JP2007273503A - Magnet and manufacturing method thereof - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、希土類を含む磁石素体に被覆層が形成されてなる磁石と、その製造方法とに関する。 The present invention relates to a magnet in which a coating layer is formed on a magnet body containing a rare earth, and a method for manufacturing the same.
希土類磁石は、高性能であるため、各種機器のモーターやアクチュエーター用等として、広範に用いられている。特に、R−Fe−B系希土類磁石(ただし、RはY元素または希土類元素)は、高い磁気特性を有しつつ、比較的に安価な原料が用いられているため、適用範囲が広がっている。 Since rare earth magnets have high performance, they are widely used for motors and actuators of various devices. In particular, R-Fe-B rare earth magnets (where R is a Y element or a rare earth element) have high magnetic properties and a relatively inexpensive raw material is used, so the application range is widened. .
ところが、この希土類磁石は、主成分として酸化され易い希土類元素と鉄とを含有するために、耐食性が比較的低く、性能の劣化や、ばらつきなどが課題となっている。そのため、磁石素体にめっきや蒸着などの表面処理を施して、耐食性を向上させる方法が提案されており、特に、安価で耐食性に優れることからNiめっきが広く採用されている。 However, since this rare earth magnet contains rare earth elements that are easily oxidized and iron as main components, the corrosion resistance is relatively low, and degradation of performance, variation, and the like are problems. For this reason, a method has been proposed in which surface treatment such as plating or vapor deposition is performed on the magnet body to improve the corrosion resistance, and Ni plating is widely adopted because it is inexpensive and excellent in corrosion resistance.
しかしながら、Niめっき浴は酸性であるため、磁石素体をNiめっき浴に浸漬させると、磁石素体自体が浸食されてしまうという問題があった。このため、めっき浴をアルカリ性にすることができ、かつ、磁石素体との密着性が良好であるCuを磁石素体上に直接めっきし、さらにその上にNi、Snおよびそれらの合金などをめっきすることで耐食性を確保している(たとえば、特許文献1〜3)。
However, since the Ni plating bath is acidic, there is a problem that when the magnet body is immersed in the Ni plating bath, the magnet body itself is eroded. For this reason, the plating bath can be made alkaline, and Cu having good adhesion to the magnet body is directly plated on the magnet body, and Ni, Sn, and alloys thereof are further formed thereon. Corrosion resistance is ensured by plating (for example,
たとえば、特許文献1では、R−Fe−Co−B系希土類磁石(ただし、RはYを含む希土類元素の少なくとも1種)上にCu層と、Ni−P合金層とを形成している。特許文献2では、RE−TM−B系希土類磁石(ただし、REは希土類元素の1種以上、TMは遷移金属の1種以上)上にCuまたはCu合金層と、Cuよりも卑な金属(Ni、Sn)層とを形成している。また、特許文献3では、R−T−B系希土類磁石(ただし、RはYを含む希土類元素の少なくとも1種、TはFeまたはFeおよびCo)上にCu層と、Cu−Ni合金層とを形成している。
For example, in
しかしながら、上記のめっき処理を施した希土類磁石の耐食性は比較的に改善されているものの、表面に形成されている金属や合金の硬度が充分ではないため、耐傷性に劣っており、以下のような問題が生じていた。すなわち、上記の希土類磁石は、めっき処理工程後のハンドリングや搬送時に、他の磁石や搬送用部材と接触すると、その衝撃のため、希土類磁石のめっき層に細かな傷が生じる場合があった。めっき層に細かな傷が生じる際には、めっき層の一部が剥離するため、微細片として、空気中を浮遊することとなる。さらに、生じた傷を通じて、磁石素体が外気と接触するため、磁石素体が酸化され、錆を生じ、磁気特性の悪化を招いていた。 However, although the corrosion resistance of the rare earth magnet subjected to the above plating treatment is relatively improved, since the hardness of the metal or alloy formed on the surface is not sufficient, it is inferior in scratch resistance. A problem has arisen. That is, when the above-mentioned rare earth magnet is brought into contact with another magnet or a conveying member at the time of handling or conveyance after the plating process, there is a case where fine scratches are generated on the plating layer of the rare earth magnet due to the impact. When a fine flaw occurs in the plating layer, a part of the plating layer is peeled off, so that it floats in the air as a fine piece. Furthermore, since the magnet body comes into contact with the outside air through the generated flaws, the magnet body is oxidized and rusted, resulting in deterioration of magnetic properties.
たとえば、高い信頼性が要求されるハードディスクドライブのヘッド駆動用ボイスコイルモーターに上記の磁石を用いた場合、めっき層から剥離した微細片や錆により、ボイスコイルモーターの誤動作や故障が生じる問題があった。このため、耐食性だけではなく、耐傷性にも優れた希土類磁石が求められていた。
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、その目的は、高い磁気特性を有し、かつ、耐傷性および耐食性に優れる磁石を提供することである。また、本発明の別の目的は、前記磁石の製造方法を提供することである。 The present invention has been made in view of such a situation, and an object thereof is to provide a magnet having high magnetic properties and excellent scratch resistance and corrosion resistance. Another object of the present invention is to provide a method for manufacturing the magnet.
本発明者らは、上記目的を達成すべく鋭意検討を行った結果、希土類を含む磁石の表面に、金属を含む第1層を形成し、さらに、Cuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上との合金を含む第2層を形成することにより、磁石素体と被覆層との密着性を維持し、高い磁気特性を有しつつ、耐傷性および耐食性に優れる磁石とすることができることを見出し、本発明を完成させるに至った。 As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventors formed a first layer containing a metal on the surface of a magnet containing a rare earth, and further, at least one selected from Cu, Sn and Zn. By forming the second layer containing an alloy of two or more, the adhesion between the magnet body and the coating layer can be maintained, and a magnet having high scratch resistance and corrosion resistance while having high magnetic properties can be obtained. As a result, the present invention has been completed.
すなわち、本発明に係る磁石は、
希土類元素を含む磁石素体と、
前記磁石素体の表面に形成される第1層と、
前記第1層の上に積層される第2層と、を有する磁石であって、
前記第1層が、金属を含み、
前記第2層が、Cuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上と、の合金を含む。
That is, the magnet according to the present invention is
A magnet body containing a rare earth element;
A first layer formed on the surface of the magnet body;
A magnet having a second layer laminated on the first layer,
The first layer includes a metal;
The second layer includes an alloy of Cu and at least one selected from Sn and Zn.
本発明に係る磁石を、上記の構成とすることにより、磁石素体と被覆層との密着性を維持し、耐傷性および耐食性に優れる磁石とすることができる。なお、第2層を構成する上記の合金を、磁石素体の表面に形成した場合には、密着性が低下する。したがって、まず、磁石素体との密着性が良好な第1層を下地層として、磁石素体の表面に形成し、さらに、第1層の表面、あるいは、別の層の表面に第2層を形成することで、本発明の効果を奏することができる。なお、磁石素体に形成される第1層は、磁石素体全体を隙間無く被覆することが好ましいが、必ずしも磁石素体全体を被覆する必要はない。また、第2層についても同様である。 By setting the magnet according to the present invention to the above-described configuration, the adhesion between the magnet body and the coating layer can be maintained, and the magnet can be excellent in scratch resistance and corrosion resistance. In addition, when said alloy which comprises a 2nd layer is formed in the surface of a magnet element | base_body, adhesiveness falls. Therefore, first, the first layer having good adhesion to the magnet body is formed as a base layer on the surface of the magnet body, and further, the second layer is formed on the surface of the first layer or the surface of another layer. By forming, the effects of the present invention can be achieved. The first layer formed on the magnet element body preferably covers the entire magnet element body without a gap, but does not necessarily need to cover the entire magnet element body. The same applies to the second layer.
好ましくは、前記第1層が、Cu、SnおよびZnから選ばれる1つの金属を含む。第1層を上記の金属とすることで、磁石素体との密着性を良好に保ちつつ、さらに、めっき浴のpHをアルカリ性にすることができるため、磁石素体をめっき浴に浸漬した場合にも、磁石素体の浸食を防止することができる。 Preferably, the first layer includes one metal selected from Cu, Sn, and Zn. When the first layer is made of the above metal, the pH of the plating bath can be made alkaline while maintaining good adhesion to the magnet body, so that the magnet body is immersed in the plating bath In addition, erosion of the magnet body can be prevented.
