JP2007223036A - Cu-w pipe and manufacturing method thereof, and electric discharging pipe electrode using the same and manufacturing method thereof - Google Patents

Cu-w pipe and manufacturing method thereof, and electric discharging pipe electrode using the same and manufacturing method thereof Download PDF

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Kazuo Sasaya
和男 笹谷
Akira Takeuchi
彰 竹内
Yasuhiro Takagi
康弘 高木
Yoshihiko Doi
良彦 土井
Naoyuki Okubo
直幸 大久保
Hitoshi Kishida
均 岸田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a Cu-W pipe having a very small outer diameter at 0.5 mm or less, a manufacturing method thereof, and an electric discharging pipe electrode using the same and a manufacturing method thereof. <P>SOLUTION: The Cu-W pipe is composed of Cu of 25-30 wt.%, Ni or Co of 0.1-0.5 wt.%, CeO<SB>2</SB>of 0-1.0 wt.% (not comprising zero), and W in residual parts except the unavoidable impurity, and formed of a pipe-like sintered body in which the minimum manufacturing dimension is formed by outer diameter of 0.08 mm×inner diameter of 0.04 mm, and grain diameter of the W in the sintered body is 0.5-3.0 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、放電加工電極とその製造方法に関し、詳しくは、リードフレーム製造等に用いられ、微細な加工が可能な放電加工電極に用いられる極細径Cu−Wパイプを用いた放電加工用パイプ電極とその製造方法に関する。   The present invention relates to an electric discharge machining electrode and a method for manufacturing the electric discharge machining electrode. More specifically, the present invention relates to an electric discharge machining pipe electrode using an ultra-fine diameter Cu-W pipe used for an electric discharge machining electrode that can be used for lead frame production and the like. And its manufacturing method.

メモリー容量の増大化のために、ICの集積化が進み、リードフレームの多ピン化、ファインピッチ化が進行している。現在、これらのリードフレームを製造するために、プレス打ち抜き法とエッチング法による製造が行われている。しかし、量産性、コスト性を考慮すると、現在のところプレス打ち抜き法が有利になっている。その為、プレス打ち抜き法によって製造されるICリードフレームは、微小化の一途を辿っている。これらのプレス打ち抜き金型のダイブロックの加工には、通常プロファイル成形加工機を使用していたが、研削工程の無人化、組立精度の向上には熟練を要し、自ずと製造コストの高騰へとつながる。   In order to increase the memory capacity, integration of ICs has progressed, leading to a multi-pin lead frame and a fine pitch. Currently, in order to manufacture these lead frames, manufacturing by a press punching method and an etching method is performed. However, considering mass productivity and cost, the press punching method is currently advantageous. For this reason, IC lead frames manufactured by the press punching method are being miniaturized. A profile forming machine was normally used to process the die block of these press punching dies, but skill was required to unmanned the grinding process and improve assembly accuracy, which naturally led to a rise in manufacturing costs. Connected.

そこで、これらの問題点を解決するために登場したのがワイヤー放電加工技術である。しかし、このワイヤー放電加工技術において、ワイヤーを使用して切断するためには、ワイヤーを通過させる下穴が必要となる。この下穴をあけるために、従来の放電加工用電極としては、Cuパイプが主に使用されていた。   Therefore, wire electric discharge machining technology has been introduced to solve these problems. However, in this wire electric discharge machining technique, in order to cut using a wire, a pilot hole through which the wire passes is necessary. In order to make this prepared hole, a Cu pipe has been mainly used as a conventional electrode for electric discharge machining.

ICリードフレームに代表される半導体金型の加工に使用されるワイヤー放電加工技術は、ワイヤーの線径もさることながら、ワイヤーを通過させる下穴がどの様に出来るかによって、微細加工出来るか否かが決定されるキーポイントである。つまり、下穴の形状、真直性、入口と出口の径の差、そして加工能力が決め手となる。   The wire electrical discharge machining technology used for the processing of semiconductor molds typified by IC lead frames can be finely processed depending on how the pilot hole that allows the wire to pass through can be used, in addition to the wire diameter. Is a key point to be determined. In other words, the shape of the prepared hole, straightness, the difference in diameter between the inlet and outlet, and the processing capability are decisive factors.

従来、Cuパイプがワイヤーを通過させる下穴の加工に用いられていたが、その加工精度に問題があった。パイプでは、現在外径が80μmのパイプの製造が可能であるが、真直性の点で問題がある。つまりCu自身の剛性が低いため、被加工物である超硬合金へ放電をさせながら穴を開けていくと、Cuのパイプが超硬合金中で曲がってしまうという欠点がある。また、Cuパイプの放電による摩耗が大きく被加工物である超硬合金の板厚が厚いと、数回取り替えなければ穴が貫通しなかったり、材料の穴あけを一定方向から出来ず、板厚の半分ほどで反対側から穴を開けなければならず、真直性についても不安が残る問題点があった。   Conventionally, a Cu pipe has been used for processing a pilot hole through which a wire passes, but there is a problem in processing accuracy. As for the pipe, it is possible to manufacture a pipe having an outer diameter of 80 μm at present, but there is a problem in terms of straightness. In other words, since the rigidity of Cu itself is low, there is a drawback that if a hole is made while discharging the cemented carbide, which is a workpiece, the Cu pipe is bent in the cemented carbide. In addition, if the thickness of the cemented carbide, which is the workpiece, is large due to the wear of the discharge of the Cu pipe, the hole will not penetrate unless it is changed several times, or the material cannot be drilled from a certain direction. Half of them had to be drilled from the opposite side, and there was a problem that remained uneasy about straightness.

