JP2007224384A - Surface treatment device - Google Patents

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JP2007224384A JP2006048632A JP2006048632A JP2007224384A JP 2007224384 A JP2007224384 A JP 2007224384A JP 2006048632 A JP2006048632 A JP 2006048632A JP 2006048632 A JP2006048632 A JP 2006048632A JP 2007224384 A JP2007224384 A JP 2007224384A
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Harukuni Furuse
Yasuhiro Hara
Takahiro Hirono
Naoji Kajima
Masami Mori
Shigeo Nagaya
Shinji Satakoku
Isao Tada
Toyoji Uchiyama
真治 佐田谷
豊司 内山
原  泰博
晴邦 古瀬
勲 多田
貴啓 廣野
匡見 森
重夫 長屋
直二 鹿島
Original Assignee
Chubu Electric Power Co Inc
Ulvac Japan Ltd
中部電力株式会社
株式会社アルバック
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface treatment device 1 where belt-like bodies 2 can be spirally revolved, so as to be run in a stable way.
SOLUTION: The surface treatment device is equipped with each roller group 40 where a plurality of rollers 44 are arranged along a shaft body 42. A plurality of roller groups 40 are separately arranged, and the shaft bodies 42 of the plurality of roller groups 40 are parallel arranged each other. The rollers 44 in the plurality of roller groups 40 are arranged in a state of being deviated to the axial direction of the shaft body 42 each other in such a manner that the gradient of the belt-like bodies 2 is made almost certain amount. The plurality of rollers 44 included in each roller group 40 are freely rotatably formed mutually independently each other in such a manner that the respective rotary axes are made almost coincident. The outer circumferential face of each roller 44 is formed projectingly to the outside from both the edges in the width direction of each roller 44 to the center.
COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、可撓性を有する帯状体に対して、成膜処理や表面改質などの表面処理を行う装置に関するものである。 The present invention is, with respect to strip having flexibility, to an apparatus for performing surface treatment such as film forming processes or surface modification.

金属や合金、無機材料、合成樹脂等で構成された可撓性を有する帯状体に対して、各種の表面処理が行われている。 Metals and alloys, inorganic materials, with respect to the strip having flexibility made of a synthetic resin or the like, various surface treatments have been performed. 具体的な表面処理として、金属膜やセラミックス膜、有機膜などの成膜処理や、大気圧または真空下でのプラズマによる表面改質などが行われている。 As a specific surface treatment, a metal film or ceramic film, or film formation treatment such as an organic film, and surface modification by plasma under atmospheric pressure or vacuum being performed. これらの表面処理は、表面処理源の前方に帯状体を通過させて行うことが考えられる。 These surface treatments, it is considered that carried out by passing the strip in front of the surface treatment source. しかしながら、帯状体は幅が狭いので、帯状体の通過領域以外の領域にも処理が行われることになり、表面処理効率が著しく悪いという問題がある。 However, since the strip is narrower, will be processed in a region other than the passage area of ​​the strip is carried out, the surface treatment efficiency is a problem that remarkably bad.

そこで特許文献1には、一対のプーリー部の間に線材を複数回巻回して、線材に連続的に蒸着膜を形成する蒸着装置が提案されている。 Therefore, Patent Document 1, the wound plural times a wire between a pair of pulley portion, the vapor deposition apparatus has been proposed to form a continuous deposited film on the wire. この技術では、フリープーリーの外周面に溝を配設し、フリープーリーの幅方向両端部につばを形成している。 In this technique, it arranged a groove on the outer circumferential surface of the free pulleys, forming a flange on both widthwise ends of the free pulleys.
また特許文献2には、連続走行する帯状材料に表面処理を施す表面処理源と、その走行を案内する複数のロール部を軸方向に重ねて成る一対のガイドロールとを備え、これら一対のガイドロール間に帯状材料をらせん状に走行させる技術が提案されている。 Further, Patent Document 2, includes a surface treatment source subjected to a surface treatment in a strip material continuously running, and a pair of guide rolls comprising superimposed plural roll portion for guiding the running axially, the pair of guides techniques for running spirally are proposed a strip material between the rolls. この技術では、少なくとも一方のガイドロールにおいて各ロール部の回転軸が所定角度傾斜しており、この傾斜によりガイドロールを周回するときに帯状材料がらせん状の1ピッチ分ずれるようにしている。 In this technique, so that the rotation shaft of each roll unit in at least one of the guide rolls are inclined at a predetermined angle, shifts one pitch strip material spiral when orbiting the guide rolls by the inclination.
特開2004−225074号公報 JP 2004-225074 JP 特開2005−113165号公報 JP 2005-113165 JP

しかしながら、特許文献1の蒸着装置において帯状体の表面処理を行うと、走行中の帯状体がフリープーリーのつばに接触することになる。 However, when the surface treatment of the strip in the vapor deposition device of Patent Document 1, strip traveling comes in contact with the flange of the free pulleys. これにより、帯状体が損傷したり、帯状体上の形成膜が損傷したりするという問題がある。 Accordingly, or strip is damaged, forming film on the strip there is a problem that the damaged. また接触部での発塵により、形成膜に異物が付着したり、ピンホールが生成されたりして、製品不良が発生するという問題がある。 The dust at the contact portion also or foreign matter adheres to the formed film, and or pin holes are generated, there is a problem that defective products are generated.
また特許文献2の技術では、各ロール部の回転軸の傾斜角度を調整することができない。 In the technique of Patent Document 2, it is impossible to adjust the angle of inclination of the rotation axis of each roll unit. そのため、帯状体の幅寸法の変更に対応することが困難であり、処理可能な帯状体の種類が限られるという問題がある。 Therefore, it is difficult to respond to changes in the width of the strip, there is a problem that the type of processable strip is limited. また、各ガイドロールにおける一つのロール部を回転駆動して帯状体を周回走行させるので、帯状体に局所的な伸びの集中が発生するおそれがあり、安定した周回走行が困難になるという問題がある。 Further, since the strip is circulating travel rotates the one of the roll portions of each guide roll, there is a risk that the local concentration of stretching the strip occurs, the problem that a stable orbit traveling becomes difficult is there.

本発明は、以上の点に鑑みて成されたものであり、幅寸法の異なる帯状体でも、安定してらせん状に周回走行させることが可能な、表面処理装置の提供を目的とする。 The present invention has been made in view of the above, in different strips width dimension, that is capable of circulating the running stably in a spiral, and an object thereof is to provide a surface treatment apparatus.

