JP2007189062A - Hpaパッケージ - Google Patents

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守広 山室
Yu Kirikoshi
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Abstract

【課題】 入力側内部整合回路と増幅回路の間で接続された金属ワイヤのインダクタンス成分を低減させて、広帯域で整合可能なHPAパッケージを得る。
【解決手段】 フランジ101aの中央部に増幅回路109を形成した台座101bを有する導電体基板101と、フランジ101aに一方の面を当接させ、台座101bとの間に間隙104を有して台座101bの四囲を囲む開口部103aを有した誘電体基板103を備えて、誘電体基板103の他方の面の開口部103aの縁部に、入力側内部整合回路106とその両側に導電パッド1a,1bを形成し、導電パッド1a,1bから導電体基板101に導通するように、誘電体基板103にVIAホール2a,2bを設け、また導電パッド1a,1bと台座101bの間を、金属ワイヤ113aとの間隔が、金属ワイヤ113aと導電体基板101の間隔の最大値より小さくなるようにして金属ワイヤ3a,3bを設けた。
【選択図】 図1

Description

この発明は、無線通信装置に搭載されるRFモジュールを構成するHPAパッケージに関するもので、特にHPAパッケージの信号線に生じるインダクタンス成分を低減させる技術に関するものである。
従来より、無線通信装置には、無線信号を送受信するためのRFモジュールが搭載されている。このRFモジュールは、主に送信側と受信側から構成されており、送信側は送信信号を増幅させるHPA(High Power Amplifier)パッケージを備えており、受信側は受信信号からノイズを除去するためのLNA(Low Noise Amplifier)パッケージを備えている。
このようなRFモジュールにおいて、送信側に設けられるHPAパッケージとしては、放熱板及びグランドとなる金属部の一方の面の縁部に段差を設けて形成した凸部に、誘電体部の一方の面の縁部に段差を設けて形成した凹部を嵌合させ、誘電体部の他方の面には、半導体チップやチップコンデンサのマウント部と内部整合回路を形成し、このマウント部は誘電体に設けられたスルーホールを介して金属部に接地するとともに、半導体チップとチップコンデンサ及び内部整合回路の間をボンディングワイヤで接続しているものがある。(例えば、特許文献1参照)
特開平5−211277号公報(第2図)
しかしながら、特許文献1に記載されたHPAパッケージにおいては、金属部に形成された凸部と誘電体部に形成された凹部が嵌合しているために、金属部及び誘電体部が、半導体チップの熱による金属部及び誘電体の伸縮の差を十分に吸収できない場合が考えられる。即ち、金属部の線膨張率が誘電体のそれより大きいために、半導体チップの熱により、金属部が誘電体より伸長するため、誘電体に過度の応力が加わることになる。
このような問題に対応するため、例えば図8及び図9に示すような、金属部と誘電体部が嵌合しない構成を有したHPAパッケージが提供されている。
図8及び図9を参照して、このHPAパッケージの構成及び動作について説明する。
図8は、このHPAパッケージの構成を示す平面図である。図9は、図8のHPAパッケージをIII−III方向から見た断面図である。
矩形のフランジ101aの中央部に矩形の台座101bを備えた鉄などの導電体からなる導電体基板101には、フランジ101aに一方の面が当接して、台座101bの四囲を囲むような開口部103aを有したセラミックなどの誘電体からなる誘電体基板103が設けられている。この際、開口部103aと台座101bの間には、異種材料である導電体と誘電体の間に生じる熱による伸長の影響を無くすために、間隙104を有している。
誘電体基板103の他方の面には、開口部103aの一辺の縁部に、入力リード105に接続された入力側内部整合回路106が形成されている。また入力側内部整合回路106に対向する開口部103aの一辺の縁部には、出力リード107に接続された出力側内部整合回路108が形成されている。
台座101bには、入力側内部整合回路106を介して入力される入力信号を増幅させる増幅回路109が載設されている。この増幅回路は、間隙104を隔てて入力側内部整合回路106に対向した台座101bの縁部にマウントされたMOS−C(Metal-Oxide Semiconductor Condenser)110と、間隙104を隔てて出力側内部整合回路108に対向した台座101bの縁部に、マウントされたFET(Field Effect Transistor)111と、このFET111を挟んだ両側にチップコンデンサ112a及び112bがマウントされて構成されている。
