JP4959950B2 - Sintered body and wiring board - Google Patents

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Description

本発明は、1050℃以下の焼成温度で焼成された焼結体および配線基板に関する。 The present invention relates to a sintered body and a wiring board which is fired at a firing temperature of 1050 ° C. or less.

従来、セラミック材料を用いて作製される焼結体や配線基板には、焼結助剤として、B
2O3、アルカリ元素酸化物、アルカリ土類元素酸化物が用いられてきた。また、あるいは、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素を含有するガラス粉末を焼結助剤として用いることが行われ、これらの焼結助剤を用いることで焼成温度が1050℃以下に低下し、エネルギーの節約と、焼成時間の短縮が達成されるという利点がある(特許文献1参照)。
Conventionally, a sintered body or a wiring board manufactured using a ceramic material has B as a sintering aid.
2O3, alkali element oxides, and alkaline earth element oxides have been used. Alternatively, glass powder containing boron, alkali element and alkaline earth element is used as a sintering aid, and by using these sintering aids, the firing temperature is reduced to 1050 ° C. or lower, There is an advantage that energy saving and shortening of the firing time are achieved (see Patent Document 1).

そして、さらに生産性を向上させるために、例えば、トンネル炉を用いて成形体を所定の温度に保持された空間を通過させることで連続的に焼結体あるいは配線基板などを生産している(特許文献2参照)。
特開2003−002682号公報 特開1992−268187号公報
In order to further improve the productivity, for example, a sintered body or a wiring board is continuously produced by passing the molded body through a space maintained at a predetermined temperature using a tunnel furnace ( Patent Document 2).
JP 2003-002682 A JP-A-1992-268187

しかしながら、このような低温焼成が可能となる一方で、B2O3、アルカリ元素酸化物、アルカリ土類元素酸化物は焼成の際に焼結体の表面から揮発しやすく、焼結体の表面が内部よりも緻密化しにくいという問題があった。   However, while such low-temperature firing is possible, B2O3, alkali element oxides, and alkaline earth element oxides are likely to volatilize from the surface of the sintered body during firing, and the surface of the sintered body is exposed from the inside. There was also a problem that it was difficult to densify.

特に、成形体の進行方向に対して温度が変化する連続焼成が可能なトンネル炉を用いた製造方法では、雰囲気ガス(水素+窒素混合ガス、窒素ガス、エアーなど)を、炉中に導入し、炉外へ排気ガスを排出しているため、雰囲気ガスが炉内に滞留するバッチ式の焼成炉に比べて、前記ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の成形体の表面からの揮発が顕著であり、焼結体の表面層の密度が低下しやすく、焼結体の寸法精度の劣化が顕著となり、例えば、1500℃程度の温度域で焼成される従来のアルミナセラミックスなどに比べ、特に焼結体の表面の焼結性が焼成炉などの要因に大きく影響されるという問題があった。   In particular, in a manufacturing method using a tunnel furnace capable of continuous firing in which the temperature changes with respect to the traveling direction of the molded body, an atmosphere gas (hydrogen + nitrogen mixed gas, nitrogen gas, air, etc.) is introduced into the furnace. Since the exhaust gas is discharged outside the furnace, volatilization from the surface of the molded body of the boron, alkali element and alkaline earth element is remarkable as compared with a batch-type firing furnace in which the atmospheric gas stays in the furnace. Therefore, the density of the surface layer of the sintered body tends to decrease, and the dimensional accuracy of the sintered body is significantly deteriorated. For example, compared with the conventional alumina ceramics fired in a temperature range of about 1500 ° C. There is a problem that the sinterability of the surface of the bonded body is greatly influenced by factors such as a firing furnace.

この問題は、前記焼結体を絶縁層として用いる配線基板においても、同様に課題となっている。   This problem is also a problem in a wiring board using the sintered body as an insulating layer.

従って本発明は、表面層が十分に緻密化された焼結体および配線基板を提供することを目的とする。 Accordingly, the present invention aims to provide a sintered body and a wiring board which surface layer is sufficiently densified.

本発明の焼結体は、少なくともホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有してなるとともに、1050℃以下の温度で焼成された焼結体であって、該焼結体の表面層におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、前記焼結体の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計よりも5質量%以上多いことを特徴とする。 The sintered body of the present invention is a sintered body that contains at least one of boron, an alkali element, and an alkaline earth element, and is fired at a temperature of 1050 ° C. or less. The total content of boron, alkali element and alkaline earth element oxides in the surface layer is the content of boron, alkali element and alkaline earth element oxides inside the sintered body. It is characterized by being 5% by mass or more than the total.

また、本発明の焼結体は、前記焼結体におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、50質量%以下であることが望ましい。   Moreover, as for the sintered compact of this invention, it is desirable that the sum total of content converted into the oxide of the boron, an alkali element, and an alkaline-earth element in the said sintered compact is 50 mass% or less.

