JP2007217206A - Graphite film, thermal diffusion film using the same and thermal diffusion method using the same - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To reduce the thermal resistance of a graphite film and a heating element, and to provide a film capable of dissipating heat without impairing thermal conductivity characteristics peculiar to the graphite film. <P>SOLUTION: Part of a graphite film having a compression rate of ≥20% and anisotropy of thermal conductivity between film plane and film thickness directions is compressed by application of pressure so that apparent difference in thickness is produced, and an uncompressed part and a heating element are brought into contact with each other in such a way that the uncompressed part is pressurized. An adhesive layer (layer having adhesion function) is attached to the compressed part and this compressed part is stuck to a heat sink. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は放熱特性に優れ、さらに発熱源との熱抵抗を小さくした熱拡散フィルム(放熱フィルムともいう)および熱拡散方法に関する。   The present invention relates to a heat diffusing film (also referred to as a heat radiating film) and a heat diffusing method, which are excellent in heat dissipation characteristics and have a reduced thermal resistance with a heat source.

近年、パソコン、携帯電話、PDAなどの電子機器の性能向上は著しく、それはCPUの著しい性能向上によっている。この様なCPUの性能向上に伴い、CPUの発熱量も著しく増加し、電子機器における放熱をどの様に行うが重要な課題になっている。   In recent years, the performance of electronic devices such as personal computers, mobile phones, and PDAs has improved significantly, which is due to the significant improvement in CPU performance. Along with such improvement in CPU performance, the amount of heat generated by the CPU also increases remarkably, and how to dissipate heat in electronic devices is an important issue.

熱対策としてはファンによる空冷やヒートパイプ、水を用いた水冷などの方法があるが、これらはいずれも新たな放熱のための装置を必要とし、機器の重量増加を招くだけでなく、騒音や使用電気量の増加などを招くと言う欠点がある。   As heat countermeasures, there are methods such as air cooling with fans, heat pipes, water cooling with water, etc., but these all require new heat dissipation devices, which not only increase the weight of the equipment, but also noise and There is a disadvantage that it causes an increase in the amount of electricity used.

一方で、CPUの発生する熱を出来るだけ迅速に広い面積に拡散させる方法は冷却効率を上げることを目的としたもので、携帯電話やパソコンなどの電子機器における冷却方法としては最も現実的なものである。   On the other hand, the method of diffusing the heat generated by the CPU to a large area as quickly as possible aims to increase the cooling efficiency, and is the most realistic cooling method for electronic devices such as mobile phones and personal computers. It is.

この様な目的に使用される熱伝導シートとして、近年シート状のグラファイトが大きな注目をあつめている。その理由は良質のグラファイトシートは100〜1000W/mKの非常に高い熱伝導性を有しており、他のゲル状やシート状の放熱材料の熱伝導度(0.8〜6.5W/mK)の特性に比べて著しく高性能で熱を拡散させるには最適であるためである。   In recent years, sheet-like graphite has attracted much attention as a heat conductive sheet used for such purposes. The reason is that a high-quality graphite sheet has a very high thermal conductivity of 100 to 1000 W / mK, and the thermal conductivity (0.8 to 6.5 W / mK) of other gel-like or sheet-like heat dissipation materials. This is because it is optimal for diffusing heat with remarkably high performance compared to the characteristics of

この様な目的に使用される人工的なグラファイトフィルムの製造方法の第一がエキスパンドグラファイト法と呼ばれる方法である。これは天然グラファイトを濃硫酸と濃硝酸の混合液に浸漬し、その後急激に加熱する事により製造される。この様にして製造されたグラファイトは洗浄によって酸を除いた後フィルム状に加工される。この様にして製造されたグラファイトフィルムの熱伝導値は100〜400W/mK程度であり、機械的強度が弱く、グラファイト粉末の剥がれ落ち(粉落ちと表現する)の課題を抱えている一方で、安価で厚物の製造が楽である、と言う事から熱伝導シートとして使用されている。   The first method for producing an artificial graphite film used for such a purpose is a method called an expanded graphite method. This is produced by immersing natural graphite in a mixed solution of concentrated sulfuric acid and concentrated nitric acid and then rapidly heating it. The graphite produced in this way is processed into a film after removing the acid by washing. While the thermal conductivity value of the graphite film produced in this manner is about 100 to 400 W / mK, the mechanical strength is weak, and the graphite powder has a problem of peeling off (expressed as powder falling), It is used as a heat conductive sheet because it is cheap and easy to manufacture thick materials.

人工的なグラファイトフィルムの第二の製造方法が特殊な高分子を直接熱処理によってグラファイト化する方法である。この目的に使用される高分子としては、ポリオキサジアゾール、ポリイミド、ポリパラフェニレンビニレンなどがある。この方法は、本質的に酸などの不純物を含まない方法であり、さらには非常に優れた面方向の熱伝導性(300〜1000W/mK)が得られる、と言う特徴がある。(例えば、特許文献(1)、(2)、(3)、(4)、(5))がある。   The second method for producing an artificial graphite film is a method in which a special polymer is graphitized by direct heat treatment. Polymers used for this purpose include polyoxadiazole, polyimide, polyparaphenylene vinylene and the like. This method is essentially a method that does not contain impurities such as an acid, and further has a feature that a very excellent thermal conductivity in the plane direction (300 to 1000 W / mK) can be obtained. (For example, there are patent documents (1), (2), (3), (4), (5)).

また、グラファイトフィルムと接着性・絶縁性・柔軟性を持つ接着性高分子材料とを複合する事が行われている。熱伝導グラファイトシートの粘着層として利用する粘着材としては天然ゴムやアクリルが最も一般的であり、要求に応じて耐熱性・接着性にすぐれたシリコーンゴムやポリイミド系接着剤が用いられる事もある。例えば、黒鉛シートの片面あるいは両面にシリコーンゴムを塗布してなる事を特徴とする電気部品用熱伝導シート(特許文献(6)(7)(8))、グラファイトシート上にポリウレタンまたはポリウレタン誘導体のプライマー層を設け、グラファイトとシリコーン組成物を強固に接着させる技術(特許文献(9))、グラファイトシートとその表面に設けた厚さ100μm以下の粘着層とを備えた放熱部品(特許文献(10))の例などが開示されている。
特公告平1−49642号公報。 特公告平1−57044号公報。 特開平4−310569号公報。 特開平3−75211号公報。 特開2000−247740号公報。 公告平3−51302号公報。 特開平8−83990号公報。 特開平9−17923号公報。 特開2001−287298号公報。 特開平11−317480号公報。 特開2002−160970号公報。
In addition, a composite of a graphite film and an adhesive polymer material having adhesiveness, insulation, and flexibility has been performed. Natural rubber and acrylic are the most common adhesive materials used as the adhesive layer for thermally conductive graphite sheets. Silicone rubber and polyimide adhesives with excellent heat resistance and adhesiveness may be used as required. . For example, a heat conductive sheet for electric parts (Patent Documents (6), (7), (8)) characterized in that a silicone rubber is applied to one or both surfaces of a graphite sheet, and polyurethane or a polyurethane derivative is formed on the graphite sheet. A heat-dissipating component (Patent Document (10)) having a primer layer and a technique for firmly bonding graphite and the silicone composition (Patent Document (9)), a graphite sheet and an adhesive layer having a thickness of 100 μm or less provided on the surface of the graphite sheet. )) And the like are disclosed.
Japanese Patent Publication No. 1-49642. Japanese Patent Publication No. 1-57044. Japanese Patent Laid-Open No. 4-310569. JP-A-3-75211. JP 2000-247740 A. Publication No. 3-51302. JP-A-8-83990. JP-A-9-17923. JP 2001-287298 A. Japanese Patent Laid-Open No. 11-317480. JP 2002-160970 A.

<従来技術で残されている課題>
上記の特許文献(1)〜(5)に記載のグラファイトフィルム放熱シートには接着性がなく、そのままでは発熱体や冷却体との良好な接続ができないと言う欠点があった。放熱・熱拡散の用途にはCPUなどの発熱源と熱伝導体であるグラファイトフィルムを十分に接触させる必要があり、さらに冷却フィンや筐体などの冷却・放熱部材との十分な接触を取る必要も生じる。特に発熱源や放熱体が凹凸の在るような表面を有している場合には十分な接触を取れないために接合面での熱抵抗が大きくなり、グラファイトフィルムの高熱伝導特性を生かすことができない。
<Problems remaining in the prior art>
The graphite film heat-dissipating sheets described in the above-mentioned Patent Documents (1) to (5) have a drawback that they do not have adhesiveness and cannot be connected to a heating element or a cooling body as they are. For heat dissipation / heat diffusion applications, it is necessary to make sufficient contact between the heat source such as the CPU and the graphite film, which is the heat conductor, and it is also necessary to make sufficient contact with the cooling / heat dissipating member such as cooling fins and housings. Also occurs. Especially when the heat source or radiator has an uneven surface, sufficient contact cannot be obtained, increasing the thermal resistance at the joint surface and taking advantage of the high thermal conductivity of the graphite film. Can not.

放熱グラファイトフィルムのこの様な課題を解決するためにグラファイトフィルムと接着性・絶縁性・柔軟性を持つ接着性高分子材料とを複合する事が行われている。熱伝導グラファイトシートの粘着層として利用する粘着材としては天然ゴムやアクリルが最も一般的であり、要求に応じて耐熱性・接着性にすぐれたシリコーンゴムやポリイミド系接着剤が用いられる事もある。例えば、黒鉛シートの片面あるいは両面にシリコーンゴムを塗布してなる事を特徴とする電気部品用熱伝導シート(特許文献(6)(7)(8))、グラファイトシート上にポリウレタンまたはポリウレタン誘導体のプライマー層を設け、グラファイトとシリコーン組成物を強固に接着させる技術(特許文献(9))、グラファイトシートとその表面に設けた厚さ100μm以下の粘着層とを備えた放熱部品(特許文献(10))の例などが開示されている。   In order to solve such a problem of the heat-dissipating graphite film, a composite of a graphite film and an adhesive polymer material having adhesiveness, insulating properties and flexibility has been performed. Natural rubber and acrylic are the most common adhesive materials used as the adhesive layer for thermally conductive graphite sheets. Silicone rubber and polyimide adhesives with excellent heat resistance and adhesiveness may be used as required. . For example, a heat conductive sheet for electric parts (Patent Documents (6), (7), (8)) characterized in that a silicone rubber is applied to one or both surfaces of a graphite sheet, and polyurethane or a polyurethane derivative is formed on the graphite sheet. A heat-dissipating component (Patent Document (10)) having a primer layer and a technique for firmly bonding graphite and the silicone composition (Patent Document (9)), a graphite sheet and an adhesive layer having a thickness of 100 μm or less provided on the surface of the graphite sheet. )) And the like are disclosed.

しかし、これらの例はいずれも絶縁体層の熱電導性が低く、そのためにグラファイトフィルム本来の優れた熱伝導特性を損なうと言う欠点があった。   However, all of these examples have a drawback that the thermal conductivity of the insulating layer is low, and therefore, the excellent thermal conductivity characteristic of the graphite film is impaired.