そして、入力側内部整合回路106,増幅回路109及び出力側内部整合回路108は、それぞれ金属ワイヤ113a,113b及び113cにより接続されている。具体的には、入力側内部整合回路106と増幅回路109を構成するMOS−C110の間は金属ワイヤ113aにより、出力側内部整合回路108と増幅回路109を構成するFET111の間は金属ワイヤ113bにより、出力側内部整合回路108と増幅回路109を構成するチップコンデンサ112a及び112bの間は金属ワイヤ113cにより接続されている。また増幅回路109を構成しているMOS−C110とFET111の間は金属ワイヤ113dにより接続されている。
なお符号114は、入力側内部整合回路106,増幅回路109及び出力側内部整合回路108を塵や埃などから保護するための保護カバーである。
このように構成されているHPAパッケージの動作は次の通りである。
入力リード105から入力された送信信号は、入力側内部整合回路106でインピーダンス整合された後、増幅回路109に入力される。増幅回路109では、インピーダンス整合された送信信号は、MOS−C110を介してFET111にゲート信号として入力され、所定の増幅率でもって増幅される。そして増幅された送信信号は、チップコンデンサ112a及び112bを介して出力側内部整合回路108に入力され、インピーダンス整合された後、出力リード107から出力される。
従来のHPAパッケージは上記のように構成されているので、特に入力側内部整合回路106と増幅回路109の間で接続された金属ワイヤ113aにおいて、図9中にXとして示しているように、間隙104に位置する金属ワイヤ113aと誘電体基板101のフランジ101aの間隔が広くなってしまう。このために金属ワイヤ113aのインダクタンス成分が大きくなり、それにより入力側内部整合回路106のQ値が大きくなるために、広帯域に整合を取るために設けられた入力側内部整合回路106の整合範囲が狭くなるという問題があった。なおQ値は、共振回路のQと言われているもので、共振特性の鋭さを表す量であり、Q値が大きいと共振する周波数帯が狭くなるため整合範囲が狭くなり、反対にQ値が小さいと共振する周波数帯が広くなるため整合範囲は広くなる。
この発明は、上記の問題点を解消するためになされたもので、HPAパッケージに、入力側内部整合回路106と増幅回路109の間で接続された金属ワイヤ113aのインダクタンス成分を低減可能な構成を具備して、入力側内部整合回路106のQ値を小さくして、広帯域で整合をとることが可能なHPAパッケージを提供することを目的とする。
この発明に係るHPAパッケージは、矩形のフランジの中央部に矩形の台座を有した導電体基板と、このフランジに一方の面が当接して、前記台座との間に間隙を有して前記台座の四囲を囲む開口部を有した誘電体基板とを備えて、台座には入力信号を増幅させる増幅回路を形成し、誘電体基板の他方の面には開口部の縁部に対向して入力側内部整合回路と出力側内部整合回路を形成し、入力側内部整合回路と増幅回路の間並びに増幅回路と出力側内部整合回路の間を金属ワイヤで接続し、入力側内部整合回路を挟んだ両側の開口部の縁部に導電体基板との導通部を備えた導電パッドをそれぞれ形成し、これらの導電パッドと導電体基板の台座をそれぞれ接続する導通部材を、入力側内部整合回路と増幅回路の間に接続した金属ワイヤと導電体基板のフランジとの間隔の最大値より小さくなるようにして構成したものである。
この発明によれば、入力側内部整合回路を挟んだ両側の開口部の縁部に導電体基板との導通部を備えた導電パッドをそれぞれ形成し、これらの導電パッドと導電体基板の台座をそれぞれ接続する導通部材を、入力側内部整合回路と増幅回路の間に接続した金属ワイヤと導電体基板のフランジとの間隔の最大値より小さくなるようにして構成したので、金属ワイヤのインダクタンス成分が低減され、入力側内部整合回路のQ値が小さくなるので、広帯域で整合をとることが可能なHPAパッケージが得られる効果がある。
実施の形態1
この発明の実施の形態1について、図1から図3を参照して説明する。
図1は、この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージの構成を示す平面図である。図2は、図1のHPAパッケージをI−I方向から見た断面図である。また図3は、図1に示すHPAパッケージの等価回路を示す説明図である。
