JP2007220394A - Organic electroluminescent device, manufacturing method therefor and display device, and electronic equipment - Google Patents

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JP2007220394A JP2006037580A JP2006037580A JP2007220394A JP 2007220394 A JP2007220394 A JP 2007220394A JP 2006037580 A JP2006037580 A JP 2006037580A JP 2006037580 A JP2006037580 A JP 2006037580A JP 2007220394 A JP2007220394 A JP 2007220394A
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Akio Fukase
章夫 深瀬
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Seiko Epson Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To easily adjust the transport property of a carrier. <P>SOLUTION: The manufacturing method includes a process for forming a primary organic layer 103 by a liquid phase process, a process for conducting an insolubilizing treatment to the primary organic layer 103 and a process for forming a secondary organic layer 104 on the insolubilized primary organic layer 103 by the liquid phase process. Insolubilizing treatment condition of the primary organic layer 103 is adjusted based on the transport property of the carrier in the secondary organic layer 104. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、有機EL装置とその製造方法及び表示装置並びに電子機器に関するものであ
る。
The present invention relates to an organic EL device, a manufacturing method thereof, a display device, and an electronic apparatus.

有機エレクトルルミネッセンス(EL)素子は、有機材料を含む複数の薄膜を第1電極
と第2電極との間で挟んだ構造を有しており、これら2つの電極から注入したキャリアが
有機薄膜中で再結合することにより発光する素子である。
この有機EL素子(有機EL装置)は、薄型・軽量といった特徴を有し、ディスプレイ
への応用が期待されている。有機EL素子の製造方法としては、一般的に真空蒸着法等の
ドライプロセスや、スピンコート法、液滴吐出法(インクジェット法)等に代表されるウ
ェットプロセスが挙げられ、いずれの場合も複数の有機層を積層することにより有機EL
装置を形成している。
An organic electroluminescence (EL) element has a structure in which a plurality of thin films containing an organic material are sandwiched between a first electrode and a second electrode, and carriers injected from these two electrodes are contained in the organic thin film. The element emits light when recombined with.
This organic EL element (organic EL device) has features such as thinness and light weight, and is expected to be applied to a display. As a manufacturing method of an organic EL element, generally, a dry process such as a vacuum deposition method, a wet process represented by a spin coating method, a droplet discharge method (inkjet method), and the like can be given. Organic EL by stacking organic layers
Forming device.

これらの製造プロセスのうち、ウェットプロセス(液相法)は、大面積の有機ELパネ
ルを製造することが可能であることから注目されている技術であるが、複数の有機層を積
層する必要があることから、隣接する層間で互いに溶け出さないように異なる溶媒を交互
に用いて塗布・積層させたり、または有機層を成膜した後に溶媒に対して溶解しないよう
に不溶化処理を行う必要がある。
Among these manufacturing processes, the wet process (liquid phase method) is a technique that has attracted attention because it is possible to manufacture a large-area organic EL panel, but it is necessary to stack a plurality of organic layers. Therefore, it is necessary to apply and laminate different solvents alternately so as not to dissolve each other between adjacent layers, or to perform insolubilization treatment so as not to dissolve in the solvent after forming an organic layer. .

そこで、例えば特許文献1には、有機EL素子の正孔注入層または正孔輸送層として、
ポリチオフェン誘導体とシランカップリング剤とを含有する液体を塗布法により成膜し、
熱硬化させる技術が開示されている。
また、特許文献2には、二重結合基やエポキシ基、環状エーテル基を有する低分子架橋
剤を含んだキャリア輸送性または発光性を有するポリマーを用い、紫外線照射、電子ビー
ム照射、プラズマ照射、または加熱により架橋させる技術が開示されている。
特開2000−208254号公報 特開2005−243300号公報
Therefore, for example, in Patent Document 1, as a hole injection layer or a hole transport layer of an organic EL element,
A liquid containing a polythiophene derivative and a silane coupling agent is formed by a coating method,
A technique for thermosetting is disclosed.
Patent Document 2 uses a polymer having a carrier transporting property or a light emitting property containing a low-molecular crosslinking agent having a double bond group, an epoxy group, or a cyclic ether group, ultraviolet irradiation, electron beam irradiation, plasma irradiation, Alternatively, a technique for crosslinking by heating is disclosed.
JP 2000-208254 A JP-A-2005-243300

しかしながら、上述したような従来技術には、以下のような問題が存在する。
有機EL装置においては、2つの電極からそれぞれ注入される電子と正孔とのバランス
を保つことが難しいとされている。例えば、発光スペクトルを変更するために、使用する
材料を変えることで発光層中の発光構造を変化させた場合、同時に電子と正孔との輸送能
力にも変化が生じる。そのため、異なる発光色を有する発光材料では電子と正孔との輸送
能力が相違することから、同じ正孔注入層または正孔輸送層を用いた場合でも、発光層の
一つに対して最適なキャリア特性であっても、他の発光層に対しては最適とは限らず、各
色の発光層間でキャリアバランスを保つことが困難であった。
However, the following problems exist in the conventional technology as described above.
In an organic EL device, it is difficult to maintain a balance between electrons and holes injected from two electrodes. For example, when the light emitting structure in the light emitting layer is changed by changing the material used in order to change the emission spectrum, the transport ability of electrons and holes changes at the same time. Therefore, since the light-emitting materials having different emission colors have different electron and hole transport capabilities, even when the same hole injection layer or hole transport layer is used, it is optimal for one of the light-emitting layers. Even in the case of carrier characteristics, it is not necessarily optimal for other light emitting layers, and it has been difficult to maintain carrier balance between the light emitting layers of the respective colors.

そこで、上記キャリアバランスを保つために、発光材料や正孔注入層形成材料、正孔輸
送層形成材料等を適宜変更することによりキャリア輸送性を調整することも考えられるが
、各種発光構造を有する有機EL装置毎に材料を変更すると、生産効率が大幅に低下し、
また製造コストが上昇するという問題が生じてしまう。
Therefore, in order to maintain the carrier balance, it may be possible to adjust the carrier transport property by appropriately changing the light emitting material, the hole injection layer forming material, the hole transport layer forming material, etc., but it has various light emitting structures. If the material is changed for each organic EL device, the production efficiency will drop significantly.
Moreover, the problem that a manufacturing cost rises will arise.

本発明は、以上のような点を考慮してなされたもので、キャリアの輸送性を容易に調整
できる有機EL装置とその製造方法及び表示装置並びに電子機器を提供することを目的と
する。
The present invention has been made in consideration of the above points, and an object of the present invention is to provide an organic EL device that can easily adjust carrier transportability, a manufacturing method thereof, a display device, and an electronic apparatus.

上記の目的を達成するために本発明は、以下の構成を採用している。
本発明の有機EL装置の製造方法は、有機層を介して輸送されたキャリアにより発光層
が発光する有機EL装置の製造方法であって、液相法により第1有機層を成膜する工程と
、前記第1有機層に対して不溶化処理を施す工程と、前記不溶化処理を施された前記第1
有機層上に液相法により第2有機層を成膜する工程とを有し、前記第2有機層における前
記キャリアの輸送特性に基づいて、前記第1有機層の不溶化処理条件を調整することを特
徴とするものである。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
The method for producing an organic EL device of the present invention is a method for producing an organic EL device in which a light emitting layer emits light by a carrier transported through an organic layer, the step of forming a first organic layer by a liquid phase method, , A step of insolubilizing the first organic layer, and the first insolubilized first
And forming a second organic layer on the organic layer by a liquid phase method, and adjusting the insolubilization condition of the first organic layer based on the transport property of the carrier in the second organic layer It is characterized by.

従って、本発明の有機EL装置の製造方法では、不溶化条件を調整することにより、第
2有機層に対して完全には不溶化しない状態とすることができる。そのため、第2有機層
形成材料を含む液状体を第1有機層上に塗布した際に、第1有機層形成材料が上記液状体
の溶液に溶出することにより、第2有機層には第1、第2有機層形成材料が混在する層が
形成される。第1有機層形成材料は、元来キャリア輸送性を有しているため、この材料が
第2有機層に溶出することにより、第2有機層でのキャリア輸送性を増加させることがで
きる。そのため、第1有機層の不溶化処理条件に応じて第1有機層形成材料の溶出量を変
化させ、第2有機層におけるキャリアの輸送特性を容易に調整することが可能になる。
Therefore, in the manufacturing method of the organic EL device according to the present invention, the insolubilization condition is adjusted so that the organic EL device is not completely insolubilized with respect to the second organic layer. Therefore, when the liquid containing the second organic layer forming material is applied onto the first organic layer, the first organic layer forming material is eluted into the solution of the liquid so that the second organic layer has the first A layer in which the second organic layer forming material is mixed is formed. Since the first organic layer forming material originally has a carrier transport property, the material is eluted into the second organic layer, whereby the carrier transport property in the second organic layer can be increased. Therefore, it becomes possible to easily adjust the carrier transport characteristics in the second organic layer by changing the elution amount of the first organic layer forming material in accordance with the insolubilization treatment conditions of the first organic layer.

また、本発明では、発光特性の異なる複数の前記発光層の間で前記不溶化処理条件を互
いに異ならせる構成も好適に採用できる。
これにより、本発明では、発光層毎に不溶化処理条件を設定することにより、発光特性
に応じてキャリアの輸送特性を制御することが可能になり、複数の発光層間でのキャリア
バランスを容易に保つことができる。
Moreover, in this invention, the structure which makes the said insolubilization process conditions mutually differ between several said light emitting layers from which a light emission characteristic differs can also be employ | adopted suitably.
Thus, in the present invention, by setting the insolubilization treatment condition for each light emitting layer, it becomes possible to control the carrier transport property according to the light emitting property, and easily maintain the carrier balance among the plurality of light emitting layers. be able to.