好ましくは、前記磁石素体が、R(ただし、Rは、Y元素を含む希土類元素から選ばれる1つ以上)、TM(ただし、TMは、Feを主成分とする遷移元素)およびBを含むR−TM−B系希土類磁石である。 Preferably, the magnet body includes R (wherein R is one or more selected from rare earth elements including Y element), TM (where TM is a transition element mainly composed of Fe), and B. R-TM-B rare earth magnet.
前記磁石素体を、R−TM−B系希土類磁石とすることで、保磁力や残留磁束密度などの磁気特性が良好であり、かつ、耐食性および耐傷性に優れた希土類磁石を得ることができる。 By making the magnet body an R-TM-B rare earth magnet, a rare earth magnet having excellent magnetic properties such as coercive force and residual magnetic flux density, and excellent corrosion resistance and scratch resistance can be obtained. .
本発明に係る磁石を製造する方法は、
前記第1層を形成するために用いられる第1めっき浴および前記第2層を形成するために用いられる第2めっき浴を準備する工程と、
前記第1めっき浴を用いて湿式めっきを行い、前記磁石素体の表面に前記第1層を形成する工程と、
前記第2めっき浴を用いて湿式めっきを行い、前記第1層の上に積層される前記第2層を形成する工程と、を有する。
A method for producing a magnet according to the present invention includes:
Providing a first plating bath used to form the first layer and a second plating bath used to form the second layer;
Performing wet plating using the first plating bath to form the first layer on the surface of the magnet body; and
Performing wet plating using the second plating bath, and forming the second layer stacked on the first layer.
好ましくは、前記第2めっき浴に、ピロリン酸塩、シアン化合物および有機ホスホン酸化合物から選ばれる少なくとも1つ以上が含まれる。 Preferably, the second plating bath contains at least one selected from pyrophosphate, cyanide compound and organic phosphonic acid compound.
第1層および第2層を湿式めっきにより形成することで、上記磁石を容易に製造することができるため、上記磁石の生産性を向上させることができる。さらに、第2層を形成するために用いられる第2めっき浴に、ピロリン酸塩、シアン化合物および有機ホスホン酸化合物から選ばれる少なくとも1つ以上が含まれることで、第2層を均一に効率よく形成できる。 Since the magnet can be easily manufactured by forming the first layer and the second layer by wet plating, the productivity of the magnet can be improved. Further, the second plating bath used for forming the second layer contains at least one selected from pyrophosphate, cyanide compound and organic phosphonic acid compound, so that the second layer can be uniformly and efficiently formed. Can be formed.
以下、本発明を図面に示す実施形態に基づき説明する。ここにおいて、
図1は、本発明の一実施形態に係る希土類磁石の概略断面図である。
磁石2
Hereinafter, the present invention will be described based on embodiments shown in the drawings. put it here,
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view of a rare earth magnet according to an embodiment of the present invention.
図1に示すように、本実施形態において、磁石2は、磁石素体4の表面に、第1層6が、厚みT1で形成されており、さらに第1層6の表面に、第2層8が、厚みT2で形成されてなる。
磁石素体4
As shown in FIG. 1, in this embodiment, the
Magnet element 4
磁石素体4としては、希土類を含む磁石であれば特に限定されないが、好ましくは、R(ただし、RはYを含む希土類元素の1種以上)、TM(ただし、TMは、Feを主成分とする遷移元素)およびBを含むR−TM−B系希土類磁石である。 The magnet body 4 is not particularly limited as long as it is a magnet containing rare earth, but preferably R (where R is one or more of rare earth elements including Y), TM (where TM is mainly composed of Fe). And an R-TM-B rare earth magnet containing B.
Rとしては、Nd,Pr,Dy,Ho,Tbのうち少なくとも1種、あるいはさらに、La,Sm,Ce,Gd,Er,Eu,Pm,Tm,Yb,Lu,Yのうち1種以上を含むものが好ましい。 R includes at least one of Nd, Pr, Dy, Ho, and Tb, or one or more of La, Sm, Ce, Gd, Er, Eu, Pm, Tm, Yb, Lu, and Y. Those are preferred.
なお、Rとして2種以上の元素を用いる場合、原料としてミッシュメタル等の混合物を用いることもできる。 In addition, when using 2 or more types of elements as R, mixtures, such as a misch metal, can also be used as a raw material.
Rの含有量は、5.5〜30原子%であることが好ましい。Rの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造がα−Feと同一構造の立方晶組織となるため、高い保磁力(iHc)が得られず、多すぎると、Rリッチな非磁性相が多くなり、残留磁束密度(Br)が低下する。 The content of R is preferably 5.5 to 30 atomic%. If the content of R is too small, the crystal structure of the magnet becomes a cubic structure having the same structure as α-Fe, so that a high coercive force (iHc) cannot be obtained. The residual magnetic flux density (Br) is decreased.
なお、Rが、Ndである場合には、Ndの一部をPrで置換することにより、耐食性を向上させることができる。同時に、水素吸蔵性も低下させるため、めっき処理時に水素ガスが発生した場合であっても、水素吸蔵による磁石素体の脆化を抑制することができる。この場合、Pr置換量が、Ndの1〜50原子%であることが好ましい。 When R is Nd, the corrosion resistance can be improved by substituting part of Nd with Pr. At the same time, the hydrogen occlusion property is also lowered, so that even when hydrogen gas is generated during the plating process, embrittlement of the magnet body due to hydrogen occlusion can be suppressed. In this case, the Pr substitution amount is preferably 1 to 50 atomic% of Nd.
TMの含有量は42〜90原子%であることが好ましい。TMの含有量が少なすぎると、Brが低下し、多すぎると、iHcが低下する。 The TM content is preferably 42 to 90 atomic%. If the TM content is too low, Br decreases, and if it is too high, iHc decreases.
なお、Feの一部をCoで置換することにより、磁気特性を損うことなく温度特性を改善することができる。この場合、Co置換量が、Feの50原子%を超えると磁気特性が劣化するため、Co置換量は50原子%以下とすることが好ましい。 Note that by replacing part of Fe with Co, the temperature characteristics can be improved without deteriorating the magnetic characteristics. In this case, if the Co substitution amount exceeds 50 atomic% of Fe, the magnetic properties deteriorate, so the Co substitution amount is preferably 50 atomic% or less.
Bの含有量は、2〜28原子%であることが好ましい。Bの含有量が少なすぎると、磁石の結晶構造が菱面体組織となるため保磁力(iHc)が不十分であり、多すぎると、Bリッチな非磁性相が多くなるため、残留磁束密度(Br)が低下する。 The content of B is preferably 2 to 28 atomic%. If the B content is too small, the coercive force (iHc) is insufficient because the crystal structure of the magnet has a rhombohedral structure. If the B content is too large, the B-rich nonmagnetic phase increases, resulting in a residual magnetic flux density ( Br) decreases.
なお、Bの一部を、C,P,S,Cuのうちの1種以上で置換することにより、生産性の向上および低コスト化が実現できる。この場合、置換量は全体の4原子%以下であることが好ましい。また、保磁力の向上、生産性の向上、低コスト化のために、Al,Ti,V,Cr,Mn,Bi,Nb,Ta,Mo,W,Sb,Ge,Sn,Zr,Ni,Si,Hf等の1種以上を添加してもよい。この場合、添加量は総計で10原子%以下とすることが好ましい。 In addition, by replacing a part of B with one or more of C, P, S, and Cu, productivity can be improved and cost can be reduced. In this case, the amount of substitution is preferably 4 atomic% or less. In addition, Al, Ti, V, Cr, Mn, Bi, Nb, Ta, Mo, W, Sb, Ge, Sn, Zr, Ni, Si are used to improve coercive force, improve productivity, and reduce costs. , Hf or the like may be added. In this case, the total amount added is preferably 10 atomic% or less.
