JP2007167881A - Laser beam machining method and method for manufacturing ink-jet head - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、所定の厚みを有するプレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法および上記プレートを備えたインクジェットヘッド製造方法に関するものである。 The present invention relates to a laser processing method for forming a through hole in a plate having a predetermined thickness, and a method for manufacturing an inkjet head including the plate.
インクジェットヘッドは、インクを貯蔵するヘッド本体と、インクの吐出口であるオリフィスが形成されたオリフィスプレートとから構成される。オリフィスプレートは、ヘッド本体のインク出口面に設けられた薄い板である。インクジェットヘッドの印字品質を高めるためには、オリフィスプレートに形成された各オリフィスの形状を均一にし、上記オリフィスプレートの表面を清浄にすることが望ましい。 The ink-jet head includes a head main body that stores ink and an orifice plate in which an orifice that is an ink discharge port is formed. The orifice plate is a thin plate provided on the ink outlet surface of the head body. In order to improve the print quality of the inkjet head, it is desirable to make the shape of each orifice formed on the orifice plate uniform and to clean the surface of the orifice plate.
オリフィスは、オリフィスプレートに対してエキシマレーザからレーザ光が照射されることにより形成される。オリフィスプレートにオリフィスを形成することにより、削られた上記オリフィスプレートの樹脂が例えば、カーボンなどの副生成物として生じる。生じた上記副生成物は、オリフィスのインク吐出面側およびレーザ照射面側の開口部近傍並びにオリフィスの内壁のインク流路内に堆積する。上記副生成物はオリフィスプレートへの付着力が強く、超音波洗浄などでは完全に除去することが難しい。 The orifice is formed by irradiating the orifice plate with laser light from an excimer laser. By forming the orifice in the orifice plate, the scraped resin of the orifice plate is generated as a by-product such as carbon. The generated by-product accumulates in the vicinity of the opening on the ink ejection surface side and laser irradiation surface side of the orifice and in the ink flow path on the inner wall of the orifice. The by-product has strong adhesion to the orifice plate and is difficult to remove completely by ultrasonic cleaning or the like.
上記副生成物がオリフィスのインク吐出面側の開口部近傍に付着した場合であって、オリフィス形成後に撥水膜を形成するとき、該付着箇所において該撥水膜の形成が阻害されることにより、該付着箇所は親水性を示す。また、オリフィスプレートに撥水膜を形成した後にオリフィスを形成する場合にも、オリフィスのインク吐出面側の開口部近傍に付着した上記副生成物を完全に除去することは困難である。そのため、上記付着箇所にインク溜りが発生し、インクの直進性を喪失させる。これにより、インクジェットヘッドの印字品質は低下する。 When the by-product is attached in the vicinity of the opening on the ink ejection surface side of the orifice, and when the water-repellent film is formed after the orifice is formed, the formation of the water-repellent film is inhibited at the attached portion. The adhering site is hydrophilic. Even when the orifice is formed after the water repellent film is formed on the orifice plate, it is difficult to completely remove the by-product attached in the vicinity of the opening on the ink ejection surface side of the orifice. For this reason, an ink pool is generated at the adhering portion, and the straightness of the ink is lost. As a result, the print quality of the inkjet head decreases.
また、上記副生成物がオリフィスのレーザ照射面側の開口部近傍およびインク流路内に付着した場合、上記副生成物はインク中に剥離又は浮遊することによりオリフィス内に詰まる。これにより、インクジェットヘッドは、吐出不良となり、印字品質が低下する。 When the by-product adheres to the vicinity of the opening on the laser irradiation surface side of the orifice and in the ink flow path, the by-product is clogged in the orifice by peeling or floating in the ink. As a result, the inkjet head becomes defective in ejection, and the print quality is deteriorated.
図6は、オリフィスプレートに直接レーザ光を照射することにより形成されたオリフィスのレーザ照射面の顕微鏡写真を示した図である。ここでは、オリフィス形成後、上記オリフィスプレートを中性洗剤および有機溶剤で超音波洗浄を行っている。図6に示すように、オリフィスのレーザ照射面側における開口部の周囲には副生成物が堆積している。上記副生成物は、超音波洗浄などでは除去することが難しいため、プラズマアッシングなどの方法を用い除去する必要がある。 FIG. 6 is a view showing a micrograph of the laser irradiation surface of the orifice formed by directly irradiating the orifice plate with laser light. Here, after the orifice is formed, the orifice plate is subjected to ultrasonic cleaning with a neutral detergent and an organic solvent. As shown in FIG. 6, by-products are deposited around the opening on the laser irradiation surface side of the orifice. Since the by-product is difficult to remove by ultrasonic cleaning or the like, it is necessary to remove the by-product using a method such as plasma ashing.
上記問題を解決するための技術が特許文献1に開示されている。特許文献1は、オリフィスプレートのレーザ照射面上に容易に除去可能な液体を塗布することにより、オリフィス形成時に発生する副生成物を液体に転写させ、上記液体を除去するものである。これにより、上記オリフィスプレートのレーザ照射面を清浄に保つことができる。
A technique for solving the above problem is disclosed in
しかしながら、上記構成では、オリフィスプレートのレーザ照射面側に付着した副生成物は除去できるが、インク吐出面側に付着した副生成物を除去することができない。そのため従来では以下のレーザ加工方法が用いられている。以下に、従来のレーザ加工方法について図7を参照して説明する。図7(a)〜(d)は、従来のレーザ加工方法を示した断面図である。 However, in the above configuration, the byproduct attached to the laser irradiation surface side of the orifice plate can be removed, but the byproduct attached to the ink ejection surface side cannot be removed. Therefore, conventionally, the following laser processing methods are used. A conventional laser processing method will be described below with reference to FIG. 7A to 7D are cross-sectional views showing a conventional laser processing method.
