JP2007254281A - Method for manufacturing sintered compact, sintered compact, member for sintering, method for manufacturing ceramic multilayered substrate, and ceramic multilayered substrate - Google Patents

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武志 大渕
Tadashi Odagiri
正 小田切
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a sintered compact having high dimensional accuracy by suppressing the warping of the sintered compact and reducing the variation in firing shrinkage. <P>SOLUTION: The sintered compact is manufactured by firing an object 5 to be fired. Ceramic composition objects 2A, 2B which contain binders and are not sintered at a temperature at which the object 5 to be fired is sintered are arranged to cover a part of the surface the object to be fired, sheet-like bodies 6A, 6B composed of materials stable at the sintering temperature of the object 5 to be fired are installed on the ceramic composition objects 2A, 2B. The object 5 to be fired is then fired. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、焼結体の製造方法およびセラミック多層基板の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a sintered body and a method for producing a ceramic multilayer substrate.

携帯電話機等の高周波回路無線機器においては、高周波回路フィルターとして、例えばトップフィルター、送信用段間フィルター、ローカルフィルター、受信用段間フィルター等として、積層型誘電体フィルターが使用されている。こうした誘電体積層フィルターは、例えば特開平5−243810号公報に開示されている。   In a high-frequency circuit wireless device such as a mobile phone, a multilayer dielectric filter is used as a high-frequency circuit filter, for example, as a top filter, a transmission interstage filter, a local filter, a reception interstage filter, or the like. Such a dielectric multilayer filter is disclosed, for example, in JP-A-5-243810.

積層型誘電体フィルターは、所定枚数のグリーンシートに、内蔵電極用のペーストを所定パターンとなるようにスクリーン印刷し、複数のグリーンシートを積層・切断し、焼成前基体とし、この焼成前基体を例えば600−1100℃で焼成することによって、内蔵電極を作製していた。そして、基体をバレル研磨加工した後、基体の表面の所定領域に、表層電極用の金属ペーストを塗布し、これを基体の表面に焼き付けることによって、表層電極を形成していた。この表層電極は、内蔵電極に対する端子として作用する。このような金属ペーストを使用するタイプの積層型誘電体フィルターの代表例は、特開平6−120603号公報に開示されている。 Multilayer dielectric filters are screen-printed with a paste for a built-in electrode in a predetermined pattern on a predetermined number of green sheets, and a plurality of green sheets are stacked and cut to form a substrate before firing. For example, the built-in electrode was manufactured by baking at 600-1100 degreeC. Then, after the substrate is barrel-polished, a surface layer electrode is formed by applying a metal paste for a surface layer electrode to a predetermined region of the surface of the substrate and baking it on the surface of the substrate. This surface electrode acts as a terminal for the built-in electrode. A representative example of a multilayer dielectric filter of the type using such a metal paste is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 6-120603.

しかし、積層型誘電体フィルターを多数焼成していると、焼結体に反りが発生することがあった。その上、焼結体の焼成収縮率にバラツキが発生し、焼結体の寸法精度が低下する傾向があった。   However, when a large number of multilayer dielectric filters are fired, the sintered body may be warped. In addition, the firing shrinkage rate of the sintered body varies, and the dimensional accuracy of the sintered body tends to decrease.

本発明の課題は、セラミック多層基板等の焼結体を製造するのに際して、焼結体の反りを抑制し、焼成収縮率のバラツキを低減し、寸法精度の高い焼結体を提供することである。 An object of the present invention is to provide a sintered body with high dimensional accuracy by suppressing warpage of the sintered body, reducing variation in the shrinkage of firing, and producing a sintered body such as a ceramic multilayer substrate. is there.

また、本発明の課題は、積層型誘電体フィルターのようなセラミック多層基板において、基板の反りを抑制し、焼成収縮率のバラツキを低減し、寸法精度を向上させることである。 Another object of the present invention is to suppress warpage of a substrate, reduce variation in firing shrinkage, and improve dimensional accuracy in a ceramic multilayer substrate such as a multilayer dielectric filter.

第一の態様に係る発明は、被焼成体を焼成して焼結体を製造する方法であって、
バインダーを含有しており、かつ被焼成体が焼結する温度で焼結しないセラミック組成物体を、被焼成体の表面の一部を被覆するように配置し、このセラミック組成物体上に被焼成体の焼結温度で安定な材質からなる板状体を設置し、次いで被焼成体を焼成することを特徴とする。
The invention according to the first aspect is a method for producing a sintered body by firing a fired body,
A ceramic composition object that contains a binder and does not sinter at a temperature at which the sintered body sinters is disposed so as to cover a part of the surface of the sintered object, and the sintered object is placed on the ceramic composition object. A plate-like body made of a material that is stable at the sintering temperature is set, and then the body to be fired is fired.

また、本発明は、前記方法によって得られたことを特徴とする、焼結体に係るものである。また、本発明は、前記方法に供するための焼結用部材に係るものである。 The present invention also relates to a sintered body obtained by the above method. Moreover, this invention concerns on the member for sintering for using for the said method.

以下、図1、図2の模式図を参照しつつ、本発明を発明する。
図1(a)は焼成プロセスに供される焼結用部材を示し、図1(b)は被焼成体1を示す。以下は、セラミック多層基板を製造するプロセスを中心として説明する。
Hereinafter, the present invention will be invented with reference to the schematic views of FIGS.
FIG. 1A shows a sintering member used in the firing process, and FIG. 1B shows the body 1 to be fired. The following description will focus on the process for manufacturing the ceramic multilayer substrate.

本例では、焼結用部材1はセラミック成形板5である。セラミック成形板5の内部に内蔵電極用のペースト4が形成されており、成形板5の主面5a、5bにはそれぞれ表層電極用ペースト2A、2Bが形成されている。次いで、主面5a上にセラミック組成物体3Aを設け、主面5b上にセラミック組成物体3Bを設け、図1(a)の焼結用部材1を得る。 In this example, the sintering member 1 is a ceramic molded plate 5. A built-in electrode paste 4 is formed inside the ceramic forming plate 5, and surface layer electrode pastes 2 </ b> A and 2 </ b> B are formed on the main surfaces 5 a and 5 b of the forming plate 5, respectively. Next, the ceramic composition object 3A is provided on the main surface 5a, and the ceramic composition object 3B is provided on the main surface 5b, thereby obtaining the sintering member 1 of FIG.

次いで、図2に示すように、焼結用部材1を一対の板状体6A、6Bによって挟む。ここで、板状体6Aはセラミック組成物体3Aに密着あるいは接触し、板状体6Bはセラミック組成物体3Bに密着あるいは接触する。板状体5の主面5a、5bと板状体6A、6Bとの間にはそれぞれ隙間10が発生する。この状態で焼結用部材1を図3のように炉内7に設置し、ヒーター8を発熱させ、焼成する。 Next, as shown in FIG. 2, the sintering member 1 is sandwiched between a pair of plate-like bodies 6A and 6B. Here, the plate-like body 6A is in close contact with or in contact with the ceramic composition object 3A, and the plate-like body 6B is in close contact with or in contact with the ceramic composition object 3B. A gap 10 is generated between the main surfaces 5a and 5b of the plate-like body 5 and the plate-like bodies 6A and 6B. In this state, the sintering member 1 is placed in the furnace 7 as shown in FIG. 3, and the heater 8 generates heat and fires.

本発明においては、バインダーを含有しており、かつ被焼成体が焼結する温度で焼結しないセラミック組成物体3A、3Bを、被焼成体1の表面の一部を被覆するように密着あるいは接触させ、この上に板状体6A、6Bを設置し、被焼成体1を焼成する。この結果、セラミック組成物体3A、3Bがその上の板状体6A、6Bに密着あるいは接触する結果、セラミック組成物体が一種のスペーサーとして作用し、被焼成体の表面と板状体との間に隙間10が発生する。そして、この状態で被焼成体の焼結が進行すると、被焼成体が徐々に焼成収縮する。このとき、セラミック組成物体3A、3Bは板状体6A、6Bに密着あるいは接触しつつも、焼結することはなく、このためにある程度の流動性を失わない状態である。 In the present invention, the ceramic composition objects 3A and 3B that contain a binder and that do not sinter at a temperature at which the fired body sinters are adhered or contacted so as to cover part of the surface of the fired body 1 Then, the plate-like bodies 6A and 6B are placed thereon, and the fired body 1 is fired. As a result, as a result of the ceramic composition objects 3A and 3B being in close contact with or in contact with the plate-like bodies 6A and 6B thereon, the ceramic composition object acts as a kind of spacer, and between the surface of the body to be fired and the plate-like body. A gap 10 is generated. And if sintering of a to-be-fired body advances in this state, a to-be-fired body will carry out baking shrinkage gradually. At this time, the ceramic composition objects 3A and 3B are in close contact with or in contact with the plate-like bodies 6A and 6B, but are not sintered, and thus do not lose some fluidity.