また、この場合、第1発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層を成膜し
て前記不溶化処理を施した後に、第2発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有
機層を成膜して前記不溶化処理を施す手順を採用することができる。
この前記不溶化処理としては、加熱処理を含む手順とすることができる。
Further, in this case, the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the first light emitting characteristics is deposited and subjected to the insolubilization treatment, and then the first light emitting layer corresponding to the light emitting layer having the second light emitting characteristics. A procedure for forming an organic layer and applying the insolubilization treatment can be employed.
The insolubilization treatment may be a procedure including heat treatment.

これにより、本発明では、加熱処理のように異なる発光特性を有する複数の発光層に対
応する第1有機層に対して、一括して不溶化処理が施される処理であっても、異なる発光
特性の発光層毎に第1有機層の不溶化状態を異ならせることが可能になる。
このように、第1発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層に対して前記
不溶化処理を施した後に、第2発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層を
成膜する際には、発光層毎に選択的に第1有機層形成材料を含む液状体を塗布できる液滴
吐出方式を採用することが好ましい。
As a result, in the present invention, even when the insolubilization treatment is performed collectively on the first organic layer corresponding to the plurality of light emitting layers having different light emission characteristics, such as heat treatment, different light emission characteristics. The insolubilized state of the first organic layer can be made different for each light emitting layer.
As described above, after the insolubilization treatment is performed on the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the first light emitting characteristics, the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the second light emitting characteristics is formed. When forming the film, it is preferable to adopt a droplet discharge method in which a liquid containing the first organic layer forming material can be selectively applied to each light emitting layer.

また、本発明では、第1発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層、及び
第2発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層を一括的に成膜した後に、前
記異なる不溶化処理条件で前記第1有機層にそれぞれ前記不溶化処理を施す手順も好適に
採用できる。
この前記不溶化処理としては、エネルギ光の照射処理を含む手順とすることができる。
In the present invention, after the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the first light emitting characteristics and the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the second light emitting characteristics are collectively formed. The procedure for applying the insolubilization treatment to the first organic layer under the different insolubilization treatment conditions can also be suitably employed.
The insolubilization process may be a procedure including an energy light irradiation process.

これにより、本発明では、エネルギ光の照射処理のように、マスク等を用いることによ
り選択的に第1有機層に対する不溶化処理を施せる場合には、第1発光特性及び第2発光
特性を有する発光層に対応する第1有機層の不溶化状態を容易に異ならせることが可能に
なるため、これら第1有機層を一括的に成膜することができる。
上記照射処理に用いられるエネルギ光としては、紫外線、電子ビーム、プラズマ光等を
選択できる。
Thereby, in this invention, when the insolubilization process can be selectively performed on the first organic layer by using a mask or the like as in the energy light irradiation process, the light emission having the first light emission characteristic and the second light emission characteristic. Since the insolubilized state of the first organic layer corresponding to the layer can be easily changed, these first organic layers can be formed in a lump.
As energy light used for the irradiation treatment, ultraviolet light, electron beam, plasma light, or the like can be selected.

上記の不溶化処理としては、前記第1有機層を構成する材料の分子について、当該分子
間に架橋を生じさせる処理を含む手順とすることが好ましい。
これにより、本発明では、不溶化条件(架橋処理条件)を調整することにより、第2有
機層に対して完全には架橋しない部分を形成することができる。そのため、第2有機層形
成材料を含む液状体を第1有機層上に塗布した際に、架橋反応により架橋しなかった第1
有機層形成材料が上記液状体の溶液に溶出することにより、第2有機層には第1、第2有
機層形成材料が混在する層が形成される。第1有機層形成材料は、元来キャリア輸送性を
有しているため、この材料が第2有機層に溶出することにより、第2有機層でのキャリア
輸送性を増加させることができる。そのため、第1有機層の不溶化処理条件に応じて第1
有機層形成材料の架橋率、すなわち溶出量を変化させ、第2有機層におけるキャリアの輸
送特性を容易に調整することが可能になる。
The insolubilization treatment is preferably a procedure including a treatment for causing cross-linking between the molecules of the material constituting the first organic layer.
Thereby, in this invention, the part which is not bridge | crosslinked completely with respect to a 2nd organic layer can be formed by adjusting insolubilization conditions (crosslinking process conditions). Therefore, when the liquid containing the second organic layer forming material is applied on the first organic layer, the first that is not crosslinked by the crosslinking reaction.
By elution of the organic layer forming material into the liquid solution, a layer in which the first and second organic layer forming materials are mixed is formed in the second organic layer. Since the first organic layer forming material originally has a carrier transport property, the material is eluted into the second organic layer, whereby the carrier transport property in the second organic layer can be increased. Therefore, according to the insolubilization process conditions of the first organic layer, the first
By changing the crosslinking rate of the organic layer forming material, that is, the elution amount, the carrier transport property in the second organic layer can be easily adjusted.

なお、架橋処理として、第1有機層形成材料に架橋剤を含有させておき、当該架橋剤が
活性化される条件の処理を行うものとすることもできる。
である。
キャリア輸送性有機材料としては、トリフェニルアミン誘導体やポリチオフェン誘導体
等を用いることができ、架橋性有機材料としては、シランカップリング架橋剤や二重結合
基、エポキシ基、環状エーテル基等を含む架橋剤を用いることができる。
In addition, as a crosslinking process, the 1st organic layer forming material can be made to contain a crosslinking agent, and the process of the conditions which the said crosslinking agent is activated can also be performed.
It is.
As the carrier transporting organic material, a triphenylamine derivative, a polythiophene derivative, or the like can be used. As the crosslinkable organic material, a silane coupling crosslinking agent, a crosslink containing a double bond group, an epoxy group, a cyclic ether group, or the like. An agent can be used.

前記第1有機層または前記第2有機層のいずれか一方としては、正孔輸送層や正孔注入
層、電子輸送層、電子注入層の他に、前記発光層とすることができる。
As one of the first organic layer and the second organic layer, in addition to a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, the light emitting layer can be used.

一方、本発明の有機EL装置は、有機層を介して輸送されたキャリアにより発光層が発
光する有機EL装置であって、液相法により成膜された第1有機層と、前記液相法により
前記第1有機層上に成膜された第2有機層とを有し、前記第2有機層は、当該第2有機層
における前記キャリアの輸送特性に基づいて、第1有機層形成材料と第2有機層形成材料
とが混合された混合有機層を有することを特徴とするものである。
On the other hand, the organic EL device of the present invention is an organic EL device in which a light emitting layer emits light by carriers transported through an organic layer, the first organic layer formed by a liquid phase method, and the liquid phase method. And a second organic layer formed on the first organic layer, and the second organic layer is formed on the basis of the transport property of the carrier in the second organic layer and the first organic layer forming material. It has a mixed organic layer mixed with the second organic layer forming material.

従って、本発明では、第1有機層形成材料が上記液状体の溶液に溶出することにより、
第2有機層に第1、第2有機層形成材料が混在する層が形成されることにより、元来キャ
リア輸送性を有する第1有機層形成材料が第2有機層に溶出することにより、第2有機層
でのキャリア輸送性を増加させることができる。そのため、第1有機層形成材料の溶出量
を変化させて混合率を調整することにより、第2有機層におけるキャリアの輸送特性を容
易に調整することが可能になる。
Therefore, in the present invention, by eluting the first organic layer forming material into the liquid solution,
By forming a layer in which the first and second organic layer forming materials are mixed in the second organic layer, the first organic layer forming material originally having carrier transportability is eluted into the second organic layer, The carrier transportability in the two organic layers can be increased. Therefore, it is possible to easily adjust the carrier transport characteristics in the second organic layer by changing the elution amount of the first organic layer forming material and adjusting the mixing ratio.

前記混合有機層としては、前記第1有機層の前記第2有機層に対する不溶化状態が調整
されて、第1有機層形成材料と第2有機層形成材料とが混合される構成を好適に採用でき
る。
これにより、本発明では、不溶化状態を調整することにより、第1有機層形成材料と第
2有機層形成材料との混合率を調整して、第2有機層におけるキャリアの輸送特性を容易
に調整することが可能になる。
As the mixed organic layer, a configuration in which the insolubilized state of the first organic layer with respect to the second organic layer is adjusted and the first organic layer forming material and the second organic layer forming material are mixed can be suitably employed. .
Accordingly, in the present invention, by adjusting the insolubilized state, the mixing ratio of the first organic layer forming material and the second organic layer forming material is adjusted, and the carrier transport property in the second organic layer is easily adjusted. It becomes possible to do.

また、本発明では、発光特性の異なる複数の前記発光層の間で前記不溶化状態が互いに
異なる構成を好適に採用できる。
これにより、本発明では、発光層毎に不溶化処理条件を設定することにより、発光特性
に応じてキャリアの輸送抑制を制御することが可能になり、複数の発光層間でのキャリア
バランスを容易に保つことができる。
Moreover, in this invention, the structure from which the said insolubilization state mutually differs between several said light emitting layers from which a light emission characteristic differs can be employ | adopted suitably.
As a result, in the present invention, by setting the insolubilization treatment conditions for each light emitting layer, it becomes possible to control the carrier transport suppression according to the light emission characteristics, and easily maintain the carrier balance among the plurality of light emitting layers. be able to.

前記第1有機層または前記第2有機層のいずれか一方としては、正孔輸送層や正孔注入
層、電子輸送層、電子注入層の他に、前記発光層とすることができる。
As one of the first organic layer and the second organic layer, in addition to a hole transport layer, a hole injection layer, an electron transport layer, and an electron injection layer, the light emitting layer can be used.

