JP2007242335A - Manufacturing method of organic el device, and manufacturing apparatus of organic el device - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of an organic EL device capable of improving light-emitting lifetime and luminous efficiency. <P>SOLUTION: The manufacturing method of an organic EL device having an electron block layer 65 and a luminous layer on a substrate 2 comprises a process of forming the electron block layer 65 by coating a material liquid of the electron block layer 65, a process in which (a) a solvent 91 of the electron block layer is dropped on the surface of the electron block layer 65 and (b) by rotating the substrate 2, the solvent 91 is coated, and a process in which (c) within five minutes after the solvent is coated, a material liquid 92 of the luminous layer is coated on the surface of the electron block layer 65. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置の製造方法および有機EL装置の製造装置に関するものである。   The present invention relates to an organic EL device manufacturing method and an organic EL device manufacturing apparatus.

有機EL素子を整列配置した有機EL装置が開発されている。有機EL素子は、陽極と陰極との間に有機発光層を備えたものであり、陽極から供給された正孔と陰極から供給された電子とが発光層で再結合して発光するようになっている。なお陽極から発光層への正孔注入効率を向上させるため、陽極の表面に正孔注入層が形成されている。また、陰極から供給された電子が発光層を通過するのを防止するため、正孔注入層の表面に電子ブロック層が形成されている(例えば、特許文献1ないし3参照)。
特開2001−203081号公報 特開2002−175887号公報 特開2005−302443号公報
An organic EL device in which organic EL elements are arranged and arranged has been developed. An organic EL element has an organic light emitting layer between an anode and a cathode, and holes supplied from the anode and electrons supplied from the cathode recombine in the light emitting layer to emit light. ing. In order to improve the hole injection efficiency from the anode to the light emitting layer, a hole injection layer is formed on the surface of the anode. In order to prevent electrons supplied from the cathode from passing through the light emitting layer, an electron blocking layer is formed on the surface of the hole injection layer (see, for example, Patent Documents 1 to 3).
JP 2001-203081 A JP 2002-175887 A JP 2005-302443 A

有機EL装置には、発光寿命の向上が求められている。また、駆動電流および駆動電圧の低下による発光効率の向上が求められている。
そこで本発明は、発光寿命および発光効率を向上させることが可能な有機EL装置の製造方法および有機EL装置の製造装置の提供を目的とする。
An organic EL device is required to have an improved emission lifetime. Further, there is a demand for improvement in light emission efficiency due to a decrease in driving current and driving voltage.
Accordingly, an object of the present invention is to provide an organic EL device manufacturing method and an organic EL device manufacturing apparatus capable of improving the light emission lifetime and the light emission efficiency.

上記目的を達成するため、本発明に係る有機EL装置の製造方法は、基板上に第1有機膜および第2有機膜を備えた有機EL装置の製造方法であって、前記第1有機膜の材料液を塗布して、前記第1有機膜を形成する工程と、前記第1有機膜の表面に、有機溶媒を塗布する工程と、前記溶媒を塗布してから10分以内に、前記第1有機膜の表面に、前記第2有機膜の材料液を塗布する工程と、を有することを特徴とする。
この構成によれば、大気中の分子が第1有機膜に侵入するのを抑制することが可能になり、第1有機膜の正孔輸送機能の低下を防止することができる。これにより、同じ発光輝度を得るために大きな駆動電流および駆動電圧を印加する必要がなくなり、有機EL装置の発光寿命および発光効率を向上させることができる。
In order to achieve the above object, a method of manufacturing an organic EL device according to the present invention is a method of manufacturing an organic EL device including a first organic film and a second organic film on a substrate, the method comprising: Applying the material liquid to form the first organic film, applying the organic solvent to the surface of the first organic film, and within 10 minutes after applying the solvent, Applying a material liquid for the second organic film to the surface of the organic film.
According to this configuration, it is possible to prevent molecules in the atmosphere from entering the first organic film, and it is possible to prevent a decrease in the hole transport function of the first organic film. Thereby, it is not necessary to apply a large drive current and drive voltage to obtain the same light emission luminance, and the light emission life and light emission efficiency of the organic EL device can be improved.

また前記第2有機膜の材料液を塗布する工程では、前記溶媒を塗布してから5分以内に、前記第1有機膜の表面に前記第2有機膜の材料液を塗布することが望ましい。
この構成によれば、有機EL装置の駆動電流、駆動電圧および発光寿命のばらつきを抑制することができる。
In the step of applying the material liquid of the second organic film, it is desirable to apply the material liquid of the second organic film to the surface of the first organic film within 5 minutes after applying the solvent.
According to this configuration, it is possible to suppress variations in the drive current, drive voltage, and light emission lifetime of the organic EL device.

また前記溶媒を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面に前記溶媒を滴下し、前記基板を面内で回転させることによって行い、前記第2有機膜の材料液を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面に第2有機膜の材料液を滴下し、前記基板を面内で回転させることによって行うことが望ましい。
なお「基板を面内で回転させる」とは、基板の表面を含む面内でその表面が回転するように基板を回転させることをいう。
この構成によれば、溶媒および第2有機膜の材料液を均一に塗り広げることができる。
The step of applying the solvent is performed by dropping the solvent on the surface of the first organic film and rotating the substrate in a plane, and the step of applying the material liquid of the second organic film includes the step of It is desirable to carry out by dropping the material liquid of the second organic film on the surface of the first organic film and rotating the substrate in the plane.
“Rotating the substrate in the plane” means rotating the substrate so that the surface rotates in a plane including the surface of the substrate.
According to this configuration, the solvent and the material liquid of the second organic film can be uniformly spread.

また前記溶媒を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面全体を前記溶媒で浸した後に、前記基板を面内で回転させることによって行うことが望ましい。
この構成によれば、第1有機膜の表面を確実にリンスすることができる。
The step of applying the solvent is preferably performed by rotating the substrate in a plane after the entire surface of the first organic film is immersed in the solvent.
According to this configuration, the surface of the first organic film can be reliably rinsed.

また、前記溶媒を塗布する工程および/または前記第2有機膜の材料液を塗布する工程は、不活性雰囲気中で行うことが望ましい。
この構成によれば、大気中の分子の侵入による第1有機膜の正孔輸送機能の低下を、より確実に防止することが可能になる。したがって、有機EL装置の発光寿命および発光効率をさらに向上させることができる。
The step of applying the solvent and / or the step of applying the material solution of the second organic film is preferably performed in an inert atmosphere.
According to this configuration, it is possible to more reliably prevent a decrease in the hole transport function of the first organic film due to intrusion of molecules in the atmosphere. Therefore, the light emission lifetime and light emission efficiency of the organic EL device can be further improved.

また前記第2有機膜は、発光層であり、前記第1有機膜は、前記第1有機膜の反対側から前記発光層に供給された電子が前記発光層を通過するのを防止する電子ブロック層であってもよい。
この構成によれば、電子ブロック層の正孔輸送機能の低下を防止して、発光層に効率よく正孔を注入することができる。したがって、有機EL装置の発光寿命および発光効率を向上させることができる。
The second organic film is a light emitting layer, and the first organic film is an electronic block that prevents electrons supplied to the light emitting layer from the opposite side of the first organic film from passing through the light emitting layer. It may be a layer.
According to this configuration, the hole transport function of the electron block layer can be prevented from being lowered, and holes can be efficiently injected into the light emitting layer. Therefore, the light emission lifetime and the light emission efficiency of the organic EL device can be improved.

