JP2007242442A - Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel - Google Patents
Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007242442A JP2007242442A JP2006063855A JP2006063855A JP2007242442A JP 2007242442 A JP2007242442 A JP 2007242442A JP 2006063855 A JP2006063855 A JP 2006063855A JP 2006063855 A JP2006063855 A JP 2006063855A JP 2007242442 A JP2007242442 A JP 2007242442A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- organic
- forming
- spacer
- layer
- light emitting
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims abstract description 42
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 59
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 45
- 239000012044 organic layer Substances 0.000 claims abstract description 33
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 57
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 22
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 22
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 17
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 14
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 10
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 9
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 9
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 9
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 59
- 239000000463 material Substances 0.000 description 16
- 239000010408 film Substances 0.000 description 12
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 10
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 10
- 230000005525 hole transport Effects 0.000 description 10
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 10
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 8
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 7
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 7
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 7
- 238000004804 winding Methods 0.000 description 7
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 6
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 6
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 description 6
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 6
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 5
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 4
- QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N barium oxide Chemical compound [Ba]=O QVQLCTNNEUAWMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 3
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 3
- 150000004866 oxadiazoles Chemical class 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 3
- 229920003207 poly(ethylene-2,6-naphthalate) Polymers 0.000 description 3
- 239000011112 polyethylene naphthalate Substances 0.000 description 3
- 238000007650 screen-printing Methods 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N Naphthalene Chemical compound C1=CC=CC2=CC=CC=C21 UFWIBTONFRDIAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002390 adhesive tape Substances 0.000 description 2
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 2
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 2
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 2
- IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N n-[4-[4-(n-naphthalen-1-ylanilino)phenyl]phenyl]-n-phenylnaphthalen-1-amine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C2=CC=CC=C2C=CC=1)C1=CC=C(C=2C=CC(=CC=2)N(C=2C=CC=CC=2)C=2C3=CC=CC=C3C=CC=2)C=C1 IBHBKWKFFTZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- 238000000206 photolithography Methods 0.000 description 2
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 125000001567 quinoxalinyl group Chemical class N1=C(C=NC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000005215 recombination Methods 0.000 description 2
- 230000006798 recombination Effects 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 2
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 2
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 2
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 2
- 238000002834 transmittance Methods 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 2,3-diphenylcyclohexa-2,5-diene-1,4-dione Chemical class O=C1C=CC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1C1=CC=CC=C1 MVWPVABZQQJTPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 9-methylidenefluorene Chemical class C1=CC=C2C(=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 ZYASLTYCYTYKFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N Ozone Chemical compound [O-][O+]=O CBENFWSGALASAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920012266 Poly(ether sulfone) PES Polymers 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N Zinc dication Chemical compound [Zn+2] PTFCDOFLOPIGGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000008425 anthrones Chemical class 0.000 description 1
- 238000003491 array Methods 0.000 description 1
- 125000005605 benzo group Chemical group 0.000 description 1
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 1
- 150000001718 carbodiimides Chemical class 0.000 description 1
- 238000005266 casting Methods 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 229920002457 flexible plastic Polymers 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002460 imidazoles Chemical class 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 1
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 1
- 239000010954 inorganic particle Substances 0.000 description 1
- 229960004592 isopropanol Drugs 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 1
- WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N oxadiazole Chemical group C1=CON=N1 WCPAKWJPBJAGKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002120 photoresistant polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000005240 physical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006290 polyethylene naphthalate film Polymers 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 1
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 238000012827 research and development Methods 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 150000004867 thiadiazoles Chemical class 0.000 description 1
- IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N thiopyran Chemical compound S1C=CC=C=C1 IBBLKSWSCDAPIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K tri(quinolin-8-yloxy)alumane Chemical compound [Al+3].C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1.C1=CN=C2C([O-])=CC=CC2=C1 TVIVIEFSHFOWTE-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical class 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
Abstract
Description
本発明は、面光源やディスプレイパネル等として利用される有機EL(エレクトロ・ルミネッセンス)素子の製造方法及び有機ELパネルに関する。 The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL (electroluminescence) element used as a surface light source, a display panel, and the like, and an organic EL panel.
近年、有機物質を使用した有機EL素子は、固体発光型の安価な大面積フルカラー表示素子や書き込み光源アレイとしての用途が有望視されており、活発な研究開発が進められている。有機EL素子は、基板上に形成された第1電極(陽極又は陰極)と、その上に積層された有機発光物質を含有する有機化合物層(単層部又は多層部)即ち発光層と、この発光層上に積層された第2電極(陰極又は陽極)とを有する薄膜型の素子である。このような有機EL素子に電圧を印加すると、有機化合物層に陰極から電子が注入され陽極から正孔が注入される。この電子と正孔が発光層において再結合し、エネルギー準位が伝導帯から価電子帯に戻る際にエネルギーを光として放出することにより発光が得られることが知られている。 In recent years, organic EL elements using organic substances have been promising for use as solid light-emitting inexpensive, large-area full-color display elements and writing light source arrays, and active research and development have been promoted. The organic EL device includes a first electrode (anode or cathode) formed on a substrate, an organic compound layer (single layer portion or multilayer portion) containing an organic light emitting material laminated thereon, that is, a light emitting layer, It is a thin film type element having a second electrode (cathode or anode) laminated on the light emitting layer. When a voltage is applied to such an organic EL element, electrons are injected from the cathode and holes are injected from the anode into the organic compound layer. It is known that light is obtained by releasing energy as light when the electrons and holes recombine in the light emitting layer and the energy level returns from the conduction band to the valence band.
このように、有機EL素子は薄膜型の素子であるため、1個又は複数個の有機EL素子を基板上に形成した有機ELパネルをバックライト等の面光源として利用した場合には、面光源を備えた装置を容易に薄型にすることが出来る。又、画素としての有機EL素子を基板上に所定個数形成した有機ELパネルをディスプレイパネルとして用いて表示装置を構成した場合には視認性が高い、視野角依存性がないなど、液晶表示装置では得られない利点がある。 As described above, since the organic EL element is a thin film type element, when an organic EL panel in which one or a plurality of organic EL elements are formed on a substrate is used as a surface light source such as a backlight, a surface light source. It is possible to easily make a device equipped with In addition, when a display device is configured using an organic EL panel in which a predetermined number of organic EL elements as pixels are formed on a substrate as a display panel, the liquid crystal display device has high visibility and no viewing angle dependency. There are benefits that cannot be obtained.
