JP2007256581A

JP2007256581A - Exposure device and exposure method of color filter substrate

Info

Publication number: JP2007256581A
Application number: JP2006080367A
Authority: JP
Inventors: Satoshi Takahashi; 聡高橋; Kazuyuki Nakano; 和幸中野; Riyuugo Sato; 隆悟佐藤
Original assignee: Hitachi High Technologies Corp; Hitachi High Tech Corp
Current assignee: Hitachi High Tech Corp
Priority date: 2006-03-23
Filing date: 2006-03-23
Publication date: 2007-10-04

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent wrong alignment of a mask and a substrate, using an alignment mark for a different coloring pattern. <P>SOLUTION: A plurality of alignment marks 4R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 4G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 4B for the coloring pattern B are disposed on a mask 2 at different intervals for each coloring pattern. A plurality of alignment marks 3R for the coloring pattern of R, a plurality of alignment marks 3G for the coloring pattern of G, and a plurality of alignment marks 3B for the coloring pattern of B are disposed on a substrate 1 at different intervals for each coloring pattern. The alignment of the mask 2 and the substrate 1 is carried out by the positionings of the plurality of the alignment marks disposed on the mask 2 and the positionings of the plurality of the alignment marks disposed on the substrate 1. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、液晶ディスプレイ装置等のカラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法に係り、特に１つのマスクを用いて複数の着色パターンの露光を行うのに好適なカラーフィルタ基板の露光装置及び露光方法に関する。 The present invention relates to an exposure apparatus and an exposure method for a color filter substrate such as a liquid crystal display device, and more particularly to an exposure apparatus and an exposure method for a color filter substrate suitable for performing exposure of a plurality of colored patterns using a single mask. .

液晶ディスプレイ装置は、ＴＦＴ（ＴｈｉｎＦｉｌｍＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ）基板とカラーフィルタ基板との間に液晶を封入して構成されている。カラーフィルタ基板の製造は、露光装置を用いたフォトリソグラフィー技術により、基板上にブラックマトリクス及びＲ、Ｇ、Ｂの着色パターンを形成して行われる。着色パターンの露光は、Ｒ、Ｇ、Ｂの３回に分けて行われるが、露光用のマスクが高価なため、通常、１つのマスクを用いて３つの着色パターンの露光を順番に行っている。 The liquid crystal display device is configured by sealing liquid crystal between a TFT (Thin Film Transistor) substrate and a color filter substrate. The color filter substrate is manufactured by forming a black matrix and R, G, and B colored patterns on the substrate by a photolithography technique using an exposure apparatus. The exposure of the colored pattern is performed in three steps of R, G, and B. However, since the mask for exposure is expensive, the exposure of the three colored patterns is usually performed in order using one mask. .

マスク及び基板には、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークが、着色パターン毎にそれぞれ設けられている。露光装置は、アライメントマークの画像を取得する画像センサーを有し、画像センサーの画像信号を処理してマスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出し、マスクと基板との位置合わせを行った後に基板の露光を行う。なお、この様な露光装置としては、例えば、特許文献１に記載のものがある。
特開２００５−１８１９３２号公報 The mask and the substrate are provided with alignment marks for alignment between the mask and the substrate for each colored pattern. The exposure apparatus has an image sensor that acquires an image of the alignment mark, processes an image signal of the image sensor to detect a shift amount between the position of the alignment mark on the mask and the position of the alignment mark on the substrate, and the mask and the substrate After the alignment with the substrate, the substrate is exposed. An example of such an exposure apparatus is disclosed in Patent Document 1.
JP 2005-181932 A

従来、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークの形状は、露光装置において画像信号の処理を容易にするため、各着色パターンについて同じであった。従って、露光装置の操作者は、アライメントマークの形状から、そのアライメントマークがどの着色パターン用のものであるかを識別することができなかった。このため、従来は、アライメントマークの近傍に「Ｒ」、「Ｇ」、「Ｂ」等の表示を付けていた。しかしながら、この様な表示は、露光装置において画像信号の処理を容易にするため、画像センサーの視野から外れる場所にしか設けることができなかった。従って、画像センサーで取得した画像から、そのアライメントマークがどの着色パターン用のものであるかを識別することはできなかった。 Conventionally, the shape of the alignment mark for alignment between the mask and the substrate is the same for each colored pattern in order to facilitate the processing of the image signal in the exposure apparatus. Therefore, the operator of the exposure apparatus cannot identify which color pattern the alignment mark is for from the shape of the alignment mark. For this reason, conventionally, "R", "G", "B", etc. are attached in the vicinity of the alignment mark. However, such a display can only be provided at a place outside the field of view of the image sensor in order to facilitate the processing of the image signal in the exposure apparatus. Therefore, it is impossible to identify which coloring pattern the alignment mark is for from the image acquired by the image sensor.

また、一般に、アライメントマークは、マスクに対する基板のθ方向の回転を防止するため、マスク及び基板の周辺部に複数設けられているが、従来は、複数のアライメントマークの間隔が、各着色パターンについて同じであった。従って、マスクと基板とで異なる着色パターン用のアライメントマークを選択しても、複数のアライメントマークの位置をそれぞれ合わせることができるという不都合があった。このため、誤って、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行う恐れがあり、その結果、製品の不良が発生するという問題があった。 In general, a plurality of alignment marks are provided on the periphery of the mask and the substrate in order to prevent the substrate from rotating in the θ direction with respect to the mask. Conventionally, the interval between the alignment marks is different for each colored pattern. It was the same. Therefore, even if alignment marks for different colored patterns are selected for the mask and the substrate, there is a problem in that the positions of the plurality of alignment marks can be adjusted respectively. For this reason, there is a possibility that the alignment between the mask and the substrate may be erroneously performed using alignment marks for different colored patterns, and as a result, there is a problem that a product defect occurs.

図１１は、従来のアライメントマークの配置の一例を示す図である。本例は、縦方向に長い着色パターンを露光する場合である。図１１（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図１１（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。図１１（ｂ）において、基板１には、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔は、すべて同じあり、今、これらの間隔をＡとする。また、基板１に露光されるＲの着色パターン１Ｒ，Ｇの着色パターン１Ｇ、及びＢの着色パターン１Ｂのピッチを、Ｐとする。 FIG. 11 is a diagram showing an example of the arrangement of conventional alignment marks. In this example, a long colored pattern is exposed in the vertical direction. FIG. 11A shows an alignment mark on the mask, and FIG. 11B shows an alignment mark on the substrate. In FIG. 11 (b), the substrate 1 is provided with four R colored pattern alignment marks 3R, four G colored pattern alignment marks 3G, and four B colored pattern alignment marks 3B. Yes. Conventionally, the horizontal distance between adjacent alignment marks 3R and 3G and the horizontal distance between adjacent alignment marks 3G and 3B are all the same, and these distances are now A. Also, let P be the pitch of the R colored pattern 1R, the G colored pattern 1G, and the B colored pattern 1B exposed on the substrate 1.

