. (Hereinafter, this method is referred to as a gas phase method).
Examples of the gaseous reducing agent include hydrogen, vaporized sodium, vaporized magnesium, and the like.
The temperature at the time of reduction in the gas phase method is preferably 10 to 200 ° C. higher than the boiling point of the tantalum compound. If the temperature at the time of reduction is 10 ° C. or more higher than the boiling point of the tantalum compound, the reaction is easily controlled, and if the temperature is 200 ° C. or less higher than the boiling point of the tantalum compound, particle coarsening can be prevented.

また、本発明のタンタル粉末の製造方法では、第2の再凝集工程と第2の再解砕工程とを1回以上繰り返してもよい。   In the method for producing tantalum powder of the present invention, the second reaggregation step and the second repulverization step may be repeated one or more times.

(製造例1)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、900℃に加熱した窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を850℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム37.5gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを10.8g添加し、3分間反応させた。この操作を40回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、粉体面まで水を満たし2時間放置した。そして、染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1150℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
次いで、凝集粉を、全長100mmの差動ロールを3段備えたロールグラニュレータで解砕して解砕粉を得た。その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、700℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕して第1の再解砕粉を得た後、その第1の再解砕粉にマグネシウムチップを添加し、減圧下、790℃で4時間加熱し、脱酸素させつつ再凝集して第2の再凝集粉を得た。この第2の再凝集粉をスリットロールにより解砕して第2の解砕粉からなるタンタル粉末を得た。
(Production Example 1)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas heated to 900 ° C. was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min, and the inside of the reactor was kept in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 850 ° C. to obtain a molten salt. Next, 37.5 g of potassium tantalum fluoride was added to the reactor once, and 1 minute later, 10.8 g of dissolved sodium was added and reacted for 3 minutes. This operation was repeated 40 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, phosphoric acid was added so that phosphorus was 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, which was then placed in a ball, filled with water to the powder surface, and left for 2 hours. Then, the exuding water was removed, transferred to a flat plate for drying, and steam dried at 140 ° C.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1150 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
Next, the agglomerated powder was crushed with a roll granulator equipped with three stages of differential rolls having a total length of 100 mm to obtain crushed powder. 5% by mass of magnesium chips was added to the crushed powder, heated at 700 ° C. under reduced pressure for 4 hours, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was pulverized with the roll granulator to obtain the first re-pulverized powder, and then magnesium chips were added to the first re-pulverized powder, and 790 ° C. under reduced pressure. The mixture was heated for 4 hours and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a second re-agglomerated powder. The second re-agglomerated powder was crushed by a slit roll to obtain a tantalum powder made of the second crushed powder.

(製造例2)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を850℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム37.5gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを10.8g添加し、6分間反応させた。この操作を30回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、粉体面まで水を満たし2時間放置した。そして、染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1200℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
次いで、凝集粉を、全長100mmの差動ロールを3段備えたロールグラニュレータで解砕して解砕粉を得た。その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、870℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕して第1の再解砕粉を得た後、マグネシウムチップを添加し、減圧下、800℃で4時間加熱し、脱酸素させつつ再凝集して第2の再凝集粉を得た。この第2の再凝集粉を前記ロールグラニュレータにより解砕して第2の解砕粉からなるタンタル粉末を得た。
(Production Example 2)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min to keep the inside of the reactor in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 850 ° C. to obtain a molten salt. Next, 37.5 g of potassium tantalum fluoride was added to the reactor once, and after 1 minute, 10.8 g of dissolved sodium was added and reacted for 6 minutes. This operation was repeated 30 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, phosphoric acid was added so that phosphorus was 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, which was then placed in a ball, filled with water to the powder surface, and left for 2 hours. Then, the exuding water was removed, transferred to a flat plate for drying, and steam dried at 140 ° C.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1200 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
Next, the agglomerated powder was crushed with a roll granulator equipped with three stages of differential rolls having a total length of 100 mm to obtain crushed powder. A 5% by mass magnesium chip was added to the crushed powder, heated at 870 ° C. for 4 hours under reduced pressure, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain the first re-pulverized powder, and then magnesium chips were added and heated at 800 ° C. under reduced pressure for 4 hours to deoxygenate. While reaggregating, a second reagglomerated powder was obtained. The second re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain a tantalum powder made of the second crushed powder.