この状態では、板状体から被焼成体1に荷重が加わり、板状体の反りを抑制する。ただし、板状体が被焼成体1の変形を拘束するような状態で、焼成過程において被焼成体が寸法収縮すると、被焼成体の反りが大きくなる。しかし、本発明では、セラミック組成物体6A、6Bが一種のセラミックベアリングとして作用し、焼結用部材1の焼成に伴う寸法収縮を抑制しない。この結果、被焼成体5の焼成時の反りを防止し、その寸法精度を向上させることが可能である。 In this state, a load is applied from the plate-like body to the body to be fired 1 to suppress warping of the plate-like body. However, warping of the fired body increases when the fired body shrinks in size in the firing process in a state where the plate-like body restrains deformation of the fired body 1. However, in the present invention, the ceramic composition objects 6 </ b> A and 6 </ b> B act as a kind of ceramic bearing and do not suppress dimensional shrinkage accompanying firing of the sintering member 1. As a result, it is possible to prevent warping during firing of the body to be fired 5 and improve its dimensional accuracy.

また、第二の態様に係る発明は、内蔵電極を有するセラミック焼結体からなるセラミック多層基板を製造する方法であって、
セラミック成形板の一方の主面上と他方の主面側上とにそれぞれ熱伝導制御板を設置し、セラミック成形板を焼結させることによって焼結体を得るのに際して、熱伝導制御板の熱伝導率Taと焼結体の熱伝導率Tbの比率(Ta/Tb)が0.01以上、50以下であることを特徴とする。
The invention according to the second aspect is a method for producing a ceramic multilayer substrate comprising a ceramic sintered body having a built-in electrode,
When a heat conduction control plate is installed on each of the main surface and the other main surface side of the ceramic molded plate, and the ceramic molded plate is sintered, a sintered body is obtained. The ratio (Ta / Tb) between the conductivity Ta and the thermal conductivity Tb of the sintered body is 0.01 or more and 50 or less.

また、本発明は、前記の方法によって得られたことを特徴とする、セラミック多層基板に係るものである。 The present invention also relates to a ceramic multilayer substrate obtained by the above method.

以下、図4〜図6の各模式図を参照しつつ、第二の態様に係る発明について更に説明する。図4に示すように、セラミック多層基板用の被焼成体10を一対の熱伝導制御板15A、15Bの間に挟んだ状態で焼成し、セラミック多層基板を得る。ここで、セラミック多層基板を一対の熱伝導制御板によって挟んだ状態で焼成するのと共に、熱伝導制御板の熱伝導率Taと焼結体の熱伝導率Tbとの関係を一定比率とすることが重要であることを見いだした。 Hereinafter, the invention according to the second aspect will be further described with reference to the schematic diagrams of FIGS. 4 to 6. As shown in FIG. 4, the ceramic multilayer substrate to be fired 10 is fired in a state of being sandwiched between a pair of heat conduction control plates 15A and 15B to obtain a ceramic multilayer substrate. Here, the ceramic multilayer substrate is fired while being sandwiched between a pair of heat conduction control plates, and the relationship between the heat conductivity Ta of the heat conduction control plate and the heat conductivity Tb of the sintered body is set to a constant ratio. Found that is important.

即ち、各熱伝導制御板15A、15Bを設置することによって、炉内のヒーターからの熱が直接にセラミック多層基板に照射されず、いったん熱伝導制御板15A、15Bの表面15bに照射されることになる。ここで、熱伝導制御板15A、15Bの表面15b近傍においては、炉内の対流や輻射分布などに起因して温度ムラが発生する。16は相対的に高温領域であり、17は相対的に低温の領域である。熱伝導制御板の熱伝導率が低いと、成形板5の表面5aと熱伝導制御板15aとの界面においては温度ムラは生じにくく、この点で成形板5の焼成時の温度分布が小さくなり、反りを抑制できるはずである。しかし、実際には、熱伝導制御板によって成形板5を挟んで荷重を加えているのにもかかわらず、反りはかえって大きくなった。 That is, by installing the heat conduction control plates 15A and 15B, the heat from the heater in the furnace is not directly applied to the ceramic multilayer substrate, but is once irradiated to the surface 15b of the heat conduction control plates 15A and 15B. become. Here, in the vicinity of the surface 15b of the heat conduction control plates 15A and 15B, temperature unevenness occurs due to convection and radiation distribution in the furnace. 16 is a relatively high temperature region, and 17 is a relatively low temperature region. If the thermal conductivity of the heat conduction control plate is low, temperature unevenness hardly occurs at the interface between the surface 5a of the molded plate 5 and the heat conduction control plate 15a, and in this respect, the temperature distribution during firing of the molded plate 5 becomes smaller. Should be able to suppress warpage. However, in reality, the warpage was increased in spite of the fact that the load was applied with the molded plate 5 sandwiched between the heat conduction control plates.

この理由は以下のように考えられる。即ち、熱伝導制御板の熱伝導率が低いと、図5に示すように、熱伝導制御板の表面15b近傍の熱の一部が、矢印Aで示すように対流によって熱伝導制御板15の内面15a側に伝導し、ホットスポット16Aを生じさせる。このホットスポットが成形板の焼成収縮時に影響し、反りをもたらすものと考えられる。 The reason is considered as follows. That is, when the thermal conductivity of the heat conduction control plate is low, as shown in FIG. 5, a part of the heat near the surface 15b of the heat conduction control plate is caused by convection as indicated by the arrow A. Conducted to the inner surface 15a side, a hot spot 16A is generated. This hot spot is considered to affect the shrinkage of the molded plate during firing and cause warping.

特にセラミック多層基板の場合には、セラミック成形体5と電極4との間の熱膨張差や焼成収縮差が大きく、このために基板の反りが発生し易く、この際に前記ホットスポットの影響を受けやすい。 In particular, in the case of a ceramic multilayer substrate, the difference in thermal expansion and firing shrinkage between the ceramic molded body 5 and the electrode 4 is large, so that the substrate is liable to be warped. Easy to receive.

一方、熱伝導制御板の熱伝導率Taが高すぎる場合には、図6に示すように、熱伝導制御板15A、15Bの各表面15aにおけるホットスポットが、ほぼそのままの平面的パターンを保持しながら内面15a上のホットスポット18に転写される傾向がある。この結果、成形板5の焼結プロセスにおいて焼成収縮の内部偏差が大きくなり、反りを生じさせるものと思われる。 On the other hand, when the thermal conductivity Ta of the heat conduction control plate is too high, as shown in FIG. 6, the hot spots on the respective surfaces 15a of the heat conduction control plates 15A and 15B retain almost the same planar pattern. However, it tends to be transferred to the hot spot 18 on the inner surface 15a. As a result, it is considered that the internal deviation of the firing shrinkage increases in the sintering process of the molded plate 5 and causes warping.

これに対して、第二の態様に係る発明によれば、図4に示すように、熱伝導制御板が適度に低い熱伝導率を有しているので、熱伝導制御板15A、15Bの表面15b上でのホットスポット16が内面15aに転写されにくい。しかも、熱伝導制御板が適度に高い熱伝導率を有していることから、各熱伝導制御板の側面からの対流によるホットスポットも生じにくく、この点からも成形板の焼成収縮の内部偏差が生じにくく、反りが生じにくい。 On the other hand, according to the invention according to the second aspect, as shown in FIG. 4, since the heat conduction control plate has a reasonably low heat conductivity, the surfaces of the heat conduction control plates 15A and 15B. The hot spot 16 on 15b is difficult to be transferred to the inner surface 15a. Moreover, since the heat conduction control plate has a reasonably high thermal conductivity, hot spots due to convection from the side surface of each heat conduction control plate are less likely to occur, and also from this point, the internal deviation of the firing shrinkage of the molded plate Is less likely to be warped.

本発明においては、熱伝導制御板の熱伝導率Taと焼結体の熱伝導率Tbの比率(Ta/Tb)を0.01以上、50以下とする。Ta/Tbは、45以下であることが更に好ましい。あるいは、また、Ta/Tbが0.05以上であることが更に好ましい。 In the present invention, the ratio (Ta / Tb) between the thermal conductivity Ta of the thermal conduction control plate and the thermal conductivity Tb of the sintered body is set to 0.01 or more and 50 or less. Ta / Tb is more preferably 45 or less. Alternatively, Ta / Tb is more preferably 0.05 or more.

第一の態様に係る発明においては、被焼成体は特に限定されないが、グリーンシート積層体、その脱脂体、粉末成形体、その脱脂体であってよい。本発明では、被焼成体主面と板状体との間に隙間を設けることができる。これによって、被焼成体主面から有機物を効率的に脱脂することができる。これによって、特に脱脂プロセスにおいて被焼成体の全体を均等に収縮させることができる。即ち、脱脂過程では、成形体とセラミック組成物体にそれぞれ含まれる有機成分のみで成形体とセラミック組成物体とが密着あるいは接触し、かつ焼結過程では、成形体表面のセラミック組成物体が拘束されることなく自由に動くことができる。これによって、焼結体の寸法精度が一層向上する。 In the invention according to the first aspect, the body to be fired is not particularly limited, but may be a green sheet laminate, a degreased body thereof, a powder molded body, or a degreased body thereof. In this invention, a clearance gap can be provided between a to-be-fired body main surface and a plate-shaped object. Thereby, the organic substance can be efficiently degreased from the main surface of the body to be fired. Thereby, the whole to-be-fired body can be shrunk uniformly especially in a degreasing process. That is, in the degreasing process, the molded body and the ceramic composition object are in close contact with or in contact with only the organic components contained in the molded body and the ceramic composition object, respectively, and in the sintering process, the ceramic composition object on the surface of the molded body is constrained. You can move freely without This further improves the dimensional accuracy of the sintered body.