特許文献1には、Cu−Wパイプの例が開示されている。しかしながら、その具体的製造方法に関しては、全く開示されていない。   Patent Document 1 discloses an example of a Cu-W pipe. However, no specific manufacturing method is disclosed at all.

また、従来からもCu−Wパイプは製造されていたが、その外径Dは0.5mmが限界であった。その理由は、主としてCu−WパイプはCu粉末とW粉末にバインダーを入れて混練した材料を押し出す。その後、脱バインダー、焼結過程を経て製品となる。   In addition, Cu-W pipes have been manufactured conventionally, but the outer diameter D has a limit of 0.5 mm. The reason is mainly that the Cu-W pipe extrudes a material obtained by kneading a Cu powder and a W powder with a binder. Thereafter, the product is processed through a binder removal and sintering process.

しかし、この方法ではバインダーの量が多く、外径が0.5mm以下のような極細径のCu−Wパイプを押し出した場合、脱バインダー時の強度が無く形が維持できなかった。   However, in this method, when the amount of the binder is large and an ultra-fine Cu-W pipe having an outer diameter of 0.5 mm or less is extruded, the shape cannot be maintained due to lack of strength at the time of debinding.

一方、特許文献2には、圧縮及び焼結させるために好適な流動性タングステン/銅複合粉末の製造方法が開示されているが、あくまで圧縮成形であり押出成形のための粉末ではない。また、流動性タングステン/銅複合粉末は、製造方法が複雑であり、工数がかかり、コストの面からも得策ではなかった。   On the other hand, Patent Document 2 discloses a method for producing a flowable tungsten / copper composite powder suitable for compression and sintering, but it is compression molding and not a powder for extrusion molding. In addition, the flowable tungsten / copper composite powder has a complicated manufacturing method, requires a lot of man-hours, and is not advantageous from the viewpoint of cost.

特開2000−94219号公報JP 2000-94219 A 特開平8−311509号公報JP-A-8-311509

そこで、本発明の技術的課題は、外径が0.5mm以下のような極細径のCu−Wパイプとその製造方法及びそれを用いた放電加工用パイプ電極とその製造方法を提供することにある。   Therefore, the technical problem of the present invention is to provide an ultra-fine Cu-W pipe having an outer diameter of 0.5 mm or less, a manufacturing method thereof, a pipe electrode for electric discharge machining using the same, and a manufacturing method thereof. is there.

前述したように、ICリードフレームに代表される半導体金型の微小化を辿る加工ワイヤーの下穴をいかに精度良く安定に加工できるかがポイントであり、本発明者らは、放電加工用電極パイプについて、Cuパイプに問題として残る下穴の形状、真直性、入口と出口の径の差そして加工能力について改善すべく鋭意研究した。その結果、Cu粉末、W粉末とバインダーとの濡れ性を改善する界面活性剤を添加することによって、バインダー量を減少でき、これによって、脱バインダーにおいて、形を維持できる強度が保持できることを見出し本発明を成すに至ったものである。   As described above, the point is how to accurately and stably process the pilot hole of the processing wire that follows the miniaturization of the semiconductor mold represented by the IC lead frame. In order to improve the shape, straightness, difference between the diameters of the inlet and outlet, and the processing ability, the problems remained in the Cu pipe. As a result, by adding a surfactant that improves the wettability between Cu powder, W powder and binder, the amount of the binder can be reduced, thereby finding that the strength capable of maintaining the shape can be maintained in debinding. It came to make invention.

本発明によれば、組成が重量%でCuを25〜30%、NiまたはCoを0.1〜0.5%、CeOを0(0を含まず)〜1.0%、及び不可避不純分を除く残部がWからなるパイプ状の焼結体であって、前記パイプの最小作製寸法が外径0.08mm×内径0.04mmであり、前記焼結体のWの粒径が0.5〜3.0μm(3.0は含まず)であることを特徴とするCu−Wパイプが得られる。 According to the present invention, the composition is 25% by weight, Cu is 25-30%, Ni or Co is 0.1-0.5%, CeO 2 is 0 (not including 0) -1.0%, and inevitable impurities A pipe-like sintered body whose balance excluding W is made of W, the minimum production dimension of the pipe is 0.08 mm outer diameter × 0.04 mm inner diameter, and the particle size of W of the sintered body is 0.00. A Cu—W pipe characterized by being 5 to 3.0 μm (not including 3.0) is obtained.

また、本発明によれば、前記Cu−Wパイプにおいて、前記Cu−Wパイプを、放電加工用電極に用いることを特徴とする放電加工用パイプ電極が得られる。   Further, according to the present invention, in the Cu-W pipe, an electric discharge machining pipe electrode is obtained, wherein the Cu-W pipe is used as an electric discharge machining electrode.