図１１（ａ）において、マスク２には、露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃが設けられており、また、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔は、すべて同じあり、これらの間隔はＡ＋Ｐである。 In FIG. 11 (a), the mask 2 is provided with exposure patterns 2a, 2b, 2c, an alignment mark 4R for an R colored pattern, an alignment mark 4G for a G colored pattern, and B Four alignment marks 4B for the colored pattern are provided. Conventionally, the horizontal interval between adjacent alignment marks 4R and 4G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 4G and 4B are all the same, and these intervals are A + P.

図１２は、正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｇとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより、着色パターン１Ｇが基板１上の正しい位置に露光される。 FIG. 12 shows an example in which the mask and the substrate are aligned using correct alignment marks. This example shows a case where alignment between the mask 2 and the substrate 1 is performed using the alignment mark 4G of the mask 2 and the alignment mark 3G of the substrate 1. In this case, the colored pattern 1G is exposed to the correct position on the substrate 1 by the exposure patterns 2a, 2b, and 2c of the mask 2.

図１３は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｒとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより露光される着色パターン１Ｇは、正しい位置からずれるので、製品の不良が発生する。 FIG. 13 shows an example in which alignment between the mask and the substrate is performed using alignment marks for different colored patterns. This example shows a case where alignment between the mask 2 and the substrate 1 is performed using the alignment mark 4G of the mask 2 and the alignment mark 3R of the substrate 1. In this case, the colored pattern 1G exposed by the exposure patterns 2a, 2b, and 2c of the mask 2 is displaced from the correct position, and thus a product defect occurs.

図１４は、従来のアライメントマークの配置の他の例を示す図である。本例は、横方向に長い着色パターンを露光する場合である。図１４（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図１４（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。図１４（ｂ）に示す様に、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂは、図１１（ｂ）と同様の配置である。 FIG. 14 is a diagram showing another example of the arrangement of conventional alignment marks. In this example, a long colored pattern is exposed in the horizontal direction. FIG. 14A shows the alignment mark of the mask, and FIG. 14B shows the alignment mark of the substrate. As shown in FIG. 14B, the R colored pattern alignment mark 3R, the G colored pattern alignment mark 3G, and the B colored pattern alignment mark 3B are the same as those in FIG. Arrangement.

図１４（ａ）において、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂは、それぞれ縦方向に着色パターンのピッチＰだけずれている。隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔はすべて同じあり、これらの間隔はＡである。 In FIG. 14A, the alignment mark 4R for the R colored pattern, the alignment mark 4G for the G colored pattern, and the alignment mark 4B for the B colored pattern are each shifted by the pitch P of the colored pattern in the vertical direction. ing. The horizontal interval between the adjacent alignment marks 4R and 4G and the horizontal interval between the adjacent alignment marks 4G and 4B are all the same, and these intervals are A.

図１５は、正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、図１２と同様、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｇとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより、着色パターン１Ｇが基板１上の正しい位置に露光される。 FIG. 15 shows an example in which a mask and a substrate are aligned using correct alignment marks. This example shows the case where the alignment between the mask 2 and the substrate 1 is performed using the alignment mark 4G of the mask 2 and the alignment mark 3G of the substrate 1 as in FIG. In this case, the colored pattern 1G is exposed to the correct position on the substrate 1 by the exposure patterns 2a, 2b, and 2c of the mask 2.

図１６は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。本例は、図１３と同様、マスク２のアライメントマーク４Ｇと、基板１のアライメントマーク３Ｒとを用いて、マスク２と基板１との位置合わせを行った場合を示している。この場合、マスク２の露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃにより露光される着色パターン１Ｇは、正しい位置からずれるので、製品の不良が発生する。 FIG. 16 shows an example in which alignment between the mask and the substrate is performed using alignment marks for different colored patterns. This example shows a case where the alignment of the mask 2 and the substrate 1 is performed using the alignment mark 4G of the mask 2 and the alignment mark 3R of the substrate 1 as in FIG. In this case, the colored pattern 1G exposed by the exposure patterns 2a, 2b, and 2c of the mask 2 is displaced from the correct position, and thus a product defect occurs.

本発明の課題は、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止することである。また、本発明の課題は、アライメントマークの画像から、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することである。 An object of the present invention is to prevent alignment between a mask and a substrate using alignment marks for different colored patterns. Another object of the present invention is to easily identify which color pattern alignment mark is used from an image of an alignment mark.

本発明のカラーフィルタ基板の露光装置は、１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光装置であって、マスク及び基板が、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークを有し、マスクと基板との位置合わせを行う位置合わせ手段と、マスクのアライメントマーク及び基板のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を出力する複数の画像取得手段と、複数の画像取得手段が出力した画像信号を処理して、マスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出する画像信号処理手段と、画像信号処理手段の検出結果に基づき、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とがそれぞれ合う様に位置合わせ手段を制御する制御手段とを備えたものである。 An exposure apparatus for a color filter substrate according to the present invention is an exposure apparatus for a color filter substrate that uses a single mask to expose a plurality of colored patterns on the substrate, and the mask and the substrate have different intervals for each colored pattern. A plurality of alignment marks, alignment means for aligning the mask and the substrate, a plurality of image acquisition means for acquiring images of the mask alignment marks and the substrate alignment marks, and outputting image signals; The image signal output by the plurality of image acquisition means is processed to detect the amount of deviation between the position of the alignment mark on the mask and the position of the alignment mark on the substrate, and the detection result of the image signal processing means Based on the position of the plurality of alignment marks provided on the mask and the position of the plurality of alignment marks provided on the substrate, respectively. Is obtained by a control means for controlling the positioning means in earthenware pots like.

また、本発明のカラーフィルタ基板の露光方法は、１つのマスクを用いて、基板上に複数の着色パターンの露光を行うカラーフィルタ基板の露光方法であって、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設け、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスクと基板との位置合わせを行うものである。 The color filter substrate exposure method of the present invention is a color filter substrate exposure method in which a plurality of colored patterns are exposed on a substrate using a single mask, and the plurality of colored patterns are exposed at different intervals for each colored pattern. The alignment mark is provided on the mask and the substrate, and the position of the plurality of alignment marks provided on the mask and the position of the plurality of alignment marks provided on the substrate are aligned to perform alignment between the mask and the substrate.

着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けるので、マスクと基板とで異なる着色パターン用のアライメントマークを用いた場合、１箇所でアライメントマークの位置を合わせても、他の箇所ではアライメントマークの位置が合わない。従って、誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うことがない。 Since a plurality of alignment marks are provided on the mask and the substrate at different intervals for each colored pattern, when the alignment marks for different colored patterns are used for the mask and the substrate, the alignment marks can be aligned at one place, The position of the alignment mark does not match at the location. Therefore, the alignment between the mask and the substrate is not performed by mistake using alignment marks for different colored patterns.