焼結体の種類は特に限定されず、セラミックス、半導体、セラミックスを含む複合材料であってよい。セラミックスとしては、例えばアルミナ、ジルコニア、部分安定化ジルコニア、チタニア、シリカ、マグネシア、フェライト、コージェライト、イットリア等の希土類元素の酸化物等の酸化物系セラミックス;チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコン酸鉛、希土類元素のマンガナイト、希土類元素のクロマイト等の複合酸化物;窒化アルミニウム、窒化珪素,サイアロン等の窒化物系セラミックス;炭化珪素、炭化ホウ素、炭化タングステン等の炭化物系セラミックスを例示できる。半導体としては、Si,MoSi2,WSi2,NbSi2,TaSi2,Nb5Si2,Ti5Si3を表示できる。
複合材料としては、アルミナ/部分安定化ジルコニア、Si/SiCを例示できる。
The kind of sintered body is not particularly limited, and may be a composite material including ceramics, semiconductors, and ceramics. Examples of ceramics include oxide-based ceramics such as oxides of rare earth elements such as alumina, zirconia, partially stabilized zirconia, titania, silica, magnesia, ferrite, cordierite, and yttria; barium titanate, strontium titanate, titanate Examples include complex oxides such as lead zirconate, rare earth element manganite, rare earth element chromite; nitride ceramics such as aluminum nitride, silicon nitride, and sialon; carbide ceramics such as silicon carbide, boron carbide, and tungsten carbide. . As the semiconductor, Si, MoSi 2 , WSi 2 , NbSi 2 , TaSi 2 , Nb 5 Si 2 , and Ti 5 Si 3 can be displayed.
Examples of the composite material include alumina / partially stabilized zirconia and Si / SiC.

特に好ましくは、焼結体が、セラミック成分とガラス成分とを含む磁器である。この場合には、以下の組成系の磁器が好ましい。
BaO−Nd−Bi−TiO−ガラス成分
BaO−TiO−ZnO−ガラス成分
BaO−SiO−Al−B−ZnO系−ガラス成分
BaO−SiO−Al−B−ZnO−Bi系−ガラス成分
BaO−TiO−ZnO−SiO−B
BaO−TiO−Bi−Nd−ZnO−SiO−B系+ガラス成分
BaO−TiO−Bi−La−Sm−ZnO−SiO−B系+ガラス成分
MgO−CaO−TiO−ZnO−Al−SiO−B−ガラス成分
Particularly preferably, the sintered body is a porcelain containing a ceramic component and a glass component. In this case, the following composition type porcelain is preferable.
BaO-Nd 2 O 3 -Bi 2 O 3 -TiO 2 - glass components BaO-TiO 2 -ZnO- glass components BaO-SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 -ZnO system - glass component BaO-SiO 2 -Al 2 O 3 -B 2 O 3 -ZnO-Bi 2 O 3 system - glass component BaO-TiO 2 -ZnO-SiO 2 -B 2 O 3
BaO—TiO 2 —Bi 2 O 3 —Nd 2 O 3 —ZnO—SiO 2 —B 2 O 3 system + glass component BaO—TiO 2 —Bi 2 O 3 —La 2 O 3 —Sm 2 O 3 —ZnO— SiO 2 —B 2 O 3 system + glass component MgO—CaO—TiO 2 —ZnO—Al 2 O 3 —SiO 2 —B 2 O 3 —glass component

ガラス成分は特に限定されないが、以下の組成系のガラスが好ましい。
B2O3-SiO2,ZnO-B2O3-SiO2,Bi2O3-B2O3-SiO2,Bi2O3-ZnO-B2O3-SiO2
Although a glass component is not specifically limited, The glass of the following composition systems is preferable.
B 2 O 3 -SiO 2 , ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 , Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 , Bi 2 O 3 -ZnO-B 2 O 3 -SiO 2

また、前記磁器は、上記成分以外の酸化物や金属成分を含有していてよい。こうした酸化物や金属成分としては、例えば、MgO、CaO、SrO、Y、V、MnO、Mn、CoO、NiO、Nd、Sm、La、Ag、Cu、Ni、Pdがある。 The porcelain may contain an oxide or a metal component other than the above components. Examples of such oxides and metal components include MgO, CaO, SrO 2 , Y 2 O 3 , V 2 O 3 , MnO, Mn 2 O 3 , CoO, NiO, Nd 2 O 3 , Sm 2 O 3 , La 2 O 3 , Ag, Cu, Ni, Pd.

前記した磁器は、高周波(0.5GHz以上)で使用する配線基板であることが多く、LCR などの回路を形成しているため、寸法精度が特性に直接影響するため、寸法精度は重要である。また、上記のような磁器組成は、焼成収縮が温度に敏感であり、そのまま焼成すると反りが生じ、かつ特に寸法精度もばらつきやすい。 The above-mentioned porcelain is often a wiring board used at a high frequency (0.5 GHz or more), and since a circuit such as LCR is formed, the dimensional accuracy directly affects the characteristics, so the dimensional accuracy is important. . Moreover, the ceramic composition as described above is sensitive to temperature in firing shrinkage, warps when fired as it is, and dimensional accuracy is particularly likely to vary.

本発明の焼結体の焼成温度は特に限定されない。焼結体が前記磁器である場合には、焼成温度は1000℃以下であることが好ましい。 The firing temperature of the sintered body of the present invention is not particularly limited. When the sintered body is the porcelain, the firing temperature is preferably 1000 ° C. or less.

次に、セラミック組成物体について述べる。
セラミック組成物体は、バインダーを含有しており、かつ被焼成体が焼結する温度で焼結しないものとする必要がある。これは、焼成工程において、セラミック組成物体が板状体に固着するのを防止するためである。この観点からは、セラミック組成物体の焼結開始温度と本発明焼結体の焼成温度との差は、50℃以上とすることが好ましい。
Next, the ceramic composition object will be described.
The ceramic composition object must contain a binder and not be sintered at a temperature at which the fired body is sintered. This is for preventing the ceramic composition object from adhering to the plate-like body in the firing step. From this viewpoint, the difference between the sintering start temperature of the ceramic composition object and the firing temperature of the sintered body of the present invention is preferably 50 ° C. or higher.

セラミック組成物体を構成するバインダーは特に限定されないが、以下を例示できる。
有機バインダー:例えば、エチルセルロース、PVB 、アクリル樹脂、PVA
Although the binder which comprises a ceramic composition object is not specifically limited, The following can be illustrated.
Organic binder: for example, ethyl cellulose, PVB, acrylic resin, PVA

セラミック組成物体を構成するセラミックスとしては、セラミックスとしては、例えばアルミナ、ジルコニア、チタニア、シリカ、マグネシア、フェライト、コージェライト、イットリア等の希土類元素の酸化物等の酸化物系セラミックス;チタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸ジルコン酸鉛、希土類元素のマンガナイト、希土類元素のクロマイト等の複合酸化物;窒化アルミニウム、窒化珪素,サイアロン等の窒化物系セラミックス;炭化珪素、炭化ホウ素、炭化タングステン等の炭化物系セラミックスを例示できる。 Ceramics constituting the ceramic composition body include ceramics such as oxide ceramics such as oxides of rare earth elements such as alumina, zirconia, titania, silica, magnesia, ferrite, cordierite, yttria, etc .; barium titanate, titanium Composite oxides such as strontium oxide, lead zirconate titanate, rare earth manganite, rare earth element chromite; nitride ceramics such as aluminum nitride, silicon nitride, sialon; carbides such as silicon carbide, boron carbide, tungsten carbide Examples thereof include ceramics.

特に好ましくは、セラミック組成物体が、1000℃まで焼結しない材質である。また、好ましくは、セラミック組成物体が、被焼成体の焼成温度まで、熱膨張の変曲点を持たずになめらかに連続的に膨張する。これによって、昇温時に、被焼成体に対して不要な応力をかけないようにできる。このような材質としては、アルミナ、ジルコニア、ムライト、コージェライト、ステアタイト、マグネシア、シリカガラス、窒化珪素、窒化アルミニウム、炭化珪素を例示できる。 Particularly preferably, the ceramic composition body is a material that does not sinter up to 1000 ° C. Preferably, the ceramic composition object expands smoothly and continuously without having an inflection point of thermal expansion up to the firing temperature of the body to be fired. Thereby, it is possible to prevent unnecessary stress from being applied to the object to be fired when the temperature is increased. Examples of such materials include alumina, zirconia, mullite, cordierite, steatite, magnesia, silica glass, silicon nitride, aluminum nitride, and silicon carbide.

セラミック組成物体上には、被焼成体の焼結温度で安定な材質からなる板状体を設置する。被焼成体の焼結温度で安定であるとは、焼結による寸法収縮が実質的になく、またセラミック組成物体と化学反応しないことを意味している。このような材質としては、上記したセラミックスを例示できる。 A plate-like body made of a material that is stable at the sintering temperature of the body to be fired is placed on the ceramic composition object. Being stable at the sintering temperature of the body to be fired means that there is substantially no dimensional shrinkage due to sintering and does not chemically react with the ceramic composition object. As such a material, the above-described ceramics can be exemplified.

好ましくは、被焼成体がグリーンシートを含んでおり、特に好ましくは被焼成体がグリーンシートの積層体からなる。この場合には被焼成体中に内蔵電極を容易に形成可能である。 Preferably, the to-be-fired body contains a green sheet, and particularly preferably, the to-be-fired body is composed of a laminate of green sheets. In this case, the built-in electrode can be easily formed in the body to be fired.