また、本発明によれば、前記Cu−Wパイプを製造する方法であって、組成が重量%でCuを25〜30%、NiまたはCoを0.1〜0.5%、CeOを0(0を含まず)〜1.0%、及び不可避不純分を除く残部がWからなる粉末と、親油性バインダーまたは水溶性バインダーとを混練して第1の混練物を作製し、前記第1の混練物に非イオン系界面活性剤を添加して第2の混練物を作製し、前記第2の混練物をポートホールダイスを通過させて押出して円筒形材料を作製し、前記円筒形材料を焼結して前記Cu−Wパイプを得ることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法が得られる。 Also, according to the present invention, there is provided a method for producing the Cu-W pipe, wherein the composition is wt%, Cu is 25-30%, Ni or Co is 0.1-0.5%, and CeO 2 is 0. The first kneaded material is prepared by kneading the powder consisting of W (excluding 0) to 1.0% and the balance of W excluding inevitable impurities and the lipophilic binder or water-soluble binder. A nonionic surfactant is added to the kneaded product to prepare a second kneaded product, and the second kneaded product is extruded through a porthole die to produce a cylindrical material. A Cu-W pipe manufacturing method is obtained in which the Cu-W pipe is obtained by sintering.

また、本発明によれば、前記Cu−Wパイプの製造方法において、前記W粉末の平均粒径が0.5μm〜3μmであることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法が得られる。   Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the said Cu-W pipe WHEREIN: The average particle diameter of the said W powder is 0.5 micrometer-3 micrometers, The manufacturing method of the Cu-W pipe characterized by the above-mentioned is obtained.

また、本発明によれば、前記いずれかのCu−Wパイプの製造方法において、前記親油性バインダーはパラフィンであり、前記水溶性バインダーはデキストリン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリエチレングリコールから選ばれることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法が得られる。   According to the present invention, in any one of the methods for producing a Cu-W pipe, the lipophilic binder is paraffin, and the water-soluble binder is selected from dextrin, gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, and polyethylene glycol. A Cu-W pipe manufacturing method is obtained.

また、本発明によれば、前記Cu−Wパイプの製造方法において、前記パラフィンの量は前記粉末重量に対し9重量%であることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法が得られる。   According to the present invention, in the method for producing a Cu-W pipe, the method for producing a Cu-W pipe is characterized in that the amount of the paraffin is 9% by weight with respect to the weight of the powder.

また、本発明によれば、前記いずれか一つのCu−Wパイプの製造方法において、前記非イオン系界面活性剤の量は当該HLB値が10のとき前記粉末重量に対し2重量%であることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法が得られる。   According to the present invention, in any one of the methods for producing a Cu-W pipe, the amount of the nonionic surfactant is 2% by weight with respect to the weight of the powder when the HLB value is 10. A Cu-W pipe manufacturing method is obtained.

また、本発明によれば、前記いずれか一つのCu−Wパイプの製造方法を用いたことを特徴とする放電加工用パイプ電極の製造方法が得られる。   In addition, according to the present invention, there is obtained a method of manufacturing a pipe electrode for electric discharge machining using any one of the above-described methods for manufacturing a Cu-W pipe.

さらに、具体的に本発明を説明すると、Cu−Wパイプにおいて、Cuが25〜30重量%、Niが0.1〜0.5重量%、CeOが0〜1.0重量%、不可避不純物を除く残部がWである組成で、合金組織中のWの粒径が0.5〜3.0μmであり、外径D、内径dとの関係が、0.08mm≦D≦0.5mm、0.04mm≦d≦0.46mm、D−d≧0.04mmでヤング率が196〜294GPaであることが好ましく、電気伝導度(%IACS)が30以上を有するために、放電加工電極として用いられる。 Further, the detailed explanation of the present invention, in the Cu-W pipe, Cu is 25 to 30 wt%, Ni 0.1 to 0.5 wt%, CeO 2 is 0-1.0 wt%, inevitable impurities And the balance of W in the alloy structure is 0.5 to 3.0 μm, and the relationship between the outer diameter D and the inner diameter d is 0.08 mm ≦ D ≦ 0.5 mm. It is preferable that 0.04 mm ≦ d ≦ 0.46 mm, Dd ≧ 0.04 mm, Young's modulus is 196 to 294 GPa, and the electric conductivity (% IACS) is 30 or more. It is done.

この電極を用いることによって、従来のCuパイプより精度、能率の良い電極を提供できるようになり、今までのCu−Wパイプではあけられなかった、極細径の穴が開けることができるようになった。   By using this electrode, it becomes possible to provide an electrode with higher accuracy and efficiency than the conventional Cu pipe, and it becomes possible to open a very small diameter hole that could not be made with the conventional Cu-W pipe. It was.

ここで、本発明の放電加工電極について上記のように限定した理由について述べる。   Here, the reason why the electric discharge machining electrode of the present invention is limited as described above will be described.

