JP2007186494A - 含硫黄フルオロアルカン化合物及びその用途 - Google Patents
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Abstract
【課題】有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を提供すること。
【解決手段】式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1はＣ２−Ｃ６フルオロアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、ｎは１又は２を表す。〕で示される含硫黄フルオロアルカン化合物は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有することから、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
【選択図】なし
【解決手段】式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1はＣ２−Ｃ６フルオロアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、ｎは１又は２を表す。〕で示される含硫黄フルオロアルカン化合物は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有することから、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
【選択図】なし
Description
本発明は、含硫黄フルオロアルカン化合物及びその用途に関する。
従来より、有害節足動物を防除するために多くの有害節足動物防除剤が開発され、実用に供されている（例えば、非特許文献１参照。）。
渋谷成美、川幡寛、川幡真理子、嶋崎功 編、"SHIBUYA INDEX" −2005−（10th Edition）、SHIBUYA INDEX研究会発行．
本発明は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を提供することを課題とする。
本発明者は、有害節足動物に対して優れた防除効力を有する化合物を見出すべく検討した結果、下記式（Ｉ）で示される含硫黄フルオロアルカン化合物が有害昆虫類並びに有害ダニ類等の有害節足動物に対して優れた防除効力を有することを見出し、本発明に到った。
即ち、本発明は下記式（Ｉ）
〔式中、Ｒ1はＣ２−Ｃ６フルオロアルキル基を表し、Ｒ2は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｒ3はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、ｎは１又は２を表す。〕で示される含硫黄フルオロアルカン化合物（以下、本発明化合物と記す場合がある。）、本発明化合物を含有することを特徴とする有害節足動物防除剤及び本発明化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法を提供する。
即ち、本発明は下記式（Ｉ）
本発明化合物は有害節足動物に対して防除効力を有することから、有害節足動物防除剤の有効成分として有用である。
本発明において、Ｃ１−Ｃ４等の記載は、各置換基を構成する全炭素数を意味する。また、本発明において、フルオロアルキル基との記載は、炭素原子に１個又は２個以上のフッ素原子が結合してなるアルキル基を表す。
式（Ｉ）においてＲ1で示されるＣ２−Ｃ６フルオロアルキル基としては、
例えば
２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等のＣ２フルオロアルキル基；
２−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３，３−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基及び１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基等のＣ３フルオロアルキル基；
２−フルオロブチル基、２，２−ジフルオロブチル基、３−フルオロブチル基、３，３−ジフルオロブチル基、４−フルオロブチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブチル基及び２，３，３，３−テトラフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロピル基等のＣ４フルオロアルキル基；
２−フルオロペンチル基、２，２−ジフルオロペンチル基、３−フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロペンチル基、４−フルオロペンチル基、４，４−ジフルオロペンチル基、５−フルオロペンチル基、５，５−ジフルオロペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基等のＣ５フルオロアルキル基；
２−フルオロヘキシル基、２，２−ジフルオロヘキシル基、３−フルオロヘキシル基、３，３−ジフルオロヘキシル基、４−フルオロヘキシル基、４，４−ジフルオロヘキシル基、５−フルオロヘキシル基、５，５−ジフルオロヘキシル基、６−フルオロヘキシル基、６，６−ジフルオロヘキシル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキシル基、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル基等のＣ６フルオロアルキル基が挙げられる。
例えば
２−フルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、１，１，２，２−テトラフルオロエチル基、１，１，２，２，２−ペンタフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基等のＣ２フルオロアルキル基；
２−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３，３−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基及び１，１，２，２，３，３，３−ヘプタフルオロプロピル基等のＣ３フルオロアルキル基；
２−フルオロブチル基、２，２−ジフルオロブチル基、３−フルオロブチル基、３，３−ジフルオロブチル基、４−フルオロブチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４−オクタフルオロブチル基、１，１，２，２，３，３，４，４，４−ノナフルオロブチル基及び２，３，３，３−テトラフルオロ−２−（トリフルオロメチル）プロピル基等のＣ４フルオロアルキル基；
２−フルオロペンチル基、２，２−ジフルオロペンチル基、３−フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロペンチル基、４−フルオロペンチル基、４，４−ジフルオロペンチル基、５−フルオロペンチル基、５，５−ジフルオロペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基等のＣ５フルオロアルキル基；
２−フルオロヘキシル基、２，２−ジフルオロヘキシル基、３−フルオロヘキシル基、３，３−ジフルオロヘキシル基、４−フルオロヘキシル基、４，４−ジフルオロヘキシル基、５−フルオロヘキシル基、５，５−ジフルオロヘキシル基、６−フルオロヘキシル基、６，６−ジフルオロヘキシル基、６，６，６−トリフルオロヘキシル基、５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキシル基、４，４，５，５，６，６，６−ヘプタフルオロヘキシル基、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシル基等のＣ６フルオロアルキル基が挙げられる。
式（Ｉ）においてＲ3で示されるＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基としては、
例えば
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及びペンタフルオロエチル基等のＣ１−Ｃ２フルオロアルキル基；
１−フルオロプロピル基、１，１−ジフルオロプロピル基、２−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３，３−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基及び２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基等のＣ３フルオロアルキル基；
１−フルオロブチル基、１，１−ジフルオロブチル基、２−フルオロブチル基、２，２−ジフルオロブチル基、３−フルオロブチル基、３，３−ジフルオロブチル基、４−フルオロブチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，４，４−ペンタフルオロブチル基及び２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基等のＣ４フルオロアルキル基；
１−フルオロペンチル基、１，１−ジフルオロペンチル基、２−フルオロペンチル基、２，２−ジフルオロペンチル基、３−フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロペンチル基、４−フルオロペンチル基、４，４−ジフルオロペンチル基、５−フルオロペンチル基、５，５−ジフルオロペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基等のＣ５フルオロアルキル基が挙げられる。
例えば
フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、１−フルオロエチル基、２−フルオロエチル基、１，１−ジフルオロエチル基、２，２−ジフルオロエチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基及びペンタフルオロエチル基等のＣ１−Ｃ２フルオロアルキル基；
１−フルオロプロピル基、１，１−ジフルオロプロピル基、２−フルオロプロピル基、２，２−ジフルオロプロピル基、３−フルオロプロピル基、３，３−ジフルオロプロピル基、３，３，３−トリフルオロプロピル基、ヘプタフルオロプロピル基、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基、２，２，２−トリフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基、１，２，２，２−テトラフルオロ−（１−トリフルオロメチル）エチル基及び２，２，３，３−テトラフルオロプロピル基等のＣ３フルオロアルキル基；
１−フルオロブチル基、１，１−ジフルオロブチル基、２−フルオロブチル基、２，２−ジフルオロブチル基、３−フルオロブチル基、３，３−ジフルオロブチル基、４−フルオロブチル基、４，４−ジフルオロブチル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，４，４−ペンタフルオロブチル基及び２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基等のＣ４フルオロアルキル基；
１−フルオロペンチル基、１，１−ジフルオロペンチル基、２−フルオロペンチル基、２，２−ジフルオロペンチル基、３−フルオロペンチル基、３，３−ジフルオロペンチル基、４−フルオロペンチル基、４，４−ジフルオロペンチル基、５−フルオロペンチル基、５，５−ジフルオロペンチル基、５，５，５−トリフルオロペンチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル基及び２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチル基等のＣ５フルオロアルキル基が挙げられる。
式（Ｉ）においてＲ2で示されるＣ１−Ｃ４アルキル基としては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基が挙げられる。
次に本発明化合物の製造法について説明する。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）及び（製造法２）により製造することができる。
本発明化合物は、例えば以下の（製造法１）及び（製造法２）により製造することができる。
（製造法１）
本発明化合物は、化合物（ａ）を酸化することにより製造することができる。
［式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びｎは前記と同じ意味を表す。］
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（ａ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
本発明化合物は、化合物（ａ）を酸化することにより製造することができる。
該反応は、酸化剤の存在下、通常溶媒の存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（ａ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
（製造法２）
本発明化合物は、化合物（ｂ）を酸又はアルカリ金属ハロゲン化物の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ4は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表す。〕
該反応は水の存在下、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸が挙げられ、アルカリ金属ハロゲン化物としては、例えば塩化リチウム、塩化カリウム及び塩化ナトリウムが挙げられる。
反応に用いられる酸又はアルカリ金属ハロゲン化物の量は、化合物（ｂ）１モルに対して、通常０．０１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる水の量は、化合物（ｂ）１モルに対して、通常１モル〜過剰量である。
該反応の反応温度は通常１００〜２５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出したから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
本発明化合物は、化合物（ｂ）を酸又はアルカリ金属ハロゲン化物の存在下、水と反応させることにより製造することができる。
該反応は水の存在下、溶媒の存在下又は非存在下で行われる。
反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等の酸アミド、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄及びこれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸としては、例えばｐ−トルエンスルホン酸が挙げられ、アルカリ金属ハロゲン化物としては、例えば塩化リチウム、塩化カリウム及び塩化ナトリウムが挙げられる。
反応に用いられる酸又はアルカリ金属ハロゲン化物の量は、化合物（ｂ）１モルに対して、通常０．０１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる水の量は、化合物（ｂ）１モルに対して、通常１モル〜過剰量である。
該反応の反応温度は通常１００〜２５０℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出したから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより本発明化合物を単離することができる。単離された本発明化合物は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