着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けてもよく、また着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けてもよい。マスク及び基板の周辺部には、マスクと基板との位置合わせ用のアライメントマークだけでなく、他のアライメントマーク、パターンの重ね合わせ精度等の検査用マーク、製品識別情報等が設けられる。着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設けると、マスク及び基板の縦方向の周辺部では、他のマークや製品識別情報等のために必要な空間が制約を受けない。逆に、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設けると、マスク及び基板の横方向の周辺部では、他のマークや製品識別情報等のために必要な空間が制約を受けない。 A plurality of alignment marks may be provided on the mask and the substrate at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern, and a plurality of alignment marks may be provided on the mask and the substrate at different intervals in the vertical direction for each colored pattern. In addition to the alignment mark for alignment between the mask and the substrate, other alignment marks, inspection marks such as pattern overlay accuracy, product identification information, and the like are provided on the periphery of the mask and the substrate. When a plurality of alignment marks are provided at different intervals in the horizontal direction for each coloring pattern, the space necessary for other marks, product identification information, and the like is not restricted in the peripheral portion in the vertical direction of the mask and the substrate. Conversely, if multiple alignment marks are provided at different intervals in the vertical direction for each colored pattern, the space required for other marks, product identification information, etc. is restricted at the peripheral portions of the mask and the substrate in the horizontal direction. Absent.

また、本発明のカラーフィルタ基板の露光装置は、アライメントマークが、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とから成るものである。また、本発明のカラーフィルタ基板の露光方法は、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成するものである。アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分によって、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。また、各着色パターンに共通な部分を、従来のアライメントマークと同様の形状とすると、それらの画像信号に従来と同様の処理を行って、マスクのアライメントマークの位置と基板のアライメントマークの位置とのずれ量を検出することができる。 In the color filter substrate exposure apparatus of the present invention, the alignment mark is composed of a portion common to each colored pattern and a portion specific to each colored pattern. In the color filter substrate exposure method of the present invention, the alignment mark is composed of a portion common to each colored pattern and a portion specific to each colored pattern. From the alignment mark image, it is possible to easily identify which color pattern alignment mark is used by a unique portion for each color pattern. In addition, if the portion common to each coloring pattern has the same shape as the conventional alignment mark, the image signal is subjected to the same processing as the conventional one, and the position of the alignment mark on the mask and the position of the alignment mark on the substrate The amount of deviation can be detected.

本発明によれば、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設け、マスクに設けた複数のアライメントマークの位置と基板に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスクと基板との位置合わせを行うことにより、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行うのを防止することができる。 According to the present invention, a plurality of alignment marks are provided on the mask and the substrate at different intervals for each colored pattern, and the positions of the plurality of alignment marks provided on the mask are aligned with the positions of the plurality of alignment marks provided on the substrate. By aligning the mask and the substrate, it is possible to prevent the mask and the substrate from being aligned using different alignment marks for colored patterns.

さらに、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることにより、マスク及び基板の縦方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。逆に、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク及び基板に設けることにより、マスク及び基板の横方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。 Furthermore, by providing multiple alignment marks on the mask and substrate at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern, a space for other marks and product identification information is secured in the vertical periphery of the mask and substrate. can do. Conversely, by providing a plurality of alignment marks on the mask and the substrate at different intervals in the vertical direction for each colored pattern, a space for other marks, product identification information, etc. is provided in the peripheral portion of the mask and the substrate in the horizontal direction. Can be secured.

さらに、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成することにより、アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分によって、どの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。 Furthermore, by configuring the alignment mark with a portion common to each coloring pattern and a portion unique to each coloring pattern, the alignment mark for which coloring pattern is aligned with the portion unique to each coloring pattern from the alignment mark image. Whether it is a mark can be easily identified.

図１は、本発明の一実施の形態によるカラーフィルタ基板の露光装置の概略構成を示す図である。本実施の形態は、マスクと基板との間に微小な間隙（プロキシミティギャップ）を設けてマスクのパターンを基板へ転写するプロキシミティ方式の露光装置の例を示している。露光装置は、チャック１０、ベース１３、Ｘガイド１４、Ｘステージ１５、Ｙガイド１６、Ｙステージ１７、θステージ１８、Ｚ−チルト機構１９、マスクホルダ２０、カメラ３０、カメラ移動機構３１、入出力装置４０、画像信号処理装置５０、制御装置６０、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７、θステージ駆動回路７８、及びＺ−チルト機構駆動回路７９を含んで構成されている。なお、露光装置は、これらの他に、露光用光源、基板１を搬入する搬入ユニット、基板１を搬出する搬出ユニット、装置内の温度管理を行う温度制御ユニット等を備えている。 FIG. 1 is a diagram showing a schematic configuration of an exposure apparatus for a color filter substrate according to an embodiment of the present invention. This embodiment shows an example of a proximity type exposure apparatus that provides a minute gap (proximity gap) between a mask and a substrate and transfers the mask pattern to the substrate. The exposure apparatus includes a chuck 10, a base 13, an X guide 14, an X stage 15, a Y guide 16, a Y stage 17, a θ stage 18, a Z-tilt mechanism 19, a mask holder 20, a camera 30, a camera moving mechanism 31, and input / output. The apparatus 40 includes an image signal processing apparatus 50, a control apparatus 60, an X stage driving circuit 75, a Y stage driving circuit 77, a θ stage driving circuit 78, and a Z-tilt mechanism driving circuit 79. In addition to the above, the exposure apparatus includes an exposure light source, a carry-in unit for carrying in the substrate 1, a carry-out unit for carrying out the substrate 1, a temperature control unit for managing the temperature in the apparatus, and the like.

図１において、チャック１０は、基板１の露光を行う露光位置にある。露光位置の上空には、マスクホルダ２０によってマスク２が保持されている。基板１は、露光位置から離れた受け渡し位置において、図示しない搬入ユニットによりチャック１０へ搭載され、また図示しない搬出ユニットによりチャック１０から回収される。 In FIG. 1, the chuck 10 is at an exposure position where the substrate 1 is exposed. The mask 2 is held by the mask holder 20 above the exposure position. The substrate 1 is mounted on the chuck 10 by a carry-in unit (not shown) at a delivery position away from the exposure position, and is recovered from the chuck 10 by a carry-out unit (not shown).

チャック１０は、Ｚ−チルト機構１９を介してθステージ１８に搭載されており、θステージ１８の下にはＹステージ１７及びＸステージ１５が設けられている。Ｘステージ１５は、ベース１３に設けられたＸガイド１４に沿ってＸ方向
（図面横方向）へ移動する。Ｘステージ１５のＸ方向への移動によって、チャック１０は受け渡し位置と露光位置との間を移動する。Ｙステージ１７は、Ｘステージ１５に設けられたＹガイド１６に沿ってＹ方向（図面奥行き方向）へ移動する。θステージ１８はθ方向へ回転し、Ｚ−チルト機構１９はＺ方向（図面縦方向）へ移動及びチルトする。 The chuck 10 is mounted on the θ stage 18 via a Z-tilt mechanism 19, and a Y stage 17 and an X stage 15 are provided below the θ stage 18. The X stage 15 moves in the X direction (lateral direction in the drawing) along the X guide 14 provided on the base 13. As the X stage 15 moves in the X direction, the chuck 10 moves between the delivery position and the exposure position. The Y stage 17 moves in the Y direction (the drawing depth direction) along the Y guide 16 provided on the X stage 15. The θ stage 18 rotates in the θ direction, and the Z-tilt mechanism 19 moves and tilts in the Z direction (vertical direction in the drawing).