また、R、FeおよびBの他、不可避的不純物として、Ni,Si,Al,Cu,Ca等が全体の3原子%以下含有されていてもよい。 In addition to R, Fe and B, as an inevitable impurity, Ni, Si, Al, Cu, Ca and the like may be contained in 3 atomic% or less of the whole.
本実施形態における磁石素体4は、実質的に正方晶系の結晶構造の主相を有する。この主相の粒径は、1〜100μm程度であることが好ましい。そして、通常、体積比で1〜50%の非磁性相を含むものである。また、磁石素体4は、焼結磁石であってもよいし、ボンド磁石(樹脂結合型磁石)であってもよい。
第1層
The magnet body 4 in the present embodiment has a main phase with a substantially tetragonal crystal structure. The particle size of the main phase is preferably about 1 to 100 μm. And it usually contains 1-50% nonmagnetic phase by volume ratio. The magnet body 4 may be a sintered magnet or a bonded magnet (resin-bonded magnet).
1st layer
第1層6は、金属(合金を含む)であれば特に限定はされず、磁石素体4との密着性を有しているものであればよい。好ましくは、Cu、SnおよびZnから選ばれる1つの金属である。これらの金属は、磁石素体4との密着性が良好であり、かつ、第1層6を形成するために用いられる第1めっき浴のpHをアルカリ性とすることができるため、めっき処理時における磁石素体4の浸食を防止することができる。なお、後述する第2層8を構成する合金で、第1層6を構成した場合には、磁石素体4との密着性が低下する傾向にある。したがって、第1層6を下地層として、磁石素体4の表面に形成し、さらに、第1層6の表面に、第2層8を形成するのが好ましい。特に、第2層8を構成する合金に含まれる金属(Cu、Sn、Zn)で、第1層6を構成する場合には、第1層6と第2層8との密着性をも向上させることができる。なお、磁石素体4に形成される第1層6は、磁石素体4全体を隙間無く被覆することが好ましいが、必ずしも磁石素体4全体を被覆する必要はない。
The first layer 6 is not particularly limited as long as it is a metal (including an alloy), and may have any adhesiveness with the magnet body 4. Preferably, it is one metal selected from Cu, Sn and Zn. Since these metals have good adhesion to the magnet body 4 and can make the pH of the first plating bath used for forming the first layer 6 alkaline, it is possible during the plating process. The erosion of the magnet body 4 can be prevented. When the first layer 6 is made of an alloy constituting the
第1層6の厚みT1は、好ましくは、1〜30μm、より好ましくは、3〜20μmである。T1が薄すぎると、ピンホールが生じ、磁石素体4との充分な密着性が得難い傾向にある。一方、T1が厚すぎると、第1層6を形成する工程における製造コストが増大する傾向にある。
第2層
The thickness T1 of the first layer 6 is preferably 1 to 30 μm, more preferably 3 to 20 μm. If T1 is too thin, pinholes are generated and sufficient adhesion to the magnet body 4 tends to be difficult to obtain. On the other hand, if T1 is too thick, the manufacturing cost in the step of forming the first layer 6 tends to increase.
Second layer
第2層8は、Cuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上と、の合金を含む。第2層8は、磁石素体4を保護する役割を持ち、本実施形態においては、第1層6の表面に形成される。単体のCuは、柔らかいため、磁石素体4を保護する性能は低いが、Cuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上とで合金を形成することで、硬度が上昇し、その結果、耐傷性が著しく向上する。しかしながら、Cuと、SnまたはZn以外の金属との合金の場合には、上記の効果は小さく、たとえば、Cu−Ni合金の耐傷性は上記の合金よりも低い。
The
第2層8を構成するCuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上と、の合金の各組成は、特に限定されないが、充分な耐傷性および耐食性を確保するためには、たとえば、下記に示す合金におけるCu含有量を以下のようにするのが好ましい。Cu−Sn合金においては、Cu含有量が好ましくは、10〜90原子%、さらに好ましくは、10〜80原子%である。Cu−Zn合金においては、Cu含有量が好ましくは、10〜90原子%、さらに好ましくは、15〜85原子%である。Cu−Sn−Zn合金においては、Cu含有量が好ましくは、10〜90原子%、さらに好ましくは、35〜75原子%である。
Each composition of the alloy of Cu constituting the
第2層8の厚みT2は、好ましくは、1〜30μm、より好ましくは、3〜20μmである。T2が薄すぎると、本発明の効果が得難い傾向にある。一方、T2が厚すぎると、第1層6を形成する工程における製造コストが増大する傾向にある。なお、後述するが、第1層6および第2層8は、湿式めっきにより磁石素体4の表面に形成される。
磁石の製造方法
The thickness T2 of the
Magnet manufacturing method
次に、本実施形態に係る磁石2の製造方法について説明する。
Next, a method for manufacturing the
(1)まず、磁石素体4を製造する。磁石素体4の製造には、粉末冶金法を用いることが好ましい。粉末冶金法による磁石素体4の製造は、以下のようにして行われる。 (1) First, the magnet body 4 is manufactured. It is preferable to use a powder metallurgy method for manufacturing the magnet body 4. Manufacture of the magnet body 4 by powder metallurgy is performed as follows.
まず、所望の組成の合金を、鋳造法やストリップキャスト法などの各種合金製造プロセスを用いて作製する。次いで、得られた合金を、ジョークラッシャー、ブラウンミル、スタンプミルなどの粗粉砕機を用いて10〜100μm程度の粒径に粗粉砕した後、ジェットミル、アトライター、ボールミルなどの微粉砕機により0.5〜5μm程度の粒径に微粉砕する。次いで、得られた粉末を、好ましくは磁場中にて成形する。この得られた成形体を、焼結し、急冷する。焼結時の雰囲気は、Arガス等の不活性ガスであることが好ましい。この後、好ましくは、不活性ガス雰囲気中で熱処理(時効処理)を行う。 First, an alloy having a desired composition is produced using various alloy manufacturing processes such as a casting method and a strip casting method. Next, the obtained alloy is coarsely pulverized to a particle size of about 10 to 100 μm using a coarse pulverizer such as a jaw crusher, brown mill, stamp mill, etc., and then finely pulverized by a jet mill, attritor, ball mill or the like. Finely pulverize to a particle size of about 0.5-5 μm. The obtained powder is then preferably shaped in a magnetic field. The obtained molded body is sintered and rapidly cooled. The atmosphere during sintering is preferably an inert gas such as Ar gas. Thereafter, heat treatment (aging treatment) is preferably performed in an inert gas atmosphere.
(2)次に、得られた磁石素体4の表面をアルカリ脱脂処理した後、酸による化学エッチングを施し、前記磁石素体4の表面を清浄する。この処理を行うことにより磁石素体4の表面の汚れを除去でき、確実に第1層6を形成できるメリットがある。化学エッチングで使用する酸としては、硝酸を用いることが好ましい。なお、アルカリ脱脂処理前に、磁石素体4の表面のバリなどを取り除くため、バレル研磨を行ってもよい。 (2) Next, the surface of the obtained magnet body 4 is subjected to alkaline degreasing treatment, and then subjected to chemical etching with an acid to clean the surface of the magnet body 4. By performing this treatment, there is an advantage that the surface of the magnet body 4 can be removed and the first layer 6 can be formed reliably. Nitric acid is preferably used as the acid used in the chemical etching. In addition, in order to remove the burr | flash etc. on the surface of the magnet body 4 before alkali degreasing, barrel polishing may be performed.
上記の酸洗浄処理を施した後には、磁石素体4の表面に黒色異物(スマット)が残存しているため、超音波洗浄を行って、それらを除去することが好ましい。また、超音波洗浄の際には、グルコン酸溶液を用いることが好ましい。また、前記超音波洗浄の前後、および前記前処理の各過程で必要に応じて同様な水洗を行ってもよい。 After the above acid cleaning treatment is performed, black foreign matter (smut) remains on the surface of the magnet body 4, and it is preferable to remove them by ultrasonic cleaning. Moreover, it is preferable to use a gluconic acid solution for ultrasonic cleaning. Moreover, you may perform the same water washing before and behind the ultrasonic cleaning, and in each process of the said pre-processing as needed.