次に、本発明化合物の中間体の参考製造法を示す。
（参考製造法１）
化合物（ａ）は、例えば化合物（ｃ）と化合物（ｄ）とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記と同じ意味を表し、Ｘ1は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｄ）1モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｃ）の量は、化合物（ｄ）１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ａ）を単離することができる。単離された化合物（ａ）は必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留等によりさらに精製することもできる。
化合物（ａ）は、例えば化合物（ｃ）と化合物（ｄ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｄ）1モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｃ）の量は、化合物（ｄ）１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ａ）を単離することができる。単離された化合物（ａ）は必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法２）
化合物（ａ）は、例えば化合物（ｅ）と化合物（ｆ）とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は前記と同じ意味を表し、Ｘ2は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｅ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｆ）の量は、化合物（ｅ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ａ）を単離することができる。単離された化合物（ａ）は必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留等によりさらに精製することもできる。
化合物（ａ）は、例えば化合物（ｅ）と化合物（ｆ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｅ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｆ）の量は、化合物（ｅ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ａ）を単離することができる。単離された化合物（ａ）は必要に応じてクロマトグラフィー、蒸留等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法３）
化合物（ｂ）は、例えば化合物（ｇ）と化合物（ｈ）とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｘ3は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｈ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｇ）の量は、化合物（ｈ）１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｂ）を単離することができる。単離された化合物（ｂ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物（ｂ）は、例えば化合物（ｇ）と化合物（ｈ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｈ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｇ）の量は、化合物（ｈ）１モルに対して、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｂ）を単離することができる。単離された化合物（ｂ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法４）
化合物（ｂ）のうち、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物は、例えば化合物（ｉ）と化合物（ｊ）とを反応させることにより製造することもできる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｒ2-1はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、Ｘ4は塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｊ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｉ）の量は、化合物（ｊ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｂ−１）を単離することができる。単離された化合物（ｂ−１）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物（ｂ）のうち、Ｒ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物は、例えば化合物（ｉ）と化合物（ｊ）とを反応させることにより製造することもできる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｊ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｉ）の量は、化合物（ｊ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｂ−１）を単離することができる。単離された化合物（ｂ−１）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法５）
化合物（ｈ）のうちＲ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物は、例えば化合物（ｉ）と化合物（ｋ）とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ2-1、Ｒ3、Ｒ4、ｎ及びＸ4は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｋ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｉ）の量は、化合物（ｋ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｈ−１）を単離することができる。単離された化合物（ｈ−１）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物（ｈ）のうちＲ2がＣ１−Ｃ４アルキル基である化合物は、例えば化合物（ｉ）と化合物（ｋ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｋ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｉ）の量は、化合物（ｋ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｈ−１）を単離することができる。単離された化合物（ｈ−１）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法６）
化合物（ｊ）は、例えば化合物（ｇ）と化合物（ｋ）とを反応させることにより製造することができる。
〔式中、Ｒ1、Ｒ3、Ｒ4、ｎ及びＸ3は前記と同じ意味を表す。〕
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｋ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｇ）の量は、化合物（ｋ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｊ）を単離することができる。単離された化合物（ｊ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
化合物（ｊ）は、例えば化合物（ｇ）と化合物（ｋ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｋ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｇ）の量は、化合物（ｋ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−１００〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｊ）を単離することができる。単離された化合物（ｊ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（参考製造法７）
化合物（ｋ）は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
〔式中、Ｒ3、Ｒ4及びｎは前記と同じ意味を表し、Ｘ5及びＸ6は各々、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基又はトリフルオロメタンスルホニルオキシ基を表す。〕
（工程VII−１−ａ）
化合物（ｐ）は、例えば化合物（ｌ）と化合物（ｍ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｌ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｍ）の量は、化合物（ｌ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｐ）を単離することができる。単離された化合物（ｐ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（工程VII−１−ｂ）
化合物（ｐ）は、例えば化合物（ｎ）と化合物（ｏ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｏ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｎ）の量は、化合物（ｏ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｐ）を単離することができる。単離された化合物（ｐ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（工程VII−２）
化合物（ｋ）は例えば化合物（ｐ）を酸化剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸類等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（ｐ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物（ｋ）を単離することができる。単離した化合物（ｋ）は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
化合物（ｋ）は、例えば以下に示す方法により製造することができる。
（工程VII−１−ａ）
化合物（ｐ）は、例えば化合物（ｌ）と化合物（ｍ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｌ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｍ）の量は、化合物（ｌ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｐ）を単離することができる。単離された化合物（ｐ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（工程VII−１−ｂ）
化合物（ｐ）は、例えば化合物（ｎ）と化合物（ｏ）とを反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒中、塩基の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の酸アミド、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン等のエーテル、ジメチルスルホキシド、スルホラン等の有機硫黄、クロロホルム、１，２−ジクロロエタン、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる塩基としては、例えば水素化ナトリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等の無機塩基、ナトリウムメトキシド、カリウム ｔｅｒｔ−ブトキシド等のアルカリ金属アルコキシド、リチウムジイソプロピルアミド等のアルカリ金属アミド類、及び、トリエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン等の有機塩基が挙げられる。反応に用いられる塩基の量は、化合物（ｏ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
反応に用いられる化合物（ｎ）の量は、化合物（ｏ）１モルに対し、通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−２０〜１００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜２４時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の後処理操作を行うことにより化合物（ｐ）を単離することができる。単離された化合物（ｐ）は必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等によりさらに精製することもできる。
（工程VII−２）
化合物（ｋ）は例えば化合物（ｐ）を酸化剤と反応させることにより製造することができる。
該反応は通常溶媒の存在下で行われる。反応に用いられる溶媒としては、例えばメタノール、エタノール等のアルコール、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素、酢酸、トリフルオロ酢酸等の脂肪族カルボン酸、水及びそれらの混合物が挙げられる。
該反応に用いられる酸化剤としては、例えば過酢酸、トリフルオロ過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸類等の有機過酸化物、塩素、臭素のハロゲン分子、Ｎ−クロロコハク酸イミド等の含ハロゲンイミド、過塩素酸（若しくはその塩）、過ヨウ素酸（若しくはその塩）等のハロゲン化物、過マンガン酸カリウム等の過マンガン酸塩、クロム酸カリウム等のクロム酸塩及び過酸化水素が挙げられる。反応に用いられる酸化剤の量は、化合物（ｐ）１モルに対して通常１〜１０モルの割合である。
該反応の反応温度は通常−５０〜２００℃の範囲であり、反応時間は通常１〜７２時間の範囲である。
反応終了後は、反応混合物を水に注加し、有機溶媒抽出してから、濃縮する等の操作を行うことにより、化合物（ｋ）を単離することができる。単離した化合物（ｋ）は、必要に応じてクロマトグラフィー、再結晶等でさらに精製することもできる。
尚、前記化合物（ｄ）、（ｅ）、（ｌ）及び（ｏ）は、例えばThe Journal of Organic Chemistry, 27(1), p.93-95(1962)又はHETEROCYCLES, 24(5), p.1331-1346(1986)に記載の方法に準じて製造することができる。
