JP2007163689A - Method for manufacturing color filter, color filter and liquid crystal display device - Google Patents

Method for manufacturing color filter, color filter and liquid crystal display device Download PDF

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Hidenori Goto
英範 後藤
Mitsutoshi Tanaka
光利 田中
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a color filter at a low cost in high efficiency, by which the generation of a mixture of colors, a void or the like is restrained, a pixel is formed with high positional precision, and an uneven display is restrained when the color filter is loaded in a liquid crystal display device, and also to provide the color filter obtained by this producing method and the liquid crystal display device equipped with the color filter. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the color filter comprises the steps of: forming light shielding partition walls on a substrate; and applying ink of each color of R, G and B to a concave part partitioned by the partition walls to form a colored layer. The partition wall is formed by exposing a photo-polymerizable light shielding layer to an oxygen-poor condition. The ink contains a coloring agent, a polymerizable compound and a polymerization initiator and the amount of a solvent in the ink is ≤50 mass%. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、カラーフィルターの製造方法、カラーフィルター、液晶表示装置に関する。   The present invention relates to a color filter manufacturing method, a color filter, and a liquid crystal display device.

表示装置用カラーフィルターは、ガラス等の基板上に赤色(R)、緑色(G)、青色(B)のドット状画像をそれぞれマトリックス状に配置し、その境界をブラックマトリックス等の隔壁で区分した構造である。このようなカラーフィルターの製造方法としては、従来、支持体としてガラス等の基板を用い、1)染色法、2)印刷法、3)着色した感光性樹脂液の塗布と露光及び現像の繰り返しによる着色感光性樹脂液法(着色レジスト法、例えば、特許文献1参照。)、4)仮支持体上に形成した画像を順次、最終又は仮の支持体上に転写する方法(例えば、特許文献2参照。)、5)予め着色した感光性樹脂液を仮支持体上に塗布することにより着色層を形成し、順次直接、基板上にこの感光性着色層を転写し、露光して現像することを色の数だけ繰り返す方法等により多色画像を形成する方法(転写方式)が知られている(例えば、特許文献3参照。)。またインクジェット法を用いる方法も知られている(例えば、特許文献4参照。)。   In the color filter for display device, red (R), green (G), and blue (B) dot images are arranged in a matrix on a substrate such as glass, and the boundaries are divided by partitions such as a black matrix. Structure. As a method for producing such a color filter, conventionally, a substrate such as glass is used as a support, 1) a dyeing method, 2) a printing method, 3) application of a colored photosensitive resin solution, and repeated exposure and development. Colored photosensitive resin liquid method (colored resist method, see, for example, Patent Document 1), 4) A method of transferring images formed on a temporary support sequentially onto a final or temporary support (for example, Patent Document 2) Refer to.) 5) Form a colored layer by applying a pre-colored photosensitive resin solution on a temporary support, transfer the photosensitive colored layer directly onto the substrate, and expose and develop. There is known a method (transfer method) for forming a multicolor image by a method of repeating the same number of colors (for example, see Patent Document 3). A method using an ink jet method is also known (see, for example, Patent Document 4).

これらの方法のうち、着色レジスト法は位置精度高くカラーフィルターを作製できるものの、感光層樹脂液の塗布にロスが多くコスト的には有利とは言えない。一方インクジェット法は樹脂液のロスが少なくコスト的に有利ではあるものの、画素の位置精度が悪いという問題がある。   Among these methods, although the color resist method can produce a color filter with high positional accuracy, it is not advantageous in terms of cost due to a large loss in application of the photosensitive layer resin solution. On the other hand, the ink-jet method has a problem that the positional accuracy of the pixels is poor, although the loss of the resin liquid is small and advantageous in terms of cost.