まず、本発明において、外径、内径そして外径と内径の差について上記のように限定した理由は、まず外径の0.08mmは現在の技術では、これよりも細い外径のCu−Wパイプの製造はできない。また内径の0.04mmも同様な理由である。次に、外径の0.5mmは、それ以上になるとCu−Wを使用して細い穴を明けなくてもCuのパイプでも十分使用できるためである。また、内径の0.46mmも同様な理由である。外径と内径の差については0.04mmつまり、片側0.02mmがなければ電極が放電をしながら消耗していくときに、加工液が漏れることがあるためである。また、外径と内径差がある方が加工液を多く流すことができ、スラッジの排出がうまくいくからである。   First, in the present invention, the reason why the outer diameter, the inner diameter, and the difference between the outer diameter and the inner diameter are limited as described above is that the outer diameter of 0.08 mm is Cu-W having an outer diameter smaller than that in the current technology. Pipes cannot be manufactured. Also, the inner diameter of 0.04 mm is the same reason. Next, when the outer diameter is 0.5 mm or more, Cu pipes can be used sufficiently even if Cu-W is not used to make a fine hole. Also, the inner diameter of 0.46 mm is the same reason. The difference between the outer diameter and the inner diameter is 0.04 mm, that is, if there is no 0.02 mm on one side, the machining fluid may leak when the electrode is consumed while discharging. Moreover, it is because the one where there is a difference between the outer diameter and the inner diameter can flow a larger amount of machining fluid, and the sludge can be discharged well.

また、本発明において、ヤング率を上記のように限定したのは、次の理由からである。   In the present invention, the Young's modulus is limited as described above for the following reason.

Cu−Wのパイプの特徴として、Cuパイプよりヤング率の高いことが上げられる。ここでヤング率が196〜294GPaを下回ると、Cu−Wパイプの剛性の優位性が失われ、放電加工によって開けられる穴の真直性が失われてしまう。一方、294GPa以上になると、Wの割合が多くなり放電加工特性が低下するために、ヤング率を196〜294Paと限定した。   A characteristic of the Cu-W pipe is that it has a higher Young's modulus than the Cu pipe. Here, if the Young's modulus is less than 196 to 294 GPa, the superiority of the rigidity of the Cu-W pipe is lost, and the straightness of the hole opened by electric discharge machining is lost. On the other hand, when it becomes 294 GPa or more, the ratio of W increases and the electrical discharge machining characteristics deteriorate, so the Young's modulus is limited to 196 to 294 Pa.

また、本発明において、電気伝導度(%IACS)を30以上としたのは、加工液が水溶性であった場合、30以下では電極自身の電気伝導度が低すぎて放電をせず、電極自身加熱され軟化もしくは溶融されてしまう。一方、加工液が油性である場合、電圧をあげることで放電は起こすが、それに比例して放電エネルギーが大きくなるため、結果として放電加工面が粗くなり、加工精度が得られなくなるためである。   In the present invention, the electrical conductivity (% IACS) is set to 30 or more when the working fluid is water-soluble, the electrical conductivity of the electrode itself is too low to discharge when the processing liquid is 30 or less. It is heated and softened or melted. On the other hand, when the machining fluid is oily, electric discharge is caused by increasing the voltage, but the discharge energy increases in proportion thereto, and as a result, the electric discharge machining surface becomes rough and machining accuracy cannot be obtained.

また、本発明において、組成を上記のように限定したのは、次の理由による。   In the present invention, the composition is limited as described above for the following reason.

Cu−Wのパイプの特性としては電気伝導度が高く且つ剛性が高い方が望ましい。しかし、前者についてはCuの比率を高くしなければならず、後者については逆にCuの比率を低くし、Wの比率を高くしなければならず二律背反する。よって、これらの特性を満たすための組成としてCuを25〜30重量%に限定し、添加物及び不可避不純物を除く残部をWとした。Ni、Coについは、一般にCu−W合金は粉末冶金法で製造されるが、0.1重量%未満ではCuの融点より高い温度で焼結しても合金中に空孔が残り、なかなか合金の密度が上がらず強度が得られない。一方、0.5重量%以上ではCu−W合金の電気伝導度が著しく低下する。よってその比率を0.1〜0.5重量%に限定した。   As the characteristics of the Cu-W pipe, it is desirable that the electric conductivity is high and the rigidity is high. However, the ratio of Cu must be increased for the former, and conversely, the ratio of Cu must be decreased and the ratio of W must be increased for the latter. Therefore, Cu is limited to 25 to 30% by weight as a composition for satisfying these characteristics, and the balance excluding additives and inevitable impurities is set to W. For Ni and Co, Cu-W alloys are generally manufactured by powder metallurgy, but if the amount is less than 0.1% by weight, voids remain in the alloy even when sintered at a temperature higher than the melting point of Cu, and it is quite easy The density of the glass does not increase and the strength cannot be obtained. On the other hand, when the content is 0.5% by weight or more, the electrical conductivity of the Cu—W alloy is significantly reduced. Therefore, the ratio was limited to 0.1 to 0.5% by weight.

一方、CeOについては、Cuと比較して放電特性が劣るCu−W合金の放電特性の安定向上に寄与するが、1.0重量%以上の添加では、Cu−Wの焼結特性を著しく阻害し、ひいては放電特性を劣化させる。従って、その範囲を0以上、好ましくは、0.2重量%以上で1.0重量%以下と限定したものである。 On the other hand, CeO 2 contributes to the stability improvement of the discharge characteristics of the Cu—W alloy, which has inferior discharge characteristics as compared with Cu, but the addition of 1.0% by weight or more remarkably improves the sintering characteristics of Cu—W. It obstructs and eventually degrades the discharge characteristics. Therefore, the range is limited to 0 or more, preferably 0.2% by weight or more and 1.0% by weight or less.