一方、有機EL素子の有機化合物層を形成する際には、特開平9−102393号公報、特開2002−170676号公報に記載されている様に、蒸着法、スパッタ法、CVD、PVD、溶剤を用いた塗布法等の様々な方法が使用出来る。例えば、特開2002−170676号公報に枚葉のガラス基板上にスピンコート法により有機化合物層を形成する方法が記載されている。特開2003−142260号公報に枚葉の基板上にインクジェット方式で順次有機化合物層を形成する方法が記載されている。これらの方式は何れも基板として枚葉基板を使用しているため生産性に劣るという問題がある。 On the other hand, when forming an organic compound layer of an organic EL element, as described in JP-A-9-102393 and JP-A-2002-170676, vapor deposition, sputtering, CVD, PVD, solvent Various methods, such as a coating method using, can be used. For example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-170676 describes a method of forming an organic compound layer on a single wafer glass substrate by spin coating. Japanese Patent Application Laid-Open No. 2003-142260 describes a method of sequentially forming an organic compound layer on a single wafer substrate by an ink jet method. Each of these methods has a problem that the productivity is inferior because a single substrate is used as the substrate.
生産性を高める方法として、透光性基板としてプラスチックフィルムを使用し、このプラスチックフィルム上に陰極と、有機物質からなる一つ又は複数の発光層と、陽極層を設けた有機ELディスプレイを製造する方法として、ロールツーロール方式により作製する方法が知られている。 As a method for improving productivity, a plastic film is used as a translucent substrate, and an organic EL display having a cathode, one or a plurality of light emitting layers made of an organic substance, and an anode layer on the plastic film is manufactured. As a method, a method of manufacturing by a roll-to-roll method is known.
しかし、この方法では、発光層を形成した後、巻きとり時にゴミや異物を一緒に巻き込み、そのときに発光層の表面を傷つけ、素子のリークや短絡の原因となるという問題がある。このような問題に対して、発光層と対向電極との間に絶縁保護層を設け、素子のリークや短絡を防止する方法が提案されている(例えば、特許文献1を参照。)。
しかし、特許文献1においては、電極と発光層との間に絶縁層を設けているため、発光効率が低下したり、印加電圧が高くなるなどの新たな問題が生じる。 However, in Patent Document 1, since an insulating layer is provided between the electrode and the light emitting layer, new problems such as a decrease in light emission efficiency and an increase in applied voltage arise.
本発明は、上記状況に鑑みなされたものであり、その目的は、素子のリークや短絡のない高品質で生産性の高い有機EL素子の製造方法及び有機ELパネルを提供することである。 This invention is made | formed in view of the said condition, The objective is to provide the manufacturing method and organic electroluminescent panel of an organic EL element with high quality and high productivity without an element leak and a short circuit.
発明者は、鋭意研究を重ねたところ、以下の記載の何れかの構成により、前記課題を解決することができた。 The inventor conducted extensive research and was able to solve the above problems with any of the configurations described below.
1.
フレキシブル基体上に形成された、発光面を有する有機EL素子の製造方法において、
フレキシブル基体に第1の電極を形成する工程と、
前記第1の電極を形成する工程の後に、前記発光面にスペーサを形成する工程と、
前記スペーサを形成する工程の後に、有機層を形成する工程と、
第2の電極を形成する工程とを含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。
1.
In the method for producing an organic EL element having a light emitting surface formed on a flexible substrate,
Forming a first electrode on a flexible substrate;
After the step of forming the first electrode, forming a spacer on the light emitting surface;
A step of forming an organic layer after the step of forming the spacer;
And a step of forming a second electrode. A method of manufacturing an organic EL element, comprising:
2.
前記有機層を形成する工程が、蒸着法で有機層を形成することを特徴とする1に記載の有機EL素子の製造方法。
2.
2. The method for producing an organic EL element according to 1, wherein the step of forming the organic layer forms the organic layer by a vapor deposition method.
3.
前記有機層を形成する工程が、塗布方法で有機層を形成することを特徴とする1に記載の有機EL素子の製造方法。
3.
2. The method for producing an organic EL element according to 1, wherein the step of forming the organic layer forms the organic layer by a coating method.
4.
前記スペーサを形成する工程が、接着性の球状のスペーサを散布し、接着することを特徴とする1乃至3の何れか1項に記載の有機EL素子の製造方法。
4).
4. The method of manufacturing an organic EL element according to any one of claims 1 to 3, wherein the step of forming the spacer comprises spraying and bonding adhesive spherical spacers.
5.
前記球状のスペーサの粒径が、0.5〜10μmであることを特徴とする4に記載の有機EL素子の製造方法。
5).
5. The method for producing an organic EL element according to 4, wherein the spherical spacer has a particle size of 0.5 to 10 μm.
6.
前記スペーサが、柱状の樹脂構造物であることを特徴とする1乃至3に記載の有機EL素子の製造方法。
6).
The method for producing an organic EL element according to any one of 1 to 3, wherein the spacer is a columnar resin structure.
7.
前記柱状の樹脂構造物の高さが、0.5〜10μmであることを特徴とする6に記載の有機EL素子の製造方法。
7).
7. The method for producing an organic EL element according to 6, wherein the columnar resin structure has a height of 0.5 to 10 μm.
8.
前記発光面における前記スペーサの占める面積割合が、0.05〜5%であることを特徴とする1乃至7の何れか1項に記載の有機EL素子の製造方法。
8).
The method for manufacturing an organic EL element according to any one of 1 to 7, wherein an area ratio of the spacer on the light emitting surface is 0.05 to 5%.
9.
1乃至8の何れか1項の有機EL素子の製造方法で製造されたことを特徴とする有機EL素子。
9.