本発明の配線基板は、少なくともホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有してなるとともに、1050℃以下の温度で焼成された焼結体の絶縁層と、少なくとも該絶縁層の表面、内部のいずれかに形成された配線層とを具備してなる配線基板であって、該配線基板の表面層におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、前記配線基板の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計よりも5質量%以上多いことを特徴とする。 The wiring board of the present invention contains at least one of boron, an alkali element, and an alkaline earth element and is sintered at a temperature of 1050 ° C. or lower, and at least the insulating layer. And a wiring layer formed on the surface of the wiring board, wherein the content of the wiring substrate is converted to an oxide of boron, alkali element and alkaline earth element in the surface layer of the wiring board. The total is more than 5% by mass more than the total content of boron, alkali element and alkaline earth element converted to oxides inside the wiring board.

また、本発明の配線基板は、前記配線基板におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、50質量%以下であることが望ましい。   In the wiring board of the present invention, the total content of boron, alkali element and alkaline earth element in the wiring board is preferably 50% by mass or less.

本発明の焼結体ならびに配線基板は、内部よりも、表面層のホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計を5質量%以上多くすることで、従来は、表面層において、これらの元素が内部よりも減少していたために起こった表面層の緻密化が阻害されるという問題を解決することができる。特に、表面層に配線層を設けた配線基板の場合には、従来、表面層の緻密化が阻害されるために起こっていた配線層と表面層との接合強度の劣化という問題を解決することができるため、信頼性に優れた配線基板となる。 The sintered body and the wiring board of the present invention are more than 5% by mass of the total content converted to the oxide of boron, alkali element and alkaline earth element in the surface layer from the inside, In the surface layer, it is possible to solve the problem that the densification of the surface layer that occurs because these elements are reduced from the inside is inhibited. In particular, in the case of a wiring board provided with a wiring layer on the surface layer, to solve the problem of deterioration of the bonding strength between the wiring layer and the surface layer, which has been conventionally caused by the densification of the surface layer. Therefore, the wiring board is excellent in reliability.

また、焼結体ならびに配線基板のホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が50質量%以下の場合には、焼結体ならびに配線基板の化学的安定性を保つことができ、例えば、めっき工程における薬品による焼結体ならびに配線基板の損傷を抑制することができる。   Further, when the total content of the sintered body and the wiring board in terms of boron, alkali element and alkaline earth element oxides is 50% by mass or less, the chemical stability of the sintered body and the wiring board is improved. For example, damage to the sintered body and the wiring board due to chemicals in the plating process can be suppressed.

本発明の焼結体ならびに配線基板を図1に示す。   The sintered body and wiring board of the present invention are shown in FIG.

図1(a)に示すように、本発明の焼結体1は、1050℃以下の温度で焼成されたものであって、焼結体内部1aと、焼結体内部1aの表面に形成された焼結体の表面層1bとから形成されている。この焼結体の表面層1bは、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有しており、そのホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの元素の酸化物に換算した含有量の合計が焼結体内部1aよりも5質量%以上多く含まれることが重要である。 As shown in FIG. 1A, the sintered body 1 of the present invention is fired at a temperature of 1050 ° C. or less, and is formed on the inside of the sintered body 1a and the surface of the sintered body inside 1a. And a surface layer 1b of the sintered body. The surface layer 1b of the sintered body contains at least one of boron, an alkali element, and an alkaline earth element, and the oxide of any element of the boron, alkali element, and alkaline earth element is used as the oxide. It is important that the total converted content is contained by 5% by mass or more than the inside 1a of the sintered body.

また、図1(b)に示すように、本発明の配線基板3は、絶縁層5と、この絶縁層5の表面又は内部のうち、少なくともいずれかに形成された配線導体7と、絶縁層5を貫通して絶縁層5の表裏に形成された配線導体7同士を接続する貫通導体9とから形成されている。そして、絶縁層5は、例えば、複数積層されていてもよい。   As shown in FIG. 1B, the wiring board 3 of the present invention includes an insulating layer 5, a wiring conductor 7 formed on at least one of the surface and the inside of the insulating layer 5, and an insulating layer. 5 and a through conductor 9 that connects the wiring conductors 7 formed on the front and back of the insulating layer 5. And the insulating layer 5 may be laminated | stacked two or more, for example.

この絶縁層5は、セラミックスにより形成された絶縁層内部5aと、配線基板3の表面に露出した部分を覆うように形成された配線基板の表面層5bとから形成されている。そして、この配線基板の表面層5bは、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有しており、そのホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの元素の酸化物に換算した含有量の合計が絶縁層内部5aよりも5質量%以上多く含まれることが重要である。 The insulating layer 5 is formed of an insulating layer inside 5 a made of ceramics and a surface layer 5 b of the wiring board formed so as to cover a portion exposed on the surface of the wiring board 3. The surface layer 5b of the wiring board contains at least one of boron, an alkali element, and an alkaline earth element, and an oxide of any element of the boron, alkali element, and alkaline earth element . It is important that the sum of the contents converted into is more than 5% by mass than the inside 5a of the insulating layer.

そして、焼結体の表面層1bあるいは配線基板の表面層5bのホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、焼結体内部1aあるいは絶縁層内部5aにおけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計よりも6質量%以上、さらに、7質量%以上多いことが望ましい。 And the total of the content converted into the oxide of boron, an alkali element, and an alkaline-earth element of the surface layer 1b of a sintered compact or the surface layer 5b of a wiring board is boron in the sintered compact inside 1a or the insulating layer inside 5a. It is desirable that the content is 6 mass% or more, and more preferably 7 mass% or more than the total content converted to oxides of alkali elements and alkaline earth elements.