これらを克服すべく、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、RGB画素をインクジェット法で形成するカラーフィルター製造方法も提案されているが、形成されたブラックマトリックスの断面形状を観察すると、上端やそのエッジが丸くなっており、後に打滴された各色インクがブラックマトリックスをのり越えやすいために、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどが起こる恐れがある。これを防ぐ為、ブラックマトリックスとインクとの間に、お互いはじきあう性質を持たせたり、ブラックマトリックス間隙部のインクの濡れ性を高めたりする方法が開示されている(例えば、特許文献5、6及び7参照)。
しかし、これらの方法では、ブラックマトリックス用着色レジストやインクに特殊な素材が必要であったり、ブラックマトリックス間隙部の表面エネルギーを高める工程(表面改質処理)が必要であり、コスト的な問題がなお残されている。
In order to overcome these problems, a color filter manufacturing method has been proposed in which a black matrix is formed by a colored resist method and RGB pixels are formed by an ink jet method. However, when the cross-sectional shape of the formed black matrix is observed, Since the edges are rounded and each of the color inks that are subsequently ejected easily passes over the black matrix, there is a possibility that bleeding, bleeding, color mixing with adjacent pixels, white spots, etc. may occur. In order to prevent this, a method has been disclosed in which the black matrix and the ink are repelled from each other and the ink wettability of the black matrix gap is increased (for example, Patent Documents 5 and 6). And 7).
However, these methods require special materials for the black matrix coloring resist and ink, and require a step of increasing the surface energy of the black matrix gap (surface modification treatment), which is a cost problem. It is still left.

また、単官能モノマーと多官能モノマーを用い、付着後直ちに活性エネルギー線で硬化するインクを用いて生産性を向上させる方法が開示されている(例えば、特許文献8参照)が、特性が十分では無く、表示装置に搭載したときに、表示ムラなどが見られ、問題が残されている。   In addition, a method for improving productivity using a monofunctional monomer and a polyfunctional monomer and using an ink that is cured with an active energy ray immediately after adhesion is disclosed (for example, see Patent Document 8), but the characteristics are not sufficient. However, when mounted on a display device, display unevenness and the like are seen, and a problem remains.

特開昭63−298304号公報JP-A-63-298304 特開昭61−99103号公報JP-A-61-99103 特開昭61−99102号公報JP-A-61-99102 特開平8−227012号公報JP-A-8-227010 特開平6−347637号公報JP-A-6-347637 特開平7−35915号公報JP-A-7-35915 特開平10−142418号公報JP-A-10-142418 特開2002−371216号公報JP 2002-371216 A

上述のように、ブラックマトリックスを着色レジスト法で形成し、RGB画素をインクジェット法で形成するカラーフィルターの製造方法は、画素を位置精度良く形成でき、低コストかつ高効率であるという利点はあるものの、混色や白抜け、表示ムラ等の発生を十分に抑制できるには至っていないのが現状である。   As described above, the color filter manufacturing method in which the black matrix is formed by the color resist method and the RGB pixels are formed by the ink jet method has the advantage that the pixels can be formed with high positional accuracy, and that the cost is low and the efficiency is high. However, the present situation is that it has not been possible to sufficiently suppress the occurrence of mixed colors, white spots, display unevenness, and the like.

本発明は上記に鑑みなされたものであり、混色や白抜け等の発生を抑制することができ、画素を位置精度良く形成することができ、液晶表示装置に搭載したときに表示ムラを抑制することができる、低コストかつ高効率なカラーフィルターの製造方法、この方法によって得られたカラーフィルター、このカラーフィルターを備えた液晶表示装置を提供することを目的とし、該目的を達成することを課題とする。   The present invention has been made in view of the above, and can suppress the occurrence of mixed colors and white spots, can form pixels with high positional accuracy, and suppress display unevenness when mounted on a liquid crystal display device. It is an object of the present invention to provide a low-cost and high-efficiency color filter manufacturing method, a color filter obtained by this method, and a liquid crystal display device including this color filter, and to achieve the object And