(製造例3)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を880℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム200gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを58g添加し、6分間反応させた。この操作を30回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、粉体面まで水を満たし2時間放置した。そして、染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1250℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、800℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕して第1の解砕粉を得た後、マグネシウムチップを添加し、減圧下、900℃で4時間加熱し、脱酸素させつつ再凝集して第2の再凝集粉を得た。この第2の再凝集粉を前記ロールグラニュレータにより解砕して第2の解砕粉からなるタンタル粉末を得た。
(Production Example 3)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min to keep the inside of the reactor in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 880 ° C. to obtain a molten salt. Next, 200 g of potassium tantalum fluoride was added into the reactor once, and after 1 minute, 58 g of dissolved sodium was added and reacted for 6 minutes. This operation was repeated 30 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, phosphoric acid was added so that phosphorus was 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, which was then placed in a ball, filled with water to the powder surface, and left for 2 hours. Then, the exuding water was removed, transferred to a flat plate for drying, and steam dried at 140 ° C.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1250 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
5% by mass of magnesium chips was added to the crushed powder, heated at 800 ° C. under reduced pressure for 4 hours, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain the first crushed powder, and then magnesium chips were added, heated at 900 ° C. under reduced pressure for 4 hours, and deoxygenated. Re-aggregation gave a second re-agglomerated powder. The second re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain a tantalum powder made of the second crushed powder.

(製造例4)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を880℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム300gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを84g添加し、6分間反応させた。この操作を50回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、圧密して染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1250℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、900℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕してタンタル粉末を得た。
(Production Example 4)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min to keep the inside of the reactor in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 880 ° C. to obtain a molten salt. Next, 300 g of potassium tantalum fluoride was added to the reactor once, and after 1 minute, 84 g of dissolved sodium was added and reacted for 6 minutes. This operation was repeated 50 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, after adding phosphoric acid so that phosphorus becomes 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, the phosphoric acid is put in a ball, and moisture exuded and removed is transferred to a flat plate for drying and steamed at 140 ° C. Dried.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1250 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
A 5 mass% magnesium chip was added to the crushed powder, heated at 900 ° C. under reduced pressure for 4 hours, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain a tantalum powder.

(製造例5)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を850℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム200gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを58g添加し、6分間反応させた。この操作を50回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、圧密して染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1250℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、850℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕してタンタル粉末を得た。
(Production Example 5)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min to keep the inside of the reactor in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 850 ° C. to obtain a molten salt. Next, 200 g of potassium tantalum fluoride was added into the reactor once, and after 1 minute, 58 g of dissolved sodium was added and reacted for 6 minutes. This operation was repeated 50 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, after adding phosphoric acid so that phosphorus becomes 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, the phosphoric acid is put in a ball, and moisture exuded and removed is transferred to a flat plate for drying and steamed at 140 ° C. Dried.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1250 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
5% by mass of magnesium chips was added to the crushed powder, heated at 850 ° C. under reduced pressure for 4 hours, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain a tantalum powder.