そして、本発明の表示装置は、先に記載の有機EL装置を備えることを特徴とするもの
であり、本発明の電子機器は、先に記載の表示装置を備えることを特徴とするものである

従って、本発明では、キャリアバランスを容易に保つことができ、生産性に優れ、また
製造コスト低減に寄与できる表示装置及び電子機器を得ることができる。
The display device of the present invention is characterized by including the organic EL device described above, and the electronic device of the present invention is characterized by including the display device described above. .
Therefore, according to the present invention, it is possible to obtain a display device and an electronic device that can easily maintain a carrier balance, have excellent productivity, and contribute to a reduction in manufacturing cost.

以下、本発明の有機EL装置とその製造方法及び表示装置並びに電子機器の実施の形態
を、図1ないし図7を参照して説明する。
なお、以下の説明に用いる各図面では、各部材を認識可能な大きさとするため、各部材
の縮尺を適宜変更している。
Hereinafter, embodiments of an organic EL device, a manufacturing method thereof, a display device, and an electronic device according to the present invention will be described with reference to FIGS.
In each drawing used for the following description, the scale of each member is appropriately changed to make each member a recognizable size.

(第1実施形態)
図1は、本発明の製造方法を用いて製造された有機EL素子(有機EL装置)100の
構成を示す要部断面図である。
この有機EL素子100は、基体101上に陽極(第1電極)102と、陰極(第2電
極)105とを有し、これら陽極102と陰極105との間に、有機層110を備えたも
のである。
(First embodiment)
FIG. 1 is a cross-sectional view of the main part showing the configuration of an organic EL element (organic EL device) 100 manufactured using the manufacturing method of the present invention.
This organic EL element 100 has an anode (first electrode) 102 and a cathode (second electrode) 105 on a substrate 101, and an organic layer 110 is provided between the anode 102 and the cathode 105. It is.

この有機EL素子100は、基体101上に陽極(第1電極)102と、陰極(第2電
極)105とを有し、これら陽極102と陰極105との間に、有機層110を備えたも
のである。有機層110は、正孔注入/輸送層(第1有機層)103と、発光層(第2有
機層)104とが積層されて構成される。この有機EL素子100は、発光層104で発
光した光を基体101側から射出するボトムエミッション方式となっている。
This organic EL element 100 has an anode (first electrode) 102 and a cathode (second electrode) 105 on a substrate 101, and an organic layer 110 is provided between the anode 102 and the cathode 105. It is. The organic layer 110 is configured by laminating a hole injection / transport layer (first organic layer) 103 and a light emitting layer (second organic layer) 104. The organic EL element 100 is of a bottom emission method in which light emitted from the light emitting layer 104 is emitted from the substrate 101 side.

基体101は、ガラス基板等の透明基板(図示せず)上にTFT素子からなる駆動素子
(図示せず)や各種配線(図示せず)等を形成して構成されたもので、これら駆動素子や
各種配線の上に絶縁層や平坦化膜を介して陽極102が形成されている。
陽極102は、基体101上にパターニングされて形成され、かつ、TFT素子からな
る駆動素子や前記各種配線等と接続されたもので、本実施例では、ITO(Indium Tin O
xide)によって形成されている。
The base 101 is configured by forming a drive element (not shown) made of a TFT element, various wirings (not shown), etc. on a transparent substrate (not shown) such as a glass substrate. In addition, an anode 102 is formed on various wirings via an insulating layer or a planarizing film.
The anode 102 is formed by patterning on the substrate 101 and is connected to a driving element made of a TFT element, the various wirings, etc. In this embodiment, ITO (Indium Tin O 2) is used.
xide).

正孔注入/輸送層103は、陽極102が形成された基体101の全面に形成されてい
る。正孔注入/輸送層103は、陽極102から注入された正孔を発光層104に輸送・
注入するためのものであり、公知の材料を用いることができる。例えば、トリフェニルア
ミン系誘導体、ポリチオフェン誘導体、ポリアニリン、ポリピロールなどを用いることが
できる。更に具体的には、3,4−ポリエチレンジオシチオフェン/ポリスチレンスルフ
ォン酸(PEDOT/PSS)などを用いることができ、これらキャリア輸送性(正孔輸
送性)が良好な材料と、シランカップリング架橋剤や二重結合基、環状エーテル基等を含
む架橋剤とを含んで構成されている。
The hole injection / transport layer 103 is formed on the entire surface of the substrate 101 on which the anode 102 is formed. The hole injection / transport layer 103 transports holes injected from the anode 102 to the light emitting layer 104.
A known material can be used for injection. For example, triphenylamine derivatives, polythiophene derivatives, polyaniline, polypyrrole, and the like can be used. More specifically, 3,4-polyethylenediosithiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) or the like can be used, and materials having good carrier transportability (hole transportability) and silane coupling cross-linking. And a crosslinking agent containing a double bond group, a cyclic ether group and the like.

発光層104は、陰極105から注入される電子と、正孔注入/輸送層103から注入
される正孔が結合して所定帯域の波長の光を発光する。この発光層104の材料としては
具体的には、ポリフルオレン誘導体(PF)、ポリパラフェニレンビニレン誘導体(PP
V)、ポリパラフェニレン誘導体(PPP)、ポリビニルカルバゾール(PVK)、ポリ
チオフェン誘導体、ポリメチルフェニルシラン(PMPS)などのポリシラン系などの高
分子有機材料が好適に用いられる。
The light-emitting layer 104 emits light having a wavelength in a predetermined band by combining electrons injected from the cathode 105 and holes injected from the hole injection / transport layer 103. Specific examples of the material of the light emitting layer 104 include polyfluorene derivatives (PF) and polyparaphenylene vinylene derivatives (PP
V), polyparaphenylene derivatives (PPP), polyvinylcarbazole (PVK), polythiophene derivatives, and polysilane-based high molecular organic materials such as polymethylphenylsilane (PMPS) are preferably used.

また、これらの高分子有機材料に、ペニレン系色素、クマリン系色素、ローダミン系色
素などの高分子有機材料や、ルブレン、ペリレン、9,10−ジフェニルアントラセン、
テトラフェニルブタジエン、ナイルレッド、クマリン6,キナクリドン等の低分子有機材
料をドープして用いることもできる。
In addition, these polymer organic materials include polymer organic materials such as penylene dyes, coumarin dyes, rhodamine dyes, rubrene, perylene, 9,10-diphenylanthracene,
A low molecular organic material such as tetraphenylbutadiene, Nile red, coumarin 6, or quinacridone may be doped.

陰極105は、発光層104へ効率的に電子注入を行うことができる仕事関数の低い金
属、例えばマグネシウム(Mg)やカルシウム(Ca)等の金属材料と、アルミニウム(
Al)、金(Au)、銀(Ag)等の電気抵抗が低い金属とが積層されたものから形成さ
れている。この陰極105上には、不図示の封止層が形成されている。
The cathode 105 includes a metal having a low work function that can efficiently inject electrons into the light-emitting layer 104, such as a metal material such as magnesium (Mg) or calcium (Ca), and aluminum (
It is formed by laminating a metal having a low electric resistance such as Al), gold (Au), silver (Ag), or the like. A sealing layer (not shown) is formed on the cathode 105.

次に、このような構成の有機EL素子100の製造方法について、図2及び図3を参照
して説明する。図2及び図3は、有機EL素子100の一製造工程を示す説明図である。
[基板処理工程]
まず、従来と同様にして、ガラスからなる基体101上にTFT素子や各種配線等を形
成し、さらに、層間絶縁層や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、
さらにパターニングすることによって陽極102を形成する。これにより、図2(a)に
示すように、基体101上に陽極102が形成される。この後、陽極102が形成された
基板を洗浄後、大気圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質する。
これにより、陽極102の仕事関数を上げることができる。
Next, a method for manufacturing the organic EL element 100 having such a configuration will be described with reference to FIGS. 2 and 3 are explanatory views showing one manufacturing process of the organic EL element 100. FIG.
[Substrate processing process]
First, in the same manner as in the prior art, TFT elements and various wirings are formed on a substrate 101 made of glass, and further, an interlayer insulating layer and a planarizing film are formed, and then ITO is formed by vapor deposition, etc.
Further, the anode 102 is formed by patterning. As a result, the anode 102 is formed on the substrate 101 as shown in FIG. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 is formed, oxygen plasma treatment is performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic.
Thereby, the work function of the anode 102 can be raised.

[正孔注入/輸送層形成工程(第1有機層形成工程)]
次に、陽極102が形成された基体101の全面に、正孔注入/輸送層103を形成す
る。ここでは、まず正孔注入/輸送層形成材料(第1有機層形成材料)を溶媒または分散
媒に溶解または分散させた液状体をスピンコーティング法により、所定の膜厚に成膜して
、図2(b)に示すように、プレ正孔注入/輸送層103aを形成する。
[Hole Injection / Transport Layer Formation Step (First Organic Layer Formation Step)]
Next, the hole injection / transport layer 103 is formed on the entire surface of the substrate 101 on which the anode 102 is formed. Here, a liquid material in which a hole injecting / transporting layer forming material (first organic layer forming material) is dissolved or dispersed in a solvent or a dispersion medium is first formed into a predetermined film thickness by a spin coating method. As shown in FIG. 2 (b), a pre-hole injection / transport layer 103a is formed.