好適な実施形態においては、被焼成体が未焼結電極層を備えており、この場合には第一の態様に係る発明による作用効果が特に大きい。なぜなら、被焼成体の表面および/または内部に電極が含まれていると、熱伝導が複雑になり、焼成時の成形体内部の温度分布が不均一に成りやすいためであり、従って本発明の効果が大きい。 In a preferred embodiment, the body to be fired is provided with an unsintered electrode layer, and in this case, the effect of the invention according to the first aspect is particularly great. This is because if the electrode is included on the surface and / or inside of the body to be fired, the heat conduction becomes complicated and the temperature distribution inside the body during firing tends to be non-uniform. Great effect.

特に未焼結電極層が被焼成体の表面に存在する場合には本発明の効果が大きい。なぜなら、板状体を被焼成体の表面上におもりとして載せて焼結する場合には、未焼結電極層が板状体に密着した状態で焼結するために、焼結後に電極が板状体から剥離しにくくなる。しかも、未焼結電極層が板状体に対して接合する結果、焼結過程において被焼成体の寸法収縮が、寸法収縮しない板状体によって拘束される結果、焼結体の反りが大きくなる。第一の態様に係る発明によれば、未焼結電極層と板状体との直接の接触を防止できることから、このような被焼成体の拘束による反りを防止できる。 In particular, the effect of the present invention is great when an unsintered electrode layer is present on the surface of the body to be fired. This is because when the plate-like body is placed on the surface of the body to be fired and sintered, the unsintered electrode layer is sintered in close contact with the plate-like body. It becomes difficult to peel off from the body. Moreover, as a result of the unsintered electrode layer being bonded to the plate-like body, the dimensional shrinkage of the fired body is constrained by the plate-like body that does not shrink in the sintering process, resulting in an increase in warpage of the sintered body. . According to the first aspect of the invention, since direct contact between the unsintered electrode layer and the plate-like body can be prevented, warpage due to such restraint of the body to be fired can be prevented.

第一の態様に係る発明においては、被焼成体の表面の一部を被覆するようにセラミック組成物体を配置する。このとき、被焼成体の表面におけるセラミック組成物体の平面的形態は特に限定されないが、表面において所定パターンを反復していることが好ましい。このような形態としては、以下に示すような格子形状や島状の他、任意の平面的反復パターンを使用可能である。 In the invention according to the first aspect, the ceramic composition object is disposed so as to cover a part of the surface of the body to be fired. At this time, the planar form of the ceramic composition object on the surface of the body to be fired is not particularly limited, but it is preferable that a predetermined pattern is repeated on the surface. As such a form, an arbitrary planar repetitive pattern can be used in addition to the lattice shape and island shape as shown below.

好適な実施形態においては、被焼成体が一対の主面を有しており、セラミック組成物体が被焼成体の少なくとも一方の主面の全面積の0.5%以上、60%以下を被覆している。これが0.5%より小さいと、被焼成体の表面の一部領域に加重が集中し、被焼成体の焼成収縮率がその領域において変化するために、焼結体の反りが増加する傾向がある。この観点からは、被覆面積が1.0%以上であることが更に好ましい。また、前記被覆面積が60%より大きいと、被焼成体からの材料、例えばバインダーの飛散が抑制されるので、焼成収縮率が小さくなり、反りが増加する傾向がある。この観点からは、被覆面積が60%以下が好ましく、50%以下であることが更に好ましい。 In a preferred embodiment, the body to be fired has a pair of main surfaces, and the ceramic composition object covers 0.5% or more and 60% or less of the total area of at least one main surface of the body to be fired. ing. If this is less than 0.5%, the load is concentrated on a partial region of the surface of the body to be fired, and the firing shrinkage rate of the body to be fired changes in that region, so that the warpage of the sintered body tends to increase. is there. From this viewpoint, the covering area is more preferably 1.0% or more. On the other hand, when the covering area is larger than 60%, scattering of a material from the body to be fired, such as a binder, is suppressed, so that the firing shrinkage rate is reduced and warpage tends to increase. From this viewpoint, the covering area is preferably 60% or less, and more preferably 50% or less.

好適な実施形態においては、セラミック組成物体が帯状突起を形成しており、帯状突起が格子を形成している。この場合には、各格子の中に各種の表層電極を構成できるので、多数の電子素子を量産するのに好適である。 In a preferred embodiment, the ceramic composition object forms band-like protrusions, and the band-like protrusions form a lattice. In this case, various surface layer electrodes can be formed in each lattice, which is suitable for mass production of a large number of electronic devices.

図7(a)は、本実施形態に係る焼結用部材1Aを示し、図7(b)は焼結用部材1Aの断面図である。本焼結用部材1Aの被焼成体5は平板状である。被焼成体5の一方の主面5a、他方の主面5b上には、それぞれ帯状突起13a、13bが形成されており、帯状突起が交差し、格子状パターン13Aのセラミック組成物体13A、13Bを構成している。各格子内にはそれぞれ未焼結電極層2Aが形成されている。なお、被焼成体5の内部にも未焼結電極層を形成できるが、図7では図示省略した。 FIG. 7A shows a sintering member 1A according to this embodiment, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the sintering member 1A. The to-be-fired body 5 of the main sintering member 1A has a flat plate shape. Band-shaped protrusions 13a and 13b are formed on one main surface 5a and the other main surface 5b of the to-be-fired body 5, respectively, and the band-shaped protrusions intersect to form ceramic composition objects 13A and 13B having a lattice pattern 13A. It is composed. An unsintered electrode layer 2A is formed in each lattice. In addition, although an unsintered electrode layer can be formed also inside the to-be-fired body 5, illustration was abbreviate | omitted in FIG.

好適な実施形態においては、帯状突起の幅Wが0.03〜2mmであり、高さが0.01〜0.25mmである。 In a preferred embodiment, the width W of the band-shaped protrusion is 0.03 to 2 mm, and the height is 0.01 to 0.25 mm.

帯状突起の幅Wが0.03mmより小さいと、セラミック組成物体の形状を安定させることが困難となり、セラミック組成物体の成形欠損が生じる。この結果、板状体からセラミック組成物体への荷重の加わり方に偏りが生じ、被焼成体の焼成収縮が変化するとともに、焼結体の反りが増加する傾向がある。この観点からは、帯状突起の幅Wを0.05mm以上とすることが更に好ましい。 If the width W of the band-shaped protrusion is smaller than 0.03 mm, it becomes difficult to stabilize the shape of the ceramic composition object, and a molding defect of the ceramic composition object occurs. As a result, there is a bias in the manner in which the load is applied from the plate-like body to the ceramic composition object, the firing shrinkage of the body to be fired changes, and the warp of the sintered body tends to increase. From this point of view, it is more preferable that the width W of the belt-like protrusion is 0.05 mm or more.

帯状突起の幅Wが2.0mmより大きいと、被焼成体の脱脂が不充分となり、焼成収縮率が減少し、焼結体の反りが増加する傾向がある。この観点からは、帯状突起の幅Wを1.5mm以下とすることが好ましい。 If the width W of the band-shaped protrusion is larger than 2.0 mm, the body to be fired becomes insufficiently degreased, the firing shrinkage rate decreases, and the warp of the sintered body tends to increase. From this point of view, it is preferable that the width W of the belt-like protrusion is 1.5 mm or less.

また、好適な実施形態においては、セラミック組成物体が、被焼成体の表面に互いに分離された状態で形成された島状体である。ここで、島状体とは、平面的に見て分離された形態で設けられている突起を意味しており、個々の突起の形態や寸法には特に制限はない。 In a preferred embodiment, the ceramic composition object is an island-like body formed in a state of being separated from each other on the surface of the body to be fired. Here, the island-like body means a protrusion provided in a separated form when seen in a plan view, and there is no particular limitation on the form and size of each protrusion.

図8(a)は、本実施形態に係る焼結用部材1Bを示し、図8(b)は焼結用部材1Bの断面図である。本焼結用部材1Bの被焼成体5は平板状である。被焼成体5の一方の主面5a、他方の主面5b上には、それぞれ多数の島状体23A、23Bが形成されており、各島状体23A、23Bが各主面上において平面的に見て略均一に分散されている。 Fig.8 (a) shows the member 1B for sintering which concerns on this embodiment, FIG.8 (b) is sectional drawing of the member 1B for sintering. The to-be-fired body 5 of the main sintering member 1B has a flat plate shape. A large number of island-shaped bodies 23A and 23B are formed on one main surface 5a and the other main surface 5b of the body 5 to be fired, respectively, and each island-shaped body 23A and 23B is planar on each main surface. As shown in FIG.

この形態においては、各島状体23A、23Bの面積が0.0025mm〜4mmであることが好ましい。各島状体の面積が0.0025mmより小さいと、セラミック組成物体の形成が難しく、各島状体の形態や寸法が不安定となり、被焼成体の焼成収縮が変化するとともに、焼結体の反りが増加する傾向がある。この観点からは、各島状体の面積が0.0049mm以上であることが好ましい。 In this embodiment, it is preferred that each island-shaped portion 23A, the area of 23B which is 0.0025 mm 2 to 4 mm 2. If the area of each island-shaped body is smaller than 0.0025 mm 2 , it is difficult to form a ceramic composition object, the form and dimensions of each island-shaped body become unstable, the firing shrinkage of the body to be fired changes, and the sintered body There is a tendency for warpage to increase. From this viewpoint, it is preferable that the area of each island-shaped body is 0.0049 mm 2 or more.