本発明者らは鋭意研究を行った結果、貧酸素条件下で形成された遮光性隔壁(ブラックマトリックス)の上端やそのエッジの断面形状は丸くなりにくく、矩形型に近いものとなっているため、後に打滴された各色のインクがブラックマトリックスをのり越えにくくなることを見出した。その結果、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどを防止できるとの知見を得た。さらに、R(レッド)、G(グリーン)、B(ブルー)の各色のインクとして、溶剤量が50質量%以下のインクを用いることにより、各色の着色層の硬化後の体積収縮を小さくすることができ、画素中央部での平滑性が良好となり、色均一性が向上し、その結果、液晶表示装置に搭載したときに表示ムラの発生を抑制できるとの知見を得た。   As a result of diligent research, the present inventors have found that the upper end of the light-shielding partition (black matrix) formed under anoxic conditions and the cross-sectional shape of the edge thereof are less likely to be round and are close to a rectangular shape. Then, it was found that the ink of each color that was subsequently ejected was difficult to pass over the black matrix. As a result, it has been found that bleeding, protrusion, color mixing with adjacent pixels, and white spots can be prevented. Furthermore, as the ink of each color of R (red), G (green), and B (blue), the volume shrinkage after curing of the colored layer of each color is reduced by using an ink having a solvent amount of 50% by mass or less. As a result, it was found that the smoothness at the center of the pixel is good and the color uniformity is improved, and as a result, the occurrence of display unevenness can be suppressed when mounted on a liquid crystal display device.

これらの知見に基づき、前記課題は以下の手段によって解決される。即ち、本発明は、
<1> 基板上に遮光性を有する隔壁を形成し、該隔壁により区切られた凹部に、インクジェット方式によってR、G、Bの各色のインクを付与することにより着色層を形成するカラーフィルターの製造方法であって、前記隔壁が、光重合性遮光層を貧酸素条件下で露光することにより形成され、前記インクが、着色剤、重合性化合物および重合開始剤を含み、かつインク中の溶剤量が50質量%以下であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法である。
Based on these findings, the above problems are solved by the following means. That is, the present invention
<1> Manufacture of a color filter that forms a light-blocking partition on a substrate and forms colored layers by applying inks of R, G, and B colors to the recesses partitioned by the partition by an ink jet method In the method, the partition is formed by exposing the photopolymerizable light-shielding layer under anoxic conditions, the ink contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiator, and the amount of solvent in the ink Is a method for producing a color filter, wherein the content is 50% by mass or less.

<2> 前記貧酸素条件が、減圧若しくは不活性気体の充填により、酸素分圧を大気1気圧における酸素分圧より低下させた条件であることを特徴とする<1>に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <2> The color filter according to <1>, wherein the poor oxygen condition is a condition in which an oxygen partial pressure is reduced from an oxygen partial pressure in an atmospheric pressure of 1 atmosphere by decompression or filling with an inert gas. It is a manufacturing method.

<3> 前記貧酸素条件が、光重合性遮光層上に酸素遮断層が形成された条件であることを特徴とする<1>に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <3> The method for producing a color filter according to <1>, wherein the poor oxygen condition is a condition in which an oxygen blocking layer is formed on a photopolymerizable light blocking layer.

<4> 前記貧酸素条件が、減圧若しくは不活性気体の充填により、酸素分圧を大気1気圧における酸素分圧より低下させ、かつ、光重合性遮光層上に酸素遮断層が形成された条件であることを特徴とする<1>に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <4> The above-mentioned poor oxygen condition is a condition in which the partial pressure of oxygen is reduced from the partial pressure of oxygen at 1 atmosphere by reducing the pressure or filling with an inert gas, and the oxygen blocking layer is formed on the photopolymerizable light blocking layer. <1> The method for producing a color filter according to <1>.

<5> 前記光重合性遮光層が少なくとも遮光剤、重合性化合物および重合開始剤を含有してなることを特徴とする<1>〜<4>のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <5> The production of a color filter according to any one of <1> to <4>, wherein the photopolymerizable light-shielding layer contains at least a light-shielding agent, a polymerizable compound, and a polymerization initiator. Is the method.

<6> 前記遮光性を有する隔壁の高さが1〜20μmであることを特徴とする<1>〜<5>のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <6> The method for producing a color filter according to any one of <1> to <5>, wherein a height of the light-shielding partition wall is 1 to 20 μm.