また前記発光層を形成してから、前記発光層の表面に陰極を形成するまでの大気暴露時間が、5分以内であることが望ましい。
この構成によれば、有機EL装置の発光寿命をさらに向上させることができる。
Further, it is desirable that the exposure time in the atmosphere from the formation of the light emitting layer to the formation of the cathode on the surface of the light emitting layer is within 5 minutes.
According to this configuration, the light emission lifetime of the organic EL device can be further improved.

また前記第1有機膜は、発光層であり、前記第2有機膜は、前記第2有機膜の反対側から前記発光層に供給された正孔が前記発光層を通過するのを防止する正孔ブロック層であってもよい。
この構成によっても、有機EL装置の発光寿命および発光効率を向上させることができる。
The first organic film is a light-emitting layer, and the second organic film is a positive electrode that prevents holes supplied to the light-emitting layer from the opposite side of the second organic film from passing through the light-emitting layer. It may be a hole blocking layer.
Also with this configuration, the light emission life and light emission efficiency of the organic EL device can be improved.

一方、本発明に係る有機EL装置の製造装置は、基板上に第1有機膜および第2有機膜を備えた有機EL装置の製造装置であって、前記基板を載置しつつ、前記基板を面内で回転させるステージと、前記基板上に前記第1有機膜の溶媒を滴下する第1滴下装置と、前記基板上に前記第2有機膜の材料液を滴下する第2滴下装置と、を備えたことを特徴とする。
この構成によれば、第1滴下装置から溶媒を滴下し基板を回転させて溶媒を塗布した後、基板を移動させることなく直ちに、第2滴下装置から第2有機膜の材料液を滴下し基板を回転させて第2有機膜の材料液を塗布することができる。したがって、溶媒を塗布してから5分以内に、第1有機膜の表面に第2有機膜の材料液を塗布することができる。
Meanwhile, an organic EL device manufacturing apparatus according to the present invention is an organic EL device manufacturing apparatus including a first organic film and a second organic film on a substrate, and the substrate is mounted while the substrate is placed thereon. A stage that rotates in-plane, a first dropping device that drops the solvent of the first organic film on the substrate, and a second dropping device that drops the material liquid of the second organic film on the substrate. It is characterized by having.
According to this configuration, after dropping the solvent from the first dropping device and rotating the substrate to apply the solvent, the material liquid of the second organic film is immediately dropped from the second dropping device without moving the substrate. Can be rotated to apply the material liquid of the second organic film. Therefore, the material liquid of the second organic film can be applied to the surface of the first organic film within 5 minutes after applying the solvent.

また前記有機EL装置の製造装置は、不活性雰囲気に配置可能とされていることが望ましい。
この構成によれば、溶媒の塗布工程および第2有機膜の材料液の塗布工程において、大気中の分子が第1有機膜に侵入するのを防止することができる。したがって、有機EL装置の発光寿命および発光効率をさらに向上させることができる。
Further, it is desirable that the manufacturing apparatus for the organic EL device can be disposed in an inert atmosphere.
According to this configuration, it is possible to prevent molecules in the atmosphere from entering the first organic film in the solvent application process and the material liquid application process of the second organic film. Therefore, the light emission lifetime and light emission efficiency of the organic EL device can be further improved.

以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、以下で参照する各図面においては、理解を容易にするために、各構成要素の寸法等を適宜変更して表示している。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. In each drawing referred to below, the dimensions and the like of each component are appropriately changed and displayed for easy understanding.

(有機EL装置)
図1は、実施形態に係る有機EL装置の側面断面図である。有機EL装置1は、素子基板2と、素子基板2の表面に配設された駆動回路部5と、駆動回路部5の表面に配設された複数の有機EL素子3と、有機EL素子3を封止する封止基板30とを主として構成されている。この有機EL素子3は、素子基板2に垂直な方向から見て略円形状や略長円形状等に形成されている。本実施形態では、有機EL素子3における発光光を素子基板2側から取り出すボトムエミッション型の有機EL装置1を例にして説明する。
(Organic EL device)
FIG. 1 is a side sectional view of an organic EL device according to an embodiment. The organic EL device 1 includes an element substrate 2, a drive circuit unit 5 disposed on the surface of the element substrate 2, a plurality of organic EL elements 3 disposed on the surface of the drive circuit unit 5, and an organic EL element 3 The sealing substrate 30 is mainly configured. The organic EL element 3 is formed in a substantially circular shape, a substantially oval shape, or the like when viewed from a direction perpendicular to the element substrate 2. In the present embodiment, a bottom emission type organic EL device 1 that extracts emitted light from the organic EL element 3 from the element substrate 2 side will be described as an example.

ボトムエミッション型の有機EL装置1では、発光層60における発光光を素子基板2側から取り出すので、素子基板2としては透明あるいは半透明のものが採用される。例えば、ガラスや石英、樹脂(プラスチック、プラスチックフィルム)等を用いることが可能であり、特にガラス基板が好適に用いられる。   In the bottom emission type organic EL device 1, light emitted from the light emitting layer 60 is extracted from the element substrate 2 side, and therefore, the element substrate 2 is transparent or semitransparent. For example, glass, quartz, resin (plastic, plastic film) or the like can be used, and a glass substrate is particularly preferably used.

素子基板2上には、有機EL素子3の駆動用TFT123(駆動素子4)などを含む駆動回路部5が形成されている。なお、駆動回路を備えたICチップを素子基板2に実装して有機EL装置を構成することも可能である。   On the element substrate 2, a drive circuit unit 5 including a drive TFT 123 (drive element 4) of the organic EL element 3 is formed. Note that an organic EL device can be configured by mounting an IC chip having a drive circuit on the element substrate 2.

駆動回路部5の具体的な構成として、素子基板2の表面に絶縁材料からなる下地保護層281が形成され、その上に半導体材料であるシリコン層241が形成されている。このシリコン層241の表面には、SiO及び/又はSiNを主体とするゲート絶縁層282が形成されている。そのゲート絶縁層282の表面には、ゲート電極242が形成されている。このゲート電極242は、図示しない走査線の一部によって構成されている。なお前記シリコン層241のうち、ゲート絶縁層282を挟んでゲート電極242と対向する領域がチャネル領域241aとされている。一方、ゲート電極242およびゲート絶縁層282の表面には、SiOを主体とする第1層間絶縁層283が形成されている。 As a specific configuration of the drive circuit unit 5, a base protective layer 281 made of an insulating material is formed on the surface of the element substrate 2, and a silicon layer 241 that is a semiconductor material is formed thereon. A gate insulating layer 282 mainly composed of SiO 2 and / or SiN is formed on the surface of the silicon layer 241. A gate electrode 242 is formed on the surface of the gate insulating layer 282. The gate electrode 242 is constituted by a part of a scanning line (not shown). Of the silicon layer 241, a region facing the gate electrode 242 with the gate insulating layer 282 interposed therebetween is a channel region 241a. On the other hand, a first interlayer insulating layer 283 mainly composed of SiO 2 is formed on the surfaces of the gate electrode 242 and the gate insulating layer 282.

