JP2007264687A - タッチパネル、電気光学装置及び電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】タッチパネルが動作するために最適なスペーサの面積密度及び一対の基板間の間
隔を規定し、タッチパネルを安定に動作させる。
【解決手段】互いに対向する一対の基板２及び３と、基板２，３間に設けられた複数のス
ペーサ７と、基板２の表面に設けられ該基板２の表面に表面波Ｗｓを発信する発信子９ａ
，９ｂと、基板２の表面に設けられ発信子９ａ，９ｂが発信した表面波Ｗｓを受信する受
信子１１ａ，１１ｂとを有し、一対の基板２，３の間隔と複数のスペーサ７の面積密度と
は相関関係を有するタッチパネルである。このタッチパネルにおいて、前記一対の基板の
間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密度をＹ％としたとき、
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
である。
【選択図】図２

Description

本発明は、平面領域内で触れられた位置を検出するタッチパネルに関する。また、本発
明は、そのタッチパネルを用いて構成される電気光学装置に関する。また、本発明は、そ
の電気光学装置を用いて構成される電子機器に関する。

現在、携帯電話機、携帯情報端末機等といった各種の電子機器において、液晶表示装置
、ＥＬ装置等といった電気光学装置が広く用いられている。例えば、電子機器に関する各
種の情報を視覚的に表示するための表示部として電気光学装置が用いられている。この電
気光学装置において、電気光学物質として液晶を用いた装置、すなわち液晶表示装置が知
られている。この液晶表示装置では、電気光学物質である液晶を一対の基板間に封入し、
これにより、パネル構造体である電気光学パネルとしての液晶パネルが形成される。

液晶表示装置等といった電気光学装置は、入力装置を有することがある。この入力装置
としては、例えば、タッチパネルが考えられる。このタッチパネルは、例えば透光性のガ
ラス等から成る一対の基板を用いて形成され、一般的には、電気光学パネルの表示を行う
面の上に設置される。入力手段、例えばタッチペン等といった入力機器や指を用いてその
タッチパネルの表面に触れることにより、例えば、電気光学パネルに表示された情報に基
づいて人間が判断した結果をそのタッチパネルを通して電子機器の制御系へ入力すること
ができる。

従来から、一対の基板を含んで構成されるタッチパネルとして、抵抗膜方式のものや、
ＳＡＷ（Surface Acoustic Wave：表面弾性波）方式のもの等が知られている。抵抗膜方
式は、一対の基板の互いに対向する表面に電極をそれぞれ備え、それら一対の電極が接触
した位置を検出する方式である。また、ＳＡＷ方式は、表面弾性波を発生させる発信子と
その表面弾性波を受信する受信子とを一対の基板のうちの一方の表面に備え、その表面弾
性波の変化を測定することによって位置を検出する方式である。

このように一対の基板を含む構造のタッチパネルとして、従来、一対の基板間の間隔を
スペーサによって保持する構造のものが知られている（例えば、特許文献１参照）。この
種のスペーサに関して、タッチパネルの平面内でスペーサが占める面積が適当であるか否
かを判断する基準としてスペーサの面積密度が知られている。特許文献１のタッチパネル
では、そのスペーサの面積密度を、複数のスペーサが設けられた基板の表面の面積とそれ
ら複数のスペーサの合計の面積との面積比で規定している。そのスペーサの面積密度は、
一対の基板間の間隔を保持できる剛性をもたらし、且つ入力側の基板が押圧されて湾曲し
たときに、押圧されたその基板が相手側の基板に接触できる程度の剛性をもたらすように
設定されている。

特開平３−２１９５１９号公報（第５頁、図１）

ところで、特許文献１に開示されたタッチパネルは、抵抗膜方式のタッチパネルであり
、他の方式、例えばＳＡＷ方式等のタッチパネルに関しては考慮されていない。また、特
許文献１に開示されたタッチパネルでは、基板上に設ける複数のスペーサに関してそれら
の高さの範囲と面積密度の範囲を個々に規定しているが、それらスペーサの高さとスペー
サの面積密度との相関関係については規定されていない。そのため、スペーサの高さと面
積密度とを規定の数値範囲内に入るように個別に設定した場合であっても、それらの相関
関係が適切な関係から外れてしまって、タッチパネルが正確に動作しなくなるおそれがあ
る。

本発明は、上記の問題点に鑑みて成されたものであって、タッチパネルが動作するため
に最適なスペーサの面積密度及び一対の基板間の間隔を規定し、タッチパネルを安定に動
作させることを目的とする。

本発明に係る第１のタッチパネルは、互いに対向する一対の基板と、該一対の基板間に
設けられた複数のスペーサと、前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けられた発
信子と、前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位置に設
けられた受信子とを有し、前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度とは相
関関係を有し、前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密度をＹ
％としたとき、
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
であることを特徴とする。

まず、上記の（１）式に関して、図１２を用いて説明する。図１２は、一対の基板の間
隔Ｘと複数のスペーサの面積密度Ｙとの相関関係を示したグラフである。このグラフにお
いて、縦軸はスペーサの面積比を示し、横軸は一対の基板の間隔Ｘを示している。

図１２のグラフにおいて、線Ｌ１はタッチパネルの操作時の状況から規定したスペーサ
の面積比の上限特性を示しており、
Ｙ＝−０．０００５Ｘ＋０．４５
で表される。この直線は、実験、計算、経験、又はそれらの任意の組み合わせによって求
められる直線である。スペーサの面積比が線Ｌ１より高い場合、すなわち、スペーサの面
積密度Ｙが図１２のグラフにおける線Ｌ１より上方の領域に設定されている場合には、タ
ッチパネルの入力面が硬過ぎて位置検出ができる程度に一対の基板のうちの一方の基板を
撓ますことができなくなる。

本発明に係る第１のタッチパネルは、複数のスペーサの面積密度Ｙと一対の基板の間隔
Ｘとの関係を上記（１）式の関係としたので、タッチパネルの入力面が硬過ぎることがな
くなり、位置の検出を確実に行うことができる。

次に、本発明に係る第１のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によ
って受信される表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し
、前記（１）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることが望まし
い。

本発明態様におけるタッチパネルは、ガラス基板上に超音波等といった音波によって表
面波を形成すると共に、入力手段によって押圧された位置をその表面波の変化に基づいて
位置検出手段によって検出する、いわゆるＳＡＷ（Surface Acoustic Wave：表面弾性波
）方式のタッチパネルである。ここで表面波とは、２つの異なった媒質間の境界に沿い、
エネルギーを放射することなく伝搬する波のことである。本発明においては、固体である
ガラス基板上を表面波が伝搬する。このように、固体の表面上を伝搬し、その表面に束縛
されている音波が表面弾性波である。なお、上記の入力手段としては、入力を行うオペレ
ータの指や入力器具であるタッチペン等が考えられる。

ここで、前記入力領域は、基板の中央部分の領域とすることができる。また、入力領域
以外の領域は、位置の検出が行われない非検出領域であり、通常は入力手段によって押圧
されない非入力領域である。本発明態様のタッチパネルにおいて、入力領域内に存在する
スペーサの面積密度を（１）式の関係に設定すれば、入力領域内の押圧された位置におい
て基板が撓むことができるので、当該入力領域内において押圧された位置を確実に検知で
きる。

次に、本発明に係る第２のタッチパネルは、互いに対向する一対の基板と、該一対の基
板間に設けられた複数のスペーサと、前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けら
れた発信子と、前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位
置に設けられた受信子とを有し、前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度
とは相関関係を有し、前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密
度をＹ％としたとき、
Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
であることを特徴とする。

上記の（２）式に関して、図１２を用いて説明する。図１２のグラフにおいて、線Ｌ２
はタッチパネルの操作時の状況から規定したスペーサの面積比の下限特性を示しており、
Ｙ＝−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４
で表される。この直線も、実験、計算、経験、又はそれらの任意の組み合わせによって求
められる直線である。スペーサの面積比が線Ｌ２より低い場合、すなわち、スペーサの面
積密度Ｙが図１２のグラフにおける線Ｌ２より下方の領域に設定されている場合には、タ
ッチパネルに対して入力操作をしないにも拘らず、あるいは入力操作のために基板を少し
触っただけでも基板が撓んでしまって誤検知が発生するおそれがある。

本発明に係る第２のタッチパネルは、複数のスペーサの面積密度Ｙと一対の基板の間隔
Ｘとの関係を上記（２）式の関係としたので、タッチパネルに対して入力操作をしないに
も拘らず、あるいは入力操作のために基板を少し触っただけでも基板が撓んでしまうこと
に起因して誤検知が発生することがなくなり、正確な位置検出を行うことができる。

次に、本発明に係る第２のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によ
って受信される表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し
、前記（２）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることが望まし
い。こうすれば、入力領域内において、タッチパネルの誤検知が発生することを防止でき
るので、当該タッチパネルの入力領域内において押圧された位置を確実に検知できる。

次に、本発明に係る第３のタッチパネルは、互いに対向する一対の基板と、該一対の基
板間に設けられた複数のスペーサと、前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けら
れた発信子と、前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位
置に設けられた受信子とを有し、前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度
とは相関関係を有し、前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密
度をＹ％としたとき、
−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
であることを特徴とする。