<7> 前記インクがラジカル重合性組成物を含むことを特徴とする<1>〜<6>のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法である。 <7> The method for producing a color filter according to any one of <1> to <6>, wherein the ink includes a radical polymerizable composition.

<8> <1>〜<7>のいずれか1項に記載の製造方法で製造されたことを特徴とするカラーフィルターである。 <8> A color filter manufactured by the manufacturing method according to any one of <1> to <7>.

<9> <8>に記載のカラーフィルターを有することを特徴とする液晶表示装置である。 <9> A liquid crystal display device comprising the color filter according to <8>.

本発明によれば、混色や白抜け等の発生を抑制することができ、画素を位置精度良く形成することができ、表示装置に搭載したときに表示ムラを抑制することができる、低コストかつ高効率なカラーフィルターの製造方法、この方法によって得られたカラーフィルター、このカラーフィルターを備えた液晶表示装置を提供することができる。   According to the present invention, it is possible to suppress the occurrence of mixed colors and white spots, to form pixels with high positional accuracy, and to suppress display unevenness when mounted on a display device. A highly efficient color filter manufacturing method, a color filter obtained by this method, and a liquid crystal display device including this color filter can be provided.

以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、基板上に遮光性を有する隔壁を形成し、該隔壁により区切られた凹部に、インクジェット方式によってR、G、Bの各色のインクを付与することにより着色層を形成するカラーフィルターの製造方法であって、前記隔壁が、光重合性遮光層を貧酸素条件下で露光することにより形成され、前記インクが、着色剤、重合性化合物および重合開始剤を含み、かつインク中の溶剤量が50質量%以下であることを特徴とする。
The present invention will be described in detail below.
The present invention provides a color filter for forming a colored layer by forming a light-blocking partition on a substrate and applying inks of R, G, and B colors to the recesses partitioned by the partition by an ink jet method. In the production method, the partition is formed by exposing the photopolymerizable light-shielding layer under poor oxygen conditions, the ink contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiator, and the solvent in the ink The amount is 50% by mass or less.

≪貧酸素条件≫
本発明において、貧酸素条件とは、光重合性遮光層の露光の際、該光重合性遮光層の表面に存在する酸素が、大気中で露光を行う場合よりも少ない条件をいう。
貧酸素条件は例えば、減圧若しくは不活性気体の充填により、酸素分圧を大気1気圧における酸素分圧より低下させた条件(以下、「貧酸素雰囲気」ということがある)及び/又は光重合性遮光層上に酸素遮断層が形成された条件が好ましい。
≪Anoxia condition≫
In the present invention, the poor oxygen condition refers to a condition in which the oxygen present on the surface of the photopolymerizable light-shielding layer is less in the exposure of the photopolymerizable light-shielding layer than in the case where exposure is performed in the air.
The hypoxic condition is, for example, a condition in which the partial pressure of oxygen is reduced from the partial pressure of oxygen at 1 atmosphere of atmospheric pressure (hereinafter sometimes referred to as “anoxic atmosphere”) and / or photopolymerization. A condition in which an oxygen blocking layer is formed on the light shielding layer is preferable.