An organic EL device manufactured by the method for manufacturing an organic EL device according to any one of 1 to 8.
10.
9に記載の有機EL素子を有することを特徴とする有機ELパネル。
10.
9. An organic EL panel comprising the organic EL element according to 9.
本発明によれば、フレキシブル基体に第1の電極を形成する工程と、第1の電極を形成する工程の後に、発光面にスペーサを形成する工程と、スペーサを形成する工程の後に、有機層を形成する工程と、第2の電極を形成する工程とを含む有機EL素子の製造方法を用いることにより、ロール状のフレキシブルな基板の場合、各工程の終了に巻き取って保管しても、電極層や有機層を傷つけることがない。また、枚葉タイプの場合は、各工程の終了時に多数枚を積載して保管しても、やはり傷の発生が少なくなる。これは、スペーサを配置することで、巻きとり時や積載時に基板の背面との接触による電極層や有機層へのダメージを防止することができると共に、保管時に積載したり巻きとることにより、ゴミの付着を防止することができるためである。このように素子のリークや短絡のない高品位な表示パネルを作成することができると共に、巻きとったり、積載することができるので、製造装置がコンパクトになり、量産性が向上し、低コストな表示パネルを提供できる。 According to the present invention, after the step of forming the first electrode on the flexible substrate, the step of forming the first electrode, the step of forming the spacer on the light emitting surface, and the step of forming the spacer, the organic layer In the case of a roll-shaped flexible substrate by using a method for manufacturing an organic EL element including a step of forming a second electrode and a step of forming a second electrode, Does not damage the electrode layer or organic layer. In the case of a single wafer type, even when a large number of sheets are stacked and stored at the end of each process, the generation of scratches is also reduced. By arranging the spacers, it is possible to prevent damage to the electrode layer and the organic layer due to contact with the back surface of the substrate during winding and loading, and it is possible to prevent dust from being loaded and rolled during storage. This is because the adhesion of water can be prevented. In this way, it is possible to create a high-quality display panel free from element leaks and short circuits, and it can be rolled up and loaded, resulting in a compact manufacturing device, improved mass productivity, and low-cost display. Can provide a panel.
本発明に係る有機EL素子に関し、好適な実施の形態について、図を参照して以下に示す。 With respect to the organic EL device according to the present invention, preferred embodiments will be described below with reference to the drawings.
本発明に係る有機EL素子を用いた有機ELパネルであるバックライトの概略断面図を図1に示す。 FIG. 1 shows a schematic cross-sectional view of a backlight which is an organic EL panel using the organic EL element according to the present invention.
透明基板1の上面に透明な陽極2が形成されており、この陽極2の上面に有機EL層3を設け、透明基板1側に光を出射するボトムエミッション型の有機EL素子である。陽極2の上面には、正孔輸送層31が設けられている。さらにこの正孔輸送層31の上面に発光層30が設けられ、その上面に正孔阻止層32が設けられている。正孔阻止層32の上面に電子輸送層33が設けられ、さらに電子輸送層33の上面に陰極4が設けられている。透明電極1の光出射面側には、接着層10を介して、光学素子11が設けられ、有機EL素子を構成している。
A
この有機EL素子を接着剤52により、封止缶5で封止し、バックライトを構成している。封止缶5の内面には保水剤51を取り付けている。陽極2と陰極4には、制御用IC9を介して電源ユニット8に接続されている。電源ユニット8から供給される電力は、制御用IC9を介して、負極側は陰極4に接続され、正極側は、陽極2に供給される。
This organic EL element is sealed with a sealing can 5 by an adhesive 52 to constitute a backlight. A
ここで、陽極2の発光面の上には、図1には示していないが、スペーサが形成されている。図2に有機EL素子を拡大した模式図を示し、スペーサの配置状態を説明する。
Here, although not shown in FIG. 1, a spacer is formed on the light emitting surface of the
図2において、透明基板1上に陽極2を形成し、その上にスペーサ6を形成している。そのスペーサ6の形成後に、有機層3を形成し、さらに陰極4を形成している。ここで、スペーサは、陽極2の上に接着され、固定されている。また、陰極4の形成後、スペーサ6の一部が、発光面において、陰極4の平坦部から一部、突出した状態となっている。
In FIG. 2, an
このような構成とすることで、フレキシブルな透明基板1上に有機EL素子を形成する場合、陽極2の上にスペーサ6を形成した後の製造工程において、スペーサ9の一部が突出しているので、枚葉型で積み重ねても、有機層3や陰極4の表面を傷つけることなく積み重ねることができ、周りのゴミが表面に付着することを防止できる。また、フレキシブルな透明基板1がロール状であった場合も、巻き取ることにより、有機層3や陰極4の表面を傷つけずに、製造工程中に発生するゴミの付着を防止することができる。このように製造工程におけるゴミの付着を防止し、リークや短絡のない高品位な有機EL素子の製造方法及び有機ELパネルを提供することができる。
With this configuration, when an organic EL element is formed on the flexible transparent substrate 1, a part of the spacer 9 protrudes in the manufacturing process after the
図3に本発明に係る有機EL素子の製造方法を示す概略図である。 FIG. 3 is a schematic view showing a method for producing an organic EL device according to the present invention.
図3(a)においては、フレキシブルな透明基板1上に陽極2を形成する工程を示す。
FIG. 3A shows a process of forming the
フレキシブルな透明基板1としては、透光性でフレキシブルなプラスチック製のフィルム又はシートを用いうることができる。例えばポリカーボネート(PC)、ポリエーテルスルホン(PES)、ポリアリレート(PAR)、ポリエチレンテレフタレート(PET)等の透明なプラスチックプラスチックフィルムを使用することができる。透明なプラスチックフィルムであれば、外力による変形や衝撃に強く、割れにくい。また、厚さは0.1mm以上1.0mm以下であればより好ましく、軽量であり、携帯性に富む。 As the flexible transparent substrate 1, a transparent and flexible plastic film or sheet can be used. For example, a transparent plastic plastic film such as polycarbonate (PC), polyethersulfone (PES), polyarylate (PAR), polyethylene terephthalate (PET) can be used. If it is a transparent plastic film, it is resistant to deformation and impact caused by external forces, and is difficult to break. Further, the thickness is more preferably 0.1 mm or more and 1.0 mm or less, and it is lightweight and has high portability.