上記の（３）式に関して、図１２を用いて説明する。図１２のグラフにおいて、（３）
式が示す範囲は、線Ｌ１より下方の領域内であって線Ｌ２より上方の領域内の範囲である
。本発明に係る第３のタッチパネルでは、線Ｌ１より下方の領域内であって線Ｌ２より上
方の領域内にスペーサの面積密度Ｙを設定するので、タッチパネルの入力面が硬過ぎるこ
とがなく位置検出ができる程度に一対の基板のうちの一方の基板を撓ますことができ、且
つタッチパネルに対して入力操作をしない状態、あるいは入力操作のために基板を少し触
った状態では基板が撓むことがなくて誤検知が発生することがなくなる。

次に、本発明に係る第３のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によ
って受信される表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し
、前記（３）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることが望まし
い。こうすれば、入力領域内において、押圧された位置において基板が撓むことができ、
且つタッチパネルの誤検知が発生することを防止できる。それ故、当該タッチパネルの入
力領域内において押圧された位置をより確実に検知できる。

次に、本発明に係るタッチパネルにおいて、前記一対の基板の間隔Ｘの範囲は、
５μｍ＜Ｘ＜１００μｍ
であることが望ましい。上記の各発明において、（１）式から（３）式までが適用される
一対の基板の間隔Ｘの範囲は、図１２において線Ｌ３と線Ｌ４との間の領域であることが
望ましい。線Ｌ３は、線Ｌ１と線Ｌ５との交点を通って縦軸に平行に引いた線である。こ
こで線Ｌ５は、タッチパネルの製作時の状況から規定したスペーサの面積比の上限特性を
示している。一般に、タッチパネルを作製する際には、一対の基板を、例えば枠状の接着
材によって接着するのであるが、その接着は、スペーサを一対の基板でつぶしながら行わ
れている。この場合、スペーサの面積密度Ｙが線Ｌ５を越えていると、スペーサが潰れな
いためにタッチパネルの製作に支障を来たす。つまり、操作上の観点からの面積比の上限
線である線Ｌ１と製作上の観点からの面積比の上限線である線Ｌ５との交点を通る線Ｌ３
の位置が一対の基板の間隔の下限である。

他方、線Ｌ４は、線Ｌ２と線Ｌ６との交点を通って縦軸に平行に引いた線である。ここ
で線Ｌ６は、タッチパネルを正常に動作させるための基本的な特性に基づいて規定したス
ペーサの面積比の下限特性を示している。タッチパネルにおいては、スペーサの数が少な
すぎると基板を押さなくても撓んでしまう。こうなると、タッチパネルを入力面から見た
ときに干渉縞が発生して入力操作の邪魔になるおそれがある。つまり、操作上の観点から
の面積比の下限線である線Ｌ２とタッチパネルを正常に動作させるための基本的な特性に
基づいて規定した面積比の下限線である線Ｌ６との交点を通る線Ｌ４の位置が一対の基板
の間隔の上限である。

本発明態様において、一対の基板の間隔Ｘを
５μｍ＜Ｘ＜１００μｍ
の範囲内に設定すれば、一対の基板の間隔Ｘは、図１２のグラフ上における線Ｌ３と線Ｌ
４との間の範囲内に設定できる。このように設定したタッチパネルによれば、タッチパネ
ルの製作に支障を来たすことなく、且つタッチパネルの入力操作の邪魔になる干渉縞の発
生を防止できる。

以上に説明したように、本発明に係るタッチパネルは、スペーサの面積密度Ｙと一対の
基板の間隔Ｘとの関係を、図１２の線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４によって囲まれた領域Ｗ内
に入るように設定すれば、安定した動作のタッチパネルを得ることができる。

次に、本発明に係る電気光学装置は、画像を表示する電気光学パネルと、該電気光学パ
ネルの前記画像が視認される側の面に対向して設けられたタッチパネルとを有し、該タッ
チパネルは以上に記載された構成のタッチパネルであることを特徴とする。

上記構成において、電気光学パネルは、電気的な入力条件を制御することにより、光学
的な出力状態を変化させることができるパネル構造体である。また、電気光学パネルは、
液晶等といった電気光学物質を含むパネル構造体であって、その電気光学物質の電気光学
的な作用を利用して表示を実現するものである。この電気光学パネルは、例えば、ガラス
等から成る基板上に電気光学物質を配置したり、一対の基板間に電気光学物質を封入する
ことによって形成される。この電気光学物質として、例えば液晶を用いれば、電気光学パ
ネルとしての液晶パネルが構成される。

本発明に係るタッチパネルでは、一対の基板の間隔Ｘとスペーサの面積密度Ｙとを上記
の（１）式の関係に設定すれば、押圧された位置において基板が適正に撓むことができる
ので入力位置の検知ができる。また、上記の（２）式の関係に設定すれば、タッチパネル
の誤検知が発生することを防止できる。また、上記の（３）式の関係に設定すれば、（１
）式及び（２）式の両方を用いた場合と同じ効果を奏することができるので、入力位置の
検出をより確実に行うことができる。従って、これらのタッチパネルを用いた本発明の電
気光学装置においても、入力位置の誤検知が発生しなくなり、入力位置の検出を確実に行
うことができる。

次に、本発明に係る電子機器は、以上に記載された構成の電気光学装置を有することを
特徴とする。本発明に係る電気光学装置においては、タッチパネルを構成する一対の基板
の間隔Ｘとスペーサの面積密度Ｙとを上記の（１）式の関係に設定すれば、押圧された位
置において基板が適正に撓むことができるので入力位置の検知ができる。また、上記の（
２）式の関係に設定すれば、タッチパネルの誤検知が発生することを防止できる。また、
上記の（３）式の関係に設定すれば、（１）式及び（２）式の両方を用いた場合と同じ効
果を奏することができるので、入力位置の検出をより確実に行うことができる。従って、
この電気光学装置を用いた電子機器においても、入力位置の誤検知が発生しなくなり、入
力位置の検出を確実に行うことができる。

（タッチパネルの第１実施形態）
以下、本発明に係るタッチパネル及び電気光学装置をその一実施形態を挙げて説明する
。なお、本発明がこの実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、
これからの説明では必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から
成る構造のうち重要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的
な寸法で示す場合がある。

図１は本発明に係るタッチパネルの一実施形態を示している。図１において矢印Ａが描
かれた側が、タッチペン等といった入力器具や人間の指等といった入力手段によって位置
指示動作、具体的にはタッチパネルの表面を軽く押す動作が行われる側である。

図１において、タッチパネル１は、矢印Ａで示す入力側に位置する第１タッチパネル基
板２と、入力側から見て第１タッチパネル基板２の裏側に位置する第２タッチパネル基板
３とを、矢印Ａ方向から見て正方形又は長方形で枠状の接着材４で貼り合せることによっ
て形成されている。第１タッチパネル基板２は、例えば、透光性のガラス等を用いて形成
される可撓性を有する基板であり、例えば、約０．１ｍｍの厚さに形成されている。また
、第１タッチパネル基板２の矢印Ａ方向から見た平面的な形状は四角形、具体的には正方
形又は長方形である。この第１タッチパネル基板２の外側表面には、保護膜６が、例えば
貼着されて設けられている。この保護膜６は、例えば可撓性を有し破損し難い材料、例え
ばフィルム状のプラスチックを用いて形成することができる。

第２タッチパネル基板３は、例えば、透光性のガラス、透光性のプラスチック等によっ
て、例えば約０．５ｍｍの厚さに形成される。また、第２タッチパネル基板３の矢印Ａ方
向から見た平面的な形状は四角形、具体的には正方形又は長方形である。また、第２タッ
チパネル基板３のうちの第１タッチパネル基板２に対向する面には、薄膜５が設けられて
いる。この薄膜５は、第１タッチパネル基板２及び第２タッチパネル基板３に用いられる
ガラス又はプラスチックより柔らかい材料、例えば、透光性のフィルムや透光性の樹脂等
を用いて形成されている。また、第１タッチパネル基板２と薄膜５の間には複数のスペー
サ７が設けられている。第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３との間には接
着材４によって間隔、いわゆるセルギャップＸが形成されている。上記複数のスペーサ７
はそのセルギャップＸを保持している。このスペーサ７に関しては後に詳しく説明する。

図２（ａ）は、図１のタッチパネル１を矢印Ａ方向から平面的に見た図である。なお、
図１は、図２（ａ）のＣ−Ｃ線に従った断面図に相当する。また、図２（ｂ）は、図２（
ａ）のＢ−Ｂ線に従った断面図であり、指等といった入力手段８によって第１タッチパネ
ル基板２を押した状態を示している。なお、図２（ａ）では、タッチパネル１の構造を解
り易く示すため、そのタッチパネル１の第１タッチパネル基板２及び保護膜６を鎖線で示
している。

本実施形態におけるタッチパネル１は、基板２上に超音波の表面波、すなわち表面弾性
波を形成すると共に入力手段８（図２（ｂ）参照）によって押された位置をその表面波の
変化に基づいて検出する、いわゆるＳＡＷ方式のタッチパネルである。ここで表面波とは
、２つの異なった媒質間の境界に沿い、エネルギーを放射することなく伝搬する波のこと
である。本実施形態においては、固体である基板２上を表面波が伝搬する。このように、
固体の表面上を伝搬し、その表面に束縛されている音波が表面弾性波である。このような
タッチパネル１は、例えば、以下に説明するような構成とすることができる。