またシリコン層241のうち、チャネル領域241aの一方側には低濃度ソース領域241bおよび高濃度ソース領域241Sが設けられ、チャネル領域241aの他方側には低濃度ドレイン領域241cおよび高濃度ドレイン領域241Dが設けられて、いわゆるLDD(Lightly Doped Drain )構造となっている。これらのうち、高濃度ソース領域241Sは、ゲート絶縁層282および第1層間絶縁層283を貫通するコンタクトホール243aを介して、ソース電極243に接続されている。このソース電極243は、図示しない電源線の一部によって構成されている。一方、高濃度ドレイン領域241Dは、ゲート絶縁層282および第1層間絶縁層283を貫通するコンタクトホール244aを介して、ソース電極243と同層に配置されたドレイン電極244に接続されている。   Further, in the silicon layer 241, a low concentration source region 241b and a high concentration source region 241S are provided on one side of the channel region 241a, and a low concentration drain region 241c and a high concentration drain region 241D are provided on the other side of the channel region 241a. A so-called LDD (Lightly Doped Drain) structure is provided. Among these, the high-concentration source region 241S is connected to the source electrode 243 through a contact hole 243a penetrating the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283. The source electrode 243 is configured by a part of a power supply line (not shown). On the other hand, the high concentration drain region 241D is connected to a drain electrode 244 disposed in the same layer as the source electrode 243 through a contact hole 244a that penetrates the gate insulating layer 282 and the first interlayer insulating layer 283.

上述したソース電極243およびドレイン電極244、並びに第1層間絶縁層283の上層には、アクリル系やポリイミド系等の耐熱性絶縁性樹脂材料などを主体とする平坦化膜284が形成されている。この平坦化膜284は、駆動用TFT123(駆動素子4)やソース電極243、ドレイン電極244などによる表面の凹凸をなくすために形成されたものである。   Over the source electrode 243 and the drain electrode 244 and the first interlayer insulating layer 283 described above, a planarizing film 284 mainly composed of a heat-resistant insulating resin material such as acrylic or polyimide is formed. The planarizing film 284 is formed to eliminate surface irregularities due to the driving TFT 123 (driving element 4), the source electrode 243, the drain electrode 244, and the like.

そして、平坦化膜284の表面における有機EL素子3の形成領域には、複数の画素電極23が配列形成されている。この画素電極23は、該平坦化膜284に設けられたコンタクトホール23aを介して、ドレイン電極244に接続されている。すなわち画素電極23は、ドレイン電極244を介して、シリコン層241の高濃度ドレイン領域241Dに接続されている。   A plurality of pixel electrodes 23 are arranged in the formation region of the organic EL element 3 on the surface of the planarizing film 284. The pixel electrode 23 is connected to the drain electrode 244 through a contact hole 23 a provided in the planarizing film 284. That is, the pixel electrode 23 is connected to the high concentration drain region 241D of the silicon layer 241 through the drain electrode 244.

また、平坦化膜284の表面において画素電極23を囲うように、SiO等の無機絶縁材料からなる無機隔壁25が形成されている。この無機隔壁25の開口部から露出した画素電極23の表面に、複数の機能膜が積層形成されて、有機EL素子3が構成されている。本実施形態の有機EL素子3は、陽極として機能する画素電極23と、この画素電極23からの正孔を注入/輸送する正孔注入層70と、有機EL物質からなる発光層60と、陰極50として機能する共通電極とを積層して構成されている。また陰極50から供給された電子が発光層60を通過するのを防止する電子ブロック層65が、発光層60と正孔注入層70との間に形成されている。 In addition, an inorganic partition wall 25 made of an inorganic insulating material such as SiO 2 is formed so as to surround the pixel electrode 23 on the surface of the planarizing film 284. A plurality of functional films are laminated on the surface of the pixel electrode 23 exposed from the opening of the inorganic partition wall 25 to constitute the organic EL element 3. The organic EL element 3 of the present embodiment includes a pixel electrode 23 that functions as an anode, a hole injection layer 70 that injects / transports holes from the pixel electrode 23, a light-emitting layer 60 that is made of an organic EL material, a cathode A common electrode functioning as 50 is laminated. In addition, an electron blocking layer 65 that prevents electrons supplied from the cathode 50 from passing through the light emitting layer 60 is formed between the light emitting layer 60 and the hole injection layer 70.

ボトムエミッション型の有機EL装置1の場合、陽極として機能する画素電極23は、透明導電材料によって形成されている。その透明導電性材料として、ITO(インジウム錫酸化物)や、IZO(登録商標、インジウム亜鉛酸化物)等を採用することが可能である。そのうちITOは、酸化インジウム(In)に錫(Sn)をドープした材料等で構成されている。 In the case of the bottom emission type organic EL device 1, the pixel electrode 23 that functions as an anode is formed of a transparent conductive material. As the transparent conductive material, ITO (indium tin oxide), IZO (registered trademark, indium zinc oxide), or the like can be used. Among them, ITO is composed of a material in which indium oxide (In 2 O 3 ) is doped with tin (Sn).

また正孔注入層70の形成材料として、3,4−ポリエチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルフォン酸(PEDOT/PSS)の分散液が好適に用いられる。このPEDOT/PSSは、分散媒としてのポリスチレンスルフォン酸に、ポリチオフェン誘導体である3,4−ポリエチレンジオキシチオフェンを分散させ、さらにこれを水に分散させたものである。
なお、正孔注入層70の形成材料としては、前記のものに限定されることなく種々のものが使用可能である。例えば、ポリスチレン、ポリピロール、ポリアニリン、ポリアセチレンやその誘導体などを、適宜な分散媒、例えば前記のポリスチレンスルフォン酸に分散させたものなどを使用することができる。
As a material for forming the hole injection layer 70, a dispersion of 3,4-polyethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) is preferably used. This PEDOT / PSS is obtained by dispersing 3,4-polyethylenedioxythiophene, which is a polythiophene derivative, in polystyrene sulfonic acid as a dispersion medium and further dispersing it in water.
The material for forming the hole injection layer 70 is not limited to those described above, and various materials can be used. For example, a material obtained by dispersing polystyrene, polypyrrole, polyaniline, polyacetylene or a derivative thereof in an appropriate dispersion medium such as the above-described polystyrene sulfonic acid can be used.

なお、正孔注入層70の表面に正孔輸送層を設けてもよい。正孔輸送層は正孔注入層70と発光層60の間に形成され、正孔注入層70から発光層60へのホール輸送を補助する役割があるので好適である。この正孔輸送層の構成材料として、化学式1で示される(poly(2,7-(9,9-di-n-octylfluorene)-alt-(1,4-phenylene-((4-sec-butylphenyl)imino-1,4-phenylene))))を採用することが望ましい。   A hole transport layer may be provided on the surface of the hole injection layer 70. The hole transport layer is preferably formed between the hole injection layer 70 and the light emitting layer 60 and has a role of assisting hole transport from the hole injection layer 70 to the light emitting layer 60. The constituent material of this hole transport layer is represented by chemical formula 1 (poly (2,7- (9,9-di-n-octylfluorene) -alt- (1,4-phenylene-((4-sec-butylphenyl ) imino-1,4-phenylene)))) is desirable.