図7(a)に示すように、オリフィス形成前のプレート(以下、オリフィスプレートという。)91のレーザ光が照射されるレーザ照射面には、容易に除去可能な粘性を有した、例えば、ポリプロピレングリコールなどの液体92と、上面保護フィルム93とがこの順に設けられている。また、オリフィスプレート91のレーザ照射面とは反対側の面であるインク吐出面には、液体92と、下面保護フィルム94とがこの順に設けられている。そして、上面保護フィルム93の上面に複数の穴が形成された図示しないマスクパターンが設けられる。上記マスクパターンの上から、エキシマレーザによるレーザビーム95が照射されることにより、オリフィス98が形成される。ここでは、レーザビーム95により、上面保護フィルム93と、液体92と、オリフィスプレート91とを通って、下面保護フィルム94の一部までアブレーション加工が行われる。そして、上面保護フィルム93の上面には、オリフィス98を形成することにより生じた副生成物96が堆積する。
As shown in FIG. 7A, the laser irradiation surface to which the laser beam of the
次に、図7(b)に示すように、オリフィス98形成後、上面保護フィルム93および下面保護フィルム94は除去される。そして、オリフィスプレート91のレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された液体92は、有機溶剤で超音波洗浄される。それにより、図7(c)に示すように、副生成物96が付着していない、清浄なオリフィスプレート91が得られる。
Next, as shown in FIG. 7B, after the
次に、図7(d)に示すように、オリフィスプレート91のインク吐出面に撥水層97が形成される。
しかしながら、上記従来の構成では、図8に示すように、オリフィス98のインク吐出面側における開口部のエッジの形状がいびつとなる。図8は、図7に示した従来のレーザ加工方法により形成されたオリフィス98のインク吐出面側のSEM写真を示した図である。
However, in the conventional configuration described above, the shape of the edge of the opening on the ink ejection surface side of the
オリフィスを形成する際には、上面保護フィルム93の上に複数の穴が設けられたマスクパターンを設け、その上からレーザビーム95が照射される。これにより、一度に複数個のオリフィス98がオリフィスプレート91に形成される。従来のレーザ加工方法では、マスクパターンに形成された穴の真円度(円の直径のばらつき)が0.1μmであるのに対し、形成されたオリフィス98の真円度は1.5μmとなっている。
When forming the orifice, a mask pattern provided with a plurality of holes is provided on the upper surface
また、図9は図7に示した従来のレーザ加工方法により、一括形成されたオリフィス98のインク吐出面側における開口部の直径を測定したグラフである。なお、図中において、Y軸は開口部の直径を示し、1目盛は0.5μmである。また、X軸は一括形成されたオリフィスの数(以下、チャンネル数と呼ぶ)を示す。図9に示すように、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約1.2μmのばらつきを示す。
FIG. 9 is a graph obtained by measuring the diameter of the opening on the ink ejection surface side of the
このように、従来のレーザ加工方法では、形成されたオリフィス98のインク吐出面側の開口部は、エッジの形状がいびつになり、直径にばらつきが生じる。上記開口部のエッジの形状がいびつになると、オリフィス98から吐出されるインクの方向にばらつきが生じる。また、上記開口部の直径がばらつくと、インクジェットヘッドから吐出されるインクの量が各オリフィス98で異なってしまう。この結果、従来のレーザ加工方法によりオリフィス98が形成されたオリフィスプレートを備えたインクジェットヘッドは印字品質が低下する。
Thus, in the conventional laser processing method, the opening on the ink ejection surface side of the
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、その目的は、開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供する。 The present invention has been made in view of the above problems, and its purpose is to form a through-hole in the plate with a uniform edge shape of the opening and a small error in the diameter of the opening. Provided are a laser processing method and an ink jet head manufacturing method capable of easily removing a generated product.
本発明のレーザ加工方法は、上記課題を解決するために、レーザ光によりプレートに貫通孔を形成するレーザ加工方法において、上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートに貫通孔を形成する工程と、上記粘着フィルムおよび上記保護フィルムを除去する工程と、上記流動層を除去する工程とを含むことを特徴としている。 In order to solve the above problems, the laser processing method of the present invention is a laser processing method in which a through hole is formed in a plate by laser light. On the surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the plate. A step of providing an adhesive film having adhesive strength, a step of providing a fluidized bed having fluidity on the laser irradiation surface of the plate and a protective film in this order, and a laser beam for the laser irradiation surface of the plate. And forming a through hole in the plate, removing the adhesive film and the protective film, and removing the fluidized bed.
従来のレーザ加工方法では、プレートのレーザ照射面とは反対側の面に塗布された液体の粘性率が低いため、プレートの安定性が低い。そのため、レーザを上記プレートに照射した際、該プレートが動くことにより、レーザのフォーカス位置ずれが生じる。また、上記プレートと上記液体の上に設けられた保護フィルムとの間の密着が弱く、レーザ照射の衝撃が上記液体に分散してしまう。そして、上記液体に分散された衝撃により、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。 In the conventional laser processing method, since the viscosity of the liquid applied to the surface of the plate opposite to the laser irradiation surface is low, the stability of the plate is low. For this reason, when the plate is irradiated with a laser, the plate moves to cause a focus position shift of the laser. Further, the adhesion between the plate and the protective film provided on the liquid is weak, and the impact of laser irradiation is dispersed in the liquid. Then, due to the impact dispersed in the liquid, the shape of the edge of the opening on the surface side of the formed through hole opposite to the laser irradiation surface of the plate becomes distorted.
本発明では、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面に粘着力を有する粘着フィルムを設けることにより、該プレートと該粘着フィルムとの安定性および密着性を高めることができる。そのため、本発明のレーザ加工方法は、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さい貫通孔を形成することができる。 In the present invention, the stability and adhesion between the plate and the adhesive film can be improved by providing an adhesive film having adhesive force on the surface opposite to the laser irradiation surface of the plate. For this reason, the laser processing method of the present invention forms a through hole in which the shape of the edge of the opening on the surface opposite to the laser irradiation surface of the plate is uniform and the variation in the diameter of the opening is small. Can do.