図２（ａ）及び図２（ｂ）において、第１タッチパネル基板２の内側の表面には、第１
発信子９ａと、第２発信子９ｂと、第１受信子１１ａと、第２受信子１１ｂが設けられて
いる。また、それらの素子の間に、第１反射アレイ１２ａと、第２反射アレイ１２ｂと、
第３反射アレイ１２ｃと、第４反射アレイ１２ｄとが設けられている。第１発信子９ａ、
第２発信子９ｂ、反射アレイ１２ａ〜１２ｄは表面波形成手段として作用する。また、第
１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂは表面波受波手段として作用する。

図２（ａ）において、タッチパネル１の平面内の領域は、鎖線で囲まれた中央部分の領
域Ｖ０と、その領域Ｖ０の周辺の領域Ｖｓとに分けることができる。中央部分の領域Ｖ０
は、入力手段８（図２（ｂ）参照）によって押されて位置検出が行われる入力領域である
。この入力領域Ｖ０は反射アレイ１２ａ〜１２ｄに囲まれた領域である。他方、入力領域
Ｖ０の外側の周辺の領域Ｖｓは、位置検出が行われない非入力領域である。発信子９ａ，
９ｂ、受信子１１ａ，１１ｂ及び反射アレイ１２ａ〜１２ｄはこの非入力領域Ｖｓ内に設
けられている。

第１発信子９ａは、接着材４の内側であって、第１タッチパネル基板２の長辺２ａと短
辺２ｄとが成す角部の近傍に設けられている。また、第２発信子９ｂは、接着材４の内側
の領域であって、第１タッチパネル基板２の長辺２ｃと短辺２ｂとが成す角部の近傍に設
けられている。また、第１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂは、第１タッチパネル基板
２の長辺２ｃと短辺２ｄとが成す角部の近傍に設けられている。

第１発信子９ａ及び第２発信子９ｂは、超音波を発生する要素であり、従って、第１タ
ッチパネル基板２のうちそれらの発信子９ａ，９ｂが設けられた側の表面に表面波Ｗsを
励振する要素である。また、第１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂは、第１タッチパネ
ル基板２の表面を伝わってきた表面波Ｗsを受信する素子である。これらの第１発信子９
ａ、第２発信子９ｂ、第１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂのそれぞれには、例えば酸
化亜鉛（ＺｎＯ）等から成る圧電体の表面に、例えばアルミニウム（Ａｌ）等から成るす
だれ状の電極を配設して成る圧電素子を用いることができる。すだれ状電極については、
例えば、特開平６−０４６４９６号に説明されている。

第１発信子９ａの入力端子及び第２発信子９ｂの入力端子は発信制御回路１３の出力端
子に接続されている。発信制御回路１３は、例えば、圧電素子を構成するすだれ状電極へ
所望の電圧を安定状態で印加する。また、第１受信子１１ａの出力端子及び第２受信子１
１ｂの出力端子は位置検出回路１４の入力端子に接続されている。位置検出回路１４は、
第１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂの出力信号に基づいて表面波の大きさを演算する
回路や、時間を計数する計時回路等を含んで構成されている。

第１発信子９ａ及び第２発信子９ｂにおいては、圧電素子のすだれ状電極に高周波の電
気信号を入力して圧電体に電界を印加すると、その圧電体に圧電効果が発生して、その圧
電体に伸び縮みの変形やすべり変形が発生する。そしてこれにより、第１タッチパネル基
板２の表面に表面波を励振することができる。一方、第１受信子１１ａ及び第２受信子１
１ｂでは、表面波が圧電体に伝わることによりその圧電体が変形すると、圧電効果により
電界が発生し、すだれ状電極から電気信号を出力することができる。

各反射アレイ１２ａ，１２ｂ，１２ｃ，１２ｄは、第１タッチパネル基板２の表面を伝
搬する表面波を所定の方向に反射するための要素である。第１反射アレイ１２ａは、第１
タッチパネル基板２の長辺２ａに沿って配設され、第１発信子９ａによって励振されて第
１反射アレイ１２ａ上を伝搬する表面波ＷｓをＤｘ方向へ順次反射する。また、第２反射
アレイ１２ｂは、第１タッチパネル基板２の短辺２ｂに沿って配設され、第２発信子９ｂ
によって励振されて第２反射アレイ１２ｂ上を伝搬する表面波ＷｓをＤｙ方向へ順次反射
する。

また、第３反射アレイ１２ｃは、第１タッチパネル基板２の長辺２ｃに沿って配設され
、第１反射アレイ１２ａによって反射されてＤｘ方向へ進んだ表面波Ｗｓを第１受信子１
１ａに向けて反射する。また、第４反射アレイ１２ｄは、第１タッチパネル基板２の短辺
２ｄに沿って配設され、第２反射アレイ１２ｂによって反射されてＤｙ方向へ進んだ表面
波Ｗｓを第２受信子１１ｂに向けて反射する。発信制御回路１３は、第１発信子９ａと第
２発信子９ｂとを時系列的に交互に駆動する。これにより、第１タッチパネル基板２の内
側表面には、あるタイミングでは図２（ａ）に示すようにＤｘ方向へ進む表面波Ｗｓが形
成され、他のあるタイミングではＤｙ方向へ進む表面波Ｗｓが形成される。

以下、タッチパネル１によって第１タッチパネル基板２の押圧位置を検出するための動
作を説明する。図２（ａ）において、第１発信子９ａを駆動するタイミングが到来すると
、第１発信子９ａに電界が印加されて第１タッチパネル基板２の長辺２ａの部分に表面波
が励振される。この表面波は第１反射アレイ１２ａによって順次に反射される。そして、
第１タッチパネル基板２の中央領域である入力領域Ｖ０の全域にＤｘ方向に伝搬する表面
波が形成される。第１タッチパネル基板２の表面をＤｘ方向に伝搬した表面波は、第３反
射アレイ１２ｃによって反射されて第１受信子１１ａに入力され、この第１受信子１１ａ
は、電気信号を位置検出回路１４へ出力する。このとき、第１発信子９ａに近い領域を通
る表面波と遠い領域を通る表面波とでは、表面波が伝わる距離が異なるために、第１受信
子１１ａに到達するまでの時間に差が生じている。

ここで、図２（ｂ）に示すように、例えば、指等といった入力手段８によって点Ｐ０の
位置で第１タッチパネル基板２を押すと、第１タッチパネル基板２が点Ｐ０において撓ん
で曲がる。これにより、第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３の互いに対向
する表面が点Ｐ０において接触する。こうして第１タッチパネル基板２と第２タッチパネ
ル基板３とが接触すると、第１タッチパネル基板２の表面に形成された表面波のうち、点
Ｐ０を通る表面波が変化（例えば、減衰）し、その変化した表面波が第１受信子１１ａに
入力される。第１受信子１１ａは、入力された表面波を電気信号に変換して出力する。こ
の電気信号は位置検出回路１４に入力され、この位置検出回路１４よって表面波の変化及
び到達時間を測定することができる。変化した表面波の到達時間は押圧された点Ｐ０の座
標位置と相関しているので、位置検出回路１４は押された点Ｐ０のＤｘ方向の位置を検出
することができる。

一方、第２発信子９ｂを駆動するタイミングが到来すると、第１発信子９ａに代えて第
２発信子９ｂに電界が印加されて短辺２ｂの部分に表面波が励振される。この表面波は第
２反射アレイ１２ｂによって順次に反射される。そして、第１タッチパネル基板２の入力
領域Ｖ０の全域にＤｙ方向に伝搬する表面波が形成される。第１タッチパネル基板２の表
面をＤｙ方向に伝搬した表面波は、第４反射アレイ１２ｄによって反射され第２受信子１
１ｂに入力され、この第２受信子１１ｂは電気信号を位置検出回路１４へ出力する。この
とき、第２発信子９ｂに近い領域を通る表面波と遠い領域を通る表面波とでは、表面波が
伝わる距離が異なるために、第２受信子１１ｂに到達するまでの時間に差が生じている。

ここで、図２（ｂ）に示すように、例えば、指等によって点Ｐ０の位置で第１タッチパ
ネル基板２を押すと、第１タッチパネル基板２が点Ｐ０において撓んで曲がる。これによ
り、第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３の互いに対向する表面が点Ｐ０に
おいて接触する。第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３とが接触すると、第
１タッチパネル基板２の表面に形成された表面波のうち、点Ｐ０を通る表面波が変化（例
えば、減衰）し、その変化した表面波が第２受信子１１ｂに入力される。第２受信子１１
ｂは、入力された表面波を電気信号に変換して出力する。この電気信号は位置検出回路１
４に入力され、この位置検出回路１４によって表面波の変化及び到達時間を測定すること
ができる。変化した表面波の到達時間は押された点Ｐ０の座標位置と相関しているので、
位置検出回路１４は押圧された点Ｐ０のＤｙ方向の位置を検出することができる。

本実施形態では第２タッチパネル基板３の厚さが約０．５ｍｍと厚くなっている。この
ため、第２タッチパネル基板３は容易には撓まないようになっている。これに対し、第１
タッチパネル基板２の厚さは約０．１ｍｍと薄くなっている。このため、第１タッチパネ
ル基板２は入力手段８によって押されたときに容易に撓むようになっている。これにより
、入力手段８が第１タッチパネル基板２に必要な圧力で軽く触れただけでもその接触位置
を正確に検知することができる。