Figure 2007242335
Figure 2007242335

電子ブロック層65は、陰極から供給された電子が発光層60を通り抜けるのを防止して、発光層60における電子と正孔との再結合を促進させ、発光効率を向上させる機能を有する。また電子ブロック層65は、陰極から供給された電子が発光層60を通り抜け正孔注入層70において正孔と再結合するのを防止することにより、正孔注入層70の耐久性を向上させる機能を有する。この電子ブロック層65の構成材料は、正孔輸送層の構成材料と同様であるが、正孔輸送層には相対的に正孔を輸送する機能が高い材料を採用し、電子ブロック層65には相対的に電子の移動を抑制する機能が高い材料を採用することが望ましい。   The electron blocking layer 65 has a function of preventing electrons supplied from the cathode from passing through the light emitting layer 60, promoting recombination of electrons and holes in the light emitting layer 60, and improving light emission efficiency. The electron blocking layer 65 also functions to improve the durability of the hole injection layer 70 by preventing electrons supplied from the cathode from passing through the light emitting layer 60 and recombining with holes in the hole injection layer 70. Have The constituent material of the electron block layer 65 is the same as the constituent material of the hole transport layer, but a material having a relatively high function of transporting holes is adopted for the hole transport layer. It is desirable to adopt a material having a relatively high function of suppressing the movement of electrons.

一方、発光層60を形成するための材料としては、蛍光あるいは燐光を発光することが可能な公知の発光材料が用いられる。具体的には、(ポリ)フルオレン誘導体(PF)、(ポリ)パラフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリフェニレン誘導体(PP)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリチオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などが好適に用いられる。また、これらの高分子材料に、ペリレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色素などの高分子系材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6、キナクリドン等の低分子材料をドープして用いることもできる。   On the other hand, as a material for forming the light emitting layer 60, a known light emitting material capable of emitting fluorescence or phosphorescence is used. Specifically, (poly) fluorene derivative (PF), (poly) paraphenylene vinylene derivative (PPV), polyphenylene derivative (PP), polyparaphenylene derivative (PPP), polyvinyl carbazole (PVK), polythiophene derivative, polymethyl Polysilanes such as phenylsilane (PMPS) are preferably used. In addition, these polymer materials include polymer materials such as perylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene, tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, and quinacridone. It can also be used by doping a low molecular weight material such as.

なお、赤色の発光層60の形成材料としては例えばMEHPPV(ポリ(3−メトキシ6−(3−エチルヘキシル)パラフェニレンビニレン)を、緑色の発光層60の形成材料としては例えばポリジオクチルフルオレンとF8BT(ジオクチルフルオレンとベンゾチアジアゾールの交互共重合体)の混合溶液を、青色の発光層60の形成材料としては例えばポリジオクチルフルオレンを用いる場合がある。また、このような発光層60については、特にその厚さについては制限がなく、各色毎に好ましい膜厚が調整されている。   For example, MEHPPV (poly (3-methoxy6- (3-ethylhexyl) paraphenylenevinylene) is used as a material for forming the red light-emitting layer 60, and polydioctylfluorene and F8BT (for example) are used as a material for forming the green light-emitting layer 60. For example, polydioctylfluorene may be used as a material for forming the blue light-emitting layer 60 in a mixed solution of dioctylfluorene and benzothiadiazole). There is no limitation on the thickness, and a preferable film thickness is adjusted for each color.

なお、発光層60の表面に正孔ブロック層を設けてもよい。正孔ブロック層は、謡曲から供給された正孔が発光層60を通り抜けるのを防止して、発光層60における電子と正孔との再結合を促進させ、発光効率を向上させる機能を有する。この正孔ブロック層の構成材料として、フルオレン等を採用することが可能である。   A hole blocking layer may be provided on the surface of the light emitting layer 60. The hole blocking layer has a function of preventing holes supplied from the fold from passing through the light emitting layer 60, promoting recombination of electrons and holes in the light emitting layer 60, and improving light emission efficiency. Fluorene or the like can be employed as a constituent material of the hole blocking layer.

陰極50は、主陰極および補助陰極の積層構造とすることが望ましい。その主陰極として、仕事関数が3.0eV以下のCaやMg、LiF等の材料を採用することが望ましい。これにより、主陰極に電子注入層としての機能が付与されるので、低電圧で発光層を発光させることができる。また補助陰極は、陰極50全体の導電性を高めるとともに、主陰極を酸素や水分等から保護する機能を有している。そのため補助陰極として、導電性に優れたAlやAu、Ag等の金属材料を採用することが望ましい。   The cathode 50 preferably has a laminated structure of a main cathode and an auxiliary cathode. As the main cathode, it is desirable to employ a material such as Ca, Mg, LiF having a work function of 3.0 eV or less. Thereby, since the function as an electron injection layer is provided to the main cathode, the light emitting layer can emit light at a low voltage. The auxiliary cathode has functions of enhancing the conductivity of the entire cathode 50 and protecting the main cathode from oxygen and moisture. Therefore, it is desirable to employ a metal material such as Al, Au, or Ag having excellent conductivity as the auxiliary cathode.

一方、陰極50の上方には、接着層40を介して封止基板30が貼り合わされている。なお、陰極50の全体を覆う封止キャップを素子基板2の周縁部に固着し、その封止キャップの内側に水分や酸素等を吸収するゲッター剤を配置してもよい。また、陰極50の表面にSiO等からなる無機封止膜を積層形成してもよい。 On the other hand, the sealing substrate 30 is bonded to the upper side of the cathode 50 via the adhesive layer 40. A sealing cap that covers the entire cathode 50 may be fixed to the periphery of the element substrate 2, and a getter agent that absorbs moisture, oxygen, or the like may be disposed inside the sealing cap. Further, an inorganic sealing film made of SiO 2 or the like may be laminated on the surface of the cathode 50.

上述した有機EL装置1では、駆動回路部5のソース電極243から供給された画像信号が、駆動素子4により所定のタイミングで画素電極23に印加される。そして、その画素電極23から注入された正孔と、陰極50から注入された電子とが、発光層60で再結合して所定波長の光が放出される。その発光光は、透明材料からなる画素電極23、駆動回路部5および素子基板2を透過して外部に取り出される。なお、無機隔壁25は絶縁材料で構成されているので、無機隔壁25の開口部の内側のみに電流が流れて発光層60が発光する。そのため、無機隔壁25の開口部の内側が有機EL素子3の画素領域となっている。   In the organic EL device 1 described above, the image signal supplied from the source electrode 243 of the drive circuit unit 5 is applied to the pixel electrode 23 by the drive element 4 at a predetermined timing. Then, the holes injected from the pixel electrode 23 and the electrons injected from the cathode 50 are recombined in the light emitting layer 60 and light having a predetermined wavelength is emitted. The emitted light passes through the pixel electrode 23 made of a transparent material, the drive circuit unit 5 and the element substrate 2 and is extracted outside. Since the inorganic partition wall 25 is made of an insulating material, a current flows only inside the opening of the inorganic partition wall 25 and the light emitting layer 60 emits light. Therefore, the inside of the opening of the inorganic partition wall 25 is a pixel region of the organic EL element 3.

