JP2007194302A - Inspection device for inspection object - Google Patents

Inspection device for inspection object Download PDF

Info

Publication number
JP2007194302A
JP2007194302A JP2006009322A JP2006009322A JP2007194302A JP 2007194302 A JP2007194302 A JP 2007194302A JP 2006009322 A JP2006009322 A JP 2006009322A JP 2006009322 A JP2006009322 A JP 2006009322A JP 2007194302 A JP2007194302 A JP 2007194302A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
inspected
image
unit
imaging
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2006009322A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4746991B2 (en
Inventor
Yoshihiro Akiyama
吉宏 秋山
Ken Onodera
謙 小野寺
Sakie Akiyama
咲恵 秋山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Saki Corp
Original Assignee
Saki Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Saki Corp filed Critical Saki Corp
Priority to JP2006009322A priority Critical patent/JP4746991B2/en
Publication of JP2007194302A publication Critical patent/JP2007194302A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4746991B2 publication Critical patent/JP4746991B2/en
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Landscapes

  • Analysing Materials By The Use Of Radiation (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Supply And Installment Of Electrical Components (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To simplify the structure of an inspection device for an inspection object that uses an optical image or an X-ray image, and to suppress an increase in cost. <P>SOLUTION: The substrate inspection device is provided with a line sensor 34 that picks up an optical image of a substrate 2 as well as the X-ray image of the substrate 2 obtained by irradiating an X ray, and a slave PC to inspect the mounting condition of parts to be inspected by using the obtained optical image and X-ray image. The substrate inspection device moves on the substrate 2, or moves and stops repeatedly thereon, so as to inspect the substrate 2 by using plurally picked-up images. A plurality of line sensors 34 for different pick-up areas are provided in parallel to the image pick-up face of the substrate 2 and vertical to the moving direction of the substrate 2. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、被検査体の検査装置に関し、特にX線を照射することにより得られる被検査体のX線画像を利用して被検査体を検査する被検査体の検査装置に関する。   The present invention relates to an inspection apparatus for an inspection object, and more particularly to an inspection apparatus for an inspection object that inspects an inspection object using an X-ray image of the inspection object obtained by irradiating X-rays.

近年、あらゆる機器に電子基板が実装されるようになっている。これらの電子基板が実装される機器においては、小型化や薄型化および低価格化が常に課題とされており、このため、高集積度設計が広く行われている。この高集積度設計を実現する要素の一つとして高密度実装技術が挙げられる。この高密度実装のポイントは、製造技術および検査技術にあり、この部品実装後のプリント基板(以下「基板」という)の検査として、プリント基板を撮像することにより得られる光学画像を利用する検査技術が知られている。   In recent years, electronic boards have been mounted on various devices. In devices on which these electronic boards are mounted, downsizing, thinning, and cost reduction have always been challenges, and for this reason, high integration design is widely performed. One of the elements that realize this highly integrated design is high-density mounting technology. The point of this high-density mounting lies in manufacturing technology and inspection technology, and inspection technology using an optical image obtained by imaging the printed circuit board as an inspection of the printed circuit board (hereinafter referred to as “substrate”) after mounting the components. It has been known.

一方、デジタル機器のさらなる小型化および高性能化を実現するために、さらに集積度を上げて基板に実装する部品の数を低減させることが求められている。このため、たとえば高密度基板実装に使用されるICチップのパッケージ方法の一つであるBGA(Ball Grid Array)などが多く採用されている。このBGAは、通常平たいパッケージの下面に外部入出力用のパッドが並んでおり、基板にBGAを実装するときにはこのパッドはパッケージに覆われる。このためパッドには外部から光が届きにくく、上記のような光学画像を利用した検査方法ではBGAのパッドの接続状態を検査することは困難である。このように光学画像による検査が困難な部品を考慮して、X線を基板に照射することにより得られるX線透過画像を利用する検査技術の開発が進められている。   On the other hand, in order to realize further miniaturization and higher performance of digital equipment, it is required to further increase the degree of integration and reduce the number of components mounted on the substrate. For this reason, for example, BGA (Ball Grid Array), which is one of IC chip packaging methods used for high-density substrate mounting, is often used. In this BGA, pads for external input / output are usually arranged on the lower surface of a flat package. When the BGA is mounted on a substrate, the pad is covered with the package. For this reason, it is difficult for light to reach the pad from the outside, and it is difficult to inspect the connection state of the BGA pad by the inspection method using the optical image as described above. In consideration of components that are difficult to inspect with an optical image as described above, development of an inspection technique using an X-ray transmission image obtained by irradiating a substrate with X-rays is in progress.

このような光学画像およびX線画像の双方を利用する検査技術として、たとえば特許文献1では、X線撮像部で得られる被検査対象物のX線画像および可視光撮像部で得られる光学画像とを合成する基板検査装置が提案されている。また、たとえば特許文献2では、検査対象となるプリント基板の光学基準画像と基準となるプリント基板の光学基準画像とを比較するステップと、検査対象となるプリント基板のX線像と基準となるプリント基板のX線基準画像とを比較するステップと、を備える基板検査方法が提案されている。
特開2004−340632号公報 特開2004−226127号公報
As an inspection technique that uses both such an optical image and an X-ray image, for example, in Patent Document 1, an X-ray image of an object to be inspected obtained by an X-ray imaging unit and an optical image obtained by a visible light imaging unit A substrate inspection apparatus for synthesizing the above has been proposed. For example, in Patent Document 2, a step of comparing an optical reference image of a printed circuit board to be inspected with an optical reference image of a printed circuit board to be inspected, and an X-ray image of the printed circuit board to be inspected and a reference print Comparing a substrate with an X-ray reference image of the substrate has been proposed.
JP 2004-340632 A JP 2004-226127 A

光学画像またはX線画像を利用して基板などの被検査体を検査する検査装置において、これらを撮像する撮像部は一般に高価である。また製造容易化およびメンテナンス性向上の観点から、光学画像およびX線画像の双方を利用する検査装置の構成は簡略であることが望ましい。   In an inspection apparatus that inspects an object to be inspected such as a substrate using an optical image or an X-ray image, an imaging unit that captures these is generally expensive. In addition, from the viewpoint of facilitating manufacturing and improving maintainability, it is desirable that the configuration of an inspection apparatus that uses both an optical image and an X-ray image is simple.

本発明はこうした状況に鑑みてなされたものであり、その目的は、光学画像またはX線画像を利用する被検査体の検査装置の構成を簡略化し、コストの増加を抑制することにある。   The present invention has been made in view of such circumstances, and an object thereof is to simplify the configuration of an inspection apparatus for an object to be inspected that uses an optical image or an X-ray image, and to suppress an increase in cost.

上記課題を解決するために、本発明のある態様の被検査体の検査装置は、被検査体の光学画像、およびX線を照射することにより得られる被検査体のX線画像の双方を撮像する撮像部と、撮像された光学画像およびX線画像を利用して被検査体の部品の実装状態を検査する検査部と、を備える。この態様によれば、光学画像を撮像するための撮像部とX線画像を撮像するための撮像部とを別々に設けることなく光学画像およびX線画像を撮像することができることから、装置の構成を簡略化することができ、コストの増大を抑制することができる。   In order to solve the above-described problems, an inspection apparatus for an inspection object according to an aspect of the present invention captures both an optical image of the inspection object and an X-ray image of the inspection object obtained by irradiating X-rays. And an inspection unit that inspects the mounting state of the components of the object to be inspected using the captured optical image and X-ray image. According to this aspect, it is possible to capture an optical image and an X-ray image without separately providing an imaging unit for capturing an optical image and an imaging unit for capturing an X-ray image. Can be simplified, and an increase in cost can be suppressed.

被検査体の検査装置は、被検査体を移動させながら、または被検査体の移動と停止を繰り返しながら複数回にわたって撮像された画像を利用して被検査体を検査するものであって、撮像領域が異なる複数の撮像部が、被検査体の移動方向と略垂直に並設されてもよい。この態様によれば、撮像領域が異なる複数の撮像部によって、被検査体の異なる領域の光学画像およびX線画像を得ることができるため、光学画像およびX線画像の解像度を高めることが可能となる。   An inspection apparatus for an object to be inspected inspects an object to be inspected by using an image captured multiple times while moving the object to be inspected or repeatedly moving and stopping the object to be inspected. A plurality of imaging units having different areas may be arranged substantially perpendicular to the moving direction of the object to be inspected. According to this aspect, an optical image and an X-ray image of different areas of the object to be inspected can be obtained by a plurality of imaging units having different imaging areas, so that the resolution of the optical image and the X-ray image can be increased. Become.

撮像部は、鏡により反射された被検査体のX線画像を撮像してもよい。この態様によれば、X線が撮像部に直接入射することを抑制することができ、撮像部がX線に被爆することを抑制することができる。なお、この鏡は、固定された前記撮像部に入射させるように、反射光の光路を変更してもよい。   The imaging unit may capture an X-ray image of the inspection object reflected by the mirror. According to this aspect, the X-ray can be prevented from directly entering the imaging unit, and the imaging unit can be prevented from being exposed to the X-ray. In addition, you may change the optical path of reflected light so that this mirror may inject into the said imaging part fixed.

撮像部は、被検査体の撮像対象領域の光学画像およびX線画像の一方の撮像を完了した後、他方を撮像してもよい。この態様によれば、光学画像を撮像する撮像工程とX線画像を撮像する撮像工程を分けることができる。このため、たとえば可視光の照射タイミングの制御やX線の照射タイミングの制御など、光学画像を撮像するための制御やX線画像を撮像するための制御も分けて実施することができ、各画像を撮像するための制御を容易化することができる。   The imaging unit may capture the other of the optical image and the X-ray image of the imaging target area of the object to be inspected and then image the other. According to this aspect, the imaging process for imaging an optical image and the imaging process for imaging an X-ray image can be separated. Therefore, for example, control for capturing an optical image and control for capturing an X-ray image, such as control of irradiation timing of visible light and control of irradiation timing of X-rays, can be performed separately. The control for imaging can be facilitated.

撮像部は、被検査体の撮像対象領域の光学画像およびX線画像を、複数回にわたって交互に撮像してもよい。この態様によれば、たとえば被検査体を移動させながら被検査体の画像を撮像する場合、一方向への被検査体の移動によって光学画像を撮像する工程とX線画像を撮像する工程とを完了することができる。このため、光学画像およびX線画像の双方を利用して被検査体を検査する場合に、光学画像およびX線画像の双方を撮像することによって撮像時間が長くなることを抑制することができる。   The imaging unit may alternately capture the optical image and the X-ray image of the imaging target region of the object to be inspected a plurality of times. According to this aspect, for example, when an image of the object to be inspected is moved while moving the object to be inspected, the step of capturing an optical image by moving the object to be inspected in one direction and the step of capturing an X-ray image are performed. Can be completed. For this reason, when inspecting a to-be-inspected object using both an optical image and an X-ray image, it can suppress that imaging time becomes long by imaging both an optical image and an X-ray image.

