JP2007211835A - Low temperature liquefied gas storage tank - Google Patents
Low temperature liquefied gas storage tank Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007211835A JP2007211835A JP2006030133A JP2006030133A JP2007211835A JP 2007211835 A JP2007211835 A JP 2007211835A JP 2006030133 A JP2006030133 A JP 2006030133A JP 2006030133 A JP2006030133 A JP 2006030133A JP 2007211835 A JP2007211835 A JP 2007211835A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- liquefied gas
- temperature liquefied
- low
- annular header
- pipe
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、LNG(液化天然ガス),LPG(液化プロパンガス)などの低温液化ガスを貯蔵するための複数の内槽が一つの外槽内に収容された構造を有する低温液化ガス貯槽に関するものである。 The present invention relates to a low-temperature liquefied gas storage tank having a structure in which a plurality of inner tanks for storing low-temperature liquefied gases such as LNG (liquefied natural gas) and LPG (liquefied propane gas) are accommodated in one outer tank. It is.
従来より、複数の内槽が一つの外槽内に収容された構造の低温液化ガス貯槽が知られており、これを図4を用いて説明する。図4は、従来の低温液化ガス貯槽の構成を模式的に示す構成説明図である。なお、この種の低温液化ガス貯槽は、例えば特開2005−106127号公報に示されたものがある。 Conventionally, a low-temperature liquefied gas storage tank having a structure in which a plurality of inner tanks are accommodated in one outer tank is known, and this will be described with reference to FIG. FIG. 4 is a configuration explanatory view schematically showing the configuration of a conventional low-temperature liquefied gas storage tank. In addition, this kind of low temperature liquefied gas storage tank is what was shown by Unexamined-Japanese-Patent No. 2005-106127, for example.
従来の低温液化ガス貯槽100について説明する。図4において、11は基礎であり、円筒形胴部に逆皿状の天井部14aを溶接によって取り付けてなる外槽14は、基礎11上に固定された円環状の載置板13上に固定されている。この外槽14内には、低温液化ガスを導入し貯蔵する複数の内槽、この例では三つの内槽15A,15B,15Cが収容されている。各内槽15A〜15Cは、円筒形胴部に逆皿状頂部と皿状底部とを溶接によって取り付けてなるものであり、図示しない脚部材によって基礎11上に起立姿勢にて支持・固定されている。
A conventional low-temperature liquefied
そして、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて内槽15A〜15C内にその内槽頂部から導入し受入れる頂部側用低温液化ガス導入ラインを構成するために、ループをなさない非環状形の頂部側用非環状形ヘッダー管117と、各内槽15A〜15Cのそれぞれに対し設けられて各内槽A15〜15C内の頂部と頂部側用非環状形ヘッダー管117とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入枝管18A〜18Cと、頂部側用非環状形ヘッダー管117と低温液化ガス供給元とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入主管19とが設けられている。
Then, in order to configure a top-side low-temperature liquefied gas introduction line for dividing and introducing the low-temperature liquefied gas from the low-temperature liquefied gas supply source into the
前記頂部側用低温液化ガス導入枝管18Aの先端側は、内槽15Aの頂部に挿通され、内槽15A内の頂部で、多数の放出口を有する管を円環状に形成してなるスプレーリング16に接続されている。他の頂部側用低温液化ガス導入枝管18B,18Cについても同様である。そして、前記頂部側用非環状形ヘッダー管117には、外槽14の管挿通孔を通って貯槽外部へ引き出される前記頂部側用低温液化ガス導入主管19の一端が接続されている。頂部側用低温液化ガス導入主管19は、他端に流量制御弁19aが設けられて、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスが供給される低温液化ガス受入れライン51に接続されている。なお、頂部側用低温液化ガス導入主管19Tが挿通された前記管挿通孔の隙間は気密状に密封されるようになっている。
The tip side of the cryogenic liquefied gas