また、本発明において、合金組織中のWの粒径について上記のように限定したのは、次の理由による。   In the present invention, the grain size of W in the alloy structure is limited as described above for the following reason.

Cu−W合金は一般に粉末冶金法で行われる。その焼結はW粒子間に溶融したCuが毛細管現象によって引き込まれ、W粒子表面を覆い、W粒子間の空隙を満たすことで進行する。W粒子の粒径が3.0μmを超える場合、その単位質量当たりの表面積が小さくなり、過剰となったCuが合金表面ににじみ出てくる。すなわち、合金の形状がパイプの場合、そのパイプ孔がにじみ出てきたCuで塞がれてしまう。逆に、W粒子の粒径が0.5μm未満の場合、その単位質量当たりの表面積が大きくなり、W粒子の表面積を十分に濡らすことができず、結果として空隙が残り、合金強度が得られない。よって、合金組織中のWの粒径を0.5〜3.0μmに限定した。   Cu-W alloys are generally performed by powder metallurgy. The sintering proceeds when Cu melted between the W particles is drawn by capillary action, covers the surface of the W particles, and fills the voids between the W particles. When the particle size of W particles exceeds 3.0 μm, the surface area per unit mass becomes small, and excess Cu oozes out on the alloy surface. That is, when the shape of the alloy is a pipe, the pipe hole is blocked by the oozing Cu. On the other hand, when the particle size of W particles is less than 0.5 μm, the surface area per unit mass becomes large and the surface area of W particles cannot be sufficiently wetted, resulting in voids remaining, resulting in alloy strength. Absent. Therefore, the particle size of W in the alloy structure is limited to 0.5 to 3.0 μm.

また、本発明によれば、前記極細径Cu−Wパイプの製造方法において、前記パラフィンの量は前記粉末重量に対し9重量%であることを特徴とする極細径Cu−Wパイプの製造方法が得られる。   According to the present invention, in the method for manufacturing the ultra-fine diameter Cu-W pipe, the amount of the paraffin is 9% by weight with respect to the powder weight. can get.

また、本発明によれば、前記いずれか一つの極細径Cu−Wパイプの製造方法において、更に、非イオン系界面活性剤を含み、前記非イオン系界面活性剤の量は当該HLB値が10のとき前記粉末重量に対し2重量%であることを特徴とする極細径Cu−Wパイプの製造方法が得られる。   Moreover, according to the present invention, in the method for manufacturing any one of the ultra-fine Cu-W pipes, a nonionic surfactant is further included, and the amount of the nonionic surfactant is such that the HLB value is 10 In this case, an ultrafine Cu-W pipe manufacturing method is obtained, which is 2% by weight with respect to the powder weight.

また、本発明によれば、前記いずれか一つに記載の極細径Cu−Wパイプの製造方法を用いたことを特徴とする放電加工電極の製造方法が得られる。   Moreover, according to this invention, the manufacturing method of the electrical discharge machining electrode characterized by using the manufacturing method of the ultra-fine diameter Cu-W pipe as described in any one of the above is obtained.

ここで、本発明において用いた界面活性剤は非イオン系界面活性剤で、カチオンやアニオン系の界面活性剤ではCu−WパイプにPore等の欠陥を生じさせるために好ましくない。   Here, the surfactant used in the present invention is a nonionic surfactant, and a cationic or anionic surfactant is not preferable because it causes defects such as Pore in the Cu-W pipe.

また、非イオン系界面活性剤は、親油性親水性の指標であるHLBの値で分類されるが、これは用いるバインダーの種類によって選択できる。つまり、親油性バインダーとして、例えば、パラフィンを用いる場合は、HLBの数値の低いもの(6以下)を選択し、水溶性バインダーを用いる場合には、HLBの数値の高い物(6以上)を選択する。   Nonionic surfactants are classified by the HLB value, which is an index of lipophilic hydrophilicity, and can be selected depending on the type of binder used. In other words, for example, when paraffin is used as the lipophilic binder, a low HLB value (6 or less) is selected, and when a water-soluble binder is used, a high HLB value (6 or more) is selected. To do.

水溶性バインダーとしては、デキストリン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリエチレングリコール等が選択できる。   As the water-soluble binder, dextrin, gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, polyethylene glycol and the like can be selected.

ここで、一例を示すと、非イオン系界面活性剤を添加することによって従来13重量%まで必要であったバインダー(パラフィン)が4重量%まで減少出来るようになった。   Here, as an example, the binder (paraffin), which was conventionally required up to 13% by weight, can be reduced to 4% by weight by adding a nonionic surfactant.

さらに、本発明の製造方法においては、押し出し時の抵抗を減少させるように、ダイス角度θ1を30度とすることによって、ダイス内面と材料のすべり抵抗を減少させることができるようになり、外径が0.5mm以下のようなCu−Wパイプを押し出しすることができるようになった。   Furthermore, in the manufacturing method of the present invention, the sliding resistance between the inner surface of the die and the material can be reduced by setting the die angle θ1 to 30 degrees so as to reduce the resistance at the time of extrusion. Cu-W pipes with a diameter of 0.5 mm or less can be extruded.

以上、上記に示した技術によって、下記の放電加工電極が製造可能となった。   As described above, the following electric discharge machining electrode can be manufactured by the technique described above.