(3)次に、上述した前処理が施された磁石素体4の表面に、湿式めっきにより第1層6および第2層8を形成する。具体的には、所定の条件に調製した第1めっき浴に、磁石素体4を浸漬し、磁石素体4の表面に第1層6を形成する。湿式めっきの中でも、電気めっきにより第1層6および第2層8を形成するのが好ましい。電気めっき法を用いることで、第1層6および第2層8を低コストで形成できる。
(3) Next, the first layer 6 and the
第1層6を形成するのに用いられる第1めっき浴は、特に限定されず、第1層6を構成する金属に応じて適宜選択すればよい。たとえば、第1層6として、Cuを形成する場合には、シアン化第一銅を含むめっき浴を、第1めっき浴に用いてもよい。また、第1層6として、Snを形成する場合には、スズ酸ナトリウムを含むめっき浴を、第1めっき浴に用いてもよい。また、第1めっき浴には、光沢剤などが含まれていてもよい。 The first plating bath used to form the first layer 6 is not particularly limited, and may be appropriately selected according to the metal constituting the first layer 6. For example, when Cu is formed as the first layer 6, a plating bath containing cuprous cyanide may be used as the first plating bath. Moreover, when forming Sn as the 1st layer 6, you may use the plating bath containing a sodium stannate for a 1st plating bath. Further, the first plating bath may contain a brightener and the like.
第1めっき浴のpHおよび浴温度は、特に限定はされず、第1めっき浴の組成に応じて適宜決めればよい。しかしながら、pHが低すぎると、Ndなどの希土類元素が磁石素体4から溶解されて、所望の形状が得られなくなったり、磁気特性を低下させてしまう傾向にあり、pHが高すぎると、Feが磁石素体4から溶解されて、所望の形状が得られなくなったり、磁気特性を低下させてしまう傾向にある。また、処理温度が低すぎると、処理液中での反応が乏しく処理性が低下する傾向がある。一方、処理温度が高すぎると、シミなどが発生して美観を損なうおそれがある。 The pH and bath temperature of the first plating bath are not particularly limited, and may be appropriately determined according to the composition of the first plating bath. However, if the pH is too low, rare earth elements such as Nd tend to be dissolved from the magnet body 4 and a desired shape cannot be obtained or the magnetic properties tend to be reduced. If the pH is too high, Fe Is melted from the magnet body 4 and a desired shape cannot be obtained or the magnetic properties tend to be deteriorated. Moreover, when process temperature is too low, there exists a tendency for reaction in a process liquid to be scarce and processability to fall. On the other hand, if the treatment temperature is too high, spots or the like may occur and the aesthetic appearance may be impaired.
第1めっき浴での処理時間は、特に限定されず、所望の層厚みに応じて、適宜決めればよい。しかしながら、処理時間が短すぎると、磁石素体4の表面に処理液が十分に接触せず、反応不十分となり均一な第1層6を形成できない傾向がある。一方、処理時間が長すぎると、第1層6の厚みが30μmを超えてしまい、製造コストが増大する傾向にある。 The treatment time in the first plating bath is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the desired layer thickness. However, if the treatment time is too short, the treatment liquid does not sufficiently contact the surface of the magnet body 4 and the reaction is insufficient, so that there is a tendency that the uniform first layer 6 cannot be formed. On the other hand, if the treatment time is too long, the thickness of the first layer 6 exceeds 30 μm, and the manufacturing cost tends to increase.
(4)次に、第1層6の表面をアルカリ脱脂処理した後、純水で十分に表面を洗浄する。この処理を行うことにより第1層6の表面に付着した汚れ(光沢剤などの有機物)を除去でき、確実に第2層8を形成できるメリットがある。
(4) Next, the surface of the first layer 6 is subjected to an alkaline degreasing treatment, and then the surface is sufficiently washed with pure water. By performing this treatment, there is an advantage that dirt (organic matter such as a brightener) attached to the surface of the first layer 6 can be removed, and the
(5)次に、第1層6の表面に、第2めっき浴を用いて、電気めっきを行い、第2層8を形成する。具体的には、所定の条件に調製した第2めっき浴に、第1層6が形成された磁石素体4を浸漬し、第1層6の表面に第2層8を形成する。
(5) Next, electroplating is performed on the surface of the first layer 6 using a second plating bath to form the
第2めっき浴としては、特に限定されず、第2層8を構成することとなる合金の組成に応じて、適宜決めればよいが、ピロリン酸塩、シアン化合物および有機ホスホン酸化合物から選ばれる少なくとも1種以上が含まれるのが好ましい。
The second plating bath is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the composition of the alloy that constitutes the
上記ピロリン酸塩としては、好ましくは、ピロリン酸第一スズ、ピロリン酸第二スズ、ピロリン酸銅、ピロリン酸亜鉛、ピロリン酸カリウム、ピロリン酸アンモニウム、ピロリン酸カルシウム、ピロリン酸ナトリウム、より好ましくは、ピロリン酸第一スズ、ピロリン酸銅、ピロリン酸亜鉛、ピロリン酸カリウムである。また、ピロリン酸塩の濃度は、好ましくは、2〜400g/l、より好ましくは、20〜300g/lである。 The pyrophosphate is preferably stannous pyrophosphate, stannic pyrophosphate, copper pyrophosphate, zinc pyrophosphate, potassium pyrophosphate, ammonium pyrophosphate, calcium pyrophosphate, sodium pyrophosphate, more preferably pyrolin. Stannous acid, copper pyrophosphate, zinc pyrophosphate, potassium pyrophosphate. The concentration of pyrophosphate is preferably 2 to 400 g / l, more preferably 20 to 300 g / l.
上記シアン化合物としては、好ましくは、シアン化第一銅、シアン化第二銅、シアン化亜鉛、シアン化カリウム、シアン化ナトリウム、シアン化アンモニウム、シアン化カルシウム、より好ましくは、シアン化第一銅、シアン化亜鉛、シアン化カリウム、シアン化ナトリウムである。また、シアン化合物の濃度は、好ましくは、1〜200g/l、より好ましくは、10〜150g/lである。 The cyan compound is preferably cuprous cyanide, cupric cyanide, zinc cyanide, potassium cyanide, sodium cyanide, ammonium cyanide, calcium cyanide, more preferably cuprous cyanide, cyanide. Zinc halide, potassium cyanide and sodium cyanide. The concentration of the cyan compound is preferably 1 to 200 g / l, more preferably 10 to 150 g / l.