露光位置において、Ｘステージ１５のＸ方向への移動、Ｙステージ１７のＹ方向への移動、及びθステージ１８のθ方向への回転によって、マスク２に対する基板１の位置合わせが行われる。また、Ｚ−チルト機構１９のＺ方向への移動及びチルトによって、マスク２と基板１とのギャップ制御が行われる。Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７、θステージ駆動回路７８、又はＺ−チルト機構駆動回路７９は、制御装置６０の制御により、それぞれＸステージ１５、Ｙステージ１７、θステージ１８、又はＺ−チルト機構１９を駆動する。 At the exposure position, the substrate 1 is aligned with the mask 2 by moving the X stage 15 in the X direction, moving the Y stage 17 in the Y direction, and rotating the θ stage 18 in the θ direction. Further, the gap control between the mask 2 and the substrate 1 is performed by the movement and tilt of the Z-tilt mechanism 19 in the Z direction. The X stage drive circuit 75, the Y stage drive circuit 77, the θ stage drive circuit 78, or the Z-tilt mechanism drive circuit 79 are controlled by the control device 60, respectively, under the X stage 15, the Y stage 17, the θ stage 18, or the Z stage. -The tilt mechanism 19 is driven.

マスクホルダ２０の上空には、複数のカメラ３０が設置されている。各カメラ３０は、マスク２のアライメントマーク及び基板１のアライメントマークの画像を取得して、画像信号を画像信号処理装置５０へ出力する。画像信号処理装置５０は、複数のカメラ３０が出力した画像信号を処理して、マスク２のアライメントマークの位置と基板１のアライメントマークの位置とのずれ量を検出し、検出結果を制御装置６０へ出力する。制御装置６０は、画像信号処理装置５０の検出結果に基づき、Ｘステージ１５、Ｙステージ１７及びθステージ１８の移動量を算出し、移動指令信号をＸステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７又はθステージ駆動回路７８へ出力する。 A plurality of cameras 30 are installed above the mask holder 20. Each camera 30 acquires an image of the alignment mark on the mask 2 and the alignment mark on the substrate 1 and outputs an image signal to the image signal processing device 50. The image signal processing device 50 processes the image signals output from the plurality of cameras 30 to detect the shift amount between the position of the alignment mark on the mask 2 and the position of the alignment mark on the substrate 1, and the detection result is controlled by the control device 60. Output to. The control device 60 calculates the movement amounts of the X stage 15, Y stage 17 and θ stage 18 based on the detection result of the image signal processing device 50, and sends a movement command signal to the X stage drive circuit 75, Y stage drive circuit 77 or Output to the θ stage drive circuit 78.

Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７又はθステージ駆動回路７８は、制御装置６０の移動指令信号に従って、それぞれＸステージ１５、Ｙステージ１７又はθステージ１８を駆動する。これにより、マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とがそれぞれ合う様に基板１が移動され、マスク２に対する基板１の位置合わせが行われる。 The X stage drive circuit 75, Y stage drive circuit 77, or θ stage drive circuit 78 drives the X stage 15, Y stage 17, or θ stage 18, respectively, according to the movement command signal from the control device 60. As a result, the substrate 1 is moved so that the positions of the plurality of alignment marks provided on the mask 2 and the positions of the plurality of alignment marks provided on the substrate 1 are aligned, and the substrate 1 is aligned with the mask 2.

図２は、本発明の一実施の形態によるアライメントマークの一例を説明する図である。図２（ａ）はマスク２に設けるＲの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｂ）はマスク２に設けるＧの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｃ）はマスク２に設けるＢの着色パターン用のアライメントマークを示す。また、図２（ｄ）は基板１に設けるＲの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｅ）は基板１に設けるＧの着色パターン用のアライメントマーク、図２（ｆ）は基板１に設けるＢの着色パターン用のアライメントマークを示す。 FIG. 2 is a diagram illustrating an example of an alignment mark according to an embodiment of the present invention. 2A is an alignment mark for an R colored pattern provided on the mask 2, FIG. 2B is an alignment mark for a G colored pattern provided on the mask 2, and FIG. An alignment mark for a colored pattern is shown. 2D is an alignment mark for an R colored pattern provided on the substrate 1, FIG. 2E is an alignment mark for a G colored pattern provided on the substrate 1, and FIG. The alignment mark for the coloring pattern of B is shown.

本発明では、アライメントマークを、各着色パターンに共通な部分と、着色パターン毎に特有な部分とで構成する。図２（ａ），（ｂ），（ｃ）に示す様に、マスク２に設けるアライメントマークは、各着色パターンに共通な部分４Ｒ，４Ｇ，４Ｂと、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂとで構成されている。着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂは、形状は同じであるが、着色パターン毎に配置が異なっている。 In the present invention, the alignment mark is composed of a portion common to each coloring pattern and a portion unique to each coloring pattern. As shown in FIGS. 2A, 2B, and 2C, the alignment marks provided on the mask 2 are portions 4R, 4G, and 4B that are common to the colored patterns, and portions 6R and 6G that are unique to the colored patterns. , 6B. The portions 6R, 6G, and 6B that are unique to each coloring pattern have the same shape, but are arranged differently for each coloring pattern.

また、図２（ｄ），（ｅ），（ｆ）に示す様に、基板１に設けるアライメントマークは、各着色パターンに共通な部分３Ｒ，３Ｇ，３Ｂと、着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂとで構成されている。着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、形状は同じであるが、着色パターン毎に配置が異なっている。 Further, as shown in FIGS. 2D, 2E, and 2F, the alignment mark provided on the substrate 1 includes portions 3R, 3G, and 3B that are common to the respective colored patterns, and a portion 5R that is unique to each colored pattern. , 5G, 5B. The portions 5R, 5G, and 5B that are unique to each coloring pattern have the same shape, but are arranged differently for each coloring pattern.

本実施の形態においては、各着色パターンの露光を行う前に、露光装置の操作者が、マスク２に設けられた３種類のアライメントマークのうち位置合わせに用いるアライメントマークを指定し、また基板１に設けられた３種類のアライメントマークのうち位置合わせに用いるアライメントマークを指定して、露光装置へ登録する。 In the present embodiment, before exposure of each colored pattern, the operator of the exposure apparatus designates an alignment mark used for alignment among the three types of alignment marks provided on the mask 2, and the substrate 1 Among the three types of alignment marks provided in the above, an alignment mark used for alignment is designated and registered in the exposure apparatus.