透明電極である陽極2としては、例えば、Indium Tin Oxide(ITO:インジウム錫酸化物)、Indium Zinc Oxide(IZO:インジウム亜鉛酸化物)等の透明導電膜を用いることができる。このような材料を透明基板1上に、スパッタリング法によるマスク蒸着や全面蒸着又は塗布した後にフォトリソグラフィ法でパターニングしたり、またスクリーン印刷などで形成することができる。なお、陽極2の膜厚は、特に限定されないが、通常10nm〜2μm、好ましくは20nm〜1μmである。また、この時の陽極2の電気抵抗は50Ω/□以下であることが好ましい。
As the
図3(b)は、透明基板1の上に陽極2を形成した後に、スペーサ6を形成する工程を示す。スペーサ6は接着スペーサであり、陽極2の表面に固着されるように形成する。スペーサ6としては、陽極2の表面に散布後、加熱により固着するもので、熱可塑性の樹脂からなる粒子や、無機微粒子や高分子からなる微粒子を熱可塑性樹脂で被覆した粒子等を用いることができる。これらの粒子としては、球形が好ましく、スペーサ6の粒径としては、0.5〜10μmが好ましい。スペーサ6の粒径が0.5μm以下の場合、ごく小さなゴミが入り込んでも、傷につながり、歩留まりが低下するという問題がある。また、フレキシブル基板を積載するか、巻き取った時に透明基板1の背面と有機層3が接しないように透明基板1を支えるためには、2000個/mm2以上の個数が必要となり、コストアップや製造時間がかかり、生産効率が低下するという問題もある。スペーサ6の粒径が10μm以上の場合、発光面で有効に発光する領域を低下させないためには、100個/mm2以下にすることが望ましが、この場合1個のスペーサ6にかかる力が大きくなり、基板を傷つけたり電極を破損したりするおそれがある。
FIG. 3B shows a process of forming the
また、散布する面積割合は、0.05〜5%が好ましい。この場合の面積割合とは、発光面におけるスペーサの占める割合であり、スペーサの投影面積(球形粒子の場合は断面積×個数)の割合を言う。発光面のスペーサの占める面積の割合が、0.05%以下になると、積載時や巻取り時などに、スペーサ1個あたりに集中する力が大きくなり、透明基板1を破損したり、透明基板1を支えきれずにスペーサ密度の小さい部分で有機層3と基透明板1が接して、傷となるおそれがある。また、面内のスペーサの占める面積の割合が5%以上になると発光面で有効に発光する領域を低下させ、発光効率が低下するという問題が生じる。
Moreover, 0.05 to 5% of the area ratio to spread is preferable. The area ratio in this case is the ratio of the spacer to the light emitting surface, and refers to the ratio of the projected area of the spacer (in the case of spherical particles, cross-sectional area × number). When the ratio of the area occupied by the spacer on the light emitting surface is 0.05% or less, the force concentrated on each spacer increases during loading or winding, and the transparent substrate 1 is damaged or the transparent substrate is damaged. The
散布方法としては、特に制限はないが、スペーサを有機溶媒と水との混合液に分散し、散布装置(例えば、エスイー(株)製セミドライ散布装置)で散布し、加熱乾燥するセミドライ散布方法がある。この散布装置を用いて、ノズルの噴射時間、噴射後の静置時間、分散液濃度などを制御することにより散布面に対する散布個数を決めることができ、よって、スペーサの散布する面積割合を制御することができる。 The spraying method is not particularly limited, but there is a semi-dry spraying method in which a spacer is dispersed in a mixed solution of an organic solvent and water, sprayed with a spraying device (for example, a semi-dry spraying device manufactured by SSE Co., Ltd.), and heated and dried. is there. Using this spraying device, the number of sprays on the spraying surface can be determined by controlling the spraying time of the nozzle, the standing time after spraying, the concentration of the dispersion, and the like. be able to.
また、スペーサ6は、球形粒子に替えて、柱状の樹脂構造物でも良い。柱状の構造物を形成するには、紫外線硬化型モノマーからなるホトレジスト材料などの光硬化性樹脂材料を用いて、所望の厚さで陽極2の表面にに塗布し、これにマスクを通して紫外線を照射するなどしてパターン露光を行い、未硬化部分を除去するいわゆるフォトリソグラフィ法を用いることができる。
The
また、熱可塑性樹脂を適当な溶剤に溶かした樹脂材料などを用いて、熱可塑性樹脂からなる柱状の樹脂構造物を形成してもよい。この場合、スクリーン版やメタルマスク等を用いて熱可塑性樹脂材料をスキージで押し出すことにより基板上に印刷を行う印刷法や、デイスペンサ法やインクジェット法などの、樹脂材料をノズルの先から基板上に吐出して形成する方法、あるいは、樹脂材料を平板あるいはローラー上に供給した後、これを陽極2の表面にに転写する転写法などにより柱状の樹脂構造物を配置することができる。
Further, a columnar resin structure made of a thermoplastic resin may be formed using a resin material in which a thermoplastic resin is dissolved in an appropriate solvent. In this case, the resin material is applied onto the substrate from the tip of the nozzle, such as a printing method in which printing is performed on the substrate by extruding the thermoplastic resin material with a squeegee using a screen plate or a metal mask, or a dispenser method or an inkjet method. The columnar resin structure can be arranged by a method of forming by discharging or a transfer method in which a resin material is supplied onto a flat plate or a roller and then transferred to the surface of the
この柱状の樹脂構造物の高さは、0.5〜10μmが好ましい。樹脂構造物の高さが0.5μm以下の場合、ごく小さなゴミが入り込んでも、傷につながり、歩留まりが低下するという問題がある。また、フレキシブル基板を積載するか、巻き取った時に透明基板1の背面と有機層3が接しないように透明基板1を支えるためには、2000個/mm2以上の個数が必要となり、コストアップや製造時間がかかり、生産効率が低下するという問題もある。樹脂構造物の高さが10μm以上の場合、発光面で有効に発光する領域を低下させないためには、100個/mm2以下にすることが望ましが、この場合1個のスペーサ6にかかる力が大きくなり、基板を傷つけたり電極を破損したりするおそれがある。