上記有機ホスホン酸化合物としては、特に限定されないが、たとえば、DL−1−アミノエチルホスホン酸、2−アミノエチルホスホン酸、アミノメチルホスホン酸、tert−ブチルホスホン酸、シアノホスホン酸ジエチル、ジメチルホスホン酸、ジエチレントリアミンペンタメチレンホスホン酸、ヒドロキシルイミノビスメチレンホスホン酸、ヘキサメチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、フェニルホスホン酸、シアノメチルホスホン酸ジエチル、ニトリロトリス(メチレン)トリホスホン酸、フェニルホスホン酸ジエチル、ビニルホスホン酸ジエチル、エチレンジホスホン酸テトラエチル、エチレンジアミンテトラメチレンホスホン酸、(2−オキソへプチル)ホスホン酸ジメチル、(2−オキソプロピル)ホスホン酸ジメチル、アリルホスホン酸ジメチル、1,4−ブタンジホスホン酸、2−アセトキシエチルホスホン酸ジメチル、3,3−ジメチルシクロヘキセ−1−エニルホスホン酸ジエチル、メチレンジホスホン酸、1−ヒロドキシエタン−1,1−ジホスホン酸、3,3−ジメチルシクロペント−1−エニルホスホン酸ジエチル、3−メチルシクロヘキセ−1−エニルホスホン酸ジエチル、3−メチルシクロペント−1−エニルホスホン酸ジエチル、アミノトリメチレンホスホン酸、(1−アミノプロピル)ホスホン酸、(1−アミノブチル)ホスホン酸、(1−アミノペンチル)ホスホン酸、(1−アミノヘキシル)ホスホン酸、(1−アミノ−2−メチルプロピル)ホスホン酸、(1−アミノ−3−メチルブチル)ホスホン酸、(1−アミノ−2−メチルブチル)ホスホン酸、(1−アミノオクチル)ホスホン酸、(1−アミノ−2,2−ジメチルプロピル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−メチルエチル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−メチルプロピル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−メチルブチル)ホスホン酸、(1−アミノ−1,2−ジメチルプロピル)ホスホン酸、(1−アミノ−1,3−ジメチルブチル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−フェニルメチル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−シクロペンチル)ホスホン酸、(1−アミノ−1−シクロヘキシル)ホスホン酸、3−アミノプロピルホスホン酸、(2−オキソ−4−フェニルブチル)ホスホン酸ジメチル、3,3−ジエトキシプロピルホスホン酸ジエチルなどが挙げられる。また、有機ホスホン酸化合物の濃度は、好ましくは、10〜300g/l、より好ましくは、30〜200g/lである。 The organic phosphonic acid compound is not particularly limited. For example, DL-1-aminoethylphosphonic acid, 2-aminoethylphosphonic acid, aminomethylphosphonic acid, tert-butylphosphonic acid, diethyl cyanophosphonate, dimethylphosphonic acid, Diethylenetriaminepentamethylenephosphonic acid, hydroxyliminobismethylenephosphonic acid, hexamethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, phenylphosphonic acid, diethyl cyanomethylphosphonate, nitrilotris (methylene) triphosphonic acid, diethyl phenylphosphonate, diethyl vinylphosphonate, ethylenedi Tetraethyl phosphonate, ethylenediaminetetramethylenephosphonic acid, dimethyl (2-oxoheptyl) phosphonate, dimethyl (2-oxopropyl) phosphonate Dimethyl allylphosphonate, 1,4-butanediphosphonic acid, dimethyl 2-acetoxyethylphosphonate, diethyl 3,3-dimethylcyclohex-1-enylphosphonate, methylenediphosphonic acid, 1-hydroxyethane-1,1- Diphosphonic acid, diethyl 3,3-dimethylcyclopent-1-enylphosphonate, diethyl 3-methylcyclohex-1-enylphosphonate, diethyl 3-methylcyclopent-1-enylphosphonate, aminotrimethylenephosphonic acid, (1-aminopropyl) phosphonic acid, (1-aminobutyl) phosphonic acid, (1-aminopentyl) phosphonic acid, (1-aminohexyl) phosphonic acid, (1-amino-2-methylpropyl) phosphonic acid, 1-amino-3-methylbutyl) phosphonic acid, (1-amino-2-methyl) Butyl) phosphonic acid, (1-aminooctyl) phosphonic acid, (1-amino-2,2-dimethylpropyl) phosphonic acid, (1-amino-1-methylethyl) phosphonic acid, (1-amino-1-methyl) Propyl) phosphonic acid, (1-amino-1-methylbutyl) phosphonic acid, (1-amino-1,2-dimethylpropyl) phosphonic acid, (1-amino-1,3-dimethylbutyl) phosphonic acid, (1- Amino-1-phenylmethyl) phosphonic acid, (1-amino-1-cyclopentyl) phosphonic acid, (1-amino-1-cyclohexyl) phosphonic acid, 3-aminopropylphosphonic acid, (2-oxo-4-phenylbutyl) ) Dimethyl phosphonate, diethyl 3,3-diethoxypropyl phosphonate and the like. The concentration of the organic phosphonic acid compound is preferably 10 to 300 g / l, more preferably 30 to 200 g / l.
上記したピロリン酸塩、シアン化合物および有機ホスホン酸化合物から選ばれる少なくとも1つ以上が、第2めっき浴に含まれることで、めっきのつき回り性が向上するため、第2層8をより効率的に得ることが可能となる。また、第2めっき浴には、光沢剤などが含まれていてもよい。
Since at least one or more selected from the above-described pyrophosphate, cyanide compound and organic phosphonic acid compound is contained in the second plating bath, the throwing power of the plating is improved, so that the
第2めっき浴のpHは、アルカリ性であることが好ましいが、アルカリ性であれば特に限定はされず、第2めっき浴の組成に応じて適宜決めればよい。第2めっき浴のpHが高すぎると、水酸化物が共析して充分な硬度が得られない傾向がある。一方、第2めっき浴のpHが低すぎると、めっき浴が不安定となる傾向がある。 The pH of the second plating bath is preferably alkaline, but is not particularly limited as long as it is alkaline, and may be appropriately determined according to the composition of the second plating bath. If the pH of the second plating bath is too high, the hydroxide tends to eutect and there is a tendency that sufficient hardness cannot be obtained. On the other hand, if the pH of the second plating bath is too low, the plating bath tends to become unstable.
第2めっき浴の浴温度は、特に限定されず、浴に含まれる化合物等の組成に応じて適宜決めればよい。しかしながら、処理温度が低すぎると、処理液中での反応が乏しく処理性が低下する傾向がある。一方、処理温度が高すぎると、シミなどが発生して美観を損なうおそれがある。 The bath temperature of the second plating bath is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the composition of the compound contained in the bath. However, when the treatment temperature is too low, the reaction in the treatment liquid is poor and the processability tends to decrease. On the other hand, if the treatment temperature is too high, spots or the like may occur and the aesthetic appearance may be impaired.
第2めっき浴での処理時間は、特に限定されず、所望の層厚みに応じて、適宜決めればよい。しかしながら、処理時間が短すぎると、第1層6の表面に処理液が十分に接触せず、反応不十分となり均一な第2層8を形成できない傾向がある。一方、処理時間が長すぎると、第2層8の厚みT2が30μmを超えてしまい、製造コストが増大する傾向にある。
The treatment time in the second plating bath is not particularly limited, and may be appropriately determined according to the desired layer thickness. However, if the treatment time is too short, the treatment liquid does not sufficiently contact the surface of the first layer 6, and the reaction is insufficient and the uniform
(6)上記の第2めっき浴に浸漬することにより第2層8が形成された磁石素体4を、純水で洗浄し、乾燥させる。このとき、通常は80〜150℃で乾燥を行い表面の水分を除去するが、工程簡略化のためアルコール浸漬して風乾することも好ましい。
(6) The magnet body 4 on which the
(7)以上の工程を経ることにより、図1に示す本実施形態に係る磁石2が製造される。
(7) By passing through the above process, the
なお、本発明は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に改変することができる。 The present invention is not limited to the above-described embodiment, and can be variously modified within the scope of the present invention.
たとえば、上述した実施形態では、第1層6の表面に、第2層8を形成しているが、第1層6と第2層8との間に、別の被覆層が形成されていても良い。あるいは、第2層8の表面に、別の被覆層が形成されていても良い。
For example, in the above-described embodiment, the
以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づき説明するが、本発明は、これら実施例に限定されない。
実施例1
Hereinafter, although this invention is demonstrated based on a more detailed Example, this invention is not limited to these Examples.
Example 1
粉末冶金法によって作成した27.4Nd−3Dy−1B−68.6Fe(数字は重量比)の組成からなるインゴットを、スタンプミルおよびボールミルにより粉砕し、上記組成の合金微粉末を得た。得られた合金微粉末を、磁場中で、プレス成形を行い、成形体を得た。この成形体を、保持温度:1100℃、保持時間:1時間の条件で焼結させ、Arガス雰囲気下、保持温度:600℃、保持時間:2時間の条件で時効処理を施し、焼結体を得た。得られた焼結体を、20×20×2(mm)の大きさに加工し、さらにバレル研磨処理により面取りを行なって磁石素体を得た。なお、この磁石素体の原子比による組成は、12.4Nd−1.2Dy−6.1B−80.3Feであった。 An ingot having a composition of 27.4Nd-3Dy-1B-68.6Fe (numbers are weight ratios) prepared by powder metallurgy was pulverized by a stamp mill and a ball mill to obtain an alloy fine powder having the above composition. The obtained alloy fine powder was press-molded in a magnetic field to obtain a compact. This molded body was sintered under the conditions of holding temperature: 1100 ° C. and holding time: 1 hour, and subjected to aging treatment under the conditions of Ar gas atmosphere, holding temperature: 600 ° C., holding time: 2 hours, and sintered body Got. The obtained sintered body was processed into a size of 20 × 20 × 2 (mm), and further chamfered by barrel polishing to obtain a magnet body. In addition, the composition by the atomic ratio of this magnet body was 12.4Nd-1.2Dy-6.1B-80.3Fe.