図１において、まず、制御装置６０は、カメラ３０がマスク２に設けられた３種類のアライメントマークの画像を順次取得する様に、カメラ移動機構３１を制御して、カメラ３０を移動する。各カメラ３０が取得したマスク２のアライメントマークの画像は、画像信号処理装置５０から入出力装置４０へ送られて、入出力装置４０に表示される。操作者は、入出力装置４０に表示されたマスク２のアライメントマークの画像を見て、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別し、露光を行う着色パターン用のアライメントマークを位置合わせに用いるアライメントマークとして入出力装置４０により指定する。制御装置６０は、カメラ３０がマスク２の指定されたアライメントマークの画像を取得する様に、カメラ移動機構３１を制御する。 In FIG. 1, first, the control device 60 moves the camera 30 by controlling the camera moving mechanism 31 so that the camera 30 sequentially acquires images of three types of alignment marks provided on the mask 2. The image of the alignment mark of the mask 2 acquired by each camera 30 is sent from the image signal processing device 50 to the input / output device 40 and displayed on the input / output device 40. The operator looks at the image of the alignment mark of the mask 2 displayed on the input / output device 40, and from the arrangement of the portions 6R, 6G, 6B peculiar to each colored pattern, for any colored pattern of R, G, B The input / output device 40 designates an alignment mark for a colored pattern to be exposed as an alignment mark used for alignment. The control device 60 controls the camera moving mechanism 31 so that the camera 30 acquires an image of the specified alignment mark on the mask 2.

続いて、制御装置６０は、カメラ３０が基板１に設けられた３種類のアライメントマークの画像を順次取得する様に、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７及びθステージ駆動回路７８を制御して、基板１を移動する。各カメラ３０が取得した基板１のアライメントマークの画像は、画像信号処理装置５０から入出力装置４０へ送られて、入出力装置４０に表示される。操作者は、入出力装置４０に表示された基板１のアライメントマークの画像を見て、着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別し、露光を行う着色パターン用のアライメントマークを位置合わせに用いるアライメントマークとして入出力装置４０により指定する。制御装置６０は、カメラ３０が基板１の指定されたアライメントマークの画像を取得する様に、Ｘステージ駆動回路７５、Ｙステージ駆動回路７７及びθステージ駆動回路７８を制御する。 Subsequently, the control device 60 controls the X stage drive circuit 75, the Y stage drive circuit 77, and the θ stage drive circuit 78 so that the camera 30 sequentially acquires images of the three types of alignment marks provided on the substrate 1. Then, the substrate 1 is moved. The image of the alignment mark of the substrate 1 acquired by each camera 30 is sent from the image signal processing device 50 to the input / output device 40 and displayed on the input / output device 40. The operator looks at the image of the alignment mark on the substrate 1 displayed on the input / output device 40, and from the arrangement of the portions 5R, 5G, 5B peculiar to each colored pattern, for any colored pattern of R, G, B The input / output device 40 designates an alignment mark for a colored pattern to be exposed as an alignment mark used for alignment. The control device 60 controls the X stage driving circuit 75, the Y stage driving circuit 77, and the θ stage driving circuit 78 so that the camera 30 acquires an image of the designated alignment mark on the substrate 1.

画像信号処理装置５０は、複数のカメラ３０が出力した画像信号を処理する際、マスク２のアライメントマークの着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ、及び基板１のアライメントマークの着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂを認識し、それらの配置から、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを識別して、識別結果を制御装置６０へ出力する。制御装置６０は、画像信号処理装置５０の識別結果に基づき、各カメラ３０の画像について、マスク２のアライメントマークと基板１のアライメントマークとが同じ着色パターン用のものであるか否かを判断する。マスク２のアライメントマークと基板１のアライメントマークとが違う着色パターン用のものであると判断した場合、制御装置６０は、エラー表示を入出力装置４０に表示する。 When the image signal processing device 50 processes the image signals output from the plurality of cameras 30, the portions 6 R, 6 G, 6 B specific to the alignment mark coloring pattern of the mask 2 and the alignment mark coloring pattern of the substrate 1 The parts 5R, 5G, and 5B that are peculiar to are recognized, the alignment mark for the colored pattern of R, G, and B is identified from their arrangement, and the identification result is output to the control device 60. Based on the identification result of the image signal processing device 50, the control device 60 determines whether or not the alignment mark of the mask 2 and the alignment mark of the substrate 1 are for the same colored pattern for the image of each camera 30. . When it is determined that the alignment mark of the mask 2 and the alignment mark of the substrate 1 are for different colored patterns, the control device 60 displays an error display on the input / output device 40.

本実施の形態によれば、露光装置の操作者及び画像信号処理装置５０は、カメラ３０で取得した各アライメントマークの画像から、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂの配置、あるいは着色パターン毎に特有な部分５Ｒ，５Ｇ，５Ｂの配置によって、Ｒ、Ｇ、Ｂのいずれの着色パターン用のアライメントマークであるかを容易に識別することができる。 According to the present embodiment, the operator of the exposure apparatus and the image signal processing apparatus 50 arrange the portions 6R, 6G, and 6B unique to each coloring pattern from the images of the alignment marks acquired by the camera 30, or coloring. Depending on the arrangement of the portions 5R, 5G, and 5B unique to each pattern, it can be easily identified whether the alignment mark is for an R, G, or B colored pattern.

また、マスク２に設ける各着色パターンに共通な部分４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ、及び基板１に設ける各着色パターンに共通な部分３Ｒ，３Ｇ，３Ｂを、従来のアライメントマークと同様の形状とすると、画像信号処理装置５０は、それらの画像信号に従来と同様の処理を行って、マスク２のアライメントマークの位置と基板１のアライメントマークの位置とのずれ量を検出することができる。このとき、着色パターン毎に特有な部分６Ｒ，６Ｇ，６Ｂ、５Ｒ，５Ｇ，５Ｂは、小さな点であるので、画像信号の処理に影響を与えない。 Further, if the portions 4R, 4G, 4B common to the respective colored patterns provided on the mask 2 and the portions 3R, 3G, 3B common to the respective colored patterns provided on the substrate 1 have the same shape as the conventional alignment mark, the image The signal processing device 50 can detect the amount of deviation between the position of the alignment mark on the mask 2 and the position of the alignment mark on the substrate 1 by performing the same processing on the image signals as before. At this time, the portions 6R, 6G, 6B, 5R, 5G, and 5B peculiar to each coloring pattern are small points and do not affect the processing of the image signal.

さらに、本実施の形態によれば、もし、操作者が誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを登録しても、エラー表示を入出力装置４０に表示するので、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うのを防止することができる。 Furthermore, according to the present embodiment, even if an operator mistakenly registers an alignment mark for a different colored pattern, an error display is displayed on the input / output device 40. Therefore, an alignment mark for a different colored pattern is displayed. It is possible to prevent the mask 2 and the substrate 1 from being aligned.