また、上記プレートのレーザ照射面とレーザ照射面とは反対側の面との両側に、粘着フィルムおよび保護フィルムを設けることにより、貫通孔を形成することにより生じた副生成物が該プレートに付着することを抑制する。そして、上記流動層は容易に除去することができるため、精巧な貫通孔を有した清浄なプレートを得ることができる。 Further, by providing an adhesive film and a protective film on both sides of the laser irradiation surface and the surface opposite to the laser irradiation surface of the plate, the by-products generated by forming the through holes adhere to the plate. To suppress. And since the said fluidized bed can be removed easily, the clean plate which has an elaborate through-hole can be obtained.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記プレートは、波長248nmのエキシマレーザに対する光吸収係数が1000cm−1以上のポリマーから構成されていることが好ましい。 In the laser processing method of the present invention, the plate is preferably made of a polymer having an optical absorption coefficient of 1000 cm −1 or more for an excimer laser having a wavelength of 248 nm.
一般的に、エキシマレーザを用いた加工では、アブレーション加工が中心となる。そのため、加工される材料の加工状態は該材料の光吸収係数に依存する。すなわち、上記材料の光吸収係数がある閾値以下では、所定のパワーを有するエキシマレーザでは加工できない。そのため、上記プレートの光吸収係数をある程度の値以上にする必要がある。上記構成では、上記プレートが1000cm−1以上の光吸収係数を有するポリマーから構成されることにより、波長248nmのエキシマレーザを用いて容易にアブレーション加工することが可能となる。 In general, ablation processing is the center of processing using an excimer laser. Therefore, the processing state of the material to be processed depends on the light absorption coefficient of the material. That is, if the light absorption coefficient of the material is below a certain threshold value, it cannot be processed by an excimer laser having a predetermined power. Therefore, the light absorption coefficient of the plate needs to be a certain value or more. In the above configuration, since the plate is made of a polymer having a light absorption coefficient of 1000 cm −1 or more, it is possible to easily perform ablation using an excimer laser having a wavelength of 248 nm.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記プレートは、ポリイミド誘導体を含む材料から構成されていてもよい。 Moreover, in the laser processing method of this invention, the said plate may be comprised from the material containing a polyimide derivative.
これにより、上記プレートは波長248nmのエキシマレーザにより好適にレーザ加工ができる光吸収係数を有する。そのため、上記プレートは、エキシマレーザを用いて容易にアブレーション加工することが可能となる。 Accordingly, the plate has a light absorption coefficient that can be suitably processed by an excimer laser having a wavelength of 248 nm. Therefore, the plate can be easily ablated using an excimer laser.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面と上記粘着フィルムとの粘着力が0.5N/20mm以上であることが好ましい。 Moreover, in the laser processing method of this invention, it is preferable that the adhesive force of the surface on the opposite side to the laser irradiation surface of the said plate and the said adhesive film is 0.5 N / 20mm or more.
これにより、上記プレートと上記粘着フィルムとの安定性と密着性を高めることができる。そのため、本発明のレーザ加工方法は、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さい貫通孔を形成することができる。 Thereby, stability and adhesiveness of the said plate and the said adhesive film can be improved. Therefore, in the laser processing method of the present invention, the shape of the edge of the opening on the surface of the formed through hole opposite to the laser irradiation surface of the plate is uniform, and the diameter of the opening varies. Small through holes can be formed.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記流動層の粘性率は、25℃の場合40cP以下であることが好ましい。 In the laser processing method of the present invention, the viscosity of the fluidized bed is preferably 40 cP or less at 25 ° C.
従来のレーザ加工方法では、プレートのレーザ照射面に塗布された液体の粘性率が高いことにより、該液体がレーザ照射面全体に広がらず、該液体の上に設けられた保護フィルムにうねりが生じる。そのため、レーザを上記保護フィルムに照射した際、レーザのフォーカス位置ずれが生じる。 In the conventional laser processing method, since the viscosity of the liquid applied to the laser irradiation surface of the plate is high, the liquid does not spread over the entire laser irradiation surface, and the protective film provided on the liquid swells. . Therefore, when the protective film is irradiated with a laser, the focus position shift of the laser occurs.
本発明では、上記流動層の粘着率を25℃において40cP以下にすることにより、該流動層は上記プレートのレーザ照射面全体にまんべんなく広がり、該流動層の上に設けられた保護フィルムに生じるうねりを抑制することができる。そのため、レーザ照射によるフォーカス位置ずれが抑制され、形成された貫通孔の上記プレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部の直径のばらつきを小さくすることができる。 In the present invention, when the adhesion rate of the fluidized bed is set to 40 cP or less at 25 ° C., the fluidized bed spreads evenly over the entire laser irradiation surface of the plate, and the undulation generated in the protective film provided on the fluidized bed. Can be suppressed. Therefore, the focus position shift due to laser irradiation is suppressed, and variation in the diameter of the opening on the surface of the formed through hole opposite to the laser irradiation surface of the plate can be reduced.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記流動層は、ポリプロピレングリコールから構成されていてもよい。 In the laser processing method of the present invention, the fluidized bed may be made of polypropylene glycol.
上記方法では、ポリプロピレングリコールは上記プレートとの反応性が低いため、上記流動層としてポリプロピレングリコールを用いることにより、該プレートに与える影響を小さくすることができる。このため、精巧な貫通孔を有したより清浄なプレートを得ることができる。 In the above method, since polypropylene glycol has low reactivity with the plate, the influence on the plate can be reduced by using polypropylene glycol as the fluidized bed. For this reason, a cleaner plate having an elaborate through hole can be obtained.
また、本発明のレーザ加工方法では、上記保護フィルムは、波長248nmのエキシマレーザに対する光吸収係数が1000cm−1以上のポリマーから構成されていることが好ましい。 Moreover, in the laser processing method of this invention, it is preferable that the said protective film is comprised from the polymer whose optical absorption coefficient with respect to the excimer laser with a wavelength of 248 nm is 1000 cm < -1 > or more.