式（Ｉ）で示される本発明化合物が防除効力を示す有害節足動物としては、有害昆虫類並びに有害ダニ類等が挙げられる。より具体的には、下記のものが挙げられる。
半翅目害虫：ヒメトビウンカ（Laodelphax striatellus）、トビイロウンカ（Nilaparvata lugens）、セジロウンカ（Sogatella furcifera）等のウンカ類、ツマグロヨコバイ（Nephotettix cincticeps）、タイワンツマグロヨコバイ（Nephotettix virescens）等のヨコバイ類、ワタアブラムシ（Aphis gossypii）、モモアカアブラムシ（Myzus persicae）、ダイコンアブラムシ(Brevicoryne brassicae)、チューリップヒゲナガアブラムシ(Macrosiphum euphorbiae)、ジャガイモヒゲナガアブラムシ(Aulacorthum solani)、ムギクビレアブラムシ(Rhopalosiphum padi),ミカンクロアブラムシ（Toxoptera citricidus）等のアブラムシ類、アオクサカメムシ（Nezara antennata）、ホソヘリカメムシ（Riptortus clavetus）、オオトゲシラホシカメムシ（Eysarcoris lewisi）、トゲシラホシカメムシ（Eysarcoris parvus）、チャバネアオカメムシ（Plautia stali）、クサギカメムシ（Halyomorpha mista）アカスジカスミカメ(Stenotus rubrovittatus)、アカヒゲホソミドリカスミカメ(Trigonotylus ruficornis)等のカメムシ類、オンシツコナジラミ（Trialeurodes vaporariorum）、シルバーリーフコナジラミ（Bemisia argentifolii）等のコナジラミ類、アカマルカイガラムシ（Aonidiella aurantii）、サンホーゼカイガラムシ（Comstockaspis perniciosa）、シトラススノースケール（Unaspis citri）、ルビーロウムシ（Ceroplastes rubens）、イセリヤカイガラムシ（Icerya purchasi）等のカイガラムシ類、グンバイムシ類、トコジラミ（Cimex lectularius）等のトコジラミ類、キジラミ類等；
鱗翅目害虫：ニカメイガ（Chilo suppressalis）、コブノメイガ（Cnaphalocrocis medinalis）、ワタノメイガ（Notarcha derogata）、ノシメマダラメイガ（Plodia interpunctella）、アワノメイガ（Maruca testulalis）、ハイマダラノメイガ（Hellula undalis）、シバツトガ（Pediasia teterrellus）等のメイガ類、ハスモンヨトウ（Spodoptera litura）、アワヨトウ（Pseudaletia separata）、トリコプルシア属、ヘリオティス属、ヘリコベルパ属等のヤガ類、モンシロチョウ（Pieris rapae）等のシロチョウ類、アドキソフィエス属、ナシヒメシンクイ（Grapholita molesta）、コドリンガ（Cydia pomonella）等のハマキガ類、モモシンクイガ（Carposina niponensis）等のシンクイガ類、リオネティア属等のハモグリガ類、リマントリア属、ユープロクティス属等のドクガ類、コナガ（Plutella xylostella）等のスガ類、チャノホソガ（Caloptilia theivora）、キンモンホソガ（Phyllonorycter ringoneella）のホソガ類、ワタアカミムシ（Pectinophora gossypiella）等のキバガ類、アメリカシロヒトリ（Hyphantria cunea）等のヒトリガ類、イガ（Tinea translucens）、コイガ（Tineola bisselliella）等のヒロズコガ類等；
双翅目害虫：アカイエカ（Culex pipiens pallens）、コガタアカイエカ（Culex tritaeniorhynchus）、ネッタイイエカ（Culex quinquefasciatus）等のイエカ類、ネッタイシマカ（Aedes aegypti）、ヒトスジシマカ（Aedes albopictus）等のエーデス属、（Anopheles sinensis）等のアノフェレス属、ユスリカ類、イエバエ（Musca domestica）、オオイエバエ（Muscina stabulans）等のイエバエ類、クロバエ類、ニクバエ類、ヒメイエバエ類、タネバエ（Delia platura）、タマネギバエ（Delia antiqua）等のハナバエ類、マメハモグリバエ（Liriomyza trifolii）等のハモグリバエ類、ミバエ類、ショウジョウバエ類、オオキモンノミバエ（Megaselia spiracularis）等のノミバエ類、オオチョウバエ（Clogmia albipunctata）等のチョウバエ類、ブユ類、アブ類、サシバエ類等；
鞘翅目害虫：ウエスタンコーンルートワーム（Diabrotica virgifera virgifera）、サザンコーンルートワーム（Diabrotica undecimpunctata howardi）等のコーンルートワーム類、ドウガネブイブイ（Anomala cuprea）、ヒメコガネ（Anomala rufocuprea）等のコガネムシ類、メイズウィービル（Sitophilus zeamais）、イネミズゾウムシ（Lissorhoptrus oryzophilus）、アズキゾウムシ（Callosobruchuys chienensis）等のゾウムシ類、チャイロコメノゴミムシダマシ（Tenebrio molitor）、コクヌストモドキ（Tribolium castaneum）等のゴミムシダマシ類、イネドロオイムシ（Oulema oryzae）、ウリハムシ（Aulacophora femoralis）、キスジノミハムシ（Phyllotreta striolata）、コロラドハムシ（Leptinotarsa decemlineata）等のハムシ類、ハラジロカツオブシムシ(Dermestes maculates)等のカツオブシムシ類、シバンムシ類、ニジュウヤホシテントウ（Epilachna vigintioctopunctata）等のエピラクナ類、ヒラタキクイムシ類、ナガシンクイムシ類、ヒョウホンムシ類、カミキリムシ類、アオバアリガタハネカクシ（Paederus fuscipes）等；
ゴキブリ目害虫：チャバネゴキブリ（Blattella germanica）、クロゴキブリ（Periplaneta fuliginosa）、ワモンゴキブリ（Periplaneta americana）、トビイロゴキブリ（Periplaneta brunnea）、トウヨウゴキブリ（Blatta orientalis）等；
アザミウマ目害虫：ミナミキイロアザミウマ（Thrips palmi）、ネギアザミウマ（Thrips tabaci）、ミカンキイロアザミウマ（Frankliniella occidentalis）、ヒラズハナアザミウマ（Frankliniella intonsa）、チャノキイロアザミウマ（Scirtothrips dorsalis）等；
膜翅目害虫：イエヒメアリ(Monomorium pharaosis)、クロヤマアリ（Formica fusca japonica）、ルリアリ（Ochetellus glaber）、アミメアリ（Pristomyrmex pungens）、オオズアリ（Pheidole noda）、アルゼンチンアリ（Linepithema humile）等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、ニホンカブラバチ（Athalia japonica）等のハバチ類等；
膜翅目害虫：イエヒメアリ(Monomorium pharaosis)、クロヤマアリ（Formica fusca japonica）、ルリアリ（Ochetellus glaber）、アミメアリ（Pristomyrmex pungens）、オオズアリ（Pheidole noda）、アルゼンチンアリ（Linepithema humile）等のアリ類、スズメバチ類、アリガタバチ類、ニホンカブラバチ（Athalia japonica）等のハバチ類等；
直翅目害虫：ケラ類、バッタ類、コオロギ類等；
隠翅目害虫：ネコノミ（Ctenocephalides felis）、イヌノミ(Ctenocephalides canis)、ヒトノミ（Pulex irritans）、ケオプスネズミノミ（Xenopsylla cheopis）等。
シラミ目害虫：コロモジラミ（Pediculus humanus corporis）、ケジラミ (Phthirus pubis)、ウシジラミ（Haematopinus eurysternus）、ヒツジジラミ（Dalmalinia ovis）、ブタジラミ（Haematopinus suis）等；
シロアリ目害虫：ヤマトシロアリ（Reticulitermes speratus）、イエシロアリ（Coptotermes formosanus）、イースタンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes flavipes）、ウエスタンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes hesperus）、ダークサザンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes virginicus）、アリッドランドサブテラニアンターマイト（Reticulitermes tibialis）、デザートサブテラニアンターマイト（Heterotermes aureus）等のサブテラニアンターマイト類、アメリカカンザイシロアリ（Incisitermes minor）等のドライウッドターマイト類、ネバダダンプウッドターマイト（Zootermopsis nevadensis）等のダンプウッドターマイト類等；
隠翅目害虫：ネコノミ（Ctenocephalides felis）、イヌノミ(Ctenocephalides canis)、ヒトノミ（Pulex irritans）、ケオプスネズミノミ（Xenopsylla cheopis）等。
シラミ目害虫：コロモジラミ（Pediculus humanus corporis）、ケジラミ (Phthirus pubis)、ウシジラミ（Haematopinus eurysternus）、ヒツジジラミ（Dalmalinia ovis）、ブタジラミ（Haematopinus suis）等；
シロアリ目害虫：ヤマトシロアリ（Reticulitermes speratus）、イエシロアリ（Coptotermes formosanus）、イースタンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes flavipes）、ウエスタンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes hesperus）、ダークサザンサブテラニアンターマイト（Reticulitermes virginicus）、アリッドランドサブテラニアンターマイト（Reticulitermes tibialis）、デザートサブテラニアンターマイト（Heterotermes aureus）等のサブテラニアンターマイト類、アメリカカンザイシロアリ（Incisitermes minor）等のドライウッドターマイト類、ネバダダンプウッドターマイト（Zootermopsis nevadensis）等のダンプウッドターマイト類等；
ダニ目害虫：ナミハダニ（Tetranychus urticae）、カンザワハダニ（Tetranychus kanzawai）、ミカンハダニ（Panonychus citri）、リンゴハダニ（Panonychus ulmi）、オリゴニカス属等のハダニ類、トマトサビダニ(Aculops lycopers)、ミカンサビダニ（Aculops pelekassi）、リンゴサビダニ（Aculus schlechtendali）等のフシダニ類、チャノホコリダニ（Polyphagotarsonemus latus）等のホコリダニ類、ヒメハダニ類、ケナガハダニ類、フタトゲチマダニ（Haemaphysalis longicornis）、キチマダニ（Haemaphysalis flava）、アメリカンドッグチック（Dermacentor variabilis）、ヤマトチマダニ（Haemaphysalis flava）、タイワンカクマダニ（Dermacentor taiwanicus）、ヤマトマダニ(Ixodes ovatus)、シュルツマダニ(Ixodes persulcatus) 、ブラックレッグドチック(Ixodes scapularis)、オウシマダニ(Boophilus microplus)、ローンスターチック(Amblyomma americanum)、クリイロコイタマダニ(Rhipicephalus sanguineus)等のマダニ類、ケナガコナダニ（Tyrophagus putrescentiae）等のコナダニ類、コナヒョウヒダニ(Dermatophagoides farinae)、ヤケヒョウヒダニ(Dermatophagoides ptrenyssnus)等のヒョウヒダニ類、ホソツメダニ(Cheyletus eruditus)、クワガタツメダニ(Cheyletus malaccensis)、ミナミツメダニ(Cheyletus moorei)等のツメダニ類、イエダニ(Ornithonyssus bacoti)、トリサシダニ(Ornithonyssus sylvairum)、ワクモ(Dermanyssus gallinae)等のワクモ類、アオツツガムシ(Leptotrombidium akamushi)等のツツガムシ類等；
クモ類：カバキコマチグモ（Chiracanthium japonicum）、セアカゴケグモ（Latrodectus hasseltii）等；
クモ類：カバキコマチグモ（Chiracanthium japonicum）、セアカゴケグモ（Latrodectus hasseltii）等；
唇脚綱類：ゲジ（Thereuonema hilgendorfi）、トビズムカデ（Scolopendra subspinipes）等；
倍脚綱類：ヤケヤスデ（Oxidus gracilis）、アカヤスデ（Nedyopus tambanus）等；
等脚目類：オカダンゴムシ（Armadillidium vulgare）等；
腹足綱類：チャコウラナメクジ（Limax marginatus）、キイロコウラナメクジ（Limax flavus）等。
倍脚綱類：ヤケヤスデ（Oxidus gracilis）、アカヤスデ（Nedyopus tambanus）等；
等脚目類：オカダンゴムシ（Armadillidium vulgare）等；
腹足綱類：チャコウラナメクジ（Limax marginatus）、キイロコウラナメクジ（Limax flavus）等。
本発明の有害節足動物防除剤は本発明化合物そのものでもよいが、通常は固体担体、液体担体及び又はガス状担体と混合し、更に必要に応じて界面活性剤その他の製剤用補助剤を添加して、乳剤、油剤、シャンプー剤、フロアブル剤、粉剤、水和剤、粒剤、ペースト状製剤、マイクロカプセル製剤、泡沫剤、エアゾール製剤、炭酸ガス製剤、錠剤、樹脂製剤等の形態に製剤化されたものである。これらの製剤は、毒餌、蚊取り線香、電気蚊取りマット、燻煙剤、燻蒸剤、シートに加工されて、使用されることもある。
これらの製剤は、本発明化合物を通常０．１〜９５重量％含有する。
これらの製剤は、本発明化合物を通常０．１〜９５重量％含有する。
製剤化の際に用いられる固体担体としては、例えば粘土類（カオリンクレー、珪藻土、ベントナイト、フバサミクレー、酸性白土等）、合成含水酸化珪素、タルク、セラミック、その他の無機鉱物（セリサイト、石英、硫黄、活性炭、炭酸カルシウム、水和シリカ等）、化学肥料（硫安、燐安、硝安、塩安、尿素等）等の微粉末及び粒状物が挙げられる。
