JP2007240196A - 標準メッキ膜試料およびメッキ膜検査方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】プラスチック基材上にメッキ膜を形成した後、このメッキ膜に対し化学的および物理的損傷を実質的に与えない方法でプラスチック基材を除去して標準メッキ膜試料を得る。この標準メッキ膜試料から求めた検査対象元素の濃度と、標準メッキ膜試料から蛍光X線分析法により求めた検査対象元素の特性X線強度とから、標準メッキ膜試料中の検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を求め、基体上メッキ膜中の検査対象元素についての特性X線強度から、この関係を用いて、基体上メッキ膜中の検査対象元素の濃度を求める。
【選択図】なし
Description
図1は、本発明に係る標準メッキ膜試料を用いて作製した検量線の一例である。標準メッキ膜試料は、プラスチック基材の上に種々の鉛濃度のNiPメッキを10μmの厚さで施し、有機溶媒中に浸漬してプラスチック基材を溶解除去した後、得られた膜を純水で洗浄して得た。外観に異常がないことを1000倍の倍率の光学顕微鏡で目視確認した。
(ここで、CPb/NiはNi膜中の鉛濃度、IPb/NiはNi膜中の鉛強度を表す。)
なお、別途、鉄、アルミニウムおよび黄銅について、標準メッキ膜試料から求めた当該検査対象元素の濃度と、標準メッキ膜試料とこれらの材料のそれぞれとを組み合わせたものから蛍光X線分析法により求めた当該検査対象元素の特性X線強度との第二の関係を求め、これらの材料機材として使用した場合に補正係数を求めた。第二の関係の例を図2に、補正係数を表9に示す。
鉛を含む鉄基材上の膜厚6μmのニッケルリンメッキ膜中の鉛を実際に定量分析した例を示す。評価試料には、鉛濃度既知のニッケルリンメッキ膜単体と基材を組み合わせたものを用いた。ニッケルリンメッキ膜単体および基材中の鉛濃度は、それぞれ147重量ppm、1000重量ppmであった。
(ここで、tNiはNi膜の膜厚(μm)、INiはNiの特性X線強度である。
基材上のメッキ膜中の検査対象元素を蛍光X線分析法により検査するための標準メッキ膜試料であって、プラスチック基材上にメッキ膜を形成した後、当該メッキ膜に対し化学的および物理的損傷を実質的に与えない方法で当該プラスチック基材を除去して得た標準メッキ膜試料。
前記検査対象元素が、鉛、カドミウム、水銀からなる群から選ばれた少なくとも一つの元素である、付記1に記載の標準メッキ膜試料。
前記プラスチック基材上のメッキ膜が、ニッケル、亜鉛、錫からなる群から選ばれた少なくとも一つの金属を含んでなるメッキ膜である、付記1または2に記載の標準メッキ膜試料。
基材上のメッキ膜中の検査対象元素を蛍光X線分析法により検査するメッキ膜検査方法であって、
付記1〜3のいずれかに記載の標準メッキ膜試料から求めた当該検査対象元素の濃度と、当該標準メッキ膜試料から蛍光X線分析法により求めた当該検査対象元素の特性X線強度とから、標準メッキ膜試料中の当該検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を求め、
当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素についての特性X線強度から、当該関係を用いて、当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素の濃度を求める
ことを含むメッキ膜検査方法。
前記の標準メッキ膜試料中の当該検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を第一の関係とし、
付記1〜3のいずれかに記載の標準メッキ膜試料から求めた当該検査対象元素の濃度と、当該標準メッキ膜試料と1以上の材料とを組み合わせたものから蛍光X線分析法により求めた当該検査対象元素の特性X線強度との第二の関係を求め、
当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素についての特性X線強度から、第一の関係を用いて当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素の濃度を求めるに際し、第一の関係と、当該基材の材質と同一または類似の材質よりなる材料を使用した場合の第二の関係との間の関係で補正を行うことを含む、付記4に記載のメッキ膜検査方法。
前記蛍光X線分析法が、前記メッキ膜の下の基材中に存在し得る検査対象元素を励起する程度の高エネルギーのX線を使用する、付記4または5に記載のメッキ膜検査方法。
前記基材が検査対象元素を含む場合には、前記基材上にあるメッキ膜から検査対象元素の特性X線強度を求めるに際し、メッキ膜厚による減衰を考慮した上で前記基材中に含まれる検査対象元素に由来する特性X線強度を差し引いた強度を前記特性X線強度として用いる、付記4〜6のいずれかに記載のメッキ膜検査方法。
メッキ膜厚が異なる2種類以上のメッキ膜を用いて、メッキ膜厚と主成分元素の特性X線強度との関係を求め、前記基体上メッキ膜中の主成分の特性X線強度から、当該関係を用いて得たメッキ膜厚を前記メッキ膜厚として使用する、付記7に記載のメッキ膜検査方法。
検査対象元素のピーク位置に特性X線が重なる妨害元素がメッキ膜中に存在する場合には、複数濃度の当該妨害元素を含み検査対象元素を含まないメッキ膜を用いて、予め、妨害元素の濃度と、検査対象元素のピーク位置における妨害元素の特性X線強度との関係を求め、前記基材上にあるメッキ膜について検査対象元素の特性X線強度を求める際に、当該メッキ膜中における妨害元素の濃度から、検査対象元素のピーク位置における妨害元素の特性X線強度への寄与分を定め、この寄与分を差し引いた値を検査対象元素の特性X線強度とする、付記4〜8のいずれかに記載のメッキ膜検査方法。
Claims (5)
- 基材上のメッキ膜中の検査対象元素を蛍光X線分析法により検査するための標準メッキ膜試料であって、プラスチック基材上にメッキ膜を形成した後、当該メッキ膜に対し化学的および物理的損傷を実質的に与えない方法で当該プラスチック基材を除去して得た標準メッキ膜試料。
- 基材上のメッキ膜中の検査対象元素を蛍光X線分析法により検査するメッキ膜検査方法であって、
請求項1に記載の標準メッキ膜試料から求めた当該検査対象元素の濃度と、当該標準メッキ膜試料から蛍光X線分析法により求めた当該検査対象元素の特性X線強度とから、標準メッキ膜試料中の当該検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を求め、
当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素についての特性X線強度から、当該関係を用いて、当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素の濃度を求める
ことを含むメッキ膜検査方法。 - 前記の標準メッキ膜試料中の当該検査対象元素の濃度と特性X線強度との関係を第一の関係とし、
請求項1に記載の標準メッキ膜試料から求めた当該検査対象元素の濃度と、当該標準メッキ膜試料と1以上の材料とを組み合わせたものから蛍光X線分析法により求めた当該検査対象元素の特性X線強度との第二の関係を求め、
当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素についての特性X線強度から、第一の関係を用いて当該基体上メッキ膜中の当該検査対象元素の濃度を求めるに際し、第一の関係と、当該基材の材質と同一または類似の材質よりなる材料を使用した場合の第二の関係との間の関係で補正を行うことを含む、請求項2に記載のメッキ膜検査方法。 - 前記蛍光X線分析法が、前記メッキ膜の下の基材中に存在し得る検査対象元素を励起する程度の高エネルギーのX線を使用する、請求項2または3に記載のメッキ膜検査方法。
- 前記基材が検査対象元素を含む場合には、前記基材上にあるメッキ膜から検査対象元素の特性X線強度を求めるに際し、メッキ膜厚による減衰を考慮した上で前記基材中に含まれる検査対象元素に由来する特性X線強度を差し引いた強度を前記特性X線強度として用いる、請求項2〜4のいずれかに記載のメッキ膜検査方法。
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