<本発明の課題>
本発明の課題は、上記グラファイトフィルムと発熱体との間の熱抵抗を小さくし、グラファイトフィルムが有する熱伝導特性を損なう事無く放熱することのできる熱拡散フィルムを提供する事である。
<Problem of the present invention>
An object of the present invention is to provide a heat diffusion film that can reduce heat resistance between the graphite film and the heating element and can radiate heat without impairing the heat conduction characteristics of the graphite film.

(1)本発明の第1は、
「20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルムの一部が
厚さ方向への加圧処理によって圧縮され、
該グラファイトフィルムにおいて圧縮状態が異なる部分が共存している
事を特徴とするグラファイトフィルム。」、
である。
(1) The first of the present invention is
“A part of the graphite film having a compression ratio of 20% or more and anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction is compressed by the pressure treatment in the thickness direction,
A graphite film characterized in that portions having different compression states coexist in the graphite film. "
It is.

(2)本発明の第2は、
「前記の圧縮状態が異なる部分が共存しているグラファイトフィルムであって、
未圧縮部分、既圧縮部分のうち低圧縮部分、および既圧縮部分のうち高圧縮部分
からなる群から選択される2以上の、互いに圧縮状態が異なる部分のいずれかで、少なくとも見かけ上の厚さの差が生じている事を特徴とする、(1)記載のグラファイトフィルム。」、
である。
(2) The second aspect of the present invention is
"The graphite film in which the different compression states coexist,
At least the apparent thickness of any one of two or more portions selected from the group consisting of an uncompressed portion, a low-compressed portion of the pre-compressed portion, and a high-compressed portion of the pre-compressed portion and having different compression states. The graphite film according to (1), characterized in that a difference of "
It is.

(3)本発明の第3は、
「20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルム。」、
である。
(3) The third aspect of the present invention is
“A graphite film having a compressibility of 20% or more and anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction.”
It is.

(4)本発明の第4は、
「前記の
20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルムが、
高分子フィルム及び/又は炭素化フィルムからなる原料フィルムを
不活性ガス中または真空中、2400℃以上の温度で処理して得られうるグラファイトフィルムであって、
該原料フィルムの厚さの80%以上に膨張したグラファイトフィルムであることを特徴とする、(1)〜(3)のいずれかに記載の、グラファイトフィルム。」、
である。
(4) The fourth aspect of the present invention is
“A graphite film having a compression ratio of 20% or more and having anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction,
A graphite film that can be obtained by treating a raw material film composed of a polymer film and / or a carbonized film in an inert gas or in vacuum at a temperature of 2400 ° C. or higher,
The graphite film according to any one of (1) to (3), which is a graphite film expanded to 80% or more of the thickness of the raw material film. "
It is.

(5)本発明の第5は、
「(1)〜(4)のいずれかに記載のグラファイトフィルムと、
接着機能を有する層とを含む熱拡散フィルムであって、
該接着機能を有する層が該グラファイトフィルムのフィルム面の一部に設けられている事を特徴とする熱拡散フィルム。」、
である。
(5) The fifth aspect of the present invention is
“The graphite film according to any one of (1) to (4);
A heat diffusion film comprising a layer having an adhesive function,
A thermal diffusion film, wherein the layer having an adhesive function is provided on a part of the film surface of the graphite film. "
It is.

(6)本発明の第6は、
「(5)に記載の接着機能を有する層が、(1)〜(2)のいずれかに記載のグラファイトフィルムの
既圧縮部分のうち低圧縮部分及び/又は既圧縮部分のうち高圧縮部分に形成されている事を特徴とする熱拡散フィルム。」、
である。
(6) The sixth aspect of the present invention is
“The layer having an adhesive function described in (5) is formed on a low compression portion and / or a high compression portion of the precompressed portion of the graphite film according to any one of (1) to (2). A heat diffusion film characterized by being formed. ",
It is.

(7)本発明の第7は、
「前記グラファイトフィルムの
既圧縮部分のうち低圧縮部分及び/又は既圧縮部分のうち高圧縮部分の
表面には
接着機能及び/又は電気的に絶縁性の機能
を有する層が形成されており、
前記グラファイトフィルムの未圧縮部分の少なくとも一方の面には、
前記の接着機能及び/又は電気的に絶縁性の機能を有する層が形成されていない
事を特徴とする、(5)に記載の熱拡散フィルム。」、
である。
(7) The seventh of the present invention is
“A layer having an adhesive function and / or an electrically insulating function is formed on the surface of the low-compressed part and / or the high-compressed part of the pre-compressed part of the graphite film,
On at least one surface of the uncompressed portion of the graphite film,
The heat diffusion film according to (5), wherein a layer having the adhesion function and / or the electrically insulating function is not formed. "
It is.

(8)本発明の第8は、
「前記グラファイトフィルムの面方向の熱伝導度が100W/mK以上である事を特徴とする(5)〜(7)のいずれかに記載の熱拡散フィルム。」、
である。
(8) The eighth aspect of the present invention is
“The thermal diffusion film according to any one of (5) to (7), wherein the thermal conductivity in the plane direction of the graphite film is 100 W / mK or more.”
It is.

(9)本発明の第9は、
「(4)に記載の高分子フィルムが、
ポリイミド、ポリオキサジアゾール、及びポリパラフェニレンビニレンからなる群から選択される少なくとも一種類である、(5)〜(8)のいずれかに記載の熱拡散フィルム。」、
である。
(9) The ninth of the present invention is
"The polymer film described in (4)
The thermal diffusion film according to any one of (5) to (8), which is at least one selected from the group consisting of polyimide, polyoxadiazole, and polyparaphenylene vinylene. "
It is.

(10)本発明の第10は、
「(9)に記載のポリイミドフィルムの
100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10-5cm/cm/℃以下である事を特徴とする、(5)〜(9)のいずれかに記載の熱拡散フィルム。」、
である。
(10) The tenth aspect of the present invention is
“(5) to (9), wherein the polyimide film according to (9) has an average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. of 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less. The thermal diffusion film according to any one of the above ”.
It is.

(11)本発明の第11は、
「(9)に記載のポリイミドフィルムの
複屈折が0.13以上である事を特徴とする、(5)〜(10)のいずれかに記載の熱拡散フィルム。」、
である。
(11) The eleventh aspect of the present invention is
“The thermal diffusion film according to any one of (5) to (10), wherein the birefringence of the polyimide film according to (9) is 0.13 or more.”
It is.

(12)本発明の第12は、
「(1)、(2)、(4)のいずれかに記載のグラファイトフィルムの未圧縮部分と発熱体とを接触させ、さらに、該未圧縮部分が加圧されるように接続する事を特徴とする熱拡散方法。」、
である。
(12) The twelfth aspect of the present invention is
“The uncompressed portion of the graphite film according to any one of (1), (2), and (4) is brought into contact with a heating element, and further connected so that the uncompressed portion is pressurized. And thermal diffusion method. ",
It is.

(13)本発明の第13は、
「(12)に記載の熱拡散方法であって、さらに(1)、(2)、(4)のいずれかに記載のグラファイトフィルムの既圧縮部分が接着機能を有する層を介して放熱部分と接合されている事を特徴とする熱拡散方法。」、
である。
(13) The thirteenth aspect of the present invention is
“The thermal diffusion method according to (12), wherein the already compressed portion of the graphite film according to any one of (1), (2), and (4) is provided with a heat dissipation portion through a layer having an adhesive function. A thermal diffusion method characterized by being joined. ",
It is.

本発明によれば、グラファイトフィルムと発熱体との熱抵抗を小さくする事が出来、グラファイトフィルムが本来有している、優れた熱伝導特性を有効に生かす事ができる。これにより発熱体の熱をスムーズに熱拡散する事が出来る。   According to the present invention, the thermal resistance between the graphite film and the heating element can be reduced, and the excellent heat conduction characteristics inherent in the graphite film can be effectively utilized. As a result, the heat of the heating element can be diffused smoothly.

本発明の第(2)の構成によって、
圧縮処理されていない部分は発熱体との接合に用いられ、接合時に圧縮する事で熱抵抗の小さな接続が実現できる。圧縮された部分は発熱体からグラファイトに移動した熱を拡散させる役割を有するが、この部分は圧縮されている事により熱の拡散性能を高める事が出来る。
According to the second configuration of the present invention,
The uncompressed portion is used for joining with the heating element, and a connection with low thermal resistance can be realized by compressing at the time of joining. The compressed portion has a role of diffusing the heat transferred from the heating element to the graphite, and this portion can enhance the heat diffusion performance by being compressed.

本発明の第(5)の構成によって、
接着機能を有する層が設けられていないグラファイトの部分は主に発熱体との接合に使用されるが、この場合グラファイト層は20%以上の圧縮率を有しているので、これを圧縮する様に発熱体に押し付けて接合する事で良好な接続が保てる事になる。グラファイトの接着機能を有する層が設けられた部分は放熱の役割を果たす部分と接合して用いられる。
According to the fifth configuration of the present invention,
The portion of graphite that is not provided with a layer having an adhesive function is mainly used for joining to the heating element. In this case, the graphite layer has a compression ratio of 20% or more, so that it is compressed. It is possible to maintain a good connection by pressing and joining to the heating element. A portion provided with a layer having an adhesion function of graphite is used by being joined to a portion that plays a role of heat dissipation.

本発明の第(6)の構成によって、
圧縮された部分は本発明の第二項で述べたように熱拡散性が優れているので、放熱体の必要部分(例えばヒートシンクの底面など)に貼り付ける事で放熱効率を著しく向上させる事が出来る。
According to the configuration (6) of the present invention,
As described in the second section of the present invention, the compressed portion has excellent thermal diffusivity, so it is possible to remarkably improve the heat radiation efficiency by sticking it to the necessary part of the heat radiator (such as the bottom of the heat sink). I can do it.

放熱に寄与する圧縮部分は熱拡散の役割をになうが同時に発熱体以外の部分に熱や電気的な影響を与えない事が必要である。そのために圧縮された部分については絶縁層を設けることが好ましい。本発明の第(7)の構成によって、放熱に寄与する圧縮部分は熱拡散の役割をになうが同時に発熱体以外の部分に熱や電気的な影響を与えない事が可能となる。   The compressed portion that contributes to heat dissipation plays a role of heat diffusion, but at the same time, it is necessary that the portion other than the heating element is not affected by heat or electrical influence. Therefore, it is preferable to provide an insulating layer for the compressed portion. According to the (7) configuration of the present invention, the compression portion contributing to heat dissipation plays a role of heat diffusion, but at the same time, it is possible to prevent heat and electrical influences on portions other than the heating element.

グラファイトフィルムはすでに背景技術の項で述べたように、優れた面方向の熱伝導特性を有しており、一方、フィルムの厚さ方向の熱伝導は10W/mK程度である。本発明の第(8)の構成によって、この様な熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルムは本発明の熱拡散フィルムにとって好ましい。   As already described in the background section, the graphite film has excellent heat conduction characteristics in the plane direction, while the heat conduction in the thickness direction of the film is about 10 W / mK. With the configuration (8) of the present invention, a graphite film having such anisotropy of thermal conductivity is preferable for the thermal diffusion film of the present invention.