なお、本実施形態では、図１に示すように、第２タッチパネル基板３のうちの第１タッ
チパネル基板２に対向する面に、ガラスより柔らかい薄膜５が設けられている。この薄膜
５を設けることにより、入力手段８によって押されて曲がった第１タッチパネル基板２が
薄膜５に接触したときに、第１タッチパネル基板２の表面に形成された表面波が変化（例
えば、減衰）し易くなっており、それ故、入力された位置を正確に検知することができる
ようになっている。

以下、図１のスペーサ７について詳しく説明する。第１タッチパネル基板２と薄膜５の
間には複数のスペーサ７が設けられている。これらのスペーサ７は透光性の樹脂、例えば
、アクリル樹脂をフォトリソグラフィ処理によってパターニングすることによって設ける
ことができる。個々のスペーサ７は円柱形状に形成されている。しかしながら、スペーサ
７の形状は円柱形状に限らず、例えば角柱形状等にすることもできる。

複数のスペーサ７は、個々が等しい高さに形成される。これらのスペーサ７の自然状態
時の高さは基板２と基板３との間隔であるセルギャップＸよりも高い。第１タッチパネル
基板２と第２タッチパネル基板３とを接着材４を用いて貼り合わせると、スペーサ７の高
さがｈ０へ縮んでセルギャップＸと一致する。また、スペーサ７の縮んだ状態での高さｈ
０は、発信子９ａ，９ｂ及び受信子１１ａ，１１ｂの高さｈ１より高く設定されている。
本実施形態において、セルギャップＸは
５μｍ＜Ｘ＜１００μｍ
の範囲内に設定される。その理由は後に詳しく説明する。

図２（ａ）において、基板２と基板３との間に設けられる複数のスペーサ７に関しては
、それらの複数のスペーサ７の合計の面積が基板２の表面に占める割合、すなわち複数の
スペーサ７の面積密度Ｙと、基板２と基板３との間隔、すなわちセルギャップＸとが所定
の相関関係となるように規定されている。以下、スペーサ７の面積密度Ｙとセルギャップ
Ｘとの関係について説明する。

本実施形態において、スペーサ７の面積密度とセルギャップＸとの関係は、図１２に斜
線で示す領域Ｗに入るように設定されている。この領域Ｗは、線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４
によって囲まれる領域である。なお、図１２のグラフにおいて、縦軸はスペーサの面積比
を示し、横軸はセルギャップＸを示している。図１２のグラフは、後述する実験によって
求められるグラフであり、そのグラフの内容は次の通りである。

まず、線Ｌ１は、タッチパネルの操作時の状況から規定したスペーサ７の面積比の上限
特性を示している。この線Ｌ１は
Ｙ＝−０．０００５Ｘ＋０．４５
で表すことができる。

この線Ｌ１は次のようにして決められている。すなわち、種々のセルギャップ値のタッ
チパネルを用意し、それらのタッチパネルの基板２を入力操作のために押圧したときに、
その押圧された位置を検知できる範囲内のスペーサの面積密度の上方の限界値を示してい
る。つまり、スペーサ７の面積密度Ｙが線Ｌ１を越える場合には、タッチパネルの入力面
が硬過ぎて位置検出ができる程度に基板２を撓ませることができなくなる。

従って、図１のタッチパネル１の平面内においてスペーサ７の面積密度Ｙとセルギャッ
プＸとの関係を図１２の線Ｌ１より下方の領域内に入るように設定する、すなわち
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
となるように設定すれば、基板２を一般的な押圧力によって適正に撓ませることができ、
従ってタッチパネル１において一般的な押圧力によって適正に位置検出ができる。

次に、線Ｌ２は、タッチパネルの操作時の状況から規定したスペーサ７の面積比の下限
特性を示している。この線Ｌ２は、
Ｙ＝−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４
で表すことができる。

この線Ｌ２は次のようにして決められている。すなわち、種々のセルギャップ値のタッ
チパネルを用意し、それらのタッチパネルの基板２を入力操作のために押圧したときに、
その押圧された位置を正常に検知できる範囲内のスペーサ面積密度Ｙの下方の限界値を示
している。つまり、スペーサ７の面積密度Ｙが線Ｌ２よりも低くなると、入力操作をしな
いにも拘らず、あるいは入力操作のために基板を少し触っただけでも、基板が撓んでしま
って誤検知が発生する。

従って、図１のタッチパネル１の平面内においてスペーサ７の面積密度Ｙとセルギャッ
プＸとの関係を図１２の線Ｌ２より上方の領域内に入るように設定する、すなわち
Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
となるように設定すれば、一般的な押圧力よりも小さい微小な圧力によって基板が撓むこ
とによりタッチパネルの誤検知が発生することを防止できる。

また、図１のタッチパネル１において、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの
関係を、図１２の線Ｌ１より下方の領域内であって線Ｌ２より上方の領域内に入るように
設定する、すなわち
−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
となるように設定すれば、上記（１）式と（２）式の両方を適用した場合と同じ効果を奏
することができる。具体的には、図１のタッチパネル１の入力面が硬過ぎることがなく位
置検出ができる程度に基板２を撓ますことができ、且つタッチパネル１に対して入力操作
をしない状態、あるいは入力操作のために基板を少し触った状態では基板２が撓むことが
なくなり、誤検知が発生することを防止できる。

次に、セルギャップＸの設定範囲について説明する。線Ｌ５は、タッチパネルの製作時
の状況から規定したスペーサ７の面積比の上限特性を示している。本実施形態において、
図１のタッチパネル１を作製する際には、基板２と基板３とを接着材４によって接着する
とき、スペーサ７を基板２，３でつぶしながらその接着を行う。この場合に、スペーサ７
の面積密度が線Ｌ５を越えていると、スペーサ７が潰れないためにタッチパネルの製作に
支障を来たすのである。線Ｌ３は、そのような線Ｌ５と上記の操作上の上限線Ｌ１との交
点を通って縦軸に平行に引いた線である。

線Ｌ６は、タッチパネルを正常に動作させるための基本的な特性に基づいて規定したス
ペーサ７の面積比の下限特性を示している。図１から理解されるように、スペーサ７の数
が少な過ぎると、基板２は押されなくても撓んでしまうという現象が発生する。この現象
が発生すると、タッチパネルを入力面側から見たときに干渉縞が発生して、入力操作の邪
魔になるおそれがある。線Ｌ６は、そのような干渉縞を発生させることが無い範囲内のス
ペーサ７の面積比の下限特性を示している。線Ｌ４は、そのような線Ｌ６と上記の操作上
の下限線Ｌ２との交点を通って縦軸に平行に引いた線である。

本実施形態において、セルギャップＸを
５μｍ＜Ｘ＜１００μｍ
の範囲内に設定すれば、セルギャップＸは、図１２のグラフ上における線Ｌ３と線Ｌ４と
の間の範囲内に設定できる。このように設定したタッチパネルによれば、タッチパネルの
製作に支障を来たすことなく、タッチパネルの入力操作の邪魔になる干渉縞の発生を防止
できる。

以上に説明したように、本実施形態におけるタッチパネルは、図１のタッチパネル１の
平面内において、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係を上記のように図１
２の線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４によって囲まれた領域Ｗの中に入るように設定することに
より、タッチパネル１を誤動作させることなく、基板２が押圧された位置を確実に検知す
ることができる。

なお、本実施形態においては、図１の入力領域Ｖ０と非入力領域Ｖｓとを含んだタッチ
パネル１の平面内の全域に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係を
規定している。しかしながら、上記のスペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係
についての規定は、入力領域Ｖ０内に関してのみ適用することにしても良い。具体的には
、入力領域Ｖ０において、スペーサ７の面積密度とセルギャップＸとの関係を図１２の領
域Ｗの中に入るように設定することができる。

一方、非入力領域Ｖｓにおいては、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係
を図１２の領域Ｗから外れて設定することができる。例えば、非入力領域Ｖｓ内における
スペーサ７の面積密度とセルギャップＸとの関係を、図１２の線Ｌ１より上方の領域の中
に入るように設定することができる。こうすれば、非入力領域Ｖｓにおいては、基板２が
撓み難くなるので、当該非入力領域Ｖｓ内に設けられた発信子９ａ，９ｂ及び受信子１１
ａ，１１ｂを保護してこれらの発信子９ａ，９ｂ及び受信子１１ａ，１１ｂが破損するこ
とを防止できる。

（タッチパネルの第２実施形態）
次に、本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を図３に基づいて説明する。なお、本
実施形態において、図１及び図２に示した第１実施形態の場合と同じ要素は同じ符号を付
して示すことにして、その説明は省略する。

本実施形態が第１実施形態と異なる点は次の点である。第１実施形態では、図１及び図
２に示したように、タッチパネル１を構成する入力側の第１タッチパネル基板２の内部の
表面に表面波を形成した。これにより、タッチパネル１は、第１タッチパネル基板２の内
部の表面における表面波の変化に基づいて入力領域Ｖ０内で入力面が押された位置を検出
する。これに対して本実施形態では、図３に示すように、タッチパネル２１を構成する非
入力側の第２タッチパネル基板３の内部の表面に表面波Ｗｓを形成している。以下、図３
のタッチパネル２１を、図１のタッチパネル１と異なる点を中心に説明する。

図４（ａ）は、図３のタッチパネル２１を矢印Ａ方向から平面的に見た図である。また
、図４（ｂ）は、図４（ａ）のＥ−Ｅ線に従った断面図であり、指８によって第１タッチ
パネル基板２を押圧した状態を示している。なお、図３は、図４（ａ）のＦ−Ｆ線に従っ
た断面図に相当する。