<貧酸素雰囲気>
本発明において、貧酸素雰囲気は、酸素の分圧が0.15気圧以下の雰囲気であることが好ましく、これらは詳しくは以下の通りである。
通常、大気(1気圧)下では酸素の分圧は0.21気圧であるので、酸素の分圧を0.15気圧以下に下げるためには、(a)露光時の大気を減圧して0.71気圧以下にするか、(b)空気と酸素以外の気体(例えば、窒素やアルゴン等の不活性気体)を空気に対して40vol%以上混合することにより達成できる。
本発明における貧酸素雰囲気については、特に限定されず前記いずれの方法も用いることができる。
前記酸素分圧は0.15気圧以下とする方法を用いる場合、0.10気圧以下が好ましく、0.08気圧以下がより好ましく、0.05気圧以下が特に好ましい。酸素分圧が0.15気圧より高いと、隔壁表面での重合が酸素により阻害され、表面の粗さが増加する場合がある。
酸素分圧の下限には特に制限はない。真空又は雰囲気を空気以外の気体(例えば窒素)で置換することにより酸素分圧を事実上0にすることができるが、これも好ましい方法である。酸素分圧は酸素計を用いて測定することができる。
<Anoxic atmosphere>
In the present invention, the oxygen-poor atmosphere is preferably an atmosphere in which the partial pressure of oxygen is 0.15 atm or less, and these are as follows in detail.
Usually, the partial pressure of oxygen is 0.21 atm under the atmosphere (1 atm). Therefore, in order to lower the oxygen partial pressure to 0.15 atm or less, (a) the atmosphere at the time of exposure is reduced to 0 Or (b) a gas other than air and oxygen (for example, an inert gas such as nitrogen or argon) mixed at 40 vol% or more with respect to air.
The poor oxygen atmosphere in the present invention is not particularly limited, and any of the above methods can be used.
When using the method in which the oxygen partial pressure is 0.15 atm or less, 0.10 atm or less is preferable, 0.08 atm or less is more preferable, and 0.05 atm or less is particularly preferable. When the oxygen partial pressure is higher than 0.15 atm, the polymerization on the partition wall surface is inhibited by oxygen, and the surface roughness may increase.
There is no restriction | limiting in particular in the minimum of oxygen partial pressure. By substituting the vacuum or atmosphere with a gas other than air (eg, nitrogen), the oxygen partial pressure can be reduced to virtually zero, which is also a preferred method. The oxygen partial pressure can be measured using an oximeter.

前記不活性気体とは、N、H、CO、などの一般的な気体や、He、Ne、Arなどの希ガス類をいう。この中でも、安全性や入手の容易さ、コストの問題から、Nが好適に利用される。 The inert gas refers to general gases such as N 2 , H 2 , CO 2 , and rare gases such as He, Ne, Ar. Among these, N 2 is preferably used because of safety, availability, and cost.

前記減圧下とは、500hPa以下、好ましくは100hPa以下の状態を指す。   The term “under reduced pressure” refers to a state of 500 hPa or less, preferably 100 hPa or less.

<酸素遮断層>
本発明において用いられる酸素遮断層としては例えば、特開昭46−2121号や特公昭56−40824号の各公報に記載の、ポリビニルエーテル/無水マレイン酸重合体、カルボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらの二種以上の組合せ等が挙げられる。
<Oxygen barrier layer>
Examples of the oxygen barrier layer used in the present invention include polyvinyl ether / maleic anhydride polymer, water-soluble salt of carboxyalkyl cellulose described in JP-A Nos. 46-2121 and 56-40824. Water-soluble cellulose ethers, water-soluble salts of carboxyalkyl starch, polyvinyl alcohol, polyvinylpyrrolidone, various polyacrylamides, various water-soluble polyamides, water-soluble salts of polyacrylic acid, gelatin, ethylene oxide polymers, various starches And a group of water-soluble salts thereof, styrene / maleic acid copolymers, maleate resins, and combinations of two or more thereof.

これらの中でも特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組合せである。ポリビニルアルコールは鹸化率が80%以上であるものが好ましく、ポリビニルピロリドンの含有量はアルカリ可溶な樹脂層固形分の1〜75質量%が好ましく、より好ましくは1〜50質量%、更に好ましくは10〜40質量%である。   Among these, a combination of polyvinyl alcohol and polyvinyl pyrrolidone is particularly preferable. The polyvinyl alcohol preferably has a saponification rate of 80% or more, and the content of polyvinyl pyrrolidone is preferably 1 to 75% by mass, more preferably 1 to 50% by mass, and still more preferably the alkali-soluble resin layer solid content. It is 10-40 mass%.