本発明の第(9)の構成によって、
これらの高分子フィルムを原料として用いる事により本目的に合致した放熱グラファイトフィルムを得る事が出来る。
According to the ninth configuration of the present invention,
By using these polymer films as raw materials, a heat-dissipating graphite film that meets this purpose can be obtained.

本発明の第(10)の構成によって、
この様なポリイミドフィルムを原料として用いる事により本目的に合致したグラファイト熱拡散フィルムを得る事が出来る。
According to the tenth configuration of the present invention,
By using such a polyimide film as a raw material, a graphite thermal diffusion film meeting this purpose can be obtained.

本発明の第(11)の構成によって、
この様なポリイミドフィルムを原料として用いる事により本目的に合致したグラファイト熱拡散フィルムを得る事が出来る。
With the (11) configuration of the present invention,
By using such a polyimide film as a raw material, a graphite thermal diffusion film meeting this purpose can be obtained.

本発明の第(13)に記載した放熱方法を取る事により、発熱体とグラファイトの熱抵抗は小さくなり、かつこの様な方法を用いる事によって放熱体の性能も高めることが出来、結果として優れた放熱効果を実現する事が出来る。   By adopting the heat dissipation method described in item (13) of the present invention, the heat resistance of the heat generating element and graphite is reduced, and the performance of the heat dissipating element can be improved by using such a method. The heat dissipation effect can be realized.

本発明の各構成要素について説明する。   Each component of the present invention will be described.

<グラファイトフィルム>
グラファイトは炭素原子が層状に広がった構造を持ち、その面方向に優れた熱伝導性を有する。理想的なグラファイトでは面方向の熱伝導度は2000W/mKに達し、この値は銅の熱伝導398W/mKの5倍である。さらに、グラファイトの厚さ方向の熱伝導度は面方向のおよそ1/400程度である、という特徴がある。本発明の目的は熱拡散(放熱)であるから、本発明にとっては面方向の熱伝導度が大きい事は極めて重要である。一方、フィルムの厚み方向の熱伝導度は小さいので厚さ方向の厚みは小さいほど好ましく、さらに発熱体との接合方法が重要となる。すなわち熱抵抗をいかに小さくするかが重要となる。
<Graphite film>
Graphite has a structure in which carbon atoms are spread in layers, and has excellent thermal conductivity in the surface direction. With ideal graphite, the thermal conductivity in the plane direction reaches 2000 W / mK, which is five times that of copper, 398 W / mK. Furthermore, the thermal conductivity in the thickness direction of graphite is characterized by being about 1/400 in the plane direction. Since the object of the present invention is thermal diffusion (heat dissipation), it is extremely important for the present invention that the thermal conductivity in the surface direction is large. On the other hand, since the thermal conductivity in the thickness direction of the film is small, the thickness in the thickness direction is preferably as small as possible, and the method of joining with the heating element is important. In other words, how to reduce the thermal resistance is important.

しかし、上記グラファイトの熱伝導度は理想的な単結晶グラファイトでの値であり、現実に得られるグラファイト材料の熱伝導は理想値よりも劣るものとなる。本発明の目的に用いられるグラファイトフィルムは、フィルム面方向の熱伝導度が100W/mK以上であり、フィルム面に垂直方向の熱伝導度との異方性が10倍以上である事が好ましい。本発明の目的に使用できる様な現実的なグラファイトの製造方法として、(1)天然黒鉛や人造黒鉛等の黒鉛粉末をシート化して得られるグラファイトフィルム、(2)高分子フィルムを熱処理して得られるグラファイトフィルムを挙げる事が出来る。   However, the thermal conductivity of the graphite is a value of an ideal single crystal graphite, and the thermal conductivity of the graphite material actually obtained is inferior to the ideal value. The graphite film used for the purpose of the present invention preferably has a thermal conductivity in the film surface direction of 100 W / mK or more and anisotropy with the thermal conductivity in the direction perpendicular to the film surface of 10 times or more. As a practical method for producing graphite that can be used for the purpose of the present invention, (1) a graphite film obtained by sheeting graphite powder such as natural graphite or artificial graphite, and (2) heat treating a polymer film. Can be mentioned graphite film.

(1)の製造方法で得られるグラファイトフィルムとしては、フィルム面方向の熱伝導が100〜400W/mK、厚さ方向の熱伝導度が5〜20W/mK、厚さ100〜1000μmのものが得られる。この製法はグラファイト粉末をシート状に押し固めたグラファイトフィルムである。グラファイト粉末がフィルム状に成型されるためには粉末がフレーク状、あるいはリン片状になっている必要がある。この様なグラファイト粉末の製造のための最も一般的な方法がエキスパンド法と呼ばれる方法である。これはグラファイト硫酸などの酸に浸漬し、グラファイト層間化合物を作製し、しかる後にこれを熱処理、発泡させてグラファイト層間を剥離するものである。剥離後、グラファイト粉末を洗浄して酸を除去し、得られたグラファイト粉末をさらに圧延ロール成型やプレス圧縮してフィルム状のグラファイトを得る。   As the graphite film obtained by the production method of (1), a film having a thermal conductivity in the film surface direction of 100 to 400 W / mK, a thermal conductivity in the thickness direction of 5 to 20 W / mK, and a thickness of 100 to 1000 μm is obtained. It is done. This manufacturing method is a graphite film obtained by pressing graphite powder into a sheet. In order for the graphite powder to be formed into a film, the powder needs to be in the form of flakes or flakes. The most common method for producing such graphite powder is a method called an expanding method. In this method, a graphite intercalation compound is produced by immersing in an acid such as graphite sulfuric acid, and thereafter, this is heat-treated and foamed to separate the graphite layers. After peeling, the graphite powder is washed to remove the acid, and the obtained graphite powder is further subjected to rolling roll molding or press compression to obtain film-like graphite.

一方、(2)の方法ではフィルム面方向の熱伝導が400〜1000W/mK、厚さ方向の熱伝導度が5〜20W/mK、厚さ50〜200μmのグラファイトフィルムが得られる。これらは本発明の目的にとっていずれも好ましく用いられる。このグラファイトフィルムは、高分子フィルムおよび/または炭素化した高分子フィルムからなる原料フィルムを2400℃以上の温度で熱処理して得られることを特徴とする。本発明で用いることができる高分子フィルムは、ポリベンゾオキサゾール(PBO)、ポリベンゾビスオキサザール(PBBO)、ポリチアゾール(PT)、ポリイミド(PI)、ポリアミド(PA)、ポリオキサジアゾール(POD)、ポリベンゾオキサゾール(PBO)、ポリベンゾチアゾール(PBT)、ポリベンゾビスチアゾール(PBBT)、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)、ポリベンゾイミダゾール(PBI)、ポリベンゾビスイミダゾール(PBBI)が挙げられる。特に、最終的に得られるグラファイトの熱伝導性が大きくなることから、ポリイミド(PI)、ポリオキサジアゾール(POD)、ポリパラフェニレンビニレン(PPV)は本目的のグラファイト製造原料として好ましく用いられる。これらのフィルムは公知の製造方法で製造すればよい。中でもポリイミドは、フィルムの黒鉛化が進行しやすく、熱伝導性に優れたグラファイトとなりやすく、さらに、炭素化・グラファイト化のプロセスを制御する事により膨張状態のグラファイトフィルムを得る事が出来るので、特に好ましい原料である。   On the other hand, in the method (2), a graphite film having a thermal conductivity in the film surface direction of 400 to 1000 W / mK, a thermal conductivity in the thickness direction of 5 to 20 W / mK, and a thickness of 50 to 200 μm is obtained. Any of these is preferably used for the purpose of the present invention. This graphite film is obtained by heat-treating a raw material film made of a polymer film and / or a carbonized polymer film at a temperature of 2400 ° C. or higher. Polymer films that can be used in the present invention include polybenzoxazole (PBO), polybenzobisoxazal (PBBO), polythiazole (PT), polyimide (PI), polyamide (PA), and polyoxadiazole (POD). ), Polybenzoxazole (PBO), polybenzothiazole (PBT), polybenzobisthiazole (PBBT), polyparaphenylene vinylene (PPV), polybenzimidazole (PBI), and polybenzobisimidazole (PBBI). In particular, since the finally obtained graphite has high thermal conductivity, polyimide (PI), polyoxadiazole (POD), and polyparaphenylene vinylene (PPV) are preferably used as raw materials for producing graphite for this purpose. What is necessary is just to manufacture these films with a well-known manufacturing method. Above all, polyimide is easy to progress graphitization of the film, it is easy to become graphite with excellent thermal conductivity, and furthermore, an expanded graphite film can be obtained by controlling the process of carbonization and graphitization. Preferred raw material.

本発明の目的に用いられるグラファイトとして、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10-5cm/cm/℃以下であるポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理することは、優れた熱伝導性を実現し膨張状態のグラファイトフィルムを作成する上で好ましい。   As the graphite used for the purpose of the present invention, heat-treating a polyimide film having an average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. of 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less at a temperature of 2400 ° C. or more It is preferable for producing an expanded graphite film by realizing excellent thermal conductivity.

また、複屈折が0.13以上であるポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理する事は、すぐれた熱伝導性と膨張状態のグラファトフィルムを作成する上で好ましい。   In addition, it is preferable to heat-treat a polyimide film having a birefringence of 0.13 or more at a temperature of 2400 ° C. or more in order to produce a graphato film having excellent thermal conductivity and an expanded state.

無論、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10−5cm/cm/℃以下であり、かつ、複屈折が0.13以上であるポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理しグラファイトフィルムを作製する事は、優れた熱伝導性を実現し膨張状態のグラファイトフィルムを作成する上で好ましい。   Of course, a polyimide film having an average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. of 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less and a birefringence of 0.13 or more is heat-treated at a temperature of 2400 ° C. or more. It is preferable to produce a graphite film in order to achieve excellent thermal conductivity and to produce an expanded graphite film.

この様なグラファイト化に好ましく用いられるポリイミドは、
下記、式(1)、(2)、(3)、および(4)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも1種以上の繰り返し単位を有するポリイミド、あるいは下記、式(1)、(2)、(3)、および(4)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも2種以上の繰り返し単位を有するポリイミドの共重合体フィルム、あるいは、式(1)、式(2)、式(3)及び式(4)で表されるポリイミド共重合体からなる群からから選択される少なくとも2種以上のポリイミド共重合体の混合物フィルムである事、でその目的を達成する事が出来る。
The polyimide preferably used for such graphitization is
A polyimide having at least one repeating unit selected from the group consisting of repeating units represented by the following formulas (1), (2), (3), and (4), or the following formula (1) , (2), (3), and a polyimide copolymer film having at least two types of repeating units selected from the group consisting of repeating units represented by (4), or Formula (1), Formula The object is achieved by being a mixture film of at least two kinds of polyimide copolymers selected from the group consisting of polyimide copolymers represented by (2), formula (3) and formula (4). I can do it.