また、焼結体内部1aあるいは絶縁層内部5aにおけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が50質量%以下、特に、40質量%以下、さらに、30質量%以下であることが望ましい。   The total content of the sintered body inside 1a or the insulating layer inside 5a in terms of boron, alkali element and alkaline earth element oxides is 50% by mass or less, particularly 40% by mass or less, and further 30% by mass. The following is desirable.

なお、本発明においては、内部とは焼結体1あるいは配線基板3の表面より深さ20μ
m以上の領域を意味し、表面層とは、前記表面より深さ20μmまでの領域を意味する。
In the present invention, the inside means 20 μm deeper than the surface of the sintered body 1 or the wiring board 3.
The surface layer means a region up to a depth of 20 μm from the surface.

次に、本発明の焼結体ならびに配線基板製造する方法を説明する。 Next, a method for producing the sintered body and the wiring board of the present invention will be described.

まず焼結体および配線基板の絶縁層に用いるセラミック材料を準備する。1050℃以下で緻密体を得るためには、ガラス粉末とセラミックフィラー粉末とを混合する方法、BやPbO、BaOなどの粉末を混合する方法などがある。 First, a ceramic material used for the sintered body and the insulating layer of the wiring board is prepared. In order to obtain a dense body at 1050 ° C. or less, there are a method of mixing glass powder and ceramic filler powder, a method of mixing powders such as B 2 O 3 , PbO, and BaO.

例えば、ガラス粉末としては、SiO、Al、B、ZnO、PbO、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ金属酸化物などを含有したものであって、例えば、SiO−B系、SiO−B−Al−MO系(ただしMはCa、Mg、BaまたはZnを示す)などのホウケイ酸ガラス、SiO−Al3−MO系ガラス、アルカリ珪酸ガラス、Ba系ガラス、チタン酸塩系ガラス、Pb系ガラス、Bi系ガラスなどが挙げられる。 For example, the glass powder contains SiO 2 , Al 2 O 3 , B 2 O 3 , ZnO, PbO, alkaline earth metal oxide, alkali metal oxide, etc., for example, SiO 2 —B Borosilicate glass such as 2 O 3 system, SiO 2 —B 2 O 3 —Al 2 O 3 —MO system (where M represents Ca, Mg, Ba or Zn), SiO 2 —Al 2 O 3 —MO system Examples thereof include glass, alkali silicate glass, Ba glass, titanate glass, Pb glass, and Bi glass.

一方、セラミックフィラー粉末としてはクォーツ、クリストバライトなどのSiOやAl、ZrO、ムライト、フォルステライト、エンスタタイト、スピネル、マグネシアなどが好適に用いられる。 On the other hand, as ceramic filler powder, SiO 2 such as quartz and cristobalite, Al 2 O 3 , ZrO 2 , mullite, forsterite, enstatite, spinel, magnesia and the like are preferably used.

また、焼成後の絶縁層5の高誘電率化を図るために、MgTiO、CaTiO、SrTiO、BaTiO、TiO、LaTi、ZrOなどを添加する場合もある。 In order to increase the dielectric constant of the insulating layer 5 after firing, MgTiO 3 , CaTiO 3 , SrTiO 3 , BaTiO 3 , TiO 2 , La 2 Ti 2 O 7 , ZrO 2, etc. may be added.

焼結体1を得るためのセラミック成形体11は、これらの原料を用いて有機バインダーを混合したプレス用粉末を造粒し、所望の形状に成形するために、例えば金型に充填することにより得ることができる。   The ceramic molded body 11 for obtaining the sintered body 1 is prepared by granulating a powder for pressing mixed with an organic binder using these raw materials, and filling the mold, for example, in a mold. Obtainable.

また、配線基板3を得るための配線基板成形体13は、次のような工程を経て得ることができる。上述した原料を所定の割合で混合した無機組成物に、有機バインダーなどを加えた後、ドクターブレード法に代表されるシート成形法により所望する厚さのグリーンシートを作製する。   Moreover, the wiring board molded body 13 for obtaining the wiring board 3 can be obtained through the following steps. After adding an organic binder etc. to the inorganic composition which mixed the raw material mentioned above in a predetermined ratio, the green sheet of desired thickness is produced by the sheet forming method represented by the doctor blade method.

次に、このグリーンシートにレーザーやパンチングなどにより貫通孔を形成して、その貫通孔の内部に導体ペーストを充填してビアホール導体を形成する。   Next, a through hole is formed in the green sheet by laser or punching, and a via paste is formed by filling the through hole with a conductive paste.

次に、ビアホール導体を形成したグリーンシートの表面に同じく導体ペーストを印刷して配線導体を形成する。導体ペーストは、Cu、Ag等から選ばれる少なくとも1種の金属成分と、それ以外にアクリル樹脂などからなる有機バインダーや有機溶剤とを混合して形成する。なお、この導体ペーストには若干のガラス粉末等を添加してもよい。配線導体は、場合によっては、導体ペーストの代わりに金属箔を用いて形成することも可能である。最後に複数のグリーンシートを積層圧着して配線基板成形体13を形成する。   Next, a conductor paste is similarly printed on the surface of the green sheet on which the via-hole conductor is formed to form a wiring conductor. The conductor paste is formed by mixing at least one metal component selected from Cu, Ag, and the like, and an organic binder or organic solvent made of an acrylic resin or the like. Note that some glass powder or the like may be added to the conductor paste. In some cases, the wiring conductor can be formed using a metal foil instead of the conductor paste. Finally, a plurality of green sheets are laminated and pressure-bonded to form the wiring board molded body 13.