図1及び図2において、従来のHPAパッケージの構成を示した図8及び図9と相違する点は、入力側内部整合回路106が形成されている開口部103aの縁部において、入力側内部整合回路106を挟んだ両側に導電パッド1a及び1bを形成し、この導電パッド1a及び1bから、グランドとなる導電体基板101に導通するように、誘電体基板103に、導通部として電気導通穴であるVIAホール2a及び2bを設け、加えて導電パッド1a及び1bと台座101bの間を、導通部材である金属ワイヤ3a及び3bで接続したことである。この際、金属ワイヤ3a及び3bは、金属ワイヤ113aに沿った方向に設け、金属ワイヤ3a及び3bと金属ワイヤ113aの間隔(図1に示す間隔Y)が、導電体基板101と金属ワイヤ113aの間隔(図2に示す間隔X)の最大値(図2における間隙104の位置に相当)より小さくなるようにして設けている。これにより、グランドとなる金属ワイヤ3a及び3b、金属ワイヤ3a及び3bの間に設けられた信号線となる金属ワイヤ113aでもって、所謂GSG(GND-Signal-GND)を構成する。
その他の構成については、図8及び図9に示した従来のHPAパッケージの構成と同じであるため、同一符号を付し、ここでの説明は省略する。
次に動作について図1から図3を参照して説明する。
入力リード105から入力された送信信号は、入力側内部整合回路106でインピーダンス整合され、増幅回路109に入力される。増幅回路109では、インピーダンス整合された送信信号がMOS−C110を介してFET111にゲート信号として入力され、所定の増幅率でもって増幅される。そして増幅された送信信号は、チップコンデンサ112a及び112bを介して出力側内部整合回路108に入力され、インピーダンス整合された後、出力リード107に出力される。以上の点については従来と同じ動作である。
この時の動作において、信号線である金属ワイヤ113aとグランドである金属ワイヤ3a及び3bの間隔(図1に示す間隔Y)が、グランドとなる導電体基板101のフランジ101aと信号線となる金属ワイヤ113aの間隔(図2に示す間隔X)の最大値(図2においては、間隙104の位置に相当)より小さくなるようにして金属ワイヤ3a及び3bを設けているので、金属ワイヤ113aが有するインダクタンス成分が低減される。これにより、入力側内部整合回路106のQ値が小さくなるため、広範囲に整合をとることが可能となる。
この実施の形態1によれば、入力側内部整合回路106が形成された誘電体基板103の開口部103aの縁部において、入力側内部整合回路106を挟んだ両側に導電パッド1a及び1bを形成し、この導電パッド1a及び1bから、グランドとなる導電体基板101に導通するように、誘電体基板103に導通部として電気導通穴であるVIAホール2a及び2bを設け、加えて導電パッド1a及び1bと台座101bの間を、金属ワイヤ113aとの間隔が、金属ワイヤ113aと導電体基板101の間隔の最大値より小さくなるように金属ワイヤ3a及び3bを設けて構成したので、金属ワイヤ113aのインダクタンス成分が低減され、入力側内部整合回路106のQ値が小さくなるので、広帯域で整合をとることが可能なHPAパッケージが得られる効果がある。
なお実施の形態1によれば、導電パッド1a及び1bと台座101bの間を、それぞれ導通部材である1本の金属ワイヤ3a及び3bで接続したものを示したが、要は金属ワイヤ113aと金属ワイヤ3a及び3bの間隔が、金属ワイヤ113aと導電体基板101の間隔の最大値より小さくなるようにして、金属ワイヤ3a及び3bを設けていればよく、導通部材は、例えば図4に示すように、金属ワイヤ3a及び3bを複数本(図4においては、一例として2本の場合を図示)にしてもよく、また図5に示すように金属リボン5a及び5bを用いてもよい。
さらに実施の形態1によれば、導通部としてVIAホール2a及び2bを設けて、導電パッド1a及び1bと導電体基板101を導通させたものを示したが、導通部としては導電パッド1a及び1bと導電体基板101の間が導通していればよく、例えばVIAホール2a及び2bを使用せず、導電パッド1a及び1bを、開口部103aを経て誘電体基板103と導電体基板101のフランジ101aの当接面まで延伸させて形成してもよい。
実施の形態2
実施の形態1によれば、信号線である金属ワイヤ113aのインダクタンス成分を低減し、入力側内部整合回路106のQ値を小さくして、入力側内部整合回路106の整合範囲を広くする構成のものを示したが、この発明に係るHPAパッケージは出力側にも内部整合回路を有しているため、出力側においてもQ値が大きくなり、整合範囲が狭くなる場合も考えられる。これに対応するため、実施の形態1に示した構成を出力側内部整合回路108側に設けてもよい。以下、この実施の形態について説明する。
図6は、この発明の実施の形態2に係るHPAパッケージの構成を示す平面図である。図7は、図6のHPAパッケージをII−II方向から見た断面図である。
図6及び図7において、実施の形態1の図1及び図2と相違する点は、出力側内部整合回路108が形成されている開口部103aの縁部において、出力側内部整合回路108を挟んだ両側に導電パッド6a及び6bを形成し、この導電パッド6a及び6bから、グランドとなる導電体基板101に導通するように、誘電体基板103に、導通部として電気導通穴であるVIAホール7a及び7bを設け、加えて導電パッド7a及び7bと台座101bの間を、導通部材である金属ワイヤ8a及び8bで接続したことである。この際、金属ワイヤ8a及び8bは、金属ワイヤ113bに沿った方向に設け、金属ワイヤ8a及び8bと金属ワイヤ113bの間隔(図6に示す間隔Y)が、導電体基板101と金属ワイヤ113bの間隔(図8に示す間隔X)の最大値(図8における空隙104の位置に相当)より小さくなるようにして設けている。これにより、グランドとなる金属ワイヤ8a及び8b、金属ワイヤ8a及び8bの間に設けられた信号線となる金属ワイヤ113bでもって、所謂GSG(GND-Signal-GND)を構成する。
その他の構成については、図1及び図2に示した実施の形態1の構成と同じであるため、同一符号を付し、ここでの説明は省略する。
次に動作について図6及び図7を参照して説明する。
図6及び図7に示した構成において、実施の形態1と動作が相違する点は、信号線である金属ワイヤ113bとグランドとなる金属ワイヤ8a及び8bの間隔(図6に示す間隔Y)が、図8において間隔Xとして示しているグランドとなる導電体基板101のフランジ101aと信号線となる金属ワイヤ113bの間隔(図6に示す間隔X)の最大値(図7においては、間隙104の位置に相当)より小さくなるようにして金属ワイヤ8a及び8bを設けているので、出力側内部整合回路108と増幅回路109の間に接続した金属ワイヤ113bが有するインダクタンス成分が低減されることである。これにより、出力側内部整合回路108のQ値が小さくなるため、広範囲に整合をとることが可能となる。その他の動作については実施の形態1と同じである。
実施の形態2によれば、実施の形態1に示した構成に加えて、出力側内部整合回路108が形成された誘電体基板103の開口部103aの縁部において、出力側内部整合回路108を挟んだ両側に導電パッド6a及び6bを形成し、この導電パッド6a及び6bから、グランドとなる導電体基板101に導通するように、誘電体基板103に導通部として電気導通穴であるVIAホール7a及び7bを設け、加えて導電パッド6a及び6bと台座101bの間を、金属ワイヤ113bとの間隔が、金属ワイヤ113bと導電体基板101の間隔の最大値より小さくなるように金属ワイヤ8a及び8bを設けて構成したので、金属ワイヤ113bのインダクタンス成分が低減され、出力側内部整合回路108のQ値が小さくなるので、広帯域で整合をとることが可能なHPAパッケージが得られる効果がある。
なお実施の形態2によれば、導電パッド6a及び6bと台座101bの間を、それぞれ導通部材である1本の金属ワイヤ8a及び8bで接続したものを示したが、要は金属ワイヤ113bと金属ワイヤ8a及び8bの間隔が、金属ワイヤ113bと導電体基板101の間隔の最大値より小さくなるようにして、金属ワイヤ8a及び8bを設けていればよく、導通部材は、例えば実施の形態1の図4で示したのと同様に、金属ワイヤ8a及び8bを複数本にしてもよく、また図5で示したのと同様に金属リボンを用いてもよい。
さらに実施の形態2によれば、導通部としてVIAホール7a及び7bを設けて、導電パッド6a及び6bと導電体基板101を導通させたものを示したが、導通部としては導電パッド6a及び6bと導電体基板101の間が導通していればよく、例えばVIAホール7a及び7bを使用せず、導電パッド6a及び6bを、開口部103aを経て誘電体基板103と導電体基板101のフランジ101aの当接面まで延伸させて形成してもよい。
また実施の形態1及び2によれば、導電体基板101を構成するフランジ101a及び台座101b並びに誘電体基板103及びこの誘電体基板103に設けられた開口部103aとして矩形形状のものを示したが、これはあくまで一例を示したものであり、特に形状を限定するものでは無い。例えば方形,円形,楕円形等の適当な形状においても適用可能である。
さらに実施の形態1及び2によれば、誘電体基板103の開口部103aの縁部に、対向して入力側内部整合回路106と出力側内部整合回路108を設けたものを示したが、これもあくまで一例を示したものであり、特に対向して設ける必要も無い。
この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージの構成を示す平面図である。 この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージをI−I方向から見た断面図である。 この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージの等価回路を示した説明図である。 この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージの他の構成例を示す平面図である。 この発明の実施の形態1に係るHPAパッケージの他の構成例を示す平面図である。 この発明の実施の形態2に係るHPAパッケージの構成を示す平面図である。 この発明の実施の形態2に係るHPAパッケージをII−II方向から見た断面図である。 従来のHPAパッケージの構成を示す平面図である。 従来のHPAパッケージをIII−III方向から見た断面図である。
符号の説明
1a,1b 導電パッド、2a,2b VIAホール、3a,3b 金属ワイヤ、101 導電体基板、101a フランジ、101b 台座、103 誘電体基板、103a 開口部、104 間隙、105 入力リード、106 入力側内部整合回路、107 出力リード、108 出力側内部整合回路、109 増幅回路、110 MOS−C、111 FET、112a,112b チップコンデンサ、113a,113b,113c,113d 金属ワイヤ、114 保護カバー


Claims (6)

  1. フランジの中央部に台座を有した導電体基板と、
    前記台座に載設された増幅回路と、
    前記フランジに一方の面が当接され、前記台座との間に間隙を有して前記台座の四囲を囲む開口部を有した誘電体基板と、
    前記誘電体基板の他方の面の前記開口部の縁部に、それぞれ形成された入力側内部整合回路及び出力側内部整合回路と
    前記入力側内部整合回路と前記増幅回路の間及び前記増幅回路と前記出力側内部整合回路の間にそれぞれ接続された金属ワイヤと、
    前記導電体基板との導通部を有して前記入力側内部整合回路を挟んだ両側の前記縁部に形成された導電パッドと、
    前記入力側内部整合回路と前記増幅回路の間に接続された前記金属ワイヤと前記導電体基板との間隔の最大値より小さくなるように、前記導電パッドと前記導電体基板の前記台座をそれぞれ接続した導通部材、
    を備えたことを特徴とするHPAパッケージ。
  2. 導通部は、前記誘電体基板に設けられた電気導通穴であるVIAホールであることを特徴とする請求項1に記載のHPAパッケージ。
  3. 導通部材は、金属ワイヤ又は金属リボンであることを特徴とする請求項1又は2のいずれか1項に記載のHPAパッケージ。
  4. 請求項1に記載のHPAパッケージは、
    更に前記導電体基板との導通部を有して前記出力側内部整合回路を挟んだ両側の前記縁部に形成された導電パッドと、
    前記出力側内部整合回路と前記増幅回路の間に接続された前記金属ワイヤと前記導電体基板との間隔の最大値より小さくなるように、前記出力側内部整合回路を挟んだ両側の前記縁部に形成された前記導電パッドと前記導電体基板の前記台座をそれぞれ接続した導通部材、
    を備えたことを特徴とするHPAパッケージ。
  5. 入力側内部整合回路を挟んだ両側に形成された前記導電パッドが有する前記導通部並びに前記出力側内部整合回路を挟んだ両側に形成された前記導電パッドが有する前記導通部は、共に前記誘電体基板に設けられた電気導通穴であるVIAホールであることを特徴とする請求項4に記載のHPAパッケージ。
  6. 入力側内部整合回路を挟んだ両側に形成された前記導電パッドと前記台座をそれぞれ接続した前記導通部材並びに前記出力側内部整合回路を挟んだ両側に形成された前記導電パッドと前記台座をそれぞれ接続した前記導通部材は、共に金属ワイヤ又は金属リボンであることを特徴とする請求項4又は5のいずれか1項に記載のHPAパッケージ。

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2010135722A (ja) * 2008-11-05 2010-06-17 Toshiba Corp 半導体装置
JP2012182306A (ja) * 2011-03-01 2012-09-20 Toshiba Corp Mmic用パッケージ
WO2018123064A1 (ja) * 2016-12-29 2018-07-05 三菱電機株式会社 半導体装置

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