続いて、プレ正孔注入/輸送層103aの不溶化処理を行う(不溶化処理工程)。具体
的には、図2(c)に示すように、プレ正孔注入/輸送層103aが成膜された基体10
1を加熱されたホットプレート120上に載置し、焼成処理(加熱処理)を行う。このよ
うな焼成処理により、図2(d)に示すようにプレ正孔注入/輸送層103aは、基体1
01側が不溶化されて不溶化層103bを形成する。つまり、当該正孔注入/輸送層10
3上に配する発光層104の形成工程において用いる有機溶媒(特定溶媒)に対して不溶
な不溶化層103bが形成されることとなる。
Subsequently, insolubilization treatment of the pre-hole injection / transport layer 103a is performed (insolubilization treatment step). Specifically, as shown in FIG. 2C, the substrate 10 on which the pre-hole injection / transport layer 103a is formed.
1 is placed on a heated hot plate 120, and a baking process (heating process) is performed. By such a baking treatment, as shown in FIG. 2 (d), the pre-hole injection / transport layer 103a becomes the base 1
The 01 side is insolubilized to form an insolubilized layer 103b. That is, the hole injection / transport layer 10
Thus, an insolubilized layer 103b that is insoluble in the organic solvent (specific solvent) used in the step of forming the light emitting layer 104 disposed on the substrate 3 is formed.

なお、プレ正孔注入/輸送層103aのうち不溶化されるのはホットプレート120側
の一部であって、ホットプレート120とは反対側の不溶化層103b上には、加熱条件
(すなわち不溶化処理条件)に応じた量で、図2(d)に示すように、完全には不溶化状
態とはならないプレ正孔注入/輸送層103aの一部が残存することとなる。ここで、プ
レ正孔注入/輸送層103aは溶媒(特定溶媒)に対して溶解性(易溶性)を示すものを
用いている。
The pre-hole injection / transport layer 103a is insolubilized at a part on the hot plate 120 side, and is heated on the insolubilization layer 103b on the side opposite to the hot plate 120 (that is, insolubilization treatment condition). 2), a part of the pre-hole injection / transport layer 103a that is not completely insolubilized remains as shown in FIG. 2D. Here, as the pre-hole injection / transport layer 103a, a layer showing solubility (easily soluble) with respect to a solvent (specific solvent) is used.

ここで、上記焼成処理によりプレ正孔注入/輸送層103aの一部が不溶化する機構は
以下のような態様による。つまり、プレ正孔注入/輸送層103aを構成する材料の分子
について、当該分子間に架橋を生じさせることで不溶化層103bを生成しており、架橋
処理として本実施形態では、プレ正孔注入/輸送層103aに上記架橋剤を含有させてお
き、当該架橋剤が活性化される条件の加熱処理を行うものとしている。この場合、加熱処
理に限られず、紫外線照射処理等を行って架橋剤を活性化させることも可能である。
Here, the mechanism by which a part of the pre-hole injecting / transporting layer 103a is insolubilized by the firing process is as follows. That is, for the molecules of the material constituting the pre-hole injection / transport layer 103a, the insolubilized layer 103b is generated by causing cross-linking between the molecules. In this embodiment, pre-hole injection / The transport layer 103a contains the cross-linking agent, and heat treatment is performed under a condition that activates the cross-linking agent. In this case, it is not limited to heat treatment, and it is also possible to activate the crosslinking agent by performing ultraviolet irradiation treatment or the like.

また、架橋処理としては、プレ正孔注入/輸送層103aに対して架橋可能な官能基を
導入させておき、その官能基が活性化される条件の加熱処理を行うものとすることができ
る。なお、この場合でも、例えば紫外線照射によって官能基を活性化させることも可能で
ある。
Moreover, as a crosslinking process, the functional group which can be bridge | crosslinked is introduce | transduced with respect to the pre hole injection / transport layer 103a, and the heat processing of the conditions on which the functional group is activated can be performed. Even in this case, the functional group can be activated by, for example, ultraviolet irradiation.

以上のような不溶化処理を施すことにより、プレ正孔注入/輸送層103aの一部が不
溶化層103bとなり、該不溶化層103b上にプレ正孔注入/輸送層103aの一部が
残存する(図2(d))。
By performing the insolubilization treatment as described above, a part of the pre-hole injection / transport layer 103a becomes the insolubilization layer 103b, and a part of the pre-hole injection / transport layer 103a remains on the insolubilization layer 103b (FIG. 2 (d)).

[発光層形成工程(第2有機層形成工程)]
次に、図3(a)に示すように、一部に溶解層のプレ正孔注入/輸送層103aを有す
る正孔注入/輸送層103上に、発光層形成材料(第2有機層形成材料)を溶媒に溶解さ
せた液状体をスピンコーティング法により所定の膜厚により形成した後、焼成処理を行っ
て溶媒を蒸発させて、発光層104を形成する。
[Light emitting layer forming step (second organic layer forming step)]
Next, as shown in FIG. 3A, a light emitting layer forming material (second organic layer forming material) is formed on the hole injecting / transporting layer 103 having a prehole injection / transporting layer 103a as a dissolved layer in part. Is formed in a predetermined film thickness by a spin coating method, and then a baking treatment is performed to evaporate the solvent, whereby the light emitting layer 104 is formed.

ここで、発光層形成材料を含む液状体を正孔注入/輸送層103上に塗布した際には、
プレ正孔注入/輸送層103aが残留するため、正孔注入/輸送層103が完全には不溶
化されていないことから、プレ正孔注入/輸送層103aに含まれる正孔注入/輸送層形
成材料が発光層形成材料を含む液状体に溶出することにより、発光層104には発光層形
成材料と正孔注入/輸送層形成材料とが混在する層(混合有機層)が形成される。この正
孔注入/輸送層形成材料は、元来、正孔輸送性(キャリア輸送性)を有しているため、こ
の材料が発光層104に溶出することにより、溶出量に応じて発光層104に対する正孔
輸送性が高まることになる。
Here, when a liquid containing the light emitting layer forming material is applied onto the hole injection / transport layer 103,
Since the hole injection / transport layer 103 is not completely insolubilized because the pre-hole injection / transport layer 103a remains, the hole injection / transport layer forming material contained in the pre-hole injection / transport layer 103a Is eluted into the liquid containing the light emitting layer forming material, whereby a layer (mixed organic layer) in which the light emitting layer forming material and the hole injection / transport layer forming material are mixed is formed in the light emitting layer 104. Since this hole injecting / transporting layer forming material originally has a hole transporting property (carrier transporting property), when this material is eluted into the light emitting layer 104, the light emitting layer 104 is selected according to the elution amount. As a result, the hole transportability with respect to the substrate increases.

[陰極形成工程]
つぎに、発光層104上に真空蒸着法で、Ca、Alを順次積層させて、図3(b)に
示すように、Ca層、Al層からなる陰極105を形成する。その後、封止工程を行って
、本実施形態の有機EL素子100を製造するものとしている。
[Cathode formation process]
Next, Ca and Al are sequentially laminated on the light emitting layer 104 by vacuum vapor deposition to form a cathode 105 composed of a Ca layer and an Al layer, as shown in FIG. Then, the sealing process is performed and the organic EL element 100 of this embodiment shall be manufactured.

(実施例)
ガラスからなる基体101上にTFT素子や各種配線等を形成し、さらに、層間絶縁層
や平坦化膜を形成した後、蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングするこ
とによって陽極102を形成した。この後、陽極102が形成された基板を洗浄後、大気
圧において酸素プラズマ処理を行い、基板表面を親水性に改質した。
(Example)
A TFT element and various wirings are formed on a substrate 101 made of glass, and further, an interlayer insulating layer and a flattening film are formed. Then, ITO is formed by vapor deposition and the like, and then the anode 102 is formed by patterning. did. Thereafter, after cleaning the substrate on which the anode 102 was formed, oxygen plasma treatment was performed at atmospheric pressure to modify the substrate surface to be hydrophilic.

次に、陽極102が形成された基体101に、正孔注入/輸送層形成材料を含む溶液を
スピンコーティングにより塗布した。この溶液としては、メタノールとテトラヒドロフラ
ン(THF)の混合溶媒に、トリフェニルアミン誘導体として[化1]に示すようなポリ
(9,9−ジオクチルフルオレン−2,7−ジイル)−アルト−(N,N'−ビス(4−ターシャリ
ー−ブチルフェニル)−N,N'−ジフェニルベンジジン−4',4''−ジイル)(以下PF8−
TPD)を用い、シランカップリング剤としてγグリシジルオキシプロピルトリメトキシ
シランを添加して溶解したものである。
Next, a solution containing a hole injection / transport layer forming material was applied to the substrate 101 on which the anode 102 was formed by spin coating. As this solution, in a mixed solvent of methanol and tetrahydrofuran (THF), poly (9,9-dioctylfluorene-2,7-diyl) -alt- (N, N′-bis (4-tertiary-butylphenyl) -N, N′-diphenylbenzidine-4 ′, 4 ″ -diyl) (hereinafter referred to as PF8−)
(TPD) and γ-glycidyloxypropyltrimethoxysilane was added and dissolved as a silane coupling agent.

Figure 2007220394
Figure 2007220394

次いで、上記溶液が塗布された複数(ここでは5つ)の基体101を、120〜200
℃の間で温度を変えて、それぞれ1時間、窒素雰囲気中のホットプレート上で加熱した。
各基体101における正孔注入/輸送層の膜厚を計測した後に、THF溶媒に約1分間浸
漬してリンスし、再度膜厚を計測した。そして、リンス前の膜厚に対するリンス後の膜厚
を不溶化率とした。
Next, a plurality of (here, five) substrates 101 to which the above solution has been applied are transferred to 120 to 200.
The temperature was varied between ° C. and heated on a hot plate in a nitrogen atmosphere for 1 hour each.
After measuring the film thickness of the hole injection / transport layer in each substrate 101, the film was immersed in a THF solvent for about 1 minute and rinsed, and the film thickness was measured again. And the film thickness after the rinse with respect to the film thickness before rinse was made into the insolubilization rate.