The height of the columnar resin structure is preferably 0.5 to 10 μm. When the height of the resin structure is 0.5 μm or less, there is a problem that even if very small dust enters, it leads to scratches and the yield decreases. Moreover, in order to support the transparent substrate 1 so that the back surface of the transparent substrate 1 and the
また、樹脂構造物の面積割合は、0.05〜5%が好ましい。この場合の面積割合とは、発光面における樹脂構造物の占める割合を言う。発光面の樹脂構造物の占める面積の割合が、0.05%以下になると、積載時や巻取り時などに、樹脂構造物1個あたりに集中する力が大きくなり、透明基板1を破損したり、透明基板1を支えきれず有機層3と基透明板1が接して、傷となるおそれがある。また、面内の樹脂構造物の占める面積の割合が5%以上になると発光面で有効に発光する領域を低下させ、発光効率が低下するという問題が生じる。
The area ratio of the resin structure is preferably 0.05 to 5%. The area ratio in this case refers to the ratio of the resin structure in the light emitting surface. When the ratio of the area occupied by the resin structure on the light emitting surface is 0.05% or less, the force concentrated on one resin structure increases during loading or winding, and the transparent substrate 1 is damaged. Otherwise, the transparent substrate 1 cannot be supported, and the
この発光面内の樹脂構造物は、例えば、格子配列などの所定の配置規則に基づいて、一定の間隔をおいて配列された、円柱状、断面四角柱状、断面楕円柱状などのドット状のものとすることができる。 The resin structure in the light emitting surface is, for example, in a dot shape such as a columnar shape, a quadrangular columnar shape, or an elliptical columnar shape arranged at regular intervals based on a predetermined arrangement rule such as a lattice arrangement. It can be.
このようにスペーサ6を陽極2の表面に配置することにより、例えば有機層3を形成した後、枚葉の場合は積み重ねたり(図4参照)、ロール状の場合は巻き取ることにより(図5参照)、有機層3や陰極4の表面に傷が付くことを防止することができる。このことにより、生産性が上がり、歩留まりアップと共に、低コスト化を達成できる。さらに、ロール状にしたり、積み上げたりすることで、製造スペースを少なくすることができる。
By disposing the
図3(c)は、陽極2の上にスペーサを形成した後に有機層3を形成する工程を模式的に示している。有機層3には、正孔輸送層31、発光層30、正孔阻止層32、電子輸送層33が設けられている。それぞれの層について説明する。
FIG. 3C schematically shows a process of forming the
正孔輸送層31は、正孔を陽極2から発光層30に輸送する機能を有する。正孔輸送層31における正孔輸送材料としては、一般に有機EL素子に用いられるものであれば用いることができるが、例えばトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、芳香族第3級アミン化合物などを用いることができる。正孔輸送層31の膜厚としては、特に制限はないが、通常は5nm〜5000nm程度である。
The
発光層30は、少なくとも発光機能に関与する1種、または2種以上の有機化合物から成る。発光層30は、正孔及び電子の注入機能、それらの輸送機能、正孔と電子の再結合により励起子を生成させる機能を有する。発光層30の材料は、一般に有機EL素子で用いられている公知のものを使用することができる。例えば、キノリノラト錯体が知られている。具体的には、トリス(8−キノリノラト)アルミニウム、ビス(8−キノリノラト)マグネシウム、ビス(ベンゾ{f}−8−キノリノラト)亜鉛、ビス(2−メチル−8−キノリノラト)アルミニウムオキシド、トリス(8−キノリノラト)インジウム、トリス(5−メチル−8−キノリノラト)アルミニウム、8−キノリノラトリチウム、トリス(5−クロロ−8−キノリノラト)ガリウム、ビス(5−クロロ−8−キノリノラト)カルシウム、5,7−ジクロル−8−キノリノラトアルミニウム、トリス(5,7−ジブロモ−8−ヒドロキシキノリノラト)アルミニウム、ポリ[亜鉛(II)−ビス(8−ヒドロキシ−5−キノリニル)メタン]等がある。発光層30の膜厚としては、特に制限はないが、通常は5nm〜5000nm程度である。
The
正孔阻止層32は、電子を輸送し、正孔を輸送する能力が著しく低い機能を有し、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。 The hole blocking layer 32 has a function of transporting electrons and transporting holes significantly, and improves the recombination probability of electrons and holes by blocking holes while transporting electrons. Can do.
正孔阻止層32としては、例えば特開平11−204258号公報、同11−204359号公報、及び「有機EL素子とその工業化最前線(1998年11月30日 エヌ・ティー・エス社発行)」の237頁等に記載の正孔阻止(ホールブロック)層等を本発明に係る正孔阻止層32として適用可能である。 As the hole blocking layer 32, for example, JP-A-11-204258, JP-A-11-204359, and “Organic EL device and its forefront of industrialization (issued on November 30, 1998 by NTS Corporation)” Can be applied as the hole blocking layer 32 according to the present invention.
電子輸送層33は、陰極4より注入された電子を発光層30に伝達する機能を有していれば良く、その電子輸送材料としては、一般に有機EL素子に用いられる公知の材料からに任意に選択することができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、ナフタレン、ペリレンなどの芳香族テトラカルボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン及びアントロン誘導体、オキサジアゾール誘導体などが挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送材料として用いることができる。電子輸送層33の膜厚については特に制限はないが、通常は5〜5000nm程度である。
The
このこれらの有機層は、例えば真空蒸着装法、スピンコート法、塗布法(キャスト法)、インクジェット法、LB法等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。特に、塗布方法を用いると、ロール状のフレキシブル基板を用いている場合には、量産性があがり、低コスト化に好ましい。 These organic layers can be formed by thinning by a known method such as a vacuum deposition method, a spin coating method, a coating method (casting method), an ink jet method, or an LB method. In particular, when a coating method is used, when a roll-shaped flexible substrate is used, mass productivity increases, which is preferable for cost reduction.