まず、図３において、表面波の形成方法の理論は図２に示した実施形態と同じである。
第１実施形態では、図２において、表面波Ｗｓを励振する第１発信子９ａ及び第２発信子
９ｂと、表面波を受信する第１受信子１１ａ及び第２受信子１１ｂと、表面波を反射する
第１反射アレイ１２ａ、第２反射アレイ１２ｂ、第３反射アレイ１２ｃ及び第４反射アレ
イ１２ｄとを、入力側から見て第１タッチパネル基板２の裏側の表面に設けていた。これ
に対し本実施形態では、位置検出に必要なそれらの要素は、図３及び図４に示すように、
第２タッチパネル基板３のうちの第１タッチパネル基板２に対向する面の上に設けている
。以下に、本実施形態におけるタッチパネル２１の動作を具体的に説明する。なお、第２
タッチパネル基板３の表面に弾性波を形成する関係上、本実施形態では第２タッチパネル
基板３の表面に薄膜５（図１参照）は設けられない。

図４（ａ）において、第１発信子９ａを駆動するタイミングが到来すると、第１発信子
９ａに電界が印加されて第２タッチパネル基板３の長辺３ａの部分に表面波Ｗｓが励振さ
れる。この表面波Ｗｓは第１反射アレイ１２ａによって順次に反射される。そして、第１
タッチパネル基板２の入力領域Ｖ０に対応して第２タッチパネル基板３の表面にＤｘ方向
に伝搬する表面波が形成される。第２タッチパネル基板３の表面をＤｘ方向に伝搬した表
面波は、第３反射アレイ１２ｃによって反射されて第１受信子１１ａに入力され、この第
１受信子１１ａは、電気信号を位置検出回路１４へ出力する。

一方、第２発信子９ｂを駆動するタイミングが到来すると、第１発信子９ａに代えて第
２発信子９ｂに電界が印加されて短辺３ｂの部分に表面波が励振される。この表面波は第
２反射アレイ１２ｂによって順次に反射される。そして、第１タッチパネル基板２の入力
領域Ｖ０に対応して第２タッチパネル基板３の表面にＤｙ方向に伝搬する表面波が形成さ
れる。第２タッチパネル基板３の表面をＤｙ方向に伝搬した表面波は、第４反射アレイ１
２ｄによって反射され第２受信子１１ｂに入力され、この第２受信子１１ｂは電気信号を
位置検出回路１４へ出力する。

図４（ｂ）において入力手段としての人間の指８によってタッチパネル２１の入力面が
押されると、第１タッチパネル基板２が押圧点で撓んで第２タッチパネル基板３の表面に
接触する。このとき、第２タッチパネル基板３の表面上の表面弾性波に変化（例えば、減
衰）が生じ、この変化が位置検出回路１４によって検出される。位置検出回路１４による
位置検出動作の原理は図２に示した先の実施形態の場合と同じであるので、詳しい説明は
省略する。

本実施形態も、図１に示した先の実施形態に係るタッチパネル１と同じ効果を有する。
すなわち、図３に示すタッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度Ｙとセルギャッ
プＸとを
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
の関係に設定すれば、タッチパネル２１が押圧された位置において基板２が適正に撓むこ
とができるので入力位置の検知ができる。

また、タッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
の関係に設定すれば、タッチパネル２１の誤検知が発生することを防止できる。

また、タッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
の関係に設定すれば、上記（１）式を用いた場合の効果及び（２）式を用いた場合の効果
との両方を併せて奏することができるので、入力位置の誤検知が発生しなくなり、且つ入
力位置の検出を確実に行うことができる。

（電気光学装置の第１実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置をその一実施形態を挙げて説明する。なお、本発明が
この実施形態に限定されるものでないことは、もちろんである。また、これからの説明で
は必要に応じて図面を参照するが、この図面では、複数の構成要素から成る構造のうち重
要な構成要素をわかり易く示すため、各要素を実際とは異なった相対的な寸法で示す場合
がある。

図５は、本発明に係る電気光学装置の一実施形態である液晶表示装置を分解状態で示し
ている。また、図６は、図５のＨ−Ｈ線に従った液晶表示装置３１の断面構造を示してい
る。図５において、本実施形態の液晶表示装置３１は、電気光学パネルとしての液晶パネ
ル３２と、この液晶パネル３２に実装された半導体要素としての駆動用ＩＣ３３と、照明
装置３４と、タッチパネル４１とを有する。照明装置３４は、矢印Ａが描かれている観察
側から見て液晶パネル３２の背面側に配置されてバックライトとして機能する。

照明装置３４は、光源、具体的には点状光源としてのＬＥＤ（Light Emitting Diode）
３６と、ＬＥＤ３６から出射された点状の光を面状に変換して出射する導光体３７とを有
する。導光体３７は、例えば透光性の樹脂によって形成される。ＬＥＤ３６は、複数個、
本実施形態では３個設けられている。各ＬＥＤ３６から出た光は導光体３７の内部へ導入
され、その導光体３７の光出射面３７ｂから面状の光として出射して液晶パネル３２へ供
給される。なお、光源は、ＬＥＤ３６以外の点状光源や、冷陰極管等といった線状光源に
よって構成することもできる。

液晶パネル３２は、第１液晶パネル基板５１と、第２液晶パネル基板５２と、タッチパ
ネル４１の上面に設けられた第１偏光板４６ａと、第２液晶パネル基板５２の下面に設け
られた第２偏光板４６ｂとを有する。また、タッチパネル４１は、第１タッチパネル基板
２と、第２タッチパネル基板３とを有する。

タッチパネル４１は、液晶パネル３２を挟んで照明装置３４の反対側に配置される。こ
のタッチパネル４１は、矢印Ａが描かれた観察側から平面的に見て枠状の接着部材４０に
よって、液晶パネル３２に接着されている。また、このタッチパネル４１は、矢印Ａで示
す観察側に位置する第１タッチパネル基板２と、観察側から見て第１タッチパネル基板２
の背面側に位置する第２タッチパネル基板３とを、正方形又は長方形で枠状の接着材４で
貼り合せることによって形成されている。第１タッチパネル基板２は、例えば、透光性の
ガラス等を用いて形成される可撓性を有する基板である。上記の偏光板４６ａは、この第
１タッチパネル基板２の外側表面に、例えば貼着によって設けられている。

本実施形態において、タッチパネル４１は、図１に示したタッチパネル１と同じ構成で
ある。従って、タッチパネル４１の構成及び作用は、図１及び図２に関連して行ったタッ
チパネル１の説明と同じであるので、タッチパネル４１の構成及び作用についての説明は
省略することにする。なお、図１の保護膜６の機能は本実施形態では第１偏光板４６ａが
担っている。

図１の第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３との間に、図２（ａ）に示し
たように、発信子９ａ，９ｂ、受信子１１ａ，１１ｂ、反射アレイ１２ａ〜１２ｄ等とい
った表面波形成用素子が設けられることは既述した。図６に示す本実施形態においても、
タッチパネル４１の第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３との間に、発信子
９ａ，９ｂ、受信子１１ａ，１１ｂ、反射アレイ１２ａ〜１２ｄ等が設けられている。こ
れらは、第１タッチパネル基板２のうちの第２タッチパネル基板３に対向する面に表面波
Ｗsを形成する。

図５において、液晶パネル３２は、第１液晶パネル基板としての第１の透光性の基板５
１と、第２液晶パネル基板としての第２の透光性の基板５２とを有し、これらの第１透光
性基板５１と第２透光性基板５２は、矢印Ａ方向から見て枠状のシール材５４によって貼
り合わされている。上記の第２偏光板４６ｂは、第２透光性基板５２の外側表面に、例え
ば貼着によって設けられている。第１透光性基板５１は、矢印Ａが描かれた観察側に位置
しており、その外側の面が表示が行われる表示面Ｓである。なお、本実施形態においては
、第１透光性基板５１の外側の面を表示面Ｓとしているが、第１透光性基板５１の外側の
面には、例えば偏光板等の光学要素が設けられる場合がある。この場合には、液晶パネル
３２の最も外側に在る面、すなわち第１透光性基板５１の外側の面に設けられた光学要素
の外側の面が表示面Ｓになる。

図６に示すように、第１透光性基板５１は、第２透光性基板５２の一方の外側へ張り出
す張出し部５５を有する。駆動用ＩＣ３３は、例えば、ＡＣＦ（Anisotropic Conductive
Film：異方性導電膜）を用いてＣＯＧ（Chip On Glass）技術によって張出し部５５上に
実装されている。

詳しい図示は省略するが、液晶パネル３２を構成する第１透光性基板５１及び第２透光
性基板５２のそれぞれの互いに対向する表面には電極が設けられる。さらに、それらの基
板間には、図５に示すように、シール材５４によって形成された隙間、いわゆるセルギャ
ップに液晶が封入されて液晶層５６が形成される。照明装置３４から液晶パネル３２へ面
状の光が供給されるとき、液晶パネル３２の内部で互いに対向する一対の電極に印加する
電圧を画素ごとに制御することにより、液晶を通過する光を画素ごとに変調する。

こうして変調された光をタッチパネル４１の第１タッチパネル基板２上に設けた第１偏
光板４６ａに通すことにより、その偏光板４６ａの光出射側に文字、数字、図形等といっ
た像を表示する。これにより、矢印Ａで示す観察側から液晶パネル３２の表示を観察する
ことができる。