本発明によれば、外径が0.5mm以下のような極細径のCu−Wパイプとその製造方法及びそれを用いた放電加工用パイプ電極とその製造方法を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to provide an ultra-fine Cu-W pipe having an outer diameter of 0.5 mm or less, a manufacturing method thereof, a pipe electrode for electric discharge machining using the same, and a manufacturing method thereof.

以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本発明の実施の形態による極微細Cu−Wパイプを製造することに用いられる押し出し成形機のダイスを示す断面図、図2は図1のダイスの第1の金型を示す断面図、図3は図1のダイスの第2の金型を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面図である。   FIG. 1 is a sectional view showing a die of an extrusion molding machine used for manufacturing an ultrafine Cu—W pipe according to an embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a sectional view showing a first die of the die shown in FIG. FIGS. 3A and 3B are views showing a second mold of the die shown in FIG. 1, wherein FIG. 3A is a plan view and FIG. 3B is a cross-sectional view.

図1を参照すると、ダイス1は、図では、上下方向に中心軸を備えた第1の金型10と、第1の金型10の中心軸方向の一端から装着される第2の金型20とを備えている。   Referring to FIG. 1, in the figure, a die 1 includes a first mold 10 having a central axis in the vertical direction and a second mold mounted from one end of the first mold 10 in the central axis direction. 20.

図2に示すように、第1の金型10には、中心軸方向に沿って材料が通過する孔部2を備えている。この孔部2は、一端に比較的大きな径の円筒内面を備えた大径部3と、他端に比較的小さな径を備えた穴部である細径部4と、これらの端部を連絡する円錐内面を備えた円錐部5とを備えている。孔部の両端の開口縁面には、面取りが施されている。この円錐面のダイス角θ1は、図ではやや大きく誇張されて描かれているが、略30度である。   As shown in FIG. 2, the first mold 10 is provided with a hole 2 through which material passes along the central axis direction. The hole 2 is connected to a large-diameter portion 3 having a cylindrical inner surface having a relatively large diameter at one end, and a small-diameter portion 4 being a hole having a relatively small diameter at the other end, and these ends. And a conical portion 5 having a conical inner surface. The opening edge surfaces at both ends of the hole are chamfered. The dice angle θ1 of this conical surface is drawn to be slightly exaggerated in the drawing, but is approximately 30 degrees.

図3(a)及び(b)に示すように、第2の金型20は、一端に設けられたフランジ部11と、これに続き、このフランジ部11よりも外径の小さな円柱外面を備えた基部13と、基部の中心から他端側から軸方向に突出した円柱棒14と、円柱棒14の先端から次第に径が狭まるように設けられたテーパ角度θ2が略30度の円錐外面を備えた円錐部15と、円錐部15の先端に設けられた芯線部16とを備えている。フランジ部11及び基部を中心軸方向に沿って貫通した貫通孔12が円柱棒14の周囲に開口を有するように、同心円状に等角度間隔で設けられている。   As shown in FIGS. 3A and 3B, the second mold 20 includes a flange portion 11 provided at one end, followed by a cylindrical outer surface having a smaller outer diameter than the flange portion 11. A base 13, a cylindrical rod 14 projecting axially from the other end side from the center of the base, and a conical outer surface having a taper angle θ2 of approximately 30 degrees provided so that the diameter gradually decreases from the tip of the cylindrical rod 14. A conical portion 15 and a core wire portion 16 provided at the tip of the conical portion 15. The through holes 12 penetrating the flange portion 11 and the base portion along the central axis direction are provided concentrically at equal angular intervals so as to have openings around the cylindrical rod 14.

図2に示した第1の金型10の一端の大径部3側に、第2の金型20を芯線16側から中心軸方向に細径部に向かって挿入すると、図1に示すように、細径部4に芯線16が挿入され、第2の金型20と、第1の金型10の夫々の円錐面が互いに平行になるとともに、フランジ部11の他面が、第1の金型の一端面に当接して固定されダイス1が完成する。   When the second mold 20 is inserted in the direction of the central axis from the core wire 16 side toward the small diameter part on the large diameter part 3 side of one end of the first mold 10 shown in FIG. 2, as shown in FIG. In addition, the core wire 16 is inserted into the small diameter portion 4, the conical surfaces of the second mold 20 and the first mold 10 are parallel to each other, and the other surface of the flange portion 11 is the first surface. The die 1 is completed by being in contact with and fixed to one end surface of the mold.

ここで、図1を再び参照すると、押し出し成形機等で混練された材料は、貫通孔12に押し込まれ、第2の金型20の円柱棒及び円錐部と、第1の金型の円錐部によって形成される空間6内に至り、更に、先端部7から芯線16によって、パイプ形状となって押し出される。このダイスを用いて押し出された円筒形材料は、形くずれすることなく、焼結することによって、極細径パイプとなる。   Here, referring again to FIG. 1, the material kneaded by an extrusion molding machine or the like is pushed into the through-hole 12, and the cylindrical rod and conical part of the second mold 20 and the conical part of the first mold. The space 6 is formed into a pipe shape, and is further extruded from the distal end portion 7 by the core wire 16 into a pipe shape. The cylindrical material extruded using this die becomes an ultrafine pipe by sintering without being deformed.