液体担体としては、例えば芳香族または脂肪族炭化水素（キシレン、トルエン、アルキルナフタレン、フェニルキシリルエタン、ケロシン、軽油、ヘキサン、シクロヘキサン等）、ハロゲン化炭化水素（クロロベンゼン、ジクロロメタン、ジクロロエタン、トリクロロエタン等）、アルコール（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノール、ヘキサノール、エチレングリコール等）、エーテル（ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、エステル（酢酸エチル、酢酸ブチル等）、ケトン（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、ニトリル（アセトニトリル、イソブチロニトリル等）、スルホキシド（ジメチルスルホキシド等）、酸アミド（Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、植物油（大豆油、綿実油等）、植物精油（オレンジ油、ヒソップ油、レモン油等）及び水等が挙げられる。
ガス状担体としては、例えばブタンガス、クロロフルオロカーボン、液化石油ガス（ＬＰＧ）、ジメチルエーテル及び炭酸ガス等を挙げることができる。
界面活性剤としては、例えばアルキル硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アルキルアリールエーテル及びそのポリオキシエチレン化物、ポリエチレングリコールエーテル、多価アルコールエステル及び糖アルコール誘導体が挙げられる。
その他の製剤用補助剤としては、固着剤、分散剤及び安定剤等、具体的には例えばカゼイン、ゼラチン、多糖類（澱粉、アラビアガム、セルロース誘導体、アルギン酸等）、リグニン誘導体、ベントナイト、糖類、合成水溶性高分子（ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸類等）、ＰＡＰ（酸性リン酸イソプロピル）、ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、ＢＨＡ（２−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノールと３−ｔ−ブチル−４−メトキシフェノールとの混合物）、植物油、鉱物油、脂肪酸及び脂肪酸エステルが挙げられる。
樹脂製剤の基材としては、例えば塩化ビニル系重合体、ポリウレタン等を挙げることができ、これらの基材には必要によりフタル酸エステル（フタル酸ジメチル、フタル酸ジオクチル等）、アジピン酸エステル、ステアリン酸等の可塑剤が添加されていてもよい。樹脂製剤は該基材中に化合物を通常の混練装置を用いて混練した後、射出成型、押出成型、プレス成型等により成型することにより得られ、必要により更に成型、裁断等の工程を経て、板状、フィルム状、テープ状、網状、ひも状等の樹脂製剤に加工できる。これらの樹脂製剤は、例えば動物用首輪、動物用イヤータッグ、シート製剤、誘引ひも、園芸用支柱として加工される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
毒餌の基材としては、例えば穀物粉、植物油、糖、結晶セルロース等が挙げられ、更に必要に応じて、ジブチルヒドロキシトルエン、ノルジヒドログアイアレチン酸等の酸化防止剤、デヒドロ酢酸等の保存料、トウガラシ末等の子供やペットによる誤食防止剤、チーズ香料、タマネギ香料ピーナッツオイル等の害虫誘引性香料等が添加される。
本発明の有害節足動物防除剤は、例えば有害節足動物に直接、及び／又は有害節足動物の生息場所（植物体、動物体、土壌等）に施用することにより用いられる。
本発明の有害節足動物防除剤を農林害虫の防除に用いる場合は、その施用量は有効成分量として通常１〜１００００ｇ／ｈａ、好ましくは１０〜５００ｇ／ｈａである。乳剤、水和剤、フロアブル剤、マイクロカプセル製剤等は通常有効成分濃度が１〜１０００ｐｐｍとなるように水で希釈して使用し、粉剤、粒剤等は通常そのまま使用する。これらの製剤を有害節足動物から保護すべき植物に対して直接散布してもよい。これらの製剤を土壌に処理することにより土壌に棲息する有害節足動物を防除することもでき、またこれらの製剤を植物を植え付ける前の苗床に処理したり、植付時に植穴や株元に処理することもできる。さらに、本発明の有害節足動物防除剤のシート製剤を植物に巻き付けたり、植物の近傍に設置したり、株元の土壌表面に敷くなどの方法でも施用することができる。
本発明の有害節足動物防除剤を防疫用として用いる場合は、その施用量は空間に適用するときは有効成分量として通常０．００１〜１０ｍｇ／ｍ3であり、平面に適用するときは０．００１〜１００ｍｇ／ｍ2である。乳剤、水和剤、フロアブル剤等は通常有効成分濃度が０．０１〜１００００ｐｐｍとなるように水で希釈して施用し、油剤、エアゾール、燻煙剤、毒餌等は通常そのまま施用する。
本発明の有害節足動物防除剤をウシ、ウマ、ブタ、ヒツジ、ヤギ、ニワトリ用の家畜、イヌ、ネコ、ラット、マウス等の小動物の外部寄生虫防除に用いる場合は、獣医学的に公知の方法で動物に使用することができる。具体的な使用方法としては、全身抑制を目的にする場合には、例えば錠剤、飼料混入、坐薬、注射（筋肉内、皮下、静脈内、腹腔内等）により投与され、非全身的抑制を目的とする場合には、例えば油剤若しくは水性液剤を噴霧する、ポアオン処理若しくはスポットオン処理を行う、シャンプー製剤で動物を洗う又は樹脂製剤を首輪や耳札にして動物に付ける等の方法により用いられる。動物体に投与する場合の本発明化合物の量は、通常動物の体重１ｋｇに対して、０．１〜１０００ｍｇの範囲である。
本発明の有害節足動物防除剤は他の殺虫剤、殺線虫剤、殺ダニ剤、殺菌剤、除草剤、植物生長調節剤、共力剤、肥料、土壌改良剤、動物用飼料等と混用又は併用することもできる。
かかる他の殺虫剤、殺ダニ剤としては、例えばアレスリン、テトラメスリン、プラレトリン、フェノトリン、レスメトリン、シフェノトリン、ペルメトリン、シペルメトリン、アルファシペルメトリン、ゼータシペルメトリン、デルタメトリン、トラロメトリン、シフルトリン、ベータシフルトリン、シハロトリン、ラムダシハロトリン、フラメトリン、イミプロトリン、エトフェンプロクス、フェンバレレート、エスフェンバレレート、フェンプロパトリン、シラフルオフェン、ビフェントリン、トランスフルスリン、フルシトリネート、タウフルバリネート、アクリナトリン、テフルトリン、シクロプロトリン、エンペンスリン、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メトキシメチルベンジル ３−（２−メチル−１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メトキシメチルベンジル ３−（１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート、２，３，５，６−テトラフルオロ−４−メチルベンジル ３−（１−プロペニル）−２，２−ジメチルシクロプロパンカルボキシレート等のピレスロイド化合物、ジクロルボス、フェニトロチオン、シアノホス、プロフェノホス、スルプロホス、フェントエート、イソキサチオン、テトラクロロビンホス、フェンチオン、クロルピリホス、ダイアジノン、アセフェート、テルブホス、フォレート、クロルエトキシホス、ホスチアゼート、エトプロホス、カズサホス、メチダチオン等の有機燐化合物、プロポキサー、カルバリル、メトキサジアゾン、フェノブカルブ、メソミル、チオジカルブ、アラニカルブ、ベンフラカルブ、オキサミル、アルジカルブ、メチオカルブ等のカーバメート化合物、ルフェヌロン、クロルフルアズロン、ヘキサフルムロン、ジフルベンズロン、トリフルムロン、テフルベンズロン、フルフェノクスロン、フルアズロン、ノバルロン、トリアズロン等のベンゾイルフェニルウレア化合物、ピリプロキシフェン、メトプレン、ハイドロプレン、フェノキシカルブ等の幼若ホルモン様物質、アセタミプリド、ニテンピラム、チアクロプリド、チアメトキサム、ジノテフラン、クロチアニジン等のネオニコチノイド系化合物、アセトプロール、エチプロール等のＮ−フェニルピラゾール系化合物、テブフェノジド、クロマフェノジド、メトキシフェノジド、ハロフェノジド等のベンゾイルヒドラジン化合物、ジアフェンチウロン、ピメトロジン、フロニカミド、トリアザメート、ブプロフェジン、スピノサド、エマメクチン安息香酸塩、クロルフェナピル、インドキサカルブ、ピリダリル、シロマジン、フェンピロキシメート、ビフェナゼート、テブフェンピラド、トルフェンピラド、ピリダベン、ピリミジフェン、フルアクリピリム、エトキサゾール、フェナザキン、アセキノシル、ヘキシチアゾクス、クロフェンテジン、酸化フェンブタスズ、ジコホル、プロパルギット、エバーメクチン、ミルベメクチン、アミトラズ、カルタップ、ベンスルタップ、チオシクラム、エンドスルファン、スピロジクロフェン、スピロメシフェン、フルベンジアミド及びアザジラクチンが挙げられる。
他の殺菌剤としては、例えば、アゾキシストロビン等のストロビルリン化合物、トリクロホスメチル等の有機リン化合物、トリフルミゾール、ペフラゾエート、ジフェノコナゾール等のアゾール化合物、フサライド、フルトラニル、バリダマイシン、プロベナゾール、ジクロメジン、ペンシクロン、ダゾメット、カスガマイシン、ＩＢＰ、ピロキロン、オキソリニック酸、トリシクラゾール、フェリムゾン、メプロニル、ＥＤＤＰ、イソプロチオラン、カルプロパミド、ジクロシメット、フラメトピル、フルジオキソニル、プロシミドン及びジエトフェンカルブが挙げられる。
本発明化合物の態様としては、例えば以下のものが挙げられる。
式（Ｉ）において、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が水素原子である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がメチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がエチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ５フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がトリフルオロメチル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が３，３，３−トリフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が４，４，４−トリフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がトリフルオロメチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がペンタフルオロエチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がヘプタフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物。
式（Ｉ）において、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2が水素原子である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がメチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ2がエチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ５フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がＣ１−Ｃ３フルオロアルキル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1がＣ２−Ｃ４フルオロアルキル基であり、Ｒ3がトリフルオロメチル基であり、ｎが２である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が３，３，３−トリフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が４，４，４−トリフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ1が２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がトリフルオロメチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がペンタフルオロエチル基である含硫黄フルオロアルカン化合物；
式（Ｉ）において、Ｒ3がヘプタフルオロプロピル基である含硫黄フルオロアルカン化合物。
以下、本発明を製造例、製剤例及び試験例等によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれらの例に限定されるものではない。
まず、本発明化合物の製造例を示す。
製造例１
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．４ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温でｍ−クロロ過安息香酸１．２ｇを加え、同温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）スルホン（以下、本発明化合物（１）と記す。） ０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２１−３．３１（ｍ，４Ｈ）、２．６６−２．７８（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．４ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温でｍ−クロロ過安息香酸１．２ｇを加え、同温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，３−トリフルオロプロピル）スルホン（以下、本発明化合物（１）と記す。） ０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１）
製造例２
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，４−トリフルオロブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（２）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本発明化合物（２）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．１８−３．２４（ｍ，２Ｈ）、３．１２（ｔ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．２９−２．４１（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．２３（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，４−トリフルオロブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（２）と記す。） ０．７５ｇを得た。
本発明化合物（２）
製造例３
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．２ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（３）と記す。） ０．３５ｇを得た。
本発明化合物（３）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２４−３．３４（ｍ，４Ｈ）、２．５８−２．７９（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．２ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（３）と記す。） ０．３５ｇを得た。
本発明化合物（３）
製造例４
１−ヨード−３，４，４，４−テトラフルオロ−３−（トリフルオロメチル）ブタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で２０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，４，４，４−テトラフルオロ−３−（トリフルオロメチル）ブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（４）と記す。） ０．１４ｇを得た。