本態様に係る被検査体の検査装置は、光学画像を撮像するために撮像部に入射する光の波長と、X線画像を撮像するために撮像部に入射する光の波長とを異ならせる波長制御部をさらに備えてもよい。撮像部は、波長が異なるものとされた光を同時に撮像することにより、光学画像とX線画像とを同時に撮像してもよい。この態様によれば、光学画像とX線画像とを同時に撮像することができる。このため、光学画像およびX線画像の双方を利用して被検査体を検査する場合に、光学画像およびX線画像の双方を撮像することによって撮像時間が長くなることを抑制することができる。   The inspection apparatus for an object to be inspected according to this aspect has a wavelength that makes the wavelength of light incident on the imaging unit to capture an optical image different from the wavelength of light incident on the imaging unit to capture an X-ray image. A control unit may be further provided. The imaging unit may simultaneously capture an optical image and an X-ray image by simultaneously capturing light having different wavelengths. According to this aspect, an optical image and an X-ray image can be taken simultaneously. For this reason, when inspecting a to-be-inspected object using both an optical image and an X-ray image, it can suppress that imaging time becomes long by imaging both an optical image and an X-ray image.

本態様に係る被検査体の検査装置は、光学画像およびX線画像を同一の光路にて前記撮像部に入力するハーフミラーをさらに備えてもよい。この態様によれば、被検査体を撮像するために撮像部を移動させる必要性を低減でき、撮像部を移動させるための部材などのためのコストの増大を抑制することができる。   The inspection apparatus for an object to be inspected according to this aspect may further include a half mirror that inputs an optical image and an X-ray image to the imaging unit through the same optical path. According to this aspect, it is possible to reduce the necessity of moving the imaging unit in order to image the object to be inspected, and it is possible to suppress an increase in cost for a member for moving the imaging unit.

本発明によれば、光学画像またはX線画像を利用する被検査体の検査装置の構成を簡略化し、コストの増加を抑制することができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the structure of the inspection apparatus of the to-be-inspected object using an optical image or an X-ray image can be simplified, and the increase in cost can be suppressed.

以下、図面を参照して本発明の実施の形態(以下、「実施形態」という。)について説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention (hereinafter referred to as “embodiments”) will be described with reference to the drawings.

(第1の実施形態)
図1は、第1の実施形態に係る基板検査装置200Aの構成を示す。基板検査装置200Aは、検査テーブル10、基板搬送テーブル50、撮像システム80A、および後述する画像処理部、スレーブPC、マスターPCなどを有している。基板搬送テーブル50は、支持プレート52および2本の搬送レール54などを有し、搬送レール54は支持プレート52により支持される。
(First embodiment)
FIG. 1 shows a configuration of a substrate inspection apparatus 200A according to the first embodiment. The substrate inspection apparatus 200A includes an inspection table 10, a substrate transfer table 50, an imaging system 80A, an image processing unit, a slave PC, a master PC, and the like which will be described later. The substrate transport table 50 includes a support plate 52 and two transport rails 54, and the transport rail 54 is supported by the support plate 52.

搬送レール54はモータを駆動することにより基板2を搬送する搬送ベルトを有し、搬送ベルトに載置された基板2を検査テーブル10の略中央まで搬送する。搬送レール54の上方であって検査テーブルの略中央には、基板2の搬送を検知する図示しない光センサなどの非接触センサを使った搬送センサが設けられている。この搬送センサが基板2の端面や基板2に設けられた検知孔を検知すると、基板検査装置200Aは、基板2が検査テーブル10の略中央に搬送されたと判断し、搬送レール54による基板2の搬送を停止させる。   The transport rail 54 has a transport belt that transports the substrate 2 by driving a motor, and transports the substrate 2 placed on the transport belt to the approximate center of the inspection table 10. A transport sensor using a non-contact sensor such as an optical sensor (not shown) that detects the transport of the substrate 2 is provided above the transport rail 54 and substantially in the center of the inspection table. When this transport sensor detects the end face of the substrate 2 or a detection hole provided in the substrate 2, the substrate inspection apparatus 200A determines that the substrate 2 has been transported to the approximate center of the inspection table 10, and the substrate 2 is moved by the transport rail 54. Stop conveyance.

基板検査装置200Aの下方には、搬送レール54と垂直かつ水平方向に延在する支持シャフト(図示せず)が設けられている。基板搬送テーブル50には、この支持シャフトが挿通される挿通孔が設けられている。また、基板検査装置200Aの下方には、支持シャフトと平行に延在するボールネジ56が設けられており、基板搬送テーブル50には、このボールネジ56が嵌合する雌ネジ部が設けられている。基板検査装置200Aには、ボールネジ56を回転駆動するモータ(図示せず)が設けられている。検査テーブル10の略中央において搬送レール54による基板2の搬送を停止すると、基板検査装置200Aは、このモータを作動することによってボールネジ56を回転させ、基板2の停止位置から、搬送レール54が基板2を搬送してきた方向と垂直な方向に基板2を移動させる。基板検査装置200Aは、搬送レール54によって搬送された基板2をこうして撮像システム80Aに搬送する。したがって、基板搬送テーブル50は、被検査体を搬送する被検査体搬送部として機能する。   Below the board inspection apparatus 200A, a support shaft (not shown) extending vertically and horizontally with the transport rail 54 is provided. The substrate transport table 50 is provided with an insertion hole through which the support shaft is inserted. A ball screw 56 extending in parallel with the support shaft is provided below the substrate inspection apparatus 200A, and a female screw portion into which the ball screw 56 is fitted is provided on the substrate carrying table 50. The board inspection apparatus 200A is provided with a motor (not shown) that rotationally drives the ball screw 56. When the conveyance of the substrate 2 by the conveyance rail 54 is stopped at the approximate center of the inspection table 10, the substrate inspection apparatus 200 </ b> A rotates the ball screw 56 by operating this motor, and the conveyance rail 54 moves from the stop position of the substrate 2 to the substrate. The substrate 2 is moved in a direction perpendicular to the direction in which the substrate 2 has been conveyed. The substrate inspection apparatus 200A thus transports the substrate 2 transported by the transport rail 54 to the imaging system 80A. Therefore, the substrate transfer table 50 functions as an inspection object transfer unit that transfers the inspection object.

所定の位置まで基板2が移動すると、基板検査装置200Aは、モータを逆回転するように作動させてボールネジ56を回転させ、搬送レール54により基板2を搬送した位置まで基板搬送テーブル50を移動させる。基板検査装置200Aは、このように移動された基板2を搬送レール54によって次の工程へと搬送する。次に検査を行う基板がある場合は、再び搬送レール54によって次の検査対象となる基板2を検査テーブル10の略中央まで搬送し、上述の動作を繰り返す。   When the substrate 2 moves to a predetermined position, the substrate inspection apparatus 200A operates the motor to rotate in the reverse direction, rotates the ball screw 56, and moves the substrate transfer table 50 to the position where the substrate 2 is transferred by the transfer rail 54. . The substrate inspection apparatus 200 </ b> A transports the substrate 2 thus moved to the next process by the transport rail 54. If there is a substrate to be inspected next, the substrate 2 to be inspected next is conveyed again to the approximate center of the inspection table 10 by the transport rail 54, and the above operation is repeated.

なお、本図手前側の搬送レール54には、搬送レール54上の載置された基板2を上方から押圧して基板2の形状を矯正するクランプが設けられている。検査テーブル10の略中央に搬送された基板2は、このクランプによりゆがみが矯正された状態で撮像システム80Aへ搬送される。   The transport rail 54 on the front side of the figure is provided with a clamp that presses the substrate 2 placed on the transport rail 54 from above to correct the shape of the substrate 2. The substrate 2 transported to substantially the center of the inspection table 10 is transported to the imaging system 80A in a state in which the distortion is corrected by the clamp.

図2は、第1の実施形態に係る撮像システム80Aの構成を示す図である。撮像システム80Aは、第1撮像システム80aと第2撮像システム80bを有する。第1撮像システム80aは、第1照明ユニット100a、第1撮像ユニット30a、第2撮像ユニット30b、およびマイクロフォーカスX線源120などを含む。第1撮像システム80aを構成する要素のうち、マイクロフォーカスX線源120以外は、基板搬送テーブル50によって搬送される検査対象の基板2よりも一方(本実施形態では上部。以下「上部」という)に配置され、マイクロフォーカスX線源120は、第2照明ユニット100b周辺に配置される。第2撮像システム80bは、第2照明ユニット100b、第3撮像ユニット30c、第4撮像ユニット30dなどを含む。第2撮像システム80bを構成する要素は、基板搬送テーブル50によって搬送される検査対象の基板2よりも他方(本実施形態では下部。以下「下部」という)に配置される。(以下、必要に応じて、第1照明ユニット100a、第2照明ユニット100bを総じて「照明ユニット100」といい、第1撮像ユニット30a、第2撮像ユニット30b、第3撮像ユニット30c、第4撮像ユニット30dを総じて「撮像ユニット30」という。)。   FIG. 2 is a diagram illustrating a configuration of the imaging system 80A according to the first embodiment. The imaging system 80A includes a first imaging system 80a and a second imaging system 80b. The first imaging system 80a includes a first illumination unit 100a, a first imaging unit 30a, a second imaging unit 30b, a microfocus X-ray source 120, and the like. Of the elements constituting the first imaging system 80a, except for the microfocus X-ray source 120, one of the elements to be inspected is transported by the substrate transport table 50 (upper in this embodiment; hereinafter referred to as “upper”). The microfocus X-ray source 120 is disposed around the second illumination unit 100b. The second imaging system 80b includes a second illumination unit 100b, a third imaging unit 30c, a fourth imaging unit 30d, and the like. The elements constituting the second imaging system 80b are arranged on the other side (lower part in the present embodiment, hereinafter referred to as “lower part”) than the board 2 to be inspected carried by the board carrying table 50. (Hereinafter, the first illumination unit 100a and the second illumination unit 100b are collectively referred to as “illumination unit 100” as necessary, and the first imaging unit 30a, the second imaging unit 30b, the third imaging unit 30c, and the fourth imaging unit. The unit 30d is generally referred to as an “imaging unit 30”).