このときの架橋反応温度に対する不溶化率を図4に示す。
この図に示されるように、架橋反応温度が上がるに従って不溶化率も上がり、約200
℃の架橋反応温度でTHFに溶解しなくなった(不溶化率100%)。
The insolubilization rate with respect to the crosslinking reaction temperature at this time is shown in FIG.
As shown in this figure, the insolubilization rate increases as the cross-linking reaction temperature increases.
It became insoluble in THF at a crosslinking reaction temperature of 0 ° C. (insolubilization rate 100%).

次いで、上記の5つの架橋反応温度でそれぞれ不溶化処理を施した基体101を用いて
上記の有機EL素子100を作製し、8V時における電流密度を計測したところ、図5に
示すように、架橋反応温度が低いほど高い電流密度となる結果が得られた。
Next, the organic EL device 100 was manufactured using the substrate 101 that had been insolubilized at the five crosslinking reaction temperatures, and the current density at 8 V was measured. As shown in FIG. As a result, the lower the temperature, the higher the current density.

なお、比較例として、図1に示した有機EL素子100に対して発光層104を有しな
い素子を、上記5つの架橋反応温度で加熱し、且つTHFでリンスした後の正孔注入/輸
送層の膜厚が同一となるように作製し、電流密度−電圧特性を計測した。
その結果、架橋反応温度を変えても電流密度−電圧特性の計測値に変化がなかったこと
から、図5に示した結果は発光層104に溶出した正孔注入/輸送層形成材料の量の差に
より、発光層104における正孔輸送特性(キャリア輸送特性)が変化した結果と想定さ
れる。
As a comparative example, the hole injection / transport layer after the element having no light emitting layer 104 with respect to the organic EL element 100 shown in FIG. 1 is heated at the above five crosslinking reaction temperatures and rinsed with THF. The film thickness was made the same, and current density-voltage characteristics were measured.
As a result, there was no change in the measured value of the current density-voltage characteristic even when the crosslinking reaction temperature was changed. Therefore, the result shown in FIG. 5 shows the amount of the hole injection / transport layer forming material eluted in the light emitting layer 104. It is assumed that the hole transport property (carrier transport property) in the light emitting layer 104 is changed due to the difference.

以上のように、本実施の形態では、正孔注入/輸送層103に対する不溶化処理条件を
変える(調整する)ことにより、正孔輸送特性を容易に調整することが可能になる。換言
すると、所望の発光特性を得るために、この発光特性に対応した正孔輸送特性を生じさせ
るには、当該正孔輸送特性に応じた処理条件により正孔注入/輸送層103に不溶化処理
を施せばよくなる。
従って、本実施形態では、発光特性を変更する場合に、キャリア輸送特性を変える必要
が生じても、発光材料や正孔注入/輸送層形成材料を変更することなく、例えば不溶化処
理時の加熱温度を適切な温度に設定するという簡単な作業で容易に対応することができ、
生産効率の低下及び製造コストの上昇を防ぐことができる。
As described above, in the present embodiment, the hole transport characteristics can be easily adjusted by changing (adjusting) the insolubilization treatment conditions for the hole injection / transport layer 103. In other words, in order to obtain a desired light emission characteristic, in order to generate a hole transport characteristic corresponding to this light emission characteristic, the hole injection / transport layer 103 is subjected to an insolubilization treatment under a processing condition according to the hole transport characteristic. If you apply it,
Therefore, in the present embodiment, when changing the light emission characteristics, even if it is necessary to change the carrier transport characteristics, for example, the heating temperature during the insolubilization treatment without changing the light emitting material and the hole injection / transport layer forming material. Can be easily handled by a simple task of setting the temperature to an appropriate temperature.
A decrease in production efficiency and an increase in manufacturing cost can be prevented.

(第2実施形態)
続いて、有機EL装置の第2実施形態について説明する。
本実施形態では、複数の画素領域を有し、互いに異なる発光特性により各画素領域で複
数の発光色で発光する有機EL装置について説明する。
(Second Embodiment)
Next, a second embodiment of the organic EL device will be described.
In the present embodiment, an organic EL device that has a plurality of pixel areas and emits light in a plurality of emission colors in each pixel area with different emission characteristics will be described.

図6に、有機EL装置100における表示領域の断面構造を拡大した図を示す。この図
6には3つの画素領域Aを示している。有機EL装置100は、基板2上に、TFTなど
の回路等が形成された回路素子部14と、有機層(発光部)110が形成されたEL素子
部11とが順次積層されて構成されている。
この有機EL装置100においては、有機層110から基板2側に発した光が、回路素
子部14及び基板2を透過して基板2の下側(観測者側)に出射されるとともに、有機層
110から基板2の反対側に発した光が陰極12により反射されて、回路素子部14及び
基板2を透過して基板2の下側(観測者側)に出射されるようになっている。
なお、陰極12として透明な材料を用いることにより、この陰極12側から光を出射さ
せることも可能である。
FIG. 6 shows an enlarged view of the cross-sectional structure of the display region in the organic EL device 100. FIG. 6 shows three pixel regions A. The organic EL device 100 is configured by sequentially laminating a circuit element unit 14 in which a circuit such as a TFT is formed on a substrate 2 and an EL element unit 11 in which an organic layer (light emitting unit) 110 is formed. Yes.
In the organic EL device 100, light emitted from the organic layer 110 to the substrate 2 side is transmitted through the circuit element unit 14 and the substrate 2 and emitted to the lower side (observer side) of the substrate 2. Light emitted from 110 to the opposite side of the substrate 2 is reflected by the cathode 12, passes through the circuit element unit 14 and the substrate 2, and is emitted to the lower side (observer side) of the substrate 2.
Note that by using a transparent material for the cathode 12, light can be emitted from the cathode 12 side.

回路素子部14には、基板2上にシリコン酸化膜からなる下地保護膜2cが形成され、
この下地保護膜2c上には多結晶シリコンからなる島状の半導体膜141が形成されてい
る。なお、半導体膜141には、ソース領域141a及びドレイン領域141bが高濃度
Pイオン打ち込みによって形成されており、また、Pが導入されなかった部分はチャネル
領域141cとなっている。
さらに、回路素子部14には、下地保護膜2c及び半導体膜141を覆う透明なゲート
絶縁膜142が形成され、ゲート絶縁膜142上にはAl、Mo、Ta、Ti、W等から
なるゲート電極143が形成され、ゲート電極143及びゲート絶縁膜142上には透明
な第1層間絶縁膜144aと第2層間絶縁膜144bとが形成されている。ゲート電極1
43は、半導体膜141のチャネル領域141cに対応する位置に設けられている。
In the circuit element portion 14, a base protective film 2c made of a silicon oxide film is formed on the substrate 2,
An island-shaped semiconductor film 141 made of polycrystalline silicon is formed on the base protective film 2c. Note that a source region 141a and a drain region 141b are formed in the semiconductor film 141 by high-concentration P ion implantation, and a portion where P is not introduced is a channel region 141c.
Further, a transparent gate insulating film 142 that covers the base protective film 2c and the semiconductor film 141 is formed in the circuit element portion 14, and a gate electrode made of Al, Mo, Ta, Ti, W, or the like is formed on the gate insulating film 142. 143, and a transparent first interlayer insulating film 144a and a second interlayer insulating film 144b are formed on the gate electrode 143 and the gate insulating film 142. Gate electrode 1
43 is provided at a position corresponding to the channel region 141 c of the semiconductor film 141.

また、第1、第2層間絶縁膜144a、144bには、半導体膜141のソース・ドレ
イン領域141a、141bにそれぞれ接続されるコンタクトホール145、146が形
成されており、これらコンタクトホール145、146内にはそれぞれ導電材料が埋め込
まれている。
そして、第2層間絶縁膜144b上には、ITO等からなる透明な画素電極111が所
定の形状にパターニングされて形成され、一方のコンタクトホール145がこの画素電極
111に接続されている。
また、もう一方のコンタクトホール146が電源線163に接続されている。
このようにして、回路素子部14には、各画素電極111に接続された薄膜トランジス
タ123が形成されている。
Further, contact holes 145 and 146 connected to the source / drain regions 141a and 141b of the semiconductor film 141 are formed in the first and second interlayer insulating films 144a and 144b, and the contact holes 145 and 146 are formed in the contact holes 145 and 146, respectively. Each is embedded with a conductive material.
On the second interlayer insulating film 144b, a transparent pixel electrode 111 made of ITO or the like is formed by patterning into a predetermined shape, and one contact hole 145 is connected to the pixel electrode 111.
The other contact hole 146 is connected to the power supply line 163.
In this manner, the thin film transistor 123 connected to each pixel electrode 111 is formed in the circuit element unit 14.

EL素子部11は、複数の画素電極111…上の各々に積層された有機層110と、各
画素電極111及び有機層110の間に備えられて各有機層110を区画するバンク部1
12と、有機層110上に形成された対向電極(陰極)12とを主体として構成されてい
る。
ここで、画素電極111は、透明導電性材料、例えばITOによって形成されたもので
、平面視略矩形にパターニングされたものである。この各画素電極111…の間にはバン
ク部112が設けられている。
The EL element unit 11 includes an organic layer 110 stacked on each of the plurality of pixel electrodes 111... And a bank unit 1 provided between each pixel electrode 111 and the organic layer 110 to partition each organic layer 110.
12 and a counter electrode (cathode) 12 formed on the organic layer 110.
Here, the pixel electrode 111 is formed of a transparent conductive material, for example, ITO, and is patterned into a substantially rectangular shape in plan view. A bank portion 112 is provided between the pixel electrodes 111.