次いで、この磁石素体の試料に、アルカリ脱脂処理、硝酸溶液による酸洗浄処理、グルコン酸溶液による超音波洗浄処理を行い、以下に説明するバレルめっき法により、第1層および第2層を形成した。 Next, the magnet body sample is subjected to an alkaline degreasing treatment, an acid washing treatment with a nitric acid solution, and an ultrasonic washing treatment with a gluconic acid solution, and a first layer and a second layer are formed by a barrel plating method described below. did.
まず、第1層を形成するための第1めっき浴の組成を、シアン化第一銅:25g/l、シアン化ナトリウム:35g/l、炭酸ナトリウム:30g/l、水酸化ナトリウム:10g/lとした。この第1めっき浴を、pH:12.5、浴温度:45℃に調製した。この第1めっき浴に、上記にて得られた磁石素体を浸漬させ、電流密度0.2A/dm2の条件で、第1層の厚みT1が4μmになるまでめっきした。 First, the composition of the first plating bath for forming the first layer is as follows: cuprous cyanide: 25 g / l, sodium cyanide: 35 g / l, sodium carbonate: 30 g / l, sodium hydroxide: 10 g / l It was. The first plating bath was adjusted to pH: 12.5 and bath temperature: 45 ° C. The magnet body obtained above was immersed in this first plating bath and plated under a current density of 0.2 A / dm 2 until the thickness T1 of the first layer reached 4 μm.
次に、第1層が形成された磁石素体について、上記のアルカリ脱脂処理および超音波洗浄処理を行った後、さらに第2層を形成した。第2層を形成するための第2めっき浴の組成を、スズ酸ナトリウム:100g/l、シアン化ナトリウム:25g/l、シアン化第一銅:13g/l、水酸化ナトリウム:10g/lとした。この第2めっき浴を、pH:12.0、浴温度:65℃に調製した。この第2めっき浴に、上記にて得られた磁石素体を浸漬させ、電流密度0.2A/dm2の条件で、第2層の厚みT2が6μmになるまでめっきした。 Next, the magnet body on which the first layer was formed was subjected to the alkali degreasing process and the ultrasonic cleaning process, and then a second layer was further formed. The composition of the second plating bath for forming the second layer is as follows: sodium stannate: 100 g / l, sodium cyanide: 25 g / l, cuprous cyanide: 13 g / l, sodium hydroxide: 10 g / l did. This second plating bath was prepared at a pH of 12.0 and a bath temperature of 65 ° C. The magnet body obtained above was immersed in this second plating bath and plated under the condition of a current density of 0.2 A / dm 2 until the thickness T2 of the second layer was 6 μm.
第1層および第2層が形成された磁石を純水で洗浄し、さらに乾燥させることで、希土類磁石の試料を得た。得られた希土類磁石試料について、EPMA(電子プローブマイクロアナリシス)観察を行った結果、第1層が均一なCu、第2層が均一な組成のCu−Sn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn合金におけるCu含有量は、60原子%であった。 The magnet on which the first layer and the second layer were formed was washed with pure water and further dried to obtain a rare earth magnet sample. As a result of EPMA (electron probe microanalysis) observation of the obtained rare earth magnet sample, it was confirmed that the first layer was made of a uniform Cu and the second layer was made of a Cu—Sn alloy having a uniform composition. Moreover, Cu content in a Cu-Sn alloy was 60 atomic%.
上記の希土類磁石試料について、以下に示す方法により、磁石素体と、第1層との密着性、耐傷性、耐食性について、特性評価を行った。さらに、耐傷性の評価と、耐食性の評価とを組み合わせた複合試験を、以下のようにして行った。
密着性試験
The above rare earth magnet samples were evaluated for the properties of adhesion, scratch resistance, and corrosion resistance between the magnet body and the first layer by the method described below. Further, a combined test combining the evaluation of scratch resistance and the evaluation of corrosion resistance was performed as follows.
Adhesion test
第1層および第2層が形成された磁石について、磁石素体と、第1層との密着性を、碁盤目テープ法(JIS K5400)により評価した。すなわち、第1層および第2層が形成された磁石表面の1cm四方の領域に1mm間隔の碁盤目状(100箇所)の切り込みを入れる。その上に、テープを1枚貼り、そのテープをはがす際に、第1層が磁石素体から剥離しなかった箇所の数により密着性を評価した。(磁石素体と第1層との密着性)=(第1層が剥離しなかった箇所)/100、とした。たとえば、100箇所のうち、第1層が剥離した箇所が1箇所の場合には、上記の密着性は99/100となる。密着性は、100/100を良好とした。結果を表1に示す。
耐傷性試験
About the magnet in which the 1st layer and the 2nd layer were formed, the adhesiveness of a magnet element body and the 1st layer was evaluated by the cross-cut tape method (JIS K5400). That is, a grid pattern (100 locations) with a 1 mm interval is made in a 1 cm square region of the magnet surface on which the first layer and the second layer are formed. On top of that, one tape was applied, and when the tape was peeled off, the adhesion was evaluated based on the number of places where the first layer did not peel from the magnet body. (Adhesiveness between magnet body and first layer) = (location where the first layer was not peeled) / 100. For example, in the case where there is only one place where the first layer is peeled out of 100 places, the above adhesiveness is 99/100. Adhesiveness made 100/100 favorable. The results are shown in Table 1.
Scratch resistance test
耐傷性を評価するために、45°に傾けた平らな板の上にサンドペーパー(320番)を敷き、試料をサンドペーパー上で滑らせた。滑らせた後の試料について、目視により、摩耗痕の有無を観察した。摩耗痕が観察されなかった試料を「○」、摩耗痕が観察された試料を「×」とした。結果を表1に示す。
耐食性試験
In order to evaluate the scratch resistance, sandpaper (# 320) was laid on a flat plate inclined at 45 °, and the sample was slid on the sandpaper. About the sample after making it slide, the presence or absence of the wear trace was observed visually. A sample in which no wear mark was observed was indicated by “◯”, and a sample in which the wear mark was observed was indicated by “x”. The results are shown in Table 1.
Corrosion resistance test
耐食性は、温度60℃、相対湿度95%の環境下で、試料を400時間保持することで評価した。試験後の試料の表面状態を目視観察し、錆や第1層の剥離による膨れを観察した。錆や膨れが観察されなかった試料を「○」とし、錆や膨れが観察された試料を「×」とした。また、試験の前後における磁気特性(残留磁束密度Brおよび保磁力iHc)を、振動試料型磁力計(VSM)により測定し、最大エネルギー積(BH)maxを算出した。試験前の試料の(BH)maxと試験後の試料の(BH)maxとから、試験前後における(BH)maxの低下率を算出した。低下率は、3%以下を良好とした。結果を表1に示す。
複合試験(耐傷性および耐食性)
The corrosion resistance was evaluated by holding the sample for 400 hours in an environment of a temperature of 60 ° C. and a relative humidity of 95%. The surface state of the sample after the test was visually observed to observe rust and swelling due to peeling of the first layer. A sample in which no rust or blister was observed was designated as “◯”, and a sample in which rust or blister was observed was designated as “x”. Further, the magnetic properties (residual magnetic flux density Br and coercive force iHc) before and after the test were measured with a vibrating sample magnetometer (VSM), and the maximum energy product (BH) max was calculated. The decrease rate of (BH) max before and after the test was calculated from (BH) max of the sample before the test and (BH) max of the sample after the test. The decrease rate was 3% or less. The results are shown in Table 1.