第1撮像ユニット30aは、第1ラインセンサ34aおよび第1光学レンズ32aによって構成される。同様に、第2撮像ユニット30bは第2ラインセンサ34bおよび第2光学レンズ32bによって構成される。第3撮像ユニット30cは第3ラインセンサ34cおよび第3光学レンズ32cによって構成される。第4撮像ユニット30dは第4ラインセンサ34dおよび第4光学レンズ32dによって構成される(以下、必要に応じて第1ラインセンサ34a及至第4ラインセンサ34dを総じて「ラインセンサ34」といい、第1光学レンズ32a及至第4光学レンズ32dを総じて「光学レンズ32」という。)。ラインセンサ34の各々は、テレセントリックレンズ42を通過して入射された光を撮像し、画像データに変換する。   The first imaging unit 30a includes a first line sensor 34a and a first optical lens 32a. Similarly, the second imaging unit 30b includes a second line sensor 34b and a second optical lens 32b. The third imaging unit 30c includes a third line sensor 34c and a third optical lens 32c. The fourth imaging unit 30d includes a fourth line sensor 34d and a fourth optical lens 32d (hereinafter, the first line sensor 34a and the fourth line sensor 34d are collectively referred to as a “line sensor 34” as necessary. The first optical lens 32a and the fourth optical lens 32d are collectively referred to as “optical lens 32”). Each of the line sensors 34 images light incident through the telecentric lens 42 and converts it into image data.

照明ユニット100は、搬送された基板2の被撮像面に光を照射する。基板2によって反射された光は照明ユニット100内に配置された後述するハーフミラーによって反射され撮像ユニット30に入射される。撮像ユニット30に入射された光は光学レンズ32を通過してラインセンサ34に入射される。ラインセンサ34はこのように入射された光を走査し、可視光による画像としての光学画像を撮像し、画像データに変換する。したがってラインセンサ34は光学画像を撮像する光学画像撮像部として機能する。   The illumination unit 100 irradiates the imaged surface of the transported substrate 2 with light. The light reflected by the substrate 2 is reflected by a later-described half mirror disposed in the illumination unit 100 and is incident on the imaging unit 30. The light incident on the imaging unit 30 passes through the optical lens 32 and enters the line sensor 34. The line sensor 34 scans the incident light in this way, picks up an optical image as an image by visible light, and converts it into image data. Therefore, the line sensor 34 functions as an optical image capturing unit that captures an optical image.

ここで、「走査する」は、走査ヘッドがラインセンサ34の撮像素子の並び方向に対して垂直の方向に駆動する動作を示す。また、「撮像する」は、ラインセンサ34が一走査単位を走査することを示す。一走査単位とは、例えば基板の一方の端部から他方の端部までの1回の一方向の走査や1回の往復の走査など、ラインセンサ34の走査の単位をいう。以下、本明細書において基板2の搬送方向を「搬送方向」といい、基板2の搬送方向と垂直な、ラインセンサ34の走査方向を「走査方向」という。   Here, “scanning” indicates an operation in which the scanning head is driven in a direction perpendicular to the arrangement direction of the image sensors of the line sensor 34. “Imaging” indicates that the line sensor 34 scans one scanning unit. One scanning unit refers to a unit of scanning of the line sensor 34, for example, one-time scanning from one end of the substrate to the other end and one reciprocating scanning. Hereinafter, in the present specification, the transport direction of the substrate 2 is referred to as “transport direction”, and the scanning direction of the line sensor 34 perpendicular to the transport direction of the substrate 2 is referred to as “scan direction”.

第1撮像ユニット30aおよび第2撮像ユニット30bは、上部フレーム36a上に固定される。上部フレーム36aは、上部支持フレーム38に搬送方向に摺動可能に支持される。上部支持フレーム38にはモータ40が固定されており、モータ40のモータ軸には雄ネジ部が設けられている。上部フレーム36aにはモータ40の雄ネジ部と嵌合する雌ネジ部が設けられており、モータ40が駆動することにより、上部フレーム36aが上部支持フレーム38に対して移動する。基板検査装置200Aは、あらかじめ入力されている基板厚さデータに基づいて、モータ40に制御信号を与えて駆動させる。これによって上部フレーム36aを第1照明ユニット100aに対して摺動し、基板2の上面の撮像を行うために焦点を合わせる。第2撮像システム80bを構成する第3撮像ユニット30cおよび第4撮像ユニット30dは、下部フレーム36b上に固定される。   The first imaging unit 30a and the second imaging unit 30b are fixed on the upper frame 36a. The upper frame 36a is supported by the upper support frame 38 so as to be slidable in the transport direction. A motor 40 is fixed to the upper support frame 38, and a male screw portion is provided on the motor shaft of the motor 40. The upper frame 36 a is provided with a female screw portion that fits with the male screw portion of the motor 40. When the motor 40 is driven, the upper frame 36 a moves with respect to the upper support frame 38. The substrate inspection apparatus 200A gives a control signal to the motor 40 to drive it based on substrate thickness data inputted in advance. As a result, the upper frame 36a is slid with respect to the first illumination unit 100a, and the focal point is set for imaging the upper surface of the substrate 2. The third imaging unit 30c and the fourth imaging unit 30d constituting the second imaging system 80b are fixed on the lower frame 36b.

第1撮像ユニット30a、第2撮像ユニット30b、および2つのテレセントリックレンズ42は、被検査体である基板2の一面を分担して撮像すべく、撮像領域が異なるよう走査方向に並設される。また、第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bの撮像範囲に重複撮像範囲を持たせるように、第1光学レンズ32a、第1ラインセンサ34a、第2光学レンズ32b、第2ラインセンサ34b、およびテレセントリックレンズ42のそれぞれの配置などが決定される。   The first imaging unit 30a, the second imaging unit 30b, and the two telecentric lenses 42 are juxtaposed in the scanning direction so as to have different imaging areas so as to share and image one surface of the substrate 2 that is an object to be inspected. In addition, the first optical lens 32a, the first line sensor 34a, the second optical lens 32b, the second line sensor 34b, so that the imaging ranges of the first line sensor 34a and the second line sensor 34b have overlapping imaging ranges. The arrangement of the telecentric lens 42 is determined.

第2撮像システム80bにおいても同様に、第3撮像ユニット30c、第4撮像ユニット30d、および2つのテレセントリックレンズ42は、基板2の他の一面を分担して撮像すべく、撮像領域が異なるように走査方向に並設される。また、第3ラインセンサ34cおよび第4ラインセンサ34dの撮像範囲に重複撮像範囲を持つように、第3光学レンズ32c、第3ラインセンサ34c、第4光学レンズ32d、第4ラインセンサ34d、およびテレセントリックレンズ42のそれぞれの配置などが決定される。このように走査方向に複数のラインセンサ34が並設されるため、複数のラインセンサ34によって基板2の異なる領域の光学画像およびX線画像を得ることができ、撮像する光学画像およびX線画像の解像度を高めることが可能となる。なお、本実施形態では、搬送される基板2より上部に2つのラインセンサ34が設けられ、下部に2つのラインセンサ34が設けられるが、基板2の上部および下部に設けられるラインセンサ34は3つ以上であってもよいことは勿論である。   Similarly, in the second imaging system 80b, the third imaging unit 30c, the fourth imaging unit 30d, and the two telecentric lenses 42 have different imaging areas so as to share the other surface of the substrate 2 for imaging. They are arranged side by side in the scanning direction. In addition, the third optical lens 32c, the third line sensor 34c, the fourth optical lens 32d, the fourth line sensor 34d, and the third line sensor 34c and the fourth line sensor 34d have an overlapping imaging range. The arrangement of each telecentric lens 42 is determined. Since the plurality of line sensors 34 are arranged in parallel in the scanning direction in this way, an optical image and an X-ray image of different regions of the substrate 2 can be obtained by the plurality of line sensors 34, and an optical image and an X-ray image to be captured are captured. It is possible to increase the resolution. In this embodiment, two line sensors 34 are provided above the substrate 2 to be transported, and two line sensors 34 are provided below the substrate 2. However, the line sensors 34 provided above and below the substrate 2 are three. Of course, there may be more than one.

第1ラインセンサ34a、第2ラインセンサ34b、および第1照明ユニット100aと、第3ラインセンサ34c、第4ラインセンサ34d、および第2照明ユニット100bとは、1回の検査工程において基板2の両面を撮像することができるよう、基板2を挟んで対向するよう配置される。   The first line sensor 34a, the second line sensor 34b, and the first illumination unit 100a, and the third line sensor 34c, the fourth line sensor 34d, and the second illumination unit 100b are formed on the substrate 2 in one inspection process. It arrange | positions so that it may oppose on both sides of the board | substrate 2 so that both surfaces can be imaged.

図3は、第1の実施形態に係る照明ユニット100の構成を示す図である。照明ユニット100は、第1照明ユニット100aおよび第2照明ユニット100bから構成される。第1照明ユニット100aおよび第2照明ユニット100bは、第1光源102、第2光源104、第3光源106、アクリルシート112などを有する。   FIG. 3 is a diagram illustrating a configuration of the illumination unit 100 according to the first embodiment. The lighting unit 100 includes a first lighting unit 100a and a second lighting unit 100b. The first lighting unit 100a and the second lighting unit 100b include a first light source 102, a second light source 104, a third light source 106, an acrylic sheet 112, and the like.

第1光源102は、ラインセンサ34の走査方向に被検査体である基板2の長さ以上に列ぶLED(発光ダイオード)群により構成される。第1光源102は、基板2に落射する光を照射することができるように、ラインセンサ34が走査する基板2上の走査ラインの真上に配置され、本実施形態においては、第1光源102は、基板2の被撮像面と平行に配設された基板に設けられたLED群により構成される。なお、効率的に検査中の走査ラインへ落射光を投ずるために、LED群を取り付ける基板を中央からふたつのサブ基板に分け、それぞれのサブ基板に走査方向に列んだLED群を構成してもよい。第1光源102により落射光を基板2に投じ、この反射光をラインセンサ34で検出することにより、基板2内の部品の位置ずれ、欠品、ハンダのヌレの判定などを行うことができる。   The first light source 102 is composed of a group of LEDs (light emitting diodes) arranged in the scanning direction of the line sensor 34 so as to be longer than the length of the substrate 2 that is an inspection object. The first light source 102 is arranged directly above the scanning line on the substrate 2 scanned by the line sensor 34 so that the light incident on the substrate 2 can be irradiated. In the present embodiment, the first light source 102 is arranged. Is composed of a group of LEDs provided on a substrate disposed in parallel with the surface to be imaged of the substrate 2. In order to efficiently project incident light onto the scanning line being inspected, the board to which the LED group is attached is divided into two sub-boards from the center, and the LED group is arranged on each sub-board in the scanning direction. Also good. By projecting incident light onto the substrate 2 by the first light source 102 and detecting this reflected light with the line sensor 34, it is possible to determine the position displacement of the components in the substrate 2, lack of parts, solder slippage, and the like.