図3(d)は、有機層3の上に陰極4を形成する工程を模式的に示している。
FIG. 3D schematically shows a process of forming the
陰極4としては、通常の金属が使用できる。中でも導電率や扱いやすさの観点から、Al、Ag、In、Ti、Cu、Au、Mg、Mo、W、Ptから選択される1種以上の金属元素が好ましい。陰極4の形成方法は、スパッタ法、抵抗加熱蒸着法、エレクトロンビーム蒸着法等がある。メタルマスクを使用することにより分割された電極として、補助配線23を同時に形成することができる。陰極4の膜厚については特に制限はないが、通常は5〜500nm程度である。
As the
次にガラス製の封止缶5に紫外線硬化型の接着剤52により紫外線ランプを照射することで接着封止し、有機EL発光体を作成した。
Next, the glass sealing can 5 was adhered and sealed by irradiating an ultraviolet lamp with an ultraviolet
光学素子11としては、市販されている拡散板やプリズムシートを用いることができる。例えば光取りだし効率を上げるためには、ツジデン(株)製D121(透過率64.8%、ヘーズ値78.5%)やD123(透過率55%、ヘーズ値82.4%)を用いることができる。また、拡散板の代わりにマイクロレンズアレイとしてプリズムシートを用いることもできる。プリズムシートとしては、例えば住友スリーエム(株)製BEFII(頂角90度、ピッチ50μmの三角柱)を用いることができる。また、基板1の表面を粗面にしたものや、基板1の中に拡散用の粒子を混入させたものでも光取りだし効率を上げることができ、用いることができる。
As the
また、透明基板1に拡散板を接着する接着層10としては、透明の接着剤であれば特に限定するものではないが、透明両面粘着シートを用いれば、簡便に拡散板を取り付けることができる。例えば、日東電工(株)製の透明両面粘着テープCS9621を用いることができる。
Further, the
以上のようにして、バックライトとしての有機ELパネルを作製した。 As described above, an organic EL panel as a backlight was produced.
なお、封止缶5は、大気に接触させないように窒素雰囲気下で接着するのが好ましい。これは空気中の水分などと発光層などの有機層が反応することによって劣化することを防止する理由による。また、封止缶5の内部には、補水剤51を入れておくことが好ましい。これは封止缶内に残存する微量な水分の影響を捕集して、有機層の劣化を防止する理由による。
In addition, it is preferable to adhere | attach the sealing can 5 in nitrogen atmosphere so that it may not contact air | atmosphere. This is because the moisture in the air and the organic layer such as the light emitting layer are prevented from deteriorating due to the reaction. Moreover, it is preferable to put a
次に本発明に係る有機ELパネルの駆動方法について述べる。 Next, a method for driving the organic EL panel according to the present invention will be described.
電源ユニット8は、有機ELパネルの駆動用の電位+V1と−V1とを出力している。この出力電圧を制御用IC9を用いて、陽極2と陰極4に印加している。このようにすることで、輝度ムラを低減し、目立たなくすることが出来るとともに、外形寸法を大きくすること無く、生産性にすぐれた有機ELパネルを提供できる。
The power supply unit 8 outputs potentials + V1 and −V1 for driving the organic EL panel. This output voltage is applied to the
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれらに限定されない。
(実施例1)
図3に示す有機EL素子の製造工程を用いた。透明基板1として、厚さ120μmのポリエチレンナフタレートフィルム(帝人・デユポン社製フィルム、以下、PENと略記する)を用いた。このPEN上に陽極2を形成し、その上にスペーサ6を散布、固着させた。次に正孔輸送層31、発光層30、正孔阻止層32、電子輸送層33の4つの層を形成した後、陰極4を形成した。以下により詳しく説明する。
EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention, this invention is not limited to these.
Example 1
The manufacturing process of the organic EL element shown in FIG. 3 was used. As the transparent substrate 1, a polyethylene naphthalate film having a thickness of 120 μm (a film made by Teijin-Deupon Co., hereinafter abbreviated as PEN) was used. An
陽極2として300mm×400mmのPEN上にITOを150nm成膜し、陽極形状のフォトマスクを用い、陽極2を形成した。この時の陽極2の抵抗は、三菱化学社製ロレスタを用いて測定し、20Ω/□であった。また、陽極2の形状は、幅100μmのラインをピッチ120μmで配列した形状とした。
As the
その後、スペーサ6として、ハイプレシカUF5μm(宇部日東化成(株)製)をセミドライ散布法によって、200個/mm2の量になるように散布した。この時スペーサの投影面積から計算した発光面での面積割合は、0.4%であった。散布後、140℃のオーブンに30分入れて焼成し、陽極2の表面にスペーサ6を固着させた。
After that, as the
次にこの透明支持基板をiso−プロピルアルコールで超音波洗浄し、乾燥窒素ガスで乾燥し、UVオゾン洗浄を5分間行った。 Next, this transparent support substrate was ultrasonically cleaned with iso-propyl alcohol, dried with dry nitrogen gas, and subjected to UV ozone cleaning for 5 minutes.
以上の工程を10回繰り返し、10枚を作成し、それらを同じ向きに積載した。 The above process was repeated 10 times, 10 sheets were produced, and they were stacked in the same direction.
次に、この透明支持基板を1枚ずつ、市販の真空蒸着装置の基板ホルダーに固定し、陽極2の上にステンレス鋼製のマスクを設置し、一方、5つのモリブデン製抵抗加熱ボートに、下記構造で示されるα−NPD、CBP、Ir−1、BCP、Alq3をそれぞれ入れ真空蒸着装置に取付けた。
Next, this transparent support substrate is fixed to a substrate holder of a commercially available vacuum deposition apparatus one by one, and a stainless steel mask is installed on the
次いで、真空槽を4×10-4Paまで減圧した後、α−NPDの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で透明支持基板に膜厚50nmの厚さになるように蒸着し、正孔輸送層を設けた。 Next, after reducing the vacuum tank to 4 × 10 −4 Pa, the heating boat containing α-NPD was heated by heating to form a transparent support substrate at a deposition rate of 0.1 nm / second to 0.2 nm / second. Vapor deposition was performed to a thickness of 50 nm to provide a hole transport layer.