Combined test (scratch and corrosion resistance)
複合試験として、上記の耐傷性試験および耐食性試験を組み合わせた試験を行った。すなわち、まず、耐傷性試験を行い、耐傷性試験後の試料に対して、さらに耐食性試験を行った。耐傷性試験および耐食性試験後の試料に対して、表面状態と、(BH)maxの低下率とを評価した。結果を表1に示す。
実施例2
As a combined test, a test combining the above scratch resistance test and corrosion resistance test was performed. That is, first, a scratch resistance test was performed, and a corrosion resistance test was further performed on the sample after the scratch resistance test. The surface condition and the reduction rate of (BH) max were evaluated for the samples after the scratch resistance test and the corrosion resistance test. The results are shown in Table 1.
Example 2
第2層を形成するための第2めっき浴を、以下の組成および条件とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
ピロリン酸第一スズ:12g/l、
シアン化カリウム:50g/l、
シアン化第一銅:20g/l、
ピロリン酸カリウム:100g/l、
pH:9.5、
浴温度:60℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なCu、第2層が均一な組成のCu−Sn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn合金におけるCu含有量は、55原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例3
A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the second plating bath for forming the second layer had the following composition and conditions, and the first layer and the second layer were formed.
Stannous pyrophosphate: 12 g / l,
Potassium cyanide: 50 g / l,
Cuprous cyanide: 20 g / l,
Potassium pyrophosphate: 100 g / l,
pH: 9.5
Bath temperature: 60 ° C.
It was confirmed by observation of EPMA that the obtained sample was made of Cu having a uniform first layer and a Cu-Sn alloy having a uniform composition in the second layer. Moreover, Cu content in a Cu-Sn alloy was 55 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Example 3
第1層を形成するための第1めっき浴および第2層を形成するための第2めっき浴を、以下の組成および条件とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
第1めっき浴
スズ酸ナトリウム:105g/l、
水酸化ナトリウム:10g/l、
pH:12.5、
浴温度:60℃。
第2めっき浴
スズ酸ナトリウム:100g/l、
硫酸銅:20g/l、
アミノトリメチレンホスホン酸:180g/l、
水酸化ナトリウム:40g/l、
pH:8.5、
浴温度:60℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なSn、第2層が均一な組成のCu−Sn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn合金におけるCu含有量は、60原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例4
A magnet body is manufactured in the same manner as in Example 1 except that the first plating bath for forming the first layer and the second plating bath for forming the second layer have the following composition and conditions. Then, the first layer and the second layer were formed.
First plating bath sodium stannate: 105 g / l,
Sodium hydroxide: 10 g / l,
pH: 12.5
Bath temperature: 60 ° C.
Second plating bath sodium stannate: 100 g / l,
Copper sulfate: 20 g / l,
Aminotrimethylenephosphonic acid: 180 g / l,
Sodium hydroxide: 40 g / l,
pH: 8.5,
Bath temperature: 60 ° C.
The obtained sample was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of a uniform Sn and the second layer was made of a Cu—Sn alloy having a uniform composition. Moreover, Cu content in a Cu-Sn alloy was 60 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Example 4
第2層を形成するための第2めっき浴を、以下の組成および条件とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
シアン化第一銅:17g/l、
シアン化亜鉛:60g/l、
シアン化ナトリウム:60g/l、
水酸化ナトリウム:60g/l、
pH:13.0、
浴温度:35℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なCu、第2層が均一な組成のCu−Zn合金からなることが確認できた。また、Cu−Zn合金におけるCu含有量は、25原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例5
A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the second plating bath for forming the second layer had the following composition and conditions, and the first layer and the second layer were formed.
Cuprous cyanide: 17 g / l,
Zinc cyanide: 60 g / l,
Sodium cyanide: 60 g / l,
Sodium hydroxide: 60 g / l,
pH: 13.0,
Bath temperature: 35 ° C.
It was confirmed by observation of EPMA that the obtained sample was made of Cu having a uniform first layer and a Cu—Zn alloy having a uniform composition in the second layer. Moreover, Cu content in a Cu-Zn alloy was 25 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Example 5
第1層を形成するための第1めっき浴を、以下の組成および条件とし、第2層を形成するための第2めっき浴を、実施例4の第2めっき浴と同様とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
シアン化亜鉛:60g/l、
シアン化ナトリウム:40g/l、
水酸化ナトリウム:80g/l、
チオ尿素:0.5g/l、
pH:13.0、
浴温度:30℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なZn、第2層が均一な組成のCu−Zn合金からなることが確認できた。また、Cu−Zn合金におけるCu含有量は、25原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例6
The first plating bath for forming the first layer has the following composition and conditions, and the second plating bath for forming the second layer is the same as the second plating bath of Example 4, except that A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1, and the first layer and the second layer were formed.
Zinc cyanide: 60 g / l,
Sodium cyanide: 40 g / l,
Sodium hydroxide: 80 g / l,
Thiourea: 0.5 g / l,
pH: 13.0,
Bath temperature: 30 ° C.
It was confirmed by EPMA observation that the obtained sample was made of a uniform Zn in the first layer and a Cu—Zn alloy having a uniform composition in the second layer. Moreover, Cu content in a Cu-Zn alloy was 25 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Example 6
第2層を形成するための第2めっき浴を、以下の組成および条件とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
シアン化第一銅:3g/l、
シアン化亜鉛:5g/l、
スズ酸ナトリウム:2g/l、
シアン化ナトリウム:20g/l、
炭酸ナトリウム:30g/l、
pH:12.5、
浴温度:65℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なCu、第2層が均一な組成のCu−Sn−Zn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn−Zn合金におけるCu含有量は、55原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
実施例7
A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the second plating bath for forming the second layer had the following composition and conditions, and the first layer and the second layer were formed.
Cuprous cyanide: 3 g / l,
Zinc cyanide: 5 g / l,
Sodium stannate: 2 g / l,
Sodium cyanide: 20 g / l,
Sodium carbonate: 30 g / l,
pH: 12.5
Bath temperature: 65 ° C.
The obtained sample was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of Cu having a uniform composition and the second layer was made of a Cu—Sn—Zn alloy having a uniform composition. Further, the Cu content in the Cu—Sn—Zn alloy was 55 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Example 7
第1層を形成するための第1めっき浴を、以下の組成および条件とし、第2層を形成するための第2めっき浴を、実施例6の第2めっき浴と同様とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
硫酸ニッケル:300g/l、
塩化ニッケル:45g/l、
ホウ酸:35g/l、
pH:4.0、
浴温度:45℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なNi、第2層が均一な組成のCu−Sn−Zn合金からなることが確認できた。Cu−Sn−Zn合金におけるCu含有量は、55原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例1
The first plating bath for forming the first layer has the following composition and conditions, and the second plating bath for forming the second layer is the same as the second plating bath of Example 6, except that A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1, and the first layer and the second layer were formed.
Nickel sulfate: 300 g / l,
Nickel chloride: 45 g / l,
Boric acid: 35 g / l,
pH: 4.0,
Bath temperature: 45 ° C.
It was confirmed by EPMA observation that the obtained sample was made of Ni with a uniform first layer and a Cu—Sn—Zn alloy with a uniform composition in the second layer. The Cu content in the Cu—Sn—Zn alloy was 55 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 1
第1層を形成するための第1めっき浴を実施例7の第1めっき浴と同様とし、第1層の厚みT1を10μmとし、第2層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層を形成した。得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一なNiからなることが確認できた。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例2
The first plating bath for forming the first layer is the same as the first plating bath of Example 7, the thickness T1 of the first layer is 10 μm, and the second layer is not formed. Similarly, a magnet body was manufactured and a first layer was formed. In the obtained sample, it was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of uniform Ni. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 2
第1層を形成するための第1めっき浴を以下の組成および条件として無電解めっきを行い、第1層の厚みT1を10μmとし、第2層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層を形成した。
硫酸ニッケル:20g/l、
次亜リン酸ナトリウム:15g/l、
クエン酸ナトリウム:30g/l、
塩化アンモン:30g/l、
pH:9.5、
浴温度:45℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一な組成のNi−P合金からなることが確認できた。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例3
The first plating bath for forming the first layer was subjected to electroless plating with the following composition and conditions, the thickness T1 of the first layer was 10 μm, and the second layer was not formed. Similarly, a magnet body was manufactured and a first layer was formed.