また、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて内槽15A〜15C内にその内槽底部から導入し受入れる底部側用低温液化ガス導入ラインを構成するために、ループをなさない非環状形の底部側用非環状形ヘッダー管120と、各内槽15A〜15Cのそれぞれに対し設けられて各内槽15A〜15C内の底部と前記底部側用非環状形ヘッダー管120とを連絡する底部側用低温液化ガス導入枝管21A〜21Cと、前記底部側用非環状形ヘッダー管120と低温液化ガス供給元とを連絡する底部側用低温液化ガス導入主管22とが設けられている。そして、前記底部側用非環状形ヘッダー管20には、外槽14の管挿通孔を通って貯槽外部へ引き出される前記底部側用低温液化ガス導入主管22の一端が接続されている。この底部側用低温液化ガス導入主管22は、他端に流量制御弁22aが設けられて、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスが供給される低温液化ガス受入れライン51に接続されている。
Further, in order to configure a low-temperature liquefied gas introduction line for the bottom side, which splits the low-temperature liquefied gas from the low-temperature liquefied gas supply source and introduces it into the
また、内槽15A〜15C内から低温液化ガスを導出し払い出す低温液化ガス導出ラインを構成するために、非環状形をなす非環状形ヘッダー管23と、各内槽15A〜15Cのそれぞれに対し設けられて各内槽15A〜15C内の底部と前記非環状形ヘッダー管23とを連絡する低温液化ガス導出枝管24A〜24Cと、非環状形ヘッダー管23と消費用設備とを連絡するための低温液化ガス導出主管25とが設けられている。そして、前記非環状形ヘッダー管22には、外槽14の管挿通孔を通って貯槽外部へ引き出される前記低温液化ガス導出主管25の一端が接続されている。この低温液化ガス導出主管25は、他端に流量制御弁25aが設けられて、低温液化ガス消費用設備に連絡している低温液化ガス払い出しライン52に接続されている。なお、低温液化ガス導出主管25が挿通された前記管挿通孔の隙間は気密状に密封されるようになっている。
Further, in order to configure a low temperature liquefied gas lead-out line for leading out and discharging the low temperature liquefied gas from the
また、内槽15A〜15C内の気相部圧力を調整する内槽気相部圧力調整ラインを構成するために、非環状形の非環状形ヘッダー管26と、各内槽15A〜15Cのそれぞれに対し設けられて各内槽15A〜15C内の頂部と前記非環状形ヘッダー管26とを連絡するガス導出導入枝管27A〜27Cと、非環状形ヘッダー管26とガス圧力調整用設備とを連絡するためのガス導出導入主管28とが設けられている。ガス導出導入主管28は、他端に流量制御弁28aが設けられて、ガス圧力調整用設備に連絡しているガス圧力調整ライン53に接続されている。
Further, in order to configure an inner tank gas phase pressure adjusting line for adjusting the gas phase pressure in the
このように、外槽14内には、内槽15A〜15Cが収容されるとともに、前述した頂部側用低温液化ガス導入ライン、底部側用低温液化ガス導入ライン、低温液化ガス導出ライン及び内槽気相部圧力調整ラインを構成する各配管が設けられており、さらに、外槽14と内槽15A〜15Cとの間は、断熱材として図示しない粉末パーライトが充填され、断熱空間が形成されている。
Thus, the
このように構成される低温液化ガス貯槽において、内槽15A〜15Cに低温液化ガスを導入し貯蔵するに際し、内槽15A〜15Cが新設であって内槽15A〜15Cのクールダウンを行うクールダウン時には、前記頂部側用低温液化ガス導入ラインにより低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて内槽15A〜15Cに導入するようにしている。そして、クールダウンがなされた後における通常操業時には、前記底部側用低温液化ガス導入ラインにより、又は、底部側用低温液化ガス導入ライン(例えば充填量の90%分を分担)と頂部側用低温液化ガス導入ライン(例えば充填量の10%分を分担)とを同時併用することにより、内槽15A〜15Cに低温液化ガスを導入するようにしている。
In the low-temperature liquefied gas storage tank configured as described above, when introducing and storing the low-temperature liquefied gas in the
ところが、低温液化ガスは温度・圧力の条件によっては気液二相流の状態となり、(1)クールダウン時、(2)通常操業での低温液化ガス導入時における初期、(3)通常操業での低温液化ガス導入時における末期には、低温液化ガスが気液二相流の状態となって外槽14内の配管を流れる現象が生じやすくなる。そして、低温液化ガスが気液二相流となって配管を流れる場合、低温液化ガスの流動が非常に不安定であり、配管内の圧力損失が大きく変動することから、内槽15A〜15Cに低温液化ガスをほぼ均等に導入することが困難となる。
However, the low-temperature liquefied gas is in a gas-liquid two-phase flow depending on the temperature and pressure conditions, (1) at cool-down, (2) at the initial stage when the low-temperature liquefied gas is introduced in normal operation, and (3) in normal operation. At the end of the introduction of the low-temperature liquefied gas, a phenomenon in which the low-temperature liquefied gas is in a gas-liquid two-phase flow and flows through the piping in the
図5は、図4において三つの内槽のクールダウン時に配管を低温液化ガスが流れる場合についての説明図である。 FIG. 5 is an explanatory diagram of the case where the low-temperature liquefied gas flows through the piping when the three inner tanks are cooled down in FIG. 4.