次に、本発明の実施の形態によるCu−Wパイプの具体的な製造例について説明する。なお、以下の説明において、特に断らない限り、化学成分(組成)を示す%は重量%を示している。   Next, a specific manufacturing example of the Cu—W pipe according to the embodiment of the present invention will be described. In the following description, unless otherwise specified, “%” indicating a chemical component (composition) indicates “% by weight”.

下記表1に示した所定量に配合したCu粉末、W粉末、Ni,Co粉末、CeO粉末とパラフィンを投入粉末の重量に対して9%混練機の中に投入して混練した。次に、非イオン系界面活性剤(HLB値10)を投入粉末の重量に対して2%投入する。この工程で混練を1時間行い、その後混練材料を取り出した。その後、押し出し機に投入しポートホールダイス(図1参照)を用いて、パイプの形状に押し出す。次に押し出されたCu−Wパイプを1200℃で1時間焼結を行った。その後外周を研削して表2に示したように外径、内径、ヤング率、%IACSを有するCu−Wパイプを得た。 Cu powder, W powder, Ni, Co powder, CeO 2 powder and paraffin blended in predetermined amounts shown in Table 1 below were charged into a kneader at 9% based on the weight of the charged powder and kneaded. Next, 2% of a nonionic surfactant (HLB value 10) is added relative to the weight of the charged powder. In this process, kneading was performed for 1 hour, and then the kneaded material was taken out. Then, it is put into an extruder and extruded into the shape of a pipe using a porthole die (see FIG. 1). Next, the extruded Cu—W pipe was sintered at 1200 ° C. for 1 hour. Thereafter, the outer periphery was ground to obtain a Cu—W pipe having an outer diameter, an inner diameter, a Young's modulus, and% IACS as shown in Table 2.

Figure 2007223036
Figure 2007223036

Figure 2007223036
Figure 2007223036

また、下記表3には、比較のために用いたCuパイプの特性を示した。   Table 3 below shows the characteristics of the Cu pipe used for comparison.

Figure 2007223036
Figure 2007223036

次に、上記表2に示したCu−W放電加工電極と上記表3に示したCuパイプ放電加工電極を用いて、種々の板厚の超硬合金(G5)に穴をあけることによって、電極の消耗、加工速度、入口及び出口の芯ずれについて調べた。   Next, by using the Cu-W electric discharge machining electrode shown in Table 2 and the Cu pipe electric discharge machining electrode shown in Table 3 above, by drilling holes in the cemented carbide (G5) of various plate thicknesses, Were examined for wear, processing speed, and misalignment of the inlet and outlet.

まず、電極の消耗について説明する。同一径のCu−W,Cu放電加工電極を用い、同一個数の穴をあけたときの電極の減り具合を測定し、Cu−W電極の減り具合を100としたときの減り具合を指数として下記表4に表した。加工条件は、超硬合金G5、板厚(t)=5,10,15mmである。   First, electrode consumption will be described. Using the same diameter Cu-W, Cu EDM electrode, measure the reduction of the electrode when the same number of holes are drilled, and use the reduction degree when the reduction of the Cu-W electrode is 100 as an index. It is shown in Table 4. The processing conditions are cemented carbide G5, plate thickness (t) = 5, 10, 15 mm.

Figure 2007223036
Figure 2007223036

次に、加工時間について説明する。同一径のCu−W、Cu放電加工電極を用い、同一個数の穴をあけたときの時間を測定し、Cu−Wの加工に要した時間を100としたときのCu電極の要した時間を指数として、下記表5に表した。加工条件は、超硬合金G5、板厚(t)=5,10,15mmである。   Next, the processing time will be described. Using Cu-W and Cu electric discharge machining electrodes of the same diameter, the time when the same number of holes were drilled was measured, and the time required for the Cu electrode when the time required for machining Cu-W was taken as 100 was calculated. The index is shown in Table 5 below. The processing conditions are cemented carbide G5, plate thickness (t) = 5, 10, 15 mm.

Figure 2007223036
Figure 2007223036

次に入口出口の芯ずれについて、説明する。同一径のCu−W、Cu放電加工電極を用い、同一個数の穴をあけたときの入口出口の芯ずれを測定し、Cu−W放電加工電極を使用したときの入口出口の芯ずれを100としたときのCu放電加工電極を使用したときの入口出口の芯ずれを指数として、下記表6に表した。加工条件は、超硬合金G5、板厚(t)=5.10,15mmである。   Next, misalignment of the inlet / outlet will be described. Measure the misalignment of the inlet and outlet when the same number of holes are drilled using the same diameter Cu-W, Cu EDM electrode, and the misalignment of the inlet and outlet when the Cu-W EDM electrode is used is 100. Table 6 below shows, as an index, the misalignment at the inlet and outlet when the Cu electric discharge machining electrode was used. The processing conditions are cemented carbide G5, plate thickness (t) = 5.10, 15 mm.

Figure 2007223036
Figure 2007223036

以上の説明においては、本発明に係るCu−Wパイプは溶接等に用いられる放電加工用パイプ電極に適用される。   In the above description, the Cu-W pipe according to the present invention is applied to a pipe electrode for electric discharge machining used for welding or the like.