このようにして形成された酸素を遮断しうる酸素遮断層の酸素透過係数は75cm/m・day・1000hPa以下が好ましく、50cm/m・day・1000hPa以下がより好ましく、25cm/m・day・1000hPa以下が最も好ましい。酸素透過係数が75cm/m・day・1000hPa以下の場合には、効率的に酸素を遮断することができ、隔壁を所望の矩形型に近い断面形状にすることができる。 The oxygen permeability coefficient of the oxygen barrier layer capable of blocking oxygen formed in this way is preferably 75 cm 3 / m 2 · day · 1000 hPa or less, more preferably 50 cm 3 / m 2 · day · 1000 hPa or less, and 25 cm 3 / Most preferred is m 2 · day · 1000 hPa or less. When the oxygen permeability coefficient is 75 cm 3 / m 2 · day · 1000 hPa or less, oxygen can be blocked efficiently, and the partition wall can have a cross-sectional shape close to a desired rectangular shape.

≪インク≫
本発明に用いられるR、G、Bの各色のインクは、インク中の溶剤量が50質量%以下であることを特徴とする。インク中の溶剤量が50質量%以下であるとは、実質的に溶剤を含まないインクを明瞭に定義するための条件である。
該インクを用いることにより、各色の着色層の硬化後の体積収縮を小さくすることができ、画素中央部での平滑性が良好となり、色均一性が向上する。その結果、液晶表示装置に搭載したときに表示ムラの発生を抑制できる。
尚、本発明にいう溶剤とは、水、アルコール類、ケトン類、など、「新版溶剤ポケットブック(有機合成科学協会編、オーム社発行)」記載の溶剤をさす。
さらに、本発明に用いられるR、G、Bの各色のインクは、着色剤、重合性化合物および重合開始剤を含むことを特徴とする。該インクは、活性光線により、重合反応により、硬化する重合性着色組成物からなることが好ましい。
≪Ink≫
The R, G, and B inks used in the present invention are characterized in that the amount of solvent in the ink is 50% by mass or less. That the amount of solvent in the ink is 50% by mass or less is a condition for clearly defining an ink that does not substantially contain a solvent.
By using the ink, the volume shrinkage after curing of the colored layers of the respective colors can be reduced, the smoothness at the center of the pixel becomes good, and the color uniformity is improved. As a result, occurrence of display unevenness when mounted on a liquid crystal display device can be suppressed.
The solvent referred to in the present invention refers to a solvent described in "New Edition Solvent Pocket Book (edited by Organic Synthetic Science Association, published by Ohm)" such as water, alcohols and ketones.
Further, the R, G, and B inks used in the present invention include a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiator. The ink is preferably composed of a polymerizable coloring composition that is cured by a polymerization reaction with actinic rays.

<着色剤>
着色剤としては、公知の着色剤(染料、顔料)を用いることができる。該公知の着色剤のうち顔料を用いる場合には、インク中に均一に分散されていることが望ましく、そのため粒径が0.1μm以下、特には0.08μm以下であることが好ましい。
上記公知の染料ないし顔料としては、具体的には、特開2005−17716号公報[0038]〜[0040]に記載の色材や、特開2005−361447号公報[0068]〜[0072]に記載の顔料や、特開2005−17521号公報[0080]〜[0088]に記載の着色剤を好適に用いることができる。
<Colorant>
Known colorants (dyes and pigments) can be used as the colorant. In the case of using a pigment among the known colorants, it is desirable that the pigment is uniformly dispersed in the ink. Therefore, the particle diameter is preferably 0.1 μm or less, particularly 0.08 μm or less.
Specific examples of the known dyes or pigments include the color materials described in JP-A-2005-17716 [0038] to [0040] and JP-A-2005-361447 [0068] to [0072]. The pigment described in JP-A-2005-17521 and the colorants described in [0080] to [0088] can be preferably used.

本発明における着色剤としては、上記の着色剤の中でも、(i)R(レッド)のインクにおいてはC.I.ピグメント・レッド254が、(ii)G(グリーン)のインクにおいてはC.I.ピグメント・グリーン36が、(iii)B(ブルー)のインクにおいてはC.I.ピグメント・ブルー15:6が好適なものとして挙げられる。更に上記顔料は組み合わせて用いてもよい。   As the colorant in the present invention, among the above colorants, (i) R (red) ink is C.I. I. Pigment Red 254 is C.I. for (ii) G (green) ink. I. Pigment Green 36 is C.I. for (iii) B (blue) ink. I. Pigment Blue 15: 6 is a preferable example. Furthermore, the above pigments may be used in combination.