バンク部112は、基板2側にSiO等からなる無機バンク層112aと、この無機
バンク層112a上に形成された有機バンク層112bとから構成されたものである。
無機バンク層112aは、画素電極111の周縁部上に乗上げるように形成されたもの
で、平面視した状態で画素電極111の周囲と無機バンク層112aとが平面的に重なる
ように配置された構造となっている。また、有機バンク層112bも、平面視した状態で
画素電極111の一部と重なるように配置されている。
また、有機バンク層112bには開口部112cが形成されており、後述するようにこ
の開口部112c内に機能層の形成材料が配置され成膜されることにより、機能層からな
る有機層110が形成されるようになっている。なお、有機バンク層112bは、アクリ
ル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性のある材料によっって形成されている。
The bank 112 is composed of an inorganic bank layer 112a made of SiO 2 or the like on the substrate 2 side, and an organic bank layer 112b formed on the inorganic bank layer 112a.
The inorganic bank layer 112a is formed so as to ride on the peripheral edge of the pixel electrode 111, and is arranged so that the periphery of the pixel electrode 111 and the inorganic bank layer 112a are planarly overlapped in a plan view. It has a structure. The organic bank layer 112b is also disposed so as to overlap with a part of the pixel electrode 111 in a plan view.
In addition, an opening 112c is formed in the organic bank layer 112b, and a functional layer forming material is disposed in the opening 112c to form a film as will be described later, whereby the organic layer 110 made of the functional layer is formed. It is supposed to be formed. The organic bank layer 112b is formed of a heat resistant and solvent resistant material such as an acrylic resin or a polyimide resin.

有機層110は、画素電極(陽極)111と対向電極(陰極)12との間に配設された
ことにより、これら画素電極111と対向電極12と共に有機EL素子を構成するものと
なっている。ここで、本実施形態においては、異なる発光特性としてフルカラー表示をな
すべく、赤色の発光特性を有する画素Rとなる有機EL素子と、緑色の発光特性を有する
画素Gとなる有機EL素子と、青色の発光特性を有する画素Bとなる有機EL素子とが備
えられている。
The organic layer 110 is disposed between the pixel electrode (anode) 111 and the counter electrode (cathode) 12, thereby constituting an organic EL element together with the pixel electrode 111 and the counter electrode 12. Here, in the present embodiment, in order to achieve full-color display with different light emission characteristics, an organic EL element that is a pixel R having red light emission characteristics, an organic EL element that is a pixel G having green light emission characteristics, and a blue color And an organic EL element to be a pixel B having the above light emission characteristics.

本実施形態では、これら3種類の有機EL素子それぞれが、その有機層110として、
正孔注入/輸送層(第1有機層)151(151R、151G、151B)と発光層(第
2有機層)150(150R、150G、150B)とを備えた構成となっている。これ
ら正孔注入/輸送層151(151R、151G、151B)は、上記第1実施形態の正
孔注入/輸送層103と同様の材料で形成される。また、発光層150(150R、15
0G、150B)も、上記第1実施形態の発光層104と同様の材料で形成される。
In the present embodiment, each of these three types of organic EL elements is used as the organic layer 110.
The hole injection / transport layer (first organic layer) 151 (151R, 151G, 151B) and the light emitting layer (second organic layer) 150 (150R, 150G, 150B) are provided. These hole injection / transport layers 151 (151R, 151G, 151B) are formed of the same material as the hole injection / transport layer 103 of the first embodiment. In addition, the light emitting layer 150 (150R, 15
0G, 150B) is also formed of the same material as that of the light emitting layer 104 of the first embodiment.

次に、このような構成の有機EL装置100を製造するには、まず、従来と同様にして
図6に示すように基板2上にTFT素子(薄膜トランジスタ123)や各種配線等を形成
し、さらに層間絶縁膜や平坦化膜を形成する。
次に、この基板2上に蒸着法等によってITOを成膜し、さらにパターニングすること
によって画素電極111を形成する。
Next, in order to manufacture the organic EL device 100 having such a configuration, first, a TFT element (thin film transistor 123) and various wirings are formed on the substrate 2 as shown in FIG. An interlayer insulating film and a planarizing film are formed.
Next, an ITO film is formed on the substrate 2 by vapor deposition or the like, and further patterned to form the pixel electrode 111.

続いて、前記画素電極111の周囲を囲むようにして基板2上にSiOからなる無機
バンク112aを形成する。さらに、この無機バンク112a上に樹脂からなる有機バン
ク112bを形成し、これにより画素電極111上に開口部112cを形成する。なお、
前記有機バンク112bに用いられる材料としては、ポリイミド、アクリル樹脂などが挙
げられる。これらの材料としては、予めフッ素元素を含有したものを用いてもよい。
次いで、無機バンク112a、有機バンク112bで囲まれた開口部112cに対して
酸素プラズマ-CF4プラズマの連続処理を行うことにより、基板2上の濡れ性を制御す
る。
Subsequently, an inorganic bank 112 a made of SiO 2 is formed on the substrate 2 so as to surround the pixel electrode 111. Further, an organic bank 112b made of a resin is formed on the inorganic bank 112a, whereby an opening 112c is formed on the pixel electrode 111. In addition,
Examples of the material used for the organic bank 112b include polyimide and acrylic resin. As these materials, a material containing a fluorine element in advance may be used.
Next, the wettability on the substrate 2 is controlled by performing a continuous process of oxygen plasma-CF4 plasma on the opening 112c surrounded by the inorganic bank 112a and the organic bank 112b.

この後、インクジェット法等の液滴吐出法によって正孔注入層の形成材料を含有する液
状材料を前記開口部112c内に選択的に配し、正孔注入/輸送層151(151R、1
51G、151B)を形成し、次いでこの正孔注入/輸送層151(151R、151G
、151B)に対して不溶化処理を施す。そして、成膜された正孔注入/輸送層151(
151R、151G、151B)上に、液滴吐出法により発光層150(150R、15
0G、150B)を成膜する。
これら正孔注入/輸送層151(151R、151G、151B)及び発光層150(
150R、150G、150B)の成膜手順は、不溶化処理方法に応じて異なる順序が設
定される。
Thereafter, a liquid material containing a material for forming the hole injection layer is selectively disposed in the opening 112c by a droplet discharge method such as an ink jet method, and the hole injection / transport layer 151 (151R, 1R, 1
51G, 151B) and then this hole injection / transport layer 151 (151R, 151G)
151B) is insolubilized. Then, the formed hole injection / transport layer 151 (
151R, 151G, 151B) on the light emitting layer 150 (150R, 15B) by a droplet discharge method.
0G, 150B) is formed.
These hole injection / transport layer 151 (151R, 151G, 151B) and light emitting layer 150 (
150R, 150G, and 150B) are formed in a different order depending on the insolubilization method.

(加熱による不溶化処理の場合)
上記第1実施形態と同様に、ホットプレート等を用いた加熱処理により正孔注入/輸送
層151(151R、151G、151B)を、異なる条件で不溶化させる場合、例えば
R・G・Bの各色で異なる劣化特性を調整するために、青色の発光層150Bに対応する
正孔注入/輸送層151Bを第1条件(第1加熱条件)で不溶化し、赤色及び緑色の発光
層150R、150Gに対応する正孔注入/輸送層151R、151Gを第2条件(第2
加熱条件)で不溶化する場合には、まず、青色に対応する画素領域に正孔注入/輸送層形
成材料及び架橋剤を含む液状体の液滴を塗布した後に、第1加熱条件による不溶化処理を
施して正孔注入/輸送層151Bを成膜する。これにより、第1加熱条件に応じて架橋さ
れた不溶化層及び一部がプレ正孔注入/輸送層として残留する正孔注入/輸送層151B
が形成される。
(Insolubilization treatment by heating)
As in the first embodiment, when the hole injection / transport layer 151 (151R, 151G, 151B) is insolubilized under different conditions by heat treatment using a hot plate or the like, for example, each color of R, G, and B is used. In order to adjust different deterioration characteristics, the hole injection / transport layer 151B corresponding to the blue light-emitting layer 150B is insolubilized under the first condition (first heating condition), and corresponds to the red and green light-emitting layers 150R and 150G. The hole injecting / transporting layers 151R and 151G are subjected to the second condition (second
In the case of insolubilization under heating conditions), first, after applying a liquid droplet containing a hole injection / transport layer forming material and a cross-linking agent to the pixel region corresponding to blue, insolubilization treatment under the first heating condition is performed. To form a hole injection / transport layer 151B. Accordingly, the insolubilized layer cross-linked according to the first heating condition and the hole injection / transport layer 151B in which a part remains as the pre-hole injection / transport layer.
Is formed.

次いで、正孔注入/輸送層151B上に発光層形成材料を含む液状体の液滴を塗布する
とともに、焼成処理を行って溶媒を蒸発させる。これにより、正孔注入/輸送層151B
の一部のプレ正孔注入/輸送層が溶出して混在し、第1加熱条件に対応した正孔輸送性を
有する発光層150Bが成膜される。
Next, liquid droplets containing the light emitting layer forming material are applied onto the hole injection / transport layer 151B, and a baking process is performed to evaporate the solvent. Thereby, the hole injection / transport layer 151B
A part of the pre-hole injecting / transporting layer is eluted and mixed, and the light emitting layer 150B having the hole transporting property corresponding to the first heating condition is formed.