(製造例6)
まず、50Lの反応器に、希釈塩であるフッ化カリウムと塩化カリウムを各15kg仕込んだ。次いで、窒素ガスを3L/分の流量で反応器に導入して、反応器内を窒素雰囲気に保った。それと同時に、希釈塩を850℃に加熱して溶融塩とした。次いで、反応器内に、1回あたりフッ化タンタルカリウム300gを添加し、1分後、溶解したナトリウムを84g添加し、6分間反応させた。この操作を50回繰り返して還元反応を行った。この操作の間、反応器内を窒素雰囲気に維持するとともに、攪拌翼で攪拌した(攪拌翼回転数;150rpm)。これによりタンタル二次粒子を得た。
次いで、タンタル二次粒子に対してリンが150ppmになるようにリン酸を添加した後、これをボールに入れ、圧密して染み出してきた水分を除去し、乾燥用平皿に移して140℃蒸気乾燥した。
次いで、乾燥した二次粒子を加熱炉に入れて、1250℃で0.5時間加熱し、凝集させて凝集粉を得た。
その解砕粉に対して5質量%のマグネシウムチップを添加して、減圧下、870℃で4時間加熱して、脱酸素させつつ再凝集して第1の再凝集粉を得た。
その第1の再凝集粉を、前記ロールグラニュレータで解砕してタンタル粉末を得た。
(Production Example 6)
First, 15 kg each of potassium fluoride and potassium chloride as diluted salts were charged into a 50 L reactor. Subsequently, nitrogen gas was introduced into the reactor at a flow rate of 3 L / min to keep the inside of the reactor in a nitrogen atmosphere. At the same time, the diluted salt was heated to 850 ° C. to obtain a molten salt. Next, 300 g of potassium tantalum fluoride was added to the reactor once, and after 1 minute, 84 g of dissolved sodium was added and reacted for 6 minutes. This operation was repeated 50 times to carry out a reduction reaction. During this operation, the reactor was maintained in a nitrogen atmosphere and stirred with a stirring blade (stirring blade rotation speed: 150 rpm). Thereby, tantalum secondary particles were obtained.
Next, after adding phosphoric acid so that phosphorus becomes 150 ppm with respect to the tantalum secondary particles, the phosphoric acid is put in a ball, and moisture exuded and removed is transferred to a flat plate for drying and steamed at 140 ° C. Dried.
Next, the dried secondary particles were put in a heating furnace, heated at 1250 ° C. for 0.5 hours, and aggregated to obtain aggregated powder.
A 5% by mass magnesium chip was added to the crushed powder, heated at 870 ° C. for 4 hours under reduced pressure, and re-agglomerated while deoxidizing to obtain a first re-agglomerated powder.
The first re-agglomerated powder was crushed by the roll granulator to obtain a tantalum powder.

製造例1〜6のタンタル粉末について、粒子径Dと粒子径Dとを測定した。その結果を表1に示す。 The tantalum powder of Preparation 1-6 were measured and the particle size D 1 and the particle diameter D 2. The results are shown in Table 1.

(粒子径Dの測定方法)
図1に示す測定装置10(島津製作所製粉体比表面積測定装置)を使用してタンタル粉末の比表面積Sを求め、比表面積Sを式(1)に代入することにより粒子径Dを求めた。
比表面積の測定方法では、まず、セル11内に16.6g(W)のタンタル粉末を充填し、試料層11aの密度が4.0〜4.5g/cmになるように圧縮して試料層11aを形成した。
また、開閉弁16を閉じた状態で、液面計13aの標線Xより水面が上に位置するように水充填管13に水を充填した。
次いで、試料層11aの高さLを測定した後、セル11をセル装着部12に装着した。次いで、開閉弁16を開き、排出口14から水を排出させ、試料層11aを介して水充填管13に空気を流入させる。これにより、セル11内の試料層11aに空気を透過させ、液面計13aにおける水面が標線Xから標線Yに降下するまでの時間tを測定した。水面が標線Xから標線Yに降下した際に排出した水の量は20cmであり、試料層11aを透過した空気の体積Qが20cmである。
式(2)に、タンタルの密度ρ;16.6g/cm、透過圧力△P;100mmHO、試料層11aの断面積A、水面が標線Xから標線Yに降下するまでの時間t、空気の粘度μ;0.00018g/(cm・秒)、試料層11aの高さL、空気の透過量Q;20cm、空隙率ε;(1−{W/(ρ・A・L)})の各値を代入して、Sを求めた。
(Measurement method of particle size D 1)
Using a measuring device 10 (Shimadzu milling body specific surface area measuring apparatus) shown in FIG. 1 to determine the specific surface area S w tantalum powder, the particle diameter D 1 by substituting a specific surface area S w in equation (1) Asked.
In the method for measuring the specific surface area, first, 16.6 g (W) of tantalum powder is filled in the cell 11, and the sample layer 11a is compressed so that the density of the sample layer 11a is 4.0 to 4.5 g / cm 3. Layer 11a was formed.
Further, with the on-off valve 16 closed, the water filling tube 13 was filled with water so that the water surface was positioned above the marked line X of the liquid level gauge 13a.
Next, after measuring the height L of the sample layer 11 a, the cell 11 was mounted on the cell mounting portion 12. Next, the on-off valve 16 is opened, water is discharged from the discharge port 14, and air is caused to flow into the water filling tube 13 through the sample layer 11a. Thereby, air was permeated through the sample layer 11a in the cell 11, and the time t until the water surface in the liquid level gauge 13a dropped from the marked line X to the marked line Y was measured. The amount of water discharged when the water surface drops from the marked line X to the marked line Y is 20 cm 3 , and the volume Q of the air that has passed through the sample layer 11a is 20 cm 3 .
In the formula (2), the density ρ of tantalum: 16.6 g / cm 3 , the permeation pressure ΔP 1 ; 100 mmH 2 O, the cross-sectional area A of the sample layer 11a, and the water surface from the marked line X to the marked line Y Time t, air viscosity μ; 0.00018 g / (cm · sec), sample layer 11a height L, air permeation Q: 20 cm 3 , porosity ε; (1- {W / (ρ · A · by replacing the values of L)}), it was determined S w.