頂部側用低温液化ガス導入ラインが非環状形ヘッダー管117によるトーナメント形式配管結合構造の場合、もともと均等分配性に劣っている。このため、内槽15A〜15Cのクールダウン時の最初に低温液化ガスを導入する時に、低温液化ガスが気液二相流状態となることで配管内の圧力損失が大きく変動すると、図5に示すように、非環状形ヘッダー管117において低温液化ガスが(ロ)と[(ハ)+(ニ)]とで均等に流れず、仮に(ロ)の方が(ハ)と(ニ)に比べて多く流れた場合、頂部側用低温液化ガス導入枝管18Aが他の頂部側用低温液化ガス導入枝管18B,18Cに比べて速く冷えることで、内槽15A用の頂部側用低温液化ガス導入枝管18Aは、ますます低温液化ガスが流れ易くなってさらに冷えることになる。そうなると、内槽15A〜15Cの冷却速度をほぼ等しく保つことができず、内槽15Aと内槽15B,15Cとの間に大きな温度差が生じることになり、低温液化ガス貯槽における熱応力が集中しやすい構成部材(配管先端のノズル部など)に破損が生じるおそれがある。そして、低温液化ガスで発生する気液二相流の挙動を前もって予測することは困難である。なお、内槽15A〜15C内にその底部から低温液化ガスを導入する前記した底部側用低温液化ガス導入ラインに関しても、低温液化ガスが気液二相流状態となることで内槽15A〜15Cに低温液化ガスをほぼ均等に導入できないことが発生している。
そこで本発明の課題は、複数の内槽が一つの外槽内に収容されている低温液化ガス貯槽において、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて前記各内槽に導入するに際し、前記低温液化ガスを前記複数の内槽にほぼ均等に導入することができるようにした低温液化ガス貯槽を提供することにある。 Accordingly, an object of the present invention is to provide a low-temperature liquefied gas storage tank in which a plurality of inner tanks are accommodated in one outer tank, and when a low-temperature liquefied gas from a low-temperature liquefied gas supply source is divided and introduced into each of the inner tanks. Another object of the present invention is to provide a low-temperature liquefied gas storage tank in which the low-temperature liquefied gas can be introduced almost uniformly into the plurality of inner tanks.
前記の課題を解決するため、本願発明では、次の技術的手段を講じている。 In order to solve the above problems, the present invention takes the following technical means.