そして、このセラミック成形体11や配線基板成形体13を所定の1050℃以下の焼成パターンで焼成することで焼結体1、配線基板3を作製することができる。   And the sintered compact 1 and the wiring board 3 are producible by baking this ceramic molded object 11 and the wiring board molded object 13 by a predetermined | prescribed firing pattern of 1050 degrees C or less.

1に示すような焼結体あるいは配線基板となるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有するセラミック成形体11ならびに金属配線層を含む配線基板成形体13を焼成する際に、例えば、図2(a)に示すように、成形体を載せる焼成用棚板31を準備し、その上にセラミック成形体11あるいは配線基板成形体13を載せ、その周辺にセラミック成形体11よりもホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元
素のうちいずれかの元素の含有量が多い共材成形体33を配置したり、あるいは、図2(b)に示すように、焼成用棚板31の上に、絶縁層成形体15、金属配線層17、19を具備する配線基板成形体13あるいはセラミック成形体11を覆うように、この配線基板成形体13あるいはセラミック成形体11よりもホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの元素の含有量多いシート状成形体35を配置し、焼成するものである。
When firing a sintered body or a ceramic molded body 11 containing at least one of boron, alkali element and alkaline earth element and a wiring board molded body 13 including a metal wiring layer to be a sintered body or a wiring board as shown in FIG. For example, as shown in FIG. 2 (a), a baking shelf 31 on which a molded body is placed is prepared, and a ceramic molded body 11 or a wiring board molded body 13 is placed thereon, and the ceramic molded body 11 is placed around the ceramic molded body 11. The co-material molded body 33 having a higher content of any one of boron, alkali elements, and alkaline earth elements than that is disposed, or as shown in FIG. On top of this, the wiring board molded body 13 or the ceramic so as to cover the wiring board molded body 13 or the ceramic molded body 11 provided with the insulating layer molded body 15 and the metal wiring layers 17 and 19. Boron than form 11 to place one of the sheet materials 35 of high content of element selected from alkali element and alkaline earth element is also to you fired.

このような製造方法によれば、セラミック成形体11あるいは配線基板成形体13の表面から、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素が揮散することを抑制できるのみならず、共材成形体33あるいはシート状成形体35から揮散したホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素を共材成形体33あるいはシート状成形体35の表面に供給することができるため、共材成形体33あるいはシート状成形体35の表面は緻密に焼成することができるようになる。
すなわち、焼結体ならびに配線基板となる成形体よりも、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの元素の含有量が多い共材成形体を成形体とともに焼成することで、共材成形体から揮発したホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素が焼成過程において成形体の表面に付着し、その結果、成形体の表面層における、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量の減少を抑制できるため、成形体の焼結性が損なわれることはなく、表面層、内部ともに緻密で寸法精度に優れた焼結体ならびに配線基板を製造することができる。特に、配線基板を製造する場合には、配線基板の表面層に形成される配線層の接合強度が向上するため、信頼性に優れた配線基板となる。
また、焼結体ならびに配線基板となる成形体を、これよりも、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの元素の含有量が多いシート状成形体で包んで、ともに焼成することで、焼結体ならびに配線基板の内部よりも表面層のホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量を多くすることができるとともに焼結体ならびに配線基板への付着物の発生を防ぐことができる。
According to such a manufacturing method, it is possible not only to suppress the volatilization of boron, alkali elements and alkaline earth elements from the surface of the ceramic molded body 11 or the wiring board molded body 13, but also the co-material molded body 33 or the sheet. Since boron, alkali element and alkaline earth element volatilized from the shaped molded body 35 can be supplied to the surface of the co-formed molded body 33 or the sheet-shaped molded body 35, The surface can be fired densely.
That is, the co-material is fired together with the molded body, and the co-material molded body having a higher content of any one element of boron, alkali element and alkaline earth element than the sintered body and the molded body to be the wiring board. Boron, alkali elements and alkaline earth elements volatilized from the molded body adhere to the surface of the molded body during the firing process, and as a result, the content of boron, alkali elements and alkaline earth elements in the surface layer of the molded body is reduced. Therefore, the sinterability of the molded body is not impaired, and a sintered body and a wiring board that are dense in both the surface layer and inside and excellent in dimensional accuracy can be manufactured. In particular, when a wiring board is manufactured, since the bonding strength of the wiring layer formed on the surface layer of the wiring board is improved, the wiring board is excellent in reliability.
In addition, the sintered body and the molded body to be the wiring board are wrapped with a sheet-shaped molded body having a higher content of any one of boron, alkali elements and alkaline earth elements, and fired together. Therefore, it is possible to increase the content of boron, alkali elements and alkaline earth elements in the surface layer as compared to the inside of the sintered body and the wiring board, and to prevent the occurrence of deposits on the sintered body and the wiring board. it can.