第2光源104は、基板2の被撮像面と平行に配設された2つの基板に設けられた、ラインセンサ34の走査方向に被検査体である基板2の長さ以上に列ぶLED群により構成される。LEDが取り付けられた2つの基板は、第1光源が走査ラインに落射光を投ずる光路に干渉しないように、基板の搬送方向に走査ラインを挟んで両側に配置される。   The second light source 104 is a group of LEDs arranged on two substrates arranged in parallel with the imaging surface of the substrate 2 and arranged in the scanning direction of the line sensor 34 so as to be longer than the length of the substrate 2 that is an object to be inspected. Consists of. The two substrates to which the LEDs are attached are arranged on both sides of the scanning line in the substrate transport direction so that the first light source does not interfere with the optical path that projects incident light on the scanning line.

第3光源106も、第2光源104と同様に、基板2の被撮像面と平行に配設された2つの基板に設けられた、ラインセンサ34の走査方向に被検査体である基板2の長さ以上に列ぶLED群により構成される。LEDが取り付けられた2つの基板は、第1光源および第2光源が走査ラインに光を照射する光路に干渉しないように、基板の搬送方向に走査ラインを挟んで両側に配置される。第2光源104により側射光を基板2に投じ、この反射光をラインセンサ34で検出することにより、基板2内のハンダブリッジの有無、実装部品の間違い、極性の反転などを判定することができる。   Similarly to the second light source 104, the third light source 106 is provided on two substrates arranged in parallel with the imaging surface of the substrate 2, and the third light source 106 is connected to the substrate 2 that is an object to be inspected in the scanning direction of the line sensor 34. It is composed of a group of LEDs that are longer than the length. The two substrates to which the LEDs are attached are arranged on both sides of the scanning line in the substrate transport direction so that the first light source and the second light source do not interfere with the optical path that irradiates the scanning line with light. By projecting side light onto the substrate 2 by the second light source 104 and detecting this reflected light with the line sensor 34, it is possible to determine the presence or absence of a solder bridge in the substrate 2, a wrong mounting component, polarity inversion, and the like. .

これらの光源は、第1光源102は緑色の光を照射し、第2光源104は白色の光を照射し、第3光源106は青色の光を照射する。各々の光源は、異なる入射角度で被検査体である基板2を照射する。このため、照明ユニット100は被検査体である基板2に複数の入射角度の光を照射する複合光源として機能する。第1光源102を緑色とし、第3光源106を青色としたのは、近年のLED技術の進歩により、緑色LEDや青色LEDは、白色LEDよりも明るく、SN比のよいクリアな画像が得られるためである。プリント基板は緑色の場合が多いことから、落射光により平明を明るく照射するため、第1光源を緑色としている。また、ICやチップのボディにレーザー印字された文字は、低い角度から青い光を当てることにより認識しやすくなるため、第3光源106を青色としている。   In these light sources, the first light source 102 emits green light, the second light source 104 emits white light, and the third light source 106 emits blue light. Each light source irradiates the board | substrate 2 which is a to-be-inspected object at a different incident angle. For this reason, the illumination unit 100 functions as a composite light source that irradiates light having a plurality of incident angles onto the substrate 2 that is an object to be inspected. The reason why the first light source 102 is set to green and the third light source 106 is set to blue is that with the recent progress in LED technology, green LEDs and blue LEDs are brighter than white LEDs and a clear image with a good SN ratio can be obtained. Because. Since the printed circuit board is often green, the first light source is green in order to brightly illuminate the plain with incident light. In addition, since the characters laser-printed on the body of the IC or chip are easily recognized by applying blue light from a low angle, the third light source 106 is blue.

第1光源102の鉛直下方にハーフミラー110が設けられる。第1光源102からの落射光は、ハーフミラー110を通過して基板2の検査面へ入射角がほぼゼロで投じられる。本実施形態においては、第1光源102に幅をもたせており、基板2が反ったときでも入射角がゼロになるような落射光成分が存在するように配慮されている。走査ラインからの反射光は、ハーフミラー110で反射し、テレセントリックレンズ42を通過してラインセンサ34へ入射する。   A half mirror 110 is provided vertically below the first light source 102. Incident light from the first light source 102 passes through the half mirror 110 and is incident on the inspection surface of the substrate 2 with an incident angle of substantially zero. In the present embodiment, the first light source 102 has a width, and it is considered that there is an incident light component such that the incident angle becomes zero even when the substrate 2 is warped. The reflected light from the scanning line is reflected by the half mirror 110, passes through the telecentric lens 42, and enters the line sensor 34.

第2光源104および第3光源106と走査ラインの間には、アクリルシート112が設けられる。このアクリルシート112は、第2光源104および第3光源106からの光を拡散する。第2光源104および第3光源106は点光源であるLEDの集合体であるため、拡散作用がなければスポット的な光が画像データに写り込んで検査精度に影響を与える可能性があるからである。   An acrylic sheet 112 is provided between the second light source 104 and the third light source 106 and the scanning line. The acrylic sheet 112 diffuses light from the second light source 104 and the third light source 106. Since the second light source 104 and the third light source 106 are a collection of LEDs that are point light sources, if there is no diffusing action, spot-like light may be reflected in the image data and affect the inspection accuracy. is there.

本実施形態では、第2光源104による白色の光、第1光源102による緑色の光、第3光源106による青色の光の順に、各々の光源が独立に点灯する。各々の光源は、一走査単位につき3回点灯する。ラインセンサ34は1回の点灯ごとに基板2を走査する。   In the present embodiment, each light source is lit independently in the order of white light from the second light source 104, green light from the first light source 102, and blue light from the third light source 106. Each light source is turned on three times per scanning unit. The line sensor 34 scans the substrate 2 every time it is turned on.

基板2は、基板2の端部から対向する照明ユニット100に光が漏れる場合がある。また、基板2は孔が設けられていたりハンダで埋めきらなかった孔が残っている場合などがあるため、この孔から対向する照明ユニット100に光が漏れる場合がある。このように対向する照明ユニット100から漏れた光がラインセンサ34により直接走査されると、ブルーミングという現象が生じ基板2の撮像に影響を与えるおそれが生じる。このため、本実施形態において、第1照明ユニット100aと第2照明ユニット100bは、基板の搬送方向にオフセットして配設される。   The substrate 2 may leak light from the end of the substrate 2 to the opposing illumination unit 100. In addition, since the substrate 2 may have a hole or a hole that has not been filled with solder, the light may leak from the hole to the opposing lighting unit 100. When the light leaking from the facing illumination unit 100 is directly scanned by the line sensor 34 in this way, a phenomenon called blooming occurs, which may affect the imaging of the substrate 2. For this reason, in this embodiment, the 1st lighting unit 100a and the 2nd lighting unit 100b are offset and arrange | positioned in the conveyance direction of a board | substrate.

マイクロフォーカスX線源120は、第1照明ユニット100aおよび搬送される基板2の鉛直下方であって、第2照明ユニット100bがオフセットして配設されることによって基板2に鉛直下方からX線を照射できる位置に配設される。さらに詳細には、マイクロフォーカスX線源120は、第1照明ユニット100aの第2光源104と第3光源106との間にX線を鉛直下方から照射できる位置に配設される。   The microfocus X-ray source 120 is vertically below the first illumination unit 100a and the substrate 2 to be transported, and the second illumination unit 100b is disposed offset so that the substrate 2 emits X-rays from below vertically. It arrange | positions in the position which can be irradiated. More specifically, the microfocus X-ray source 120 is disposed between the second light source 104 and the third light source 106 of the first illumination unit 100a at a position where X-rays can be irradiated from vertically below.

第2光源104の上方であって、第2光源104と第3光源106との間を通過したX線の軌跡上に、シンチレータ116が設けられている。シンチレータ116上に表示された画像はミラー114によって反射され、ハーフミラー110、テレセントリックレンズ42などを通過してラインセンサ34に入射される。   A scintillator 116 is provided above the second light source 104 and on the locus of X-rays that have passed between the second light source 104 and the third light source 106. The image displayed on the scintillator 116 is reflected by the mirror 114, passes through the half mirror 110, the telecentric lens 42, and the like and enters the line sensor 34.

図4は、第1の実施形態において、X線およびX線像を示す光の経路を示す図である。マイクロフォーカスX線源120は、搬送された基板2にX線を照射する。したがってマイクロフォーカスX線源120は基板2にX線を照射するX線照射装置として機能する。基板2に照射されたX線は基板2を通過する。この際、ハンダのように金属を含有する部分はX線を吸収するため、基板2を通過するX線が減衰する。こうして一部が減衰したX線像がシンチレータ116に照射される。シンチレータ116はアルミニウム材料によって形成され、表面にX線に反応してX線像を表示する蛍光塗料が塗布されている。シンチレータ116にX線が照射されると、シンチレータ116はX線減衰量に応じて可視光によって表面上にX線像を表示する。したがって、シンチレータ116は、被検査体を透過したX線を可視光によるX線画像に変換する光学変換部として機能する。   FIG. 4 is a diagram illustrating light paths indicating X-rays and X-ray images in the first embodiment. The microfocus X-ray source 120 irradiates the transported substrate 2 with X-rays. Therefore, the microfocus X-ray source 120 functions as an X-ray irradiation apparatus that irradiates the substrate 2 with X-rays. The X-rays irradiated on the substrate 2 pass through the substrate 2. At this time, a portion containing metal such as solder absorbs X-rays, so that X-rays passing through the substrate 2 are attenuated. The scintillator 116 is irradiated with the X-ray image partially attenuated in this way. The scintillator 116 is formed of an aluminum material, and a fluorescent paint that displays an X-ray image in response to X-rays is applied to the surface. When the scintillator 116 is irradiated with X-rays, the scintillator 116 displays an X-ray image on the surface with visible light according to the X-ray attenuation. Therefore, the scintillator 116 functions as an optical conversion unit that converts X-rays that have passed through the object to be inspected into an X-ray image by visible light.