@0001
@ 0001

@0002
@ 0002

@0003
@ 0003

@0004

である。なお、R1は、
@ 0004

It is. R1 is

@0005

からなる群から選択される2価の有機基であって、R2はそれぞれ独立して、−CH3、−Cl、−Br、−F、または−CH3Oである。
式(3)中のRは
@ 0005

A divalent organic group selected from the group consisting of: R 2 is independently —CH 3, —Cl, —Br, —F, or —CH 3 O.
R in the formula (3) is

@0006

であって、ここでnは1〜3の整数。そしてXおよびYはそれぞれ独立して、水素、ハロゲン、カルボキシル基、炭素数6以下の低級アルキル基、または炭素数6以下のアルコキシ基、そしてAは、−O−、−S−、−CO−、−SO2−、または−CH2−、である。
@ 0006

Where n is an integer from 1 to 3. X and Y are each independently hydrogen, halogen, carboxyl group, lower alkyl group having 6 or less carbon atoms, or alkoxy group having 6 or less carbon atoms, and A is -O-, -S-, -CO- , -SO2-, or -CH2-.

また、上記式(1)、(2)および下記式(7)、(8)で表される繰り返し単位からなる群から選択される少なくとも2種以上の繰り返し単位を有するポリイミドの共重合体、あるいは、式(1)、式(2)、式(7)、式(8)で表されるポリイミド共重合体からなる群からから選択される少なくとも3種以上の混合物を含むポリイミド共重合体は本目的のグラファイトを得るために特に好ましい。   Also, a polyimide copolymer having at least two types of repeating units selected from the group consisting of the repeating units represented by the above formulas (1) and (2) and the following formulas (7) and (8), or The polyimide copolymer containing a mixture of at least three or more selected from the group consisting of polyimide copolymers represented by formula (1), formula (2), formula (7), and formula (8) It is particularly preferable for obtaining the target graphite.

@0007
@ 0007

@0008

さらに、式(1)、(2)で表される繰り返し単位をもつポリイミド共重合体ポリイミドフィルムであって、4、4’−オキシジアニリンおよびパラフェニレンジアミンをモル比で9/1〜4/6の割合で含むジアミンを用いて得られるポリイミドフィルムは本目的のグラファイトを得るために最も好ましく用いられる。これらのポリイミドフィルムを2400℃以上の温度で熱処理することにより、本発明の目的のグラファイトフィルムを得ることが出来る。中でも上記、ポリイミドが一般式(1)、(2)、(7)、(8)で表される繰り返し単位をもつポリイミド共重合体であって、それぞれの繰り返し単位の数を、a、b、c、dとし、a+b+c+dをsとしたとき、(a+b)/s、(a+c)/s、(b+d)/s、(c+d)/sが0.25〜0.75を満たすポリイミドフィルムである場合は最も好ましく本発明のグラファイトフィルムを作製する目的で用いられる。
@ 0008

Furthermore, it is a polyimide copolymer polyimide film having a repeating unit represented by formulas (1) and (2), wherein 4,4′-oxydianiline and paraphenylenediamine are in a molar ratio of 9/1 to 4 /. A polyimide film obtained by using a diamine containing 6 is most preferably used to obtain graphite for this purpose. By heat-treating these polyimide films at a temperature of 2400 ° C. or higher, the target graphite film of the present invention can be obtained. Above all, the polyimide is a polyimide copolymer having repeating units represented by the general formulas (1), (2), (7) and (8), and the number of each repeating unit is represented by a, b, When c, d and a + b + c + d is s, (a + b) / s, (a + c) / s, (b + d) / s, (c + d) / s is a polyimide film satisfying 0.25 to 0.75 Is most preferably used for the purpose of producing the graphite film of the present invention.

以上述べたポリイミドを用いる事により、100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10-5cm/cm/℃以下、好ましくは2.0×10-5cm/cm/℃以下、更に好ましくは1.5×10-5cm/cm/℃以下、であるポリイミドフィルムを得ることができる。   By using the polyimide described above, the average linear expansion coefficient in the range of 100 to 200 ° C. is 2.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less, preferably 2.0 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less, A polyimide film that is preferably 1.5 × 10 −5 cm / cm / ° C. or less can be obtained.

また、フィルムの弾性率については、200kg/mm2、以上であり、更には250kg/mm2、以上、より好ましくは350kg/mm2、以上である事が好ましい。   The elastic modulus of the film is 200 kg / mm 2 or more, further 250 kg / mm 2 or more, more preferably 350 kg / mm 2 or more.

また、本発明に用いられるポリイミドフィルムは、面内配向性を示す複屈折Δnがフィルム面内のどの方向においても0.13以上、好ましくは0.15以上、最も好ましくは0.16以上であることが好ましい。ここでいう複屈折とはフィルム面内方向の屈折率と厚み方向の屈折率の差であり、本明細書においてはフィルム面内X方向の複屈折Δnxは下記の式1で与えられる。
複屈折Δnx=(面内X方向の屈折率Nx)−(厚み方向の屈折率Nz) (式1)
具体的測定方法を説明すると、フィルム試料をくさび形に切り出してナトリウム光をフィルム面内のX方向に垂直な方向から当て、偏光顕微鏡で観察すると干渉縞がみられる。この干渉縞の数をnとすると、フィルム面内X方向の複屈折Δnxは、下記の式2で表される。
Δnx=n×λ/d (式2)
ここで、λはナトリウム光の波長589nm、dは試料の巾(幅)(nm)である。詳しくは「新実験化学講座」第19巻(丸善(株))などに記載されている。
The polyimide film used in the present invention has a birefringence Δn indicating in-plane orientation of 0.13 or more, preferably 0.15 or more, and most preferably 0.16 or more in any direction in the film plane. It is preferable. The birefringence referred to here is the difference between the refractive index in the in-plane direction of the film and the refractive index in the thickness direction. In this specification, the birefringence Δnx in the in-plane X direction is given by the following formula 1.
Birefringence Δnx = (In-plane X direction refractive index Nx) − (Thickness direction refractive index Nz) (Formula 1)
A specific measurement method will be described. When a film sample is cut into a wedge shape, sodium light is applied from a direction perpendicular to the X direction in the film plane, and observed with a polarizing microscope, interference fringes are observed. When the number of the interference fringes is n, the birefringence Δnx in the in-plane X direction is expressed by the following formula 2.
Δnx = nx × λ / d (Formula 2)
Here, λ is the wavelength of sodium light 589 nm, and d is the width (width) (nm) of the sample. Details are described in "New Experimental Chemistry Course" Vol. 19 (Maruzen Co., Ltd.).

なお、前記した「複屈折Δnがフィルム面内のどの方向においても」とは、例えばフィルム製膜時の流れ方向を基準として、面内の0゜方向、45゜方向、90゜方向、135゜方向のどの方向においても、の意味である。   The above-mentioned “birefringence Δn is in any direction in the film plane” means, for example, 0 ° direction, 45 ° direction, 90 ° direction, 135 ° in the plane with reference to the flow direction during film formation. It means in any direction.

<圧縮状態が異なる部分が共存するフィルム(一態様として、高圧縮部分と低圧縮部分の共存するフィルム、また、一態様として、既圧縮部分と未圧縮部分とが共存するフィルム)>
発明の目的に使用できる様な現実的なグラファイトの製造方法として、
(1)天然黒鉛や人造黒鉛等の黒鉛粉末をシート化して得られるグラファイトフィルム、(2)高分子フィルムを熱処理して得られるグラファイトフィルムを挙げる事が出来る。
<Film in which portions with different compression states coexist (in one aspect, a film in which a high compression portion and a low compression portion coexist, and in one aspect, a film in which an already compressed portion and an uncompressed portion coexist)>
As a practical method for producing graphite that can be used for the purposes of the invention,
(1) A graphite film obtained by sheeting graphite powder such as natural graphite or artificial graphite, and (2) a graphite film obtained by heat-treating a polymer film.

前記、(1)の製造方法で得られるグラファイトフィルムは、グラファイト粉末をさらに圧延ロール成型やプレス圧縮してフィルム状のグラファイトを得る。したがって、この圧延ロール成型工程やプレス工程で加えられる圧力を変え、強く圧縮された部分(一態様として、既圧縮部分)と弱く圧縮された部分(一態様として未圧縮部分あるいはまた、一態様として、強く圧縮された既圧縮部分よりは弱く圧縮された既圧縮部分)を形成する事で、本発明の目的に適したグラファイトフィルムを得る事が出来る。   The graphite film obtained by the production method of (1) above is obtained by further forming a graphite film by rolling or press-compressing graphite powder. Therefore, by changing the pressure applied in this rolling roll forming process or pressing process, a strongly compressed part (as an aspect, an already compressed part) and a weakly compressed part (as an aspect, an uncompressed part or also as an aspect) In addition, a graphite film suitable for the purpose of the present invention can be obtained by forming an already compressed portion that is compressed weaker than a strongly compressed already compressed portion.

これに対して(2)の製造法の場合には、本発明の目的に合うグラファイトフィルムを得るためには、まず膨張(発泡)状態にあるグラファイトフィルムを製造することが必要になる。   On the other hand, in the case of the production method (2), in order to obtain a graphite film that meets the object of the present invention, it is first necessary to produce a graphite film in an expanded (foamed) state.

高分子からのグラファイト製造プロセスを具体的に例示すると、前記のポリイミドフィルムを窒素ガス中で予備加熱し、炭素化を行う。予備加熱は通常1000℃程度の温度で行い、例えば、10℃/分昇温速度で予備処理を行った場合には1000℃の温度領域で30分程度の保持を行う事が望ましい。予備処理の段階では出発高分子フィルムの配向性が失われない様に面方向の圧力を加えても良い。次に、上記の方法で炭素化されたフィルムを超高温炉内にセットし、グラファイトを行う。グラファイト化は不活性ガス中で行うが不活性ガスとしてはアルゴンが最も適当であり、アルゴンに少量のヘリウムを加えるとさらに好ましい。処理温度は2400℃以上である事が好ましく、2700℃以上の温度で処理する事はより好ましい。2500℃以上の超高温を作り出すには、通常グラファイトヒーターに直接電流を流し、そのジュ−ル熱を利用して加熱を行う。グラファイト化は前処理で作製した炭素化フィルムをグラファイト構造に転化する事によって行うが、出発ポリイミドフィルムの分子配向は炭素化フィルムの炭素の配列に影響を与え、それはグラファイト化の際の炭素−炭素結合の開裂・再結合化のエネルギーを小さくする。従って分子が配向するように分子設計を行い、高度な配向を実現することで低温でのグラファイト化と良質のグラファイトフィルムへの転化が可能になる。   To specifically illustrate the process for producing graphite from a polymer, the polyimide film is preheated in nitrogen gas and carbonized. The preheating is usually performed at a temperature of about 1000 ° C., and for example, when pretreatment is performed at a rate of temperature increase of 10 ° C./min, it is desirable to hold for about 30 minutes in a temperature range of 1000 ° C. In the pretreatment stage, pressure in the surface direction may be applied so that the orientation of the starting polymer film is not lost. Next, the film carbonized by the above method is set in an ultrahigh temperature furnace, and graphite is performed. Graphitization is carried out in an inert gas, but argon is most suitable as the inert gas, and it is more preferable to add a small amount of helium to the argon. The treatment temperature is preferably 2400 ° C or higher, more preferably 2700 ° C or higher. In order to create an ultra-high temperature of 2500 ° C. or higher, an electric current is usually passed directly to a graphite heater, and heating is performed using the juule heat. Graphitization is performed by converting the carbonized film prepared in the pretreatment to a graphite structure, but the molecular orientation of the starting polyimide film affects the carbon alignment of the carbonized film, which is carbon-carbon during graphitization. Reduce the energy of bond cleavage and recombination. Therefore, by designing the molecules so that the molecules are oriented and realizing a high degree of orientation, graphitization at a low temperature and conversion to a high-quality graphite film becomes possible.

