JP2007273533A - Method and device for forming conductive pattern - Google Patents

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Katsuyuki Kobayashi
克行 小林
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for forming a conductive pattern which can ensure ample electrical continuity, even if a resin substrate is employed. <P>SOLUTION: A pattern is formed of a liquid with as micro particles of metal dispersed in a solvent on the surface of a substrate. The solvent is evaporated by making a light beam impinge on the pattern, while controlling so that the light beam will not be incident on a region where the pattern thus formed is not arranged. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、導電パターンの形成方法及び形成装置に関し、特に、形成すべきパターンに対応したマスクを用いることなく、プリント基板に導電パターンを形成する方法及び形成装置に関する。   The present invention relates to a method and apparatus for forming a conductive pattern, and more particularly, to a method and apparatus for forming a conductive pattern on a printed circuit board without using a mask corresponding to the pattern to be formed.

プリント基板上のフォトレジスト膜に回路パターンを描画する方法として、回路パターンが形成されたフォトマスクを用いた密着露光、縮小投影露光、近接露光等が知られている。これらの方法では、プリント基板の少量多品種化が進むと、プリント基板の種類ごとにフォトマスクを作製しなければならない。   Known methods for drawing a circuit pattern on a photoresist film on a printed circuit board include contact exposure, reduced projection exposure, and proximity exposure using a photomask on which a circuit pattern is formed. In these methods, as the number of printed circuit boards is increased and the number of products is increased, a photomask must be prepared for each type of printed circuit board.

フォトマスクを用いない方法として、直接描画法が注目されている。直接描画法においては、ポリゴンミラーやデジタルマイクロミラーデバイス(DMD)を介して、レジスト膜の所望の領域にレーザビームを入射させて潜像を形成する。レジスト膜を現像することにより、レジスト材料からなるパターンが形成される。   As a method not using a photomask, a direct drawing method has attracted attention. In the direct drawing method, a latent image is formed by making a laser beam incident on a desired region of a resist film via a polygon mirror or a digital micromirror device (DMD). By developing the resist film, a pattern made of a resist material is formed.

下記の特許文献1に、レジスト膜を用いることなく、基板上に導電パターンを直接形成する方法が開示されている。以下、特許文献1に開示された方法について説明する。   Patent Document 1 below discloses a method for directly forming a conductive pattern on a substrate without using a resist film. Hereinafter, the method disclosed in Patent Document 1 will be described.

銀粒子が分散されている分散液を、インクジェットノズルからプリント基板に向かって吐出させ、配線パターン状に付着させる。基板を250℃程度に保持して、基板上に付着している分散液の溶媒を蒸発させる。これにより、基板上に銀粒子が残り、配線パターンが形成される。   A dispersion liquid in which silver particles are dispersed is ejected from an ink jet nozzle toward a printed circuit board and attached in a wiring pattern. The substrate is held at about 250 ° C. to evaporate the solvent of the dispersion adhering to the substrate. Thereby, silver particles remain on the substrate, and a wiring pattern is formed.

特開2004−304129号公報JP 2004-304129 A

基板上に付着した銀の微粒子を含む分散液から溶媒を蒸発させたのみでは、微粒子間の電気的導通を十分確保できない場合がある。十分な電気的導通を確保するためには、分散液を付着させた後の熱処理温度を高くしなければならない。このため、基板材料として高温の熱処理に耐えるものを用いなければならず、安価な樹脂製基板を用いることができない。   In some cases, sufficient electrical continuity between the fine particles may not be ensured simply by evaporating the solvent from the dispersion liquid containing silver fine particles adhering to the substrate. In order to ensure sufficient electrical continuity, the heat treatment temperature after depositing the dispersion must be increased. For this reason, a substrate material that can withstand high-temperature heat treatment must be used, and an inexpensive resin substrate cannot be used.

本発明の目的は、樹脂製基板を用いても、十分な電気的導通を確保することが可能な導電パターンの形成方法を提供することである。本発明の他の目的は、この形成方法に適した導電パターン形成装置を提供することである。   The objective of this invention is providing the formation method of the conductive pattern which can ensure sufficient electrical continuity even if it uses a resin-made board | substrate. Another object of the present invention is to provide a conductive pattern forming apparatus suitable for this forming method.