また、各島状体の面積が4mmを超えると、焼結時に、島状体の直下からのバインダー等の材料の飛散除去が抑制され、焼成収縮率のムラが生じやすい。 Moreover, when the area of each island-shaped body exceeds 4 mm < 2 >, the scattering removal of materials, such as a binder, from right under an island-shaped body is suppressed at the time of sintering, and the unevenness | contraction of baking shrinkage tends to arise.

また、セラミック組成物体の高さ(図7(b)、図8(b)においてはd)は、0.01〜0.25mmであることが好ましい。これが0.01mmより小さいと、被焼成体表面からの材料の飛散除去が不十分になり、焼成収縮率が小さくなる。これは被焼成体から脱脂を行う場合に特に問題になる。また、セラミック成形体の表層部に電極が形成されている場合は、例えばスクリーン印刷法で成形した場合、電極の高さは0.01mm程度とすることが多い。このため、セラミック組成物体の高さが0.01mm未満であると、表層電極が板状体に接触し、表層電極に傷がつく。 Moreover, it is preferable that the height (d in FIG.7 (b) and FIG.8 (b)) of a ceramic composition object is 0.01-0.25 mm. If this is smaller than 0.01 mm, scattering and removal of the material from the surface of the body to be fired will be insufficient, and the firing shrinkage rate will be small. This is particularly a problem when degreasing is performed from the fired body. Moreover, when the electrode is formed in the surface layer part of the ceramic molded body, for example, when it is formed by a screen printing method, the height of the electrode is often about 0.01 mm. For this reason, when the height of the ceramic composition object is less than 0.01 mm, the surface layer electrode comes into contact with the plate-like body, and the surface layer electrode is damaged.

また、セラミック組成物体の高さdが0.25mmを超えると、セラミック組成物体の形態を均一にすることが難しくなり、特に高さにムラが生じ易い。この結果、被焼成体への荷重の加わり方に偏りが生じ、焼成体が歪み、反りが増加する傾向がある。 Further, if the height d of the ceramic composition object exceeds 0.25 mm, it becomes difficult to make the shape of the ceramic composition object uniform, and unevenness is particularly likely to occur in the height. As a result, there is a bias in how the load is applied to the body to be fired, and the fired body tends to be distorted and warped.

第二の態様に係る発明において、セラミック焼結体としては上記のものを例示できる。また、熱伝導制御板の材質としては、上記の板状体の材質のうち、第二の態様に係る発明における熱伝導率の限定に合致するものであれば特に限定はない。また、セラミック組成物体を使用する場合には、その具体的構成は上記のとおりであることが好ましい。 In the invention according to the second aspect, examples of the ceramic sintered body include those described above. Further, the material of the heat conduction control plate is not particularly limited as long as it matches the limitation of the thermal conductivity in the invention according to the second aspect among the materials of the plate-like body. Moreover, when using a ceramic composition object, it is preferable that the specific structure is as above-mentioned.

また、熱伝導制御板の表面の温度ムラを被焼成体へと伝えないようにするという観点からは、熱伝導制御板の厚さは0.2mm以上であることが好ましい。また、第一の態様に係る発明において、板状体を、第二の態様に係る発明における熱伝導制御板とすることが好ましい。 Further, from the viewpoint of preventing temperature unevenness on the surface of the heat conduction control plate from being transmitted to the body to be fired, the thickness of the heat conduction control plate is preferably 0.2 mm or more. Moreover, in the invention which concerns on a 1st aspect, it is preferable that a plate-shaped object is a heat conduction control board in the invention which concerns on a 2nd aspect.

本発明の対象となる電子部品は特に限定されないが、例えば積層誘電体フィルター、多層配線基板、誘電体アンテナ、誘電体カプラー、誘電体複合モジュール、誘電体/磁性体複合モジュールを例示できる。 The electronic component that is the subject of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a laminated dielectric filter, a multilayer wiring board, a dielectric antenna, a dielectric coupler, a dielectric composite module, and a dielectric / magnetic composite module.

前記磁器を製造する際のプロセスそれ自体は公知である。好ましくは、各成分の原料を所定比率で混合して混合粉末を得、混合粉末を900−1300℃で仮焼し、仮焼体を粉砕し、セラミック粉末を得る。そして、好ましくは、セラミック粉末と、SiO、BおよびZnOからなるガラス粉末とを使用して、グリーンシートを作製し、グリーンシートを積層し、被焼成体5を製造する。次いで,本発明に従い、この被焼成体を脱脂、焼成する。 The process itself for producing the porcelain is known per se. Preferably, the raw materials of each component are mixed at a predetermined ratio to obtain a mixed powder, the mixed powder is calcined at 900 to 1300 ° C., and the calcined body is pulverized to obtain a ceramic powder. And preferably, a ceramic sheet and a glass powder made of SiO 2 , B 2 O 3 and ZnO are used to produce a green sheet, the green sheets are laminated, and the fired body 5 is manufactured. Next, according to the present invention, the fired body is degreased and fired.

セラミック多層基板において使用できる金属電極は限定されないが、銀電極、銅電極、ニッケル電極、パラジウム電極またはこれらの合金からなる電極が好ましく、銀または銀合金からなる電極が更に好ましく、銀電極が特に好ましい。 The metal electrode that can be used in the ceramic multilayer substrate is not limited, but a silver electrode, a copper electrode, a nickel electrode, a palladium electrode or an electrode made of an alloy thereof is preferable, an electrode made of silver or a silver alloy is more preferable, and a silver electrode is particularly preferable. .

[第一の態様に係る発明の実施例]
(セラミック粉末の製造)
炭酸バリウム、アルミナ、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化ビスマスの各粉末を、所定の組成になるように秤量し、湿式混合する。この混合粉末を900℃〜1000℃で仮焼し、仮焼体を得る。仮焼粉末を、ボールミルにて、所定粒度まで粉砕し、粉末を乾燥し、セラミック粉末を得た。
[Embodiment of Invention According to First Aspect]
(Manufacture of ceramic powder)
Each powder of barium carbonate, alumina, silicon oxide, zinc oxide, and bismuth oxide is weighed so as to have a predetermined composition and wet mixed. This mixed powder is calcined at 900 ° C. to 1000 ° C. to obtain a calcined body. The calcined powder was pulverized to a predetermined particle size with a ball mill, and the powder was dried to obtain a ceramic powder.

(ガラス粉末の製造)
酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化珪素の各粉末を秤量し、乾式混合し、混合粉末を白金ルツボ中で溶融させ、溶融物を水中に投下して急速冷却し、塊状のガラスを得る。このガラスを湿式粉砕し、低融点ガラス粉末を得る。
(Manufacture of glass powder)
Each powder of zinc oxide, boron oxide and silicon oxide is weighed and dry-mixed, the mixed powder is melted in a platinum crucible, and the melt is dropped into water to rapidly cool to obtain a massive glass. This glass is wet pulverized to obtain a low-melting glass powder.

(セラミック成形体5の製造)
このBaO−Al−SiO−ZnO−Biの組成系のセラミック粉末(50%粒度約0.5μm)にポリビニルアルコールバインダー、可塑剤としてDOP 、溶剤としてトルエンおよびイソプロピルアルコールを添加し、混合、脱泡後、ドクターブレードにてグリーンシート成形した。グリーンシートの厚みは100 μmである。のグリーンシートに、Agを含む電極ペーストを印刷し、未焼結電極層4、2A、2Bを形成した。グリーンシートを20層積層し、総厚約200μm、縦約100mm 、横100mm の平板形状の成形体5を得た。表層電極の厚さは約10μmである。
(Manufacture of ceramic molded body 5)
Polyvinyl alcohol binder, DOP as a plasticizer, toluene and isopropyl alcohol as a plasticizer are added to the ceramic powder (50% particle size of about 0.5 μm) of the composition system of BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—Bi 2 O 3 After mixing and defoaming, green sheets were formed with a doctor blade. The thickness of the green sheet is 100 μm. On the green sheet, an electrode paste containing Ag was printed to form unsintered electrode layers 4, 2A, 2B. Twenty green sheets were laminated to obtain a plate-shaped molded body 5 having a total thickness of about 200 μm, a length of about 100 mm, and a width of 100 mm. The thickness of the surface electrode is about 10 μm.

(セラミック組成物体の成形)
50% 粒径約2 μmのアルミナ粉末100
重量部に対し、有機バインダーとしてエチルセルロースを5 重量部添加し、ペーストとした。これをスクリーン印刷によりセラミック成形体5の主面5a、5b上に印刷した。スクリーン印刷に使用した製版の仕様は、メッシュ:#200、乳剤:30μmである。厚み1回の印刷で形成できる層の厚さは、最大で約40〜50μmのため、それ以上の高さの層は繰り返し印刷して高くした。ただし、5 回繰り返し印刷までは形状も安定するが、それを越えると形状が不安定になる。
(Forming ceramic composition objects)
100% alumina powder with 50% particle size of about 2 μm
5 parts by weight of ethylcellulose as an organic binder was added to parts by weight to obtain a paste. This was printed on the main surfaces 5a and 5b of the ceramic molded body 5 by screen printing. The specifications of the plate making used for screen printing are mesh: # 200, emulsion: 30 μm. Since the maximum thickness of the layer that can be formed by printing once is about 40 to 50 μm, the layer having a height higher than that was repeatedly printed to increase the thickness. However, the shape is stable until printing is repeated 5 times, but beyond that, the shape becomes unstable.