本発明化合物（４）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２１−３．３１（ｍ，４Ｈ）、２．６４−２．７９（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，４，４，４−テトラフルオロ−３−（トリフルオロメチル）ブタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で２０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，４，４，４−テトラフルオロ−３−（トリフルオロメチル）ブチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（４）と記す。） ０．１４ｇを得た。
本発明化合物（４）
製造例５
６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇ、塩化ナトリウム０．０９ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で１５時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，５−トリフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（５）と記す。） ０．３８ｇを得た。
本発明化合物（５）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．１５−３．２４（ｍ，２Ｈ）、３．０６（ｔ，２Ｈ）、２．６０−２．７４（ｍ，２Ｈ）、２．０９−２．２３（ｍ，２Ｈ）、１．９２−２．０４（ｍ，２Ｈ）、１．７０−１．８３（ｍ，２Ｈ）
６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇ、塩化ナトリウム０．０９ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で１５時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，５−トリフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（５）と記す。） ０．３８ｇを得た。
本発明化合物（５）
製造例６
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．８ｇ及びＳ−（４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（６）と記す。） ０．４４ｇを得た。
本発明化合物（６）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２０−３．２８（ｍ，２Ｈ）、３．１４（ｔ，２Ｈ）、２．６２−２．７６（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．３８（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン０．８ｇ及びＳ−（４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．７ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（６）と記す。） ０．４４ｇを得た。
本発明化合物（６）
製造例７
３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルフィド０．３ｇを氷酢酸５ｍｌに溶解した。ここへ室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（７）と記す。） ０．２８ｇを得た。
本発明化合物（７）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２５−３．３５（ｍ，４Ｈ）、２．６２−２．７９（ｍ，４Ｈ）
３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルフィド０．３ｇを氷酢酸５ｍｌに溶解した。ここへ室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（７）と記す。） ０．２８ｇを得た。
本発明化合物（７）
製造例８
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温でｍ−クロロ過安息香酸１．４ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（８）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本発明化合物（８）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２６−３．３４（ｍ，４Ｈ）、２．６４−２．８０（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温でｍ−クロロ過安息香酸１．４ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（８）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本発明化合物（８）
製造例９
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．１ｇ及びＳ−（４，４，４−トリフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝４，４，４−トリフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（９）と記す。） ０．１３ｇを得た。
本発明化合物（９）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２１−３．２８（ｍ，２Ｈ）、３．１４（ｔ，２Ｈ）、２．５８−２．７２（ｍ，２Ｈ）、２．２９−２．４１（ｍ，２Ｈ）、２．１４−２．２４（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．１ｇ及びＳ−（４，４，４−トリフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．８ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で１時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝４，４，４−トリフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（９）と記す。） ０．１３ｇを得た。
本発明化合物（９）
製造例１０
ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルフィド０．３ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解した。ここへ室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で３時間撹拌した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルホン（以下、本発明化合物（１０）と記す。） ０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１０）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２８−３．３６（ｍ，４Ｈ）、２．６０−２．７４（ｍ，４Ｈ）
ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルフィド０．３ｇをクロロホルム２０ｍｌに溶解した。ここへ室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）５ｍｌを加え、同温で３時間撹拌した後、反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルホン（以下、本発明化合物（１０）と記す。） ０．２４ｇを得た。
本発明化合物（１０）
製造例１１
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート０．９ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１１）と記す。） ０．３４ｇを得た。
本発明化合物（１１）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２７−３．３５（ｍ，４Ｈ）、２．６０−２．７９（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート０．９ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１１）と記す。） ０．３４ｇを得た。
本発明化合物（１１）
製造例１２
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン１．０ｇ及びＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート０．８ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１２）と記す。） ０．１１ｇを得た。
本発明化合物（１２）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２２−３．２８（ｍ，２Ｈ）、３．１３−３．１８（ｍ，２Ｈ）、２．２９−２．４２（ｍ，２Ｈ）、２．１５−２．２５（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキサン１．０ｇ及びＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート０．８ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．５ｍｌを加え、同温で６時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，６，６，６−ノナフルオロヘキシル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１２）と記す。） ０．１１ｇを得た。
本発明化合物（１２）
製造例１３
２−プロパノール２０ｍｌに溶解した１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン３．０ｇ中に、室温で硫化ナトリウム九水和物１．３ｇを加え、３時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル）スルホン（以下、本発明化合物（１３）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本発明化合物（１３）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．２８−３．３６（ｍ，４Ｈ）、２．６４−２．８１（ｍ，４Ｈ）
２−プロパノール２０ｍｌに溶解した１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン３．０ｇ中に、室温で硫化ナトリウム九水和物１．３ｇを加え、３時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）１０ｍｌを加え、同温で４時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル）スルホン（以下、本発明化合物（１３）と記す。） ０．６０ｇを得た。
本発明化合物（１３）
製造例１４
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で４時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１４）と記す。） ０．２０ｇを得た。
本発明化合物（１４）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．０５−３．２０（ｍ，３Ｈ）、２．６３−２．７７（ｍ，２Ｈ）、１．８８−２．３９（ｍ，４Ｈ）、１．４８（ｄ，３Ｈ）
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で４時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１４）と記す。） ０．２０ｇを得た。
本発明化合物（１４）
製造例１５
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で４時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１５）と記す。） ０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１５）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．０５−３．２４（ｍ，３Ｈ）、２．５８−２．７２（ｍ，２Ｈ）、１．８８−２．４０（ｍ，４Ｈ）、１．４９（ｄ，３Ｈ）
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で４時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル＝スルホン（以下、本発明化合物（１５）と記す。） ０．２３ｇを得た。
本発明化合物（１５）
製造例１６
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇ、塩化ナトリウム０．０６ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝スルホン（以下、本発明化合物（１６）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本発明化合物（１６）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．０８−３．２４（ｍ，３Ｈ）、２．６１−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９０−２．４２（ｍ，４Ｈ）、１．４９（ｄ，３Ｈ）
２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．５ｇ、塩化ナトリウム０．０６ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で６時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−ヘキシル＝スルホン（以下、本発明化合物（１６）と記す。） ０．１５ｇを得た。
本発明化合物（１６）
製造例１７
２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で３時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−３−ヘプチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１７）と記す。） ０．２２ｇを得た。
本発明化合物（１７）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．０８−３．２４（ｍ，２Ｈ）、２．８７−２．９５（ｍ，１Ｈ）、２．６３−２．７６（ｍ，２Ｈ）、１．７３−２．４２（ｍ，６Ｈ）、１．１３（ｔ，３Ｈ）