本発明の一観点によれば、(a)溶媒中に金属微粒子が分散した液体により、基板の表面上にパターンを形成する工程と、(b)前記工程aで形成されたパターンが配置されていない領域には光ビームが入射しないように制御して、該パターンに光ビームを入射させ、溶媒を蒸発させる工程とを有する導電パターンの形成方法が提供される。   According to one aspect of the present invention, (a) a step of forming a pattern on the surface of a substrate with a liquid in which metal fine particles are dispersed in a solvent, and (b) the pattern formed in the step a is disposed. There is provided a method for forming a conductive pattern, which includes a step of controlling a light beam not to enter an unexposed region, causing the light beam to enter the pattern, and evaporating the solvent.

本発明の他の観点によると、基板を保持し、保持した基板を、その表面に平行な方向に移動させるステージと、前記ステージに保持された基板の表面に、金属微粒子が分散した液体の液滴を吐出して該表面に付着させるノズルヘッドと、前記ステージに保持された基板の表面に光ビームを入射させる光源と、画像データに基づいて、前記ステージの移動、前記ノズルからの液滴の吐出、及び前記光源からのレーザビームの出射の制御を行う制御装置とを有する導電パターン形成装置が提供される。   According to another aspect of the present invention, a stage that holds a substrate and moves the held substrate in a direction parallel to the surface thereof, and a liquid liquid in which metal fine particles are dispersed on the surface of the substrate held on the stage. A nozzle head that ejects droplets and adheres to the surface; a light source that causes a light beam to enter the surface of the substrate held on the stage; and movement of the stage based on image data; There is provided a conductive pattern forming apparatus having a control device for controlling ejection and emission of a laser beam from the light source.

金属微粒子が分散された液体によってパターンが形成されていない領域には、レーザビームが入射しない。このため、レーザビームによる基板の損傷を防止することができる。また、基板全体を加熱する必要がないため、耐熱性の低い樹脂製の基板を使用することが可能になる。   The laser beam does not enter the region where the pattern is not formed by the liquid in which the metal fine particles are dispersed. For this reason, it is possible to prevent the substrate from being damaged by the laser beam. In addition, since it is not necessary to heat the entire substrate, it is possible to use a resin substrate having low heat resistance.

図1Aに、実施例による導電パターン形成装置の概略図を示す。基台1の上に、XYステージ2が取り付けられている。基台1に固定され、水平面をXY面とするXYZ直交座標系を定義する。XYステージ2は、基板20を、その表面がXY面に平行になるように保持する。XYステージ2は駆動機構3を含み、保持した基板をX軸方向及びY軸方向に並進移動させることができる。駆動機構3は、制御装置10によって制御される。XYステージ2の上方に、ノズルヘッド5及びレーザ光源6が配置されている。ノズルヘッド5は、XYステージ2に対向する面に複数のノズル5aを有する。レーザ光源6は、XYステージ2に対向する面に複数の発光画素6aを有する。   FIG. 1A shows a schematic diagram of a conductive pattern forming apparatus according to an embodiment. An XY stage 2 is attached on the base 1. An XYZ orthogonal coordinate system is defined which is fixed to the base 1 and has a horizontal plane as an XY plane. The XY stage 2 holds the substrate 20 so that the surface thereof is parallel to the XY plane. The XY stage 2 includes a drive mechanism 3 and can translate the held substrate in the X-axis direction and the Y-axis direction. The drive mechanism 3 is controlled by the control device 10. A nozzle head 5 and a laser light source 6 are disposed above the XY stage 2. The nozzle head 5 has a plurality of nozzles 5 a on the surface facing the XY stage 2. The laser light source 6 has a plurality of light emitting pixels 6 a on the surface facing the XY stage 2.