(粒子径Dの測定方法)
図2に示す測定装置20を使用して粒子径Dを求めた。
粒子径Dの測定では、まず、測定用セル23の代わりに流量校正用セルを取り付け、送気手段21により空気を供給し、圧力調整弁26の開放度合いを調節して、圧力調整器25の管先端から泡が2〜3個/秒生じるように流量を調整した。
また、測定用セル23内にタンタル粉末を16.6g(W)充填して試料層23bを形成する。試料層23b形成では、第1のろ紙上にタンタル粉を充填した後、2〜3回程度タッピングし、第2のろ紙を被せ、トルクレンチにて222N(ニュートン)=50lbf(エルビーエフ:重量ポンド)で加圧した。
次いで、試料層23bの高さLを測定した後、流量校正用セルを取り外して測定用セル23を取り付け、測定用セル23の試料層23bに圧力Pが50cmHOの空気を供給した。
そして、試料層23bを透過した空気の圧力が安定してからさらに5分間その状態を保った後、試料層23bを透過した空気の圧力△Pをマノメータ24により測定した。そして、測定装置に付属された△Pと粒子径との相関図により粒子径Dを求めた。
(Measurement method of particle size D 2)
It was determined particle diameter D 2 by using a measuring device 20 shown in FIG.
In the measurement of the particle diameter D 2 , first, a flow rate calibration cell is attached instead of the measurement cell 23, air is supplied by the air feeding means 21, the degree of opening of the pressure regulating valve 26 is adjusted, and the pressure regulator 25. The flow rate was adjusted so that 2 to 3 bubbles / second were generated from the tube tip.
Further, 16.6 g (W) of tantalum powder is filled in the measurement cell 23 to form the sample layer 23b. In the formation of the sample layer 23b, the first filter paper is filled with tantalum powder, tapped about 2 to 3 times, covered with the second filter paper, and 222 N (Newton) = 50 lbf (Lf: weight pound) with a torque wrench. Was pressurized.
Next, after measuring the height L of the sample layer 23b, the flow rate calibration cell was removed, the measurement cell 23 was attached, and air with a pressure P of 50 cmH 2 O was supplied to the sample layer 23b of the measurement cell 23.
Then, after the pressure of the air that has passed through the sample layer 23b has retained its status stably further 5 minutes, the pressure △ P 2 of the air that has passed through the sample layer 23b was determined by manometer 24. Then, to determine the particle size D 2 by the correlation diagram between accessory has been △ P 2 and the particle diameter measuring device.