図３は、本発明の一実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。また、図４は、本発明の他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１１と同様に縦方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図３（ａ）及び図４（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図３（ｂ）及び図４（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。 FIG. 3 is a diagram showing an example of the arrangement of alignment marks according to an embodiment of the present invention. FIG. 4 is a diagram showing an example of the arrangement of alignment marks according to another embodiment of the present invention. These examples are cases in which a colored pattern that is long in the vertical direction is exposed as in FIG. 11, and a plurality of alignment marks are provided at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern. 3A and 4A show the alignment marks on the mask, and FIGS. 3B and 4B show the alignment marks on the substrate.

図３（ｂ）及び図４（ｂ）において、基板１には、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来は、図１１（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡであった。 3B and 4B, the substrate 1 has an alignment mark 3R for the R colored pattern, an alignment mark 3G for the G colored pattern, and an alignment mark 3B for the B colored pattern, respectively. There are four each. Conventionally, as shown in FIG. 11B, the horizontal interval between adjacent alignment marks 3R and 3G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 3G and 3B are all the same A. Met.

図３（ｂ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 3B, the two sets of left alignment marks 3R and 3B are further displaced by X in the lateral direction around the alignment mark 3G, and the adjacent alignment mark 3R and alignment mark are aligned. The horizontal interval between 3G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 3G and 3B is A + X.

図４（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 4B, the two sets of alignment marks 3R and 3B on the right side are further displaced by X in the opposite direction around the alignment mark 3G. The distance in the horizontal direction between the alignment marks 3G and the distance in the horizontal direction between the adjacent alignment marks 3G and 3B are AX.

図３（ａ）及び図４（ａ）において、マスク２には、露光用パターン２ａ，２ｂ，２ｃが設けられており、また、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ、及びＢの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂがそれぞれ４つずつ設けられている。従来は、図１１（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡ＋Ｐであった。 3A and 4A, the mask 2 is provided with exposure patterns 2a, 2b, and 2c, and the alignment marks 4R and G for the colored pattern for the R colored pattern are used. Four alignment marks 4B and four alignment marks 4B for the colored pattern of B are provided. Conventionally, as shown in FIG. 11A, the horizontal distance between adjacent alignment marks 4R and 4G and the horizontal distance between adjacent alignment marks 4G and 4B are all the same A + P. Met.

図３（ａ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｐ＋Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 3A, the two sets of left alignment marks 4R and 4B are further displaced by X in the lateral direction around the alignment mark 4G, and the adjacent alignment mark 4R and alignment mark are aligned. The horizontal interval between 4G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 4G and 4B is A + P + X.

図４（ａ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｐ−Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 4A, the two sets of alignment marks 4R and 4B on the right side are further displaced by X in the opposite direction around the alignment mark 4G. The distance in the horizontal direction between the alignment marks 4G and the distance in the horizontal direction between the adjacent alignment marks 4G and 4B are A + PX.

図５及び図６は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１４と同様に横方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図５（ａ）及び図６（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図５（ｂ）及び図６（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。 5 and 6 are diagrams showing an example of the arrangement of alignment marks according to still another embodiment of the present invention. These examples are cases in which a colored pattern that is long in the horizontal direction is exposed as in FIG. 14, and a plurality of alignment marks are provided at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern. FIGS. 5A and 6A show alignment marks on the mask, and FIGS. 5B and 6B show alignment marks on the substrate.

従来は、図１４（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、すべて同じＡであった。また、図１４（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔も、すべて同じＡであった。 Conventionally, as shown in FIG. 14B, the horizontal distance between adjacent alignment marks 3R and 3G and the horizontal distance between adjacent alignment marks 3G and 3B are all the same A. Met. Further, as shown in FIG. 14A, the horizontal interval between the adjacent alignment mark 4R and the alignment mark 4G and the horizontal interval between the adjacent alignment mark 4G and the alignment mark 4B are all the same A. there were.

図５（ｂ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 5B, the two pairs of alignment marks 3R and 3B on the left side are further displaced by X in the lateral direction around the alignment mark 3G, and the adjacent alignment mark 3R and alignment mark The horizontal interval between 3G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 3G and 3B is A + X.

図６（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 6B, the two pairs of alignment marks 3R and 3B on the right side are further displaced by X in the opposite direction with the alignment mark 3G as the center. The distance in the horizontal direction between the alignment marks 3G and the distance in the horizontal direction between the adjacent alignment marks 3G and 3B are AX.

図５（ａ）に示す実施の形態では、左側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、横方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ＋Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 5A, the two sets of left alignment marks 4R and 4B are further displaced by X in the horizontal direction around the alignment mark 4G, and the adjacent alignment mark 4R and alignment mark are aligned. The horizontal interval between 4G and the horizontal interval between adjacent alignment marks 4G and 4B is A + X.

図６（ａ）に示す実施の形態では、さらに、右側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＸだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの横方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの横方向の間隔が、Ａ−Ｘとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 6A, the two pairs of alignment marks 4R and 4B on the right side are further displaced by X in the opposite direction around the alignment mark 4G. The distance in the horizontal direction between the alignment marks 4G and the distance in the horizontal direction between the adjacent alignment marks 4G and 4B are AX.

図３及び図５に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ短くなっている。 In the embodiment shown in FIGS. 3 and 5, the interval between the alignment marks 3R for the R colored pattern is longer by X in the lateral direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern. Yes. Further, the interval between the alignment marks 3B for the B colored pattern is shorter by X in the lateral direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern.

同様に、図３及び図５に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向にＸだけ短くなっている。 Similarly, in the embodiment shown in FIG. 3 and FIG. 5, the distance between the alignment marks 4R for the R colored pattern is only X in the lateral direction than the distance between the alignment marks 4G for the G colored pattern. It is getting longer. Further, the interval between the alignment marks 4B for the B colored pattern is shorter by X in the lateral direction than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern.

図４及び図６に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ短くなっている。 In the embodiment shown in FIGS. 4 and 6, the interval between the alignment marks 3R for the R colored pattern is 2X longer in the lateral direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern. Yes. Further, the interval between the alignment marks 3B for the B colored pattern is shorter by 2X in the lateral direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern.

同様に、図４及び図６に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、横方向に２Ｘだけ短くなっている。 Similarly, in the embodiment shown in FIGS. 4 and 6, the interval between the alignment marks 4R for the R colored pattern is 2X in the lateral direction rather than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern. It is getting longer. Further, the interval between the alignment marks 4B for the B colored pattern is shorter by 2X in the lateral direction than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern.

この様に、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けるので、マスク２と基板１とで異なる着色パターン用のアライメントマークを用いた場合、１箇所でアライメントマークの位置を合わせても、他の箇所ではアライメントマークの位置が合わない。従って、誤って異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うことがない。 As described above, since a plurality of alignment marks are provided on the mask 2 and the substrate 1 at different intervals for each colored pattern, when alignment marks for different colored patterns are used on the mask 2 and the substrate 1, the alignment marks are aligned at one location. Even if the positions are aligned, the alignment marks are not aligned at other locations. Therefore, the alignment between the mask 2 and the substrate 1 is not performed by mistake using alignment marks for different colored patterns.