さらに、CBPの入った前記加熱ボートとIr−1の入ったボートをそれぞれ独立に通電して発光材料であるCBPとIr−1の蒸着速度が100:7になるように調節し膜厚30nmの厚さになるように蒸着し、発光層を設けた。 Further, the heating boat containing CBP and the boat containing Ir-1 are energized independently to adjust the deposition rate of CBP and Ir-1 as light emitting materials to be 100: 7, so that the film thickness is 30 nm. The light emitting layer was provided by vapor deposition so as to have a thickness.
ついで、BCPの入った前記加熱ボートに通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で厚さ10nmの正孔阻止層を設けた。更に、Alq3の入った前記加熱ボートを通電して加熱し、蒸着速度0.1nm/秒〜0.2nm/秒で膜厚40nmの電子輸送層を設けた。この操作を10回繰り返し、それぞれに有機層3を形成し、有機層3を上向きにして積載した。
Then, the heating boat containing BCP was energized and heated to provide a 10 nm thick hole blocking layer at a deposition rate of 0.1 nm / sec to 0.2 nm / sec. Further heated by energizing the heating boat charged with Alq 3, an electron transporting layer having a thickness of 40nm at a deposition rate of 0.1 nm / sec to 0.2 nm / sec. This operation was repeated 10 times, and the
次に、真空槽をあけ、電子輸送層の上にステンレス鋼製のマスクを設置し、一方、モリブデン製抵抗加熱ボートにアルミニウム3gを入れ、再び真空槽を2×10-4Paまで減圧した後、マグネシウム入りのボートに通電して蒸着速度1.5nm/秒〜2.0nm/秒でアルミニウムを蒸着し、一枚ずつ、有機層3の上に陰極(厚さ200nm)を作製した。陰極4の形状は、幅100μmのラインをピッチ120μmで配列した形状で、陽極2と十字にクロスするようにした。この工程を10回繰り返し、陰極4が上になるようにして、積載した。
Next, the vacuum chamber was opened, and a stainless steel mask was placed on the electron transport layer. On the other hand, 3 g of aluminum was placed in a molybdenum resistance heating boat, and the vacuum chamber was again depressurized to 2 × 10 −4 Pa. Then, a magnesium-containing boat was energized to deposit aluminum at a deposition rate of 1.5 nm / second to 2.0 nm / second, and a cathode (thickness 200 nm) was formed on the
更に、この有機EL素子を大気に接触させることなく窒素雰囲気下のグローブボックス(純度99.999%以上の高純度窒素ガスで置換したグローブボックス)へ移し、図1に示す概略模式図のような封止構造にした。次に日東電工(株)製透明両面粘着テープCS9621を用いて透明基板1の光出射側にツジデン(株)製拡散板D123を貼り付け、実施例1の有機EL素子を作製した。 Furthermore, this organic EL element was transferred to a glove box under nitrogen atmosphere (a glove box substituted with high-purity nitrogen gas with a purity of 99.999% or more) without being brought into contact with the atmosphere, and the schematic diagram shown in FIG. A sealing structure was adopted. Next, a diffusion plate D123 manufactured by Tsujiden Co., Ltd. was attached to the light emitting side of the transparent substrate 1 using a transparent double-sided adhesive tape CS9621 manufactured by Nitto Denko Corporation, and an organic EL device of Example 1 was produced.
尚、図1中、補水剤である酸化バリウム51は、アルドリッチ社製の高純度酸化バリウム粉末を、粘着剤付きのフッ素樹脂系半透過膜(ミクロテックス:S−NTF8031Q(日東電工製))でガラス製封止缶5に貼り付けたものを予め準備して使用した。封止缶と有機EL素子との接着には紫外線硬化型の接着剤52を用い、紫外線ランプを照射することで両者を接着し封止することで有機ELパネルを作製した。
(比較例1)
比較例1においては、実施例1におけるスペーサ6の散布を行わなかった他は、同様にして、10枚作成した。
(実施例2)
実施例2においては、実施例1におけるフレキシブルな透明基板が枚葉形状に対して、ロール形状(幅300mm、厚さ120μm、長さ100m)である以外は、同様に作成した。この時に用いたロールツウロール用蒸着装置70を図6に示す。ロール状の透明基板1を供給室701にセットし、蒸着室702で固定版71の下方をフレキシブルフィルムが通過するように配置し、下方の蒸発源73から蒸着するもので、この時、蒸着領域を決めるためのマスク72を配置している。蒸着後、巻きとり室703でフィルムを巻き取るものである。この蒸着装置を用い、実施例1と同様に蒸着を行った。
In FIG. 1,
(Comparative Example 1)
In Comparative Example 1, ten sheets were prepared in the same manner except that the
(Example 2)
In Example 2, the flexible transparent substrate in Example 1 was prepared in the same manner except that it was a roll shape (width 300 mm, thickness 120 μm, length 100 m) with respect to the single wafer shape. The roll-to-roll
また、スペーサ散布装置80は、図7に示すものを用いた。陽極2の蒸着を終えたロール状の基体1を供給室801にセットし、散布802で固定台83の上方をフィルムが通過するように配置し、ノズル81より、スペーサ液を散布する。その後、焼成室803において、スペーサ6を固着した後、巻きとり室804において、巻き取った。
Moreover, the spacer dispersion | distribution apparatus 80 used what is shown in FIG. The roll-shaped substrate 1 on which the
陰極4を形成後のロール状の基板1を枚葉形状に切断し、実施例1と同様にして封止処理をすることで有機ELパネルを作成した。
(比較例2)
比較例2においては、実施例2におけるスペーサの散布、乾燥工程をしなかった以外は、実施例2と同様に作成した。
(実施例3)
実施例3においては、実施例2における球状のスペーサに替えて、柱状の樹脂構造物をスクリーン印刷した他は、同様に作成した。図8に用いたスクリーン印刷装置を示す。印刷室902でメタル版91を塗布ブレード92で基体1に密着させた状態で、ポリウレタンペーストをスクリーン印刷した。オーブンで焼成した後、直径50μm、高さ5μm、縦横のピッチが300μmとなる円柱状の樹脂構造物を作成した。
The roll-shaped substrate 1 after forming the
(Comparative Example 2)
Comparative Example 2 was prepared in the same manner as in Example 2 except that the spacer dispersion and drying steps in Example 2 were not performed.