図1Bに、ノズルヘッド5、レーザ光源6及びXYステージ2の平面図を示す。ノズルヘッド5のノズル5aは、Y軸方向に配列している。各ノズル5aは、金属微粒子、例えば銅微粒子が溶媒中に分散された分散液の液滴を吐出する。吐出された液滴は、XYステージ2に保持された基板20の表面に付着する。ノズルヘッド5として、例えば公知のインクジェット法(液滴吐出法)に用いられるインクジェットノズルを用いることができる。ノズル5aをY軸方向に関して密に配置するために、複数のノズルが等ピッチで配列したノズル列を複数列配置し、複数のノズル列のノズルがY軸方向に関して重ならないように、ノズル列をY軸方向に相互にずらしてもよい。   FIG. 1B shows a plan view of the nozzle head 5, the laser light source 6, and the XY stage 2. The nozzles 5a of the nozzle head 5 are arranged in the Y-axis direction. Each nozzle 5a discharges a droplet of a dispersion liquid in which metal fine particles, for example, copper fine particles are dispersed in a solvent. The discharged droplets adhere to the surface of the substrate 20 held on the XY stage 2. As the nozzle head 5, for example, an inkjet nozzle used in a known inkjet method (droplet discharge method) can be used. In order to arrange the nozzles 5a densely in the Y-axis direction, a plurality of nozzle rows in which a plurality of nozzles are arranged at an equal pitch are arranged, and the nozzle rows are arranged so that the nozzles in the plurality of nozzle rows do not overlap in the Y-axis direction. You may mutually shift in the Y-axis direction.

レーザ光源6の発光画素6aは、Y軸方向に配列している。発光画素6aとノズル5aとが1対1に対応する。発光画素6aの各々からレーザビームが出射され、XYステージ2に保持された基板20の表面に入射する。あるノズル5aから吐出された液滴が付着する位置と、そのノズル5aに対応する発光画素6aから出射されたレーザビームの入射する位置とは、Y座標が同一である。レーザ光源6として、例えば半導体レーザを用いることができる。なお、十分なパワーが得られる他の光源、例えば発光ダイオード、COレーザ、エキシマレーザ、Nd:YAG等の固体レーザを用いてもよい。 The light emitting pixels 6a of the laser light source 6 are arranged in the Y-axis direction. The light emitting pixels 6a and the nozzles 5a have a one-to-one correspondence. A laser beam is emitted from each of the light emitting pixels 6 a and is incident on the surface of the substrate 20 held on the XY stage 2. The Y coordinate is the same at the position where the droplet ejected from a certain nozzle 5a is attached and the position where the laser beam emitted from the light emitting pixel 6a corresponding to the nozzle 5a is incident. As the laser light source 6, for example, a semiconductor laser can be used. Note that another light source capable of obtaining sufficient power, for example, a light emitting diode, a CO 2 laser, an excimer laser, or a solid state laser such as Nd: YAG may be used.

ノズル5aから吐出して基板20の表面に付着した液滴の平面寸法は、例えば、25μm程度である。発光画素6aから出射されたレーザビームの、基板20の表面におけるビームスポットサイズは、液滴の平面寸法よりもやや小さい。   The planar dimension of the droplet discharged from the nozzle 5a and adhering to the surface of the substrate 20 is, for example, about 25 μm. The beam spot size of the laser beam emitted from the light emitting pixel 6a on the surface of the substrate 20 is slightly smaller than the plane dimension of the droplet.

制御装置10が、ノズル5aから液滴を吐出するタイミング及び発光画素6aからレーザビームを出射させるタイミングを制御する。基板20をX軸方向に移動させながら、画像データに基づいてノズル5aから液滴を吐出させることにより、基板20の表面に、分散液によるパターンを形成することができる。発光画素6aは、対応するノズル5aから吐出して基板20の表面に付着した液滴にレーザビームが入射するように、その発光タイミングが制御される。このため、レーザビームは、ノズル5aから吐出した液滴が付着した位置には入射するが、付着していない位置には入射しない。   The control device 10 controls the timing at which droplets are ejected from the nozzle 5a and the timing at which a laser beam is emitted from the light emitting pixels 6a. By moving the substrate 20 in the X-axis direction and discharging droplets from the nozzles 5a based on the image data, a pattern of the dispersion liquid can be formed on the surface of the substrate 20. The light emission timing of the light emitting pixels 6a is controlled so that the laser beam is incident on the droplets discharged from the corresponding nozzles 5a and attached to the surface of the substrate 20. For this reason, the laser beam is incident on the position where the droplet discharged from the nozzle 5a is attached, but is not incident on the position where the droplet is not attached.