請求項1の発明は、低温液化ガスを貯蔵するための複数の内槽が一つの外槽内に収容されている低温液化ガス貯槽において、環状をなす環状ヘッダー管と、前記複数の内槽のそれぞれに対し設けられて前記各内槽と前記環状ヘッダー管とを連絡する低温液化ガス導入枝管と、前記環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する低温液化ガス導入主管とを備えていることを特徴とする低温液化ガス貯槽である。
The invention of
請求項2の発明は、請求項1記載の低温液化ガス貯槽において、前記環状ヘッダー管として、頂部側用環状ヘッダー管と底部側用環状ヘッダー管とを備え、前記低温液化ガス導入枝管として、前記各内槽内の頂部と前記頂部側用環状ヘッダー管とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入枝管と、前記各内槽内の底部と底部側用環状ヘッダー管とを連絡する底部側用低温液化ガス導入枝管とを備え、前記低温液化ガス導入主管として、前記頂部側用環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入主管と、前記底部側用環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する底部側用低温液化ガス導入主管とを備えていることを特徴とするものである。
The invention of claim 2 is the low-temperature liquefied gas storage tank according to
請求項3の発明は、低温液化ガスを貯蔵するための複数の内槽からなる内槽群を複数備え、前記複数の内槽群が一つの外槽内に収容されている低温液化ガス貯槽において、前記複数の内槽群それぞれに対して、環状をなす環状ヘッダー管と、当該内槽群を構成する前記複数の内槽のそれぞれに対し設けられて該各内槽と前記環状ヘッダー管とを連絡する低温液化ガス導入枝管と、前記環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する低温液化ガス導入主管とを備えていることを特徴とする低温液化ガス貯槽である。 The invention of claim 3 is a low-temperature liquefied gas storage tank comprising a plurality of inner tank groups consisting of a plurality of inner tanks for storing a low-temperature liquefied gas, wherein the plurality of inner tank groups are accommodated in one outer tank. An annular header pipe having an annular shape for each of the plurality of inner tank groups, and each of the inner tanks and the annular header pipe provided for each of the plurality of inner tanks constituting the inner tank group. A low-temperature liquefied gas storage tank comprising: a low-temperature liquefied gas introduction branch pipe that communicates with the annular header pipe and a low-temperature liquefied gas introduction main pipe that communicates with a low-temperature liquefied gas supply source.
請求項4の発明は、請求項3記載の低温液化ガス貯槽において、前記環状ヘッダー管として、頂部側用環状ヘッダー管と底部側用環状ヘッダー管とを備え、前記低温液化ガス導入枝管として、前記各内槽内の頂部と前記頂部側用環状ヘッダー管とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入枝管と、前記各内槽内の底部と底部側用環状ヘッダー管とを連絡する底部側用低温液化ガス導入枝管とを備え、前記低温液化ガス導入主管として、前記頂部側用環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入主管と、前記底部側用環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する底部側用低温液化ガス導入主管とを備えていることを特徴とするものである。 According to a fourth aspect of the present invention, in the low-temperature liquefied gas storage tank according to the third aspect, the annular header pipe includes a top-side annular header pipe and a bottom-side annular header pipe, and the low-temperature liquefied gas introduction branch pipe, The top side cryogenic liquefied gas introduction branch pipe connecting the top part in each inner tank and the top side annular header pipe, and the bottom side connecting the bottom part and bottom side annular header pipe in each inner tank A low-temperature liquefied gas introduction branch pipe for the top side, the low-temperature liquefied gas introduction main pipe for connecting the top-side annular header pipe and the low-temperature liquefied gas supply source, and the bottom-side side A low-temperature liquefied gas introduction main pipe for the bottom side that communicates the annular header pipe and the low-temperature liquefied gas supply source is provided.
本発明の低温液化ガス貯槽は、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて複数の内槽に導入するラインを、環状をなす環状ヘッダー管と、前記複数の内槽のそれぞれに対し設けられて前記各内槽と前記環状ヘッダー管とを連絡する低温液化ガス導入枝管と、前記環状ヘッダー管と低温液化ガス供給元とを連絡する低温液化ガス導入主管とにより構成している。このように、ループをなさない非環状形のヘッダー管によるトーナメント形式配管結合構造を備えた従来のものとは違って、環状ヘッダー管による環状形式配管結合構造を備えている。したがって、複数の内槽への低温液化ガスの均等分配性に優れ、低温液化ガスが気液二相流状態となる現象が発生しても、その圧力損失変動による均等分配性の悪化を最小限に抑制して、低温液化ガスを複数の内槽にほぼ均等に導入することができ、低温液化ガス貯槽における構成部材の熱応力による破損のおそれを解消することができる。 The low-temperature liquefied gas storage tank of the present invention has a line for dividing a low-temperature liquefied gas from a low-temperature liquefied gas supply source into a plurality of inner tanks, an annular header pipe having an annular shape, and each of the plurality of inner tanks. A low-temperature liquefied gas introduction branch pipe that is provided and communicates between the inner tank and the annular header pipe, and a low-temperature liquefied gas introduction main pipe that communicates between the annular header pipe and the low-temperature liquefied gas supply source. In this way, unlike the conventional type having a tournament type pipe connection structure with a non-annular header pipe that does not form a loop, it has an annular type pipe connection structure with an annular header pipe. Therefore, it is excellent in the uniform distribution of low-temperature liquefied gas to multiple inner tanks, and even if the phenomenon that the low-temperature liquefied gas is in a gas-liquid two-phase flow occurs, the deterioration of the uniform distribution due to the pressure loss fluctuation is minimized. Therefore, the low-temperature liquefied gas can be introduced almost uniformly into the plurality of inner tanks, and the risk of damage due to the thermal stress of the constituent members in the low-temperature liquefied gas storage tank can be eliminated.