シンチレータ116に表示されたX線画像は、第1照明ユニット100a近傍に配置されたミラー114によって反射され、また、テレセントリックレンズ42および光学レンズ32を通過してラインセンサ34に入射する。ラインセンサ34はこのように入射された光を走査し、シンチレータ116に表示されたX線画像を撮像する。したがって、第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bは、可視光撮像部としてだけでなく、基板2のX線透過像としてのX線画像を撮像するX線画像撮像部としても機能する。   The X-ray image displayed on the scintillator 116 is reflected by the mirror 114 disposed in the vicinity of the first illumination unit 100 a, passes through the telecentric lens 42 and the optical lens 32, and enters the line sensor 34. The line sensor 34 scans the incident light in this way and captures an X-ray image displayed on the scintillator 116. Therefore, the first line sensor 34 a and the second line sensor 34 b function not only as a visible light imaging unit but also as an X-ray image imaging unit that captures an X-ray image as an X-ray transmission image of the substrate 2.

このように基板2の光学画像およびX線画像は同一の撮像部によって撮像される。これによって、光学画像を撮像するための撮像部とX線画像を撮像するための撮像部とを別々に設けることなく光学画像とX線画像を撮像することができるため、基板検査装置200Aの構成を簡略化することができ、コストの増大を抑制することができる。また、第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bはミラー114により反射された基板2のX線画像を撮像するため、X線が第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bに直接入射しX線に被爆することが抑制される。   As described above, the optical image and the X-ray image of the substrate 2 are captured by the same imaging unit. As a result, an optical image and an X-ray image can be captured without separately providing an imaging unit for capturing an optical image and an imaging unit for capturing an X-ray image. Can be simplified, and an increase in cost can be suppressed. Further, since the first line sensor 34a and the second line sensor 34b capture an X-ray image of the substrate 2 reflected by the mirror 114, the X-rays are directly incident on the first line sensor 34a and the second line sensor 34b. Exposure to the wire is suppressed.

図5は、第1の実施形態にかかる基板検査装置200Aの概念構成図である。本実施形態では、基板検査装置200Aは、1つのマスターPC160、第1スレーブPC140a及至第4スレーブPC140d(以下、必要に応じて総じて「スレーブPC140」という)から成る4つのスレーブPC140、および4つの画像処理部130を有する。マスターPC160と各々のスレーブPC140は、スイッチングハブ150によって接続されている。   FIG. 5 is a conceptual configuration diagram of a substrate inspection apparatus 200A according to the first embodiment. In the present embodiment, the board inspection apparatus 200A includes one master PC 160, four slave PCs 140 including a first slave PC 140a and a fourth slave PC 140d (hereinafter collectively referred to as “slave PC 140” as necessary), and four images. A processing unit 130 is included. The master PC 160 and each slave PC 140 are connected by a switching hub 150.

マスターPC160は、照明制御部161、走査制御部162、搬送制御部163、X線制御部164、表示制御部165、送受信部166、およびディスプレイ167を有する。照明制御部161は、第1照明ユニット100aおよび第2照明ユニット100bに接続されている。照明制御部161は、一走査単位のラインセンサ34による走査に伴って光を照射するよう、照明ユニット100を制御する。   The master PC 160 includes an illumination control unit 161, a scan control unit 162, a transport control unit 163, an X-ray control unit 164, a display control unit 165, a transmission / reception unit 166, and a display 167. The illumination control unit 161 is connected to the first illumination unit 100a and the second illumination unit 100b. The illumination control unit 161 controls the illumination unit 100 so as to irradiate light along with scanning by the line sensor 34 in one scanning unit.

照明制御部161は、基板2への光の照射を同期して行う際、同時に同じ色の光を基板2に照射するよう第1照明ユニット100aおよび第2照明ユニット100bを制御する。本実施形態では、照明制御部161は、第2光源104による白色の光、第1光源102による緑色の光、第3光源106による青色の光の順に同時に同じ色で同じ入射角度の光を基板2に照射するよう第1照明ユニット100aおよび第2照明ユニット100bを制御する。これによって、例えば第1照明ユニット100aによる照射光が、周辺の部品による写り込みなどにより第2照明ユニット100bが光を照射する基板2の照射面に照射されてしまった場合にも、光の干渉による基板2の外観検査への影響を最小限に抑制する。   The illumination control unit 161 controls the first illumination unit 100a and the second illumination unit 100b so as to simultaneously irradiate the substrate 2 with light of the same color when performing the light irradiation on the substrate 2 synchronously. In the present embodiment, the illumination control unit 161 is configured to simultaneously apply light of the same color and the same incident angle in the order of white light from the second light source 104, green light from the first light source 102, and blue light from the third light source 106. The first illumination unit 100a and the second illumination unit 100b are controlled so as to irradiate 2. Thereby, for example, even when the irradiation light from the first illumination unit 100a is irradiated onto the irradiation surface of the substrate 2 on which the second illumination unit 100b irradiates light due to reflection by peripheral components, the light interference The influence on the appearance inspection of the substrate 2 due to is suppressed to a minimum.

走査制御部162は、第1光源102、第2光源104、および第3光源106のいずれかが基板2に光を照射するタイミングで、一走査単位で同期して基板2を走査するよう、ラインセンサ34の各々を制御する。また、X線制御部164は、一走査単位のラインセンサ34による走査に伴ってX線を照射するよう、マイクロフォーカスX線源120を制御する。走査制御部162は、マイクロフォーカスX線源120が基板2にX線を照射するタイミングで、一走査単位で同期して基板2を走査するよう、第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bを制御する。   The scanning control unit 162 is configured to scan the substrate 2 in synchronization with one scanning unit at a timing when any one of the first light source 102, the second light source 104, and the third light source 106 irradiates the substrate 2 with light. Each of the sensors 34 is controlled. In addition, the X-ray control unit 164 controls the microfocus X-ray source 120 so that X-rays are emitted in accordance with scanning by the line sensor 34 in one scanning unit. The scanning control unit 162 sets the first line sensor 34a and the second line sensor 34b so that the substrate 2 is scanned in synchronization with one scanning unit at the timing when the microfocus X-ray source 120 irradiates the substrate 2 with X-rays. Control.

搬送制御部163は、モータ58に接続される。モータ58は基板搬送テーブル50を移動させることにより基板2を搬送する。したがってモータ58および基板搬送テーブル50は基板搬送手段としての機能を有する。搬送制御部163は、一走査単位で基板2が走査されると、基板2を一走査単位分搬送するよう、モータ58を制御する。   The conveyance control unit 163 is connected to the motor 58. The motor 58 transports the substrate 2 by moving the substrate transport table 50. Therefore, the motor 58 and the substrate transfer table 50 have a function as a substrate transfer means. When the substrate 2 is scanned in one scanning unit, the transport control unit 163 controls the motor 58 so as to transport the substrate 2 by one scanning unit.

第1ラインセンサ34a及至第4ラインセンサ34dは、それぞれ画像処理部130を介して第1スレーブPC140a及至第4スレーブPC140dに接続される。スレーブPC140の各々は、メモリ141、解析部142、判定基準記憶部143、送受信部144を有する。画像処理部130は、受信した光学画像データおよびX線画像データに画像処理を施し、対応するスレーブPC140に送信する。スレーブPC140は受信した光学画像データおよびX線画像データをメモリ141に格納する。   The first line sensor 34a and the fourth line sensor 34d are connected to the first slave PC 140a and the fourth slave PC 140d via the image processing unit 130, respectively. Each of the slave PCs 140 includes a memory 141, an analysis unit 142, a determination criterion storage unit 143, and a transmission / reception unit 144. The image processing unit 130 performs image processing on the received optical image data and X-ray image data, and transmits the processed image data to the corresponding slave PC 140. The slave PC 140 stores the received optical image data and X-ray image data in the memory 141.

解析部142は、メモリ141に格納された光学画像データおよびX線画像データの中で他のスレーブPC140において基板2の検査に必要な共用データの解析を行う。共用データとは、例えば基板2に設けられた、基板2の位置を示す認識マークの位置データ、基板2に設けられたバーコードなどの識別マークを解析することにより得られる基板2シリアルナンバーや製造年月日などの識別データ、別々のラインセンサ34にまたがって撮像された部品の画像、その他、基板2の検査に必要なデータをいう。   The analysis unit 142 analyzes shared data necessary for the inspection of the substrate 2 in the other slave PC 140 among the optical image data and the X-ray image data stored in the memory 141. The shared data is, for example, the position data of a recognition mark indicating the position of the substrate 2 provided on the substrate 2, the substrate 2 serial number obtained by analyzing the identification mark such as a barcode provided on the substrate 2, and the manufacturing Identification data such as date, date of parts imaged across different line sensors 34, and other data necessary for inspection of the board 2.

解析部142が画像を解析することにより、基板2の検査に必要な共用データを取得すると、スレーブPC140は、メモリ141に共用データを格納し、他のスレーブPC140に共用データを送信する。解析部142は受信した共用データを利用してメモリ141に格納された光学画像データおよびX線画像データの解析を行う。また、解析部142は、判定基準記憶部143に格納された判定基準を参照して基板2の検査を行う。したがって、スレーブPC140は、撮像された光学画像およびX線画像を利用して基板2の部品の実装状態を検査する検査部として機能する。なお、部品の実装状態とは、被検査体としての基板2に実装される素子など部品の有無、位置、適正な部品か等だけではなく、ハンダの有無、ハンダの量、ブリッジの有無等を含む。   When the analysis unit 142 analyzes the image and acquires the shared data necessary for the inspection of the board 2, the slave PC 140 stores the shared data in the memory 141 and transmits the shared data to the other slave PCs 140. The analysis unit 142 analyzes the optical image data and the X-ray image data stored in the memory 141 using the received shared data. In addition, the analysis unit 142 refers to the determination criteria stored in the determination criterion storage unit 143 and inspects the substrate 2. Therefore, the slave PC 140 functions as an inspection unit that inspects the mounting state of the components of the board 2 using the captured optical image and X-ray image. The component mounting state is not only the presence / absence or position of a component such as an element mounted on the substrate 2 as an object to be inspected but also whether it is a proper component, etc. Including.

スレーブPC140の各々は、共用データおよび基板2の検査結果をマスターPC160に送信する。マスターPC160の表示制御部165は、受信した共用データおよび基板2の検査結果を利用して基板2のエラー箇所などをディスプレイ167に表示する。   Each of the slave PCs 140 transmits the shared data and the inspection result of the board 2 to the master PC 160. The display control unit 165 of the master PC 160 displays the error location of the board 2 on the display 167 using the received shared data and the inspection result of the board 2.