(有機EL装置の製造方法)
次に、本実施形態に係る有機EL装置の製造方法について説明する。
図2ないし図4は、実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。なお図2ないし図4では、理解を容易にするため、図1の駆動回路部5の記載を省略している。
(Method for manufacturing organic EL device)
Next, a method for manufacturing the organic EL device according to this embodiment will be described.
2 to 4 are process diagrams of the method for manufacturing the organic EL device according to the embodiment. 2 to 4, the description of the drive circuit unit 5 of FIG. 1 is omitted for easy understanding.

まず図2(a)に示すように、画素電極23の周囲に無機隔壁25を形成する。次に、超純水を用いて基板2の表面の超音波洗浄を行う。次に、画素電極23の表面の親液化処理として、酸素ガス等を用いた大気圧プラズマ処理を行う。そして、画素電極23および無機隔壁25の表面全体に、液相プロセスにより正孔注入層70を形成する。具体的には、まず正孔注入層70の材料液を、スピンコート法やスプレーコート法、ディッピング法等により基板2の全体に塗布する。次に、その塗布膜を加熱して乾燥させ、膜中に含まれる水分を除去する。例えば、大気中にて180℃で15分間の加熱処理を施す。   First, as shown in FIG. 2A, an inorganic partition wall 25 is formed around the pixel electrode 23. Next, ultrasonic cleaning of the surface of the substrate 2 is performed using ultrapure water. Next, atmospheric pressure plasma treatment using oxygen gas or the like is performed as a lyophilic treatment on the surface of the pixel electrode 23. Then, the hole injection layer 70 is formed on the entire surface of the pixel electrode 23 and the inorganic partition wall 25 by a liquid phase process. Specifically, first, the material liquid for the hole injection layer 70 is applied to the entire substrate 2 by spin coating, spray coating, dipping, or the like. Next, the coating film is heated and dried to remove moisture contained in the film. For example, heat treatment is performed at 180 ° C. for 15 minutes in the atmosphere.

次に図2(b)に示すように、電子ブロック層65を液相プロセスにより形成する。具体的には、まず電子ブロック層65の材料であるTFBの液状体を、スピンコート法やスプレーコート法、ディッピング法等により基板2の全体に塗布する。   Next, as shown in FIG. 2B, the electron block layer 65 is formed by a liquid phase process. Specifically, first, a TFB liquid material which is a material of the electron blocking layer 65 is applied to the entire substrate 2 by a spin coating method, a spray coating method, a dipping method, or the like.

次に図2(c)に示すように、電子ブロック層65を乾燥させる。この乾燥工程は、Nグローブボックス15の内部で行う。Nグローブボックス15は、内部に基板2を配置しうるチャンバ16と、チャンバ16内へのNガスの供給装置17と、チャンバ16内の排気装置18と、基板2の加熱装置(ホットプレート等)19とを備えている。このNガスの供給装置17により、チャンバ16内の空気をNガスで置換しうるようになっている。 Next, as shown in FIG. 2C, the electron block layer 65 is dried. This drying step is performed inside the N 2 glove box 15. The N 2 glove box 15 includes a chamber 16 in which the substrate 2 can be disposed, an N 2 gas supply device 17 into the chamber 16, an exhaust device 18 in the chamber 16, and a heating device (hot plate) for the substrate 2. Etc.) 19. The N 2 gas supply device 17 can replace the air in the chamber 16 with N 2 gas.

このNグローブボックス15のチャンバ16内に、電子ブロック層65の材料液が塗布された基板2を配置する。次に、チャンバ16内をNガスで置換し、チャンバ16内における水分および酸素の濃度を1ppm以下まで低下させる。次に、加熱装置19により基板2を加熱して塗布膜を乾燥させる。例えば、200℃で15分間の加熱処理を行う。これにより、電子ブロック層の形成材料が架橋されて溶媒に対する不溶成分が生成され、電子ブロック層65が形成される。 In the chamber 16 of the N 2 glove box 15, the substrate 2 on which the material liquid for the electronic block layer 65 is applied is disposed. Next, the inside of the chamber 16 is replaced with N 2 gas, and the concentration of moisture and oxygen in the chamber 16 is reduced to 1 ppm or less. Next, the substrate 2 is heated by the heating device 19 to dry the coating film. For example, heat treatment is performed at 200 ° C. for 15 minutes. As a result, the electron blocking layer forming material is cross-linked to generate an insoluble component in the solvent, and the electron blocking layer 65 is formed.

次に図3(a)に示すように、基板2上に溶媒91を塗布する。この塗布工程は、図5に示す有機EL装置の製造装置(スピンコータ)を用いて行う。
図5は、有機EL装置の製造装置(スピンコータ)の概略構成図である。このスピンコータ80は、基板2を載置するステージ81を備えている。このステージ81は、モータ等により回転可能とされている。これによりステージ81は、載置した基板2をその面内で回転しうるようになっている。なお「基板を面内で回転させる」とは、基板の表面を含む面内でその表面が回転するように基板を回転させることをいう。またステージ81の周囲にはカップ82が配置されている。このカップ82は、少なくともステージ81の下方および側方を覆うように配置されている。
Next, as shown in FIG. 3A, a solvent 91 is applied on the substrate 2. This coating process is performed using an organic EL device manufacturing apparatus (spin coater) shown in FIG.
FIG. 5 is a schematic configuration diagram of an organic EL device manufacturing apparatus (spin coater). The spin coater 80 includes a stage 81 on which the substrate 2 is placed. The stage 81 can be rotated by a motor or the like. Thereby, the stage 81 can rotate the mounted substrate 2 within the plane. “Rotating the substrate in the plane” means rotating the substrate so that the surface rotates in a plane including the surface of the substrate. A cup 82 is disposed around the stage 81. The cup 82 is disposed so as to cover at least the lower side and the side of the stage 81.

またスピンコータ80は、第1液状体の第1滴下装置83および第2液状体の第2滴下装置86を備えている。第1滴下装置83は、主に、滴下すべき第1液状体が貯留されるリザーバ84と、リザーバ84から供給された第1液状体を滴下するノズル85とを備えている。ノズル85は、ステージ81の上方に所定距離を置いて配置され、ステージ81の上方を水平移動しうるようになっている。なお、第2滴下装置86も第1滴下装置83と同様に構成されている。   The spin coater 80 includes a first dropping device 83 for the first liquid material and a second dropping device 86 for the second liquid material. The first dropping device 83 mainly includes a reservoir 84 that stores a first liquid material to be dropped and a nozzle 85 that drops the first liquid material supplied from the reservoir 84. The nozzle 85 is disposed at a predetermined distance above the stage 81 and can move horizontally above the stage 81. Note that the second dropping device 86 is configured in the same manner as the first dropping device 83.

本実施形態では、第1液状体として、キシレンやトルエン、ベンゼン、ヘキサン、シクロヘキサン、テトラデカン、イソオクタン等の有機溶媒を採用する。特に、電子ブロック層の構成材料の溶媒となりうるものを採用することが望ましい。また第1液状体の溶媒として、発光層の材料液に使用する溶媒より低沸点のものを採用することが望ましい。第1液状体の溶媒の沸点が発光層材料液の溶媒の沸点より高いと、第1液状体の溶媒が基板上に残った場合に、発光層材料液の乾燥を阻害することになるからである。   In the present embodiment, an organic solvent such as xylene, toluene, benzene, hexane, cyclohexane, tetradecane, and isooctane is employed as the first liquid. In particular, it is desirable to employ a material that can be a solvent for the constituent material of the electronic block layer. Further, it is desirable to employ a solvent having a lower boiling point than the solvent used in the material liquid of the light emitting layer as the solvent of the first liquid. If the boiling point of the solvent of the first liquid material is higher than the boiling point of the solvent of the light emitting layer material solution, drying of the light emitting layer material solution will be inhibited when the solvent of the first liquid material remains on the substrate. is there.