本発明において、併用するのが好ましい上記記載の顔料の組み合わせは、C.I.ピグメント・レッド254では、C.I.ピグメント・レッド177、C.I.ピグメント・レッド224、C.I.ピグメント・イエロー139、又は、C.I.ピグメント・バイオレット23との組み合わせが挙げられ、C.I.ピグメント・グリーン36では、C.I.ピグメント・イエロー150、C.I.ピグメント・イエロー139、C.I.ピグメント・イエロー185、C.I.ピグメント・イエロー138、又は、C.I.ピグメント・イエロー180との組み合わせが挙げられ、C.I.ピグメント・ブルー15:6では、C.I.ピグメント・バイオレット23、又は、C.I.ピグメント・ブルー60との組み合わせが挙げられる。
このように併用する場合の顔料中のC.I.ピグメント・レッド254、C.I.ピグメント・グリーン36、C.I.ピグメント・ブルー15:6の含有量は、C.I.ピグメント・レッド254は、80重量%以上が好ましく、特に90重量%以上が好ましい。C.I.ピグメント・グリーン36は50重量%以上が好ましく、特に60重量%以上が好ましい。C.I.ピグメント・ブルー15:6は、80重量%以上が好ましく、特に90重量%以上が好ましい。
In the present invention, the combination of the above-described pigments preferably used in combination is C.I. I. In pigment red 254, C.I. I. Pigment red 177, C.I. I. Pigment red 224, C.I. I. Pigment yellow 139 or C.I. I. A combination with Pigment Violet 23; I. In Pigment Green 36, C.I. I. Pigment yellow 150, C.I. I. Pigment yellow 139, C.I. I. Pigment yellow 185, C.I. I. Pigment yellow 138 or C.I. I. A combination with CI Pigment Yellow 180, and C.I. I. In Pigment Blue 15: 6, C.I. I. Pigment violet 23 or C.I. I. A combination with Pigment Blue 60 is mentioned.
C. in the pigment when used together in this way. I. Pigment red 254, C.I. I. Pigment green 36, C.I. I. The content of Pigment Blue 15: 6 is C.I. I. Pigment Red 254 is preferably 80% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more. C. I. The pigment green 36 is preferably 50% by weight or more, particularly preferably 60% by weight or more. C. I. Pigment Blue 15: 6 is preferably 80% by weight or more, particularly preferably 90% by weight or more.

上記顔料は分散液として使用することが望ましい。この分散液は、前記顔料と顔料分散剤とを予め混合して得られる組成物を、後述する重合性化合物に添加して分散させることによって調製することができる。前記顔料を分散させる際に使用する分散機としては、特に制限はなく、例えば、朝倉邦造著、「顔料の事典」、第一版、朝倉書店、2000年、438項に記載されているニーダー、ロールミル、アトライダー、スーパーミル、ディゾルバ、ホモミキサー、サンドミル等の公知の分散機が挙げられる。更に該文献310項記載の機械的摩砕により、摩擦力を利用し微粉砕してもよい。   The pigment is desirably used as a dispersion. This dispersion can be prepared by adding and dispersing a composition obtained by previously mixing the pigment and the pigment dispersant to a polymerizable compound described later. The disperser used for dispersing the pigment is not particularly limited. For example, the kneader described in Kazuzo Asakura, “Encyclopedia of Pigments”, first edition, Asakura Shoten, 2000, 438, Known dispersing machines such as a roll mill, an atrider, a super mill, a dissolver, a homomixer, and a sand mill can be used. Further, fine grinding may be performed using frictional force by mechanical grinding described in Item 310 of the document.