基板20は、例えば、プリント基板を作製するための樹脂製のコア基板である。ノズル5aから吐出される分散液に分散されている金属微粒子は、例えば直径数μm程度の銅の微粒子である。溶媒として、例えばトルエン等を用いることができる。分散液の粘度は、例えば10mPa・s程度に調整される。なお、液滴の寸法、金属微粒子の寸法は、形成すべきパターンの寸法及び必要とされる解像度に応じて、適宜選択される。   The board | substrate 20 is a resin-made core board | substrate for producing a printed circuit board, for example. The metal fine particles dispersed in the dispersion discharged from the nozzle 5a are, for example, copper fine particles having a diameter of about several μm. For example, toluene or the like can be used as the solvent. The viscosity of the dispersion is adjusted to about 10 mPa · s, for example. The size of the droplet and the size of the metal fine particles are appropriately selected according to the size of the pattern to be formed and the required resolution.

次に、図2A〜図2Cを参照して、第1の実施例による導電パターン形成方法について説明する。   Next, the conductive pattern forming method according to the first embodiment will be described with reference to FIGS. 2A to 2C.

図2Aに示すように、XYステージ2を制御して基板20を初期位置に配置する。基板20をX軸方向に等速で移動させながら、以下の工程を実施する。所定のタイミングで、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから液滴を吐出させる。液滴を吐出させるノズル5a及びそのタイミングは、画像データに基づいて決定される。吐出した液滴30aは、基板20の表面に形成すべきパターンを構成する1つの画素の位置に付着する。   As shown in FIG. 2A, the XY stage 2 is controlled to place the substrate 20 at the initial position. The following steps are performed while moving the substrate 20 at a constant speed in the X-axis direction. Droplets are ejected from a predetermined nozzle 5a of the nozzle head 5 at a predetermined timing. The nozzle 5a that discharges the droplet and its timing are determined based on the image data. The discharged droplet 30a adheres to the position of one pixel constituting the pattern to be formed on the surface of the substrate 20.

図2Bに示すように、液滴30aに続いて、液滴30b及び30cが基板20の表面に形成すべきパターンを構成する画素の位置に付着する。   As shown in FIG. 2B, following the droplet 30a, the droplets 30b and 30c adhere to the positions of the pixels constituting the pattern to be formed on the surface of the substrate 20.

図2Cに示すように、図2Aの工程で付着した液滴30aが、対応する発光画素6aから出射するレーザビームの経路上に配置されると、その発光画素6aからレーザビームを出射させる。これにより、液滴30aの溶媒が蒸発すると共に、金属微粒子の少なくとも表層部が溶融し、相互に接触している微粒子同士が一体化されて金属膜31aが形成される。金属膜31aは、基板20に強力に密着する。   As shown in FIG. 2C, when the droplet 30a attached in the step of FIG. 2A is arranged on the path of the laser beam emitted from the corresponding light emitting pixel 6a, the laser beam is emitted from the light emitting pixel 6a. As a result, the solvent of the droplet 30a evaporates and at least the surface layer portion of the metal fine particles is melted, and the fine particles in contact with each other are integrated to form the metal film 31a. The metal film 31a is firmly attached to the substrate 20.

ノズル5aから吐出されて基板20に付着した液滴30b、30c等が、対応する発光画素6aの照射位置に配置される度に、発光画素6aからレーザビームを出射させる。これにより、基板20の表面に、一体化した金属微粒子からなる導電パターンを形成することができる。   Each time the droplets 30b, 30c, etc. discharged from the nozzle 5a and adhered to the substrate 20 are arranged at the irradiation position of the corresponding light emitting pixel 6a, a laser beam is emitted from the light emitting pixel 6a. As a result, a conductive pattern made of integrated metal fine particles can be formed on the surface of the substrate 20.

レーザビームの照射によって、液滴のみを局所的に加熱するため、基板20全体の温度は上昇しない。このため、耐熱性の低い樹脂基板等の表面にも、導電パターンを形成することができる。   Since only the droplets are locally heated by the laser beam irradiation, the temperature of the entire substrate 20 does not increase. For this reason, a conductive pattern can be formed also on the surface of a resin substrate having low heat resistance.

次に、図3A〜3Dを参照して、第2の実施例による導電パターンの形成方法について説明する。   Next, a method for forming a conductive pattern according to the second embodiment will be described with reference to FIGS.