複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、複数の前記ローラ群が離間配置され、前記複数のローラ群の前記ローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより前記帯状体をらせん状に配置した状態で、前記帯状体を周回走行させつつ前記帯状体に表面処理を行う装置であって、前記複数のローラ群の軸体は、相互に平行に配置され、前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置され、前記ローラ群に含まれる前記複数のローラは、それぞれの回転軸を略一致させて、相互に独立して回転自在に形成され、前記ローラの外周面は、前記ローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されていることを特徴とする。 Comprising a plurality of rollers group roller disposed along the shaft, a plurality of the rollers are spaced apart, said strip by applying turning the strip in order to said roller of said plurality of rollers while arranged spirally, wherein a device for performing a surface treatment to strip the strip while circulating travel, the plurality of rollers of the shaft are mutually disposed in parallel to, said plurality of rollers the roller group, as the slope of said strip is substantially constant, are arranged with a shift in the axial direction of each other to the shaft body, said plurality of rollers contained in the roller group, each rotation substantially aligned with the axis, is formed rotatably independently of each other, the outer peripheral surface of said roller, characterized in that it is protruded outward toward the center from both ends in the width direction of the roller.

この構成によれば、前記複数のローラ群の軸体が相互に平行に配置され、前記ローラ群に含まれる前記複数のローラがそれぞれの回転軸を略一致させて相互に独立して回転自在に形成されているので、帯状体の全体に均一な張力が付与され、局所的な伸びの集中を防止することができる。 According to this configuration, the plurality of rollers of the shaft are arranged parallel to each other, rotatably independently plurality of rollers contained in the roller group to each other substantially to match the respective axis of rotation because it is formed, a uniform tension across the strip is applied, it is possible to prevent local concentration of elongation. また、前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置されているので、帯状体の捩れを防止することができる。 Further, the roller of the plurality of rollers, as the slope of the strip is substantially constant, because it is arranged with a shift in the axial direction of each other to the shaft, preventing twisting of the strip can do. さらに、前記ローラの外周面が前記ローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されているので、帯状体が走行時に高張力側、即ち、外径が大きい側に逸れる特性を利用することにより、幅寸法の異なる帯状体を回し掛けた場合でも、帯状体がローラから外れるのを防止することができる。 Further, since the outer peripheral surface of the roller is formed to project outward toward the center from both ends in the width direction of the roller, high-tensile-side strip is during traveling, i.e., utilizing the properties deviating to the outer diameter of the larger side Accordingly, even when subjected turning the different strip width dimension, it is possible to strip to prevent the out of the roller. 以上により、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。 Thus, it is possible to circulate the running belt-shaped member stably in a spiral.

また前記ローラは、転がり軸受けを介して前記軸体に装着されていることが望ましい。 Also, the roller is preferably mounted on the shaft via a roller bearing.
この構成によれば、ローラが回転自在になるので、らせん状に配置された帯状体における局所的な伸びの集中を防止することができる。 According to this configuration, since the roller is rotatable, it is possible to prevent local growth concentration of the helically arranged strip.

また前記ローラと前記転がり軸受けとの間に、前記ローラの構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リングが設けられていることが望ましい。 Also between only the rolling bearing and the roller, it is desirable that the heat insulating ring of a material having low thermal conductivity is provided from the material of the roller.
この構成によれば、帯状体からの熱が、ローラを介して転がり軸受け等に伝達されるのを抑制することが可能になる。 According to this configuration, the heat from the strip is permitted to be suppressed from being transmitted to the bearings or the like rolling through rollers. したがって、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent damage due to heat of the rolling bearing or the like.

また前記軸体は、内部に冷媒流路を備えていることが望ましい。 Also, the shaft is preferably provided with a refrigerant passage therein.
この構成によれば、転がり軸受け等が強制冷却されるので、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。 According to this configuration, since the roller bearing or the like is forced cooling, it is possible to prevent damage due to heat of the rolling bearing or the like.

また前記ローラの幅方向の少なくとも一方側に、前記軸体から外側に向かって吸熱板が延設されていることが望ましい。 Further on at least one side in the width direction of the roller, it is desirable that the heat absorbing plate is extended outwardly from the shaft.
この構成によれば、外部からの輻射熱が転がり軸受け等に入射するのを防止することが可能になる。 According to this arrangement, it is possible to prevent from entering the bearing and the like rolling radiant heat from the outside. したがって、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。 Therefore, it is possible to prevent damage due to heat of the rolling bearing or the like.

また隣接する一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第1の表面処理を行い、前記一対のローラ群とは異なる他の一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第2の表面処理を行ってもよい。 In between the adjacent pair of the roller group, performing a first surface treatment to the strip, between the pair of rollers different from the pair of rollers and the group, the second to the strip the surface treatment may be performed.
この構成によれば、複数の表面処理を効率的に行うことが可能になり、製造コストを低減することができる。 According to this arrangement, it becomes possible to perform a plurality of surface treatment efficiently, it is possible to reduce the manufacturing cost.

また前記帯状体を供給する巻出室と、前記帯状体に表面処理を行う表面処理室と、前記帯状体を巻き取る巻取室とを備え、前記巻出室、前記表面処理室および前記巻取室は、それぞれ内部雰囲気を調整しうるように形成されていることが望ましい。 Also includes a unwinding chamber for supplying the belt-shaped member, and a surface treatment chamber for performing a surface treatment on the strip, and a winding chamber for winding the strip, the winding outlet chamber, said surface treatment chamber and the winding up chamber is preferably formed so that each can adjust the internal atmosphere.
この構成によれば、帯状体に対して所望の表面処理を行うことが可能になる。 According to this arrangement, it is possible to perform the desired surface treatment with respect to the strip.

本発明の表面処理装置によれば、幅寸法の異なる帯状体でも、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。 According to the surface treatment apparatus of the present invention, in different strips of width, it is possible to circulate the running belt-shaped member stably in a spiral. また、転がり軸受け等の熱による破損を防止することができる。 Further, it is possible to prevent damage due to heat of the rolling bearing or the like.

以下、本発明の実施形態につき、図面を参照して説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材の縮尺を適宜変更している。 In the following respective drawings used for the explanation, for a recognizable size of each member, which changes the scale of each member is appropriately.