膨張状態にあるグラファイトフィルムは上記グラファイト化のプロセスを制御する事によって得られる。膨張状態のフィルムを得る条件、膨張の程度を制御する条件は用いるポリイミドの種類、フィルムの厚さによって異なる。一例として、膨張(発泡)状態にあるグラファイトフィルムの断面写真を図1に示す。   The expanded graphite film can be obtained by controlling the graphitization process. Conditions for obtaining an expanded film and conditions for controlling the degree of expansion vary depending on the type of polyimide used and the thickness of the film. As an example, a cross-sectional photograph of a graphite film in an expanded (foamed) state is shown in FIG.

図1に示す様に、膨張状態にあるグラファイトフィルムは極めて薄いグラファイト薄膜の集合体であるとみなす事が出来る。比較のため膨張状態にないグラファイトの断面を図2に示す。   As shown in FIG. 1, the expanded graphite film can be regarded as an aggregate of extremely thin graphite thin films. For comparison, a cross section of graphite not in an expanded state is shown in FIG.

両断面の比較により、両者の違いは顕著である。   From the comparison of both cross sections, the difference between the two is remarkable.

得られたグラファイトフィルムの膨張の程度を定量的に見積もるには、発泡状態で得られたグラファイトフィルムを加圧圧縮してその圧縮率を測定すればよい。圧縮率とは、短時間の圧縮によって生じた変形量のもとの厚さに対する割合である。厳密には等方的圧力を加えた時の物体のその圧力下での体積を元の体積と比較して決定される。しかしなから、良質のグラファイトの場合にはグラファイトのC軸方向(C軸方向とはフィルム厚さ方向)が弱いファン・デル・ワールス力で結合した構造であるためにC軸方向の圧縮率がab面方向(ab面方向とはフィルム面方向)の圧縮率に比べてはるかに大きく、この方向の圧縮率を考慮するだけでグラファイトの性質を判断する事が出来る。   In order to quantitatively estimate the degree of expansion of the obtained graphite film, the graphite film obtained in a foamed state may be compressed under pressure and its compression rate may be measured. The compression rate is the ratio of the amount of deformation caused by short-time compression to the original thickness. Strictly speaking, it is determined by comparing the volume of an object under an isotropic pressure with the original volume. However, in the case of high-quality graphite, the C-axis direction (the C-axis direction is the film thickness direction) of graphite is a structure that is coupled by a weak van der Waals force. It is much larger than the compression rate in the ab plane direction (ab direction is the film plane direction), and the properties of graphite can be judged only by considering the compression rate in this direction.

そのため、本特許においては、圧縮率を、グラファイトシートの厚み方向(すなわち軸方向)に17MPaの荷重を加え、変形量をもとの厚さに対する割合で定義した。17MPaには特に学術な意味はないが、通常グラファイトの構造が破壊される事無く、発泡状態で存在する内部の空気層を除去できる圧力として選択した。   Therefore, in this patent, the compressibility was defined by applying a 17 MPa load in the thickness direction (that is, the axial direction) of the graphite sheet and the amount of deformation as a ratio to the original thickness. 17 MPa has no particular academic significance, but was usually selected as a pressure that could remove the internal air layer present in the foamed state without destroying the graphite structure.

すなわち、本発明における圧縮率とは、例えば圧縮率が20%以上とは、加圧圧縮する前の厚さを1とした時、17MPaの圧力で1分間加圧した時の厚さが0.8以下であるグラファイトフィルムのことを言う。本発明の目的には圧縮率が20%以上である事は好ましく、30%以上(加圧前の厚さ1に対して、加圧後の厚さが0.7以下)である事はより好ましい。   That is, the compression rate in the present invention is, for example, that the compression rate is 20% or more, when the thickness before pressure compression is 1, the thickness when pressurized at 17 MPa for 1 minute is 0. It refers to a graphite film that is 8 or less. For the purpose of the present invention, the compression ratio is preferably 20% or more, more preferably 30% or more (the thickness after pressing is 0.7 or less with respect to the thickness 1 before pressing). preferable.

なお、17MPaの圧力を取り除いた時、グラファイトの厚さは元に戻ろうとする力によって厚さが増加する。ここではこの時の厚さと圧縮時の厚さとの比率を復元率と定義する。たとえば、圧縮状態でのフィルムの厚さを1とした時、圧力解放時の厚さを1.1とする時復元率が10%であると言う。本発明の目的にはグラファイトは復元しようとする性質を有している方が熱抵抗を低減するためには好ましく、本発明の目的には復元率が5%以上である事は好ましく、10%以上である事はより好ましい。   When the pressure of 17 MPa is removed, the thickness of the graphite increases due to the force for returning to the original thickness. Here, the ratio between the thickness at this time and the thickness at the time of compression is defined as the restoration rate. For example, when the thickness of the film in the compressed state is 1, the restoration rate is 10% when the thickness when the pressure is released is 1.1. For the purpose of the present invention, it is preferable for graphite to have a property of restoring, in order to reduce the thermal resistance. For the purpose of the present invention, it is preferable that the restoration rate is 5% or more. The above is more preferable.

本発明の低圧縮部分(一態様として未圧縮部分あるいはまた、一態様として、強く圧縮された既圧縮部分よりは弱く圧縮された既圧縮部分)と高圧縮部分(一態様として、既圧縮部分)の共存するフィルムを作製するには、上記の膨張状態にあるフィルムに圧力を加え、その圧力の大きさを変えてやればよい。無論、低圧縮部分を全く圧縮操作を加えない様(未圧縮部分)にする事でも構わない。また、高圧縮部分をあらかじめ比較的弱い圧力で加圧操作を行い低圧縮部分を作製した後で、フィルムの一部をさらに高圧力で加圧圧縮する事で作製したものであっても構わない。例えば、加圧圧縮の方法は機械的なプレス圧縮でもよく、ロール等を用いた圧延処理等でも良い。   Low compression portion (uncompressed portion as one aspect or precompressed portion compressed weakly than strongly compressed portion) and high compression portion (in one aspect, precompressed portion) of the present invention In order to produce a film coexisting with the above, a pressure is applied to the film in the above-mentioned expanded state, and the magnitude of the pressure may be changed. Of course, the low compression portion may not be subjected to any compression operation (uncompressed portion). Alternatively, the high compression portion may be prepared by pressurizing and compressing a high compression portion at a relatively weak pressure in advance and then producing a low compression portion and then compressing and compressing a part of the film at a higher pressure. . For example, the pressure compression method may be mechanical press compression, or rolling using a roll or the like.

<発熱体との接合>
本発明では熱拡散(放熱)目的には、圧縮状態が異なる部分が共存するグラファイトフィルムを用い、
その一態様として、
高圧縮部分(一態様として、既圧縮部分)と低圧縮部分(一態様として未圧縮部分あるいはまた、一態様として、強く圧縮された既圧縮部分よりは弱く圧縮された既圧縮部分)の共存するグラファイトフィルム(一態様として、既圧縮部分と未圧縮部分とが共存することを特徴とするグラファイトフィルムであり、)を用いるが、
低圧縮部分は発熱体との接合に用いられ、接合部分を形成する祭に低圧縮部分がさらに圧縮されるように接合を形成する事で接合部分の熱抵抗を小さくする目的で使用される。
<Join with heating element>
In the present invention, for the purpose of thermal diffusion (heat dissipation), using a graphite film in which parts with different compression states coexist,
As one aspect thereof,
A high-compression part (in one aspect, a pre-compressed part) and a low-compression part (in one aspect, an uncompressed part or, in another aspect, a pre-compressed part that is compressed weaker than a strongly compressed part) While using a graphite film (in one aspect, a graphite film characterized by the presence of an already compressed portion and an uncompressed portion)
The low-compression portion is used for joining with the heating element, and is used for the purpose of reducing the thermal resistance of the joint portion by forming the joint so that the low-compression portion is further compressed when the joint portion is formed.

この様な目的に使用されるのであるから、グラファイトの低圧縮部分は熱拡散の目的に応じてグラファイトフィルムのどの部分に形成されていても良く、低圧縮部分(あるいは未圧縮部分)がグラファイトフィルムに複数個存在していても良い。また、低圧縮部分の形状は発熱体との熱抵抗が小さくなるように任意に選択される。   Since it is used for such a purpose, the low compression portion of graphite may be formed in any portion of the graphite film according to the purpose of thermal diffusion, and the low compression portion (or uncompressed portion) is the graphite film. There may be more than one. Further, the shape of the low compression portion is arbitrarily selected so that the thermal resistance with the heating element becomes small.

発熱体との接合には、上記の様な接着層(接着機能を有する層)を介さずに直接接触させるドライ接続とウエット接続と呼ばれる方法がある。ドライ接続の場合、本発明の方法を用いれば単に機械的な圧力で押し付けることで熱抵抗の小さい接合を実現する事が出来るが、それは高品質のグラファイトは基本的に柔らかい事に第一の理由がある。本発明においてはこの様なグラファイト本来の性質に加えてさらに圧縮、復元能力を有するグラファイトフィルムをもちいる。この様なフィルムを用いこれを加圧接続する事で発熱体の凹凸部分へも追随して接触できる様にする事が出来、熱抵抗をより小さく出来るものと考えられる。   For joining to the heating element, there are methods called dry connection and wet connection in which contact is made directly without using the adhesive layer (layer having an adhesive function) as described above. In the case of dry connection, if the method of the present invention is used, it is possible to realize a joint with low thermal resistance by simply pressing it with mechanical pressure. This is mainly because high quality graphite is basically soft. There is. In the present invention, a graphite film having further compression and restoration ability in addition to the original properties of graphite is used. By using such a film and press-connecting it, it is possible to follow the uneven portion of the heating element to follow it, and it is considered that the thermal resistance can be further reduced.

無論、ウエット接合の場合にも本発明のグラファイトを用いることで、発熱体との熱抵抗の小さな接合を実現することが出来る。ウエット接合は放熱グリースやオイルコンパウンドと呼ばれる接続グリースを介して接続する方法であるが、本発明の接着層(接着機能を有する層)のないグラファイト部分に放熱グリースを塗布する事でより小さな熱抵抗を実現できる。この方法は発熱体が本発明のグラファイトでは追従できないくらい凹凸が大きい場合には特に有効である。このような目的に使用される放熱グリースとしては市販の放熱グリースを使用できる。その様な例として、スリーボンド社:放熱シリコンゲルシート、ジェルテック社:ラムダGELペースト、アール・イー・ティー社:放熱シリコン、富士高分子工業など多くの例を挙げる事が出来る。   Of course, even in the case of wet bonding, by using the graphite of the present invention, it is possible to realize bonding with low thermal resistance with the heating element. Wet bonding is a method of connecting via connecting grease called heat-dissipating grease or oil compound, but by applying heat-dissipating grease to the graphite part that does not have an adhesive layer (layer having an adhesive function) of the present invention, a smaller thermal resistance is achieved. Can be realized. This method is particularly effective when the heating element is so uneven that the graphite of the present invention cannot follow it. Commercially available thermal grease can be used as the thermal grease used for such purposes. As such examples, there are many examples such as Three Bond Co., Ltd .: heat dissipation silicon gel sheet, Geltech Co., Ltd .: Lambda GEL paste, RTE Co., Ltd .: heat dissipation silicon, Fuji Polymer Industries.