図3Aに示すように、XYステージ2を制御して基板20を初期位置に配置する。基板20をX軸方向に等速で移動させながら、以下の工程を実施する。画像データに基づいて、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから所定のタイミングで液滴を吐出させる。吐出した液滴30aは、基板20の表面に形成すべきパターンを構成する1つの画素の位置に付着する。   As shown in FIG. 3A, the XY stage 2 is controlled to place the substrate 20 at the initial position. The following steps are performed while moving the substrate 20 at a constant speed in the X-axis direction. Based on the image data, droplets are ejected from a predetermined nozzle 5a of the nozzle head 5 at a predetermined timing. The discharged droplet 30a adheres to the position of one pixel constituting the pattern to be formed on the surface of the substrate 20.

図3Bに示すように、基板20の表面に付着した液滴30aにレーザビームを入射させる。これにより、液滴30aの溶媒が蒸発すると共に、金属微粒子の少なくとも表層部が溶融し、相互に接触している微粒子同士が一体化される。さらに、一体化した金属微粒子31aが基板20に強力に密着する。   As shown in FIG. 3B, the laser beam is incident on the droplet 30a attached to the surface of the substrate 20. Thereby, the solvent of the droplet 30a evaporates, and at least the surface layer portion of the metal fine particles is melted, and the fine particles in contact with each other are integrated. Furthermore, the integrated metal fine particles 31 a are firmly attached to the substrate 20.

図3Cに示すように、画像データに基づいて、ノズルヘッド5の所定のノズル5aから所定のタイミングで次の液滴30bを吐出させる。図3Dに示すように、基板20の表面に付着した液滴30bにレーザビームを入射させる。これにより、金属微粒子が一体化した金属膜31bが形成される。このように、液滴の吐出とレーザビームの照射とを交互に繰り返すことにより、金属膜31a、31b等からなる導電パターンが形成される。   As shown in FIG. 3C, the next droplet 30b is ejected from the predetermined nozzle 5a of the nozzle head 5 at a predetermined timing based on the image data. As shown in FIG. 3D, the laser beam is incident on the droplet 30b attached to the surface of the substrate 20. Thereby, the metal film 31b in which the metal fine particles are integrated is formed. As described above, by alternately repeating the discharge of the droplet and the irradiation of the laser beam, a conductive pattern made of the metal films 31a, 31b and the like is formed.

第2の実施例では、ノズル5bから吐出された液滴30aが基板20の表面に付着した後、次の液滴30bが付着する前に、基板に付着した液滴30aにレーザビームが入射するように、ノズルヘッド5及びレーザ光源6が制御される。これにより、相互に接触する2つの液滴間の相互干渉を抑制することができる。   In the second embodiment, after the droplet 30a discharged from the nozzle 5b adheres to the surface of the substrate 20, the laser beam enters the droplet 30a attached to the substrate before the next droplet 30b adheres. Thus, the nozzle head 5 and the laser light source 6 are controlled. Thereby, the mutual interference between the two droplets in contact with each other can be suppressed.

上記第1及び第2の実施例では、分散液の液滴の吐出と、レーザビームの入射とを並行して行ったが、基板20の全面に、分散液で形成されたパターンを形成した後、パターンに沿ってレーザビームを入射させてもよい。   In the first and second embodiments, the droplets of the dispersion liquid are ejected in parallel with the incidence of the laser beam, but after the pattern made of the dispersion liquid is formed on the entire surface of the substrate 20. The laser beam may be incident along the pattern.

次に、図4A〜図4Dを参照して、第3の実施例による導電パターンの形成方法について説明する。   Next, a method for forming a conductive pattern according to the third embodiment will be described with reference to FIGS. 4A to 4D.

図4Aに示すように、基板20の表面上に、金属微粒子が分散されたペーストを塗布することにより、金属粒子分散膜25を形成する。この基板20をXYステージ2に載置する。   As shown in FIG. 4A, a metal particle dispersion film 25 is formed on the surface of the substrate 20 by applying a paste in which metal fine particles are dispersed. The substrate 20 is placed on the XY stage 2.

図4Bに示すように、基板20をX軸方向に移動させながら、画像データに基づいて、所定の発光画素6aから所定のタイミングでレーザビームを出射させる。レーザビームの入射した領域において、金属粒子分散膜25の溶媒が蒸発すると共に、金属粒子の表層部が溶解して、金属粒子同士が一体化する。これにより、金属膜26が形成される。図4Cに示すように、金属膜26により、画像データに対応するパターンが形成される。   As shown in FIG. 4B, while moving the substrate 20 in the X-axis direction, a laser beam is emitted from a predetermined light emitting pixel 6a at a predetermined timing based on image data. In the region where the laser beam is incident, the solvent of the metal particle dispersion film 25 evaporates, and the surface layer portion of the metal particles dissolves so that the metal particles are integrated. Thereby, the metal film 26 is formed. As shown in FIG. 4C, a pattern corresponding to the image data is formed by the metal film 26.