また、製造例1〜6のタンタル粉末について以下のようにしてCV値を測定した。その結果を表1に示す。
(CV値の測定方法)
タンタル粉末を、密度が4.5g/cmになるようにタンタルワイヤーと共に成形してペレットを作製し、そのペレットを、濃度0.1体積%のリン酸水溶液中、60℃、電圧10V、電流90mA/gで化成処理した。そして、その化成処理したペレットを測定試料として用い、濃度30.5体積%の硫酸水溶液中、温度25℃、周波数120Hz、電圧1.5VでCV値を測定した。
また、製造例1〜6のタンタル粉末を用いて、5mm程度のペレットから構成される一般にAケースと呼称されるチップ型タンタル電解コンデンサを得た。そして、得られたタンタル電解コンデンサについて以下の基準で評価した。
◎:コンデンサチップ体積当たりの静電容量が大きく、漏れ電流およびESRが極めて小さく、タンタル電解コンデンサとして特に優れた性能を発揮した。タンタル粉末としての取り扱い性も良く、小型ペレットに適した圧縮率であり、充分なワイヤー引き抜け強度を有していた。
○:漏れ電流およびESRが充分小さく、タンタル電解コンデンサとして優れた性能を発揮した。しかも、タンタル粉末の取り扱い性が高く、容易に製造できた。
×:小型ペレットに使用してワイヤー引き抜け強度を確保すると、漏れ電流およびESRが高くなった。また、タンタル粉末の圧縮率が低く、小型のチップ型タンタル電解コンデンサの製造が困難であった。
Further, the CV values of the tantalum powders of Production Examples 1 to 6 were measured as follows. The results are shown in Table 1.
(Measurement method of CV value)
A tantalum powder is molded together with a tantalum wire so as to have a density of 4.5 g / cm 3 to produce a pellet. The pellet is placed in a phosphoric acid aqueous solution having a concentration of 0.1% by volume at 60 ° C., a voltage of 10 V, a current Chemical conversion treatment was performed at 90 mA / g. And the CV value was measured at the temperature of 25 degreeC, the frequency of 120 Hz, and the voltage of 1.5V in the sulfuric acid aqueous solution with a density | concentration of 30.5 volume% using the chemical conversion treatment pellet.
Further, using the tantalum powders of Production Examples 1 to 6, chip-type tantalum electrolytic capacitors generally referred to as “A case” composed of pellets of about 5 mm 3 were obtained. The obtained tantalum electrolytic capacitor was evaluated according to the following criteria.
A: Capacitance per capacitor chip volume is large, leakage current and ESR are extremely small, and particularly excellent performance as a tantalum electrolytic capacitor was exhibited. It was easy to handle as tantalum powder, had a compression rate suitable for small pellets, and had sufficient wire pull-out strength.
○: Leakage current and ESR were sufficiently small, and excellent performance as a tantalum electrolytic capacitor was exhibited. Moreover, the tantalum powder is easy to handle and can be easily manufactured.
X: Leakage current and ESR increased when used for small pellets to ensure wire pull-out strength. Moreover, the compression rate of the tantalum powder is low, and it is difficult to manufacture a small chip-type tantalum electrolytic capacitor.

Figure 2007291487
Figure 2007291487

粒子径Dが0.2〜1.0μm、かつ、D/Dが1.0〜3.0である製造例1〜3のタンタル粉末は、取り扱い性に優れ、タンタル電解コンデンサに適用した際に優れた性能を発揮した。
粒子径Dが1.0μmを超えていた製造例4のタンタル粉末、D/Dが3.0を超えていた製造例5のタンタル粉末、粒子径Dが1.0μmを超え、かつ、D/Dが3.0を超えていた製造例6のタンタル粉末は、取り扱い性が低く、しかもタンタル電解コンデンサに適用した際の性能も低かった。
The tantalum powders of Production Examples 1 to 3 having a particle diameter D 1 of 0.2 to 1.0 μm and D 2 / D 1 of 1.0 to 3.0 are excellent in handleability and applied to tantalum electrolytic capacitors. When performing, it showed excellent performance.
Beyond tantalum powder of Production Example 4 particle diameter D 1 exceeds the 1.0 .mu.m, tantalum powder of Production Example 5 to D 2 / D 1 exceeds the 3.0, a is 1.0 .mu.m particle diameter D 1, In addition, the tantalum powder of Production Example 6 in which D 2 / D 1 exceeded 3.0 had low handleability and low performance when applied to a tantalum electrolytic capacitor.

空気透過式比表面積測定装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of an air permeation | transmission type specific surface area measuring apparatus. 粒子径Dを測定するための粒子径測定装置の一例を示す模式図である。Is a schematic diagram showing an example of a particle diameter measuring apparatus for measuring a particle diameter D 2. タンタル二次粒子の製造装置の一例を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows an example of the manufacturing apparatus of a tantalum secondary particle.