例えば、CPUなどの発熱体上にヒートシンクを接触させて冷却を行う場合の接続の様子を図3に示す。   For example, FIG. 3 shows a connection state when cooling is performed by bringing a heat sink into contact with a heating element such as a CPU.

図3(a)において(1)は、本発明になる、フィルム面方向とフィルムの厚さ方向で熱伝導度の異方性を有し、かつ圧縮率が20%以上であるグラファイトフィルム(20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルム)である。また(2)は接着層(接着機能を有する層)であり、グラファイトフィルムの中央部には接着層(接着機能を有する層)は設けられていない。図3(b)はヒートシンクと発熱体との接合状態を示す。発熱体(4)はヒートシンクに加圧されて押し付けられグラファイトにくい込んでおり、この様にする事でグラファイトとヒートシンク間においても熱抵抗の小さな接続が可能となる。   In FIG. 3 (a), (1) is a graphite film (20) having anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction and having a compressibility of 20% or more according to the present invention. %, And a graphite film having anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction). Further, (2) is an adhesive layer (a layer having an adhesive function), and no adhesive layer (a layer having an adhesive function) is provided at the center of the graphite film. FIG. 3B shows a joined state between the heat sink and the heating element. The heating element (4) is pressed against the heat sink and pressed into the graphite so that it is hard to get into the graphite. By doing so, a connection with low thermal resistance can be made between the graphite and the heat sink.

この様な目的に用いられる接着層(接着機能を有する層)としては特に制限はないが、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、エポキシ系樹脂、等が好ましく用いられる。中でもアクリル系樹脂は本目的に好ましく用いられる。無論これらの接着剤に熱伝導性に優れるフィラーが添加されていても良い。フィラーとしては銅、銀、アルミなどの金属粉末、カーボン粉末、シリカや窒化アルミなどの無機・セラミック粉末、等を例示する事ができる。   Although there is no restriction | limiting in particular as an adhesive layer (layer which has an adhesive function) used for such a purpose, Acrylic resin, silicon resin, an epoxy resin, etc. are used preferably. Among these, acrylic resins are preferably used for this purpose. Of course, a filler having excellent thermal conductivity may be added to these adhesives. Examples of the filler include metal powders such as copper, silver, and aluminum, carbon powders, and inorganic / ceramic powders such as silica and aluminum nitride.

図4は本発明のグラファイトの一部を加圧圧縮する事で、圧縮された部分(既圧縮部分)と圧縮されていない部分(未圧縮部分)で見かけ上の厚さの差が生じる様にしたグラファイトフィルムの製造方法の一例である。この例では圧縮率が20%以上の特性を有するグラファイトを中央部に孔を設けたプレス治具で圧縮する事によりグラファイトの周辺部が強く圧縮されたグラファイトの作製が可能となる。種々の加圧圧力を選択することにより、見かけ上の厚さの差を好ましい程度に制御する事が出来る。   FIG. 4 shows that by compressing and compressing a part of the graphite of the present invention, an apparent thickness difference occurs between a compressed part (precompressed part) and an uncompressed part (uncompressed part). It is an example of the manufacturing method of the manufactured graphite film. In this example, by compressing graphite having a compression ratio of 20% or more with a pressing jig having a hole in the center, it is possible to produce graphite in which the periphery of the graphite is strongly compressed. By selecting various pressurizing pressures, the difference in apparent thickness can be controlled to a desirable level.

図5、図6はプレス成型により、見かけ上の厚さの差が生じる様にしたグラファイトフィルムの製造と接着層(接着機能を有する層)の形成を同時に行う例である。図5(b)に示す様にプレス時にグラファイトフィルムを離型紙(7)付き接着層(接着機能を有する層)と共にプレス成型する事で、図5(c)に示すような本発明の目的の熱拡散フィルムを得る事が出来る。図6(d)はヒートシンクとの接着状況を示す。CPUコアはグラファイトフィルムが圧縮されるように押し付けられヒートシンクとの良好な接続が可能となる。なおこの時、グラファイトとヒートシンクが直接接触している界面部分(中央部)やCPUコアとグラファイトが直接接触している界面部分に上記の放熱グリースを塗布しておく事は更なる低熱抵抗を実現する上で好ましい。このような接続の状況を図6(e)に示した。放熱グリースの例は前述の通りである。   FIG. 5 and FIG. 6 are examples of simultaneously producing a graphite film and forming an adhesive layer (layer having an adhesive function) so that an apparent thickness difference is generated by press molding. As shown in FIG. 5 (b), the graphite film is pressed together with an adhesive layer (layer having an adhesive function) with a release paper (7) at the time of pressing, so that the object of the present invention as shown in FIG. 5 (c) is achieved. A heat diffusion film can be obtained. FIG. 6D shows an adhesion state with the heat sink. The CPU core is pressed so that the graphite film is compressed, and a good connection with the heat sink becomes possible. At this time, applying the above heat dissipation grease to the interface part (central part) where the graphite and the heat sink are in direct contact or the interface part where the CPU core and the graphite are in direct contact realizes a further low thermal resistance. This is preferable. Such a connection situation is shown in FIG. Examples of the heat dissipating grease are as described above.

また、例えば別の使用法として、リボン状グラファイトの両端を低圧縮状態としそれ以外の部分を高圧縮状態とし、一方の端の低圧縮部分をCPUなどの発熱体との接合に用い方法もある。この場合、高圧縮部分は熱の輸送に用い、さらに他端の低圧縮部分はヒートシンクなどの冷却体との接合に用いる。   For example, as another usage, there is a method in which both ends of the ribbon-like graphite are in a low compression state and the other portion is in a high compression state, and the low compression portion at one end is used for joining with a heating element such as a CPU. . In this case, the high compression portion is used for heat transport, and the low compression portion at the other end is used for joining with a cooling body such as a heat sink.

以下、実施例により本発明をより具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples.

<グラファイトフィルム>
まず、本発明の実施例として用いた4種類のグラファイトフィルムについて述べるが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
<Graphite film>
First, four types of graphite films used as examples of the present invention will be described, but the present invention is not limited to these examples.

(1)グラファイトフィルム−A
ピロメリット酸二無水物、4,4‘−ジアミノジフェニルエーテル、p−フェニレンジアミンをモル比で4/3/1の割合で合成したポリアミド酸の18wt%のDMF溶液100gに無水酢酸20gとイソキノリン10gからなる硬化剤を混合、攪拌し、遠心分離による脱泡の後、アルミ箔上に流延塗布した。攪拌から脱泡までは0℃に冷却しながら行った。このアルミ箔とポリアミド酸溶液の積層体を120℃で150秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをアルミ箔から剥がし、フレームに固定した。このゲルフィルムを300℃、400℃、500℃で各30秒間加熱して100〜200℃の平均線膨張係数が1.6×10-5cm/cm/℃のポリイミドフィルムを製造した。フィルム厚さは75μmである。これらの方法で作製したフィルムの複屈折率は0.14であった。
(1) Graphite film-A
From 10 g of acetic anhydride and 10 g of isoquinoline to 100 g of a 18 wt% DMF solution of polyamic acid prepared by synthesizing pyromellitic dianhydride, 4,4′-diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine in a molar ratio of 4/3/1. The resulting curing agent was mixed, stirred, defoamed by centrifugation, and cast onto an aluminum foil. The process from stirring to defoaming was performed while cooling to 0 ° C. The laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 120 ° C. for 150 seconds to obtain a gel film having self-supporting properties. This gel film was peeled off from the aluminum foil and fixed to the frame. This gel film was heated at 300 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds each to produce a polyimide film having an average linear expansion coefficient of 100 to 200 ° C. of 1.6 × 10 −5 cm / cm / ° C. The film thickness is 75 μm. The birefringence of the film produced by these methods was 0.14.

得られたフィルムを電気炉を用いて窒素ガス中、1200℃まで昇温し、1200℃で1時間保って予備処理した。得られた炭素化フィルムを自由に伸び縮み出来る様に円筒状のグラファイトヒーターの内部にセットし、2800℃で処理した。   The obtained film was pretreated by raising the temperature in a nitrogen gas to 1200 ° C. using an electric furnace and keeping the temperature at 1200 ° C. for 1 hour. The obtained carbonized film was set inside a cylindrical graphite heater so that it could freely expand and contract, and treated at 2800 ° C.

このポリイミドフィルムは2800℃で良質グラファイトへの転化が可能である事が分った。得られたグラファイトフィルム−Aは発泡状態にあり、発泡状態での厚さは80μm、17MPaで圧縮した時の厚さは32μm(すなわち圧縮率は60%)であった。このフィルムの圧力を開放した時の厚さは48μmであり(すなわちこの様に処理したグラファイトの復元率は50%)、圧縮後のグラファイトフィルムの面方向熱伝導度は1200W/mK、厚さ方向熱伝導度6W/mKであった。   It was found that this polyimide film can be converted to high-quality graphite at 2800 ° C. The obtained graphite film-A was in a foamed state. The thickness in the foamed state was 80 μm, and the thickness when compressed at 17 MPa was 32 μm (that is, the compression rate was 60%). When the pressure of the film is released, the thickness is 48 μm (that is, the restoration rate of the graphite thus treated is 50%), and the plane direction thermal conductivity of the compressed graphite film is 1200 W / mK, the thickness direction. The thermal conductivity was 6 W / mK.