２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．３ｇ、塩化ナトリウム０．０４ｇ、水２ｍｌ及びジメチルスルホキシド２０ｍｌの混合物を１７０℃で３時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，７，７，７−ペンタフルオロ−３−ヘプチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１７）と記す。） ０．２２ｇを得た。
本発明化合物（１７）
製造例１８
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．７ｇ、塩化ナトリウム０．１ｇ、水４ｍｌ及びジメチルスルホキシド４０ｍｌの混合物を１７０℃で３時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、７，７，８，８，８−ペンタフルオロ−４−オクチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１８）と記す。） ０．４９ｇを得た。
本発明化合物（１８）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．０８−３．２４（ｍ，２Ｈ）、２．９２−３．０２（ｍ，１Ｈ）、２．６０−２．７６（ｍ，２Ｈ）、１．３９−２．４２（ｍ，８Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル０．７ｇ、塩化ナトリウム０．１ｇ、水４ｍｌ及びジメチルスルホキシド４０ｍｌの混合物を１７０℃で３時間撹拌した。室温まで放冷した反応混合物に水を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、７，７，８，８，８−ペンタフルオロ−４−オクチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（１８）と記す。） ０．４９ｇを得た。
本発明化合物（１８）
製造例１９
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、ｍ−クロロ過安息香酸０．５ｇを氷冷下で加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘキサフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホキシド（以下、本発明化合物（１９）と記す。） ０．３３ｇを得た。
本発明化合物（１９）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．８８−３．０６（ｍ，４Ｈ）、２．５６−２．７２（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１．０ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．７ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．６ｍｌを加え、同温で４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、ｍ−クロロ過安息香酸０．５ｇを氷冷下で加え、同温で２時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘキサフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホキシド（以下、本発明化合物（１９）と記す。） ０．３３ｇを得た。
本発明化合物（１９）
製造例２０
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル１５．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１０ｇをエタノール１００ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）８．４ｍｌを加えた後、１０時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）４５ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（２０）と記す。） ２．１ｇを得た。
本発明化合物（２０）
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）６．０６（ｔｔ，１Ｈ）、３．８２（ｔ，２Ｈ）、３．４０−３．４８（ｍ，２Ｈ）、２．６４−２．８１（ｍ，２Ｈ）
トリフルオロメタンスルホン酸 ２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル１５．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート１０ｇをエタノール１００ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）８．４ｍｌを加えた後、１０時間加熱還流した。室温まで放冷した反応混合物に１０％塩酸を加え、クロロホルムで抽出した。抽出して得た有機層に、室温で過酢酸（３２ｗｔ％酢酸溶液）４５ｍｌを加え、同温で１６時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２，２，３，３，４，４，５，５−オクタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルホン（以下、本発明化合物（２０）と記す。） ２．１ｇを得た。
本発明化合物（２０）
本発明化合物の具体例を〔表１〕〜〔表５〕に示す。
次に、本発明化合物の中間体の製造例を参考製造例として示す。
参考製造例１
１−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロパン９．６ｇ及びチオ安息香酸５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム（６０％油性）１．４５ｇを加えた後、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート
６．９０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９７（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６２（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２４（ｔ，２Ｈ）、２．４４−２．５６（ｍ，２Ｈ）
１−ブロモ−３，３，３−トリフルオロプロパン９．６ｇ及びチオ安息香酸５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに水素化ナトリウム（６０％油性）１．４５ｇを加えた後、室温で１２時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９７（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６２（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２４（ｔ，２Ｈ）、２．４４−２．５６（ｍ，２Ｈ）
参考製造例２
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン９．９ｇ及びチオ安息香酸５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム５．０ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート
７．９０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６５（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２７（ｔ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン９．９ｇ及びチオ安息香酸５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム５．０ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるＳ−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６５（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２７（ｔ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）
参考製造例３
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン２．０ｇ及びチオ安息香酸０．９ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム０．９ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるＳ−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル）＝ベンゼンチオアート
１．７５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６４（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２９（ｔ，２Ｈ）、２．４０−２．５６（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン２．０ｇ及びチオ安息香酸０．９ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解し、氷冷下でここに炭酸カリウム０．９ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示されるＳ−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル）＝ベンゼンチオアート
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５８−７．６４（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．２９（ｔ，２Ｈ）、２．４０−２．５６（ｍ，２Ｈ）
参考製造例４
トリフェニルホスフィン ５．９ｇをテトラヒドロフラン ６０ｍｌに溶解した溶液に、氷冷下でアゾジカルボン酸ジイソプロピル（４０％トルエン溶液） １１．４ｇを滴下し、１０分間撹拌した後、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンタン−１−オール ２．０ｇを加え、次いでチオ安息香酸 ３．１ｇをテトラヒドロフラン ２０ｍｌに溶解した溶液を５分間かけて滴下した後、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル）ベンゼンチオアート
２．４１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５６−７．６３（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．１６（ｔ，２Ｈ）、２．１０−２．２６（ｍ，２Ｈ）、１．９４−２．０５（ｍ，２Ｈ）
トリフェニルホスフィン ５．９ｇをテトラヒドロフラン ６０ｍｌに溶解した溶液に、氷冷下でアゾジカルボン酸ジイソプロピル（４０％トルエン溶液） １１．４ｇを滴下し、１０分間撹拌した後、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンタン−１−オール ２．０ｇを加え、次いでチオ安息香酸 ３．１ｇをテトラヒドロフラン ２０ｍｌに溶解した溶液を５分間かけて滴下した後、室温で１０時間撹拌した。反応混合物に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル）ベンゼンチオアート
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５６−７．６３（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．１６（ｔ，２Ｈ）、２．１０−２．２６（ｍ，２Ｈ）、１．９４−２．０５（ｍ，２Ｈ）
参考製造例５
４，４，４−トリフルオロブタン−１−オール ５．０ｇ及び塩化ｐ−トルエンスルホニル ７．４ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、ここに氷冷下でトリエチルアミン ５．４ｍｌを加え、室温で３日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣、チオ安息香酸 ５．４ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ５０ｍｌの混合物に室温で炭酸カリウム ５．４ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（４，４，４−トリフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート
７．４０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５７−７．６３（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．１４（ｔ，２Ｈ）、２．２０−２．３２（ｍ，２Ｈ）、１．９０−２．００（ｍ，２Ｈ）
４，４，４−トリフルオロブタン−１−オール ５．０ｇ及び塩化ｐ−トルエンスルホニル ７．４ｇをテトラヒドロフラン１００ｍｌに溶解し、ここに氷冷下でトリエチルアミン ５．４ｍｌを加え、室温で３日間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣、チオ安息香酸 ５．４ｇ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド ５０ｍｌの混合物に室温で炭酸カリウム ５．４ｇを加え、同温で１０時間撹拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、Ｓ−（４，４，４−トリフルオロブチル）＝ベンゼンチオアート
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）７．９５（ｄ，２Ｈ）、７．５７−７．６３（ｍ，１Ｈ）、７．４７（ｄｄ，２Ｈ）、３．１４（ｔ，２Ｈ）、２．２０−２．３２（ｍ，２Ｈ）、１．９０−２．００（ｍ，２Ｈ）
参考製造例６
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン０．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．３ｍｌを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、石油エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルフィド
０．０８ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．７０−２．８６（ｍ，４Ｈ）、２．３２−２．５９（ｍ，４Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン０．５ｇ及びＳ−（３，３，３−トリフルオロプロピル）＝ベンゼンチオアート０．４ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３０ｍｌに溶解した。ここへ室温でナトリウムメトキシド（２８％メタノール溶液）０．３ｍｌを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、石油エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル＝３，３，３−トリフルオロプロピル＝スルフィド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．７０−２．８６（ｍ，４Ｈ）、２．３２−２．５９（ｍ，４Ｈ）