基板検査装置200Aは、基板2が一方向に搬送される工程において、まず、対象撮像領域としての基板2の被撮像面の全域の光学画像のラインセンサ34による撮像を完了させる。基板2の光学画像の撮像を完了すると、モータ58を逆回転させ、基板2を逆方向に搬送させる。基板検査装置200Aは、基板2が逆方向に搬送される工程において、ラインセンサ34により基板2のX線画像を撮像する。このように、基板検査装置200Aは、光学画像を撮像する撮像工程と、X線画像を撮像する撮像工程を分けている。これによって、たとえば照明ユニット100による照射タイミングの制御や、マイクロフォーカスX線源120によるX線の照射タイミングの制御など、光学画像を撮像するための制御やX線画像を撮像するための制御も分けて実施することができ、各画像を撮像するための制御を容易化することができる。なお、基板検査装置200Aは、基板2が一方向に搬送される工程において、まず対象撮像領域としての基板2の被撮像面の全域のX線画像の撮像を完了させ、基板2が逆方向に搬送される工程において、基板2の光学画像を撮像してもよいことは勿論である。また、対象撮像領域は基板2の被撮像面の全域でなくてもよく、たとえば基板2に実装された所定の部品が存在する領域のみであってもよい。   In the step of transporting the substrate 2 in one direction, the substrate inspection apparatus 200A first completes the imaging by the line sensor 34 of the optical image of the entire imaging surface of the substrate 2 as the target imaging region. When the imaging of the optical image of the substrate 2 is completed, the motor 58 is rotated in the reverse direction to transport the substrate 2 in the reverse direction. The substrate inspection apparatus 200 </ b> A captures an X-ray image of the substrate 2 by the line sensor 34 in the process of transporting the substrate 2 in the reverse direction. As described above, the substrate inspection apparatus 200A separates the imaging process for capturing an optical image and the imaging process for capturing an X-ray image. Thus, for example, control for capturing an optical image and control for capturing an X-ray image, such as control of irradiation timing by the illumination unit 100 and control of X-ray irradiation timing by the microfocus X-ray source 120, are also separated. The control for capturing each image can be facilitated. In the step of transporting the substrate 2 in one direction, the substrate inspection apparatus 200A first completes the imaging of the X-ray image of the entire surface to be imaged of the substrate 2 as the target imaging region, and the substrate 2 is reversed. Of course, an optical image of the substrate 2 may be taken in the transporting step. In addition, the target imaging area may not be the entire area of the imaging surface of the substrate 2, and may be, for example, only an area where a predetermined component mounted on the substrate 2 exists.

また基板検査装置200Aは、一つの基板2の光学画像およびX線画像を、ラインセンサ34により複数回にわたって交互に撮像してもよい。具体的には、基板検査装置200Aは、ラインセンサ34により一走査単位の光学画像を撮像すると、第1ラインセンサ34aおよび第2ラインセンサ34bにより一走査単位のX線画像を撮像する。基板検査装置200Aは、一走査単位の光学画像およびX線画像の撮像が完了すると一走査単位だけ基板2を搬送させる。以下、この動作を繰り返すことによって、基板検査装置200Aは、ラインセンサ34により基板2全体の光学画像およびX線画像を撮像する。これによって、基板2を一方向へ移動させる工程において光学画像およびX線画像の撮像を完了することができる。このため、光学画像およびX線画像の双方を利用して基板2を検査する本実施形態の基板検査装置200Aにおいて、光学画像およびX線画像の双方を撮像することによって撮像時間が長くなることを抑制することができる。   The substrate inspection apparatus 200 </ b> A may alternately capture an optical image and an X-ray image of one substrate 2 by a line sensor 34 a plurality of times. Specifically, when the line sensor 34 captures an optical image in one scanning unit, the board inspection apparatus 200A captures an X-ray image in one scanning unit using the first line sensor 34a and the second line sensor 34b. The substrate inspection apparatus 200A transports the substrate 2 by one scanning unit when the imaging of the optical image and the X-ray image of one scanning unit is completed. Thereafter, by repeating this operation, the substrate inspection apparatus 200A captures an optical image and an X-ray image of the entire substrate 2 by the line sensor 34. Thereby, the imaging of the optical image and the X-ray image can be completed in the step of moving the substrate 2 in one direction. For this reason, in the board | substrate inspection apparatus 200A of this embodiment which test | inspects the board | substrate 2 using both an optical image and an X-ray image, imaging time becomes long by imaging both an optical image and an X-ray image. Can be suppressed.

(第2の実施形態)
図6は、第2の実施形態に係る撮像システム80Bの構成を示す図である。撮像システム80Bは、第1撮像システム80cおよび第2撮像システム80dを有する。第1撮像システム80cは、第1照明ユニット100a、マイクロフォーカスX線源120、上部フレーム36a、および上部フレーム36aに設けられた複数(本実施形態では5つ)のCCDセンサ172および複数(本実施形態では5つ)のレンズ174を有する。また、第2撮像システム80dは、第2照明ユニット100b、下部フレーム36b、および下部フレーム36b上に設けられた複数(本実施形態では5つ)のCCDセンサ172および複数(本実施形態では5つ)のレンズ174を有する。なお、第1照明ユニット100a、第2照明ユニット100b、およびマイクロフォーカスX線源120については第1の実施形態と同様であることから説明を省略する。CCDセンサ172は、二次元の領域を一括して撮像し、画像データに変換する。
(Second Embodiment)
FIG. 6 is a diagram illustrating a configuration of an imaging system 80B according to the second embodiment. The imaging system 80B includes a first imaging system 80c and a second imaging system 80d. The first imaging system 80c includes a first illumination unit 100a, a microfocus X-ray source 120, an upper frame 36a, and a plurality (five in this embodiment) of CCD sensors 172 and a plurality of (this embodiment). It has five lenses 174 in the form. The second imaging system 80d includes a plurality of (five in the present embodiment) CCD sensors 172 and a plurality (five in the present embodiment) provided on the second illumination unit 100b, the lower frame 36b, and the lower frame 36b. ) Lens 174. Since the first illumination unit 100a, the second illumination unit 100b, and the microfocus X-ray source 120 are the same as those in the first embodiment, the description thereof is omitted. The CCD sensor 172 captures a two-dimensional region at a time and converts it into image data.

複数のCCDセンサ172は、上部フレーム36a上および下部フレーム36b上に、基板2の被撮像面と平行かつ基板2の搬送方向と垂直に並設される。CCDセンサ172の各々には、レンズ174が対応して設けられている。CCDセンサ172は基板2の二次元の領域を撮像する。レンズ174はCCDセンサ172により撮像される二次元の領域の大きさを調整する。本実施形態では、CCDセンサ172は、基板2の搬送方向と垂直な方向に、各々の撮像領域が重なるように配置される。このようにして、並設された複数のCCDセンサ172によって、基板2の搬送方向と垂直な方向の長さ全域、および搬送方向の所定の長さを二次元領域を同時に撮像することが可能となっている。以下、本明細書において、並設された複数のCCDセンサ172の撮像領域を一撮像単位として説明する。   The plurality of CCD sensors 172 are arranged on the upper frame 36a and the lower frame 36b in parallel with the surface to be imaged of the substrate 2 and perpendicular to the conveyance direction of the substrate 2. A lens 174 is provided for each CCD sensor 172. The CCD sensor 172 images a two-dimensional area of the substrate 2. The lens 174 adjusts the size of the two-dimensional area imaged by the CCD sensor 172. In the present embodiment, the CCD sensor 172 is disposed so that the respective imaging areas overlap in a direction perpendicular to the conveyance direction of the substrate 2. In this way, a plurality of CCD sensors 172 arranged in parallel can simultaneously image a two-dimensional region of the entire length in the direction perpendicular to the transport direction of the substrate 2 and a predetermined length in the transport direction. It has become. Hereinafter, in this specification, an imaging region of a plurality of CCD sensors 172 arranged in parallel will be described as one imaging unit.

本実施形態では、図3において、光学レンズ32およびラインセンサ34に代わってレンズ174およびCCDセンサ172が設けられる。したがって、搬送される基板2の上部および下部の双方のCCDセンサ172は、基板2の光学画像を撮像する光学画像撮像部として機能する。また、搬送される基板2の上部のCCDセンサ172は、基板2のX線透過像としてのX線画像を撮像するX線画像撮像部としても機能する。   In the present embodiment, a lens 174 and a CCD sensor 172 are provided in place of the optical lens 32 and the line sensor 34 in FIG. Accordingly, both the upper and lower CCD sensors 172 of the transported substrate 2 function as an optical image capturing unit that captures an optical image of the substrate 2. The CCD sensor 172 on the upper side of the substrate 2 to be transported also functions as an X-ray image capturing unit that captures an X-ray image as an X-ray transmission image of the substrate 2.

図7は、第2の実施形態にかかる基板検査装置200Bの概念構成図である。なお、基板搬送テーブル50などの構成は第1の実施形態と同様である。基板検査装置200Bは、撮像システム80、第1スレーブPC140e、第2スレーブPC140f、画像処理部130、およびマスターPC160などを有する。第1スレーブPC140e、第2スレーブPC140f、およびマスターPC160は、スイッチングハブ150により相互に接続されている。なお、第1の実施形態と同様の箇所は説明を省略する。   FIG. 7 is a conceptual configuration diagram of a substrate inspection apparatus 200B according to the second embodiment. The configuration of the substrate transfer table 50 and the like is the same as that of the first embodiment. The board inspection apparatus 200B includes an imaging system 80, a first slave PC 140e, a second slave PC 140f, an image processing unit 130, a master PC 160, and the like. The first slave PC 140e, the second slave PC 140f, and the master PC 160 are connected to each other by a switching hub 150. Note that the description of the same parts as in the first embodiment is omitted.

撮像制御部169はCCDセンサ172の各々に接続されている。撮像制御部169は、第1光源102、第2光源104、および第3光源106のいずれかが基板2に光を照射するタイミングで一撮像単位で基板2を撮像するよう、CCDセンサ172の各々を制御する。また、第1撮像システム80cの撮像制御部169は、マイクロフォーカスX線源120が基板2にX線を照射するタイミングで、一撮像単位で基板2を撮像するよう、第1撮像システム80cのCCDセンサ172を制御する。搬送制御部163は、一撮像単位で基板2が撮像されると、基板2を1撮像単位分搬送するよう、モータ58を制御する。   The imaging control unit 169 is connected to each of the CCD sensors 172. The imaging control unit 169 controls each of the CCD sensors 172 so that one of the first light source 102, the second light source 104, and the third light source 106 images the substrate 2 in one imaging unit at the timing when the substrate 2 is irradiated with light. To control. In addition, the imaging control unit 169 of the first imaging system 80c causes the CCD of the first imaging system 80c to image the substrate 2 in one imaging unit at the timing when the microfocus X-ray source 120 irradiates the substrate 2 with X-rays. The sensor 172 is controlled. When the substrate 2 is imaged in one imaging unit, the conveyance control unit 163 controls the motor 58 to convey the substrate 2 by one imaging unit.