(2)グラファイトフィルム−B
ピロメリット酸二無水物、4,4’−ジアミノジフェニルエーテル、p−フェニレンジアミンをモル比で3/2/1の割合で合成したポリアミド酸の18wt%のDMF溶液100gに無水酢酸20gとイソキノリン10gからなる硬化剤を混合、攪拌し、遠心分離による脱泡の後、アルミ箔上に流延塗布した。攪拌から脱泡までは0℃に冷却しながら行った。このアルミ箔とポリアミド酸溶液の積層体を120℃で150秒間加熱し、自己支持性を有するゲルフィルムを得た。このゲルフィルムをアルミ箔から剥がし、フレームに固定した。このゲルフィルムを300℃、400℃、500℃で各30秒間加熱して100〜200℃の平均線膨張係数が1.0×10-5cm/cm/℃のポリイミドフィルム(厚さ75μm)を製造した。このフィルムの複屈折は、0.15〜0.16の範囲であった。このフィルムを用いて前記(1)のケースと同様に2800℃でグラファイト化を行った。得られたグラファイトフィルム−Bは発泡状態にあり、発泡状態での厚さは75μm、17MPaで圧縮した時の厚さは35μm(すなわち圧縮率は53%)、圧力を開放した時の厚さは50μm(すなわちこの様に処理したグラファイトの復元率は43%)であり、圧縮したグラファイトフィルムの面方向熱伝導度は1400W/mK、厚さ方向熱伝導度10W/mKであった。
(2) Graphite film-B
From 10 g of acetic anhydride and 10 g of isoquinoline to 100 g of a 18 wt% DMF solution of polyamic acid synthesized from pyromellitic dianhydride, 4,4′-diaminodiphenyl ether and p-phenylenediamine in a molar ratio of 3/2/1. The resulting curing agent was mixed, stirred, defoamed by centrifugation, and cast onto an aluminum foil. The process from stirring to defoaming was performed while cooling to 0 ° C. The laminate of the aluminum foil and the polyamic acid solution was heated at 120 ° C. for 150 seconds to obtain a gel film having self-supporting properties. This gel film was peeled off from the aluminum foil and fixed to the frame. This gel film was heated at 300 ° C., 400 ° C., and 500 ° C. for 30 seconds each to produce a polyimide film (thickness 75 μm) having an average linear expansion coefficient of 100 × 200 ° C. to 1.0 × 10 −5 cm / cm / ° C. did. The birefringence of this film was in the range of 0.15 to 0.16. Using this film, graphitization was performed at 2800 ° C. as in the case of (1). The obtained graphite film-B is in a foamed state, the thickness in the foamed state is 75 μm, the thickness when compressed at 17 MPa is 35 μm (that is, the compressibility is 53%), and the thickness when the pressure is released is The restored graphite film had a thermal conductivity in the plane direction of 1400 W / mK and a thermal conductivity in the thickness direction of 10 W / mK.

(3)グラファイトフィルム−C
パナソニック製PGSグラファイトシート(商品番号:EYGS182310)厚み70μm、面方向熱伝導度700W/mK、厚さ方向熱伝導度5W/mKを準備した。圧縮率は35%、あった。
(3) Graphite film-C
A PGS graphite sheet (product number: EYGS182310) manufactured by Panasonic was prepared with a thickness of 70 μm, a surface direction thermal conductivity of 700 W / mK, and a thickness direction thermal conductivity of 5 W / mK. The compression rate was 35%.

(4)グラファイトフィルム−D
鈴木総業製グラファイトシート(スーパーλGS)厚み120μm、面方向熱伝導度250W/mK、厚さ方向5W/mKを準備した。圧縮率は30%であった。
(4) Graphite film-D
A graphite sheet (Super λGS) manufactured by Suzuki Sogyo Co., Ltd. was prepared with a thickness of 120 μm, a surface direction thermal conductivity of 250 W / mK, and a thickness direction of 5 W / mK. The compression rate was 30%.

<グラファイトフィルムの物性測定法>
熱拡散率は、光交流法による熱拡散率測定装置(アルバック理工(株)社「LaserPit」)を用いて、20℃の雰囲気下、10Hzにおいて測定した。測定された熱拡散率から密度および比熱の値をもちいて熱伝導率を算出した。グラファイトフィルムの密度は、グラファイトフィルムの重量(g)をグラファイトフィルムの縦、横、厚みの積で算出した体積(cm3)の割り算により算出した。
<Method for measuring physical properties of graphite film>
The thermal diffusivity was measured at 10 Hz in an atmosphere of 20 ° C. using a thermal diffusivity measuring device (ULVAC Riko Co., Ltd. “LaserPit”) by an optical alternating current method. The thermal conductivity was calculated from the measured thermal diffusivity using values of density and specific heat. The density of the graphite film was calculated by dividing the weight (g) of the graphite film by the volume (cm3) calculated by the product of the vertical, horizontal and thickness of the graphite film.

フィルムの断面観察は、フィルムを割断させることで断面を出しSEM(日立製走査型電子顕微鏡S−4500型、加速電圧5kV)を用いておこなった。   The cross section of the film was observed using a SEM (Hitachi Scanning Electron Microscope S-4500, acceleration voltage 5 kV) by cleaving the film.

割断の具体的な方法は以下のとおりである。得られたグラファイトフィルムを、縦20mm×横10mmの短冊状の大きさにカッターナイフで切り取った。さらにこのフィルムの一端に面方向に剃刀で微小な切り目を入れ、その切り目の反対側から力を加え、フィルムを割断させることで断面を出し、
<熱抵抗の測定法>
発熱体とグラファイトフィルムとの接合部分における熱抵抗の測定は図3(b)、または図5(e)に示した様な模擬セルを作製して行った。
The specific method of cleaving is as follows. The obtained graphite film was cut with a cutter knife into a strip size of 20 mm long × 10 mm wide. Furthermore, put a small cut with a razor in the surface direction at one end of this film, apply force from the opposite side of the cut, and cut the film to give a cross section,
<Measurement method of thermal resistance>
The measurement of the thermal resistance at the joint between the heating element and the graphite film was carried out by producing a simulated cell as shown in FIG. 3B or FIG.

すなわち本発明のグラファイトシートをCPUコアとヒートシンクとの間に挟み、一定の加圧力を加え、次にトランジスタに一定電力を加えて動作させ発熱(発熱量W)させた。今回の実験環境は以下の通りである。CPU:P3(800MHz)、ヒートシンク:FC−PAL35T,メモリー:SDRAM128MB、OS:Windows(登録商標)me、測定条件:SuperPI209万行のLoop完了後の温度測定。温度測定ポイントはCPUコアの部分である。   That is, the graphite sheet of the present invention was sandwiched between a CPU core and a heat sink, a constant pressure was applied, and then a constant power was applied to the transistor to cause it to generate heat (heat generation amount W). The experimental environment this time is as follows. CPU: P3 (800 MHz), heat sink: FC-PAL35T, memory: SDRAM 128 MB, OS: Windows (registered trademark) me, measurement conditions: temperature measurement after completion of Loop of Super PI 209,000 lines. The temperature measurement point is a part of the CPU core.

熱抵抗の値は以下の様に見積もった。すなわち、前記のCPUコア部分の温度を(Th)とし、放熱フィンにおける特定の場所の温度(Tf)をCA熱電対によって測定し、次式−3に従って熱抵抗(単位:℃/W)を測定した。発熱体の温度が低く、放熱フィンの温度が高いほど熱抵抗は小さな値となる。   The value of thermal resistance was estimated as follows. That is, the temperature of the CPU core part is set to (Th), the temperature (Tf) of a specific place in the heat radiating fin is measured with a CA thermocouple, and the thermal resistance (unit: ° C./W) is measured according to the following formula-3 did. The lower the temperature of the heating element and the higher the temperature of the radiation fin, the smaller the thermal resistance.

熱抵抗 Hr=(Th−Tf)/W (式−3)
熱抵抗の値は放熱フィンの性能、発熱体の発熱特性、グラファイトフィルムの大きさ等の違いによって異なるので、絶対値と見なす事は出来ないが、これらの条件を一定とする事によって熱抵抗特性の相対的な比較をする事が可能である。
Thermal resistance Hr = (Th−Tf) / W (Formula-3)
The value of thermal resistance varies depending on the performance of the heat dissipation fins, the heat generation characteristics of the heating element, the size of the graphite film, etc., so it cannot be regarded as an absolute value, but by making these conditions constant, the thermal resistance characteristics It is possible to make a relative comparison.

(実施例1〜4)
4種類のグラファイトフィルム−A、−B、−C、―Dをヒートシンクの底面の大きさにカットし、CPUコアの上面に相当する部分のみくり抜いて接着層(接着機能を有する層)が無いようにした接着シート、と共に加圧プレスにより接合し、これをヒートシンクの底面に貼り付けた。接着シートは30μmの厚さのアクリル接着層(接着機能を有する層)(日東電工(株)製アクリル接着層5603)である。
(Examples 1-4)
Four types of graphite films -A, -B, -C, -D are cut to the size of the bottom surface of the heat sink, and only the portion corresponding to the top surface of the CPU core is cut out so that there is no adhesive layer (layer having an adhesive function) The adhesive sheet was bonded together with a pressure press, and was bonded to the bottom surface of the heat sink. The adhesive sheet is an acrylic adhesive layer (layer having an adhesive function) with a thickness of 30 μm (acrylic adhesive layer 5603 manufactured by Nitto Denko Corporation).

前記の測定法に記載した方法でCPUコア温度および熱抵抗を測定した。加圧圧力を2N/cm2から20N/cm2まで4点変化させ熱抵抗の値を測定した結果を表1に示す。   CPU core temperature and thermal resistance were measured by the method described in the above measurement method. Table 1 shows the result of measuring the value of thermal resistance by changing the pressing pressure from 2 N / cm 2 to 20 N / cm 2 at four points.

@0009

いずれのグラファイトでもCPUの温度は65℃以下に押さえられ、5N/cm2程度の比較的弱い圧力で良好な接続実現できる事が分かった。特に圧縮率にすぐれたグラファイトA、B、Cではすぐれた放熱効果を示し、面方向の熱伝導に優れたグラファイトA、Bではさらに優れた放熱効果がある事が分かった。
@ 0009

It was found that with any graphite, the CPU temperature was kept at 65 ° C. or lower, and a good connection could be realized with a relatively weak pressure of about 5 N / cm 2. In particular, it was found that graphite A, B, and C excellent in compressibility showed an excellent heat dissipation effect, and graphite A and B excellent in heat conduction in the surface direction had a further excellent heat dissipation effect.

(比較例1)
グラファイトフィルム−Aを用いてグラファイトフィルムの全面に接着層(接着機能を有する層)を形成し、これをヒートシンクの底面に貼り付け実施例1と同様の方法で熱抵抗を測定した。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 1)
An adhesive layer (layer having an adhesive function) was formed on the entire surface of the graphite film using the graphite film-A, and this was attached to the bottom surface of the heat sink, and the thermal resistance was measured in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.

(比較例2)
厚さ45μmの銅箔をもちいて箔の全面に接着層(接着機能を有する層)を形成し、これをヒートシンクの底面に貼り付け実施例1と同様の方法で熱抵抗を測定した。得られた結果を表1に示す。
(Comparative Example 2)
A copper foil having a thickness of 45 μm was used to form an adhesive layer (layer having an adhesive function) on the entire surface of the foil, which was attached to the bottom surface of the heat sink, and the thermal resistance was measured in the same manner as in Example 1. The obtained results are shown in Table 1.

比較例1と実施例1〜4の比較から本発明の放熱方式である、発熱体(ここではCPU)と冷却フィンを(接着層(接着機能を有する層)を介さずに)直接接合させる方式の優位性が明らかになった。さらに、比較例2で得られた結果と実施例1〜4の結果の比較で本発明のグラファイトシートのすぐれた放熱特性が明らかになった。   From the comparison between Comparative Example 1 and Examples 1 to 4, the heat dissipation method of the present invention is a method of directly joining a heating element (CPU here) and a cooling fin (without an adhesive layer (layer having an adhesive function)). The advantage of was revealed. Furthermore, the excellent heat dissipation characteristics of the graphite sheet of the present invention were clarified by comparing the results obtained in Comparative Example 2 and the results of Examples 1 to 4.