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
図1は、本発明の第1実施形態による低温液化ガス貯槽の構成を模式的に示す構成説明図である。ここで、前述した図4に示す低温液化ガス貯槽100との相違点は環状ヘッダー管17,20を備えたことにあり、それ以外は同一構成であるので、前記図4に示す低温液化ガス貯槽100と共通する構成部分には図4と同一の符号を付してその説明を省略し、前記低温液化ガス貯槽100と異なる点について説明する。
FIG. 1 is a configuration explanatory view schematically showing the configuration of the low-temperature liquefied gas storage tank according to the first embodiment of the present invention. Here, the difference from the low-temperature liquefied
この第1実施形態の低温液化ガス貯槽10は、図1に示すように、従来とは違って環状をなす頂部側用環状ヘッダー管17を備えている。これにより、低温液化ガス貯槽10は、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて内槽15A〜15C内にその内槽頂部から導入し受入れる頂部側用低温液化ガス導入ラインを、この頂部側用環状ヘッダー管17と、内槽15A〜15Cと頂部側用環状ヘッダー管17とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入枝管18A〜18Cと、頂部側用環状ヘッダー管17と低温液化ガス供給元とを連絡する頂部側用低温液化ガス導入主管19とにより構成している。
As shown in FIG. 1, the low-temperature liquefied
また、低温液化ガス貯槽10は、従来とは違って環状をなす底部側用環状ヘッダー管20を備えている。これにより、低温液化ガス貯槽10は、低温液化ガス供給元からの低温液化ガスを分流させて内槽15A〜15C内にその内槽底部から導入し受入れる底部側用低温液化ガス導入ラインを、この底部側用環状ヘッダー管20と、内槽15A〜15Cと底部側用環状ヘッダー管20とを連絡する底部側用低温液化ガス導入枝管21A〜21Cと、底部側用環状ヘッダー管20と低温液化ガス供給元とを連絡する底部側用低温液化ガス導入主管22とにより構成している。
Further, the low-temperature liquefied
このように、低温液化ガス貯槽10は、ループをなさない非環状形のヘッダー管117,120によるトーナメント形式配管結合構造を備えた従来のものとは違って、環状ヘッダー管17,20による環状形式配管結合構造を備えている。
As described above, the low-temperature liquefied
したがって、内槽15A〜15Cに連絡する低温液化ガス導入枝管18A〜18C及び21A〜21Cと環状ヘッダー管17,20との接続点a〜c及びa′〜c′(図2参照)がほぼ同一圧力となり、低温液化ガス貯槽10は、内槽15A〜15Cへの低温液化ガスの均等分配性に優れ、低温液化ガスが気液二相流状態となる現象が発生しても、その圧力損失変動による均等分配性の悪化を最小限に抑制して、低温液化ガスを内槽15A〜15Cにほぼ均等に導入することができる。よって、低温液化ガスの不均等分配による内槽15A〜15C間の温度差に起因するところの、低温液化ガス貯槽10における構成部材の熱応力による破損のおそれを解消することができる。
Therefore, the connection points a to c and a 'to c' (see FIG. 2) between the low temperature liquefied gas
図3は、本発明の第2実施形態による低温液化ガス貯槽の構成を模式的に示す構成説明図である。ここで、前記図1の低温液化ガス貯槽10との相違点は、複数の内槽からなる内槽群を複数備えたことにあり(低温液化ガス貯槽10は内槽15A〜15Cで構成される一つの内槽群を備える)、それ以外は同一構成であるので、前記図1に示す低温液化ガス貯槽10と共通する構成部分には図1と同一の符号を付してある。
FIG. 3 is an explanatory diagram schematically showing the configuration of the low-temperature liquefied gas storage tank according to the second embodiment of the present invention. Here, the difference from the low-temperature liquefied
図3において、11′は基礎、13′は載置板、14′は天井部14a′を有する外槽である。この第2実施形態の低温液化ガス貯槽10′は、図3に示すように、複数の内槽群、この例では二つの内槽群を備えており、内槽15A〜15Cからなる一方の内槽群及びその配管と、内槽15A′〜15C′からなる他方の内槽群及びその配管とを一つの外槽14内に収容してある。
In FIG. 3, 11 'is a foundation, 13' is a mounting plate, and 14 'is an outer tub having a
図3に示すように、他方の内槽群を構成する内槽15A′〜15C′とその配管(頂部側用環状ヘッダー管17′、頂部側用低温液化ガス導入枝管18A′〜18C′、頂部側用低温液化ガス導入主管19′、底部側用環状ヘッダー管20′、底部側用低温液化ガス導入枝管21A′〜21C′、底部側用低温液化ガス導入主管22′、非環状形ヘッダー管23′、低温液化ガス導出枝管24A′〜24C′、低温液化ガス導出主管25′、非環状形ヘッダー管26′、ガス導出導入枝管27A′〜27C′及びガス導出導入主管28′)については、前記図1で説明したところの、一方の内槽群を構成する内槽15A〜15Cとその配管と同一の構成である。
As shown in FIG. 3, the
このように、低温液化ガス貯槽10′は、一つの外槽14内に、内槽15A〜15Cから構成される一方の内槽群と、この一方の内槽群と同一貯蔵容量であって、内槽15A′〜15C′ から構成される他方の内槽群とを収容してある。そして、この低温液化ガス貯槽10′は、最初に両方の内槽群に低温液化ガスを充填しておき、一方の内槽群を払い出し用として使用し、この一方の内槽群の貯蔵量が所定量まで減少したら、他方の内槽群を払い出し用として使用し、この他方の内槽群の貯蔵量が所定量まで減少したら、その間に充填しておいた一方の内槽群を払い出し用として使用するというように、交互に切り替えて運用されるものである。
Thus, the low-temperature liquefied