Nickel sulfate: 20 g / l,
Sodium hypophosphite: 15 g / l,
Sodium citrate: 30 g / l,
Ammon chloride: 30 g / l,
pH: 9.5
Bath temperature: 45 ° C.
In the obtained sample, it was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of a Ni—P alloy having a uniform composition. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 3
第2層を形成するための第2めっき浴を、以下の組成および条件とした以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層および第2層を形成した。
硫酸ニッケル:65g/l、
硫酸銅:2g/l、
グリシン:60g/l、
水酸化ナトリウム:1g/l、
pH:7.0、
浴温度:60℃。
得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一な組成のCu、第2層が均一な組成のCu−Ni合金からなることが確認できた。また、Cu−Ni合金におけるCu含有量は、70原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例4
A magnet body was manufactured in the same manner as in Example 1 except that the second plating bath for forming the second layer had the following composition and conditions, and the first layer and the second layer were formed.
Nickel sulfate: 65 g / l,
Copper sulfate: 2 g / l,
Glycine: 60 g / l,
Sodium hydroxide: 1 g / l,
pH: 7.0,
Bath temperature: 60 ° C.
The obtained sample was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of Cu having a uniform composition and the second layer was made of a Cu—Ni alloy having a uniform composition. Moreover, Cu content in a Cu-Ni alloy was 70 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 4
第1層を形成するための第1めっき浴を、実施例1の第2めっき浴と同様とし、第1層の厚みT1を10μmとし、第2層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層を形成した。得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一な組成のCu−Sn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn合金におけるCu含有量は、60原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例5
The first plating bath for forming the first layer is the same as the second plating bath of Example 1, except that the thickness T1 of the first layer is 10 μm and the second layer is not formed. In the same manner as described above, a magnet body was manufactured and a first layer was formed. In the obtained sample, it was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of a Cu—Sn alloy having a uniform composition. Moreover, Cu content in a Cu-Sn alloy was 60 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 5
第1層を形成するための第1めっき浴を、実施例4の第2めっき浴と同様とし、第1層の厚みT1を10μmとし、第2層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層を形成した。得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一な組成のCu−Zn合金からなることが確認できた。また、Cu−Zn合金におけるCu含有量は、25原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。
比較例6
The first plating bath for forming the first layer is the same as the second plating bath of Example 4, except that the thickness T1 of the first layer is 10 μm and the second layer is not formed. In the same manner as described above, a magnet body was manufactured and a first layer was formed. In the obtained sample, it was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of a Cu—Zn alloy having a uniform composition. Moreover, Cu content in a Cu-Zn alloy was 25 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
Comparative Example 6
第1層を形成するための第1めっき浴を、実施例6の第2めっき浴と同様とし、第1層の厚みT1を10μmとし、第2層を形成しなかった以外は、実施例1と同様にして、磁石素体を製造し、第1層を形成した。得られた試料は、EPMA観察により第1層が均一な組成のCu−Sn−Zn合金からなることが確認できた。また、Cu−Sn−Zn合金におけるCu含有量は、55原子%であった。さらに、得られた試料について、実施例1と同様の評価を行った。結果を表1に示す。 Example 1 except that the first plating bath for forming the first layer was the same as the second plating bath of Example 6, the thickness T1 of the first layer was 10 μm, and the second layer was not formed. In the same manner as described above, a magnet body was manufactured and a first layer was formed. In the obtained sample, it was confirmed by EPMA observation that the first layer was made of a Cu—Sn—Zn alloy having a uniform composition. Further, the Cu content in the Cu—Sn—Zn alloy was 55 atomic%. Furthermore, the same evaluation as Example 1 was performed about the obtained sample. The results are shown in Table 1.
表1より、実施例1〜7の試料は、密着性、耐傷性、耐食性、複合試験(耐傷性+耐食性)のいずれについても良好な結果が得られていることが確認できる。 From Table 1, it can confirm that the sample of Examples 1-7 has obtained the favorable result about all of adhesiveness, scratch resistance, corrosion resistance, and a combined test (scratch resistance + corrosion resistance).
これに対し、比較例1および2の試料は、Ni(比較例1)、Ni−P(比較例2)の第1層のみとしているため、磁石素体との密着性は良好となっている。しかしながら、耐傷性試験では、摩耗痕が観察された。その結果、耐食性試験のみを行った場合には、(BH)maxの低下は見られないが、耐傷性試験と耐食性試験との複合試験を行った場合には、耐傷性試験において摩耗痕が生じているため、磁石素体に錆が生じ、複合試験前後での(BH)maxが大きく低下していることが確認できる。 On the other hand, since the samples of Comparative Examples 1 and 2 are only the first layer of Ni (Comparative Example 1) and Ni-P (Comparative Example 2), the adhesion with the magnet body is good. . However, abrasion marks were observed in the scratch resistance test. As a result, when only the corrosion resistance test is performed, a decrease in (BH) max is not observed, but when a combined test of the scratch resistance test and the corrosion resistance test is performed, wear marks are generated in the scratch resistance test. Therefore, it can be confirmed that rust is generated in the magnet body, and (BH) max before and after the combined test is greatly reduced.
また、第1層をCu、第2層をCu−Niとした場合(比較例3)では、第1層がCuからなるため、磁石素体との密着性は良好となっている。しかしながら、第2層であるCu−Niの硬度が充分ではないため、耐傷性試験において摩耗痕が生じ、その結果、比較例1および2と同様に、複合試験においては、(BH)maxが大きく低下していることが確認できる。 Further, when the first layer is made of Cu and the second layer is made of Cu—Ni (Comparative Example 3), the first layer is made of Cu, so that the adhesion with the magnet body is good. However, since the hardness of Cu—Ni as the second layer is not sufficient, wear marks are generated in the scratch resistance test. As a result, as in Comparative Examples 1 and 2, (BH) max is large in the composite test. It can confirm that it has fallen.
実施例1、4、6の試料の第2層の合金を、第1層とし、第2層を形成しなかった比較例4〜6の試料は、第1層と磁石素体との密着性に劣ることが確認できる。その結果、耐食性試験および複合試験のいずれにおいても、試験後の試料表面に膨れが見られ、さらに試験前後における(BH)maxの低下率が大きくなっていることが確認できる。 The alloys of the second layer of the samples of Examples 1, 4, and 6 were used as the first layer, and the samples of Comparative Examples 4 to 6 in which the second layer was not formed were the adhesion between the first layer and the magnet body. It can be confirmed that it is inferior. As a result, in both the corrosion resistance test and the combined test, it can be confirmed that the surface of the sample after the test is swollen and the rate of decrease in (BH) max before and after the test is increased.
2… 希土類磁石
4… 磁石素体
6… 第1層
8… 第2層
2 ... Rare earth magnet 4 ... Magnet element body 6 ...
Claims (5)
前記磁石素体の表面に形成される第1層と、
前記第1層の上に積層される第2層と、を有する磁石であって、
前記第1層が、金属を含み、
前記第2層が、Cuと、SnおよびZnから選ばれる少なくとも1つ以上と、の合金を含むことを特徴とする磁石。 A magnet body containing a rare earth element;
A first layer formed on the surface of the magnet body;
A magnet having a second layer laminated on the first layer,
The first layer includes a metal;
The magnet, wherein the second layer includes an alloy of Cu and at least one selected from Sn and Zn.
前記第1層を形成するために用いられる第1めっき浴および前記第2層を形成するために用いられる第2めっき浴を準備する工程と、
前記第1めっき浴を用いて湿式めっきを行い、前記磁石素体の表面に前記第1層を形成する工程と、
前記第2めっき浴を用いて湿式めっきを行い、前記第1層の上に積層される前記第2層を形成する工程と、を有する磁石の製造方法。 A method for producing the magnet according to claim 1,
Providing a first plating bath used to form the first layer and a second plating bath used to form the second layer;
Performing wet plating using the first plating bath to form the first layer on the surface of the magnet body; and
Performing wet plating using the second plating bath, and forming the second layer laminated on the first layer.
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