(表面処理装置) (Surface processing unit)
図1は、本発明の実施形態に係る表面処理装置1の平面図である。 Figure 1 is a plan view of the surface treatment apparatus 1 according to an embodiment of the present invention. なお図1では、紙面の垂直方向をZ方向とし、左右方向をX方向としている。 In FIG. 1, the plane of the vertical direction is a Z direction, and the left-right direction and X direction. 本実施形態に係る表面処理装置1は、可撓性を有する帯状体2に表面処理を施すものであり、表面処理前の帯状体2を供給する巻出室10と、帯状体2に表面処理を行う表面処理室30と、表面処理後の帯状体2を巻き取る巻取室20とを備えたものである。 Surface treatment apparatus 1 according to the present embodiment is one subjected to a surface treatment to strip 2 having flexibility, and unwinding chamber 10 for supplying the strip 2 before the surface treatment, surface treatment strip 2 a surface treatment chamber 30 for performing, in which a winding-up chamber 20 for winding the strip 2 after the surface treatment. これらの巻出室10、巻取室20および表面処理室30は、それぞれターボ分子ポンプ等の排気装置を備え、内部雰囲気を0.0001Paから0.1Paまで調整しうるようになっている。 These winding outlet chamber 10, the winding chamber 20 and the surface treatment chamber 30, respectively provided with an exhaust device, such as a turbo-molecular pump, so that the can adjust the internal atmosphere from 0.0001Pa to 0.1 Pa.

巻出室10には、帯状体2の巻出ローラ12が配置されている。 The winding outlet chamber 10, the unwinding rollers 12 of the strip 2 is arranged. この巻出ローラ12には、保護シート3で表面を被覆された表面処理前の帯状体2が収納されている。 This unwinding roller 12, strip 2 before surface treatment of the surface is covered with a protective sheet 3 is housed. その巻出ローラ12に隣接して、共巻ローラ14が配置されている。 Adjacent its unwinding roller 12, co-winding roller 14 are disposed. この共巻ローラ14は、帯状体2の巻出しにより不要となった保護シート3を巻き取るものである。 The co-winding roller 14 is for winding the protective sheet 3 which becomes unnecessary by unwinding strip 2. また巻出ローラ12の下流には、速度基準ガイドローラ16が設けられている。 Further downstream of the unwinding roller 12, the speed reference guide rollers 16 are provided. この速度基準ガイドローラ16は速度センサを備え、帯状体2の走行速度を検出する機能を有している。 The speed reference guide roller 16 is provided with a speed sensor has a function of detecting a traveling speed of the strip 2. ここで検出された走行速度をもとに、巻出ローラ12および巻取ローラ22の回転速度が制御される。 Based on the traveling speed detected here, the rotational speed of the unwind roller 12 and the winding roller 22 is controlled.

一方、巻取室20の入口付近には、冷却ローラ28が設けられている。 On the other hand, in the vicinity of the inlet of the winding chamber 20, the cooling roller 28 is provided. この冷却ローラは、帯状体2の巻き取り前に表面処理により高温となった帯状体2を冷却するものであり、内部に冷媒流路を備えている。 The cooling roller is intended to cool the strip 2 with a high temperature surface treatment before the winding of the strip 2 is provided with a refrigerant passage therein. その冷却ローラ28の下流には、ピックアップローラ26が設けられている。 Downstream of the cooling roller 28, the pickup roller 26 is provided. このピックアップローラ26はロードセルを備え、帯状体2の張力を検出する機能を有している。 The pickup roller 26 is provided with a load cell, and has a function of detecting the tension of the strip 2. ここで検出された張力をもとに、巻出ローラ12および巻取ローラ22の回転速度が自動制御される。 Based on the detected tension here, the rotational speed of the unwind roller 12 and the winding roller 22 is automatically controlled. またピックアップローラ26の下流には、巻取ローラ22が配置されている。 Further Downstream of the pick-up roller 26, the take-up roller 22 is disposed. この巻取ローラ22は、共巻ローラ24から繰出された保護シート3で表面を被覆しつつ、表面処理後の帯状体2を巻き取るものである。 The winding roller 22, while a surface coated with a protective sheet 3 fed out from the co-winding roller 24, it is intended for taking up the strip 2 after the surface treatment. なお巻取ローラ22には、モータ等の回転駆動装置が接続されている。 Note that the winding roller 22, the rotation driving device such as a motor is connected.

(処理室) (Processing chamber)
上述した巻出室10および巻取室20の間には、帯状体2に表面処理を行う表面処理室30が設けられている。 Between the winding outlet chamber 10 and the take-up chamber 20 described above, the surface treatment chamber 30 subjected to surface treatment to strip 2 is provided. この表面処理室30には、複数のローラ群40が設けられている。 The surface treatment chamber 30, a plurality of rollers 40 are provided. 本実施形態では、第1ローラ群40a、第2ローラ群40b、第3ローラ群40cおよび第4ローラ群40dが、略長方形の四隅に相当する位置に設けられている。 In this embodiment, the first roller group 40a, a second roller group 40b, the third roller group 40c and a fourth roller group 40d are provided at positions corresponding to four corners of the substantially rectangular. 例えば、第1ローラ群40aと第2ローラ群40bとの距離および第3ローラ群40cと第4ローラ群40dとの距離が約220mm、第2ローラ群40bと第3ローラ群40cとの距離および第4ローラ群40dと第1ローラ群40aとの距離が約1000mmに設定されている。 For example, the distance between the distance and the third roller group 40c and a fourth roller group 40d of the first roller group 40a and the second roller group 40b is about 220 mm, the distance between the second roller group 40b and the third roller group 40c and the distance between the fourth roller group 40d and the first roller group 40a is set to about 1000 mm.

図2は、表面処理室の正面図であり、図1のA矢視図である。 Figure 2 is a front view of a surface treatment chamber, an A arrow view of FIG. なお図2では、紙面の上下方向をZ方向とし、左右方向をX方向としている。 In FIG. 2, the paper in the vertical direction is a Z direction, and the left-right direction and X direction. ローラ群40は、複数のローラ44と、それらの回転軸となる軸体42とによって構成されている。 Rollers 40 is constituted by a plurality of rollers 44, a shaft 42 serving as their axes of rotation. 各ローラ44は、略同一に形成されて、略等間隔に平行に配置されている。 Each roller 44 is formed almost the same, are arranged parallel to at substantially regular intervals. 例えばローラ44は、幅14mm程度、半径100mm程度に形成されている。 For example the roller 44 is formed having a width of about 14 mm, a radius of about 100 mm. また軸体42は、各ローラ44の側面に対して垂直に、各ローラ44の中心を貫くように挿入されている。 The shaft 42 is inserted so as to penetrate the vertical center of the rollers 44 against the side of the rollers 44. 例えば、10個程度のローラ44が1本の軸体42により連結されて、ローラ群40が形成されている。 For example, 10 or so roller 44 are connected by shaft 42 of one roller group 40 is formed. 各ローラ群40の軸体42は、相互に平行に配置されている。 Shaft 42 of the rollers 40 are disposed in parallel to each other.