図4Dに示すように、金属膜26が形成されなかった領域の金属微粒子分散膜26を除去する。これにより、金属膜26からなる導電パターンが得られる。   As shown in FIG. 4D, the metal fine particle dispersion film 26 in the region where the metal film 26 is not formed is removed. Thereby, a conductive pattern made of the metal film 26 is obtained.

上記実施例のいずれの場合にも、基板20の露出した表面にはレーザビームが入射しない。このため、基板20がレーザビームによって損傷を受けることを防止することができる。さらに、基板20全体を加熱しないため、耐熱性の低い樹脂製の基板を用いることができる。   In any of the above embodiments, the laser beam does not enter the exposed surface of the substrate 20. For this reason, it is possible to prevent the substrate 20 from being damaged by the laser beam. Further, since the entire substrate 20 is not heated, a resin substrate having low heat resistance can be used.

以上実施例に沿って本発明を説明したが、本発明はこれらに制限されるものではない。例えば、種々の変更、改良、組み合わせ等が可能なことは当業者に自明であろう。   Although the present invention has been described with reference to the embodiments, the present invention is not limited thereto. It will be apparent to those skilled in the art that various modifications, improvements, combinations, and the like can be made.

(1A)は、実施例による導電パターン形成装置の概略図であり、(1B)は、その主要部の平面図である。(1A) is a schematic view of a conductive pattern forming apparatus according to an embodiment, and (1B) is a plan view of the main part thereof. 第1の実施例による導電パターンの形成方法を説明するための工程途中の図である。It is a figure in the middle of the process for demonstrating the formation method of the conductive pattern by a 1st Example. 第2の実施例による導電パターンの形成方法を説明するための工程途中の図である。It is a figure in the middle of a process for demonstrating the formation method of the conductive pattern by a 2nd Example. 第3の実施例による導電パターンの形成方法を説明するための工程途中の図である。It is a figure in the middle of a process for demonstrating the formation method of the conductive pattern by a 3rd Example.

符号の説明Explanation of symbols

1 基台
2 XYステージ
3 駆動機構
5 ノズルヘッド
5a ノズル
6 レーザ光源
6a 発光画素
10 制御装置
20 基板
25 金属微粒子分散膜
26、31a、31b 金属膜
30a、30b、30c 液滴
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Base 2 XY stage 3 Drive mechanism 5 Nozzle head 5a Nozzle 6 Laser light source 6a Light emission pixel 10 Control apparatus 20 Substrate 25 Metal fine particle dispersion film 26, 31a, 31b Metal film 30a, 30b, 30c Droplet

Claims (10)