符号の説明Explanation of symbols

10 測定装置(空気透過式比表面積測定装置)
11 セル
11a 試料層
12 セル装着部
13 水充填管
13a 液面計
14 排出口
15 接続管
16 開閉弁
17 容器
20 測定装置
21 送気手段
22 乾燥手段
22a 第1の配管
23 測定用セル
23a 第2の配管
23b 試料層
24 マノメータ
24a 第3の配管
25 圧力調整器
26 圧力調整弁
30 製造装置
31 容器
31a 溶融塩
32 撹拌手段
33 第1の添加手段
34 第2の添加手段
35 第3の添加手段
36 排気管
10 Measuring device (Air-permeable specific surface area measuring device)
DESCRIPTION OF SYMBOLS 11 Cell 11a Sample layer 12 Cell mounting part 13 Water filling pipe 13a Liquid level gauge 14 Outlet 15 Connection pipe 16 On-off valve 17 Container 20 Measuring apparatus 21 Air supply means 22 Drying means 22a First piping 23 Measurement cell 23a Second Pipe 23b Sample layer 24 Manometer 24a Third pipe 25 Pressure regulator 26 Pressure regulating valve 30 Manufacturing device 31 Container 31a Molten salt 32 Stirring means 33 First addition means 34 Second addition means 35 Third addition means 36 Exhaust pipe

Claims (2)

空気透過式比表面積測定装置を用いて測定した粒子径Dが0.2〜1.0μm、かつ、ASTM B330−02に準拠して測定した粒子径Dと前記粒子径Dとの比(D/D)が1.0〜3.0であることを特徴とするタンタル粉末。 The ratio of the particle diameter D 1 measured using an air permeability type specific surface area measuring device 0.2 to 1.0 [mu] m, and a particle diameter D 2 as measured in accordance with ASTM B330-02 and the particle diameter D 1 tantalum powder (D 2 / D 1) is characterized in that 1.0 to 3.0. 請求項1に記載のタンタル粉末を製造するタンタル粉末の製造方法であって、
タンタルの凝集粉を解砕して解砕粉を得る解砕工程と、
解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱し、凝集させて第1の再凝集粉を得る第1の再凝集工程と、
第1の再凝集粉を解砕して第1の再解砕粉を得る第1の再解砕工程と、
第1の再解砕粉を脱酸素剤存在下で加熱し、凝集させて第2の再凝集粉を得る第2の再凝集工程と、
第2の再凝集粉を解砕して第2の再解砕粉を得る第2の再解砕工程とを有することを特徴とすることを特徴とするタンタル粉末の製造方法。
A tantalum powder production method for producing the tantalum powder according to claim 1,
A crushing step of crushing the tantalum agglomerated powder to obtain a crushed powder;
A first re-aggregation step in which the pulverized powder is heated in the presence of an oxygen scavenger and agglomerated to obtain a first re-agglomerated powder;
A first re-pulverization step of pulverizing the first re-agglomerated powder to obtain a first re-pulverized powder;
A second re-aggregation step of heating the first re-pulverized powder in the presence of an oxygen scavenger and agglomerating to obtain a second re-agglomerated powder;
And a second re-pulverization step of pulverizing the second re-agglomerated powder to obtain a second re-pulverized powder.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010168650A (en) * 2008-12-22 2010-08-05 Cabot Corp Fine particle recovery method for valve metal powder
US20120081840A1 (en) * 2009-05-15 2012-04-05 Cabot Corporation Process For Manufacturing Agglomerated Particles Of Tantalum, Mixed Tantalum Powder And Process For Manufacturing Same, Tantalum Pellet And Process For Manufacturing Same, And Capacitor
CN105665731A (en) * 2016-04-15 2016-06-15 陈尚军 Method for preparing tantalum powder

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010168650A (en) * 2008-12-22 2010-08-05 Cabot Corp Fine particle recovery method for valve metal powder
US20120081840A1 (en) * 2009-05-15 2012-04-05 Cabot Corporation Process For Manufacturing Agglomerated Particles Of Tantalum, Mixed Tantalum Powder And Process For Manufacturing Same, Tantalum Pellet And Process For Manufacturing Same, And Capacitor
US9831041B2 (en) * 2009-05-15 2017-11-28 Global Advanced Metals Usa, Inc. Process for manufacturing agglomerated particles of tantalum, mixed tantalum powder and process for manufacturing same, tantalum pellet and process for manufacturing same, and capacitor
US10373764B2 (en) 2009-05-15 2019-08-06 Global Advanced Metals Usa, Inc. Process for manufacturing agglomerated particles of tantalum, mixed tantalum powder and process for manufacturing same, tantalum pellet and process for manufacturing same, and capacitor
CN105665731A (en) * 2016-04-15 2016-06-15 陈尚军 Method for preparing tantalum powder

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