(Example 3)
In Example 3, it replaced with the spherical spacer in Example 2, and produced similarly except having screen-printed the columnar resin structure. FIG. 8 shows the screen printing apparatus used. A polyurethane paste was screen-printed with the
陰極4を形成後、ロール状の基板1を枚葉形状に切断し、実施例2と同様にして封止処理をすることで有機ELパネルを作成した。
After forming the
以上のようにして実施例1〜3と比較例1、2作成したそれぞれ10枚の有機ELパネルを発光させたところ、表1のような結果となった。 When 10 organic EL panels prepared in Examples 1 to 3 and Comparative Examples 1 and 2 were made to emit light as described above, the results shown in Table 1 were obtained.
ここで、画素欠陥とは、画素として発光しなかった欠陥であり、ライン欠陥とは、ライン状に発光しなかった欠陥である。また、10枚のパネルで画素欠陥、ライン欠陥ともに1カ所でもあれば有りとした。 Here, the pixel defect is a defect that does not emit light as a pixel, and the line defect is a defect that does not emit light in a line shape. In addition, if there are at least one pixel defect and line defect in 10 panels, it is considered to be present.
このようにスペーサを配置する構成とすることで、傷の発生が少なく、画素欠陥、ライン欠陥のない良好な有機ELパネルを作成することができる。 By adopting a configuration in which the spacers are arranged in this way, it is possible to create a good organic EL panel with few scratches and no pixel defects or line defects.
1 透明基板
2 陽極
3 有機層
30 発光層
31 正孔輸送層
32 正孔阻止層
33 電子輸送層
4 陰極
5 封止缶
51 補水剤
52 接着剤
6 スペーサ
8 電源ユニット
9 制御用IC
10 接着層
11 光学素子
70 ロールツウロール用蒸着装置
71、83、93 固定版
72 マスク
73 蒸発源
701、801、901 供給室
702 蒸着室
703、804、904 巻きとり室
80 スペーサ散布装置
81 ノズル
802 散布室
803、903 焼成室
90 スクリーン印刷装置
91 メタル版
92 塗布ブレード
902 印刷室
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1
DESCRIPTION OF
Claims (10)
フレキシブル基体に第1の電極を形成する工程と、
前記第1の電極を形成する工程の後に、前記発光面にスペーサを形成する工程と、
前記スペーサを形成する工程の後に、有機層を形成する工程と、
第2の電極を形成する工程とを含むことを特徴とする有機EL素子の製造方法。 In the method for producing an organic EL element having a light emitting surface formed on a flexible substrate,
Forming a first electrode on a flexible substrate;
After the step of forming the first electrode, forming a spacer on the light emitting surface;
A step of forming an organic layer after the step of forming the spacer;
And a step of forming a second electrode. A method of manufacturing an organic EL element, comprising:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006063855A JP2007242442A (en) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006063855A JP2007242442A (en) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007242442A true JP2007242442A (en) | 2007-09-20 |
Family
ID=38587766
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006063855A Pending JP2007242442A (en) | 2006-03-09 | 2006-03-09 | Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2007242442A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011060551A (en) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | Organic electroluminescence device and method of manufacturing the same |
-
2006
- 2006-03-09 JP JP2006063855A patent/JP2007242442A/en active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011060551A (en) * | 2009-09-09 | 2011-03-24 | Fujifilm Corp | Organic electroluminescence device and method of manufacturing the same |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7511423B2 (en) | Organic light emitting device (OLED) and white light emitting device | |
JP5228268B2 (en) | Organic electroluminescence element and liquid crystal display device | |
JP2007220646A (en) | Organic electroluminescent element | |
US8029684B2 (en) | Self-emission panel and method of manufacturing the same | |
CN1700815A (en) | Display device | |
JP2006114506A (en) | Laser thermal transfer device, manufacturing method for organic electroluminescent element, and organic electroluminescent element | |
US8409788B2 (en) | Laser induced thermal imaging method, method of patterning organic layer using the same and method of fabricating organic light emitting diode display device using the same | |
WO2016027620A1 (en) | Transparent electrode, method for producing transparent electrode and electronic device | |
JP2009146715A (en) | Donor substrate, and manufacturing method for display device | |
JP4213169B2 (en) | Organic EL light emitting device and light emitting device using the same | |
US20080268567A1 (en) | Method for fabricating organic light emitting display | |
JP2007194061A (en) | Organic electroluminescent element and manufacturing method of the same | |
JP2010062012A (en) | Method for manufacturing organic electroluminescent element and organic electroluminescent element | |
JP2003297569A (en) | Manufacturing method and manufacturing device of display device | |
JP2003229269A (en) | Organic el element | |
JP2007242442A (en) | Organic el element, manufacturing method of organic el element, and organic el panel | |
JP2006269247A (en) | Organic electroluminescent element and its manufacturing method | |
TWI389593B (en) | Method of producing organic light emitting apparatus | |
JP2009212079A (en) | Organic electroluminescent element, repairing device and its repairing method for organic electroluminescent element | |
US20080268136A1 (en) | Method of producing organic light emitting apparatus | |
JP4677817B2 (en) | ORGANIC EL DEVICE, METHOD FOR MANUFACTURING ORGANIC EL DEVICE, AND ELECTRONIC DEVICE USING THE SAME | |
JP2007200801A (en) | Top-emission type organic electroluminescent element | |
JP2007026932A (en) | Luminescent panel | |
JP5772826B2 (en) | Method for manufacturing organic electroluminescence element | |
JP2004160296A (en) | Film forming apparatus, film forming method, electrooptical device and electronic machinery |