液晶パネル３２は任意の表示モードによって構成できる。例えば、液晶駆動方式でいえ
ば、単純マトリクス方式及びアクティブマトリクス方式のいずれであっても良い。また、
液晶モードの種別でいえば、ＴＮ（Twisted Nematic）、ＳＴＮ（Super Twisted Nematic
）、ＶＡ（Vertically Aligned：垂直配向）、ＥＣＢ（Electrically Controlled Birefr
ingence：電界制御複屈折モード）その他任意の液晶を用いることができる。また、採光
方式でいえば、反射型、透過型又は透過及び反射兼用の半透過反射型のいずれであっても
良い。

反射型とは、太陽光、室内光等といった外部光を液晶パネル３２の内部で反射させて表
示に用いる方式である。また、透過型とは、液晶パネル３２を透過する光を用いて表示を
行う方式である。また、半透過反射型とは、反射型表示と透過型表示の両方を選択的に行
うことができる方式である。なお、本実施形態では照明装置３４がバックライトとして設
けられているので、採光方式としては透過型又は半透過反射型が採用されていることにな
る。

単純マトリクス方式とは、各画素に能動素子を持たず、走査電極とデータ電極との交差
部が画素またはドットに対応し、駆動信号が直接に印加されるマトリクス方式である。こ
の方式に対する液晶モードとしては、ＴＮ、ＳＴＮ、ＶＡ、ＥＣＢモード等のうちのいず
れか１つが用いられる。次に、アクティブマトリクス方式とは、画素又はドットごとに能
動素子が設けられ、書き込み期間では能動素子がＯＮ状態となってデータ電圧が書き込ま
れ、他の期間では能動素子がＯＦＦ状態になって電圧が保持されるマトリクス方式である
。この方式で使用する能動素子には３端子型と２端子型がある。３端子型の能動素子には
、例えば、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）がある。また、２端子型の能動素子には、例
えば、ＴＦＤ（Thin Film Diode）がある。

上記のような液晶パネル３２において、カラー表示を行う場合には、一対の基板のうち
の一方にカラーフィルタが設けられる。カラーフィルタは、特定の波長域の光を選択的に
透過する複数のフィルタによって形成される。例えば、３原色であるＢ（青），Ｇ（緑）
，Ｒ（赤）の１色ずつを基板上の各画素に対応させて所定の配列、例えばストライプ配列
、デルタ配列、モザイク配列で並べることによって形成される。

液晶パネル３２として、ＴＦＤ素子を用いたアクティブマトリクス方式の液晶パネルを
用いるものとすれば、その電気的な等価回路は図７に示す通りである。図７において、複
数本の走査線６１が行方向Ｘに延びるように形成され、さらに、複数本のデータ線６２が
列方向Ｙに延びるように形成されている。走査線６１は、図６の第１透光性基板５１又は
第２透光性基板５２のうちのＴＦＤ素子が設けられない方の基板上に帯状電極として形成
される。また、図７のデータ線６２は、図６の第１透光性基板５１又は第２透光性基板５
２のうちのＴＦＤ素子が設けられる方の基板上にライン配線として形成される。

図７において、表示の最小単位であるサブ画素Ｄは走査線６１とデータ線６２との各交
差部分に形成される。各サブ画素Ｄにおいては、液晶層５６と、ＴＦＤ素子６４とが直列
に接続されている。各サブ画素Ｄに青色（Ｂ）、緑色（Ｇ）、赤色（Ｒ）の各色フィルタ
のうちの１色を対応させてカラー表示を行う場合には、３色のサブ画素Ｄが集まって１つ
の画素が形成される。一方、白黒等によってモノカラー表示を行う場合にはサブ画素Ｄの
１つが１つの画素を形成する。

図７では、液晶層５６が走査線６１の側に接続され、ＴＦＤ素子６４がデータ線６２の
側に接続されているが、接続関係をその逆にしても良い。各走査線６１は、走査線駆動回
路６７によって駆動される。一方、各データ線６２は、データ線駆動回路６８によって駆
動される。走査線駆動回路６７及びデータ線駆動回路６８は図６の駆動用ＩＣ３３によっ
て構成される。駆動用ＩＣ３３は、共通のＩＣによって図７の両駆動回路６７及び６８を
賄うものであっても良いし、あるいは、両駆動回路６７及び６８を個別のＩＣに割り当て
ても良い。

他方、図５の液晶パネル３２として、ＴＦＴ素子を用いたアクティブマトリクス方式の
液晶パネルを用いるものとすれば、その電気的な等価回路は図８に示す通りである。図８
において、複数本の走査線６１が行方向Ｘに延びるように形成されている。また、複数本
のデータ線６２が列方向Ｙに延びるように形成されている。走査線６１は、図６の第１透
光性基板５１又は第２透光性基板５２の一方に形成されたＴＦＴ素子のゲート電極に繋が
る線として形成され、図８のデータ線６２はＴＦＴ素子のソース電極に繋がる線として形
成される。図６の第１透光性基板５１又は第２透光性基板５２のうちのＴＦＴ素子が形成
されない方の基板上には面状の共通電極が形成される。

図８において、サブ画素Ｄは走査線６１とデータ線６２との各交差部分に形成される。
各サブ画素Ｄにおいては、ＴＦＴ素子６５と画素電極６６とが直列に接続されている。各
走査線６１は、走査線駆動回路６７によって駆動される。一方、各データ線６２は、デー
タ線駆動回路６８によって駆動される。走査線駆動回路６７及びデータ線駆動回路６８は
図６の駆動用ＩＣ３３によって構成される。

走査信号は図８のＴＦＴ素子６５のゲートへ送られ、データ信号はＴＦＴ素子６５のソ
ースへ送られる。ＴＦＴ素子６５がＯＮ状態になると、対応する画素電極６６への通電が
成されて対応するサブ画素Ｄ内の液晶への書き込みが行われる。また、引き続いてＴＦＴ
素子６５がＯＦＦ状態になると、書き込まれた状態が保持される。この一連の書き込み動
作及び保持動作により、液晶分子が制御される。

本実施形態では、図６に示すように、液晶表示装置３１の入力装置としてタッチパネル
４１を設けた。このタッチパネル４１の構成は、保護膜６（図１参照）に代えて第１偏光
板４６ａを用いることを除いて、図１に示すタッチパネル１と同じである。また、液晶パ
ネル３２において表示が行われる表示領域は、図７又は図８に示した複数のサブ画素Ｄが
縦横にマトリクス状に配置されることによって形成される平面領域である。本実施形態に
おいては、図６において符号Ｖｉで示す領域が液晶パネル３２によって表示が行われる表
示領域である。

本実施形態において、タッチパネル４１の構成は保護膜６に代えて第１偏光板４６ａを
用いることを除いて、図１のタッチパネル１と同じである。このタッチパネル１では、ス
ペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
の関係に設定した。この（１）式の関係は、図１２における線Ｌ１より下方の領域に相当
する。このように図１のタッチパネル１において、スペーサ７の面積密度Ｙとセルギャッ
プＸとを（１）式の関係に設定すれば、タッチパネル１が押圧された位置において基板２
が一般的な押圧力によって適正に撓むことができるので、一般的な押圧力によって適正に
入力位置の検知ができる。

また、タッチパネル１は、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係において
、
Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
の関係を有する。この（２）式の関係は、図１２における線Ｌ２より上方の領域に相当す
る。このように図１のタッチパネル１において、スペーサ７の面積密度Ｙとセルギャップ
Ｘとを（２）式の関係に設定すれば、タッチパネル１の誤検知が発生することを防止でき
る。

また、タッチパネル１に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
の関係に設定できる。この（３）式の関係は、図１２において線Ｌ１より下方であって線
Ｌ２より上方の領域に相当する。このように図１のタッチパネル１において、スペーサ７
の面積密度ＹとセルギャップＸとを（３）式の関係に設定すれば、上記（１）式を用いた
場合の効果と（２）式を用いた場合の効果の両方を併せて奏することができるので、入力
位置の誤検知が発生しなくなり、且つ入力位置の検出を確実に行うことができる。

本実施形態では、液晶表示装置３１に付設される入力装置としてタッチパネル４１を設
けた。このタッチパネル４１は、偏光板４６ａを保護膜６として用いることを除いて、図
１に示すタッチパネル１と同じ構成である。従って、液晶表示装置３１も、タッチパネル
１の場合と同じ上記の効果を奏することができる。

（電気光学装置の第２実施形態）
次に、本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を図９に基づいて説明する。本実施形
態の説明も液晶表示装置を例示して行うものとし、図６に示した第１実施形態と同じ要素
は同じ符号を付して示すことにして、その説明は省略する。本実施形態に係る液晶表示装
置の外観形状は、概ね、図５と同じである。

図６に示した先の実施形態では、第１タッチパネル基板２のうちの第２タッチパネル基
板３に対向する表面に表面波を形成する構造のタッチパネル４１を液晶パネル３２の表示
面Ｓ側に設置した。これに対して図９に示す本実施形態に係る液晶表示装置７１では、第
２タッチパネル基板３のうちの第１タッチパネル基板２に対向する表面に表面波を形成す
る構造のタッチパネル８１を液晶パネル３２の表示面Ｓ側に設置している。以下、液晶表
示装置７１を、図６の液晶表示装置３１と異なる点を中心に説明する。

タッチパネル８１は、液晶パネル３２を挟んで照明装置３４の反対側に配置される。こ
のタッチパネル８１は、矢印Ａが描かれた観察側から平面的に見て枠状の接着部材４０に
よって、液晶パネル３２に接着されている。