上記方法では、第1保護フィルムおよびプレートの両方を波長248nmのエキシマレーザに対する光吸収係数が1000cm−1以上のポリマーから構成することにより、より精巧な貫通孔を有した清浄なプレートを得ることができる。 In the above method, by forming both the first protective film and the plate from a polymer having an optical absorption coefficient of 1000 cm −1 or more for an excimer laser having a wavelength of 248 nm, a clean plate having more elaborate through holes can be obtained. it can.
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法は、レーザ光によりオリフィスプレートにオリフィスを形成するインクジェットヘッド製造方法において、上記オリフィスプレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に撥水膜を形成する工程と、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、上記オリフィスプレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程と、上記オリフィスプレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、オリフィスを形成する工程と、上記粘着フィルムおよび上記保護フィルムを除去する工程と、上記流動層を除去する工程とを含むことを特徴としている。 The inkjet head manufacturing method of the present invention is a method for manufacturing an inkjet head in which an orifice is formed on an orifice plate by laser light, and a water repellent film on a surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the orifice plate Forming a pressure-sensitive adhesive film on the surface opposite to the laser irradiation surface of the orifice plate, and a fluidized bed having fluidity on the laser irradiation surface of the orifice plate, A step of providing a protective film in this order; a step of irradiating a laser irradiation surface of the orifice plate with laser light to form an orifice; a step of removing the adhesive film and the protective film; And a step of removing.
上記方法では、オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面に対し、オリフィス形成前に撥水膜を形成する。これにより、オリフィスを形成することにより生じた副生成物が撥水膜の形成に影響を与えることなく、オリフィス形成後に撥水膜を形成する従来の方法と比較して、より清浄なオリフィスプレートを得ることが可能である。 In the above method, a water repellent film is formed on the surface of the orifice plate opposite to the laser irradiation surface before forming the orifice. As a result, a by-product generated by forming the orifice does not affect the formation of the water-repellent film, and a cleaner orifice plate can be formed as compared with the conventional method of forming the water-repellent film after forming the orifice. It is possible to obtain.
また、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面側に粘着力を有する粘着フィルムを設けることにより、該オリフィスプレートと上記粘着フィルムとの安定性と密着性を高めることができる。そのため、本発明のインクジェットヘッド製造方法は、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、該開口部の直径のばらつきが小さいオリフィスを形成することができる。 Further, by providing an adhesive film having adhesive force on the surface opposite to the laser irradiation surface of the orifice plate, the stability and adhesion between the orifice plate and the adhesive film can be enhanced. For this reason, the inkjet head manufacturing method of the present invention forms an orifice having a uniform edge shape on the surface opposite to the laser irradiation surface of the orifice plate and a small variation in the diameter of the opening. can do.
また、上記オリフィスプレートのレーザ照射面およびレーザ照射面とは反対側の面の両側に、粘着フィルムおよび保護フィルムを設けることにより、オリフィスを形成することにより生じた副生成物が上記オリフィスプレートに付着することを抑制する。このため、精巧なオリフィスを有した清浄なオリフィスプレートを得ることができる。 In addition, by providing an adhesive film and a protective film on both sides of the laser irradiation surface of the orifice plate and the surface opposite to the laser irradiation surface, by-products generated by forming the orifice adhere to the orifice plate. To suppress. For this reason, a clean orifice plate having a fine orifice can be obtained.
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法では、上記撥水膜は、フッ素系シランカップリング剤から構成されることが好ましい。 In the inkjet head manufacturing method of the present invention, the water repellent film is preferably composed of a fluorine-based silane coupling agent.
これにより、上記撥水膜を非常に薄く形成することができる。これは、フッ素系シランカップリング剤が、単分子膜(2〜3nm)でも撥水特性を有するためであり、他の撥水材料に比べ非常に薄く撥水膜を形成することができる。このため、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面側におけるオリフィスの形状に与える影響を小さくすることができる。また、他の撥水材料と比較して、適用できるレーザ加工条件の範囲が広く、容易にオリフィスを形成することができる。 Thereby, the water-repellent film can be formed very thin. This is because the fluorine-based silane coupling agent has water repellency even with a monomolecular film (2 to 3 nm), and a water-repellent film can be formed very thin compared to other water-repellent materials. For this reason, the influence which it has on the shape of the orifice in the surface side on the opposite side to the laser irradiation surface of the said orifice plate can be made small. In addition, the range of applicable laser processing conditions is wider than other water-repellent materials, and an orifice can be easily formed.
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法では、上述したレーザ加工方法により形成されたプレートの貫通孔をインク吐出口とすることを特徴としている。 Further, the ink jet head manufacturing method of the present invention is characterized in that the through hole of the plate formed by the laser processing method described above is used as an ink discharge port.
上記方法により、上述したレーザ加工方法により形成されたプレートの貫通孔は、インクジェットヘッドのインク吐出口として用いられる。これにより、精巧な貫通孔を有した清浄なプレートを用いてインクジェットヘッドを製造することができる。 By the above method, the through-hole of the plate formed by the laser processing method described above is used as an ink discharge port of the inkjet head. Thereby, an inkjet head can be manufactured using the clean plate which has an elaborate through-hole.
本発明のレーザ加工方法は、以上のように、プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程とを有する。 As described above, the laser processing method of the present invention includes the step of providing an adhesive film having adhesive force on the surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the plate, and the laser irradiation surface of the plate. And a step of providing a fluidized bed having fluidity and a protective film in this order.
また、本発明のインクジェットヘッド製造方法は、以上のように、上記オリフィスプレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に撥水膜を形成する工程と、上記オリフィスプレートのレーザ照射面とは反対側の面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、上記オリフィスプレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程とを有する。 In addition, as described above, the inkjet head manufacturing method of the present invention includes the step of forming a water repellent film on the surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the orifice plate, and the laser of the orifice plate. A step of providing an adhesive film having adhesive force on the surface opposite to the irradiation surface, and a step of providing a fluidized bed having fluidity and a protective film in this order on the laser irradiation surface of the orifice plate. .