本実施形態においても、基板検査装置200Bは、基板2が一方向に搬送される工程において、まずCCDセンサ172による基板2の光学画像の撮像を完了させ、基板2が逆方向に搬送される工程において、CCDセンサ172により基板2のX線画像を撮像する。なお、基板検査装置200Bは、基板2が一方向に搬送される工程において、まずCCDセンサ172による基板2のX線画像の撮像を完了させ、基板2が逆方向に搬送される工程において、CCDセンサ172により基板2の光学画像を撮像してもよいことは勿論である。また基板検査装置200Bは、一つの基板2の光学画像およびX線画像を、CCDセンサ172により複数回にわたって交互に撮像してもよいことも勿論である。   Also in the present embodiment, in the process of transporting the substrate 2 in one direction, the substrate inspection apparatus 200B first completes the imaging of the optical image of the substrate 2 by the CCD sensor 172, and the process of transporting the substrate 2 in the reverse direction. 2, an X-ray image of the substrate 2 is picked up by the CCD sensor 172. The substrate inspection apparatus 200B first completes the imaging of the X-ray image of the substrate 2 by the CCD sensor 172 in the process of transporting the substrate 2 in one direction, and the CCD in the process of transporting the substrate 2 in the reverse direction. Of course, an optical image of the substrate 2 may be taken by the sensor 172. Of course, the substrate inspection apparatus 200 </ b> B may alternately take an optical image and an X-ray image of one substrate 2 by a CCD sensor 172 a plurality of times.

CCDセンサ172は複数並設されていなくてもよく、単一のCCDセンサ172が搬送方向と垂直な方向に移動して順次光学画像またはX線画像を撮像してもよい。これによって、CCDセンサ172を複数並設する場合に比べ、コストを低減させることができる。   A plurality of CCD sensors 172 may not be provided in parallel, and a single CCD sensor 172 may move in a direction perpendicular to the transport direction to sequentially capture an optical image or an X-ray image. As a result, the cost can be reduced compared to the case where a plurality of CCD sensors 172 are arranged in parallel.

本発明は上述の各実施形態に限定されるものではなく、各実施形態の各要素を適宜組み合わせたものも、本発明の実施形態として有効である。また、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形を各実施形態に対して加えることも可能であり、そのような変形が加えられた実施形態も本発明の範囲に含まれうる。以下、そうした例をあげる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and an appropriate combination of the elements of each embodiment is also effective as an embodiment of the present invention. Various modifications such as design changes can be added to each embodiment based on the knowledge of those skilled in the art, and embodiments to which such modifications are added can also be included in the scope of the present invention. Here are some examples.

基板検査装置は、光学画像を撮像するためにラインセンサ34またはCCDセンサ172に入射する光の波長と、X線画像を撮像するためにラインセンサ34またはCCDセンサ172に入射する光の波長とを異ならせる波長制御部をさらに備えてもよい。ラインセンサ34またはCCDセンサ172は、波長が異なるものとされた光を同時に撮像することにより、光学画像とX線画像とを同時に撮像してもよい。   The substrate inspection apparatus determines the wavelength of light incident on the line sensor 34 or the CCD sensor 172 for capturing an optical image and the wavelength of light incident on the line sensor 34 or the CCD sensor 172 for capturing an X-ray image. You may further provide the wavelength control part made to differ. The line sensor 34 or the CCD sensor 172 may simultaneously capture an optical image and an X-ray image by simultaneously capturing light having different wavelengths.

たとえば、シンチレータ116の表面を所定の波長の色の光を照射するシンチレータ照射ユニットを設ける。照明制御部161は、照明ユニット100によって基板2に青色の光を照射するタイミングで、マイクロフォーカスX線源120によって基板2にX線を照射し、さらにシンチレータ116に青色と異なる波長の色を照射するよう、照明ユニット100およびシンチレータ照射ユニットを制御する。搬送される基板の上部に設けられたラインセンサ34またはCCDセンサ172は、このように波長が異なるものとされた光を同時に撮像する。画像処理部130またはスレーブPC140は、撮像して得られた画像データに画像処理を施し、波長毎に画像データを分離することによって得られた画像データを光学画像とX線画像とに分離する。この場合、照明制御部161、照明ユニット100、およびシンチレータ照射ユニットは波長制御部を構成する。これによって、光学画像およびX線画像の双方を利用して被検査体を検査する場合に、光学画像およびX線画像の双方を撮像することによって撮像時間が長くなることを抑制することができる。   For example, a scintillator irradiation unit that irradiates the surface of the scintillator 116 with light having a predetermined wavelength is provided. The illumination control unit 161 irradiates the substrate 2 with X-rays by the microfocus X-ray source 120 at the timing when the illumination unit 100 irradiates the substrate 2 with blue light, and further irradiates the scintillator 116 with a color having a wavelength different from blue. The lighting unit 100 and the scintillator irradiation unit are controlled to do so. The line sensor 34 or the CCD sensor 172 provided on the upper part of the substrate to be transported simultaneously images light having different wavelengths. The image processing unit 130 or the slave PC 140 performs image processing on the image data obtained by imaging and separates the image data obtained by separating the image data for each wavelength into an optical image and an X-ray image. In this case, the illumination control unit 161, the illumination unit 100, and the scintillator irradiation unit constitute a wavelength control unit. Accordingly, when inspecting the object to be inspected using both the optical image and the X-ray image, it is possible to suppress an increase in imaging time by capturing both the optical image and the X-ray image.

第1の実施形態において、走査制御部162は、ラインセンサ34が走査する走査速度を変更してもよい。また、走査制御部162は、ラインセンサ34が走査して光学画像またはX線画像を撮像するときのサンプリング周波数を変更してもよい。これによって、光学画像を撮像する場合の走査方向の光学ズーム、およびX線画像を撮像する場合の走査方向のX線ズームを実現することができる。   In the first embodiment, the scanning control unit 162 may change the scanning speed scanned by the line sensor 34. Further, the scanning control unit 162 may change the sampling frequency when the line sensor 34 scans to capture an optical image or an X-ray image. Accordingly, it is possible to realize optical zoom in the scanning direction when capturing an optical image and X-ray zoom in the scanning direction when capturing an X-ray image.

第1光源102、第2光源104、または第3光源106を収容する筐体などをアルミニウム材料によって形成してもよい。この表面にX線に反応してX線像を表示する蛍光材料を塗布することによって、各光源を収容する筐体をシンチレータとして機能させてもよい。これによって、基板検査装置の構成を簡易なものとすることができ、製造時の組立工数などを低減させることができる。   A housing for housing the first light source 102, the second light source 104, or the third light source 106 may be formed of an aluminum material. By applying a fluorescent material that displays an X-ray image in response to X-rays on this surface, the housing that accommodates each light source may function as a scintillator. As a result, the configuration of the substrate inspection apparatus can be simplified, and the number of assembling steps during manufacturing can be reduced.

鉛によって板状に成形されたシェーディングプレートを、搬送する基板2の周辺に配置してもよい。このシェーディングプレートの板厚は正確であることが好ましい。基板検査装置は、このシェーディングプレートを利用して光学画像またはX線画像を撮像するためのシェーディング補正を施してもよい。この場合基板検査装置は、第1光源102、第2光源104、および第3光源106を各々単独で点灯させ、撮像した光学画像を利用してシェーディング補正値を校正する。また、基板検査装置は、マイクロフォーカスX線源120によってX線をシェーディングプレートに照射し、シェーディングプレートを通過したX線によってシンチレータ116に表示されるX線像を撮像したX線画像を利用してシェーディング補正値を校正する。このようにシェーディングプレートをシェーディング補正の校正に利用することによって、光学画像およびX線画像の双方のシェーディング補正の校正を実施することが可能となる。   You may arrange | position the shading plate shape | molded by lead in the plate shape around the board | substrate 2 to convey. The thickness of the shading plate is preferably accurate. The board inspection apparatus may perform shading correction for capturing an optical image or an X-ray image using the shading plate. In this case, the board inspection apparatus turns on the first light source 102, the second light source 104, and the third light source 106 independently, and calibrates the shading correction value using the captured optical image. Further, the substrate inspection apparatus uses an X-ray image obtained by irradiating the shading plate with X-rays by the microfocus X-ray source 120 and capturing an X-ray image displayed on the scintillator 116 by the X-rays that have passed through the shading plate. Calibrate the shading correction value. Thus, by using the shading plate for calibration of shading correction, it becomes possible to calibrate shading correction for both the optical image and the X-ray image.

また、このシェーディングプレートに複数の基準穴が設けられていてもよい。この場合、基板検査装置は、搬送された基板2の検査を行う前にシェーディングプレートに照明ユニット100によって光を照射し、その反射光を撮像する。基板検査装置は、撮像されたシェーディングプレートの画像を利用して、基板2の光学画像およびX線画像の原点設定、画像倍率計数計測や画像歪みの補正マップ生成を実施する。このように鉛によって成形されたシェーディングプレートを使用することによって、基板2の光学画像およびX線画像の双方の原点およびピクセルサイズを補正することができる。   In addition, a plurality of reference holes may be provided in the shading plate. In this case, the substrate inspection apparatus irradiates the shading plate with light by the illumination unit 100 and images the reflected light before inspecting the transported substrate 2. The board inspection apparatus uses the captured image of the shading plate to set the origin of the optical image and X-ray image of the board 2, measure the image magnification, and generate a correction map for image distortion. By using a shading plate formed of lead in this way, the origin and pixel size of both the optical image and the X-ray image of the substrate 2 can be corrected.

このシェーディングプレートは、複数の板厚を有していてもよい。この場合、マイクロフォーカスX線源120はこのシェーディングプレートにX線を照射する。複数の板厚を有するシェーディングプレートを通過したX線によって、濃淡を有するX線像がシンチレータ116上に表示される。基板検査装置は、このようにしてX線像が表示されたシンチレータ116を撮像して得られたX線画像を利用して、ガンマ補正の校正を実施する。これによって、X線画像のガンマ補正の校正を実施することが可能となる。   This shading plate may have a plurality of plate thicknesses. In this case, the microfocus X-ray source 120 irradiates the shading plate with X-rays. An X-ray image having shading is displayed on the scintillator 116 by X-rays that have passed through a shading plate having a plurality of plate thicknesses. The board inspection apparatus performs gamma correction calibration using the X-ray image obtained by capturing the scintillator 116 on which the X-ray image is displayed in this manner. This makes it possible to perform gamma correction calibration of the X-ray image.