図3は、図2のB部の拡大断面図である。 Figure 3 is an enlarged sectional view of a B portion of FIG. 図3に示すように、ローラ44および軸体42は、ステンレス等の金属材料により構成されている。 As shown in FIG. 3, the roller 44 and the shaft body 42 is composed of a metallic material such as stainless steel. なお軽量化のため、ローラ44の側面にはザグリ45および/または貫通孔が設けられている。 Note for weight reduction, counterbore 45 and / or through-hole is provided on a side surface of the roller 44.
ローラ44の外周面47は、ローラ44の幅方向の両端から中央にかけて外側に突出したクラウン(太鼓)形状に形成されている。 The outer peripheral surface 47 of the roller 44 is formed from the widthwise ends of the roller 44 to the crown (drum) shape protruding outwardly toward the center. これにより、ローラ44の外周面47に回し掛けられる帯状体2が、ローラ44の幅方向にずれたり、ローラ44から外れたりするのを防止することができるようになっている。 Thus, strip 2 exerted turning the outer peripheral surface 47 of the roller 44, or shifted in the width direction of the roller 44, thereby making it possible to prevent the dislodged from the roller 44. 特にローラ44の外周面47は、ローラ44の中心点からの距離Rが一定になるように、球面状に形成されていることが望ましい。 In particular the outer peripheral surface 47 of the roller 44, so that the distance R from the center point of the roller 44 is constant, it is preferably formed in a spherical shape. これにより、ローラ44の外周面47に回し掛けられる帯状体2の損傷を防止することができる。 Thus, it is possible to prevent damage to the strip 2 to be hung turning the outer peripheral surface 47 of the roller 44. 例えば、ローラ44の外周面47を構成する球面の半径Rは、ローラ半径の1〜2倍程度となるように、例えば、R=100〜200mmとされている。 For example, the radius R of the spherical surface constituting the outer peripheral surface 47 of the roller 44, so that the 1-2 times the roller radius, for example, there is a R = 100 to 200 mm.

またローラ44は、自動調心型ベアリング等の転がり軸受け48を介して軸体42に装着されている。 The roller 44 is mounted on the shaft 42 via a roller bearing 48 such as a self-aligning type bearings. これにより、ローラ群に含まれる複数のローラ44は、それぞれの回転軸を軸体42に一致させて、相互に独立して回転自在に形成されている。 Thus, a plurality of rollers 44 included in the roller group is made to coincide with each of the rotating shaft to the shaft 42, it is rotatably formed independently of each other.
なお、ローラ44の外周面47には高温の帯状体2が配置されるので、転がり軸受け48の熱による破損を防止する必要がある。 Note that the outer peripheral surface 47 of the roller 44 since the strip 2 of high temperature are arranged, it is necessary to prevent damage due to heat of the rolling bearing 48. そこで、ローラ44と転がり軸受け48との間には、ローラ44の構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リング46が設けられている。 Therefore, between the roller 44 and the rolling bearing 48, the heat insulating ring 46 is provided comprising a lower constituent material of the roller 44 thermal conductivity material. 具体的には、断熱リング46の構成材料として、アルミナ(Al )や石英(SiO )、マグネシア(MgO)、窒化アルミ(AlN)、窒化珪素(Si )等を採用することが望ましい。 Specifically, as the material of the heat insulating ring 46, an alumina (Al 2 O 3) or quartz (SiO 2), magnesia (MgO), aluminum nitride (AlN), employing a silicon nitride (Si 3 N 4) or the like it is desirable. また転がり軸受け48を冷却するため、軸体42の内部には冷媒流路43が設けられている。 Also for cooling the rolling bearing 48, the interior of the shaft body 42 refrigerant flow path 43 is provided. さらに、外部からの輻射熱による転がり軸受け48の温度上昇を防止するため、ローラ44の両側面から所定距離を置いて吸熱板50が設けられている。 Furthermore, in order to prevent radiation heat temperature rise of the rolling bearing 48 by an external, heat-absorbing plate 50 is provided from both sides of the roller 44 at a predetermined distance. この吸熱板50は、銅(Cu)や銀(Ag)、金(Au)、白金(Pt)等の熱伝導率の高い材料で構成され、軸体42から外側に向かって延設されている。 The endothermic plate 50 is copper (Cu) or silver (Ag), gold (Au), is composed of a high thermal conductivity such as platinum (Pt) material extends from the shaft 42 toward the outside . その軸体42を流れる冷媒により、吸熱板50が低温に保持されるので、転がり軸受け48に向かって入射する輻射熱を吸収しうるようになっている。 The refrigerant flowing through the shaft 42, since the endothermic plate 50 is held at a low temperature, so that can absorb the radiation heat entering toward the roller bearing 48. なお転がり軸受け48自体も、耐熱性に優れたものを採用することが望ましい。 Note rolling bearing 48 itself, it is desirable to adopt a material that has excellent heat resistance.

図1に戻り、表面処理室30における帯状体2は、第1ローラ群40a、第2ローラ群40b、第3ローラ群40cおよび第4ローラ群40dに対して順に回し掛けられる。 Returning to Figure 1, the strip 2 in the surface treatment chamber 30, the first roller group 40a, a second roller group 40b, subjected turn in order for the third group of rollers 40c and the fourth roller group 40d.
図2に示すように、帯状体2は、まず各ローラ群40における−Z側端部の第1段ローラ441に回し掛けられる。 As shown in FIG. 2, the strip 2 is first subjected turning the first stage rollers 441 on the -Z side end portion of each roller group 40. 次に帯状体2は、各ローラ群40における−Z側端部から2番目の第2段ローラ442に回し掛けられる。 Then strip 2 is subjected by turning from the -Z-side end portion of each roller group 40 in the second second-stage roller 442. このようにして、帯状体2は、各ローラ群40における+Z側端部の第n段ローラ44nまで順に回し掛けられる。 In this way, the strip 2 is subjected turn in order to the n-stage roller 44n of + Z side end portion of each roller group 40. なお各ローラ群40における同一段のローラは、軸体42の軸方向にずれた状態で、異なるZ方向位置に配置されている。 Incidentally same stage of the rollers in each roller group 40, with a shift in the axial direction of the shaft body 42 are arranged at different position in the Z direction.