従って、このような製造方法によれば、容易に本発明の焼結体並びに配線基板を作製することができるのである。   Therefore, according to such a manufacturing method, the sintered body and the wiring board of the present invention can be easily produced.

なお、シート状成形体35を用いた場合には、共材成形体33を用いた場合に比べ、空間を有効に利用できるため、より多くの製品を作製することができる点で、共材成形体33を用いるよりも望ましい。   Note that when the sheet-shaped molded body 35 is used, the space can be used more effectively than when the co-material molded body 33 is used, so that more products can be produced. It is more desirable than using the body 33.

一方、共材成形体33を用いた場合には、シート状成形体35を用いた場合よりも焼成の準備が容易であるという利点がある。   On the other hand, when the common material molded body 33 is used, there is an advantage that preparation for firing is easier than when the sheet-shaped molded body 35 is used.

特に、上記の製造方法の効果は、体積に比べ、表面積大きい板状の焼結体1あるいは配線基板3において顕著である。 In particular, the effect of the above manufacturing method is remarkable in the plate-like sintered body 1 or the wiring board 3 having a large surface area compared to the volume.

まず、焼結体ならびに配線基板を作製して評価した。   First, a sintered body and a wiring board were produced and evaluated.

まず絶縁層用には、ガラス粉末としてデイオプサイト系結晶化ガラス(SiO:50質量%、Al:15質量%、MgO:20質量%、CaO:15質量%からなるガラス)、フィラー粉末としてアルミナを準備した。前記ガラス粉末とアルミナをガラス:アルミナ=60質量%:40質量%の割合で調合し、ボールミルを用いて有機バインダーを12質量%、可塑剤を5質量%加えて十分混合粉砕させてスラリーを作製し、そのスラリーを用いてドクターブレード法により厚み150μmのグリーンシートを作製した。 First, for an insulating layer, diopsite crystallized glass (glass composed of SiO 2 : 50% by mass, Al 2 O 3 : 15% by mass, MgO: 20% by mass, CaO: 15% by mass) as a glass powder, Alumina was prepared as a filler powder. The glass powder and alumina are mixed in a ratio of glass: alumina = 60% by mass: 40% by mass, and a ball mill is used to add 12% by mass of organic binder and 5% by mass of a plasticizer to sufficiently mix and grind the slurry. Then, a green sheet having a thickness of 150 μm was produced using the slurry by a doctor blade method.

次に、前記セラミックグリーンシートの所定箇所にNCパンチングマシーンにてφ150μmのビアホールを形成し、その中にもCuを含む導体ペーストをスクリーン印刷にて充填し層間導体を形成し、層間導体を形成したセラミックグリーンシート表面にCuを含む導体ペーストをスクリーン印刷にて塗布して回路を形成した。この導体ペーストは、Cu粉末100質量%に対して、ガラス粉末を4質量%の割合で配合し、この混合物に有機バインダー、可塑剤、溶剤を加えて混合し作製したものを用いた。   Next, via holes having a diameter of 150 μm were formed in a predetermined portion of the ceramic green sheet by an NC punching machine, and a conductor paste containing Cu was filled therein by screen printing to form an interlayer conductor, thereby forming an interlayer conductor. A circuit was formed by applying a conductive paste containing Cu to the surface of the ceramic green sheet by screen printing. This conductor paste was prepared by blending glass powder at a ratio of 4% by mass with respect to 100% by mass of Cu powder, and adding and mixing an organic binder, a plasticizer and a solvent to this mixture.

このようにして作製した配線回路層を形成したセラミックグリーンシートを7層積層し、一方の主面に断面がV字状の刃先を有する金型により、分割溝を形成し、80mm×80mmの大きさに切断して配線基板成形体を作製した。   Seven ceramic green sheets each having the wiring circuit layer thus prepared were laminated, and a split groove was formed by a mold having a V-shaped cutting edge on one main surface, and a size of 80 mm × 80 mm. The substrate was cut into pieces to produce a wiring board molded body.

また、回路を形成していないセラミックグリーンシートを7層積層し、一方の主面に断面がV字状の刃先を有する金型により分割溝を形成し、80mm×80mmの大きさに切断してセラミック成形体を作製した。   In addition, seven layers of ceramic green sheets not forming a circuit are laminated, a dividing groove is formed by a mold having a V-shaped cutting edge on one main surface, and cut into a size of 80 mm × 80 mm. A ceramic compact was produced.

このようにして作成した配線基板成形体並びにセラミック成形体を覆うためのシート状成形体の原料として、ガラス粉末として、(1)グリーンシートに用いたデイオプサイト系結晶化ガラスと、(2)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(1)(SiO:43質量%、Al:6質量%、B、:9質量%、CaO:5質量%、BaO:37質量%からなるガラス)、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2)(SiO:44質量%、Al:28質量%、B、:10質量%、MgO:11質量%、ZnO:7質量%からなるガラス)、そしてフィラー粉末としてアルミナを準備した。 As a raw material of the sheet-like molded body for covering the wiring board molded body and the ceramic molded body thus produced, (1) Diopsite crystallized glass used for the green sheet, (2) Borosilicate zinc-based glass- (1) (SiO 2 : 43% by mass, Al 2 O 3 : 6% by mass, B 2 O 3 : 9% by mass, CaO: 5% by mass, BaO: 37% by mass) ), (3) Zinc borosilicate glass- (2) (SiO 2 : 44 mass%, Al 2 O 3 : 28 mass%, B 2 O 3 :: 10 mass%, MgO: 11 mass%, ZnO: 7) A glass composed of mass%) and alumina as a filler powder were prepared.