(板状体6A、6B)
厚み2mm ×100mm ×100mm 、重さ約50g の多孔質アルミナ板を用いた。
(Plate-like body 6A, 6B)
A porous alumina plate having a thickness of 2 mm × 100 mm × 100 mm and a weight of about 50 g was used.

(焼成工程)
最高温度920 ℃、空気雰囲気のベルト炉で、ヒートスケジュールは15時間である。この焼成に先立つ脱脂は実施していない。
(Baking process)
A belt furnace with a maximum temperature of 920 ° C and an air atmosphere, with a heat schedule of 15 hours. Degreasing prior to the firing is not performed.

(評価)
(焼成収縮率)
焼成後、得られた基板の焼成収縮率を、表面の電極間距離を画像処理装置で測定して求めた。
(基板の反り) 表面粗さ計で測定した。
(基板表面の電極のキズ) 実体顕微鏡で観察した。
(Evaluation)
(Firing shrinkage)
After firing, the firing shrinkage of the obtained substrate was determined by measuring the distance between the electrodes on the surface with an image processing apparatus.
(Warpage of substrate) Measured with a surface roughness meter.
(Scratches of electrode on substrate surface) Observation with a stereomicroscope.

(実験番号1〜37)
表1、2、3、4に示す各番号の実験を行った。ただし、セラミック組成物体の形態は、図7に示すような格子形状とした。そして、格子を構成する帯状突起の幅W、高さd、面積比率を、表1〜4に示すように変更した。この結果を各表に示す。
(Experiment Nos. 1-37)
Experiments with numbers shown in Tables 1, 2, 3, and 4 were performed. However, the form of the ceramic composition object was a lattice shape as shown in FIG. And the width W, height d, and area ratio of the strip | belt-shaped protrusion which comprises a grating | lattice were changed as shown in Tables 1-4. The results are shown in each table.

Figure 2007254281
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表1に示す実験番号1〜11においては、セラミック組成物体(帯状突起)の主面に対する面積比率を種々変更してみた。この結果、面積比率を0.5%以上、60%以下とすることによって、焼成収縮率がほぼ目的値となり、焼成後の基板の反りも低減できた。また、表層電極の傷も見られなかった。 In Experiment Nos. 1 to 11 shown in Table 1, the area ratio of the ceramic composition object (band-like protrusion) to the main surface was variously changed. As a result, by setting the area ratio to 0.5% or more and 60% or less, the firing shrinkage rate was almost the target value, and the warpage of the substrate after firing could be reduced. Further, no scratches on the surface electrode were observed.

表2に示す実験番号12〜21においては、帯状突起の幅を種々変更した。この結果、帯状突起の幅を0.03〜2mmとすることによって、焼成収縮率を目標値とでき、焼成後の基板の反りを抑制できることを確認した。また、表層電極の傷も見られなかった。 In Experiment Nos. 12 to 21 shown in Table 2, the widths of the band-shaped protrusions were variously changed. As a result, it was confirmed that by setting the width of the band-shaped protrusions to 0.03 to 2 mm, the firing shrinkage rate could be a target value, and the warpage of the substrate after firing could be suppressed. Further, no scratches on the surface electrode were observed.

表3に示す実験番号22〜30においては、帯状突起の高さdを種々変更した。この結果、帯状突起の高さを0.01〜0.25mmとすることによって、焼成収縮率を目標値とでき、焼成後の基板の反りを抑制できることを確認した。 In the experiment numbers 22 to 30 shown in Table 3, the height d of the band-shaped protrusions was variously changed. As a result, it was confirmed that by setting the height of the band-shaped projections to 0.01 to 0.25 mm, the firing shrinkage rate can be set as a target value, and the warpage of the substrate after firing can be suppressed.

表4に示す実験番号31〜37においては、セラミック組成物体の面積比率を種々変更した。この結果、セラミック組成物体がない場合には、焼成収縮率が目的値からずれ、焼成後の基板の反りも大きく、表層電極に傷が生じた。実験番号32〜37においても、前記と整合的な結果が得られた。 In the experiment numbers 31-37 shown in Table 4, the area ratio of the ceramic composition object was variously changed. As a result, in the absence of the ceramic composition object, the firing shrinkage ratio deviated from the target value, the warpage of the substrate after firing was large, and the surface electrode was damaged. Results consistent with the above were also obtained in experiment numbers 32-37.

(実験番号38〜65)
表5、6、7に示す各番号の実験を行った。ただし、セラミック組成物体の形態は、図8に示すような島状とした。そして、各島状体の面積、高さ、セラミック組成物体全体の主面に対する面積比率を、表5〜7に示すように変更した。この結果を各表に示す。
(Experiment numbers 38-65)
Experiments with numbers shown in Tables 5, 6, and 7 were performed. However, the shape of the ceramic composition object was an island shape as shown in FIG. And the area ratio with respect to the main surface of the area of each island-like body, the height, and the whole ceramic composition object was changed as shown in Tables 5-7. The results are shown in each table.

Figure 2007254281
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Figure 2007254281
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Figure 2007254281
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表5に示す実験番号38〜48においては、セラミック組成物体の面積比率を種々変更した。この結果、面積比率を0.5〜60%とすることによって、焼成収縮率を目的値とでき、焼成後の基板の反りを抑制できた。また、表層電極に傷は見られなかった。 In the experiment numbers 38 to 48 shown in Table 5, the area ratio of the ceramic composition object was variously changed. As a result, by setting the area ratio to 0.5 to 60%, the firing shrinkage rate could be the target value, and the warpage of the substrate after firing could be suppressed. Further, no scratch was observed on the surface electrode.

表6に示す実験番号49〜56においては、各島状体の面積を種々変更した。この結果、面積を0.0025mm〜4mmとすることによって、焼成収縮率を目的値とでき、焼成後の基板の反りを抑制できた。また、表層電極に傷は見られなかった。 In the experiment numbers 49-56 shown in Table 6, the area of each island was changed variously. As a result, by a 0.0025 mm 2 to 4 mm 2 area, can the firing shrinkage ratio and the target value, could suppress warpage of the substrate after firing. Further, no scratch was observed on the surface electrode.

表7に示す実験番号57〜65においては、各島状体の高さdを種々変更した。この結果、dを0.01〜0.25mmとすることによって、焼成収縮率を目的値とでき、焼成後の基板の反りを抑制できた。また、表層電極に傷は見られなかった。
以上述べたように、本発明によれば、セラミック多層基板等の焼結体を製造するのに際して、焼結体の反りを抑制し、焼成収縮率のバラツキを低減し、寸法精度の高い焼結体を提供することができる。
In the experiment numbers 57 to 65 shown in Table 7, the height d of each island-shaped body was variously changed. As a result, by setting d to 0.01 to 0.25 mm, the firing shrinkage rate could be the target value, and the warpage of the substrate after firing could be suppressed. Further, no scratch was observed on the surface electrode.
As described above, according to the present invention, when manufacturing a sintered body such as a ceramic multilayer substrate, the warpage of the sintered body is suppressed, the variation in the firing shrinkage rate is reduced, and the sintering with high dimensional accuracy is performed. The body can be provided.

[第二の態様に係る発明の実施例]
(セラミック粉末の製造)
炭酸バリウム、アルミナ、酸化珪素、酸化亜鉛、酸化ビスマスの各粉末を、所定の組成になるように秤量し、湿式混合する。この混合粉末を9000〜1000℃で仮焼し、仮焼体を得る。仮焼粉末を、ボールミルにて、所定粒度まで粉砕し、粉末を乾燥し、セラミック粉末を得た。
[Embodiment of Invention of Second Aspect]
(Manufacture of ceramic powder)
Each powder of barium carbonate, alumina, silicon oxide, zinc oxide, and bismuth oxide is weighed so as to have a predetermined composition and wet mixed. This mixed powder is calcined at 9000 to 1000 ° C. to obtain a calcined body. The calcined powder was pulverized to a predetermined particle size with a ball mill, and the powder was dried to obtain a ceramic powder.

(ガラス粉末の製造)
酸化亜鉛、酸化ホウ素および酸化珪素の各粉末を秤量し、乾式混合し、混合粉末を白金ルツボ中で溶融させ、溶融物を水中に投下して急速冷却し、塊状のガラスを得る。このガラスを湿式粉砕し、低融点ガラス粉末を得る。
(Manufacture of glass powder)
Each powder of zinc oxide, boron oxide and silicon oxide is weighed and dry-mixed, the mixed powder is melted in a platinum crucible, and the melt is dropped into water to rapidly cool to obtain a massive glass. This glass is wet pulverized to obtain a low-melting glass powder.