図4は、各ローラ群における第m段ローラの配置説明図である。 Figure 4 is a layout diagram of a m-stage roller in each roller group. 図4(a)の平面図に示すように、第1ローラ群40aと第2ローラ群40bとの距離をL1、第2ローラ群40bと第3ローラ群40cとの距離をL2、第3ローラ群40cと第4ローラ群40dとの距離をL3、第4ローラ群40dと第1ローラ群40aとの距離をL4とする。 As shown in the plan view of FIG. 4 (a), the distance between the first roller group 40a and the second roller group 40b L1, the distance between the second roller group 40b and the third roller group 40c L2, the third roller the distance between the group 40c and the fourth roller group 40d L3, the distance between the fourth roller group 40d and the first roller group 40a and L4. 図4(b)は、横軸に帯状体の長さLをとり、縦軸に帯状体のZ方向(図2の上下方向)の位置をとったグラフである。 FIG. 4 (b), take the length L of the strip on the horizontal axis is a graph plotting the position in the Z direction (vertical direction in FIG. 2) of the strip on the vertical axis. 図4(b)に示すように、各ローラ群の第m段ローラ44ma,44mb,44mc,44mdに対して順に回し掛けられる帯状体の勾配が一定になるように、各ローラ群における第m段ローラ44ma,44mb,44mc,44mdのZ方向位置Za(m),Zb(m),Zc(m),Zd(m)が設定されている。 As shown in FIG. 4 (b), the m-stage roller 44ma each rollers, 44mb, 44mc, so that the slope of the strip exerted by turning in order constant relative 44Md, the m stages in the roller group roller 44ma, 44mb, 44mc, 44md the Z-direction position Za (m), Zb (m), Zc (m), Zd (m) is set. これにより、帯状体の捩れを防止することが可能になり、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。 This makes it possible to prevent the twisting of the strip may be a strip stably to circulate the running spirally.

図2に戻り、隣接するローラ群40,40の間には、各段ローラに回し掛けられた帯状体2が平行に配置される。 Returning to FIG. 2, between the adjacent rollers 40, 40, strip 2 hung turning to each stage rollers are arranged in parallel. そこで、隣接するローラ群40,40の間に表面処理領域35が設定されている。 Therefore, the surface treatment region 35 between adjacent rollers 40, 40 are set. これにより、表面処理領域35の略全体に帯状体2を配置して、効率的な表面処理を行うことができるようになっている。 Thus, by placing the strip 2 to substantially the entire surface processing region 35, and it is capable of performing an efficient surface treatment. 本実施形態では、第2ローラ群40bと第3ローラ群40cとの間に、表面処理領域35が設定されている。 In the present embodiment, between the second roller group 40b and the third roller group 40c, the surface treatment area 35 is set.

そこで図1に示すように、表面処理領域35の帯状体2と対向するように、1個または複数個(図1では2個)のEB蒸発源34が設けられている。 Therefore, as shown in FIG. 1, so as to face the strip 2 of the surface treatment area 35, EB evaporation source 34 of one or more (two in FIG. 1) is provided. EB蒸発源34は主に、電子ビーム照射装置と、成膜材料が充填されたハースとを備えている。 EB evaporation source 34 is mainly provided with an electron beam irradiation device, and a hearth film forming material is filled. その電子ビーム照射装置から電子ビームを照射してハースに入射させると、ハースに充填された成膜材料が加熱されて蒸発する。 When irradiated with an electron beam to be incident on the hearth from the electron beam irradiation apparatus, the film forming material filled in the hearth is heated and evaporated. これにより蒸発した成膜材料が、対向する帯状体2に付着して、帯状体2に成膜処理が施されるようになっている。 Deposition material evaporated by the hand, attached to the strip 2 facing, so that the film forming process to strip 2 is applied.
また、成膜処理の前処理として、帯状体2をプラズマ処理することを可能とするように、EB蒸発源34の隣にはECRイオン源32が設けられている。 Further, as a pretreatment of the deposition process, the strip 2 so as to allow the plasma process, ECR ion source 32 is provided adjacent to the EB evaporation source 34. なお成膜処理とプラズマ処理とを同時進行させるべく、表面処理領域35にプラズマが及ぶように、ECRイオン源32が配置されていてもよい。 Note in order to simultaneously and deposition process and the plasma process, such that the plasma extends to the surface treatment area 35, ECR ion source 32 may be disposed.

さらに、成膜処理中の帯状体2を加熱処理するため、第2ローラ群40bと第3ローラ群40cとの間において、帯状体2を挟んでEB蒸発源34の反対側に、ヒータ36が設けられている。 Furthermore, since the heat treatment of strip 2 during the film formation process, between the second roller group 40b and the third roller group 40c, on the opposite side of the EB evaporation source 34 across the strip 2, the heater 36 It is provided. このヒータ36には、ランプヒータやパネルヒータ等のあらゆるヒータを採用することが可能である。 The heater 36, it is possible to employ any heater such as a lamp heater or plate heater.
また、成膜処理前および成膜処理後の帯状体2を加熱処理するため、第4ローラ群40dと第1ローラ群40aとの間において、帯状体2と対向するように、ヒータ37が設けられている。 Further, since the heat treatment of strip 2 after film formation pretreatment and film forming process, between the fourth roller group 40d and the first roller group 40a, so as to face the strip 2, the heater 37 is provided It is. このヒータ37も、ランプヒータやパネルヒータ等のあらゆるヒータを採用することが可能である。 The heater 37 also, it is possible to employ any heater such as a lamp heater or plate heater.

(表面処理方法) (Surface treatment method)
次に、本実施形態に係る表面処理装置を使用した表面処理方法について説明する。 Next, a description will be given surface treatment method using the surface processing apparatus according to this embodiment. ここでは、最終製品を超電導線材として利用するため、高耐熱耐食合金ハステロイC−276等からなる帯状体2の表面に、酸化セリウム(CeO )からなる被膜を形成する場合について説明する。 Here, in order to use the final product as a superconducting wire, a strip 2 of the surface made of a high heat-resistant corrosion-resistant alloy Hastelloy C-276, etc., it will be described the case of forming a coating film made of cerium oxide (CeO 2). なお予め帯状体2の表面に、酸化マグネシウム(MgO)等からなる下地膜を形成しておく。 Note in advance of the strip 2 surface, keep a base film made of magnesium oxide (MgO) or the like. 例えば帯状体2として、幅10mm程度、厚さ0.1mm程度、長さ500m程度のものを採用する。 For example the strip 2, to adopt a width of about 10 mm, a thickness of 0.1mm or so, those having a length of about 500 meters.