これらのガラス粉末とアルミナをガラス:アルミナ=10質量%:90質量%の割合で調合し、ボールミルを用いて有機バインダー、可塑剤を加えて十分混合粉砕させてスラリーを作製し、ドクターブレード法により厚み300μmのシート状成形体を作製した。   These glass powders and alumina are prepared in a ratio of glass: alumina = 10% by mass: 90% by mass, an organic binder and a plasticizer are added using a ball mill, and sufficiently mixed and pulverized to prepare a slurry. A sheet-like molded body having a thickness of 300 μm was produced.

ここで(1)デイオプサイト系結晶化ガラスを用いたものをシートA、(2)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(1)を用いたものをシートB、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2)を用いたものをシートCとした。   Here, (1) sheet A using a diopsite crystallized glass, (2) zinc borosilicate glass-sheet (1) using sheet B, (3) zinc borosilicate glass- ( A sheet C was prepared using 2).

また、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2)とアルミナをガラス:アルミナ=15質量%:85質量%の割合で調合したシートD、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2):アルミナ=20質量%:80質量%の割合で調合したシートEも準備した。さらに、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2)とアルミナをガラス:アルミナ=20質量%:80質量%の割合に対してアルカリ成分として炭酸ナトリウムをNaO換算で1質量部添加したシートFも準備した。 (3) Zinc borosilicate glass--sheet D prepared by mixing (2) and alumina in a ratio of glass: alumina = 15% by mass: 85% by mass, (3) zinc borosilicate glass- (2): alumina = 20% by mass: Sheet E prepared at a ratio of 80% by mass was also prepared. Further, (3) Zinc borosilicate glass- (2) and alumina are added to the glass: alumina = 20 mass%: 80 mass% ratio as an alkali component and 1 mass part of sodium carbonate in terms of Na 2 O is added. F also prepared.

次に、配線基板成形体並びにセラミック成形体を前記シート状成形体にて挟んで、300mm□の多孔質アルミナ製焼成用棚板に載置し、この焼成用棚板をトンネル炉の可動ベルトに載せ、所望温度に加熱された領域を通過させることにより焼成処理を行った。具体的には、脱バインダー/脱カーボン処理については、水蒸気を含有する窒素雰囲気中において720℃にて加熱保持して行い、最終セラミックスとしての焼結は、水蒸気を含有する窒素雰囲気中において900℃にて1時間加熱保持して行った。なお、入炉から出炉までの焼成処理は8時間とした。   Next, the wiring board molded body and the ceramic molded body are sandwiched between the sheet-like molded bodies and placed on a 300 mm □ porous alumina baking shelf, and this baking shelf is used as a movable belt of a tunnel furnace. The firing process was carried out by passing through a region heated to the desired temperature. Specifically, the binder removal / decarbonization treatment is performed by heating and holding at 720 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor, and sintering as a final ceramic is performed at 900 ° C. in a nitrogen atmosphere containing water vapor. And heated for 1 hour. The firing process from entering the furnace to leaving the furnace was 8 hours.

また、シート状成形体を作製した原料粉末を用いて、配線基板成形体並びにセラミック成形体とともに焼成するための共材成形体を作製した。   Moreover, the co-material molded object for baking with a wiring board molded object and a ceramic molded object was produced using the raw material powder which produced the sheet-like molded object.

共材成形体は、前記の(1)〜(3)のガラス粉末40質量%に対して、アルミナ粉末
を60質量%添加したものを、それぞれ共材成形体A、共材成形体B、共材成形体Cと表記する。
The common material molded body was obtained by adding 60% by mass of alumina powder to 40% by mass of the glass powders (1) to (3) described above. This is referred to as a material molded body C.

また、(3)ホウ珪酸亜鉛系ガラス−(2)とアルミナ粉末とを、それぞれ、45質量%:55質量%としたものを共材成形体Dと表記し、50質量%:50質量%としたものを共材成形体Eと表記した。また、共材成形体Eに対して、アルカリ成分として炭酸ナトリウムをNa2O換算で1質量部添加したものを共材成形体Fと表記した。   Further, (3) zinc borosilicate glass- (2) and alumina powder, each of 45 mass%: 55 mass%, is referred to as a co-molded product D, and 50 mass%: 50 mass%, This was designated as a co-material molded body E. Moreover, what added 1 mass part of sodium carbonate as an alkali component with respect to the common material molded object E in Na2O conversion was described with the common material molded object F. FIG.

これらの共材成形体は、原料粉末とバインダーとを混合した粉末をプレス成形して作製した。   These co-material molded bodies were produced by press molding a powder obtained by mixing a raw material powder and a binder.