(セラミック成形体5の製造)
このBaO−Al−SiO−ZnO−Biの組成系のセラミック粉末(50%粒度約0.5μm)にポリビニルアルコールバインダー、可塑剤としてDOP 、溶剤としてトルエンおよびイソプロピルアルコールを添加し、混合、脱泡後、ドクターブレードにでグリーンシート成形した。グリーンシートの厚みは120 μmである。このグリーンシートに、Agを含む電極ペーストを印刷し、未焼結電極層4、2A、2Bを形成した。グリーンシートを20層積層し、CIP を用いて成形し、総厚約2400μm、縦約100mm 、横100mm の平板形状の成形体5を得た。表層電極の厚さは約10μmである。
(Manufacture of ceramic molded body 5)
Polyvinyl alcohol binder, DOP as a plasticizer, toluene and isopropyl alcohol as a plasticizer are added to the ceramic powder (50% particle size of about 0.5 μm) of the composition system of BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—Bi 2 O 3 After mixing and defoaming, green sheets were formed on a doctor blade. The thickness of the green sheet is 120 μm. An electrode paste containing Ag was printed on this green sheet to form unsintered electrode layers 4, 2A, 2B. Twenty green sheets were laminated and molded using CIP to obtain a flat molded body 5 having a total thickness of about 2400 μm, a length of about 100 mm, and a width of 100 mm. The thickness of the surface electrode is about 10 μm.

次いで、得られたセラミック成形板5を、図4に示すように一対の熱伝導制御板15A、15Bの間にはさみ、最高温度920 ℃、空気雰囲気のベルト炉で焼成した。ヒートスケジュールは15時間である。この焼成に先立つ脱脂は実施していない。 Next, the obtained ceramic molded plate 5 was sandwiched between a pair of heat conduction control plates 15A and 15B as shown in FIG. 4, and fired in a belt furnace having a maximum temperature of 920 ° C. and an air atmosphere. The heat schedule is 15 hours. Degreasing prior to the firing is not performed.

ここで、熱伝導制御板の材質は、表8に示すように変更した。熱伝導制御板の寸法は、縦150mm、横150mm、厚さ1.0mmである。成形体5の焼成後の熱伝導率(25℃)、熱伝導制御板の材質の熱伝導率(25℃)は、表8に示すとおりである。得られた焼結体について、反りと焼成収縮率とを測定し、結果を表8に示した。 Here, the material of the heat conduction control plate was changed as shown in Table 8. The dimensions of the heat conduction control plate are 150 mm long, 150 mm wide, and 1.0 mm thick. Table 8 shows the thermal conductivity (25 ° C.) after firing of the molded body 5 and the thermal conductivity (25 ° C.) of the material of the heat conduction control plate. The resulting sintered body was measured for warpage and firing shrinkage, and the results are shown in Table 8.

Figure 2007254281
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この結果から分かるように、熱伝導制御板の熱伝導率Ta/焼結体の熱伝導率Tbを本発明の範囲内とすることによって、焼成時の成形体表面裏面での温度差を低減でき、また焼結体の反りを抑制でき、成形体の焼成収縮率を目的値とすることができる。 As can be seen from this result, by setting the thermal conductivity Ta of the thermal conduction control plate / the thermal conductivity Tb of the sintered body within the range of the present invention, the temperature difference on the back surface of the molded body during firing can be reduced. Moreover, the curvature of a sintered compact can be suppressed and the firing shrinkage rate of a molded object can be made into a target value.

次に、上記と同様にし、セラミック成形板5の材質および熱伝導制御板の材質を、表9〜表13に示すように変更し、上記と同様の測定を行った。 Next, in the same manner as described above, the material of the ceramic molded plate 5 and the material of the heat conduction control plate were changed as shown in Tables 9 to 13, and the same measurement as above was performed.

Figure 2007254281
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Figure 2007254281
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これらの結果から分かるように、熱伝導制御板の熱伝導率Ta/焼結体の熱伝導率Tbを本発明の範囲内とすることによって、焼成時の成形体表面裏面での温度差を低減でき、また焼結体の反りを抑制でき、成形体の焼成収縮率を目的値とすることができる。 As can be seen from these results, by setting the thermal conductivity Ta of the thermal conduction control plate / the thermal conductivity Tb of the sintered body within the range of the present invention, the temperature difference on the back surface of the molded body during firing is reduced. In addition, warping of the sintered body can be suppressed, and the firing shrinkage rate of the molded body can be set to the target value.

以上述べたように、本発明によれば、セラミック多層基板において、基板の反りを抑制し、焼成収縮率のバラツキを低減し、寸法精度を向上させることができる。 As described above, according to the present invention, in a ceramic multilayer substrate, warpage of the substrate can be suppressed, variation in the firing shrinkage rate can be reduced, and dimensional accuracy can be improved.

(a)は、本発明で焼成に供する焼結用部材1を模式的に示す断面図であり、(b)は、表層電極2A、2Bの設けられた被焼成体5を模式的に示す断面図である。(A) is sectional drawing which shows typically the member 1 for sintering used for baking by this invention, (b) is a cross section which shows the to-be-fired body 5 provided with surface layer electrode 2A, 2B typically. FIG. 図1(a)のエセンブリ1を一対の板状体によって挟んだ状態を模式的に示す。The state which pinched | interposed the assembly 1 of Fig.1 (a) with a pair of plate-shaped object is shown typically. 焼結用部材1を炉内に収容した状態を模式的に示す。The state which accommodated the member 1 for sintering in the furnace is shown typically. セラミック成形板5を一対の熱伝導制御板15A、15Bによって挟んで焼成しているときの温度ムラを示す。The temperature unevenness when the ceramic molded plate 5 is sandwiched and fired between the pair of heat conduction control plates 15A and 15B is shown. セラミック成形板5を一対の熱伝導制御板15A、15Bによって挟んで焼成しているときの温度ムラを示し、熱伝導制御板の熱伝導率が低い場合を示す。The temperature unevenness when the ceramic molded plate 5 is sandwiched and fired between the pair of heat conduction control plates 15A and 15B is shown, and the case where the heat conductivity of the heat conduction control plate is low is shown. セラミック成形板5を一対の熱伝導制御板15A、15Bによって挟んで焼成しているときの温度ムラを示し、熱伝導制御板の熱伝導率が高い場合を示す。The temperature unevenness when the ceramic molded plate 5 is sandwiched and fired between the pair of heat conduction control plates 15A and 15B is shown, and the case where the heat conductivity of the heat conduction control plate is high is shown. (a)は、セラミック成形板5の主面に格子形状のセラミック組成物体13A、13Bを形成した状態を模式的に示す斜視図であり、(b)は(a)のセラミック成形板およびセラミック組成物体の断面図である。(A) is a perspective view which shows typically the state which formed the lattice-shaped ceramic composition object 13A, 13B in the main surface of the ceramic forming board 5, (b) is a ceramic forming board and ceramic composition of (a). It is sectional drawing of an object. (a)は、セラミック成形板5の主面に島状のセラミック組成物体23A、23Bを形成した状態を模式的に示す斜視図であり、(b)は(a)のセラミック成形板およびセラミック組成物体の断面図である。(A) is a perspective view which shows typically the state which formed the island-shaped ceramic composition object 23A, 23B in the main surface of the ceramic shaping | molding board 5, (b) is a ceramic shaping | molding board and ceramic composition of (a). It is sectional drawing of an object.

符号の説明Explanation of symbols

1、1A、1B 焼成工程に供される焼結用部材 2A、2B 表層電極 3A、3B セラミック組成物体 4 内蔵電極 5 被焼成体(セラミック成形板) 6A、6B 板状体 8 ヒーター 10 隙間 13A、13B 格子形状のセラミック組成物体 13a、13b 帯状突起 16 熱伝導制御板の表面上のホットスポット 18 熱伝導制御板の内面上のホットスポット 23A、23B 島状体 W 帯状突起の幅 d セラミック組成物体の高さ DESCRIPTION OF SYMBOLS 1, 1A, 1B Sintering member 2A, 2B Surface electrode 3A, 3B Ceramic composition object 4 Built-in electrode 5 To-be-fired body (ceramic shaping | molding board) 6A, 6B Plate-shaped body 8 Heater 10 Crevice 13A, 13B Lattice-shaped ceramic composition object 13a, 13b Band-shaped protrusion 16 Hot spot on the surface of the heat conduction control plate 18 Hot spot on the inner surface of the heat conduction control plate 23A, 23B Island-shaped body W Width of the band-shaped protrusion d height

Claims (32)