この第1液状体の溶媒を、予め第1滴下装置83のリザーバ84に充填しておく。
そして図3(a)に示すように、第1液状体の滴下装置のノズル85から、第1液状体である溶媒91を吐出する。溶媒91は、基板2上の複数箇所に所定距離をおいて滴下することが望ましい。
The reservoir of the first dropping device 83 is previously filled with the solvent of the first liquid material.
And as shown to Fig.3 (a), the solvent 91 which is a 1st liquid body is discharged from the nozzle 85 of the dripping apparatus of a 1st liquid body. The solvent 91 is preferably dropped at a predetermined distance at a plurality of locations on the substrate 2.

次に図3(b)に示すように、基板2を回転させて、溶媒91を基板2の表面に均一に塗り広げる。具体的には、図5に示すスピンコータ80のステージ81を回転させて、ステージ81の表面に配置した基板2を回転させる。基板2の端部から放出された溶媒は、カップ82により捕集されて回収される。なお図3(a)に示すように基板2上の複数箇所に溶媒91を滴下しておけば、溶媒91をより均一に塗り広げることができる。なお基板2の表面全体を溶媒91で浸した後に、ステージ81を回転させて溶媒91を振り切るようにすれば、基板2の表面を確実にリンスすることができる。   Next, as shown in FIG. 3B, the substrate 2 is rotated to spread the solvent 91 uniformly on the surface of the substrate 2. Specifically, the stage 81 of the spin coater 80 shown in FIG. 5 is rotated, and the substrate 2 disposed on the surface of the stage 81 is rotated. The solvent released from the end of the substrate 2 is collected by the cup 82 and collected. As shown in FIG. 3A, if the solvent 91 is dropped at a plurality of locations on the substrate 2, the solvent 91 can be spread more uniformly. If the entire surface of the substrate 2 is immersed in the solvent 91 and then the stage 81 is rotated to shake off the solvent 91, the surface of the substrate 2 can be reliably rinsed.

次に図3(c)に示すように、基板2上に発光層の材料液92を塗布する。発光層材料液92の塗布は、図5に示すスピンコータにおける第2液状体の第2滴下装置86を用いて行う。第2液状体として、発光層材料液を予めリザーバ87に充填しておく。そして図3(c)に示すように、第2滴下装置のノズル88から、発光層材料液92を滴下する。これと同時に、スピンコータのステージを回転させて、ステージの表面に配置した基板2を回転させる。これにより、発光層材料液92を基板2の表面に均一に塗り広げる。
ここで、溶媒の塗布が終了してから発光層材料液を塗布するまでの滞留時間は、5分以内とする。その理由は後に詳述する。
Next, as shown in FIG. 3C, a material liquid 92 for the light emitting layer is applied on the substrate 2. The application of the light emitting layer material liquid 92 is performed using the second dropping device 86 for the second liquid material in the spin coater shown in FIG. The light emitting layer material liquid is filled in the reservoir 87 in advance as the second liquid material. And as shown in FIG.3 (c), the light emitting layer material liquid 92 is dripped from the nozzle 88 of a 2nd dripping apparatus. At the same time, the spin coater stage is rotated to rotate the substrate 2 placed on the surface of the stage. Thereby, the light emitting layer material liquid 92 is uniformly spread on the surface of the substrate 2.
Here, the residence time from application of the solvent to application of the light emitting layer material liquid is set to be within 5 minutes. The reason will be described in detail later.

次に図4(a)に示すように、発光層材料液の塗布膜を乾燥させ、発光層60を形成する。この乾燥工程は、Nグローブボックス15の内部で行う。具体的には、Nグローブボックスのチャンバ16内に基板2を配置し、チャンバ16内をN2ガスで置換して、チャンバ16内における水分および酸素の濃度を1ppm以下まで低下させる。次に、基板2を加熱して発光層材料液の塗布膜を乾燥させる。例えば、160℃で30分間の加熱処理を行う。以上により、発光層60が形成される。 Next, as shown in FIG. 4A, the light emitting layer material liquid coating film is dried to form the light emitting layer 60. This drying step is performed inside the N 2 glove box 15. Specifically, the substrate 2 is disposed in the chamber 16 of the N 2 glove box, and the inside of the chamber 16 is replaced with N 2 gas, thereby reducing the concentration of moisture and oxygen in the chamber 16 to 1 ppm or less. Next, the substrate 2 is heated to dry the coating film of the light emitting layer material liquid. For example, heat treatment is performed at 160 ° C. for 30 minutes. Thus, the light emitting layer 60 is formed.

次に図4(b)に示すように、真空蒸着法等により陰極50を形成する。
以上により、本実施形態に係る有機EL装置が形成される。
Next, as shown in FIG. 4B, the cathode 50 is formed by a vacuum deposition method or the like.
Thus, the organic EL device according to this embodiment is formed.

(滞留時間)
本願の発明者は、溶媒の塗布が終了してから発光層材料液を塗布するまでの滞留時間を変化させて有機EL装置を試作し、評価を行った。
図6(a)は、滞留時間が異なる有機EL装置について、同じ発光輝度を得るために必要な駆動電流を測定したグラフであり、図6(b)は駆動電圧を測定したグラフである。図6(a)では、滞留時間の増加とともに駆動電流が上昇している。また図6(b)では、滞留時間の増加とともに駆動電圧も上昇している。その理由は、滞留時間の増加により大気中の分子が電子ブロック層に侵入し、電子ブロック層の正孔輸送機能が低下するからであると推定される。この結果から、滞留時間の増加とともに、有機EL装置の発光効率が低下することが判明した。
(Residence time)
The inventor of the present application prototyped and evaluated the organic EL device by changing the residence time from the end of the application of the solvent to the application of the light emitting layer material liquid.
FIG. 6A is a graph obtained by measuring the drive current necessary for obtaining the same light emission luminance for the organic EL devices having different residence times, and FIG. 6B is a graph obtained by measuring the drive voltage. In FIG. 6 (a), the drive current increases as the residence time increases. In FIG. 6 (b), the drive voltage increases as the residence time increases. The reason is presumed to be that molecules in the atmosphere enter the electron block layer due to an increase in residence time, and the hole transport function of the electron block layer decreases. From this result, it was found that the luminous efficiency of the organic EL device decreases as the residence time increases.

また図7は、有機EL装置の発光寿命と滞留時間との関係を示すグラフである。有機EL装置の発光寿命は、滞留時間が5分以内の範囲では滞留時間の増加とともに向上し、滞留時間が5分を超えると滞留時間の増加とともに低下している。その理由は、同じ発光輝度を得るため、大きな駆動電流および駆動電圧を印加するからであると推定される。
しかも、有機EL装置の駆動電流、駆動電圧および発光寿命は、滞留時間の増加とともにばらつきが大きくなっている。
FIG. 7 is a graph showing the relationship between the light emission lifetime and the residence time of the organic EL device. The light emission lifetime of the organic EL device is improved with an increase in the residence time when the residence time is within 5 minutes, and is decreased with an increase in the residence time when the residence time exceeds 5 minutes. The reason is estimated to be that a large drive current and drive voltage are applied in order to obtain the same light emission luminance.
In addition, the drive current, drive voltage, and light emission lifetime of the organic EL device vary greatly as the residence time increases.