本発明の実施の形態による極微細Cu−Wパイプを製造することに用いられる押し出し成形機のダイスを示す断面図である。It is sectional drawing which shows the die | dye of the extrusion molding machine used for manufacturing the ultrafine Cu-W pipe by embodiment of this invention. 図1のダイスの第1の金型を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the 1st metal mold | die of the die | dye of FIG. 図1のダイスの第2の金型を示す図で、(a)は平面図、(b)は断面図である。It is a figure which shows the 2nd metal mold | die of the dice | dies of FIG. 1, (a) is a top view, (b) is sectional drawing.

符号の説明Explanation of symbols

1 ダイス
2 孔部
3 大径部
4 細径部
5 円錐部
6 空間
7 先端部
10 第1の金型
11 フランジ部
12 貫通孔
13 基部
14 円柱棒
15 円錐部
16 芯線部
20 第2の金型
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Die 2 Hole part 3 Large diameter part 4 Small diameter part 5 Conical part 6 Space 7 Tip part 10 1st metal mold | die 11 Flange part 12 Through-hole 13 Base 14 Column rod 15 Conical part 16 Core wire part 20 2nd metal mold | die

Claims (8)

組成が重量%でCuを25〜30%、NiまたはCoを0.1〜0.5%、CeOを0(0を含まず)〜1.0%、及び不可避不純分を除く残部がWからなるパイプ状の焼結体であって、前記パイプの最小作製寸法が外径0.08mm×内径0.04mmであり、前記焼結体のWの粒径が0.5〜3.0μmであることを特徴とするCu−Wパイプ。 Composition is 25% by weight, Cu is 25-30%, Ni or Co is 0.1-0.5%, CeO 2 is 0 (not including 0) to 1.0%, and the balance excluding inevitable impurities is W A pipe-shaped sintered body having a minimum production dimension of 0.08 mm outer diameter × 0.04 mm inner diameter, and a particle size of W of the sintered body of 0.5 to 3.0 μm. Cu-W pipe characterized by being. 請求項1に記載のCu−Wパイプにおいて、前記Cu−Wパイプを、放電加工用電極に用いることを特徴とする放電加工用パイプ電極。   The Cu-W pipe according to claim 1, wherein the Cu-W pipe is used as an electric discharge machining electrode. 請求項1に記載のCu−Wパイプを製造する方法であって、組成が重量%でCuを25〜30%、NiまたはCoを0.1〜0.5%、CeOを0(0を含まず)〜1.0%、及び不可避不純分を除く残部がWからなる粉末と、親油性バインダーまたは水溶性バインダーとを混練して第1の混練物を作製し、前記第1の混練物に非イオン系界面活性剤を添加して第2の混練物を作製し、前記第2の混練物をポートホールダイスを通過させて押出して円筒形材料を作製し、前記円筒形材料を焼結して前記Cu−Wパイプを得ることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法。 The method for producing a Cu-W pipe according to claim 1, wherein the composition is 25% by weight, Cu is 25-30%, Ni or Co is 0.1-0.5%, and CeO 2 is 0 (0). 1st kneaded product is prepared by kneading a powder composed of 1.0 to 1.0% and the balance excluding unavoidable impurities and W, and a lipophilic binder or a water-soluble binder. A non-ionic surfactant is added to produce a second kneaded product, and the second kneaded product is extruded through a porthole die to produce a cylindrical material, and the cylindrical material is sintered And obtaining the Cu-W pipe. 請求項3に記載のCu−Wパイプの製造方法において、前記W粉末の平均粒径が0.5μm〜3μmであることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法。   The method for producing a Cu-W pipe according to claim 3, wherein an average particle diameter of the W powder is 0.5 µm to 3 µm. 請求項3又は4に記載のCu−Wパイプの製造方法において、前記親油性バインダーはパラフィンであり、前記水溶性バインダーはデキストリン、ゼラチン、ポリビニルアルコール、メチルセルロース、ポリエチレングリコールから選ばれることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法。   The method for producing a Cu-W pipe according to claim 3 or 4, wherein the lipophilic binder is paraffin, and the water-soluble binder is selected from dextrin, gelatin, polyvinyl alcohol, methylcellulose, and polyethylene glycol. Manufacturing method of Cu-W pipe. 請求項4に記載のCu−Wパイプの製造方法において、前記パラフィンの量は前記粉末重量に対し9重量%であることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法。   5. The method for producing a Cu-W pipe according to claim 4, wherein the amount of the paraffin is 9% by weight with respect to the weight of the powder. 請求項3乃至6の内のいずれか一つに記載のCu−Wパイプの製造方法において、前記非イオン系界面活性剤の量は当該HLB値が10のとき前記粉末重量に対し2重量%であることを特徴とするCu−Wパイプの製造方法。   The method of manufacturing a Cu-W pipe according to any one of claims 3 to 6, wherein the amount of the nonionic surfactant is 2% by weight with respect to the weight of the powder when the HLB value is 10. A method for producing a Cu-W pipe, which is characterized in that it exists. 請求項3乃至7の内のいずれか一つに記載のCu−Wパイプの製造方法を用いたことを特徴とする放電加工用パイプ電極の製造方法。   A method for producing a pipe electrode for electric discharge machining, wherein the method for producing a Cu-W pipe according to any one of claims 3 to 7 is used.
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