そして、このように構成された低温液化ガス貯槽10′によれば、複数の内槽群のそれぞれに環状ヘッダー管17,20及び17′,20′による環状形式配管結合構造を備えているので、一方の内槽群についても低温液化ガスを内槽15A〜15Cにほぼ均等に導入することができるとともに、他方の内槽群についても低温液化ガスを内槽15A′〜15C′にほぼ均等に導入することができる。
And according to the low-temperature liquefied gas storage tank 10 'configured in this way, each of the plurality of inner tank groups is provided with an annular type pipe coupling structure by the
10,10′…低温液化ガス貯槽
11,11′…基礎
13,13′…載置板
14,14′…外槽
14a,14a′…天井部
15A〜15C,15A′〜15C′…内槽
16,16′…スプレーリング
17,17′…頂部側用環状ヘッダー管
18A〜18C,18A′〜18C′…頂部側用低温液化ガス導入枝管
19,19′…頂部側用低温液化ガス導入主管
19a,19a′…流量制御弁
20,20′…底部側用環状ヘッダー管
21A〜21C,21A′〜21C′…底部側用低温液化ガス導入枝管
22,22′…底部側用低温液化ガス導入主管
22a,22a′…流量制御弁
23,23′…非環状形ヘッダー管
24A〜24C,24A′〜24C′…低温液化ガス導出枝管
25,25′…低温液化ガス導出主管
25a,25a′…流量制御弁
26,26′…非環状形ヘッダー管
27A〜27C,27A′〜27C′…ガス導出導入枝管
28,28′…ガス導出導入主管
28a,28a′…流量制御弁
51,51′…低温液化ガス受入れライン
52,52′…低温液化ガス払い出しライン
53,53′…ガス圧力調整ライン
DESCRIPTION OF
Claims (4)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006030133A JP4864472B2 (en) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | Low temperature liquefied gas storage tank |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006030133A JP4864472B2 (en) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | Low temperature liquefied gas storage tank |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007211835A true JP2007211835A (en) | 2007-08-23 |
JP4864472B2 JP4864472B2 (en) | 2012-02-01 |
Family
ID=38490475
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006030133A Active JP4864472B2 (en) | 2006-02-07 | 2006-02-07 | Low temperature liquefied gas storage tank |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4864472B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015025496A (en) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 東京ガス・エンジニアリング株式会社 | Cryogenic liquid storage facility |
JP2015055290A (en) * | 2013-09-11 | 2015-03-23 | 東京ガス・エンジニアリング株式会社 | Storage facility for low temperature liquefied gas |
RU2664602C2 (en) * | 2014-03-18 | 2018-08-21 | О.М.Т. Оффичина Мекканика Тартарини С.р.Л. | Device and method for uniform flow distribution |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259386A (en) * | 1987-03-26 | 1988-10-26 | Tokyo Gas Co Ltd | Cylindrical open rack type evaporator |
JPH09217897A (en) * | 1996-02-14 | 1997-08-19 | Hitachi Ltd | Sf6 storing and feeding device, and storing and feeding methods thereof |
JP2005106127A (en) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Kobe Steel Ltd | Liquefied natural gas storage device |
-
2006
- 2006-02-07 JP JP2006030133A patent/JP4864472B2/en active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63259386A (en) * | 1987-03-26 | 1988-10-26 | Tokyo Gas Co Ltd | Cylindrical open rack type evaporator |
JPH09217897A (en) * | 1996-02-14 | 1997-08-19 | Hitachi Ltd | Sf6 storing and feeding device, and storing and feeding methods thereof |
JP2005106127A (en) * | 2003-09-29 | 2005-04-21 | Kobe Steel Ltd | Liquefied natural gas storage device |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2015025496A (en) * | 2013-07-25 | 2015-02-05 | 東京ガス・エンジニアリング株式会社 | Cryogenic liquid storage facility |