以上の結果から、溶媒の塗布が終了してから発光層材料液を塗布するまでの滞留時間は、10分以内とすることが望ましく、5分以内とすることが特に望ましいといえる。滞留時間を10分以内とすることにより、大気中の分子が電子ブロック層に侵入するのを抑制することが可能になり、電子ブロック層の正孔輸送機能の低下を防止することができる。これにより、同じ発光輝度を得るために大きな駆動電流および駆動電圧を印加する必要がなくなり、発光効率の低下を防止することができるとともに、発光寿命を確保することができる。さらに滞留時間を5分以内とすれば、有機EL装置の駆動電流、駆動電圧および発光寿命のばらつきを抑制することができる。   From the above results, it can be said that the residence time from application of the solvent to application of the light emitting layer material liquid is preferably within 10 minutes and particularly preferably within 5 minutes. By setting the residence time to 10 minutes or less, it is possible to prevent molecules in the atmosphere from entering the electron block layer, and it is possible to prevent a decrease in the hole transport function of the electron block layer. Accordingly, it is not necessary to apply a large drive current and drive voltage to obtain the same light emission luminance, and it is possible to prevent a decrease in light emission efficiency and to ensure a light emission lifetime. Furthermore, if the residence time is within 5 minutes, it is possible to suppress variations in the drive current, drive voltage, and light emission lifetime of the organic EL device.

そして、図5に示すスピンコータ80を採用することにより、滞留時間を5分以内とすることができる。このスピンコータ80は、基板2を載置しつつ基板2を面内で回転させるステージ81と、基板2上に電子ブロック層の溶媒を滴下する第1滴下装置83と、基板2上に発光層の材料液を滴下する第2滴下装置86とを備えている。そのため、第1滴下装置83から溶媒を滴下し基板2を回転させて溶媒を塗布(スピンコート)した後、基板2を移動させることなく直ちに、第2滴下装置86から発光層材料液を滴下し基板2を回転させて発光層材料液を塗布(スピンコート)することができる。したがって、溶媒の塗布が終了してから発光層材料液を塗布するまでの滞留時間を5分以内とすることができる。   By adopting the spin coater 80 shown in FIG. 5, the residence time can be set to within 5 minutes. The spin coater 80 includes a stage 81 that rotates the substrate 2 in-plane while the substrate 2 is placed thereon, a first dropping device 83 that drops the solvent of the electron block layer on the substrate 2, and a light emitting layer on the substrate 2. And a second dropping device 86 for dropping the material liquid. Therefore, after the solvent is dropped from the first dropping device 83 and the substrate 2 is rotated to apply the solvent (spin coating), the light emitting layer material liquid is immediately dropped from the second dropping device 86 without moving the substrate 2. The light emitting layer material liquid can be applied (spin coated) by rotating the substrate 2. Therefore, the residence time from the end of the application of the solvent to the application of the light emitting layer material liquid can be within 5 minutes.

また、スピンコータ80をNガス雰囲気や真空下等の不活性雰囲気に配置して、溶媒の塗布工程および発光層材料液の塗布工程を不活性雰囲気で行うことが望ましい。これにより、大気中の分子の侵入による電子ブロック層の正孔輸送機能の低下を、より確実に防止することが可能になる。したがって、有機EL装置の発光寿命および発光効率をさらに向上させることができる。 In addition, it is desirable that the spin coater 80 be disposed in an inert atmosphere such as an N 2 gas atmosphere or a vacuum, and the solvent coating process and the light emitting layer material liquid coating process be performed in an inert atmosphere. As a result, it is possible to more reliably prevent a decrease in the hole transport function of the electron block layer due to intrusion of molecules in the atmosphere. Therefore, the light emission lifetime and light emission efficiency of the organic EL device can be further improved.

なお、本実施形態では電子ブロック層の表面に溶媒を塗布したが、有機溶媒溶液を塗布して電子ブロック層以外の有機膜を形成し、その有機膜の表面に溶媒を塗布した場合でも、本実施形態と同様の効果を奏することができる。   In this embodiment, the solvent is applied to the surface of the electronic block layer. However, even when an organic solvent solution is applied to form an organic film other than the electronic block layer and the solvent is applied to the surface of the organic film, The same effect as the embodiment can be obtained.

(電子機器)
次に、上記実施形態の有機EL装置を備えた電子機器につき図8を用いて説明する。
図8は、電子機器の一例である携帯電話機の斜視構成図である。同図に示す携帯電話機1300は、複数の操作ボタン1302と、受話口1303と、送話口1304と、先の実施形態の有機EL装置からなる表示部1301とを備えて構成されている。この表示部1301には、上記実施形態の有機EL装置が採用されている。上記実施形態の有機EL装置では、発光寿命および発光効率を向上させることができるので、信頼性が高く消費電力が小さい携帯電話機を提供することができる。
(Electronics)
Next, an electronic apparatus including the organic EL device according to the embodiment will be described with reference to FIG.
FIG. 8 is a perspective configuration diagram of a mobile phone which is an example of an electronic apparatus. A cellular phone 1300 shown in the figure includes a plurality of operation buttons 1302, an earpiece 1303, a mouthpiece 1304, and a display unit 1301 including the organic EL device of the previous embodiment. The display unit 1301 employs the organic EL device of the above embodiment. In the organic EL device of the above embodiment, since the light emission lifetime and the light emission efficiency can be improved, a mobile phone with high reliability and low power consumption can be provided.

なお、本発明における発光装置を備えた電子機器としては、上記のものに限らず、他に例えば、デジタルカメラ、パーソナルコンピュータ、テレビ、携帯用テレビ、ビューファインダ型・モニタ直視型のビデオテープレコーダ、PDA、携帯用ゲーム機、ページャ、電子手帳、電卓、時計、ワードプロセッサ、ワークステーション、テレビ電話、POS端末、タッチパネルを備えた機器などを挙げることができる。また、本発明における有機EL装置を備えた電子機器として、車載用オーディオ機器や自動車用計器、カーナビゲーション装置等の車載用ディスプレイ、プリンタ用の光書き込みヘッド等を挙げることもできる。   Note that the electronic device including the light emitting device according to the present invention is not limited to the above-described ones. For example, a digital camera, a personal computer, a television, a portable television, a viewfinder type / monitor direct view type video tape recorder, Examples include a PDA, a portable game machine, a pager, an electronic notebook, a calculator, a clock, a word processor, a workstation, a videophone, a POS terminal, and a device equipped with a touch panel. In addition, examples of the electronic device including the organic EL device according to the present invention include an in-vehicle audio device, an in-vehicle instrument, an in-vehicle display such as a car navigation device, an optical writing head for a printer, and the like.

なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。すなわち、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。   It should be noted that the technical scope of the present invention is not limited to the above-described embodiments, and includes those in which various modifications are made to the above-described embodiments without departing from the spirit of the present invention. That is, the specific materials and configurations described in the embodiments are merely examples, and can be changed as appropriate.