参考製造例７
２−プロパノール２０ｍｌに、１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン３．１ｇ及び硫化ナトリウム九水和物１．４ｇを室温で順次加え、１０時間加熱還流した後、室温まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、石油エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルフィド
０．９７ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．７４−２．８１（ｍ，４Ｈ）、２．２８−２．４３（ｍ，４Ｈ）
２−プロパノール２０ｍｌに、１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン３．１ｇ及び硫化ナトリウム九水和物１．４ｇを室温で順次加え、１０時間加熱還流した後、室温まで放冷した。反応混合物に１０％塩酸を加え、石油エーテルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、ビス（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル）スルフィド
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）２．７４−２．８１（ｍ，４Ｈ）、２．２８−２．４３（ｍ，４Ｈ）
参考製造例８
チオグリコール酸メチル１０ｇ及び１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン２１ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム１３ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸１００ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）５０ｍｌを加えた後、６０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル
１４．１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０５（ｓ，２Ｈ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、３．４９−３．５７（ｍ，２Ｈ）、２．６６−２．７９（ｍ，２Ｈ）
チオグリコール酸メチル１０ｇ及び１−ヨード−３，３，３−トリフルオロプロパン２１ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２００ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム１３ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸１００ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）５０ｍｌを加えた後、６０℃で１６時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０５（ｓ，２Ｈ）、３．８４（ｓ，３Ｈ）、３．４９−３．５７（ｍ，２Ｈ）、２．６６−２．７９（ｍ，２Ｈ）
参考製造例９
チオグリコール酸メチル１０ｇ及び１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン２６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム１３ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸１００ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）５０ｍｌを加えた後、６０℃で１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル
２３．１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０５（ｓ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、３．５２−３．５９（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．７５（ｍ，２Ｈ）
チオグリコール酸メチル１０ｇ及び１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン２６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１００ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム１３ｇを加えた後、室温で２０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸１００ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）５０ｍｌを加えた後、６０℃で１０時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）酢酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０５（ｓ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、３．５２−３．５９（ｍ，２Ｈ）、２．５９−２．７５（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１０
チオグリコール酸メチル５ｇ及び１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム６．５ｇを加えた後、室温で１０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸５０ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）２０ｍｌを加えた後、６０℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）酢酸メチル
１２．６ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０６（ｓ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、３．５２−３．５９（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）
チオグリコール酸メチル５ｇ及び１−ヨード−３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンタン１５ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解し、氷冷下で炭酸カリウム６．５ｇを加えた後、室温で１０時間攪拌した。反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を１０％塩酸及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。残渣を氷酢酸５０ｍｌに溶解し、氷冷下で過酢酸（３２％（ｗ／w）酢酸溶液）２０ｍｌを加えた後、６０℃で４時間撹拌した。反応混合物を室温まで放冷し、水中にあけ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液及び飽和食塩水で順次洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。シリカゲルカラムクロマトグラフィーに付し、下式で示される（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）酢酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）４．０６（ｓ，２Ｈ）、３．８６（ｓ，３Ｈ）、３．５２−３．５９（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１１
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
０．８０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．１０−２．２４（ｍ，４Ｈ）、１．６４−１．７５（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−４，４，４−トリフルオロブタン２．０ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム１．２ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、６，６，６−トリフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．８２−３．８８（ｍ，１Ｈ）、３．３０−３．５０（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．１０−２．２４（ｍ，４Ｈ）、１．６４−１．７５（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１２
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．２ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．６ｇを加え、同温で３０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
１．２０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８６−３．９４（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．３４（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン１．２ｇ及び（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で炭酸カリウム０．６ｇを加え、同温で３０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．８６−３．９４（ｍ，１Ｈ）、３．３８−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．１８−２．３４（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１３
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン４．８ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル５．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．７ｇを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル
４．６９ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．８９−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．４４−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．３９−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．３４（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン４．８ｇ及び（３，３，４，４，４−ペンタフルオロプロピルスルホニル）酢酸メチル５．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．７ｇを加え、同温で２日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．８９−３．９７（ｍ，１Ｈ）、３．４４−３．５１（ｍ，２Ｈ）、２．５８−２．７３（ｍ，２Ｈ）、２．３９−２．５３（ｍ，２Ｈ）、２．２０−２．３４（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１４
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン０．９ｇ及び（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）酢酸メチル１．１ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル
１．１２ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．４１−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．３４（ｍ，２Ｈ）
１−ヨード−３，３，４，４，４−ペンタフルオロブタン０．９ｇ及び（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）酢酸メチル１．１ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３日間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９１−３．９５（ｍ，１Ｈ）、３．９１（ｓ，３Ｈ）、３．４１−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．６２−２．７７（ｍ，２Ｈ）、２．３８−２．５４（ｍ，２Ｈ）、２．１９−２．３４（ｍ，２Ｈ）
参考製造例１５
ヨードメタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
０．７３ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．４３−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．７０（ｓ，３Ｈ）
ヨードメタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で３時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．４３−３．５２（ｍ，２Ｈ）、２．６３−２．７８（ｍ，２Ｈ）、２．０８−２．５４（ｍ，４Ｈ）、１．７０（ｓ，３Ｈ）
参考製造例１６
ヨードエタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
０．４５ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．３３−３．６５（ｍ，２Ｈ）、２．０６−２．７７（ｍ，８Ｈ）、１．０４（ｔ，３Ｈ）
ヨードエタン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−エチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８８（ｓ，３Ｈ）、３．３３−３．６５（ｍ，２Ｈ）、２．０６−２．７７（ｍ，８Ｈ）、１．０４（ｔ，３Ｈ）
参考製造例１７
１−ヨードプロパン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