(実施例5、6)
実施例1、2と同じ方法でグラファイトフィルム−A、−Bをヒートシンクの底面の大きさにカットし、CPUコアの上面に相当する部分のみくり抜いて接着層(接着機能を有する層)が無いようにした接着シート、と共に加圧プレスにより接合した。この時事前に、接着層(接着機能を有する層)の存在しないグラファイト面には極薄く(1μm程度)シリコングリス(信越化学G765:熱伝導率2.9W/mK(カタログ値))を塗布しておいた。同様にCPUの上面にも極薄く(1μm程度)シリコングリス(信越化学G765)を塗布しておき、しかる後にCPUをグラファイト面に圧着した。次に実施例1と同じ方法でCPUコア温度および熱抵抗を測定した。加圧圧力を2N/cm2から20N/cm2まで変化させ熱抵抗の値を測定した結果を表2に示す。この結果から、シリコングリスの塗布でさらなる接触抵抗の低減が図られる事が明らかになった。この様な効果は特にCPUを圧着する際の圧力が比較的小さい領域(この実験では2〜5N/cm2)の場合には顕著となる。
(Examples 5 and 6)
The graphite films -A and -B are cut into the size of the bottom surface of the heat sink by the same method as in Examples 1 and 2, and only the portion corresponding to the top surface of the CPU core is cut out so that there is no adhesive layer (layer having an adhesive function) The adhesive sheet was joined together with a pressure press. At this time, an extremely thin (about 1 μm) silicon grease (Shin-Etsu Chemical G765: thermal conductivity 2.9 W / mK (catalog value)) is applied to the graphite surface where the adhesive layer (layer having an adhesive function) does not exist. I left it. Similarly, an extremely thin (about 1 μm) silicon grease (Shin-Etsu Chemical G765) was applied to the upper surface of the CPU, and then the CPU was pressure-bonded to the graphite surface. Next, the CPU core temperature and thermal resistance were measured in the same manner as in Example 1. Table 2 shows the results of measuring the value of thermal resistance while changing the pressing pressure from 2 N / cm 2 to 20 N / cm 2. From this result, it became clear that the contact resistance can be further reduced by applying silicon grease. Such an effect becomes remarkable particularly in a region where the pressure when the CPU is pressure-bonded is relatively small (2 to 5 N / cm 2 in this experiment).

本発明のグラファイトフィルム(膨張状態)の断面SEM写真。The cross-sectional SEM photograph of the graphite film (expanded state) of this invention. 膨張状態でないグラファイトフィルムの断面SEM写真。The cross-sectional SEM photograph of the graphite film which is not an expanded state. 本発明のグラファイトフィルムの一部に接着層(接着機能を有する層)が形成された例(a)本発明の熱拡散フィルムの実施形態例(b)ヒートシンクと共に上記熱拡散フィルムをCPUの冷却に用いた例Example in which an adhesive layer (layer having an adhesive function) is formed on a part of the graphite film of the present invention (a) Embodiment of the thermal diffusion film of the present invention (b) Together with the heat sink, the thermal diffusion film is used for cooling the CPU. Example used 厚さの異なる部分を有するグラファイトフィルムの作製例(a)圧縮率20%以上のグラファイトフィルム(b)グラファイトフィルムの一部を加圧圧縮する方法。(c)加圧圧縮により厚さの異なる部分を有するグラファイトフィルムExample of production of graphite film having portions having different thicknesses (a) Graphite film having a compression rate of 20% or more (b) A method of compressing and compressing a part of the graphite film. (C) Graphite film having portions with different thicknesses by pressure compression 厚さの差を有するグラファイトフィルムと接着層(接着機能を有する層)の形成を同時に行う例(a)圧縮率20%以上のグラファイトフィルム(b)グラファイトフィルムを離型紙付き接着層(接着機能を有する層)と共にプレス成型する工程(c)厚さの差を有するグラファイトフィルムと接着層(接着機能を有する層)を有したグラファイトの例Example of simultaneously forming a graphite film having a difference in thickness and an adhesive layer (layer having an adhesive function) (a) Graphite film having a compression rate of 20% or more (b) An adhesive layer with release paper (adhesive function) (C) Example of graphite having a graphite film having a difference in thickness and an adhesive layer (layer having an adhesive function) 厚さの差を有するグラファイトフィルムと接着層(接着機能を有する層)の形成を同時に行う例(d)図5に記載の前記フィルムとヒートシンクとの接着状況。(e)CPUとグラファイトの接触界面に放熱グリースを塗布した例Example of simultaneously forming a graphite film having a difference in thickness and an adhesive layer (layer having an adhesive function) (d) Adhesion state between the film and the heat sink shown in FIG. (E) Example of applying thermal grease to the contact interface between CPU and graphite

符号の説明Explanation of symbols

1 グラファイトフィルム
2 接着層(接着機能を有する層)
3 ヒートシンク
4 発熱体(CPUコア)
5 圧縮治具
6 本発明のグラファイトフィルム
7 離型紙
8 放熱グリース
1 Graphite film 2 Adhesive layer (layer with adhesive function)
3 Heat sink 4 Heating element (CPU core)
5 Compression jig 6 Graphite film of the present invention 7 Release paper 8 Heat radiation grease

Claims (13)

20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルムの一部が
厚さ方向への加圧処理によって圧縮され、
該グラファイトフィルムにおいて圧縮状態が異なる部分が共存している
事を特徴とするグラファイトフィルム。
A part of the graphite film having a compressibility of 20% or more and having anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction is compressed by the pressure treatment in the thickness direction,
A graphite film characterized in that portions having different compression states coexist in the graphite film.
前記の圧縮状態が異なる部分が共存しているグラファイトフィルムであって、
未圧縮部分、既圧縮部分のうち低圧縮部分、および既圧縮部分のうち高圧縮部分
からなる群から選択される2以上の、互いに圧縮状態が異なる部分のいずれかで、少なくとも見かけ上の厚さの差が生じている事を特徴とする、請求項1記載のグラファイトフィルム。
A graphite film in which the portions having different compression states coexist,
At least the apparent thickness of any one of two or more portions selected from the group consisting of an uncompressed portion, a low-compressed portion of the pre-compressed portion, and a high-compressed portion of the pre-compressed portion and having different compression states. The graphite film according to claim 1, wherein the difference is generated.
20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルム。   A graphite film having a compressibility of 20% or more and anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction. 前記の
20%以上の圧縮率を有し、かつフィルム面方向とフィルム厚さ方向で熱伝導度の異方性を有するグラファイトフィルムが、
高分子フィルム及び/又は炭素化フィルムからなる原料フィルムを
不活性ガス中または真空中、2400℃以上の温度で処理して得られうるグラファイトフィルムであって、
該原料フィルムの厚さの80%以上に膨張したグラファイトフィルムであることを特徴とする、請求項1〜3のいずれかに記載の、グラファイトフィルム。
A graphite film having a compression ratio of 20% or more and having anisotropy of thermal conductivity in the film surface direction and the film thickness direction,
A graphite film that can be obtained by treating a raw material film composed of a polymer film and / or a carbonized film in an inert gas or in vacuum at a temperature of 2400 ° C. or higher,
The graphite film according to any one of claims 1 to 3, wherein the graphite film is expanded to 80% or more of the thickness of the raw material film.
請求項1〜4のいずれかに記載のグラファイトフィルムと、
接着機能を有する層とを含む熱拡散フィルムであって、
該接着機能を有する層が該グラファイトフィルムのフィルム面の一部に設けられている事を特徴とする熱拡散フィルム。
The graphite film according to any one of claims 1 to 4,
A heat diffusion film comprising a layer having an adhesive function,
A thermal diffusion film, wherein the layer having an adhesive function is provided on a part of the film surface of the graphite film.
請求項5に記載の接着機能を有する層が、請求項1〜2のいずれかに記載のグラファイトフィルムの
既圧縮部分のうち低圧縮部分及び/又は既圧縮部分のうち高圧縮部分に形成されている事を特徴とする熱拡散フィルム。
The layer having an adhesive function according to claim 5 is formed in a low compression portion and / or a high compression portion of the precompressed portion of the graphite film according to any one of claims 1 and 2. A heat diffusion film characterized by
前記グラファイトフィルムの
既圧縮部分のうち低圧縮部分及び/又は既圧縮部分のうち高圧縮部分の
表面には
接着機能及び/又は電気的に絶縁性の機能
を有する層が形成されており、
前記グラファイトフィルムの未圧縮部分の少なくとも一方の面には、
前記の接着機能及び/又は電気的に絶縁性の機能を有する層が形成されていない
事を特徴とする、請求項5に記載の熱拡散フィルム。
A layer having an adhesive function and / or an electrically insulating function is formed on the surface of the low-compression part and / or the high-compression part of the pre-compression part of the pre-compression part of the graphite film,
On at least one surface of the uncompressed portion of the graphite film,
6. The thermal diffusion film according to claim 5, wherein a layer having the adhesive function and / or an electrically insulating function is not formed.
前記グラファイトフィルムの面方向の熱伝導度が100W/mK以上である事を特徴とする請求項5〜7のいずれかに記載の熱拡散フィルム。   The thermal diffusion film according to any one of claims 5 to 7, wherein the thermal conductivity in the surface direction of the graphite film is 100 W / mK or more. 請求項4に記載の高分子フィルムが、
ポリイミド、ポリオキサジアゾール、及びポリパラフェニレンビニレンからなる群から選択される少なくとも一種類である、請求項5〜8のいずれかに記載の熱拡散フィルム。
The polymer film according to claim 4,
The thermal diffusion film according to any one of claims 5 to 8, which is at least one selected from the group consisting of polyimide, polyoxadiazole, and polyparaphenylene vinylene.
請求項9に記載のポリイミドフィルムの
100〜200℃の範囲における平均線膨張係数が2.5×10-5cm/cm/℃以下である事を特徴とする、請求項5〜9のいずれかに記載の熱拡散フィルム。
The average linear expansion coefficient in the range of 100-200 degreeC of the polyimide film of Claim 9 is 2.5 * 10 < -5 > cm / cm / degrees C or less, The any one of Claims 5-9 characterized by the above-mentioned. The heat diffusion film described in 1.
請求項9に記載のポリイミドフィルムの
複屈折が0.13以上である事を特徴とする、請求項5〜10のいずれかに記載の熱拡散フィルム。
The thermal diffusion film according to any one of claims 5 to 10, wherein the birefringence of the polyimide film according to claim 9 is 0.13 or more.
請求項1、2、4のいずれかに記載のグラファイトフィルムの未圧縮部分と発熱体とを接触させ、さらに、該未圧縮部分が加圧されるように接続する事を特徴とする熱拡散方法。   A thermal diffusion method comprising contacting an uncompressed portion of the graphite film according to any one of claims 1, 2, and 4 with a heating element, and further connecting the uncompressed portion so as to be pressurized. . 請求項12に記載の熱拡散方法であって、さらに請求項1、2、4のいずれかに記載のグラファイトフィルムの既圧縮部分が接着機能を有する層を介して放熱部分と接合されている事を特徴とする熱拡散方法。   The thermal diffusion method according to claim 12, wherein the already compressed portion of the graphite film according to any one of claims 1, 2, and 4 is joined to the heat dissipation portion via a layer having an adhesive function. A thermal diffusion method characterized by the above.
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