そのため、開口部のエッジの形状が均一で、該開口部の直径の誤差が小さい貫通孔をプレートに形成し、加工によって生じた生成物を容易に除去できるレーザ加工方法およびインクジェットヘッド製造方法を提供することができるという効果を奏する。 Therefore, there is provided a laser processing method and an inkjet head manufacturing method in which a through-hole having a uniform edge shape and a small error in the diameter of the opening is formed in the plate, and a product generated by the processing can be easily removed. There is an effect that can be done.
本発明の一実施形態について以下に説明する。なお、最初に従来のレーザ加工方法の検討について説明する。 One embodiment of the present invention will be described below. First, a study of a conventional laser processing method will be described.
〔従来のレーザ加工方法の検討〕
上述したように、従来のレーザ加工方法では、形成されたオリフィスのインク吐出面側の開口部は、エッジの形状がいびつになり、直径にばらつきが生じる。上記問題は、オリフィスプレートのレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された粘着性を有する液体に原因があると考えられる。そこで、上記問題が生じる原因について、図10および図11を参照して検討する。
[Examination of conventional laser processing methods]
As described above, in the conventional laser processing method, the opening on the ink ejection surface side of the formed orifice has an irregular edge shape and a variation in diameter occurs. The above problem is considered to be caused by the adhesive liquid applied to the laser irradiation surface and the ink ejection surface of the orifice plate. Therefore, the cause of the above problem will be examined with reference to FIG. 10 and FIG.
図10(a)は、オリフィスプレートのレーザ照射面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図である。また、図10(b)は、オリフィスプレートのインク吐出面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するための構成を示した断面図である。 FIG. 10A is a cross-sectional view showing a configuration for examining the influence of the liquid applied to the laser irradiation surface side of the orifice plate on the orifice formation. FIG. 10B is a cross-sectional view showing a configuration for examining the influence of the liquid applied to the ink ejection surface side of the orifice plate on the formation of the orifice.
まず、図10(a)に示すように、オリフィスプレート11のレーザ照射面には、液体12が塗布され、その上に上面保護フィルム13が設けられる。そして、上面保護フィルム13の上面に対し、石英基板上にクロム蒸着形成されたマスクパターンを通して、レーザビーム15が照射される。そして、レーザビーム15が照射されることにより、上面保護フィルム13およびオリフィスプレート11が削られ、上面保護フィルム13の上に副生成物16が堆積する。副生成物16の主成分は炭素であるため、アッシングによる除去は可能であるが、オリフィスプレート11へのプラズマダメージが発生する。
First, as shown in FIG. 10A, the liquid 12 is applied to the laser irradiation surface of the
上記工程において、液体12にはポリプロピレングリコール(PPG:分子量2000、25℃での粘性率163.7cP)が用いられ、オリフィスプレート11には厚み50μmのポリイミドフィルムが用いられ、上面保護フィルム13には厚み12.5μmのポリイミドフィルムが用いられる。レーザビーム15は、波長248nmのエキシマレーザにより照射される。上記エキシマレーザは、オリフィスのレーザ照射面側における開口部の直径が約40μm、インク吐出面側における開口部の直径が約20μmとなるように設定される。
In the above process, the liquid 12 is made of polypropylene glycol (PPG: molecular weight 2000, viscosity of 163.7 cP at 25 ° C.), the
また、オリフィスプレートのインク吐出面側に塗布された液体がオリフィス形成に与える影響を検討するために、図10(b)に示すように、オリフィスプレート11のインク吐出面に、液体12が塗布され、その上に下面保護フィルム14が設けられる。そして、オリフィスプレート11のレーザ照射面に対し、上記マスクパターンを通して、レーザビーム15が照射される。上記工程において、下面保護フィルム14には厚み75μmのポリイミドフィルムが用いられる。なお、他の部材については、図10(a)において用いた部材と同様のものを使用する。
Further, in order to study the influence of the liquid applied to the ink discharge surface side of the orifice plate on the orifice formation, the liquid 12 is applied to the ink discharge surface of the
上記方法により、オリフィスプレート11のレーザ照射面およびインク吐出面に塗布された液体12がオリフィス形成に与える影響を確認することができる。
By the above method, it is possible to confirm the influence of the liquid 12 applied to the laser irradiation surface and the ink ejection surface of the
図11(a)および図11(b)は、図10(a)および図10(b)の構成で複数のオリフィスを一括レーザ加工した場合の、オリフィスのインク吐出面側における開口部の直径のばらつきを示した図である。なお、図中において、Y軸は開口部の直径を示し、1目盛は0.5μmである。また、X軸は一括形成されたオリフィスの数(以下、チャンネル数と呼ぶ)を示す。図10(a)の構成でレーザ加工を行った場合は、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約0.7μmのばらつきを示す。図10(b)の構成でレーザ加工を行った場合は、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約1.3μmのばらつきを示す。また、図示していないが、オリフィスのインク吐出面側における開口部のエッジの形状は、図10(a)の構成でレーザ加工を行った場合に比べ、図10(b)の構成でレーザ加工を行った場合の方がいびつとなる。 11 (a) and 11 (b) show the diameter of the opening on the ink ejection surface side of the orifice when a plurality of orifices are collectively laser processed with the configuration of FIGS. 10 (a) and 10 (b). It is the figure which showed the dispersion | variation. In the figure, the Y axis indicates the diameter of the opening, and one scale is 0.5 μm. The X axis indicates the number of orifices formed at once (hereinafter referred to as the number of channels). When laser processing is performed with the configuration of FIG. 10A, the diameter of the opening for each channel shows a variation of about 0.7 μm at the maximum. When laser processing is performed in the configuration of FIG. 10B, the diameter of the opening for each channel shows a variation of about 1.3 μm at the maximum. Although not shown, the shape of the edge of the opening on the ink ejection surface side of the orifice is the laser processing with the configuration of FIG. 10B compared to the case of laser processing with the configuration of FIG. If you do, you will be more angry.