０．８９ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．３２−３．６６（ｍ，２Ｈ）、１．９６−２．７６（ｍ，８Ｈ）、１．１６−１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
１−ヨードプロパン０．４ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル１．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で２０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−プロピル−２−（３，３，３−トリフルオロプロピルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８７（ｓ，３Ｈ）、３．３２−３．６６（ｍ，２Ｈ）、１．９６−２．７６（ｍ，８Ｈ）、１．１６−１．５８（ｍ，２Ｈ）、１．０１（ｔ，３Ｈ）
参考製造例１８
ヨードメタン０．７ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル
１．２０ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．４６−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．４５−２．７２（ｍ，３Ｈ）、２．０９−２．３４（ｍ，３Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
ヨードメタン０．７ｇ及び５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル２．０ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド５０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．２ｇを加え、同温で４時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロ−２−（３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチルスルホニル）ヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．９０（ｓ，３Ｈ）、３．４６−３．５３（ｍ，２Ｈ）、２．４５−２．７２（ｍ，３Ｈ）、２．０９−２．３４（ｍ，３Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
参考製造例１９
ヨードメタン０．２ｇ及び２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル
０．４１ｇを得た。
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．４７−３．５６（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９５−２．５６（ｍ，４Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
ヨードメタン０．２ｇ及び２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル０．６ｇをＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０ｍｌに溶解させた。ここへ室温で水素化ナトリウム（６０％油性）０．１ｇを加え、同温で１０時間撹拌した後、反応混合物に１０％塩酸を加え、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄し、無水硫酸マグネシウムで乾燥した後、減圧下濃縮した。得られた残渣をシリカゲルクロマトグラフィーに付し、２−（３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチルスルホニル）−２−メチル−５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキサン酸メチル
1Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3，ＴＭＳ）：δ（ｐｐｍ）３．８９（ｓ，３Ｈ）、３．４７−３．５６（ｍ，２Ｈ）、２．６１−２．７８（ｍ，２Ｈ）、１．９５−２．５６（ｍ，４Ｈ）、１．７１（ｓ，３Ｈ）
次に製剤例を示す。なお、部は重量部を示す。
製剤例１
本発明化合物（１）〜（２０）９部を、キシレン３７．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部及びドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）９部を、キシレン３７．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド３７．５部に溶解し、これにポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル１０部及びドデシルベンゼンスルホン酸カルシウム６部を加え、よく撹拌混合して乳剤を得る。
製剤例２
本発明化合物（１）〜（２０）４０部にソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）４０部にソルポール５０６０（東邦化学登録商標名）５部を加え、よく混合して、カープレックス＃８０（塩野義製薬登録商標名、合成含水酸化ケイ素微粉末）３２部、３００メッシュ珪藻土２３部を加え、ジュースミキサーで混合して、水和剤を得る。
製剤例３
本発明化合物（１）〜（２０）３部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）３部、合成含水酸化珪素微粉末５部、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム５部、ベントナイト３０部およびクレー５７部を加え、よく撹拌混合し、ついでこれらの混合物に適当量の水を加え、さらに撹拌し、増粒機で製粒し、通風乾燥して粒剤を得る。
製剤例４
本発明化合物（１）〜（２０）４．５部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）４．５部、合成含水酸化珪素微粉末１部、凝集剤としてドリレスＢ(三共社製)１部、クレー７部を乳鉢でよく混合した後にジュースミキサーで撹拌混合する。得られた混合物にカットクレー８６．５部を加えて、充分撹拌混合し、粉剤を得る。
製剤例５
本発明化合物（１）〜（２０）１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）１０部；ポリオキシエチレンアルキルエーテルサルフェートアンモニウム塩５０部を含むホワイトカーボン３５部；及び水５５部を混合し、湿式粉砕法で微粉砕することにより、製剤を得る。
製剤例６
本発明化合物（１）〜（２０）０．５部をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
本発明化合物（１）〜（２０）０．５部をジクロロメタン１０部に溶解し、これをアイソパーＭ（イソパラフィン：エクソン化学登録商標名）８９．５部に混合して油剤を得る。
製剤例７
本発明化合物（１）〜（２０）０．１部及びネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
本発明化合物（１）〜（２０）０．１部及びネオチオゾール（中央化成株式会社）４９．９部をエアゾール缶に入れ、エアゾールバルブを装着した後、２５部のジメチルエーテル及び２５部のＬＰＧを充填し、アクチュエータを装着することにより油性エアゾールを得る。
製剤例８
本発明化合物（１）〜（２０）０．６部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部及び乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
本発明化合物（１）〜（２０）０．６部、ＢＨＴ０．０１部、キシレン５部、脱臭灯油３．３９部及び乳化剤｛アトモス３００（アトモスケミカル社登録商標名）｝１部を混合溶解したものと、蒸留水５０部とをエアゾール容器に充填し、バルブ部分を取り付け、該バルブを通じて噴射剤（ＬＰＧ）４０部を加圧充填して、水性エアゾールを得る。
次に、本発明化合物が有害節足動物防除剤の有効成分として有効であることを試験例により示す。
試験例１
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５５．６ｐｐｍとなるように希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、底に直径５ｍｍの穴を５箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル２号（住友化学株式会社製）５０ｇを入れて種子を１０〜１５粒播種し、第２本葉が展開するまで生育させたイネに、上記のように調製した試験用薬液４５ｍｌをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈２５℃〉に６日間静置した後、イネの高さを５ｃｍに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を３０頭放し、温室内〈２５℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから６日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては各々処理６日後に寄生する虫数は３頭以下であった。
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５５．６ｐｐｍとなるように希釈し、試験用薬液を調製した。
一方、底に直径５ｍｍの穴を５箇所あけたポリエチレンカップに培土ボンソル２号（住友化学株式会社製）５０ｇを入れて種子を１０〜１５粒播種し、第２本葉が展開するまで生育させたイネに、上記のように調製した試験用薬液４５ｍｌをカップの底から吸収させることによって処理した。その後、温室内〈２５℃〉に６日間静置した後、イネの高さを５ｃｍに切り揃え、トビイロウンカの初齢幼虫を３０頭放し、温室内〈２５℃〉に静置した。トビイロウンカの幼虫を放してから６日後に当該イネに寄生するトビイロウンカの数を調査した。
その結果、本発明化合物（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては各々処理６日後に寄生する虫数は３頭以下であった。
試験例２
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径５．５ｃｍのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液０．７ｍｌを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖３０ｍｇを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ（Musca domestica）雌成虫１０頭を放ち、蓋をした。２４時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率７０％以上を示した。
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径５．５ｃｍのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液０．７ｍｌを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖３０ｍｇを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にイエバエ（Musca domestica）雌成虫１０頭を放ち、蓋をした。２４時間後にイエバエの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率７０％以上を示した。
試験例３
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径５．５ｃｍのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液０．７ｍｌを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖３０ｍｇを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ（Blattalla germanica）雄成虫２頭を放ち、蓋をした。６日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率１００％を示した。
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。直径５．５ｃｍのポリエチレンカップの底に同大の濾紙を敷き、該試験用薬液０．７ｍｌを濾紙上に滴下し、餌としてショ糖３０ｍｇを均一に入れた。該ポリエチレンカップ内にチャバネゴキブリ（Blattalla germanica）雄成虫２頭を放ち、蓋をした。６日後にチャバネゴキブリの生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（１）、（２）、（３）、（４）、（６）、（７）、（９）、（１０）、（１１）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率１００％を示した。
試験例４
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。前記試験用薬液０．７ｍｌをイオン交換水１００ｍｌに加えた（有効成分濃度３．５ｐｐｍ）。該液中にアカイエカ（Culex pipiens pallens）終令幼虫２０頭を放し、１日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率９０％以上を示した。
製剤例５により得られた供試化合物の製剤を有効成分濃度が５００ｐｐｍとなるように水で希釈し、試験用薬液を調製した。前記試験用薬液０．７ｍｌをイオン交換水１００ｍｌに加えた（有効成分濃度３．５ｐｐｍ）。該液中にアカイエカ（Culex pipiens pallens）終令幼虫２０頭を放し、１日後にその生死を調査し死虫率を求めた。
その結果、本発明化合物（３）、（４）、（６）、（７）、（８）、（９）、（１０）、（１１）、（１２）、（１３）、（１４）、（１５）、（１７）及び（１９）の処理においては死虫率９０％以上を示した。
Claims (5)
- 式（Ｉ）
〔式中、
Ｒ1はＣ２−Ｃ６フルオロアルキル基を表し、
Ｒ2は水素原子又はＣ１−Ｃ４アルキル基を表し、
Ｒ3はＣ１−Ｃ５フルオロアルキル基を表し、
ｎは１又は２を表す。〕
で示される含硫黄フルオロアルカン化合物。 - ｎが１である請求項１記載の含硫黄フルオロアルカン化合物。
- ｎが２である請求項１記載の含硫黄フルオロアルカン化合物。
- 請求項１〜３いずれか一項記載の含硫黄フルオロアルカン化合物を有効成分として含有することを特徴とする有害節足動物防除剤。
- 請求項１〜３いずれか一項記載の含硫黄フルオロアルカン化合物の有効量を有害節足動物又は有害節足動物の生息場所に施用することを特徴とする有害節足動物の防除方法。
Priority Applications (1)
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| WO2011069143A1 (en) | 2009-12-04 | 2011-06-09 | Merial Limited | Pesticidal bis-organosulfur compounds |
-
2006
- 2006-10-17 JP JP2006282291A patent/JP2007186494A/ja active Pending
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