本実施形態において、タッチパネル８１の構成は、基本的に図３に示したタッチパネル
２１の構成と同じある。異なっているのは、図３の実施形態で用いた保護膜６に代えて、
タッチパネル８１では第１偏光板４６ａを用いていることである。第１偏光板４６ａは保
護膜としても機能するので、その意味では保護膜６と同じ要素と考えることができる。こ
のようにタッチパネル８１の構成は、図３及び図４に関連して行ったタッチパネル２１の
場合と実質的に同じであるので、タッチパネル８１の構成及び作用についての説明は省略
することにする。

図３において、第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３との間に、発信子９
ａ，９ｂ、受信子１１ａ，１１ｂ、反射アレイ１２ａ〜１２ｄ等といった表面波素子（図
４（ａ）参照）が設けられることは既述した。図９に示す本実施形態においても、タッチ
パネル８１の第１タッチパネル基板２と第２タッチパネル基板３との間に、発信子９ａ，
９ｂ、受信子１１ａ，１１ｂ、反射アレイ１２ａ〜１２ｄ等といった表面波形成用素子が
設けられている。これらの表面波形成用素子は、第２タッチパネル基板３のうちの第１タ
ッチパネル基板２に対向する面に表面波Ｗsを形成する。

図３に示した先の実施形態に係るタッチパネル２１は既述の通りに次の効果を有する。
すなわち、図３に示すタッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度Ｙとセルギャッ
プＸとを
Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
の関係に設定すれば、タッチパネル２１が適正な圧力で押圧された位置において基板２が
適正に撓むことができるので入力位置の検知ができる。

また、タッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
の関係に設定すれば、タッチパネル２１の誤検知が発生することを防止できる。

また、タッチパネル２１に関して、スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとを
−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
の関係に設定すれば、上記（１）式を用いた場合の効果と（２）式を用いた場合の効果の
両方を併せて奏することができるので、入力位置の誤検知が発生しなくなり、且つ入力位
置の検出を確実に行うことができる。

本実施形態では、液晶表示装置７１に付設される入力装置としてタッチパネル８１を設
けた。このタッチパネル８１は、偏光板４６ａを保護膜６として用いることを除いて、図
３に示すタッチパネル２１と同じ構成である。従って、液晶表示装置７１も、タッチパネ
ル２１の場合と同じ上記の効果を奏することができる。

（タッチパネル及び電気光学装置のその他の実施形態）
以上、好ましい実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はその実施形態に限定さ
れるものでなく、請求の範囲に記載した発明の範囲内で種々に改変できる。

例えば、上記の各実施形態では、図１及び図３に示すタッチパネル１，４１において、
スペーサ７の面積密度ＹとセルギャップＸとの関係を図１２の線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４
で囲まれる領域Ｗの範囲内に設定している。しかしながら、スペーサ７の面積密度Ｙとセ
ルギャップＸとの関係は、（１）線Ｌ１以下の範囲のみに設定すること、（２）線Ｌ２以
上の範囲のみに設定すること、（３）線Ｌ１と線Ｌ２との間の範囲に設定すること、（４
）上記の（１），（２）又は（３）の個々の範囲であって線Ｌ３以上の範囲に設定するこ
と、（５）上記の（１），（２）又は（３）の個々の範囲であって線Ｌ４以下の範囲に設
定することにしても良い。

また、本発明は、液晶表示装置以外の電気光学装置、例えば、有機ＥＬ装置、無機ＥＬ
装置、プラズマディスプレイ装置（ＰＤＰ：Plasma Display）、電気泳動ディスプレイ（
ＥＰＤ：Electrophoretic Display）、フィールドエミッションディスプレイ装置（ＦＥ
Ｄ：Field Emission Display：電界放出表示装置）にも適用できる。

（電子機器の第１実施形態）
以下、本発明に係る電子機器を実施形態を挙げて説明する。なお、この実施形態は本発
明の一例を示すものであり、本発明はこの実施形態に限定されるものではない。

図１０は、本発明に係る電子機器の一実施形態を示している。ここに示す電子機器は、
液晶表示装置１０１と、これを制御する制御回路１０２とを有する。制御回路１０２は、
表示情報出力源１０５、表示情報処理回路１０６、電源回路１０７及びタイミングジェネ
レータ１０８によって構成される。そして、液晶表示装置３１０１は液晶パネル１０３及
び駆動回路１０４を有する。

表示情報出力源１０５は、ＲＡＭ(Random Access Memory)等といったメモリや、各種デ
ィスク等といったストレージユニットや、ディジタル画像信号を同調出力する同調回路等
を備え、タイミングジェネレータ１０８により生成される各種のクロック信号に基づいて
、所定フォーマットの画像信号等といった表示情報を表示情報処理回路１０６に供給する
。

次に、表示情報処理回路１０６は、増幅・反転回路や、ローテーション回路や、ガンマ
補正回路や、クランプ回路等といった周知の回路を多数備え、入力した表示情報の処理を
実行して、画像信号をクロック信号ＣＬＫと共に駆動回路１０４へ供給する。ここで、駆
動回路１０４は、走査線駆動回路やデータ線駆動回路と共に、検査回路等を総称したもの
である。また、電源回路１０７は、上記の各構成要素に所定の電源電圧を供給する。

液晶表示装置１０１は、例えば、図５に示した液晶表示装置３１，７１を用いて構成で
きる。液晶表示装置３１，７１においては、タッチパネル４１，８１のセルギャップＸと
スペーサ７の面積密度Ｙとを上記の（１）式の関係に設定すれば、適正な圧力で押圧され
た位置において、基板２が適正に撓むことができるので入力位置の検知ができる。また、
上記の（２）式の関係に設定すれば、タッチパネル４１，８１の誤検知が発生することを
防止できる。また、上記の（３）式の関係に設定すれば、（１）式を用いた場合の効果と
（２）式を用いた場合の効果の両方を併せて奏することができるので、入力位置の検出を
より確実に行うことができる。従って、この液晶表示装置を用いた電子機器においても、
入力位置の誤検知が発生しなくなり、且つ入力位置の検出を確実に行うことができる。

（電子機器の第２実施形態）
図１１は、本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示している。ここ
に示す携帯電話機１１０は、本体部１１１と、これに開閉可能に設けられた表示体部１１
２とを有する。液晶表示装置等といった電気光学装置によって構成された表示装置１１３
は、表示体部１１２の内部に配置され、電話通信に関する各種表示は、表示体部１１２に
おいて表示画面１１４によって視認できる。本体部１１１には操作ボタン１１５が配列さ
れている。

表示体部１１２の一端部にはアンテナ１１６が伸縮自在に取付けられている。表示体部
１１２の上部に設けられた受話部１１７の内部には、図示しないスピーカが配置される。
また、本体部１１１の下端部に設けられた送話部１１８の内部には図示しないマイクが内
蔵されている。表示装置１１３の動作を制御するための制御部は、携帯電話機の全体の制
御を司る制御部の一部として、又はその制御部とは別に、本体部１１１又は表示体部１１
２の内部に格納される。

表示装置１１３は、例えば、図５に示した液晶表示装置３１，７１を用いて構成できる
。液晶表示装置３１，７１においては、タッチパネル４１，８１のセルギャップＸとスペ
ーサ７の面積密度Ｙとを上記の（１）式の関係に設定すれば、適正な圧力で押圧された位
置において、基板２が適正に撓むことができるので入力位置の検知ができる。また、上記
の（２）式の関係に設定すれば、タッチパネル４１，８１の誤検知が発生することを防止
できる。また、上記の（３）式の関係に設定すれば、（１）式を用いた場合の効果と（２
）式を用いた場合の効果の両方を併せて奏することができるので、入力位置の検出をより
確実に行うことができる。従って、この液晶表示装置を用いた電子機器においても、入力
位置の誤検知が発生しなくなり、且つ入力位置の検出を確実に行うことができる。

（変形例）
なお、電子機器としては、以上に説明した携帯電話機等の他にも、パーソナルコンピュ
ータ、液晶テレビ、ビューファインダ型又はモニタ直視型のビデオテープレコーダ、カー
ナビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーショ
ン、テレビ電話機、ＰＯＳ端末器等が挙げられる。

（実験例）

図１のタッチパネル１に関して、スペーサ７の面積密度Ｙ及びセルギャップＸが異なる
複数のタッチパネルを作製し、それらのタッチパネルに関して、セルギャップＸとスペー
サ７の面積密度Ｙとの関係を調べる実験を行った。実験の条件は次の通りである。

（１）実験に供したタッチパネルの外観形状：
セルギャップＸが２５，５０，７５，１００μｍの４種類であり、それぞれのセルギャ
ップＸに対してスペーサ７の面積比が０．０１，０．０２，０．０３，０．０４，０．０
５，４０，４１，４２，４３，４５％である複数のタッチパネルを用意した。

（２）スペーサの材料物性：
次の２種類の材料を用いた。

（ｉ）材料１：この材料を１辺の長さが１０μｍで高さが３μｍの形状に成形した上
で、この材料に４０ｍＮの荷重を掛けたときに高さ方向の変位が０．２μｍであった。

（ｉｉ）材料２：この材料を１辺の長さが１０μｍで高さが３μｍの形状に成形した
上で、この材料に４０ｍＮの荷重を掛けたときに高さ方向の変位が０．８μｍであった。

（３）試験条件：
図２（ｂ）において、入力手段８として直径１０ｍｍの円柱を用いて基板２を押圧した
ときの、その押圧位置Ｐ０におけるセルギャップＸ１を測定した。押圧力は１Ｋｇｆと１
５Ｋｇｆの２種類とした。