以上のことより、オリフィスのインク吐出面側における開口部のエッジの形状および開口部の直径は、オリフィスプレートのインク吐出面側に設けられる材料に大きく依存していると判断される。 From the above, it is determined that the shape of the edge of the opening on the ink ejection surface side of the orifice and the diameter of the opening greatly depend on the material provided on the ink ejection surface side of the orifice plate.
〔本実施形態のレーザ加工方法〕
本発明の一実施形態について図1〜図5に基づいて説明すると以下の通りである。
[Laser processing method of this embodiment]
An embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS.
図1および図2を参照して、本実施形態のレーザ加工方法について説明する。図1(a)〜(c)は、本実施形態のレーザ加工方法を示す断面図である。図2は、本実施形態のレーザ加工方法を示すフローチャートである。 With reference to FIG. 1 and FIG. 2, the laser processing method of this embodiment is demonstrated. 1A to 1C are cross-sectional views illustrating a laser processing method according to the present embodiment. FIG. 2 is a flowchart showing the laser processing method of this embodiment.
まず、オリフィスプレート(プレート)1のインク吐出面に撥水膜7が形成される(S1)。
First, the
次に、図1(a)に示すように、撥水膜7の上に粘着フィルム4が設けられる(S2)。また、オリフィスプレート1のレーザ照射面には、流動層2が設けられ(S3)、その上に上面保護フィルム(保護フィルム)3が設けられる。そして、オリフィスプレート1、流動層2および上面保護フィルム3は、室温(25℃)でラミネートされる(S4)。それから、上面保護フィルム3の上からレーザビーム(レーザ光)5が照射され、オリフィス8が形成される(S5)。レーザビーム5による加工は、上面保護フィルム3の上面から、流動層2およびオリフィスプレート1を通り、粘着フィルム4の一部まで行われる。その際、上面保護フィルム3の上面であって、形成されたオリフィス8の開口部近傍に、各部材が削られることにより生じた副生成物6が堆積する。
Next, as shown in FIG. 1A, the
次に、図1(b)に示すように、上面保護フィルム3および粘着フィルム4を流動層2から剥離させる(S6)。そして、オリフィスプレート1は有機溶剤を用いて超音波洗浄され、オリフィスプレート1のレーザ照射面に設けられた流動層2が洗浄される(S7)。これにより、図1(c)に示すように、レーザ加工により生じた副生成物6が付着していない清浄なオリフィスプレート1を得ることができる。
Next, as shown in FIG.1 (b), the upper
なお、形成されたオリフィス8は、オリフィスプレート1のレーザ照射面からインク吐出面にいくほど、直径が小さくなる、いわゆるテーパー形状をしている。
The formed
本実施形態のレーザ加工方法は、インクジェットヘッドに備えられるオリフィスプレートのオリフィスを形成するために用いられる。なお、本発明のレーザ加工方法は、上述した用途に限られず、プレートに貫通孔を形成するために用いることができる。 The laser processing method of this embodiment is used for forming an orifice of an orifice plate provided in an ink jet head. In addition, the laser processing method of this invention is not restricted to the use mentioned above, It can be used in order to form a through-hole in a plate.
撥水膜7は、オリフィスプレート1のインク吐出面側にインクが付着することを抑制するためのものである。本実施形態では、オリフィスプレート1のインク吐出面に対し、オリフィス8形成前に撥水膜7が形成される。これにより、オリフィス8を形成することにより生じた副生成物6が撥水膜7の形成に影響を与えることなく、オリフィス形成後に撥水膜を形成する従来の方法と比較して、より清浄なオリフィスプレート1を得ることが可能である。
The
また、本実施形態では、撥水膜7はフッ素系シランカップリング剤から構成される。フッ素系シランカップリング剤は、単分子膜(2〜3nm)でも撥水特性を有するため、他の撥水材料に比べ、撥水膜7を非常に薄く形成することができる。このため、撥水膜7がオリフィスプレート1のインク吐出面側におけるオリフィス8の形状に与える影響を小さくすることができる。また、他の撥水材料と比較して、適用できるレーザ加工条件の範囲が広く、容易にオリフィスを形成することができる。
In the present embodiment, the
なお、本実施形態では、撥水膜7はオリフィス8形成前にオリフィスプレート1のインク吐出面側に形成されているが、本発明はこれに限られない。つまり、撥水膜7はオリフィス8形成後にオリフィスプレート1のインク吐出面側に形成されてもよい。また、本発明のレーザ加工方法においては、撥水膜7は形成されなくてもかまわない。
In this embodiment, the
レーザビーム5は、オリフィスプレート1にオリフィス8を形成するためのものである。レーザビーム5は、波長248nmのエキシマレーザによって照射される。上記エキシマレーザは、オリフィス8のレーザ照射面側における開口部の直径が約40μm、インク吐出面側における開口部の直径が約20μmとなるように設定される。
The
オリフィスプレート1は、インクジェットヘッドにおいて、インクを吐出するための吐出口であるオリフィスが形成されたものである。一般的に、エキシマレーザを用いた加工では、アブレーション加工が中心となる。そのため、加工される材料の加工状態は該材料の光吸収係数に依存する。すなわち、上記材料の光吸収係数がある閾値以下では、所定のパワーを有するエキシマレーザでは加工できない。そのため、レーザビーム5によりオリフィスプレート1にオリフィス8を形成するためには、オリフィスプレート1の光吸収係数を、ある程度の値以上にする必要がある。
The
そこで、本実施形態では、オリフィスプレート1を、波長248nmのエキシマレーザに対して1000cm−1以上の光吸収係数を有するポリマーから構成している。上記ポリマーは、主にポリイミド誘導体が含まれた材料から構成される。また、上記ポリマーとしては、ポリイミド誘導体以外にも、ポリスチレン、ポリアミド、ポリメチルメタクリレートなどを用いることができる。これにより、波長248nmのエキシマレーザを用いて、オリフィスプレート1を容易にアブレーション加工することが可能となる。また、ポリイミド誘導体が含まれた上記ポリマーは耐薬品性に優れているため、インクジェットヘッドのノズルとしても好適に用いることができる。
Therefore, in the present embodiment, the