(a)溶媒中に金属微粒子が分散した液体により、基板の表面上にパターンを形成する工程と、
(b)前記工程aで形成されたパターンが配置されていない領域には光ビームが入射しないように制御して、該パターンに光ビームを入射させ、溶媒を蒸発させる工程と
を有する導電パターンの形成方法。
(A) forming a pattern on the surface of the substrate with a liquid in which metal fine particles are dispersed in a solvent;
(B) controlling the light beam not to enter the region where the pattern formed in the step a is not arranged, causing the light beam to enter the pattern, and evaporating the solvent. Forming method.
前記工程bにおいて、光ビームの照射によって金属微粒子の少なくとも表層部を溶融させて、相互に接する金属微粒子同士を一体化させる請求項1に記載の導電パターンの形成方法。   2. The method for forming a conductive pattern according to claim 1, wherein in step b, at least a surface layer portion of the metal fine particles is melted by irradiation with a light beam and the metal fine particles in contact with each other are integrated. 前記工程aにおいて、前記液体の液滴をノズルから吐出して、前記基板の表面に付着させることにより前記パターンを形成する請求項1または2に記載の導電パターンの形成方法。   3. The method of forming a conductive pattern according to claim 1, wherein in the step a, the pattern is formed by ejecting liquid droplets from a nozzle and adhering them to the surface of the substrate. 前記工程aにおけるパターンの形成と、前記工程bにおける光ビームの入射とを並行して実施する請求項3に記載の導電パターンの形成方法。   The method for forming a conductive pattern according to claim 3, wherein the formation of the pattern in the step a and the incidence of the light beam in the step b are performed in parallel. 前記工程a及びbにおいて、前記ノズルから吐出された液滴が前記基板の表面に付着した後、次の液滴が付着する前に、該基板に付着した液滴に光ビームを入射させる請求項3に記載の導電パターンの形成方法。   In the steps (a) and (b), after a droplet ejected from the nozzle adheres to the surface of the substrate, a light beam is incident on the droplet adhered to the substrate before the next droplet adheres. 4. A method for forming a conductive pattern according to 3. (a)溶媒中に金属微粒子が分散したペーストを、基板の表面上に塗布する工程と、
(b)前記工程aで塗布されたペーストに、光ビームを用いて描画し、光ビームの入射した領域の金属微粒子の少なくとも表層部を溶融させて、相互に接する金属微粒子同士を一体化させる工程と、
(c)前記工程bで光ビームに照射されなかった領域のペーストを除去する工程と
を有する導電パターンの形成方法。
(A) applying a paste in which metal fine particles are dispersed in a solvent on the surface of the substrate;
(B) A step of drawing on the paste applied in the step a by using a light beam, melting at least the surface layer portion of the metal fine particles in the region where the light beam is incident, and integrating the metal fine particles in contact with each other. When,
(C) A method of forming a conductive pattern including a step of removing paste in a region not irradiated with the light beam in the step b.
基板を保持し、保持した基板を、その表面に平行な方向に移動させるステージと、
前記ステージに保持された基板の表面に、金属微粒子が分散した液体の液滴を吐出して該表面に付着させるノズルヘッドと、
前記ステージに保持された基板の表面に光ビームを入射させる光源と、
画像データに基づいて、前記ステージの移動、前記ノズルからの液滴の吐出、及び前記光源からのレーザビームの出射の制御を行う制御装置と
を有する導電パターン形成装置。
A stage that holds the substrate and moves the held substrate in a direction parallel to the surface;
A nozzle head that discharges liquid droplets in which metal fine particles are dispersed and adheres to the surface of the substrate held on the stage;
A light source that makes a light beam incident on the surface of the substrate held by the stage;
A conductive pattern forming apparatus comprising: a control device that controls movement of the stage, ejection of droplets from the nozzle, and emission of a laser beam from the light source based on image data.
前記ノズルヘッドが複数のノズルを含み、前記レーザ光源が複数の発光画素を含み、該ノズルと該発光画素とが1対1に対応しており、対応するノズルと発光画素との組の各々について、ノズルから吐出された液滴の付着位置と、該ノズルに対応する発光画素から出射されたレーザビームの入射位置とが、第1の方向に関して同じ位置に配置される請求項7に記載の導電パターン形成装置。   The nozzle head includes a plurality of nozzles, the laser light source includes a plurality of light emitting pixels, the nozzles correspond to the light emitting pixels on a one-to-one basis, and each of the corresponding nozzle and light emitting pixel pairs The conductive position according to claim 7, wherein the attachment position of the droplet discharged from the nozzle and the incident position of the laser beam emitted from the light emitting pixel corresponding to the nozzle are arranged at the same position in the first direction. Pattern forming device. 前記制御装置は、前記ノズルから吐出した液滴が付着した位置には光ビームが入射し、付着していない位置には光ビームが入射しないように、前記光源を制御する請求項7または8に記載の導電パターン形成装置。   9. The control device according to claim 7, wherein the control device controls the light source so that a light beam is incident on a position where a droplet discharged from the nozzle is attached and a light beam is not incident on a position where the droplet is not attached. The conductive pattern forming apparatus described. 前記制御装置は、前記ノズルから吐出された液滴が前記ステージに保持された基板の表面に付着した後、次の液滴が付着する前に、該基板に付着した液滴に光ビームが入射するように前記光源を制御する請求項7〜9のいずれかに記載の導電パターン形成装置。   After the droplet ejected from the nozzle adheres to the surface of the substrate held on the stage, the control device makes the light beam incident on the droplet adhered to the substrate before the next droplet adheres. The conductive pattern forming apparatus according to claim 7, wherein the light source is controlled to do so.
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