（４）判定基準：
（ｉ）１ｋｇｆの荷重で基板２を押圧した場合、押圧時のセルギャップＸ１が初期の
セルギャップＸの８０％以下になったときを不良とした。セルギャップが８０％以下にな
るとタッチパネルは誤動作する可能性があるからである。

（ｉｉ）１５ｋｇｆの荷重で基板２を押圧した場合、押圧時のセルギャップＸ１が初
期のセルギャップＸの２０％以上であったときを不良とした。セルギャップが２０％以上
であると位置検出の感度が低下する可能性があるからである。

以上の条件の下で測定及び判定を行ったところ、表１及び表２に示す結果を得た。なお
、表１及び表２において、「○」は位置の検出が可能であった正常の場合であり、「×」
は位置の検出が不可能であった不良の場合である。

次に、図１２に示すグラフのように、縦軸に面積比をとり、横軸にセルギャップをとっ
たグラフ上に表１及び表２の位置検出可能点「○」をプロットした。その結果、縦軸（面
積比）を“Ｙ”として、横軸（セルギャップ）を“Ｘ”としたとき、周知の近似演算処理
により、表１の結果（１Ｋｇｆ）から
Ｙ＝−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（１）
が求められ、表２の結果（１５Ｋｇｆ）から
Ｙ＝−０．０００５Ｘ＋０．４５…（２）
が求められた。式（１）は図１２の線Ｌ２に相当し、式（２）は線Ｌ１に相当する。

式（１）を用いればＸ＝２５、５０、７５、１００μｍのときの限界の面積比は、それ
ぞれ、０．０３５、０．０３１、０．０２５、０．０２１％であることが分かる。また、
式（２）を用いればＸ＝２５、５０、７５、１００μｍのときの限界の面積比は、それぞ
れ、４３．８００、４２．５００、４１．２００、４０．１００％であることが分かる。

さらに、セルギャップが３０，６０，８０，９５，１２０μｍの５種類のタッチパネル
に関して入力領域Ｖ０内において種々の面積比のスペーサを作製して、再度、位置検出実
験を行ったところ、図１２において“△”及び“□”のプロット点が得られた。これらは
、それぞれ、上記の式（１）及び式（２）に沿っていた。このことから、上記の式（１）
及び式（２）が正しいことが分かった。

なお、図１２のグラフにおいて、線Ｌ５は、タッチパネルの製作時の状況から規定した
スペーサ７の面積比の上限特性を示している。図１のタッチパネル１を作製する際には、
基板２と基板３とを接着材４によって接着するとき、スペーサ７を基板２，３でつぶしな
がらその接着を行う。この場合に、スペーサ７の面積密度が線Ｌ５を越えていると、スペ
ーサ７が潰れないためにタッチパネルの製作に支障を来たすのである。線Ｌ３は、そのよ
うな線Ｌ５と上記の操作上の上限線Ｌ１との交点を通って縦軸に平行に引いた線である。

また、線Ｌ６は、タッチパネルを正常に動作させるための基本的な特性に基づいて規定
したスペーサ７の面積比の下限特性を示している。図１から理解されるように、スペーサ
７の数が少な過ぎると、基板２は押されなくても撓んでしまうという現象が発生する。こ
の現象が発生すると、タッチパネルを入力面側から見たときに干渉縞が発生して、入力操
作の邪魔になるおそれがある。線Ｌ６は、そのような干渉縞を発生させることが無い範囲
内のスペーサ７の面積比の下限特性を示している。線Ｌ４は、そのような線Ｌ６と上記の
操作上の下限線Ｌ２との交点を通って縦軸に平行に引いた線である。

以上の実験結果から、図１の入力領域Ｖ０におけるセルギャップＸとスペーサ７の面積
密度との関係を、図１２の線Ｌ１，Ｌ２，Ｌ３，Ｌ４によって囲まれる領域Ｗ内に入るよ
うに設定すれば、タッチパネルが誤動作することなく、押された位置を正確に検出できる
タッチパネルを作製できることがわかった。

本発明に係るタッチパネルの一実施形態を示す断面図である。 （ａ）は図１のタッチパネルの平面図、（ｂ）は（ａ）のＢ−Ｂ線に従った断面図である。 本発明に係るタッチパネルの他の実施形態を示す断面図である。 （ａ）は図３のタッチパネルの平面図、（ｂ）は（ａ）のＥ−Ｅ線に従った断面図である。 本発明に係る電気光学装置の一実施形態を分解状態で示す斜視図である。 図５のＨ−Ｈ線に従って電気光学装置の内部構造を示す断面図である。 図５の電気光学装置の電気的な等価回路の一例を示す回路図である。 図５の電気光学装置の電気的な等価回路の他の一例を示す回路図である。 本発明に係る電気光学装置の他の実施形態を示す断面図である。 本発明に係る電子機器の一実施形態を示すブロック図である。 本発明に係る電子機器の他の実施形態である携帯電話機を示す斜視図である。 タッチパネルにおけるセルギャップとスペーサの面積密度との関係を示すグラフである。

符号の説明

１，２１，４１，８１．タッチパネル、 ２．第１タッチパネル基板、
３．第２タッチパネル基板、 ４．接着材、 ５．薄膜、 ６．保護膜、
７．スペーサ、 ８．入力手段、 ９ａ．第１発信子、 ９ｂ．第２発信子、
１１ａ．第１受信子、 １１ｂ．第２受信子、 １２ａ〜１２ｄ．反射アレイ、
３１，７１．液晶表示装置（電気光学装置）、 ３２．液晶パネル、
３４．照明装置、 ３６．ＬＥＤ、 ３７．導光体、 ４０．接着材、
４６ａ．第１偏光板、 ４６ｂ．第２偏光板、 ５１．第１液晶パネル基板、
５２．第２液晶パネル基板、 ５４．シール材、５５．張出し部、 ５６．液晶層、
６１．走査線、 ６２．データ線、 ６４．ＴＦＤ素子、 ６５．ＴＦＴ素子、
６６．画素電極、 １０１．液晶表示装置（電気光学装置）、 １０２．制御回路、
１０３．液晶パネル、 １０４．駆動回路、 １１０．携帯電話機（電子機器）、
１１１．本体部、 １１２．表示体部、 １１３．表示装置、 １１４．表示画面、
Ｄ．サブ画素、 Ｘ，Ｘ１．セルギャップ、 Ｖ０．入力領域、 Ｖｉ．表示領域、
Ｖｓ．非入力領域、 Ｘ．セルギャップ（一対の基板の間隔）、
Ｙ．スペーサの面積密度、 Ｗｓ．表面弾性波

Claims (9)

1. 互いに対向する一対の基板と、
   該一対の基板間に設けられた複数のスペーサと、
   前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けられた発信子と、
   前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位置に設けられ
   た受信子と、を有し、
   前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度とは相関関係を有し、
   前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密度をＹ％としたとき
   、
   Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（１）
   であることを特徴とするタッチパネル。
2. 請求項１記載のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によって受信さ
   れる表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し、前記（１
   ）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることを特徴とするタッチ
   パネル。
3. 互いに対向する一対の基板と、
   該一対の基板間に設けられた複数のスペーサと、
   前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けられた発信子と、
   前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位置に設けられ
   た受信子と、を有し、
   前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度とは相関関係を有し、
   前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密度をＹ％としたとき
   、
   Ｙ≧−２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４…（２）
   であることを特徴とするタッチパネル。
4. 請求項３記載のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によって受信さ
   れる表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し、前記（２
   ）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることを特徴とするタッチ
   パネル。
5. 互いに対向する一対の基板と、
   該一対の基板間に設けられた複数のスペーサと、
   前記一対の基板のうちの一方の基板の表面に設けられた発信子と、
   前記一方の基板の表面上であって前記発信子が設けられた位置と異なる位置に設けられ
   た受信子と、を有し、
   前記一対の基板の間隔と前記複数のスペーサの面積密度とは相関関係を有し、
   前記一対の基板の間隔をＸμｍとし、前記複数のスペーサの面積密度をＹ％としたとき
   、
   −２．０×１０^−６Ｘ＋４．０２×１０^−４≦Ｙ≦−０．０００５Ｘ＋０．４５…（３）
   であることを特徴とするタッチパネル。
6. 請求項５記載のタッチパネルにおいて、前記発信子から出て前記受信子によって受信さ
   れる表面弾性波を用いて入力位置の検出が行われる領域である入力領域を有し、前記（３
   ）式は該入力領域内に存在するスペーサについての関係式であることを特徴とするタッチ
   パネル。
7. 請求項１から請求項６のいずれか１つに記載のタッチパネルにおいて、前記一対の基板
   の間隔Ｘの範囲は、
   ５μｍ＜Ｘ＜１００μｍ
   であることを特徴とするタッチパネル。
8. 画像を表示する電気光学パネルと、
   該電気光学パネルの前記画像が視認される側の面に対向して設けられたタッチパネルと
   を有し、
   該タッチパネルは請求項１から請求項７のいずれか１つに記載されたタッチパネルであ
   ることを特徴とする電気光学装置。
9. 請求項８記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
   
   

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