上面保護フィルム3は、オリフィス8の形成により生じた副生成物6がオリフィスプレート1のレーザ照射面に付着することを防止するためのものである。上面保護フィルム3は、オリフィスプレート1と同様に、波長248nmのエキシマレーザに対する光吸収係数が1000cm−1以上のポリマーにより構成される。用いられるポリマーは、オリフィスプレート1と同様であるので、説明は省略する。このように、上面保護フィルム3をオリフィスプレート1と同じ構成の材料から構成することにより、より精巧に形成されたオリフィス8を有する清浄なオリフィスプレート1を得ることができる。
The upper surface
ここで、図10および図11に示した従来のレーザ加工方法の検討により得られた結果から、本実施形態のレーザ加工方法に用いられる流動層2および粘着フィルム4の構成について説明する。
Here, the configuration of the fluidized bed 2 and the
従来のレーザ加工方法では、オリフィスプレートのインク吐出面に塗布された液体の粘性率が低いため、オリフィスプレートの安定性が低い。そのため、レーザビームを上記オリフィスプレートに照射した際、上記オリフィスプレートが動くことにより、レーザビームのフォーカス位置ずれが生じる。また、オリフィスプレートと下面保護フィルムとの間の密着が弱く、レーザ照射の衝撃が上記液体に分散してしまう。そして、上記液体に分散された衝撃により、上記オリフィスプレートのインク吐出面側における開口部のエッジの形状がいびつになる。 In the conventional laser processing method, since the viscosity of the liquid applied to the ink ejection surface of the orifice plate is low, the stability of the orifice plate is low. For this reason, when the orifice plate is irradiated with the laser beam, the orifice plate moves to cause a focus position shift of the laser beam. Further, the adhesion between the orifice plate and the lower surface protective film is weak, and the impact of laser irradiation is dispersed in the liquid. Due to the impact dispersed in the liquid, the shape of the edge of the opening on the ink ejection surface side of the orifice plate becomes distorted.
また、オリフィスプレートのレーザ照射面に塗布された液体の粘性率が高いことにより、上記液体はレーザ照射面全体に広がらず、上記液体の上に設けられた上面保護フィルムにうねりが生じる。そのため、レーザビームを上記上面保護フィルムに照射した際、レーザビームのフォーカス位置ずれが生じる。 Further, since the viscosity of the liquid applied to the laser irradiation surface of the orifice plate is high, the liquid does not spread over the entire laser irradiation surface, and undulation occurs in the upper surface protective film provided on the liquid. Therefore, when the upper surface protective film is irradiated with a laser beam, a focus position shift of the laser beam occurs.
そこで、本実施形態では、流動層2の粘性率と、オリフィスプレート1のインク吐出面と粘着フィルム4との間の粘着力に特徴を持たせることにより、オリフィス8のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきを小さくし、上記開口部のエッジの形状を均一にする。
Therefore, in the present embodiment, by providing the viscosity of the fluidized bed 2 and the adhesive force between the ink ejection surface of the
流動層2は、オリフィスプレート1のレーザ照射面に対し上面保護フィルム3を粘着させるためのものである。上述のように、従来ではオリフィスプレートのインク吐出面に塗布された液体の粘性が高いことにより、上記液体の上に設けられた上面保護フィルムにうねりが生じ、レーザのフォーカス位置ずれが生じていた。そのため、流動層2の粘性率はある程度低い方が好ましい。具体的には、流動層2の粘性度は40cP以下であることが好ましい。
The fluidized bed 2 is for adhering the upper surface
本実施形態では、流動層2として分子量400(25℃での粘性度:40cP)のポリプロピレングリコール(PPG)を用いている。これにより、流動層2はオリフィスプレート1のレーザ照射面全体に広がり、上面保護フィルム3はうねりを生じない。そのため、レーザのフォーカス位置ずれが生じず、オリフィスプレート1のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきが小さいオリフィス8を形成することができる。また、流動層2としてオリフィスプレート1との反応性の低いPPGを用いることにより、オリフィスプレート1に与える影響を小さくすることができる。このため、精巧なオリフィス8を有したより清浄なオリフィスプレート1を得ることができる。
In this embodiment, polypropylene glycol (PPG) having a molecular weight of 400 (viscosity at 25 ° C .: 40 cP) is used as the fluidized bed 2. Thereby, the fluidized bed 2 spreads over the entire laser irradiation surface of the
なお、本実施形態では流動層2は、分子量400(25℃での粘性度:40cP)のPPGを用いているが、本発明はこれに限られない。例えば、ゾル状のような流動性のある材料であってもかまわない(10000cP以下のものを指す)。 In the present embodiment, the fluidized bed 2 uses PPG having a molecular weight of 400 (viscosity at 25 ° C .: 40 cP), but the present invention is not limited to this. For example, a fluid material such as a sol may be used (refers to a material having a viscosity of 10,000 cP or less).