被焼成体を焼成して焼結体を製造する方法であって、
バインダーを含有しており、かつ前記被焼成体が焼結する温度で焼結しないセラミック組成物体を、前記被焼成体の表面の一部を被覆するように配置し、このセラミック組成物体上に前記被焼成体の焼結温度で安定な材質からなる板状体を設置し、次いで前記被焼成体を焼成することを特徴とする、焼結体の製造方法。
A method for producing a sintered body by firing a body to be fired,
A ceramic composition object containing a binder and not sintered at a temperature at which the fired body sinters is disposed so as to cover a part of the surface of the fired body, and the ceramic composition object is placed on the ceramic composition object. A method for producing a sintered body, comprising: installing a plate-like body made of a material stable at a sintering temperature of the body to be fired, and then firing the body to be fired.
前記焼結体がセラミックスであることを特徴とする、請求項1記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the sintered body is a ceramic. 前記被焼成体が内蔵電極を含むことを特徴とする、請求項1または2記載の方法。 The method according to claim 1, wherein the fired body includes a built-in electrode. 前記被焼成体の表面に未焼結電極層が形成されていることを特徴とする、請求項1〜3のいずれか一つの請求項に記載の方法。 The method according to claim 1, wherein an unsintered electrode layer is formed on a surface of the object to be fired. 前記未焼結電極層と前記板状体との間に隙間が設けられていることを特徴とする、請求項4記載の方法。 The method according to claim 4, wherein a gap is provided between the green electrode layer and the plate-like body. 前記セラミック組成物体が、1000℃で焼結しないセラミック粉末を含有することを特徴とする、請求項1〜5のいずれか一つの請求項に記載の方法。 6. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the ceramic composition body contains a ceramic powder that does not sinter at 1000C. 前記被焼成体が一対の主面を有しており、前記セラミック組成物体が前記被焼成体の少なくとも一方の主面の全面積の0.5%以上、60%以下を被覆していることを特徴とする、請求項1〜6のいずれか一つの請求項に記載の方法。 The fired body has a pair of main surfaces, and the ceramic composition object covers 0.5% or more and 60% or less of the total area of at least one main surface of the fired body. 7. A method according to any one of claims 1 to 6, characterized in that 前記セラミック組成物体の高さが0.01〜0.25mmであることを特徴とする、請求項1〜7のいずれか一つの請求項に記載の方法。 8. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the ceramic composition object has a height of 0.01 to 0.25 mm. 前記セラミック組成物体が帯状突起を形成しており、前記帯状突起が格子を形成していることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一つの請求項に記載の方法。 9. A method according to any one of the preceding claims, characterized in that the ceramic composition object forms band-like protrusions, and the band-like protrusions form a lattice. 前記帯状突起の幅が0.03〜2mmであることを特徴とする、請求項9記載の方法。 The method according to claim 9, wherein the width of the band-shaped protrusion is 0.03 to 2 mm. 前記セラミック組成物体が、前記表面に互いに分離された状態で形成された島状体であることを特徴とする、請求項1〜8のいずれか一つの請求項に記載の方法。 The method according to any one of claims 1 to 8, wherein the ceramic composition object is an island formed on the surface in a state of being separated from each other. 前記各島状体の面積が0.0025mm〜4mmであることを特徴とする、請求項11記載の方法。 It characterized in that the area of each island-shaped portions is 0.0025 mm 2 to 4 mm 2, The method of claim 11. 前記被焼成体が一対の主面を有しており、各主面にそれぞれ前記セラミック組成物体が形成されていることを特徴とする、請求項1〜12のいずれか一つの請求項に記載の方法。 The said to-be-fired body has a pair of main surface, and the said ceramic composition object is formed in each main surface, respectively, The Claim 1 characterized by the above-mentioned. Method. 前記焼結体が、BaO−Nd−Bi−TiO−ガラス系磁器、BaO−TiO−ZnO−ガラス系磁器およびBaO−Al−SiO−ZnO−Bi−ガラス系磁器からなる群より選ばれた一種以上の磁器であることを特徴とする、請求項1〜13のいずれか一つの請求項に記載の方法。 The sintered bodies are BaO—Nd 2 O 3 —Bi 2 O 3 —TiO 2 —glass based porcelain, BaO—TiO 2 —ZnO—glass based porcelain and BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—Bi 2. The method according to claim 1, wherein the method is one or more ceramics selected from the group consisting of O 3 -glass-based ceramics. 請求項1〜14のいずれか一つの請求項に記載の方法によって得られたことを特徴とする、焼結体。 A sintered body obtained by the method according to any one of claims 1 to 14. セラミック多層基板であることを特徴とする、請求項15記載の焼結体。 The sintered body according to claim 15, which is a ceramic multilayer substrate. 焼成工程に供するための被焼成体を含む焼結用部材であって、
被焼成体、およびバインダーを含有しており、かつ前記被焼成体が焼結する温度で焼結しないセラミック組成物体を備えており、前記セラミック組成物体が前記被焼成体の表面の一部を被覆するように配置されていることを特徴とする、焼結用部材。
A sintering member including a body to be fired for use in a firing process,
A ceramic composition object that contains a body to be fired and a binder and that does not sinter at a temperature at which the body to be fired sinters, and the ceramic composition body covers a part of the surface of the body to be fired It is arranged so that it may do. The member for sintering characterized by the above-mentioned.
前記被焼成体がセラミックス用の被焼成体であることを特徴とする、請求項17記載の焼結用部材。 The sintering member according to claim 17, wherein the body to be fired is a body to be fired for ceramics. 前記被焼成体が内蔵電極を含むことを特徴とする、請求項17または18記載の焼結用部材。 The sintering member according to claim 17 or 18, wherein the fired body includes a built-in electrode. 前記被焼成体の表面に未焼結電極層が形成されていることを特徴とする、請求項17〜19のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 The sintering member according to any one of claims 17 to 19, wherein an unsintered electrode layer is formed on a surface of the body to be fired. 前記セラミック組成物体が、1000℃で焼結しないセラミック粉末を含有することを特徴とする、請求項17〜20のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 21. The sintering member according to any one of claims 17 to 20, wherein the ceramic composition body contains ceramic powder that is not sintered at 1000C. 前記被焼成体が一対の主面を有しており、前記セラミック組成物体が前記被焼成体の少なくとも一方の主面の全面積の0.5%以上、60%以下を被覆していることを特徴とする、請求項17〜21のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 The fired body has a pair of main surfaces, and the ceramic composition object covers 0.5% or more and 60% or less of the total area of at least one main surface of the fired body. The sintering member according to any one of claims 17 to 21, characterized in that it is characterized in that 前記セラミック組成物体の高さが0.01〜0.25mmであることを特徴とする、請求項18〜22のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 The member for sintering according to any one of claims 18 to 22, wherein a height of the ceramic composition object is 0.01 to 0.25 mm. 前記セラミック組成物体が帯状突起を形成しており、前記帯状突起が格子を形成していることを特徴とする、請求項17〜23のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 24. The sintering member according to any one of claims 17 to 23, wherein the ceramic composition object forms a band-shaped protrusion, and the band-shaped protrusion forms a lattice. 前記帯状突起の幅が0.03〜2mmであることを特徴とする、請求項24記載の焼結用部材。 25. The member for sintering according to claim 24, wherein a width of the band-shaped protrusion is 0.03 to 2 mm. 前記セラミック組成物体が、前記表面に互いに分離された状態で形成された島状体であることを特徴とする、請求項17〜23のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 The member for sintering according to any one of claims 17 to 23, wherein the ceramic composition object is an island-like body formed on the surface in a state of being separated from each other. 前記各島状体の面積が0.0025mm〜4mmであることを特徴とする、請求項26記載の焼結用部材。 The area of each island-shaped portion is characterized in that it is a 0.0025 mm 2 to 4 mm 2, sintered member according to claim 26, wherein. 前記被焼成体が、BaO−Nd−Bi−TiO−ガラス系磁器、BaO−TiO−ZnO−ガラス系磁器およびBaO−Al−SiO−ZnO−Bi−ガラス系磁器からなる群より選ばれた一種以上の磁器用の被焼成体であることを特徴とする、請求項17〜27のいずれか一つの請求項に記載の焼結用部材。 The fired bodies are BaO—Nd 2 O 3 —Bi 2 O 3 —TiO 2 —glass based porcelain, BaO—TiO 2 —ZnO—glass based porcelain, and BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—Bi 2. O 3 -, characterized in that an object to be fired for one or more porcelain selected from the group consisting of glass-based ceramics, sintered member according to any one of claims 17 to 27. 内蔵電極を有するセラミック焼結体からなるセラミック多層基板を製造する方法であって、
セラミック成形板の一方の主面上と他方の主面上とにそれぞれ熱伝導制御板を設置し、前記セラミック成形板を焼結させることによって前記焼結体を得るのに際して、前記熱伝導制御板の熱伝導率Taと前記焼結体の熱伝導率Tbの比率(Ta/Tb)が0.01以上、50以下であることを特徴とする、セラミック多層基板の製造方法。
A method for producing a ceramic multilayer substrate comprising a ceramic sintered body having a built-in electrode,
When obtaining the sintered body by installing a heat conduction control plate on one main surface and the other main surface of the ceramic forming plate and sintering the ceramic forming plate, the heat conduction control plate A method for producing a ceramic multilayer substrate, wherein a ratio (Ta / Tb) of the thermal conductivity Ta of the sintered body and the thermal conductivity Tb of the sintered body is 0.01 or more and 50 or less.
バインダーを含有しており、かつ前記セラミック成形板が焼結する温度で焼結しないセラミック組成物体を、前記セラミック成形板の前記一方の主面の一部を被覆するように配置し、このセラミック組成物体上に前記熱伝導制御板を設置することを特徴とする、請求項29記載の方法。 A ceramic composition object containing a binder and not sintered at a temperature at which the ceramic molded plate sinters is disposed so as to cover a part of the one main surface of the ceramic molded plate. 30. The method according to claim 29, characterized in that the heat conduction control plate is installed on an object. 前記焼結体が、BaO−Nd−Bi−TiO−ガラス系磁器、BaO−TiO−ZnO−ガラス系磁器およびBaO−Al−SiO−ZnO−Bi−ガラス系磁器からなる群より選ばれた一種以上の磁器であることを特徴とする、請求項29または30記載の方法。 The sintered bodies are BaO—Nd 2 O 3 —Bi 2 O 3 —TiO 2 —glass based porcelain, BaO—TiO 2 —ZnO—glass based porcelain and BaO—Al 2 O 3 —SiO 2 —ZnO—Bi 2. O 3 -, characterized in that one or more ceramic selected from the group consisting of glass-based ceramics, claim 29 or 30 a method according. 請求項29〜31のいずれか一つの請求項に記載の方法によって得られたことを特徴とする、セラミック多層基板。 32. A ceramic multilayer substrate obtained by the method according to any one of claims 29 to 31.
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