第1の実施形態に係る基板検査装置の構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the board | substrate inspection apparatus which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態に係る撮像システムの構成を示す図である。1 is a diagram illustrating a configuration of an imaging system according to a first embodiment. 第1の実施形態に係る照明ユニットの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the illumination unit which concerns on 1st Embodiment. 第1の実施形態において、X線およびX線像を示す光の経路を示す図である。In 1st Embodiment, it is a figure which shows the path | route of the light which shows an X-ray and an X-ray image. 第1の実施形態にかかる基板検査装置の概念構成図である。It is a conceptual lineblock diagram of the substrate inspection device concerning a 1st embodiment. 第2の実施形態に係る撮像システムの構成を示す図である。It is a figure which shows the structure of the imaging system which concerns on 2nd Embodiment. 第2の実施形態に係る基板検査装置の概念構成図である。It is a conceptual lineblock diagram of a substrate inspection device concerning a 2nd embodiment.

符号の説明Explanation of symbols

2 基板、 30 撮像ユニット、 34 ラインセンサ、 42 テレセントリックレンズ、 100 照明ユニット、 110 ハーフミラー、 114 ミラー、 116 シンチレータ、 120 マイクロフォーカスX線源、 172 CCDセンサ、 200Aおよび200B 基板検査装置。   2 substrate, 30 imaging unit, 34 line sensor, 42 telecentric lens, 100 illumination unit, 110 half mirror, 114 mirror, 116 scintillator, 120 microfocus X-ray source, 172 CCD sensor, 200A and 200B substrate inspection apparatus.

Claims (7)

被検査体の光学画像、および被検査体にX線が照射されることにより光学変換部に表示されるX線画像の双方を撮像する撮像部と、
撮像された光学画像およびX線画像を利用して被検査体の部品の実装状態を検査する検査部と、
を備えることを特徴とする被検査体の検査装置。
An imaging unit that captures both an optical image of the object to be inspected and an X-ray image displayed on the optical conversion unit by irradiating the object to be inspected with X-rays;
An inspection unit that inspects the mounting state of the components of the object to be inspected using the captured optical image and X-ray image;
A device for inspecting an object to be inspected.
被検査体を搬送する被検査体搬送部と、
被検査体を搬送しながら、または被検査体の搬送と停止を繰り返しながら、被検査体を撮像する撮像制御部と、をさらに備え、
撮像領域が異なる複数の前記撮像部が、被検査体の移動方向と略垂直に並設されることを特徴とする請求項1に記載の被検査体の検査装置。
An inspected object transport unit for transporting the inspected object;
An imaging control unit that images the object to be inspected while conveying the object to be inspected, or repeatedly conveying and stopping the object to be inspected,
The inspection apparatus for an object to be inspected according to claim 1, wherein a plurality of the image pickup units having different image pickup areas are arranged side by side substantially perpendicular to the moving direction of the object to be inspected.
前記撮像部は、鏡により反射された被検査体のX線画像を撮像することを特徴とする請求項1または2に記載の被検査体の検査装置。   3. The inspection object inspection apparatus according to claim 1, wherein the imaging unit captures an X-ray image of the inspection object reflected by a mirror. 前記撮像部は、被検査体の撮像対象領域の光学画像およびX線画像の一方の撮像を完了した後、他方を撮像することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の被検査体の検査装置。   The inspected device according to claim 1, wherein the imaging unit captures one of an optical image and an X-ray image of an imaging target region of the object to be inspected, and then images the other. Body inspection device. 前記撮像部は、被検査体の撮像対象領域の光学画像およびX線画像を、複数回にわたって交互に撮像することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の被検査体の検査装置。   The inspecting device according to any one of claims 1 to 3, wherein the imaging unit alternately captures an optical image and an X-ray image of an imaging target region of the inspected object a plurality of times. . 光学画像を撮像するために前記撮像部に入射する光の波長と、X線画像を撮像するために前記撮像部に入射する光の波長とを異ならせる波長制御部をさらに備え、
前記撮像部は、波長が異なるものとされた光を同時に撮像することにより、光学画像とX線画像とを同時に撮像することを特徴とする請求項1から3のいずれかに記載の被検査体の検査装置。
A wavelength control unit that varies the wavelength of light incident on the imaging unit to capture an optical image and the wavelength of light incident on the imaging unit to capture an X-ray image;
The inspected object according to any one of claims 1 to 3, wherein the imaging unit captures an optical image and an X-ray image simultaneously by simultaneously capturing light having different wavelengths. Inspection equipment.
光学画像およびX線画像を同一の光路にて前記撮像部に入力するハーフミラーをさらに備えることを特徴とする請求項1から6のいずれかに記載の被検査体の検査装置。   The inspection apparatus for an object to be inspected according to claim 1, further comprising a half mirror that inputs an optical image and an X-ray image to the imaging unit through the same optical path.
JP2006009322A 2006-01-17 2006-01-17 Inspection device for inspection object Active JP4746991B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006009322A JP4746991B2 (en) 2006-01-17 2006-01-17 Inspection device for inspection object

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006009322A JP4746991B2 (en) 2006-01-17 2006-01-17 Inspection device for inspection object

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007194302A true JP2007194302A (en) 2007-08-02
JP4746991B2 JP4746991B2 (en) 2011-08-10

Family

ID=38449774

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006009322A Active JP4746991B2 (en) 2006-01-17 2006-01-17 Inspection device for inspection object

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4746991B2 (en)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007192597A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Saki Corp:Kk Device for inspecting object to be inspected
JP2010080697A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Panasonic Corp Apparatus for mounting electronic component, and image read device therein
JP2014025943A (en) * 2013-09-06 2014-02-06 Canon Inc Detection device
US9265424B2 (en) 2008-11-06 2016-02-23 Canon Kabushiki Kaisha Mammography apparatus
JP2017162845A (en) * 2016-03-07 2017-09-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 Illumination device for imaging in electronic component mounting device and electronic component mounting device
JP2020003228A (en) * 2018-06-25 2020-01-09 株式会社キーレックス Press component inspection device and press component inspection method

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107592910B (en) * 2015-04-15 2021-08-13 依科视朗国际有限公司 Method for inspecting electronic device

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252246A (en) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X-ray inspection device
JPH02183147A (en) * 1989-01-09 1990-07-17 Nikon Corp Fine foreign matter inspecting device
JPH05322803A (en) * 1992-05-15 1993-12-07 Sony Corp Method for confirming alignment of x ray, method for confirming alignment and aligning x ray, and x-ray inspecting device
JP2001241932A (en) * 2000-03-02 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method of measuring bond and recording medium having recorded programs for executing bond inspecting method
JP2004226128A (en) * 2003-01-20 2004-08-12 Saki Corp:Kk Apparatus and method for visual inspection

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0252246A (en) * 1988-08-15 1990-02-21 Tokyo Electron Ltd X-ray inspection device
JPH02183147A (en) * 1989-01-09 1990-07-17 Nikon Corp Fine foreign matter inspecting device
JPH05322803A (en) * 1992-05-15 1993-12-07 Sony Corp Method for confirming alignment of x ray, method for confirming alignment and aligning x ray, and x-ray inspecting device
JP2001241932A (en) * 2000-03-02 2001-09-07 Matsushita Electric Ind Co Ltd Apparatus and method of measuring bond and recording medium having recorded programs for executing bond inspecting method
JP2004226128A (en) * 2003-01-20 2004-08-12 Saki Corp:Kk Apparatus and method for visual inspection

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007192597A (en) * 2006-01-17 2007-08-02 Saki Corp:Kk Device for inspecting object to be inspected
JP2010080697A (en) * 2008-09-26 2010-04-08 Panasonic Corp Apparatus for mounting electronic component, and image read device therein
US9265424B2 (en) 2008-11-06 2016-02-23 Canon Kabushiki Kaisha Mammography apparatus
JP2014025943A (en) * 2013-09-06 2014-02-06 Canon Inc Detection device
JP2017162845A (en) * 2016-03-07 2017-09-14 パナソニックIpマネジメント株式会社 Illumination device for imaging in electronic component mounting device and electronic component mounting device
JP2020003228A (en) * 2018-06-25 2020-01-09 株式会社キーレックス Press component inspection device and press component inspection method

Also Published As

Publication number Publication date
JP4746991B2 (en) 2011-08-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP4746991B2 (en) Inspection device for inspection object
KR101603617B1 (en) Tdi sensor, image capturing device, component mounting apparatus, component testing apparatus, and substrate inspection apparatus
US20100289891A1 (en) Apparatus for inspecting object under inspection
JP4560514B2 (en) Inspection method and inspection apparatus for component mounting accuracy
CN107238608B (en) Substrate inspection device
US7751611B2 (en) Apparatus for inspecting appearance of inspection piece
JP2009175035A (en) Inspection method and inspection device
JP2012002601A (en) Picture checking device, picture checking method and picture formation apparatus
KR101578056B1 (en) Three-dimensional measurement device
JP4828234B2 (en) Inspection device for inspection object
JP2009180601A (en) Method and device for inspecting pattern
KR20150022352A (en) Inspection method of solder joint
JP2007192598A (en) Device for inspecting object to be inspected
JP2006184022A (en) Visual inspection system
JP4714462B2 (en) Device for inspecting appearance of object
JP2015219162A (en) Inspection device
JP2009002796A (en) Inspection apparatus
JP2006184019A (en) Visual inspection system
JP6339849B2 (en) Inspection device
JP4244696B2 (en) Component mounter
JP7299728B2 (en) Semiconductor manufacturing equipment and semiconductor device manufacturing method
JP6456726B2 (en) Inspection device, inspection method, and inspection program
KR102430827B1 (en) Die bonding apparatus and manufacturing method of semiconductor device
JP2009168580A (en) Device for inspecting object to be inspected
JP6196684B2 (en) Inspection device

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

Effective date: 20090116

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20101221

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20110104

A521 Request for written amendment filed

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20110307

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20110419

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20110516

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140520

Year of fee payment: 3

R150 Certificate of patent or registration of utility model

Ref document number: 4746991

Country of ref document: JP

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250