粘着フィルム4は、オリフィスプレート1のインク吐出面側にオリフィス8形成により生じた副生成物6が付着することを防止するためのものである。本実施形態では、粘着フィルム4として、日東電工製の商品名「SPV−224」が用いられる。なお、粘着フィルム4は上述したものに限られず、オリフィスプレート1のインク吐出面との間の粘着力が0.5N/20mm以上のものであればよい。これにより、オリフィスプレート1と粘着フィルム4との安定性と密着性を高めることができる。そのため、本実施形態のレーザ加工方法は、オリフィスプレート1のインク吐出面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、上記開口部の直径のばらつきが小さいオリフィス8を形成することができる。
The
次に、本実施形態のレーザ加工方法によりオリフィス8が形成されたオリフィスプレート1の状態について図3〜図5を参照して述べる。
Next, the state of the
図3は、本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィス8のインク吐出面側のSEM写真を示した図である。本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィス8は、図3に示すように、オリフィスプレート1のインク吐出面側において開口部のエッジの形状が均一となる。また、オリフィス8の形成に用いられるマスクパターンの真円度(円の直径のばらつき)が0.1μmであるのに対し、オリフィス8のインク吐出面側における開口部の真円度は0.5μmである。このように、本実施形態のレーザ加工方法を用いることにより、非常に精巧なオリフィス8を形成することができる。
FIG. 3 is a view showing an SEM photograph of the ink ejection surface side of the
また、図4は、本実施形態のレーザ加工方法により一括形成されたオリフィス8のインク吐出面側における開口部の直径を測定したグラフである。なお、図中において、Y軸は開口部の直径を示し、1目盛は0.5μmである。また、X軸は一括形成されたオリフィス8の数(以下、チャンネル数と呼ぶ)を示す。従来のレーザ加工方法では、チャンネル毎の開口部の直径は、最大で約1.2μmのばらつきを示したが、本実施形態のレーザ加工方法では、最大で約0.5μmとなる。このように、本実施形態のレーザ加工方法では、形成されたオリフィス8のインク吐出面側における開口部の直径のばらつきは、従来と比べ小さくなる。
FIG. 4 is a graph obtained by measuring the diameter of the opening on the ink ejection surface side of the
図5は、本実施形態のレーザ加工方法により形成されたオリフィス8のレーザ照射面の顕微鏡写真を示した図である。図5では、本実施形態のレーザ加工方法によりオリフィス8が形成されたオリフィスプレート1を、有機溶剤を用いて超音波洗浄を行っている。このように、本実施形態のレーザ加工方法では、オリフィス8形成後にオリフィスプレート1を洗浄することにより、従来のレーザ加工方法で見られた副生成物は除去され、レーザ照射面が清浄に保たれる。
FIG. 5 is a view showing a micrograph of the laser irradiation surface of the
以上のように、本実施形態のレーザ加工方法は、レーザビーム5によりオリフィスプレート1にオリフィス8を形成する方法であって、オリフィスプレート1のインク吐出面に、粘着力を有する粘着フィルム4を設ける工程と、オリフィスプレート1のレーザ照射面に、流動性を有した流動層2と、上面保護フィルム3とをこの順に設ける工程と、オリフィスプレート1のレーザ照射面に対し、レーザビーム5を照射してオリフィスプレート1にオリフィス8を形成する工程と、粘着フィルム4および上面保護フィルム3を除去する工程と、流動層2を除去する工程とを含む。
As described above, the laser processing method of this embodiment is a method of forming the
このように、オリフィスプレート1のインク吐出面側に粘着力を有する粘着フィルム4を設けることにより、オリフィスプレート1と粘着フィルム4との安定性と密着性を高めることができる。そのため、本実施形態のレーザ加工方法は、オリフィスプレート1のインク吐出面側における開口部のエッジの形状が均一で、かつ、上記開口部の直径のばらつきが小さいオリフィス8を形成することができる。
Thus, by providing the
また、オリフィスプレート1のレーザ照射面とインク吐出面の両側に、粘着フィルム4および上面保護フィルム3を設けることにより、オリフィス8を形成することにより生じた副生成物6がオリフィスプレート1に付着することを抑制する。このため、精巧なオリフィス8を有した清浄なオリフィスプレート1を得ることができる。
In addition, by providing the
本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能である。すなわち、請求項に示した範囲で適宜変更した技術的手段を組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。 The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications can be made within the scope of the claims. That is, embodiments obtained by combining technical means appropriately changed within the scope of the claims are also included in the technical scope of the present invention.
本発明は、プレートに貫通孔を形成する場合、又はインクジェットヘッドに備えられるオリフィスプレートにオリフィスを形成する場合に好適に用いられる。 The present invention is suitably used when a through hole is formed in a plate, or when an orifice is formed in an orifice plate provided in an ink jet head.
1 オリフィスプレート(プレート)
2 流動層
3 上面保護フィルム(保護フィルム)
4 粘着フィルム
5 レーザビーム(レーザ光)
6 副生成物
7 撥水膜
8 オリフィス(貫通孔)
1 Orifice plate (plate)
4
6 By-
Claims (10)
上記プレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記プレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、上記プレートに貫通孔を形成する工程と、
上記粘着フィルムおよび上記保護フィルムを除去する工程と、
上記流動層を除去する工程とを含むことを特徴とするレーザ加工方法。 In a laser processing method for forming a through hole in a plate by laser light,
A step of providing an adhesive film having adhesive force on the surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the plate;
A step of providing a fluidized bed having fluidity and a protective film in this order on the laser irradiation surface of the plate;
Irradiating the laser irradiation surface of the plate with laser light to form a through hole in the plate;
Removing the adhesive film and the protective film;
And a step of removing the fluidized bed.
上記オリフィスプレートのレーザ光が照射されるレーザ照射面とは反対側の面に撥水膜を形成する工程と、
上記オリフィスプレートの吐出面に、粘着力を有する粘着フィルムを設ける工程と、
上記オリフィスプレートのレーザ照射面に、流動性を有した流動層と、保護フィルムとをこの順に設ける工程と、
上記オリフィスプレートのレーザ照射面に対してレーザ光を照射し、オリフィスを形成する工程と、
上記粘着フィルムおよび上記保護フィルムを除去する工程と、
上記流動層を除去する工程とを含むことを特徴とするインクジェットヘッド製造方法。 In an inkjet head manufacturing method for forming an orifice in an orifice plate by laser light,
Forming a water repellent film on a surface opposite to the laser irradiation surface irradiated with the laser light of the orifice plate;
Providing an adhesive film having adhesive force on the discharge surface of the orifice plate;
A step of providing a fluidized bed having fluidity and a protective film in this order on the laser irradiation surface of the orifice plate;
Irradiating laser light to the laser irradiation surface of the orifice plate to form an orifice;
Removing the adhesive film and the protective film;
And a step of removing the fluidized bed.
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- 2005-12-20 JP JP2005366934A patent/JP2007167881A/en active Pending
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