図1に示すように、上述した帯状体2の先端を、巻出室10における巻出ローラ12から繰り出し、表面処理室30における複数のローラ群40にらせん状に回し掛けて、巻取室20における巻取ローラ22で巻き取る。 As shown in FIG. 1, the leading end of the strip 2 described above, the feeding from the unwinder roller 12 in the take-outlet chamber 10, over turning spirally a plurality of rollers 40 in the surface treatment chamber 30, the winding chamber 20 wound in the take-up roller 22 in. 複数のローラ群40に対する帯状体2の周回数は、10ターン程度とする。 Laps of the strip 2 with respect to a plurality of rollers 40 and 10 turn. これにより表面処理領域35が、X方向の長さ500mm程度、Z方向の長さ200mm程度に設定されている。 Thus the surface treatment region 35, length 500mm about the X direction is set to a length of about 200mm in the Z-direction.

次に、巻取ローラ22を回転駆動することにより、帯状体2に対して徐々に張力を付与する。 Then, by rotating the take-up roller 22, gradually applying tension to strip 2. 帯状体2の張力は、例えば10〜50N/m程度に設定する。 The tension of the strip 2 is set to, for example, about 10 to 50 N / m. なお巻取室20のピックアップローラ26により帯状体2の張力を検出し、検出された張力をもとに巻出ローラ12および巻取ローラ22の回転速度を自動制御する。 Note detecting the tension of the belt 2 by the pickup roller 26 in the winding chamber 20, to automatically control the rotational speed of the unwind roller 12 and the winding roller 22 on the basis of the detected tension. また帯状体2の走行速度は、例えば2.5〜26.0m/h程度に設定する。 The travel speed of the strip 2 is set to, for example, about 2.5~26.0m / h. なお巻出室10の速度基準ガイドローラ16により帯状体2の走行速度を検出し、検出された走行速度をもとに巻出ローラ12および巻取ローラ22の回転数を調整する。 Note detecting the traveling speed of the strip 2 by the speed reference guide roller 16 of the unwinding chamber 10, to adjust the rotational speed of the unwind roller 12 and the winding roller 22 on the basis of the detected running speed.

次に、表面処理室30の内部を、例えば約6.7×10 −4 Pa以下まで減圧する。 Then, the inside of the surface treatment chamber 30 is decompressed for example up to about 6.7 × 10 -4 Pa or less. またヒータ36,37により、帯状体2を、例えば最高800℃まで加熱する。 The heating by the heater 36, the strip 2, for example up to 800 ° C..
そして、帯状体2に対する表面処理領域35の直前において、ECRイオン源32を用いた前処理を行う。 Then, immediately before the surface treatment area 35 with respect to strip 2, and pretreatment with ECR ion source 32. 具体的には、ECRイオン源32からアルゴンイオンや酸素イオン等を供給して、帯状体2の表面をプラズマ処理する。 Specifically, by supplying argon ions and oxygen ions from the ECR ion source 32, a plasma treatment of the surface of the strip 2.

次に、表面処理領域35において、EB蒸発源34を用いた成膜処理を行う。 Next, in the surface treatment area 35, the film formation process using the EB evaporation source 34. 具体的には、予めEB蒸発源34のハース内に、成膜材料として酸化セリウム(CeO )またはセリウム(Ce)を充填しておく。 More specifically, in the hearth of the pre-EB evaporation source 34, it is filled cerium oxide (CeO 2) or cerium (Ce) as a film forming material. また必要に応じて、表面処理領域35に酸素ガスを導入する。 If necessary, oxygen gas is introduced in the surface treatment area 35. 次に、電子ビーム照射装置から電子ビームを照射してハースに入射させ、ハースに充填された成膜材料を加熱して蒸発させる。 Next, the electron from the beam irradiation apparatus irradiates an electron beam to be incident on the hearth, and evaporated by heating the deposition material filled in the hearth. これにより蒸発した成膜材料が、対向する帯状体2に付着して、酸化セリウム(CeO2)からなる被膜が形成される。 Thus deposition material evaporated is attached to strip 2 opposed, coating film made of cerium oxide (CeO2) is formed. 例えば、75nm・m/min程度の動的成膜速度で、厚さ2μm程度の被膜を形成する。 For example, the dynamic deposition rate of about 75 nm · m / min, to form the thickness of 2μm about the film. ここで動的成膜速度とは、蒸着源の前面を基材が通過して成膜される場合に使われる単位であり、成膜中の基材の移動速度(一定速度)と、成膜領域通過後に基材に成膜された膜の厚みとを乗算したもので示される。 Here the dynamic deposition rate and is a unit used when the front of the deposition source substrate is formed through, and the moving speed of the substrate during film formation (constant speed), deposited represented by those obtained by multiplying the thickness of the film formed on the substrate after the region passes. 蒸着源の前面を基材が通過して成膜される場合には、基材の通過速度が速くなると着膜量が減少するため、静的成膜速度(nm/min)より有用な単位である。 When the front of the deposition source substrate is formed through, since the rate of passage of the substrate is the film deposition amount decreases rapidly, a useful basis than static deposition rate (nm / min) is there. なお表面処理領域35において、ECRイオン源32によるプラズマ処理と、EB蒸発源34による成膜処理とを、同時進行させてもよい。 Note in the surface treatment region 35, a plasma treatment by ECR ion source 32, and a film forming process by the EB evaporation source 34, it may be simultaneously.

なお図2に示すように、ローラ群40を構成するローラ44の幅を14mm程度とした本実施形態では、帯状体2が幅5〜10mm程度の範囲内でサイズ変更された場合でも、装置を改造することなく表面処理を行うことができる。 Incidentally, as shown in FIG. 2, the width of the rollers 44 constituting the roller group 40 in this embodiment is about 14 mm, even if the strip 2 is resized within a width of about 5 to 10 mm, the device it is possible to perform the surface processing without modification to. またローラ44の幅を19mm程度とすれば、幅5〜15mm程度の帯状体2に対応することが可能である。 Further, if the width of the roller 44 about 19 mm, it is possible to correspond to the strip 2 having a width of about 5 to 15 mm. さらに広幅の帯状体2にサイズ変更された場合でも、複数のローラ44の間隔を調整することにより、簡単に対応することが可能である。 Even if it is further resized to strip 2 the wide, by adjusting the spacing of a plurality of rollers 44, it is possible to easily correspond. 具体的には、軸体42から各ローラ44を取り外し、各ローラ44の間に所定厚さのスペーサを挟み込んで、再び軸体42に装着すればよい。 Specifically, detaching the rollers 44 from the shaft 42, sandwich the spacer having a predetermined thickness between the rollers 44 may be mounted on the shaft 42 again. これにより、幅寸法の異なる帯状体2にサイズ変更された場合でも、帯状体2を安定してらせん状に周回走行させることができる。 Accordingly, even when resized to strip 2 having different widths, it is possible to circulate the running belt-shaped body 2 to stably spiral.