続いて、青色の場合と同様に、赤色及び緑色に対応する画素領域に正孔注入/輸送層形
成材料及び架橋剤を含む液状体の液滴を塗布した後に、第2加熱条件による不溶化処理を
施して正孔注入/輸送層151R、151Gをそれぞれ成膜する。これにより、第2加熱
条件に応じて架橋された不溶化層及び一部がプレ正孔注入/輸送層として残留する正孔注
入/輸送層151R、151Gが形成される。
次いで、正孔注入/輸送層151R、151G上に発光層形成材料を含む液状体の液滴
をそれぞれ塗布するとともに、焼成処理を行って溶媒を蒸発させる。これにより、正孔注
入/輸送層151R、151Gの一部のプレ正孔注入/輸送層が溶出して混在し、第2加
熱条件に対応した正孔輸送性を有する発光層150R、150Gがそれぞれ成膜される。
Subsequently, as in the case of blue, after applying a liquid droplet containing a hole injection / transport layer forming material and a cross-linking agent to the pixel regions corresponding to red and green, insolubilization treatment under the second heating condition is performed. Then, hole injection / transport layers 151R and 151G are formed, respectively. As a result, the insolubilized layer crosslinked according to the second heating condition and the hole injection / transport layers 151R and 151G in which a part remains as the pre-hole injection / transport layer are formed.
Next, liquid droplets containing a light emitting layer forming material are applied on the hole injection / transport layers 151R and 151G, respectively, and a baking process is performed to evaporate the solvent. Thereby, some of the pre-hole injection / transport layers of the hole injection / transport layers 151R and 151G are eluted and mixed, and the light-emitting layers 150R and 150G having hole transport properties corresponding to the second heating condition are respectively provided. A film is formed.

このように、基板2に対して不溶化処理が一括して行われ、個別の条件での不溶化処理
が困難な加熱処理の場合には、異なる条件による処理が行われるように、一旦正孔注入/
輸送層及び発光層を形成した後に、他の画素領域の正孔注入/輸送層及び発光層を形成す
ることにより、異なる正孔輸送性を有する画素(発光層)を形成することができる。
In this way, insolubilization processing is performed on the substrate 2 in a lump, and in the case of heat treatment in which insolubilization processing under individual conditions is difficult, hole injection /
After forming the transport layer and the light-emitting layer, pixels (light-emitting layers) having different hole transport properties can be formed by forming the hole injection / transport layer and the light-emitting layer in other pixel regions.

(エネルギー光による不溶化処理の場合)
例えば、紫外光や電子ビーム、プラズマ光等のエネルギー光を照射することにより、正
孔注入/輸送層を不溶化する場合には、不溶化処理を施す画素領域に対応するマスクを用
いることにより、個別の条件での不溶化処理が可能になるため、正孔注入/輸送層151
(151R、151G、151B)の成膜は一括して行われる。
次いで、例えば青色に対応する画素領域が開口するマスクを用いて、正孔注入/輸送層
151Bに対して上記エネルギー光の照射処理を第1照射条件(例えば照射時間大)で施
す。続いて、赤色及び緑色に対応する画素領域が開口するマスクを用いて、正孔注入/輸
送層151R、151Gに対して上記エネルギー光の照射処理を第2照射条件(例えば照
射時間小)でそれぞれ施す。
(Insolubilization with energy light)
For example, when the hole injection / transport layer is insolubilized by irradiating energy light such as ultraviolet light, electron beam, plasma light, etc., by using a mask corresponding to the pixel region to be insolubilized, The hole injecting / transporting layer 151 can be insolubilized under certain conditions.
(151R, 151G, 151B) is formed all at once.
Next, for example, using the mask in which the pixel region corresponding to blue is opened, the irradiation process of the energy light is performed on the hole injection / transport layer 151B under the first irradiation condition (for example, the irradiation time is long). Subsequently, the irradiation process of the energy light is performed on the hole injection / transport layers 151R and 151G under a second irradiation condition (for example, a short irradiation time) using a mask in which pixel regions corresponding to red and green are opened. Apply.

これにより、第1照射条件及び第2照射条件に応じて架橋された不溶化層及び一部がプ
レ正孔注入/輸送層として残留する正孔注入/輸送層151R、151G、151Bが形
成される。
次いで、正孔注入/輸送層151R、151G、151B上に発光層形成材料を含む液
状体の液滴をそれぞれ塗布するとともに、焼成処理を行って溶媒を蒸発させる。これによ
り、正孔注入/輸送層151R、151G、151Bの一部のプレ正孔注入/輸送層が溶
出して混在し、第1照射条件及び第2照射条件に対応した正孔輸送性を有する発光層15
0R、150G、150Bがそれぞれ成膜される。
Thereby, the insolubilized layer cross-linked according to the first irradiation condition and the second irradiation condition and the hole injection / transport layers 151R, 151G, 151B in which a part remains as the pre-hole injection / transport layer are formed.
Next, liquid droplets containing the light emitting layer forming material are applied on the hole injection / transport layers 151R, 151G, and 151B, respectively, and a baking process is performed to evaporate the solvent. Thereby, some of the pre-hole injection / transport layers of the hole injection / transport layers 151R, 151G, and 151B are eluted and mixed, and have a hole transport property corresponding to the first irradiation condition and the second irradiation condition. Light emitting layer 15
0R, 150G, and 150B are deposited.

このように、エネルギー光の照射による不溶化処理の場合には、マスクを用いることに
より、正孔注入/輸送層151R、151G、151Bを一括して成膜することが可能に
なり、生産性の向上に寄与できる。
また、本実施形態では、複数の発光特性を有する有機EL装置100に対しても、各発
光特性に応じて正孔注入/輸送層151(151R、151G、151B)に不溶化処理
条件を調整することにより、不溶化状態を異ならせて正孔の輸送特性を制御することが可
能になり、複数の発光層間でのキャリアバランスを容易に保つことができる。
Thus, in the case of insolubilization treatment by irradiation with energy light, by using a mask, the hole injection / transport layers 151R, 151G, and 151B can be collectively formed, and the productivity is improved. Can contribute.
In the present embodiment, the insolubilization treatment conditions are adjusted in the hole injection / transport layer 151 (151R, 151G, 151B) according to each light emission characteristic even for the organic EL device 100 having a plurality of light emission characteristics. As a result, it becomes possible to control the hole transport characteristics by varying the insolubilized state, and the carrier balance among the plurality of light emitting layers can be easily maintained.

(電子機器)
次に、本発明の有機EL装置を適用可能な電子機器の具体例について図7を参照して説
明する。図7(a)は、有機EL装置を可搬型のパーソナルコンピュータ(いわゆるノー
ト型パソコン)300の表示部に適用した例を示す斜視図である。同図に示すように、パ
ーソナルコンピュータ(電子機器)300は、キーボード301を備えた本体部302と
、有機EL装置を適用した表示部(表示装置)303とを備えている。
(Electronics)
Next, specific examples of electronic devices to which the organic EL device of the present invention can be applied will be described with reference to FIG. FIG. 7A is a perspective view showing an example in which the organic EL device is applied to a display unit of a portable personal computer (so-called notebook personal computer) 300. As shown in the figure, a personal computer (electronic device) 300 includes a main body 302 having a keyboard 301 and a display unit (display device) 303 to which an organic EL device is applied.

図7(b)は、有機EL素子を携帯電話機(電子機器)400の表示部に適用した例を
示す斜視図である。同図に示すように、携帯電話機400は、複数の操作ボタン401の
ほか、受話口402、送話口403とともに、有機EL装置を適用した表示部(表示装置
)404を備えている。
本実施形態の電子機器では、上記の有機EL装置を備えているので、画素間の発光特性
のバランスが取られて高品質の表示特性を有し、また生産性に優れ、製造コスト低減に寄
与できる表示装置及び電子機器を得ることができる。
FIG. 7B is a perspective view showing an example in which an organic EL element is applied to a display unit of a mobile phone (electronic device) 400. As shown in the figure, the cellular phone 400 includes a plurality of operation buttons 401, a receiving part 402, a mouthpiece 403, and a display unit (display device) 404 to which an organic EL device is applied.
Since the electronic apparatus of the present embodiment includes the above-described organic EL device, the light emission characteristics are balanced between the pixels, high-quality display characteristics are obtained, and productivity is high, which contributes to reduction in manufacturing costs. Display devices and electronic devices that can be obtained can be obtained.

本発明の発光装置に係る有機EL素子は、上述した携帯電話機やノートパソコン以外に
も、PDA(Personal Digital Assistants)と呼ばれる携帯型情報機器、パーソナルコ
ンピュータ、ワークステーション、デジタルスチルカメラ、車載用モニタ、デジタルビデ
オカメラ、テレビ、ビューファインダ型、モニタ直視型のビデオテープレコーダ、カーナ
ビゲーション装置、ページャ、電子手帳、電卓、ワードプロセッサ、ワークステーション
、テレビ電話機、およびPOS端末機などの電子機器に広く適用することができる。
The organic EL element according to the light-emitting device of the present invention includes, in addition to the above-described mobile phone and laptop computer, a portable information device called PDA (Personal Digital Assistants), a personal computer, a workstation, a digital still camera, an in-vehicle monitor, Widely applied to electronic devices such as digital video cameras, TVs, viewfinder type, monitor direct-view type video tape recorders, car navigation devices, pagers, electronic notebooks, calculators, word processors, workstations, video phones, and POS terminals. Can do.

以上、添付図面を参照しながら本発明に係る好適な実施形態について説明したが、本発
明は係る例に限定されないことは言うまでもない。上述した例において示した各構成部材
の諸形状や組み合わせ等は一例であって、本発明の主旨から逸脱しない範囲において設計
要求等に基づき種々変更可能である。
As described above, the preferred embodiments according to the present invention have been described with reference to the accompanying drawings, but the present invention is not limited to the examples. Various shapes, combinations, and the like of the constituent members shown in the above-described examples are examples, and various modifications can be made based on design requirements and the like without departing from the spirit of the present invention.