そして、これらの共材成形体は、配線基板成形体並びにセラミック成形体に対して20質量%の割合で、焼成用棚板に載せ、前記シート状成形体を用いたのと同じ焼成条件で焼成した。   These co-material molded bodies are placed on a shelf for firing at a ratio of 20% by mass with respect to the wiring board molded body and the ceramic molded body, and fired under the same firing conditions as those used for the sheet-shaped molded body. did.

焼成後の配線基板には、さらに、めっきにてAuの電極保護膜を形成した。   An Au electrode protective film was further formed on the fired wiring board by plating.

このようにして作製した焼結体、配線基板について、以下の測定を行い、シート状成形体を用いて作製した焼結体、配線基板の評価結果を表1に、共材成形体を用いて作製した焼結体、配線基板の評価結果を表2に示した。   The sintered body and the wiring board thus produced were subjected to the following measurements, and the evaluation results of the sintered body and the wiring board produced using the sheet-like molded body are shown in Table 1, using the co-material molded body. Table 2 shows the evaluation results of the produced sintered body and wiring board.

作製した焼結体、配線基板について、開気孔率をアルキメデス法にて測定した。なお、同じシート状成形体、共材成形体を用いた試料については、焼結体、配線基板とでは、ほぼ同様の値となったため、表1、2には、焼結体の開気孔率を記載した。   About the produced sintered compact and the wiring board, the open porosity was measured by the Archimedes method. In addition, about the sample using the same sheet-like molded object and a co-material molded object, since it became a value substantially the same with a sintered compact and a wiring board, Table 1, 2 shows open porosity of a sintered compact. Was described.

また、配線基板表面の絶縁層と表面配線回路層の接合強度の評価は、配線基板表面の2mm□の表面配線回路層にSnめっきしたCu線(φ0.8mm)からなるリードを半田にて垂直に接合し、配線基板を固定した後、10mm/minの条件にてCu線を引き上げた際に絶縁層と表面配線回路層接合部付近が破断した荷重を測定して比較した。   The evaluation of the bonding strength between the insulating layer on the surface of the wiring board and the surface wiring circuit layer was performed by soldering a lead made of Cu wire (φ0.8 mm) plated with Sn on the surface wiring circuit layer of 2 mm □ on the surface of the wiring board. Then, after fixing the wiring board, when the Cu wire was pulled up under the condition of 10 mm / min, the load at which the insulating layer and the surface wiring circuit layer bonding portion were broken was measured and compared.

また、この焼結体並びに配線基板における表面層と内部の組成分析は、焼結体並びに配線基板の表面の厚み10μmの部分と、内部の部分を研削加工にて、取り出し、その後、化学分析して、組成分析した。なお、この組成分析においても、配線基板と焼結体とでは実質的に差がなかったため、表には焼結体の測定値を記載した。   The composition analysis of the surface layer and the inside of the sintered body and the wiring board is carried out by grinding the 10 μm thick part and the inner part of the surface of the sintered body and the wiring board, and then performing chemical analysis. The composition was analyzed. Also in this composition analysis, there was no substantial difference between the wiring board and the sintered body, so the measured values of the sintered body are listed in the table.

また、寸法精度の評価については、図3に示すように、セラミック配線基板の表面における焼成前後の導体パターンの寸法変化率から求めた。即ち、トンネル炉の可動ベルトの進行方向に対して垂直方向の測定箇所x1〜x3の3箇所について、焼成前後における収縮率のバラツキ(6σ(σ:標準偏差))から算出した。

Figure 0004959950
The evaluation of dimensional accuracy was obtained from the dimensional change rate of the conductor pattern before and after firing on the surface of the ceramic wiring board as shown in FIG. That is, it was calculated from the shrinkage variation (6σ (σ: standard deviation)) before and after firing at three measurement points x1 to x3 in the direction perpendicular to the moving direction of the movable belt of the tunnel furnace.
Figure 0004959950

表1に示すように、本発明の範囲外である配線基板と焼結体の表面層のホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量の酸化物としての合計が、配線基板と焼結体の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量の酸化物としての合計より
も少ない試料No.1、2では、配線基板と焼結体の開気孔率が1%以上となり、接合強度が50N/2mm□未満であり、十分な接合強度が得られず、また収縮ばらつきが大きくなった。
As shown in Table 1, the total amount of boron, alkali element, and alkaline earth element contents of the wiring board and sintered body surface layer outside the scope of the present invention is the wiring board and sintered body. The sample No. is smaller than the sum of the contents of boron, alkali element and alkaline earth element as oxides. In Nos. 1 and 2, the open porosity of the wiring board and the sintered body was 1% or more, the bonding strength was less than 50 N / 2 mm □, and sufficient bonding strength was not obtained, and the variation in shrinkage was large.