なお複数のローラ群40に対する帯状体2の周回数を変更する場合には、−Z側端部のローラ44への回し掛けを省略することによって行う。 Note that when changing the number of turns of the strip 2 with respect to a plurality of rollers 40, carried out by omitting turning hook to roller 44 on the -Z side end. この場合、表面処理室への帯状体2の供給位置を変更するため、図1に示す巻出室10のローラ一式(巻出ローラ12、共巻ローラ14、速度基準ガイドローラ16および中間ローラ18)を、Z方向に移動可能に形成することが望ましい。 In this case, to change the supply position of the strip 2 to the surface treatment chamber, rollers set (unwinding roller 12 of the winding outlet chamber 10 shown in FIG. 1, the co-winding roller 14, the speed reference guide roller 16 and the intermediate roller 18 ), and it is desirable to movably formed in the Z direction. なお図2に示す複数のローラ群40に対する帯状体2の周回数を変更する場合に、+Z側端部のローラ44への回し掛けを省略することによって行うことも可能である。 Note that when changing the number of turns of the belt 2 for a plurality of rollers 40 shown in FIG. 2, it is also possible to perform by omitting turning hook to the + Z side end portion of the roller 44. この場合、表面処理室30からの帯状体2の排出位置が変更されるため、図1に示す巻取室20のローラ一式(巻取ローラ22、共巻ローラ24、ピックアップローラ26および冷却ローラ28)をZ方向に移動可能に形成することが望ましい。 In this case, since the discharge position of the belt 2 from the surface treatment chamber 30 is changed, the roller set (winding shaft 22 of the take-up chamber 20 shown in FIG. 1, the co-winding roller 24, the pickup roller 26 and cooling roller 28 ) that it is desired to movably formed in the Z direction. なお、ピックアップローラ26を移動させると、帯状体2の張力の検出精度が低下するおそれがあるため、前者のように−Z側端部のローラ44への回し掛けを省略することによって、帯状体2の周回数を変更することが望ましい。 Incidentally, moving the pick-up roller 26, since the tension detection accuracy of the strip 2 may be decreased by omitting the Rotate hook to roller 44 on the -Z side end portion as the former, strip it is desirable to change the number of laps 2.

以上に詳述したように、本実施形態に係る表面処理装置では、複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、複数のローラ群が離間配置され、複数のローラ群のローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより帯状体をらせん状に配置した状態で、帯状体を周回走行させつつ帯状体に表面処理を行う構成とした。 As described above in detail, the surface treatment apparatus according to this embodiment includes a plurality of rollers group roller disposed along the shaft, a plurality of rollers are spaced, rollers of the plurality of rollers the strip by applying turning the strip in order in a state arranged in a spiral shape and configured to perform a surface treatment on the strip while orbiting traveling strip against. これにより、隣接するローラ群の間に複数の帯状体が平行に配置されるので、隣接するローラ群の間に表面処理領域を設定することにより、表面処理領域の略全体に帯状体を配置することが可能になる。 Thus, since a plurality of strip between adjacent rollers are arranged in parallel, by setting the surface treatment region between adjacent rollers, placing the strip on the substantially whole of the surface treatment region it becomes possible. したがって、効率的に表面処理を行うことができる。 Therefore, it is possible to efficiently perform the surface treatment.

また本実施形態に係る表面処理装置では、複数のローラ群の軸体が相互に平行に配置され、ローラ群に含まれる複数のローラがそれぞれの回転軸を略一致させて相互に独立して回転自在に形成されているので、帯状体の全体に均一な張力が付与され、局所的な伸びの集中を防止することができる。 In the surface treatment apparatus according to this embodiment also, the axis of a plurality of rollers are arranged parallel to one another, substantially aligned plurality of rollers each rotating shaft included in the roller group independently of one another rotation because it is freely formed, uniform tension across the strip is applied, it is possible to prevent local concentration of elongation. また、複数のローラ群のローラは帯状体の勾配が略一定となるように相互に軸体の軸方向にずれた状態で配置されているので、帯状体の捩れを防止することができる。 The plurality of rollers of the roller since the slope of the strip is arranged with a shift from each other in the axial direction of the shaft so as to be substantially constant, it is possible to prevent the twisting of the strip. さらに、ローラの外周面がローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されているので、幅寸法の異なる帯状体を回し掛けた場合でも、帯状体がローラから外れるのを防止することができる。 Further, since the outer peripheral surface of the roller is formed to project outward toward the center from both ends in the width direction of the roller, even when subjected turning the different strip width dimension, that strip is prevented from disengaging from the roller it can. 以上により、帯状体を安定してらせん状に周回走行させることができる。 Thus, it is possible to circulate the running belt-shaped member stably in a spiral.

なお、本発明の技術範囲は、上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない範囲において、上述した実施形態に種々の変更を加えたものを含む。 The technical scope of the present invention is not limited to the embodiments described above, without departing from the scope of the present invention include those in which various modifications to the embodiments described above. すなわち、実施形態で挙げた具体的な材料や構成などはほんの一例に過ぎず、適宜変更が可能である。 That is, the specific materials and structures described in the embodiments are merely examples and can be appropriately changed.

例えば、本実施形態では4個のローラ群を長方形の角部に相当する位置に設けたが、3個のローラ群を三角形の角部に相当する位置に設けてもよく、2個のローラ群を直線の両端部に相当する位置に設けてもよい。 For example, although the present embodiment is provided with four rollers in a position corresponding to the corners of the rectangle may be provided three rollers at positions corresponding to the corners of a triangle, two rollers the may be provided at positions corresponding to both ends of the straight line. また5個以上のローラ群を多角形の角部に相当する位置に設けてもよい。 The five or more rollers may be provided at a position corresponding to the corner portions of the polygon.
また、本実施形態では表面処理領域における帯状体の一方側のみにEB蒸発源を設けて、帯状体の一方面のみに成膜処理を行ったが、帯状体の両側にEB蒸発源を設けて帯状体の両面に成膜処理を行うことも可能である。 Further, in this embodiment only one side of the strip in the surface treatment region provided EB evaporation sources, were subjected to film formation process only on one surface of the strip, provided the EB evaporation sources on both sides of the strip it is also possible to perform a film forming process on both sides of the strip.