例えば、上記実施形態では、有機層が正孔注入/輸送層と発光層とからなる構成とした
が、これに限定されるものではなく、正孔注入層と正孔輸送層とが個別に設けられる構成
であってもよい。また、発光層と陰極との間に電子輸送層を設けてもよい。電子輸送層は
、発光層に電子を注入する役割を果たすものである。電子輸送層を形成する材料としては
、オキサジアゾール誘導体、アントラキノジメタン及びその誘導体、ベンゾキノン及びそ
の誘導体、ナフトキノン及びその誘導体、アントラキノン及びその誘導体、テトラシアノ
アンスラキノジメタン及びその誘導体、フルオレノン誘導体、ジフェニルジシアノエチレ
ン及びその誘導体、ジフェノキノン誘導体、8−ヒドロキシキノリン及びその誘導体の金
属錯体などを用いることができる。
For example, in the above embodiment, the organic layer is composed of a hole injection / transport layer and a light emitting layer. However, the present invention is not limited to this, and the hole injection layer and the hole transport layer are provided separately. It may be a configuration. Further, an electron transport layer may be provided between the light emitting layer and the cathode. The electron transport layer plays a role of injecting electrons into the light emitting layer. Materials for forming the electron transport layer include oxadiazole derivatives, anthraquinodimethane and its derivatives, benzoquinone and its derivatives, naphthoquinone and its derivatives, anthraquinone and its derivatives, tetracyanoanthraquinodimethane and its derivatives, fluorenone derivatives , Diphenyldicyanoethylene and derivatives thereof, diphenoquinone derivatives, metal complexes of 8-hydroxyquinoline and derivatives thereof, and the like can be used.

また、上記実施形態では、正孔注入/輸送層に不溶化処理を施し、残留した正孔注入/
輸送層形成材料を発光層に溶出させる構成としたが、これに限られず、例えば隣接する有
機層のうち下層に位置する有機層に対して不溶化処理を施し、残留した有機層形成材料を
上層に位置する有機層に溶出させることにより、キャリア輸送性を調整することが可能で
ある。例えば、有機層が正孔注入層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層を有す構成の場合
、隣り合う層のうち、下層の有機層に不溶化処理を施し、この有機層形成材料を上層の有
機層に溶出させればよい。
このような構成では、正孔輸送性のみならず電子輸送性も制御することが可能になり、
キャリアバランスを容易に保つことが可能になる。
Further, in the above embodiment, the hole injection / transport layer is subjected to insolubilization treatment, and the remaining hole injection / transport
The transport layer forming material is eluted into the light emitting layer, but the present invention is not limited to this. For example, the organic layer located in the lower layer of adjacent organic layers is insolubilized, and the remaining organic layer forming material is used as the upper layer. Carrier elution can be adjusted by elution in the organic layer located. For example, in the case where the organic layer has a hole injection layer, a hole transport layer, a light emitting layer, and an electron transport layer, an insolubilizing treatment is applied to the lower organic layer among adjacent layers, and the organic layer forming material is It may be eluted in the upper organic layer.
In such a configuration, it becomes possible to control not only the hole transport property but also the electron transport property,
Carrier balance can be easily maintained.

本発明に係る有機EL装置の要部断面図である。It is principal part sectional drawing of the organic electroluminescent apparatus which concerns on this invention. 有機EL素子の一製造工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one manufacturing process of an organic EL element. 有機EL素子の一製造工程を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows one manufacturing process of an organic EL element. 架橋反応温度と不溶化率との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a crosslinking reaction temperature and an insolubilization rate. 架橋反応温度と電流密度との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between a crosslinking reaction temperature and a current density. 有機EL装置における表示領域の断面構造を拡大した図である。It is the figure which expanded the cross-section of the display area in an organic electroluminescent apparatus. 電子機器の一例を示す斜視図である。It is a perspective view which shows an example of an electronic device.

符号の説明Explanation of symbols

100…有機EL素子(有機EL装置)、 103、151、151R、151G、1
51B…正孔注入/輸送層(第1有機層)、 104…発光層(第2有機層)、 110
…有機層、 150、150R、150G、150B…発光層、 300…パーソナルコ
ンピュータ(電子機器)、 303、404…表示部(表示装置)、 400…携帯電話
機(電子機器)
100: Organic EL element (organic EL device), 103, 151, 151R, 151G, 1
51B: hole injection / transport layer (first organic layer), 104: light emitting layer (second organic layer), 110
... Organic layer, 150, 150R, 150G, 150B ... Light emitting layer, 300 ... Personal computer (electronic device), 303, 404 ... Display unit (display device), 400 ... Mobile phone (electronic device)

Claims (15)

有機層を介して輸送されたキャリアにより発光層が発光する有機EL装置の製造方法で
あって、
液相法により第1有機層を成膜する工程と、
前記第1有機層に対して不溶化処理を施す工程と、
前記不溶化処理を施された前記第1有機層上に液相法により第2有機層を成膜する工程
とを有し、
前記第2有機層における前記キャリアの輸送特性に基づいて、前記第1有機層の不溶化
処理条件を調整することを特徴とする有機EL装置の製造方法。
A method for producing an organic EL device in which a light emitting layer emits light by carriers transported through an organic layer,
Forming a first organic layer by a liquid phase method;
Applying insolubilization to the first organic layer;
Forming a second organic layer by a liquid phase method on the insolubilized first organic layer,
A method for manufacturing an organic EL device, comprising adjusting conditions for insolubilization of the first organic layer based on transport characteristics of the carrier in the second organic layer.
請求項1記載の有機EL装置の製造方法において、
発光特性の異なる複数の前記発光層の間で前記不溶化処理条件を互いに異ならせること
を特徴とする有機EL装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 1,
A method for manufacturing an organic EL device, characterized in that the insolubilizing treatment conditions are made different among a plurality of the light emitting layers having different light emitting characteristics.
請求項2記載の有機EL装置の製造方法において、
第1発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層を成膜して前記不溶化処理
を施した後に、第2発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層を成膜して前
記不溶化処理を施すことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 2,
After forming the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the first light emitting characteristics and performing the insolubilization treatment, forming the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the second light emitting characteristics. Then, the insolubilization treatment is performed, and a method for manufacturing an organic EL device is provided.
請求項3記載の有機EL装置の製造方法において、
前記不溶化処理は、加熱処理を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 3,
The method for manufacturing an organic EL device, wherein the insolubilization treatment includes a heat treatment.
請求項3または4記載の有機EL装置の製造方法において、
前記第1有機層を液滴吐出方式により成膜することを特徴とする有機EL装置の製造方
法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 3 or 4,
A method of manufacturing an organic EL device, wherein the first organic layer is formed by a droplet discharge method.
請求項2記載の有機EL装置の製造方法において、
第1発光特性を有する前記発光層に対応する前記第1有機層、及び第2発光特性を有す
る前記発光層に対応する前記第1有機層を一括的に成膜した後に、前記異なる不溶化処理
条件で前記第1有機層にそれぞれ前記不溶化処理を施すことを特徴とする有機EL装置の
製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 2,
After the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the first light emitting characteristics and the first organic layer corresponding to the light emitting layer having the second light emitting characteristics are collectively formed, the different insolubilization treatment conditions The method of manufacturing an organic EL device, wherein the insolubilization treatment is performed on each of the first organic layers.
請求項6記載の有機EL装置の製造方法において、
前記不溶化処理は、エネルギ光の照射処理を含むことを特徴とする有機EL装置の製造
方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus of Claim 6,
The insolubilization process includes an energy light irradiation process.
請求項1から7のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法において、
前記不溶化処理は、前記第1有機層を構成する材料の分子について、当該分子間に架橋
を生じさせる処理を含むことを特徴とする有機EL装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus in any one of Claim 1 to 7,
The method for manufacturing an organic EL device, wherein the insolubilization process includes a process of causing cross-linking between molecules of the material constituting the first organic layer.
請求項1から8のいずれかに記載の有機EL装置の製造方法において、
前記第1有機層または前記第2有機層のいずれか一方は、前記発光層であることを特徴
とする有機EL装置の製造方法。
In the manufacturing method of the organic electroluminescent apparatus in any one of Claim 1 to 8,
Either one of the first organic layer or the second organic layer is the light emitting layer.
有機層を介して輸送されたキャリアにより発光層が発光する有機EL装置であって、
液相法により成膜された第1有機層と、
前記液相法により前記第1有機層上に成膜された第2有機層とを有し、
前記第2有機層は、当該第2有機層における前記キャリアの輸送特性に基づいて、第1
有機層形成材料と第2有機層形成材料とが混合された混合有機層を有することを特徴とす
る有機EL装置。
An organic EL device in which a light emitting layer emits light by carriers transported through an organic layer,
A first organic layer formed by a liquid phase method;
A second organic layer formed on the first organic layer by the liquid phase method,
The second organic layer is formed based on the carrier transport property in the second organic layer.
An organic EL device comprising a mixed organic layer in which an organic layer forming material and a second organic layer forming material are mixed.
請求項10記載の有機EL装置において、
前記混合有機層は、前記第1有機層の前記第2有機層に対する不溶化状態が調整されて
、第1有機層形成材料と第2有機層形成材料とが混合されることを特徴とする有機EL装
置。
The organic EL device according to claim 10,
The mixed organic layer has an insolubilized state of the first organic layer with respect to the second organic layer, and is mixed with the first organic layer forming material and the second organic layer forming material. apparatus.
請求項11記載の有機EL装置において、
発光特性の異なる複数の前記発光層の間で前記不溶化状態が互いに異なることを特徴と
する有機EL装置。
The organic EL device according to claim 11,
2. The organic EL device according to claim 1, wherein the insolubilized state is different between the plurality of light emitting layers having different light emission characteristics.
請求項10から12のいずれかに記載の有機EL装置において、
前記第1有機層または前記第2有機層のいずれか一方は、前記発光層であることを特徴
とする有機EL装置。
The organic EL device according to any one of claims 10 to 12,
Either one of the first organic layer or the second organic layer is the light emitting layer.
請求項10から13のいずれかに記載の有機EL装置を備えることを特徴とする表示装
置。
A display device comprising the organic EL device according to claim 10.
請求項14記載の表示装置を備えることを特徴とする電子機器。
An electronic apparatus comprising the display device according to claim 14.
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