一方、セラミック成形体並びに配線基板成形体を、これらの成形体よりも、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの含有量が多いシート状成形体シート状成形体にて挟んで焼成した本発明の試料No.3〜7では、緻密で寸法精度に優れた焼結体並びに配線基板が得られた。また、配線基板においては、配線基板表面の絶縁層と表面配線回路層の接合強度を十分に高くすることができた。

Figure 0004959950
On the other hand, a ceramic molded body and a wiring board molded body are sandwiched and fired between sheet-shaped molded bodies having a higher content of any one of boron, alkali elements and alkaline earth elements than these molded bodies. Sample No. of the present invention. In 3-7, the sintered compact and wiring board which were precise | minute and excellent in the dimensional accuracy were obtained. Moreover, in the wiring board, the bonding strength between the insulating layer on the surface of the wiring board and the surface wiring circuit layer could be sufficiently increased.
Figure 0004959950

表2に示すように、本発明の範囲外である配線基板と焼結体の表面層のホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量の酸化物としての合計が、配線基板と焼結体の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の含有量の酸化物としての合計より
も少ない試料No.1、8では、配線基板と焼結体の開気孔率が1%以上となり、接合強度が50N/2mm□未満であり、十分な接合強度が得られず、また収縮ばらつきが大きくなった。
As shown in Table 2, the total of the content of boron, alkali element and alkaline earth element in the surface layer of the wiring board and sintered body, which are outside the scope of the present invention, is the wiring board and sintered body. The sample No. is smaller than the sum of the contents of boron, alkali element and alkaline earth element as oxides. In Nos. 1 and 8, the open porosity of the wiring board and the sintered body was 1% or more, the bonding strength was less than 50 N / 2 mm □, sufficient bonding strength was not obtained, and the shrinkage variation was large.

一方、セラミック成形体並びに配線基板成形体を、これらの成形体よりも、ホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうちいずれかの含有量が多いシート状成形体シート状成形体にて挟んで焼成した本発明の試料No.9〜13では、緻密で寸法精度に優れた焼結体並びに配線基板が得られた。また、配線基板においては、配線基板表面の絶縁層と表面配線回路層の接合強度を十分に高くすることができた。   On the other hand, a ceramic molded body and a wiring board molded body are sandwiched and fired between sheet-shaped molded bodies having a higher content of any one of boron, alkali elements and alkaline earth elements than these molded bodies. Sample No. of the present invention. In Nos. 9 to 13, a dense sintered body and a wiring board having excellent dimensional accuracy were obtained. Moreover, in the wiring board, the bonding strength between the insulating layer on the surface of the wiring board and the surface wiring circuit layer could be sufficiently increased.

(a)は、本発明の焼結体を示す断面図であり、(b)は、本発明の配線基板を示す断面図である。(A) is sectional drawing which shows the sintered compact of this invention, (b) is sectional drawing which shows the wiring board of this invention. 本発明の焼結体および配線基板製造する方法を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the method to manufacture the sintered compact and wiring board of this invention. 施例における配線基板の寸法測定に関する模式図である。It is a schematic diagram for dimension measurement of the wiring board in the real施例.

1 焼結体
1a 焼結体内部
1b 焼結体の表面層
3 配線基板
5 絶縁層
5a 絶縁層内部
5b 配線基板の表面層
7 配線導体
9 貫通導体
11 セラミック成形体
13 配線基板成形体
33 共材成形体
35 シート状成形体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Sintered body 1a Sintered body inside 1b Sintered body surface layer 3 Wiring board 5 Insulating layer 5a Insulating layer inside 5b Wiring board surface layer 7 Wiring conductor 9 Through conductor 11 Ceramic molded body 13 Wiring board molded body 33 Common material Molded body 35 Sheet-shaped molded body

Claims (4)

少なくともホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有してなるとともに、1050℃以下の温度で焼成された焼結体であって、該焼結体の表面層におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、前記焼結体の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計よりも5質量%以上多いことを特徴とする焼結体。 A sintered body containing at least one of boron, an alkaline element, and an alkaline earth element and fired at a temperature of 1050 ° C. or less , wherein boron and an alkaline element in a surface layer of the sintered body And the sum total of the content converted into the oxide of alkaline-earth element is 5 mass% or more more than the sum total of the content converted into the oxide of the boron in the said sintered compact, an alkali element, and an alkaline-earth element A sintered body characterized by that. 前記焼結体におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、50質量%以下であることを特徴とする請求項1に記載の焼結体。 2. The sintered body according to claim 1, wherein the total content of boron, alkali element and alkaline earth element in the sintered body is 50% by mass or less. 少なくともホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素のうち少なくとも1種を含有してなる絶縁層と、少なくとも該絶縁層の表面、内部のいずれかに形成された配線層とを具備してなるとともに、1050℃以下の温度で焼成された焼結体の配線基板であって、該配線基板の表面層におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、前記配線基板の内部におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素酸化物に換算した含有量の合計よりも5質量%以上多いことを特徴とする配線基板。 At least boron, an insulating layer containing at least one kind of alkali element and alkaline earth element, at least the surface of the insulating layer, together with formed by and a wiring layer formed on either internal, 1050 A wiring board of a sintered body fired at a temperature of ℃ or less , wherein the total content in terms of boron, alkali element and alkaline earth element oxide in the surface layer of the wiring board is the wiring board A wiring board characterized in that the content is 5% by mass or more than the total content of boron, alkali element and alkaline earth element oxide in the interior. 前記配線基板におけるホウ素、アルカリ元素及びアルカリ土類元素の酸化物に換算した含有量の合計が、50質量%以下であることを特徴とする請求項に記載の配線基板。 4. The wiring board according to claim 3 , wherein the total content of boron, alkali element and alkaline earth element in the wiring board is 50% by mass or less.
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