図３乃至図６に示した実施の形態によれば、着色パターン毎に横方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けることにより、マスク２及び基板１の縦方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。 According to the embodiment shown in FIGS. 3 to 6, by providing a plurality of alignment marks on the mask 2 and the substrate 1 at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern, the periphery of the mask 2 and the substrate 1 in the vertical direction is provided. A space for other marks, product identification information, etc. can be secured in the section.

図７及び図８は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１１と同様に縦方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図７（ａ）及び図８（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図７（ｂ）及び図８（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。 7 and 8 are diagrams showing an example of the arrangement of alignment marks according to still another embodiment of the present invention. These examples are cases in which a colored pattern that is long in the vertical direction is exposed as in FIG. 11, and a plurality of alignment marks are provided at different intervals in the vertical direction for each colored pattern. FIGS. 7A and 8A show mask alignment marks, and FIGS. 7B and 8B show substrate alignment marks.

従来は、図１１（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒ，３Ｇ，３Ｇが、縦方向に同じ高さに配置されていた。また、図１１（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒ，４Ｇ，４Ｇも、縦方向に同じ高さに配置されていた。 Conventionally, as shown in FIG. 11B, adjacent alignment marks 3R, 3G, and 3G are arranged at the same height in the vertical direction. Further, as shown in FIG. 11A, adjacent alignment marks 4R, 4G, and 4G are also arranged at the same height in the vertical direction.

図７（ｂ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 7B, the upper two alignment marks 3R and 3B are displaced by Y in the vertical direction around the alignment mark 3G, and the adjacent alignment marks 3R and 3G are aligned. And the vertical interval between adjacent alignment marks 3G and 3B are Y.

図８（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 8B, the two lower pairs of alignment marks 3R and 3B are displaced by Y in the opposite direction around the alignment mark 3G. The vertical distance between the alignment mark 3G and the vertical distance between adjacent alignment marks 3G and 3B is Y.

図７（ａ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 7A, the upper two alignment marks 4R and 4B are displaced in the vertical direction by Y around the alignment mark 4G, and the adjacent alignment marks 4R and 4G are aligned. And the vertical interval between adjacent alignment marks 4G and 4B are Y.

図８（ａ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 8A, the lower two sets of alignment marks 4R and 4B are displaced by Y in the opposite direction around the alignment mark 4G, and the adjacent alignment marks 4R and The vertical distance between the alignment marks 4G and the vertical distance between the adjacent alignment marks 4G and 4B are Y.

図９及び図１０は、本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。これらの例は、図１４と同様に横方向に長い着色パターンを露光する場合であって、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークを設ける例である。図９（ａ）及び図１０（ａ）はマスクのアライメントマークを示し、図９（ｂ）及び図１０（ｂ）は基板のアライメントマークを示す。 9 and 10 are diagrams showing an example of the arrangement of alignment marks according to still another embodiment of the present invention. These examples are cases where a colored pattern that is long in the horizontal direction is exposed as in FIG. 14, and a plurality of alignment marks are provided at different intervals in the vertical direction for each colored pattern. FIGS. 9A and 10A show alignment marks on the mask, and FIGS. 9B and 10B show alignment marks on the substrate.

従来は、図１４（ｂ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク３Ｒ，３Ｇ，３Ｇが、縦方向に同じ高さに配置されていた。また、図１４（ａ）に示す様に、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、すべて同じＰであった。 Conventionally, as shown in FIG. 14B, adjacent alignment marks 3R, 3G, and 3G are arranged at the same height in the vertical direction. Further, as shown in FIG. 14A, the vertical interval between the adjacent alignment marks 4R and 4G and the vertical interval between the adjacent alignment marks 4G and 4B are all the same P. there were.

図９（ｂ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、縦方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 9B, the upper two alignment marks 3R and 3B are displaced by Y in the vertical direction around the alignment mark 3G, and the adjacent alignment mark 3R and alignment mark 3G. And the vertical interval between adjacent alignment marks 3G and 3B are Y.

図１０（ｂ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク３Ｒ，３Ｂが、アライメントマーク３Ｇを中心として、逆方向にＹだけ変位しており、隣り合うアライメントマーク３Ｒとアライメントマーク３Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク３Ｇとアライメントマーク３Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 10B, the two lower alignment marks 3R and 3B are displaced by Y in the opposite direction around the alignment mark 3G, and the adjacent alignment marks 3R and The vertical distance between the alignment mark 3G and the vertical distance between adjacent alignment marks 3G and 3B is Y.

図９（ａ）に示す実施の形態では、上側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、縦方向にＹだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｐ＋Ｙとなっている。 In the embodiment shown in FIG. 9A, the upper two alignment marks 4R and 4B are further displaced by Y in the vertical direction around the alignment mark 4G, and the adjacent alignment mark 4R and alignment mark are aligned. The vertical interval between 4G and the vertical interval between adjacent alignment mark 4G and alignment mark 4B is P + Y.

図１０（ａ）に示す実施の形態では、さらに、下側の２組のアライメントマーク４Ｒ，４Ｂが、アライメントマーク４Ｇを中心として、逆方向にＹだけさらに変位しており、隣り合うアライメントマーク４Ｒとアライメントマーク４Ｇとの縦方向の間隔、及び隣り合うアライメントマーク４Ｇとアライメントマーク４Ｂとの縦方向の間隔が、Ｙ−Ｐとなっている（但し、これはＹ＞Ｐの場合であって、Ｙ＜Ｐの場合には、Ｐ−Ｙとなる）。 In the embodiment shown in FIG. 10A, the two lower alignment marks 4R and 4B are further displaced by Y in the opposite direction around the alignment mark 4G, and adjacent alignment marks 4R. The vertical interval between the alignment mark 4G and the vertical alignment between the adjacent alignment mark 4G and alignment mark 4B is Y−P (provided that Y> P, If Y <P, then P−Y.)

図７及び図９に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ短くなっている。 In the embodiment shown in FIGS. 7 and 9, the interval between the alignment marks 3R for the R colored pattern is longer by Y in the vertical direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern. Yes. Further, the interval between the alignment marks 3B for the B colored pattern is shorter by Y in the longitudinal direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern.

同様に、図７及び図９に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向にＹだけ短くなっている。 Similarly, in the embodiment shown in FIG. 7 and FIG. 9, the interval between the alignment marks 4R for the R colored pattern is Y in the vertical direction rather than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern. It is getting longer. Further, the interval between the alignment marks 4B for the B colored pattern is shorter by Y in the vertical direction than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern.

図８及び図１０に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク３Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク３Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク３Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ短くなっている。 In the embodiment shown in FIGS. 8 and 10, the interval between the alignment marks 3R for the R colored pattern is 2Y longer in the vertical direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern. Yes. Further, the interval between the alignment marks 3B for the B colored pattern is shorter by 2Y in the vertical direction than the interval between the alignment marks 3G for the G colored pattern.