また、本実施形態では帯状体に対して垂直に成膜材料を入射させたが、帯状体に対して斜めに成膜材料を入射させることにより、液晶パネルの傾斜配向膜を形成することも可能である。 Further, in the present embodiment has been caused to enter the deposition material perpendicular to the strip, by entering the deposition material at an angle relative to strip, it is also possible to form an inclined alignment layer of the liquid crystal panel it is.
また、本実施形態では表面処理として主に成膜処理を行ったが、これ以外の表面処理として熱処理(成膜後の熱処理も含む)や窒化処理、酸化処理、プラズマを用いた表面処理等を行うことも可能である。 Although it was primarily film forming process as a surface treatment in the present embodiment, the heat treatment as a surface treatment other than the above (including heat treatment after its formation) and nitriding treatment, oxidation treatment, such as surface treatment using plasma it is also possible to carry out. また複数種類の処理を同時に行うことも可能である。 It is also possible to carry out multiple types of processing simultaneously.

実施形態に係る表面処理装置の平面図である。 It is a plan view of a surface treatment apparatus according to the embodiment. 図1のA矢視図である。 An A arrow view of FIG. 図2のB部の拡大断面図である。 It is an enlarged sectional view of a B portion of FIG. 各ローラ群における第m段ローラの配置説明図である。 It is a layout diagram of a m-stage roller in each roller group.

符号の説明 DESCRIPTION OF SYMBOLS

1…表面処理装置 2…帯状体 10…巻出室 20…巻取室 30…表面処理室 40…ローラ群 42…軸体 43…冷媒流路 44…ローラ 46…断熱リング 48…転がり軸受け 50…吸熱板 1 ... surface treatment unit 2 ... strips 10 ... winding outlet chamber 20 ... winding chamber 30 ... surface treatment chamber 40 ... roller group 42 ... shaft 43 ... coolant channel 44 ... roller 46 ... insulation rings 48 rolling bearing 50 ... endothermic plate

Claims (7)

  1. 複数のローラが軸体に沿って配置されたローラ群を備え、 Comprising a plurality of rollers group roller disposed along an axis thereof,
    複数の前記ローラ群が離間配置され、 A plurality of said rollers are spaced,
    前記複数のローラ群の前記ローラに対して順に帯状体を回し掛けることにより前記帯状体をらせん状に配置した状態で、前記帯状体を周回走行させつつ前記帯状体に表面処理を行う装置であって、 In a state in which the strip by applying turning the strip in order to said roller of said plurality of rollers are arranged in a spiral shape, a an apparatus for performing a surface treatment on the strip while circulating running the strip Te,
    前記複数のローラ群の前記軸体は、相互に平行に配置され、 It said shaft of said plurality of rollers are arranged parallel to one another,
    前記複数のローラ群の前記ローラは、前記帯状体の勾配が略一定となるように、相互に前記軸体の軸方向にずれた状態で配置され、 Wherein the plurality of rollers roller, as the slope of the strip is substantially constant, are arranged with a shift in the axial direction of each other to the shaft body,
    前記ローラ群に含まれる前記複数のローラは、それぞれの回転軸を略一致させて、相互に独立して回転自在に形成され、 Wherein said plurality of rollers included in the roller group is substantially aligned with the respective axis of rotation, it is rotatably formed independently of one another,
    前記ローラの外周面は、前記ローラの幅方向の両端から中央にかけて外側に突出形成されていることを特徴とする表面処理装置。 The outer peripheral surface of the roller, the surface treatment apparatus characterized by being protruded outwardly toward the center from both ends in the width direction of the roller.
  2. 前記ローラは、転がり軸受けを介して前記軸体に装着されていることを特徴とする請求項1に記載の表面処理装置。 The roller is a surface treatment apparatus according to claim 1, characterized in that mounted on the shaft via a roller bearing.
  3. 前記ローラと前記転がり軸受けとの間に、前記ローラの構成材料より熱伝導率の低い材料からなる断熱リングが設けられていることを特徴とする請求項1または請求項2に記載の表面処理装置。 Between only the rolling bearing and the roller, the surface treatment apparatus according to claim 1 or claim 2, characterized in that the heat insulating ring of a material having low thermal conductivity than the material of the roller is provided .
  4. 前記軸体は、内部に冷媒流路を備えていることを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の表面処理装置。 The shaft body is surface treatment apparatus according to any one of claims 1 to 3, characterized in that it comprises a coolant path therein.
  5. 前記ローラの幅方向の少なくとも一方側に、前記軸体から外側に向かって吸熱板が延設されていることを特徴とする請求項1乃至請求項4のいずれか1項に記載の表面処理装置。 On at least one side in the width direction of the roller, the surface processing device according to any one of claims 1 to 4 heat absorbing plate from the shaft towards the outside, characterized in that it extends .
  6. 隣接する一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第1の表面処理を行い、前記一対のローラ群とは異なる他の一対の前記ローラ群の間において、前記帯状体に第2の表面処理を行うことを特徴とする請求項1乃至請求項5のいずれか1項に記載の表面処理装置。 Between the adjacent pair of the roller group, performing a first surface treatment to said strip, in between the pair of rollers the roller group different from the pair of the group, the second surface of said strip surface treatment apparatus according to any one of claims 1 to 5, characterized in that performing the process.
  7. 前記帯状体を供給する巻出室と、前記帯状体に表面処理を行う表面処理室と、前記帯状体を巻き取る巻取室とを備え、 Includes a unwinding chamber for supplying the belt-shaped member, and a surface treatment chamber for performing a surface treatment on the strip, and a winding chamber for winding the strip,
    前記巻出室、前記表面処理室および前記巻取室は、それぞれ内部雰囲気を調整しうるようになっていることを特徴とする請求項1乃至請求項6のいずれか1項に記載の表面処理装置。 The winding outlet chamber, said surface treatment chamber and the winding-up chamber, a surface treatment according to any one of claims 1 to 6, characterized in that is adapted to be adjusted to inner atmosphere respectively apparatus.
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