上記実施形態ではボトムエミッション型の有機EL装置を例にして説明したが、本発明をトップエミッション型の有機EL装置に適用することも可能である。
また上記実施形態では有機EL装置を例にして説明したが、有機物を能動的に使用する有機半導体を安定駆動させるため、有機半導体全般に本発明を適用することが可能である。
In the above embodiment, the bottom emission type organic EL device has been described as an example. However, the present invention can also be applied to a top emission type organic EL device.
In the above embodiment, the organic EL device has been described as an example. However, in order to stably drive an organic semiconductor that actively uses an organic substance, the present invention can be applied to all organic semiconductors.

実施形態に係る有機EL装置の側面断面図である。It is side surface sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 実施形態に係る有機EL装置の製造方法の工程図である。It is process drawing of the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus which concerns on embodiment. 有機EL装置の製造装置(スピンコータ)の概略構成図である。It is a schematic block diagram of the manufacturing apparatus (spin coater) of an organic EL apparatus. 駆動電流および駆動電圧と滞留時間との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between drive current and drive voltage, and dwell time. 発光寿命と滞留時間との関係を示すグラフである。It is a graph which shows the relationship between the light emission lifetime and residence time. 携帯電話の斜視図である。It is a perspective view of a mobile phone.

符号の説明Explanation of symbols

1…有機EL装置 2…基板 3…有機EL素子 60…発光層(第2有機膜) 65…電子ブロック層(第1有機膜) 80…スピンコータ(有機EL装置の製造装置) 81…ステージ(回転装置) 83…第1滴下装置 86…第2滴下装置 91…溶媒 92…電子ブロック層(第1有機膜)の材料液   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Organic EL apparatus 2 ... Board | substrate 3 ... Organic EL element 60 ... Light emitting layer (2nd organic film) 65 ... Electron block layer (1st organic film) 80 ... Spin coater (manufacturing apparatus of an organic EL apparatus) 81 ... Stage (rotation) Apparatus) 83 ... 1st dripping apparatus 86 ... 2nd dripping apparatus 91 ... Solvent 92 ... Material liquid of electron block layer (1st organic film)

Claims (10)

基板上に第1有機膜および第2有機膜を備えた有機EL装置の製造方法であって、
前記第1有機膜の材料液を塗布して、前記第1有機膜を形成する工程と、
前記第1有機膜の表面に、有機溶媒を塗布する工程と、
前記溶媒を塗布してから10分以内に、前記第1有機膜の表面に、前記第2有機膜の材料液を塗布する工程と、
を有することを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL device comprising a first organic film and a second organic film on a substrate,
Applying a material solution of the first organic film to form the first organic film;
Applying an organic solvent to the surface of the first organic film;
Applying the material liquid of the second organic film to the surface of the first organic film within 10 minutes after applying the solvent;
A method for producing an organic EL device, comprising:
前記第2有機膜の材料液を塗布する工程では、前記溶媒を塗布してから5分以内に、前記第1有機膜の表面に前記第2有機膜の材料液を塗布することを特徴とする請求項1に記載の有機EL装置の製造方法。   In the step of applying the material liquid of the second organic film, the material liquid of the second organic film is applied to the surface of the first organic film within 5 minutes after applying the solvent. The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 1. 前記溶媒を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面に前記溶媒を滴下し、前記基板を面内で回転させることによって行い、
前記第2有機膜の材料液を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面に第2有機膜の材料液を滴下し、前記基板を面内で回転させることによって行うことを特徴とする請求項1または請求項2に記載の有機EL装置の製造方法。
The step of applying the solvent is performed by dropping the solvent on the surface of the first organic film and rotating the substrate in a plane.
The step of applying the material liquid of the second organic film is performed by dropping the material liquid of the second organic film on the surface of the first organic film and rotating the substrate in a plane. The manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 1 or Claim 2.
前記溶媒を塗布する工程は、前記第1有機膜の表面全体を前記溶媒で浸した後に、前記基板を面内で回転させることによって行うことを特徴とする請求項1ないし請求項3のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。   4. The method according to claim 1, wherein the step of applying the solvent is performed by rotating the substrate in a plane after the entire surface of the first organic film is immersed in the solvent. 2. A method for producing an organic EL device according to item 1. 前記溶媒を塗布する工程および/または前記第2有機膜の材料液を塗布する工程は、不活性雰囲気中で行うことを特徴とする請求項1ないし請求項4のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。   The organic according to any one of claims 1 to 4, wherein the step of applying the solvent and / or the step of applying the material liquid of the second organic film is performed in an inert atmosphere. Manufacturing method of EL device. 前記第2有機膜は、発光層であり、
前記第1有機膜は、前記第1有機膜の反対側から前記発光層に供給された電子が前記発光層を通過するのを防止する電子ブロック層であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
The second organic film is a light emitting layer;
The first organic film is an electron blocking layer that prevents electrons supplied to the light emitting layer from the opposite side of the first organic film from passing through the light emitting layer. Item 6. A method for manufacturing an organic EL device according to any one of Items 5 to 6.
前記発光層を形成してから、前記発光層の表面に陰極を形成するまでの大気暴露時間が、5分以内であることを特徴とする請求項6に記載の有機EL装置の製造方法。   The method for producing an organic EL device according to claim 6, wherein the exposure time in the atmosphere from the formation of the light emitting layer to the formation of the cathode on the surface of the light emitting layer is within 5 minutes. 前記第1有機膜は、発光層であり、
前記第2有機膜は、前記第2有機膜の反対側から前記発光層に供給された正孔が前記発光層を通過するのを防止する正孔ブロック層であることを特徴とする請求項1ないし請求項5のいずれか1項に記載の有機EL装置の製造方法。
The first organic film is a light emitting layer,
2. The hole blocking layer for preventing the holes supplied to the light emitting layer from the opposite side of the second organic film from passing through the light emitting layer. The manufacturing method of the organic EL device of any one of Claim 5 thru | or 5.
基板上に第1有機膜および第2有機膜を備えた有機EL装置の製造装置であって、
前記基板を載置しつつ、前記基板を面内で回転させるステージと、
前記基板上に前記第1有機膜の溶媒を滴下する第1滴下装置と、
前記基板上に前記第2有機膜の材料液を滴下する第2滴下装置と、
を備えたことを特徴とする有機EL装置の製造装置。
An apparatus for manufacturing an organic EL device comprising a first organic film and a second organic film on a substrate,
A stage for rotating the substrate in a plane while placing the substrate;
A first dropping device for dropping the solvent of the first organic film on the substrate;
A second dropping device for dropping the material liquid of the second organic film on the substrate;
An apparatus for manufacturing an organic EL device, comprising:
前記有機EL装置の製造装置は、不活性雰囲気に配置可能とされていることを特徴とする請求項9に記載の有機EL装置の製造装置。   The apparatus for manufacturing an organic EL device according to claim 9, wherein the apparatus for manufacturing the organic EL device can be disposed in an inert atmosphere.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2009135085A (en) * 2007-10-30 2009-06-18 Toppan Printing Co Ltd Organic el display and its manufacturing method
JP2012504844A (en) * 2008-10-02 2012-02-23 コーニンクレッカ フィリップス エレクトロニクス エヌ ヴィ OLED device with coated shunt line

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