同様に、図８及び図１０に示した実施の形態では、Ｒの着色パターン用のアライメントマーク４Ｒ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ長くなっている。また、Ｂの着色パターン用のアライメントマーク４Ｂ同士の間隔が、Ｇの着色パターン用のアライメントマーク４Ｇ同士の間隔よりも、縦方向に２Ｙだけ短くなっている。 Similarly, in the embodiment shown in FIGS. 8 and 10, the interval between the alignment marks 4R for the R colored pattern is 2Y in the vertical direction rather than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern. It is getting longer. Further, the interval between the alignment marks 4B for the B colored pattern is 2Y shorter in the vertical direction than the interval between the alignment marks 4G for the G colored pattern.

図７乃至図１０に示した実施の形態によれば、着色パターン毎に縦方向に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設けることにより、マスク２及び基板１の横方向の周辺部に、他のマークや製品識別情報等のための空間を確保することができる。 According to the embodiment shown in FIGS. 7 to 10, by providing a plurality of alignment marks on the mask 2 and the substrate 1 at different intervals in the vertical direction for each colored pattern, the peripheral areas of the mask 2 and the substrate 1 in the horizontal direction are provided. A space for other marks, product identification information, etc. can be secured in the section.

以上説明した実施の形態によれば、着色パターン毎に異なる間隔で複数のアライメントマークをマスク２及び基板１に設け、マスク２に設けた複数のアライメントマークの位置と基板１に設けた複数のアライメントマークの位置とをそれぞれ合わせて、マスク１と基板２との位置合わせを行うことにより、異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスク２と基板１との位置合わせを行うのを防止することができる。 According to the embodiment described above, a plurality of alignment marks are provided on the mask 2 and the substrate 1 at different intervals for each colored pattern, and the positions of the plurality of alignment marks provided on the mask 2 and the plurality of alignments provided on the substrate 1. By aligning the positions of the marks and aligning the mask 1 and the substrate 2, it is possible to prevent the alignment of the mask 2 and the substrate 1 using alignment marks for different colored patterns. it can.

本発明の一実施の形態によるカラーフィルタ基板の露光装置の概略構成を示す図である。It is a figure which shows schematic structure of the exposure apparatus of the color filter substrate by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるアライメントマークの一例を説明する図である。It is a figure explaining an example of the alignment mark by one embodiment of this invention. 本発明の一実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by one embodiment of this invention. 本発明の他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 本発明のさらに他の実施の形態によるアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the alignment mark by other embodiment of this invention. 従来のアライメントマークの配置の一例を示す図である。It is a figure which shows an example of arrangement | positioning of the conventional alignment mark. 正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。An example in which the mask and the substrate are aligned using the correct alignment mark is shown. 異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。An example in which the alignment between the mask and the substrate is performed using alignment marks for different colored patterns is shown. 従来のアライメントマークの配置の他の例を示す図である。It is a figure which shows the other example of arrangement | positioning of the conventional alignment mark. 正しいアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。An example in which the mask and the substrate are aligned using the correct alignment mark is shown. 異なる着色パターン用のアライメントマークを用いてマスクと基板との位置合わせを行った例を示す。An example in which the alignment between the mask and the substrate is performed using alignment marks for different colored patterns is shown.

Explanation of symbols

１基板
１Ｒ，１Ｇ，１Ｂ着色パターン
２マスク
２ａ，２ｂ，２ｃ露光用パターン
３Ｒ，３Ｇ，３Ｂ，４Ｒ，４Ｇ，４Ｂアライメントマーク（各着色パターンに共通な部分）
５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ，６Ｒ，６Ｇ，６Ｂアライメントマーク（着色パターン毎に特有な部分）
１０チャック
１３ベース
１４Ｘガイド
１５Ｘステージ
１６Ｙガイド
１７Ｙステージ
１８ θステージ
１９Ｚ−チルト機構
２０マスクホルダ
３０カメラ
３１カメラ移動機構
４０入出力装置
５０画像信号処理装置
６０制御装置
７５Ｘステージ駆動回路
７７Ｙステージ駆動回路
７８ θステージ駆動回路
７９Ｚ−チルト機構駆動回路 1 Substrate 1R, 1G, 1B Colored pattern 2 Mask 2a, 2b, 2c Exposure pattern 3R, 3G, 3B, 4R, 4G, 4B Alignment mark (part common to each colored pattern)
5R, 5G, 5B, 6R, 6G, 6B Alignment marks (parts unique to each colored pattern)
10 chuck 13 base 14 X guide 15 X stage 16 Y guide 17 Y stage 18 θ stage 19 Z-tilt mechanism 20 mask holder 30 camera 31 camera moving mechanism 40 input / output device 50 image signal processing device 60 control device 75 X stage drive circuit 77 Y stage drive circuit 78 θ stage drive circuit 79 Z-tilt mechanism drive circuit

Claims

An exposure apparatus for a color filter substrate that exposes a plurality of colored patterns on a substrate using one mask,
The mask and the substrate have a plurality of alignment marks at different intervals for each colored pattern,
Alignment means for aligning the mask and the substrate;
A plurality of image acquisition means for acquiring images of mask alignment marks and substrate alignment marks and outputting image signals;
Image signal processing means for processing the image signals output by the plurality of image acquisition means to detect the amount of deviation between the position of the alignment mark on the mask and the position of the alignment mark on the substrate;
Control means for controlling the alignment means based on the detection result of the image signal processing means so that the positions of the plurality of alignment marks provided on the mask and the positions of the plurality of alignment marks provided on the substrate respectively match. An exposure apparatus for a color filter substrate.

2. The exposure apparatus for a color filter substrate according to claim 1, wherein the mask and the substrate have a plurality of alignment marks at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern.

2. The exposure apparatus for a color filter substrate according to claim 1, wherein the mask and the substrate have a plurality of alignment marks at different intervals in the vertical direction for each colored pattern.

4. The color filter substrate exposure apparatus according to claim 1, wherein the alignment mark includes a portion common to each coloring pattern and a portion unique to each coloring pattern.

A color filter substrate exposure method for exposing a plurality of colored patterns on a substrate using a single mask,
A plurality of alignment marks are provided on the mask and the substrate at different intervals for each coloring pattern,
An exposure method for a color filter substrate, comprising: aligning a position of a plurality of alignment marks provided on a mask with a position of a plurality of alignment marks provided on a substrate to align the mask and the substrate.

6. The method of exposing a color filter substrate according to claim 5, wherein a plurality of alignment marks are provided on the mask and the substrate at different intervals in the horizontal direction for each colored pattern.

6. The method for exposing a color filter substrate according to claim 5, wherein a plurality of alignment marks are provided on the mask and the substrate at different intervals in the vertical direction for each colored pattern.

8. The method for exposing a color filter substrate according to claim 5, wherein the alignment mark comprises a portion common to each coloring pattern and a portion unique to each coloring pattern. .