JP2015055290A (en) * | 2013-09-11 | 2015-03-23 | 東京ガス・エンジニアリング株式会社 | Storage facility for low temperature liquefied gas |
RU2664602C2 (en) * | 2014-03-18 | 2018-08-21 | О.М.Т. Оффичина Мекканика Тартарини С.р.Л. | Device and method for uniform flow distribution |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4864472B2 (en) | 2012-02-01 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4864472B2 (en) | Low temperature liquefied gas storage tank | |
JP5572206B2 (en) | LNG carrier independent tank support structure system | |
JP6994464B2 (en) | How to operate the liquefied gas storage tank and the liquefied gas storage tank for receiving LNG and boil-off gas | |
KR101489114B1 (en) | Gasification device for low-temperature liquefied gas | |
JP2016028206A (en) | Device and method for supplying fluid | |
US20190011191A1 (en) | Withdrawal/ infeed of gas for influencing radial liquid migration | |
US20160209118A1 (en) | Shell-Side Fluid Distribution in Coil Wound Heat Exchangers | |
JP5783801B2 (en) | Liquefied hydrogen storage and supply equipment | |
JP2014508261A (en) | Hydrogen filling method and system | |
CN105164462A (en) | Low-temperature liquefied gas tank | |
KR20150047320A (en) | Unified vent mast structure | |
JP5363988B2 (en) | Method and apparatus for obtaining gas-liquid phase uniformity in a mixed flow | |
JP5120567B2 (en) | Air temperature liquefied gas vaporizer | |
KR101826900B1 (en) | Cargo storage tank and piping system of the same | |
JP5902656B2 (en) | Low temperature liquefied gas storage equipment | |
JP2016147997A (en) | Heat amount control system for liquefied gas shipping facility | |
JP6619551B2 (en) | Dual structure tube for cryogenic fluid and dual structure storage tank for cryogenic fluid | |
JP2011127754A (en) | Hydrogen gas cooling device | |
JP2012132574A (en) | Device for vaporizing low temperature liquid | |
CN107848604A (en) | Boil-off gas reliquefaction installation and method | |
JP5927149B2 (en) | Low temperature liquefied gas storage equipment | |
JP2011169494A (en) | Open rack-type vaporizer | |
CN206592651U (en) | A kind of petroleum pipeline for different geological conditions installs equipment | |
KR20100100057A (en) | Balasting system and floating marine structure having the system | |
JP4181250B2 (en) | Natural gas heating method |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20090129 |
|
A711 | Notification of change in applicant |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A711 Effective date: 20090129 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20090129 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110513 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110705 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110824 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111108 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111109 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141118 Year of fee payment: 3 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4864472 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |