JP2007186620A - Adhesive composite composition, method for adhesion thereof and method for producing laminated sheet using the same method - Google Patents

Adhesive composite composition, method for adhesion thereof and method for producing laminated sheet using the same method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an adhesive composite composition which is a low dielectric responsive to a high frequency of ≥1 GHz, to provide a method for adhesion thereof and to provide a method for producing a laminated sheet using the same method. <P>SOLUTION: The adhesive composite composition comprises a triallyl isocyanate and a peroxide as essential components in polyphenylene ether. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本願発明は、各種用途に使用される電子機器及びコンピューター制御製品に使用され、低誘電体で1GHz以上の周波数に対応可能な接着性複合体組成物とその接着方法並びにその方法を用いた積層板の製造方法に関するものである。   INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention is an adhesive composite composition that can be used in electronic devices and computer control products used in various applications, and is capable of supporting a frequency of 1 GHz or higher with a low dielectric material, an adhesion method thereof, and a laminate using the method. It is related with the manufacturing method.

近年、情報処理の高速化にともない信号伝播速度を高速化する必要があり、このために比誘電率の低い材料としてポリフェニレンエーテル(PPE)基板を用いることが知られている(たとえば特許文献1,2参照)。また、情報通信分野では、無線通信機器の増大とチャンネル数の増加により電波の周波数帯が高周波化ならびに狭帯域化しており、具体的には1GHz以上の高周波帯域の信号を高速処理可能な高周波数信号処理基板やビルトアップ法による高密度化多層プリント基板の開発が求められている。   In recent years, it is necessary to increase the signal propagation speed with the increase in information processing speed. For this reason, it is known to use a polyphenylene ether (PPE) substrate as a material having a low relative dielectric constant (for example, Patent Document 1). 2). In the information communication field, the frequency band of radio waves has become higher and narrower due to the increase in wireless communication devices and the number of channels. Specifically, high frequency capable of high-speed processing of signals in the high frequency band of 1 GHz or higher. Development of high-density multilayer printed circuit boards using signal processing boards and built-up methods is required.

このような1GHz以上の高周波特性を有する高周波数信号処理基板を製造するためには、PPEに平滑な表面を有する導体である金属箔を接着させることが重要である。これまで、PPEと導体である金属箔、たとえば銅箔とを接着させる方法として、黒化処理した銅箔をPPEフィルムに熱圧着する方法が知られているが、この方法で得られた基板は銅箔とPPEフィルムの接着強度が非常に低く、実用上さらなる接着強度が望まれている。また、黒化処理によって銅箔表面が粗くなってしまい、このような粗化銅箔は周波数の高い電気信号を減衰させてしまい、目的とする高周波特性を実現することは困難であった。
特開2005−082793号公報 特開2005−008829号公報
In order to manufacture such a high-frequency signal processing substrate having a high frequency characteristic of 1 GHz or more, it is important to bond a metal foil, which is a conductor having a smooth surface, to PPE. Up to now, as a method of bonding PPE and a metal foil as a conductor, for example, a copper foil, a method of thermocompression bonding a blackened copper foil to a PPE film is known, but the substrate obtained by this method is The adhesive strength between the copper foil and the PPE film is very low, and further practical adhesive strength is desired. Further, the surface of the copper foil becomes rough due to the blackening treatment, and such a roughened copper foil attenuates an electric signal having a high frequency, and it has been difficult to realize the intended high frequency characteristics.
JP 2005-082793 A JP 2005-008829 A

そこで、本願発明は、以上のとおりの背景よりなされたものであって、低誘電体で1GHz以上の高周波に対応可能な接着性複合体組成物とその接着方法並びにその方法を用いた積層板の製造方法を提供することを課題としている。   Therefore, the present invention has been made from the background as described above, and is an adhesive composite composition capable of supporting a high frequency of 1 GHz or higher with a low dielectric material, an adhesion method thereof, and a laminate using the method. It is an object to provide a manufacturing method.

本願発明は、上記の課題を解決するものとして、以下のことを特徴としている。
<1> ポリフェニレンエーテルにトリアリルイソシアネートおよび過酸化物が必須成分として含有してなることを特徴とする接着性複合体組成物。
<2> ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、トリアリルイソシアネートが10〜150質量部、過酸化物が0.1〜20質量部の範囲で含有されていることを特徴とする上記<1>請求項1に記載の接着性複合体組成物。
<3> ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、トリアリルイソシアネートが10〜150質量部、過酸化物が1〜10質量部の範囲で含有されていることを特徴とする上記<1>請求項1に記載の接着性複合体組成物。
<4> 次式(I)
The present invention is characterized by the following in order to solve the above problems.
<1> An adhesive composite composition comprising polyphenylene ether containing triallyl isocyanate and a peroxide as essential components.
<2> The above-mentioned <1>, wherein 10 to 150 parts by mass of triallyl isocyanate and 0.1 to 20 parts by mass of peroxide are contained with respect to 100 parts by mass of polyphenylene ether. Item 2. The adhesive composite composition according to Item 1.
<3> The above <1>, wherein 10 to 150 parts by mass of triallyl isocyanate and 1 to 10 parts by mass of peroxide are contained per 100 parts by mass of polyphenylene ether. The adhesive composite composition as described in 1.
<4> Formula (I)

Figure 2007186620
(式中、Mはアルカリ金属である。)
で表されるトリアジントリチオール化合物を含む溶液中に導体金属箔を浸漬してその表面に反応性皮膜を生成させた後、上記<1>から<3>のいずれかに記載の接着性複合体組成物と前記導体金属箔とを加熱圧着して接着性複合体組成物と導体金属箔とを接着することを特徴とする接着性複合体組成物の接着方法。
<5> 前記式(I)で表されるトリアジントリチオール化合物において、式中のMは、Li,Na,KまたはCsであることを特徴とする上記<4>に記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<6> トリアジントリチオール化合物を含む溶液において、トリアジントリチオール化合物の濃度は0.1〜1000mg/dmの範囲であることを特徴とする上記<4>または<5>に記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<7> トリアジントリチオール化合物を含む溶液において、トリアジントリチオール化合物の濃度は1〜100mg/dmの範囲であることを特徴とする上記<4>または<5>に記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<8> トリアジントリチオール化合物を含む溶液に三級アミン類が添加されていることを特徴とする上記<4>から<7>のいずれかに記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<9> 三級アミン類は、トリエタノールアミンであることを特徴とする上記<8>に記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<10> 80℃〜200℃の温度範囲で加熱圧着することを特徴とする上記<4>から<9>のいずれかに記載の接着性複合体組成物の接着方法。
<11> 上記<4>から<10>のいずれかの方法で接着性複合体組成物の片面または両面に導体金属箔を積層配置することを特徴とする積層板の製造方法。
<12> 導体金属箔は、その表面の平均粗さ(Ra)が1μm以下の表面粗度を有する平滑な導体金属箔であることを特徴とする上記<11>に記載の積層板の製造方法。
<13> 上記<11>または<12>に記載の方法で得られた積層板の導体金属箔に導体パターンを作製してなることを特徴とするプリント配線板。
<14> 1〜20GHzの周波数帯域において、誘電率が2.4〜2.8の範囲の低誘電体特性を有していることを特徴とする上記<13>に記載のプリント配線板。
Figure 2007186620
(In the formula, M is an alkali metal.)
After immersing the conductor metal foil in a solution containing the triazine trithiol compound represented by formula (1) to form a reactive coating on the surface, the adhesive composite according to any one of <1> to <3> above A method for bonding an adhesive composite composition, comprising bonding the adhesive composite composition and the conductive metal foil by thermocompression bonding the composition and the conductive metal foil.
<5> In the triazine trithiol compound represented by the formula (I), M in the formula is Li, Na, K or Cs, wherein the adhesive composite composition according to the above <4> Bonding method of objects.
<6> The adhesive composite as described in <4> or <5> above, wherein in the solution containing the triazine trithiol compound, the concentration of the triazine trithiol compound is in the range of 0.1 to 1000 mg / dm 3. Method for bonding body composition.
<7> In the solution containing a triazine trithiol compound, the concentration of the triazine trithiol compound is in the range of 1 to 100 mg / dm 3 , and the adhesive composite composition according to the above <4> or <5> Bonding method of objects.
<8> The method for adhering an adhesive composite composition according to any one of <4> to <7>, wherein a tertiary amine is added to the solution containing the triazine trithiol compound.
<9> The method for adhering an adhesive composite composition according to <8>, wherein the tertiary amine is triethanolamine.
<10> The method for adhering an adhesive composite composition according to any one of the above <4> to <9>, wherein thermocompression bonding is performed in a temperature range of 80 ° C to 200 ° C.
<11> A method for producing a laminated board, characterized in that a conductive metal foil is laminated on one or both sides of the adhesive composite composition by any one of the above <4> to <10>.
<12> The method for producing a laminated board according to <11>, wherein the conductor metal foil is a smooth conductor metal foil having a surface roughness of an average roughness (Ra) of 1 μm or less. .
<13> A printed wiring board comprising a conductor pattern formed on a conductor metal foil of a laminate obtained by the method according to <11> or <12>.
<14> In the frequency band of 1 to 20 GHz, the printed wiring board according to the above <13>, which has a low dielectric property having a dielectric constant of 2.4 to 2.8.

以上のとおりの本願発明によれば、平滑な表面を有する導体金属箔、より具体的には、その表面の平均粗さ(Ra)が1μm以下の導体金属箔と強固に接着させることができる接着性複合体組成物とその接着方法が提供される。さらに、この接着方法で接着性複合体組成物と導体金属箔とを接着させて得た積層板は、低誘電体で1GHz以上の周波数に対応可能な高周波数信号処理基板またはビルトアップ法による高密度化多層プリント基板を製造することができる。   According to the present invention as described above, a conductive metal foil having a smooth surface, more specifically, an adhesive that can be firmly bonded to a conductive metal foil having an average roughness (Ra) of the surface of 1 μm or less. A composite composition and an adhesion method thereof are provided. Furthermore, the laminate obtained by bonding the adhesive composite composition and the conductive metal foil by this bonding method is a high-frequency signal processing substrate capable of supporting a frequency of 1 GHz or higher with a low dielectric material or a high-performance by a built-up method. Densified multilayer printed circuit boards can be manufactured.

本願発明は上記のとおりの特徴をもつものであるが、以下にその実施の形態について説明する。   The present invention has the features as described above, and an embodiment thereof will be described below.

本願発明の接着性複合体組成物は、ポリフェニレンエーテル(PPE)にトリアリルイソシアネート(TAIC)および過酸化物が必須成分として含有している。   The adhesive composite composition of the present invention contains triallyl isocyanate (TAIC) and peroxide as essential components in polyphenylene ether (PPE).

本願発明におけるポリフェニレンエーテルは、たとえば、ポリ(2,6−ジメチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジエチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2,6−ジプロピル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−エチル−1,4−フェニレン)エーテル、ポリ(2−メチル−6−プロピル−1,4−フェニレン)エーテルなどを例示することができ、プリント基板等に一般的に用いられるものであれば特に制限されるものではない。   Examples of the polyphenylene ether in the present invention include poly (2,6-dimethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2,6-diethyl-1,4-phenylene) ether, and poly (2,6-dipropyl-1). , 4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-ethyl-1,4-phenylene) ether, poly (2-methyl-6-propyl-1,4-phenylene) ether, and the like. If it is generally used for a printed circuit board etc., it will not be restrict | limited in particular.

また、過酸化物は、上記ポリフェニレンエーテルを上記トリアリルイソシアネートで三次元化するために使用され、PPE樹脂に一般的に用いられるものであれば特に制限されるものではない。たとえば、ベンゾイルペルオキシド、t−ブチルパーオキシベンゾエイト、ジクミルペルオキシド、ジ−t−ブチルペルオキシド、2,5−ジメチル−2,5−ジ(t−ブチルペルオキシ)ヘキサン、2,5−ジメチル−2,5−ビス(t−ブチルペルオキシ)ヘキシン−3、α,α’―ジ(t−ブチルペルオキシ)ジイソプロピルベンゼン、1,1−ビス(t−ブチルパーオキシ)3,3,5−トリメチルシクロヘキサンなどを挙げることができる。   Further, the peroxide is not particularly limited as long as it is used for three-dimensionalizing the polyphenylene ether with the triallyl isocyanate and generally used for PPE resins. For example, benzoyl peroxide, t-butyl peroxybenzoate, dicumyl peroxide, di-t-butyl peroxide, 2,5-dimethyl-2,5-di (t-butylperoxy) hexane, 2,5-dimethyl-2 , 5-bis (t-butylperoxy) hexyne-3, α, α′-di (t-butylperoxy) diisopropylbenzene, 1,1-bis (t-butylperoxy) 3,3,5-trimethylcyclohexane, etc. Can be mentioned.

以上のトリアリルイソシアネートおよび過酸化物は、たとえば、ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、トリアリルイソシアネートが10〜150質量部、過酸化物が0.1〜20質量部の範囲で含有されていることが好ましい。トリアリルイソシアネートが10質量部未満の場合には、最終的に得られる樹脂の耐熱性(硬度、強度など)が劣る場合があるので好ましくなく、150質量部を超える場合には、樹脂成分が減少するため脆くなる場合があり膜形成能が低下するので好ましくない。過酸化物が0.1質量部未満の場合には、この接着性複合体組成物を加熱したときにクロロホルム不溶化率が十分に高くならず、20質量部を超える場合には、この接着性複合体組成物を加熱して得られる樹脂フィルムの作成段階で表面がゲル化して接着阻害を起こす場合があるので好ましくない。より好適には、過酸化物が1〜10質量部の範囲であることが考慮される。この場合、1質量部以上含有されていることでクロロホルム不溶化率が90%以上とすることができる。このように過酸化物が含有されていることによって、PPE樹脂組成物のガラス転移温度を180℃程度まで上昇させることができ、また、このPPE樹脂組成物から得られる基板を不溶不融にして、260℃で5分間の熱履歴にも耐えるようにすることができるのである。   The above triallyl isocyanate and peroxide contain, for example, 10 to 150 parts by weight of triallyl isocyanate and 0.1 to 20 parts by weight of peroxide with respect to 100 parts by weight of polyphenylene ether. It is preferable. If the triallyl isocyanate is less than 10 parts by mass, the resulting resin may be inferior in heat resistance (hardness, strength, etc.), which is not preferred. If it exceeds 150 parts by mass, the resin component decreases. Therefore, it may become brittle and the film forming ability is lowered, which is not preferable. When the peroxide is less than 0.1 part by mass, the chloroform insolubilization rate is not sufficiently high when the adhesive composite composition is heated. When the peroxide exceeds 20 parts by mass, the adhesive composite This is not preferable because the surface may gel at the stage of preparation of a resin film obtained by heating the body composition to cause adhesion inhibition. More preferably, it is considered that the peroxide is in the range of 1 to 10 parts by mass. In this case, the chloroform insolubilization rate can be 90% or more by containing 1 part by mass or more. Thus, by containing a peroxide, the glass transition temperature of the PPE resin composition can be increased to about 180 ° C., and the substrate obtained from this PPE resin composition is made insoluble and infusible. , It can withstand a heat history of 5 minutes at 260 ° C.

本願発明の接着性複合体組成物は、以上のポリフェニレンエーテル粉末、トリアリルイソシアネートおよび過酸化物を含有するものであるが、たとえば、これらポリフェニレンエーテル粉末、トリアリルイソシアネートおよび過酸化物をニーダーやバンバリーミキサー等の混合機に入れ、20〜80℃程度の温度で5〜60分間混合して樹脂ペーストを調製し、これをアプリケータやロールを用いてフェライト板に塗膜を形成した後、130℃20分間オーブン中で加熱して透明な樹脂フィルムとしたものであってもよい。もちろん加熱条件はこれに限定されるものではない。また、得られる樹脂フィルムの膜厚は、20〜1000μmの範囲であることが考慮される。   The adhesive composite composition of the present invention contains the above polyphenylene ether powder, triallyl isocyanate, and peroxide. For example, these polyphenylene ether powder, triallyl isocyanate, and peroxide are used as a kneader or a banbury. It puts into mixers, such as a mixer, mixes for 5 to 60 minutes at the temperature of about 20-80 degreeC, prepares a resin paste, forms a coating film on a ferrite plate using an applicator or a roll, then 130 degreeC A transparent resin film may be obtained by heating in an oven for 20 minutes. Of course, the heating condition is not limited to this. Moreover, it is considered that the film thickness of the obtained resin film is in the range of 20 to 1000 μm.

なお、樹脂フィルム作成時において、樹脂ペーストに布を含浸させてこれを加熱することで、より補強された樹脂フィルムを製造することができる。このような布としては、ガラス織布、ポリエステル織布、レーヨン織布、ナイロン織布、ポリエチレン織布、綿織布、ビニロン織布、カーボン織布などを例示することができる。   In addition, the resin film further reinforced can be manufactured by impregnating cloth with resin paste and heating this at the time of resin film preparation. Examples of such cloth include glass woven cloth, polyester woven cloth, rayon woven cloth, nylon woven cloth, polyethylene woven cloth, cotton woven cloth, vinylon woven cloth, and carbon woven cloth.

本願発明の接着性複合体組成物の接着方法は、前記式(I)で表されるトリアジントリチオール化合物を含む溶液中に導体金属箔を浸漬して(以下、トリアジントリチオール処理ともいう)その表面に反応性皮膜を生成させた後、上記の接着性複合体組成物とこの導体金属箔とを加熱圧着して接着性複合体組成物と導体金属箔とを接着することを特徴としている。   The method for adhering the adhesive composite composition of the present invention involves immersing a conductive metal foil in a solution containing the triazine trithiol compound represented by the formula (I) (hereinafter also referred to as triazine trithiol treatment). After forming a reactive film on the surface, the adhesive composite composition and the conductor metal foil are bonded by thermocompression bonding to the adhesive composite composition and the conductor metal foil.

ここで、式(I)中のMは、Li,Na,KまたはCsなどを挙げることができる。また、トリアジントリチオール化合物は、たとえば水、あるいはアルコール類、アセトン、トルエンなどの有機溶剤に溶解して用いられる。具体的には、トリアジントリチオールモノアルカリ塩水溶液が考慮され、この水溶液に導体金属箔を浸漬することで、反応性皮膜(接着層)であるアモロファスのトリアジンチオール金属塩(3CNSM)を導体金属箔表面に生成することができる。   Here, M in the formula (I) can include Li, Na, K, Cs, and the like. In addition, the triazine trithiol compound is used by dissolving in water or an organic solvent such as alcohols, acetone, and toluene. Specifically, an aqueous triazine trithiol monoalkali salt solution is considered, and by immersing the conductive metal foil in this aqueous solution, the reactive film (adhesive layer) of amorphous triazine thiol metal salt (3CNSM) is converted into the conductive metal foil. Can be produced on the surface.

以上のトリアジンチオール化合物を含む溶液は、たとえばトリアジンチオール化合物の濃度が0.1〜1000mg/dmの範囲であることが好ましい。0.1mg/dm未満では接着させるための十分な皮膜を生成するのに時間がかかり過ぎる場合があり、1000mg/dm以上では表面にアモロファスのトリアジントリチオール金属塩が生成されなくなり、高密度の皮膜が生成し接着が阻害されるので好ましくない。より好ましくは、皮膜形成時間や形成される皮膜の密度等を考慮すると、1〜100mg/dmの範囲である。 The solution containing the above triazine thiol compound preferably has, for example, a triazine thiol compound concentration in the range of 0.1 to 1000 mg / dm 3 . If it is less than 0.1 mg / dm 3 , it may take too much time to produce a sufficient film for adhesion, and if it is 1000 mg / dm 3 or more, the aromaphos triazine trithiol metal salt will not be formed on the surface, resulting in high density. This is not preferable because the film is formed and the adhesion is inhibited. More preferably, it is in the range of 1 to 100 mg / dm 3 in consideration of the film formation time, the density of the film to be formed, and the like.

以上のトリアジントリチオール化合物を含む溶液には、トリアジントリチオール化合物や形成される反応性皮膜の安定性を確保する目的で三級アミン類が添加されていてもよい。このような三級アミンを添加することによって、導体金属箔と接着性複合体組成物とが十分な接着強度を有するように安定して製造することができる。   To the solution containing the above triazine trithiol compound, a tertiary amine may be added for the purpose of ensuring the stability of the triazine trithiol compound or the formed reactive film. By adding such a tertiary amine, the conductor metal foil and the adhesive composite composition can be stably manufactured so as to have sufficient adhesive strength.

具体的な三級アミン類としては、トリメチルアミン、トリエタノールアミン、ジメチルアニリン、N−エチルイミダゾール等を例示することができるが、取り扱い性や入手のし易さ等を考慮するとトリエタノールアミンが好適に用いられる。この三級アミン類は、トリアジントリチオールモノアルカリ塩1モルに対して、0.01〜10モル、好ましくは0.1〜1モルの割合で添加することが考慮される。このような範囲の三級アミン類で添加することによって、その効果を十分に発揮することができる。   Specific examples of the tertiary amines include trimethylamine, triethanolamine, dimethylaniline, N-ethylimidazole, etc., but triethanolamine is preferred in consideration of handling properties and availability. Used. It is considered that these tertiary amines are added in an amount of 0.01 to 10 mol, preferably 0.1 to 1 mol, relative to 1 mol of triazine trithiol monoalkali salt. By adding the tertiary amine in such a range, the effect can be sufficiently exhibited.

本願発明における導体金属箔は、通常のプリント配線板等に使用されるものであれば特に限定されるものではなく、たとえば、金、銅、アルミニウムなどを挙げることができ、その導体金属箔の厚さとしては、たとえば10〜100μmの範囲のものであってよい。厚さが100μmを超える場合には製造されるプリント配板が重くなりすぎる場合があり、厚さ10μm未満ではたとえば高周波数信号処理基板として用いたときに通信量に問題が生じる場合があるので好ましくない。   The conductor metal foil in the present invention is not particularly limited as long as it is used for a normal printed wiring board and the like, and examples thereof include gold, copper, and aluminum. The thickness of the conductor metal foil For example, it may be in the range of 10 to 100 μm. If the thickness exceeds 100 μm, the printed board to be manufactured may be too heavy. If the thickness is less than 10 μm, for example, when used as a high-frequency signal processing board, there may be a problem in communication volume, which is preferable. Absent.

また、導体金属箔表面の平均粗さ(Ra)としては1μm以下のもの、さらには0.5μm以下のものが好ましく用いられる。導体金属箔の電気信号の減衰率は導体金属箔表面の平均表面粗さが関係する表皮効果として知られており、1GHz以上の高周波電気信号が送られるときには、少なくとも1μm以下の平均表面粗さが必要であるとされている。本願発明の接着性複合体組成物の接着方法は、以上のように平均粗さが1μm以下の平滑な導体金属箔であっても強固に接着させることが可能であるため、このような導体金属箔を接着させることで1GHz以上の周波数に対応可能な積層板を得ることができる。   Further, the average roughness (Ra) on the surface of the conductive metal foil is preferably 1 μm or less, and more preferably 0.5 μm or less. The attenuation factor of the electrical signal of the conductive metal foil is known as a skin effect related to the average surface roughness of the surface of the conductive metal foil. When a high frequency electrical signal of 1 GHz or higher is sent, the average surface roughness of at least 1 μm or less is required. It is said that it is necessary. The bonding method of the adhesive composite composition of the present invention can be firmly bonded even with a smooth conductive metal foil having an average roughness of 1 μm or less as described above. By adhering the foil, it is possible to obtain a laminate that can handle a frequency of 1 GHz or more.

上記トリアジントリチオール処理は、その処理溶液中に0〜100℃の範囲の温度で1〜200秒間程度浸漬させることで、アモロファスなトリアジントリチオール金属塩(3CNSM)の反応性皮膜を効果的に生成することができる。0℃未満の温度では皮膜の生成速度が遅くなり生産性が劣ってしまうため好ましくない。100℃を超える場合には結晶性の高密度の反応性皮膜が生成する傾向が高まるため好ましくない。より好適な温度としては20〜70℃の範囲が考慮され、これによって反応性皮膜をより一層効果的に生成することができる。   The above triazine trithiol treatment effectively produces an amorphous triazine trithiol metal salt (3CNSM) reactive film by immersing in the treatment solution at a temperature in the range of 0 to 100 ° C. for about 1 to 200 seconds. can do. A temperature lower than 0 ° C. is not preferable because the film formation rate is low and the productivity is poor. When the temperature exceeds 100 ° C., the tendency to form a crystalline high-density reactive film increases, which is not preferable. As a more suitable temperature, a range of 20 to 70 ° C. is considered, whereby a reactive film can be generated more effectively.

本願発明は、以上のようにして導体金属箔表面に反応性皮膜を生成させた後、この導体金属箔と上記樹脂フィルムとを加熱圧着させるものであるが、このとき、樹脂フィルムにおけるTAICの−CHCH=CH基(アリル基)と導体金属箔表面に生成された反応性皮膜の−SM基との間で界面結合が生成する。このため、樹脂フィルムと導体金属箔とが強固に接着された積層板とすることができる。なお、導体金属箔は、樹脂フィルムの片面または両面に加熱圧着されていてもよい。 In the present invention, a reactive film is formed on the surface of the conductive metal foil as described above, and then the conductive metal foil and the resin film are heat-bonded. CH 2 CH = CH 2 groups interfacial bonding between -SM group reactive film formed on the (allyl group) and a conductive metal foil surface to produce. For this reason, it can be set as the laminated board to which the resin film and conductor metal foil were adhere | attached firmly. In addition, the conductor metal foil may be heat-pressed on one side or both sides of the resin film.

加熱圧着条件としては、具体的には1〜20kg/cmの荷重下で、80〜200℃の温度範囲でプレス加熱することが考慮される。1kg/cm未満の荷重下では樹脂フィルムと導体金属箔との間から完全に空気を除去することができず十分に接着させることができない場合がある。また、20kg/cmを超える荷重下では樹脂フィルムを所定の膜厚に保持することができない場合があるため好ましくない。80℃未満の温度では樹脂フィルムにおけるTAICのアリル基と導体金属箔表面の反応性皮膜の−SM基との間で界面反応が起こりにくく、200℃を超える温度ではTAICの硬化反応が界面から進行して導体金属箔と樹脂フィルム間の界面反応が起こりにくくなるため好ましくない。 As the thermocompression bonding conditions, specifically, press heating is considered in a temperature range of 80 to 200 ° C. under a load of 1 to 20 kg / cm 2 . Under a load of less than 1 kg / cm 2 , air may not be completely removed from between the resin film and the conductive metal foil, and may not be sufficiently bonded. Further, it is not preferable that the resin film cannot be held at a predetermined film thickness under a load exceeding 20 kg / cm 2 . When the temperature is lower than 80 ° C., the interfacial reaction hardly occurs between the TAIC allyl group of the resin film and the -SM group of the reactive coating on the surface of the conductive metal foil, and when the temperature exceeds 200 ° C., the curing reaction of TAIC proceeds from the interface. Then, the interfacial reaction between the conductive metal foil and the resin film hardly occurs, which is not preferable.

加熱圧着時間は一般的には1分以上とすることができる。1分未満では導体金属箔と樹脂フィルム間の界面反応が十分に起こらないため好ましくない。加熱圧着時間の上限は、導体金属箔と樹脂フィルム間の界面反応がおよそ完結するまでの時間であることが考慮され特に制限されるものではないが、一般的には200分程度である。   The thermocompression bonding time can generally be 1 minute or longer. Less than 1 minute is not preferable because the interface reaction between the conductive metal foil and the resin film does not occur sufficiently. The upper limit of the thermocompression bonding time is not particularly limited considering the time until the interface reaction between the conductive metal foil and the resin film is almost completed, but is generally about 200 minutes.

本願発明のプリント配線板は、上記の積層板の導体金属箔表面にエッチング加工などして導体パターンを作製し、回路形成することによってプリント配線板を得ることができる。そしてこのようにして得られたプリント配線板によって、誘電率が2.4〜2.8、誘電正接が0.003〜0.006の範囲の低誘電体であり、1〜20GHzの範囲の高周波数に対応可能な高周波数信号処理基板またはビルトアップ法による高密度化多層プリント基板を製造することができる。   The printed wiring board of this invention can obtain a printed wiring board by producing a conductor pattern by carrying out an etching process etc. on the conductor metal foil surface of said laminated board, and forming a circuit. The printed wiring board thus obtained is a low dielectric having a dielectric constant of 2.4 to 2.8, a dielectric loss tangent of 0.003 to 0.006, and a high dielectric of 1 to 20 GHz. It is possible to manufacture a high-frequency signal processing board that can cope with a frequency or a high-density multilayer printed board by a built-up method.

以下に実施例を示し、さらに詳しく説明する。もちろん以下の例によって本願発明が限定されることはない。また、以下の実施例においては、導体金属箔として銅箔を使用したが、これに限定されることなく、金箔やアルミニウム箔であっても同効物を提供することができる。   Hereinafter, examples will be shown and described in more detail. Of course, the present invention is not limited by the following examples. Moreover, in the following Examples, although copper foil was used as conductor metal foil, it is not limited to this, Even if it is gold foil and aluminum foil, the same effect can be provided.

<実施例1><比較例1〜4>
PPE(ポリジメチルフェニルエーテル、三菱エンジニアリングプラスチック社、YPX−100)、TAIC(トリアリルイソシアネート、日本化成(株))、DCP(ジクミルペルオキシド、試薬)を表1の配合量でベンチニーダー(入江商会(株)製)に入れ、60℃で20分間ブレンドした。得られたPPEペーストをフェライト板(クロムめっき鋼板)上に20g取り、アプリケータにて膜を引き熱オーブン(旭テクノグラス(株)製電気定温機AFO−82)で130℃で20分間加熱すると、82.2μmのPPE樹脂フィルム、平均表面粗さRa:0.19〜0.21(原子間力顕微鏡、デジタルインスツルメント社製 Nano ScopeIII,分解能:1nm)が得られた。また、PPE樹脂フィルムの誘電率は2.65であった。誘電率は樹脂フィルムの表面に金蒸着を行い銀ペーストで端子を取り、インピーダンス測定器(Agilent Technology(株)製Impedance Analyzer 4294A)を用い、AC500mV、1kHz〜1MHzの周波数で静電容量を測定し、計算して求めた。
<Example 1><Comparative Examples 1-4>
PPE (polydimethylphenyl ether, Mitsubishi Engineering Plastics, YPX-100), TAIC (triallyl isocyanate, Nippon Kasei Co., Ltd.), DCP (dicumyl peroxide, reagent) with the compounding amounts shown in Table 1 are bench kneaders (Irie Shokai) And blended at 60 ° C. for 20 minutes. When 20 g of the obtained PPE paste is taken on a ferrite plate (chrome-plated steel plate), a film is drawn with an applicator, and heated at 130 ° C. for 20 minutes in a heat oven (Asahi Techno Glass Co., Ltd. electric constant temperature machine AFO-82). 82.2 μm PPE resin film, average surface roughness Ra: 0.19 to 0.21 (atomic force microscope, Nano Scope III manufactured by Digital Instruments, resolution: 1 nm). The dielectric constant of the PPE resin film was 2.65. The dielectric constant is obtained by depositing gold on the surface of the resin film, taking a terminal with a silver paste, and measuring the capacitance at a frequency of AC 500 mV, 1 kHz to 1 MHz using an impedance measuring instrument (Impedance Analyzer 4294A manufactured by Agilent Technology Co., Ltd.). And calculated.

次に、電解銅箔(40×60×0.05mm、福田金属箔粉(株)製、両面の平均粗さRa:0.19〜0.21μm)はアセトン洗浄(20℃、5sec)、1%−HCl水溶液洗浄(20℃、5sec)、及び1%−NaOH水溶液洗浄(20℃、5sec)後、水洗とエタノール洗浄を行い、ドライヤーで乾燥した。トリアジントリチオールのモノナトリウム50mg/dmとトリエタノールアミン40mg/dmを1dmの脱気したイオン交換水に溶解して処理液とした。電解銅箔は50℃の処理液に30秒間浸漬後、水洗乾燥した。得られた処理電解銅箔のRaは0.21μmであった。 Next, electrolytic copper foil (40 × 60 × 0.05 mm, manufactured by Fukuda Metal Foil Powder Co., Ltd., average roughness Ra on both sides: 0.19 to 0.21 μm) was washed with acetone (20 ° C., 5 sec), 1 After washing with a% -HCl aqueous solution (20 ° C., 5 sec) and 1% -NaOH aqueous solution (20 ° C., 5 sec), washing with water and ethanol were performed, followed by drying with a drier. Triazine trithiol monosodium 50 mg / dm 3 and triethanolamine 40 mg / dm 3 were dissolved in 1 dm 3 of deaerated ion-exchanged water to prepare a treatment solution. The electrolytic copper foil was immersed in a treatment solution at 50 ° C. for 30 seconds, washed with water and dried. Ra of the obtained treated electrolytic copper foil was 0.21 μm.

PPE樹脂フィルム(40×40×0.08mm)を2枚の処理電解銅箔で両面から挟み、2kg/cmの荷重をかけて、160℃で20分間加熱プレスした。得られたPPE−Cu接着物に1cm幅の切身を入れ、5mm/minの引張速度で剥離試験(島津オートグラフ AGS−1kND)を行った。剥離試験の評価は、剥離強度が0.40(kN/m)以上のものを「◎」(接着強度が良好)、0.10(kN/m)以上で0.40(kN/m)未満のものを「○」(実用上問題ないレベル)、0.05(kN/m)以上で0.10(kN/m)未満のものを「△」(接着強度が弱く、実用上問題があるレベル)、0.05(kN/m)未満を「×」(ほとんど接着していない、あるいは接着していない)として評価した。 A PPE resin film (40 × 40 × 0.08 mm) was sandwiched between two treated electrolytic copper foils from both sides, applied with a load of 2 kg / cm 2 , and heated and pressed at 160 ° C. for 20 minutes. A 1 cm wide fillet was put into the obtained PPE-Cu adhesive, and a peel test (Shimadzu Autograph AGS-1kND) was performed at a tensile speed of 5 mm / min. Evaluation of the peel test is “◎” (adhesive strength is good) when the peel strength is 0.40 (kN / m) or higher, and 0.10 (kN / m) or higher and less than 0.40 (kN / m) “◯” (a level that causes no problem in practical use), 0.05 (kN / m) or more and less than 0.10 (kN / m) “Δ” (adhesive strength is weak, and there is a problem in practical use) Level), less than 0.05 (kN / m) was evaluated as “×” (not almost adhered or not adhered).

また、比較例1,3において、PPE樹脂フィルムの作成は、樹脂とDCPをクロロホルムに溶解し、フラットシャーレ中で溶剤を揮散させてPPE樹脂フィルムを作成した。   In Comparative Examples 1 and 3, the PPE resin film was prepared by dissolving the resin and DCP in chloroform and stripping the solvent in a flat petri dish to create a PPE resin film.

以上の結果を表1に示す。   The results are shown in Table 1.

Figure 2007186620
比較例1〜4ではPPE樹脂フィルムの必須成分を調べたものであるが、PPEの他にTAICとDCPの1成分がなくとも、PPE樹脂フィルムはたとえ銅箔が処理されていても接着しないことが確認された。またPPE樹脂フィルムにTAICとDCPの2成分が含まれていても、銅箔が処理されていなければ、比較例4に示されるように接着しないことも確認された。したがって、PPE樹脂フィルムと銅箔が接着するためにはPPE樹脂フィルムにTAICとDCPの2成分が含まれていることが重要である。そして、銅箔をトリアジントリチオールで処理することも重要である。
Figure 2007186620
In Comparative Examples 1 to 4, the essential component of the PPE resin film was examined. Even if there is no TAIC and DCP component other than PPE, the PPE resin film should not adhere even if the copper foil is treated. Was confirmed. Moreover, even if two components of TAIC and DCP were contained in the PPE resin film, it was confirmed that the copper foil was not bonded as shown in Comparative Example 4 if the copper foil was not treated. Therefore, in order for the PPE resin film and the copper foil to adhere, it is important that the PPE resin film contains two components, TAIC and DCP. It is also important to treat the copper foil with triazine trithiol.

PPEの誘電率は2.45であるが、TAIC(誘電率:2.50)及びDCPを添加すると若干変化するが、誘電率2.7以下を維持し、1GHz以上の高周波時代に対応できる樹脂組成物であることが分かる。また、銅箔の平均表面粗さについて、1GHz以上の高周波電気信号が送られるためには少なくとも1μm以下であることが必要である。今回使用した銅箔は鏡面研磨した物を使用してあるが、Ra:0.2μm以下に下げることが十分可能であり、またトリアジントリチオール処理しても表面粗さの変動はRa:0.02μm以下であり、PPE樹脂の使用と合わせて20GHz程度までは対応可能である。
<実施例2〜10>
表2に示した配合で実施例1と同様にしてPPE樹脂フィルムとTTN(トリアジントリチオール)処理銅箔を作成し、樹脂フィルムの誘電率、および処理銅箔の表面粗さを測定した。なお、処理液はトリアジントリチオールのモノナトリウム塩1モルに対してトリエタノールアミン1モルの割合となるようにした。
Although the dielectric constant of PPE is 2.45, it changes slightly when TAIC (dielectric constant: 2.50) and DCP are added, but it maintains a dielectric constant of 2.7 or lower and can be used in the high frequency era of 1 GHz or higher. It turns out that it is a composition. In addition, the average surface roughness of the copper foil needs to be at least 1 μm or less in order to send a high frequency electrical signal of 1 GHz or more. Although the copper foil used this time is mirror-polished, Ra can be sufficiently lowered to 0.2 μm or less, and even if it is treated with triazine trithiol, the variation in surface roughness is Ra: 0. It is 02 μm or less and can be used up to about 20 GHz in combination with the use of PPE resin.
<Examples 2 to 10>
A PPE resin film and a TTN (triazine trithiol) -treated copper foil were prepared in the same manner as in Example 1 with the formulation shown in Table 2, and the dielectric constant of the resin film and the surface roughness of the treated copper foil were measured. The treatment liquid was adjusted to a ratio of 1 mol of triethanolamine to 1 mol of monosodium salt of triazine trithiol.

次に、これらを表2の条件で接着して剥離強度を測定した。これらの結果を表2に示す。   Next, these were adhered under the conditions shown in Table 2, and the peel strength was measured. These results are shown in Table 2.

Figure 2007186620
TAICの量を変化させると、PPF樹脂フィルムの強度は減少(実施例2:350kg/cmから実施例4:40kg/cm)するが、ガラス転移温度Tgは高く(実施例2:Tg=120℃から実施例4:Tg=180℃)なった。DCPの添加量を増量(実施例6)すると、極性成分が増加するため誘電率が増加する傾向にある。TTNの処理濃度と温度が高いと、被膜の充填密度が高くなりアリル基と反応しがたくなるため、接着強度が減少(実施例8)する傾向にある。接着温度が高くなると、界面層のアリル基の硬化反応が進行して界面層のアリル基濃度が減少するので、処理銅箔の−SCuとPPE樹脂フィルムの−CHCH=CH基の界面反応量が減少し、結果として接着強度が減少(実施例10)する。
<実施例11〜23>
TAICやDCPの配合量、処理液におけるトリアジントリチオールモノナトリウム塩の濃度、接着時の加熱温度を変えて、実施例1と同様にしてPPE樹脂フィルムとTTN処理銅箔を作成し、これらを接着して剥離強度を測定した。なお、処理液はトリアジントリチオールのモノナトリウム塩1モルに対してトリエタノールアミン1モルの割合となるようにした。これらの結果を表3に示す。
Figure 2007186620
When the amount of TAIC is changed, the strength of the PPF resin film decreases (Example 2: 350 kg / cm 2 to Example 4: 40 kg / cm 2 ), but the glass transition temperature Tg is high (Example 2: Tg = 120 ° C. and Example 4: Tg = 180 ° C.). Increasing the amount of DCP added (Example 6) tends to increase the dielectric constant because the polar component increases. When the treatment concentration and temperature of TTN are high, the filling density of the coating film becomes high and it becomes difficult to react with allyl groups, so that the adhesive strength tends to decrease (Example 8). As the adhesion temperature increases, the allyl group curing reaction of the interface layer proceeds and the allyl group concentration of the interface layer decreases, so the interface between the treated copper foil -SCu and the PPE resin film -CH 2 CH = CH 2 groups The amount of reaction decreases, resulting in a decrease in adhesive strength (Example 10).
<Examples 11 to 23>
Change the blending amount of TAIC and DCP, the concentration of triazine trithiol monosodium salt in the treatment liquid, and the heating temperature at the time of adhesion to create a PPE resin film and a TTN-treated copper foil in the same manner as in Example 1, and bond these The peel strength was measured. The treatment liquid was adjusted to a ratio of 1 mol of triethanolamine to 1 mol of monosodium salt of triazine trithiol. These results are shown in Table 3.

Figure 2007186620
これらの結果から、十分な接着強度を確保するためには、PPE樹脂100質量部に対してTAIC10〜150部、DCP0.1〜20質量部なかでもDCP1〜10質量部とすることが有効であることが確認された。また、処理液におけるトリアジントリチオールのモノナトリウムの濃度が0.1〜1000mg/dmなかでも1〜100mg/dm、あるいは接着時の加熱温度が80〜200℃の温度範囲で加熱することも有効であることが確認された。
Figure 2007186620
From these results, in order to ensure sufficient adhesive strength, it is effective to make DCP 1 to 10 parts by mass among TAIC 10 to 150 parts and DCP 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of PPE resin. It was confirmed. In addition, the concentration of monosodium triazine trithiol in the treatment liquid may be 1 to 100 mg / dm 3 among 0.1 to 1000 mg / dm 3 , or the heating temperature at the time of adhesion may be 80 to 200 ° C. It was confirmed to be effective.

Claims (14)

ポリフェニレンエーテルにトリアリルイソシアネートおよび過酸化物が必須成分として含有してなることを特徴とする接着性複合体組成物。   An adhesive composite composition comprising a polyphenylene ether containing triallyl isocyanate and a peroxide as essential components. ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、トリアリルイソシアネートが10〜150質量部、過酸化物が0.1〜20質量部の範囲で含有されていることを特徴とする請求項1に記載の接着性複合体組成物。   The adhesiveness according to claim 1, wherein 10 to 150 parts by mass of triallyl isocyanate and 0.1 to 20 parts by mass of peroxide are contained with respect to 100 parts by mass of polyphenylene ether. Composite composition. ポリフェニレンエーテル100質量部に対して、トリアリルイソシアネートが10〜150質量部、過酸化物が1〜10質量部の範囲で含有されていることを特徴とする請求項1に記載の接着性複合体組成物。   The adhesive composite according to claim 1, wherein 10 to 150 parts by mass of triallyl isocyanate and 1 to 10 parts by mass of peroxide are contained with respect to 100 parts by mass of polyphenylene ether. Composition. 次式(I)
Figure 2007186620
(式中、Mはアルカリ金属である。)
で表されるトリアジントリチオール化合物を含む溶液中に導体金属箔を浸漬してその表面に反応性皮膜を生成させた後、請求項1から3のいずれかに記載の接着性複合体組成物と前記導体金属箔とを加熱圧着して接着性複合体組成物と導体金属箔とを接着することを特徴とする接着性複合体組成物の接着方法。
Formula (I)
Figure 2007186620
(In the formula, M is an alkali metal.)
The conductive composite foil is immersed in a solution containing a triazine trithiol compound represented by the following formula to generate a reactive film on the surface thereof, and then the adhesive composite composition according to any one of claims 1 to 3 and A method for bonding an adhesive composite composition, wherein the conductive composite foil and the conductive metal foil are bonded by thermocompression bonding with the conductive metal foil.
前記式(I)で表されるトリアジントリチオール化合物において、式中のMは、Li,Na,KまたはCsであることを特徴とする請求項4に記載の接着性複合体組成物の接着方法。   In the triazine trithiol compound represented by the formula (I), M in the formula is Li, Na, K, or Cs. . トリアジントリチオール化合物を含む溶液において、トリアジントリチオール化合物の濃度は0.1〜1000mg/dmの範囲であることを特徴とする請求項4または5に記載の接着性複合体組成物の接着方法。 The method for adhering an adhesive composite composition according to claim 4 or 5, wherein in the solution containing the triazine trithiol compound, the concentration of the triazine trithiol compound is in the range of 0.1 to 1000 mg / dm 3. . トリアジントリチオール化合物を含む溶液において、トリアジントリチオール化合物の濃度は1〜100mg/dmの範囲であることを特徴とする請求項4または5に記載の接着性複合体組成物の接着方法。 The method for adhering an adhesive composite composition according to claim 4 or 5, wherein in the solution containing the triazine trithiol compound, the concentration of the triazine trithiol compound is in the range of 1 to 100 mg / dm 3 . トリアジントリチオール化合物を含む溶液に三級アミン類が添加されていることを特徴とする請求項4から7のいずれかに記載の接着性複合体組成物の接着方法。   The method for adhering an adhesive composite composition according to any one of claims 4 to 7, wherein a tertiary amine is added to the solution containing the triazine trithiol compound. 三級アミン類は、トリエタノールアミンであることを特徴とする請求項8に記載の接着性複合体組成物の接着方法。   The method for bonding an adhesive composite composition according to claim 8, wherein the tertiary amine is triethanolamine. 80℃〜200℃の温度範囲で加熱圧着することを特徴とする請求項4から9のいずれかに記載の接着性複合体組成物の接着方法。   The method for adhering an adhesive composite composition according to any one of claims 4 to 9, wherein thermocompression bonding is performed in a temperature range of 80 ° C to 200 ° C. 請求項4から10のいずれかの方法で接着性複合体組成物の片面または両面に導体金属箔を積層配置することを特徴とする積層板の製造方法。   A method for producing a laminated board, characterized in that a conductive metal foil is laminated on one or both sides of an adhesive composite composition by any one of the methods according to claim 4. 導体金属箔は、その表面の平均粗さ(Ra)が1μm以下の表面粗度を有する平滑な導体金属箔であることを特徴とする請求項11に記載の積層板の製造方法。   The method for producing a laminated board according to claim 11, wherein the conductive metal foil is a smooth conductive metal foil having a surface roughness with an average surface roughness (Ra) of 1 µm or less. 請求項11または12に記載の方法で得られた積層板の導体金属箔に導体パターンを作製してなることを特徴とするプリント配線板。   A printed wiring board obtained by producing a conductor pattern on a conductor metal foil of a laminated board obtained by the method according to claim 11. 1〜20GHzの周波数帯域において、誘電率が2.4〜2.8の範囲の低誘電体特性を有していることを特徴とする請求項13に記載のプリント配線板。   14. The printed wiring board according to claim 13, wherein the printed circuit board has a low dielectric property with a dielectric constant of 2.4 to 2.8 in a frequency band of 1 to 20 GHz.
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Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61218652A (en) * 1985-03-25 1986-09-29 Matsushita Electric Works Ltd Production of solid polyphenylene oxide
JPS61286130A (en) * 1985-06-13 1986-12-16 松下電工株式会社 Laminated board and manufacture thereof
JPH01190448A (en) * 1988-01-26 1989-07-31 Matsushita Electric Works Ltd Thermoset polyphenylene oxide resin multilayered plate
JPH01215815A (en) * 1988-02-23 1989-08-29 Matsushita Electric Works Ltd Thermosetting resin composition and metal-clad laminate thereof
JPH02233666A (en) * 1989-03-06 1990-09-17 Kunio Mori Di(1,3-5-triazine-2,4,6-trithiol)triethanolamine complex and production thereof
JPH05261842A (en) * 1992-03-18 1993-10-12 Yokohama Rubber Co Ltd:The Manufacture of pneumatic radial tire for heavy load
JPH08231848A (en) * 1995-02-27 1996-09-10 Matsushita Electric Works Ltd Production of prepreg
JPH08245871A (en) * 1995-03-08 1996-09-24 Asahi Chem Ind Co Ltd Curable polyphenylene ether resin composition
JPH0931220A (en) * 1995-07-24 1997-02-04 Matsushita Electric Works Ltd Production of prepreg
JP2000218935A (en) * 1999-01-28 2000-08-08 Polyplastics Co Manufacture of composite part
JP2001218935A (en) * 2000-02-14 2001-08-14 Sophia Co Ltd Game machine
JP2004131638A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Curable resin composition
JP2005008829A (en) * 2003-06-20 2005-01-13 Kyocera Chemical Corp Polyphenylene ether resin composition, prepreg containing the same, laminated plate, copper-clad laminated plate and printed circuit board
JP2005015613A (en) * 2003-06-25 2005-01-20 Matsushita Electric Works Ltd Polyphenylene ether resin composition, prepreg, and laminated board

Patent Citations (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS61218652A (en) * 1985-03-25 1986-09-29 Matsushita Electric Works Ltd Production of solid polyphenylene oxide
JPS61286130A (en) * 1985-06-13 1986-12-16 松下電工株式会社 Laminated board and manufacture thereof
JPH01190448A (en) * 1988-01-26 1989-07-31 Matsushita Electric Works Ltd Thermoset polyphenylene oxide resin multilayered plate
JPH01215815A (en) * 1988-02-23 1989-08-29 Matsushita Electric Works Ltd Thermosetting resin composition and metal-clad laminate thereof
JPH02233666A (en) * 1989-03-06 1990-09-17 Kunio Mori Di(1,3-5-triazine-2,4,6-trithiol)triethanolamine complex and production thereof
JPH05261842A (en) * 1992-03-18 1993-10-12 Yokohama Rubber Co Ltd:The Manufacture of pneumatic radial tire for heavy load
JPH08231848A (en) * 1995-02-27 1996-09-10 Matsushita Electric Works Ltd Production of prepreg
JPH08245871A (en) * 1995-03-08 1996-09-24 Asahi Chem Ind Co Ltd Curable polyphenylene ether resin composition
JPH0931220A (en) * 1995-07-24 1997-02-04 Matsushita Electric Works Ltd Production of prepreg
JP2000218935A (en) * 1999-01-28 2000-08-08 Polyplastics Co Manufacture of composite part
JP2001218935A (en) * 2000-02-14 2001-08-14 Sophia Co Ltd Game machine
JP2004131638A (en) * 2002-10-11 2004-04-30 Nippon Steel Chem Co Ltd Curable resin composition
JP2005008829A (en) * 2003-06-20 2005-01-13 Kyocera Chemical Corp Polyphenylene ether resin composition, prepreg containing the same, laminated plate, copper-clad laminated plate and printed circuit board
JP2005015613A (en) * 2003-06-25 2005-01-20 Matsushita Electric Works Ltd Polyphenylene ether resin composition, prepreg, and laminated board

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