本発明で用いる着色剤(顔料)は、数平均粒径0.001〜0.1μmのものが好ましく、更に0.01〜0.08μmのものが好ましい。顔料数平均粒径が0.001μm未満であると、粒子表面エネルギーが大きくなり凝集し易くなり、顔料分散が難しくなると共に、分散状態を安定に保つのも難しくなり好ましくない。また、顔料数平均粒径が0.1μmを超えると、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下し、好ましくない。尚、ここでいう「粒径」とは粒子の電子顕微鏡写真画像を同面積の円とした時の直径を言い、また「数平均粒径」とは多数の粒子について上記の粒径を求め、この100個平均値をいう。   The colorant (pigment) used in the present invention preferably has a number average particle diameter of 0.001 to 0.1 μm, more preferably 0.01 to 0.08 μm. When the number average particle diameter of the pigment is less than 0.001 μm, the particle surface energy is increased and the particles are easily aggregated, so that it is difficult to disperse the pigment and it is difficult to keep the dispersion state stable. On the other hand, if the number average particle diameter of the pigment exceeds 0.1 μm, the polarization is canceled by the pigment, and the contrast is lowered. The “particle diameter” here means the diameter when the electron micrograph image of the particle is a circle of the same area, and the “number average particle diameter” is the above-mentioned particle diameter for many particles, This 100 average value is said.

着色画素のコントラストは、分散されている顔料の粒径を小さくすることで向上させることができる。粒径を小さくするには、顔料分散物の分散時間を調節することで達成できる。分散には、上記記載の公知の分散機を用いることができる。分散時間は好ましくは10〜30時間であり、更に好ましくは18〜30時間、最も好ましくは24〜30時間である。分散時間が10時間未満であると、顔料粒径が大きく、顔料による偏光の解消が生じ、コントラストが低下することがある。一方、30時間を越えると、分散液の粘度が上昇し、インクジェットヘッドからの吐出が困難になることがある。   The contrast of the colored pixels can be improved by reducing the particle size of the dispersed pigment. Reduction of the particle size can be achieved by adjusting the dispersion time of the pigment dispersion. For dispersion, the known disperser described above can be used. The dispersion time is preferably 10 to 30 hours, more preferably 18 to 30 hours, and most preferably 24 to 30 hours. When the dispersion time is less than 10 hours, the pigment particle size is large, the polarization due to the pigment is canceled, and the contrast may be lowered. On the other hand, if it exceeds 30 hours, the viscosity of the dispersion increases, and it may be difficult to discharge from the inkjet head.

上記着色剤を用いて作製されるカラーフィルターの各着色画素のコントラストは、2000以上が好ましく、より好ましくは2800以上、更に好ましくは3000以上であり、最も好ましくは3400以上である。カラーフィルターを構成する各着色画素のコントラストが2000以下だと、これを有する液晶表示装置の画像を観察すると、全体に白っぽい印象となり、見難く好ましくない。また、各着色画素のコントラストの差が、好ましくは600以内であり、より好ましくは410以内であり、更に好ましくは350以内、最も好ましくは200以内である。各着色画素のコントラストの差が600以内であると、黒表示時における各着色画素部からの光漏れ量が大きく相違しない為、黒表示の色バランスが良いため好ましい   The contrast of each colored pixel of the color filter produced using the colorant is preferably 2000 or more, more preferably 2800 or more, still more preferably 3000 or more, and most preferably 3400 or more. When the contrast of each colored pixel constituting the color filter is 2000 or less, when an image of a liquid crystal display device having the color pixel is observed, an overall whitish impression is obtained, which is not preferable. Further, the difference in contrast between the colored pixels is preferably within 600, more preferably within 410, still more preferably within 350, and most preferably within 200. It is preferable that the difference in contrast between the colored pixels is within 600 because the amount of light leakage from each colored pixel portion during black display does not differ greatly, and the color balance of black display is good.

本明細書において、「着色画素のコントラスト」とは、カラーフィルターを構成するR、G、Bについて、色毎に個別に評価されるコントラストを意味する。コントラストの測定方法は次の通りである。被測定物の両側に偏光板を重ねて、偏光板の偏光方向を互いに平行にした状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Y1を測定する。次に偏光板を互いに直交させた状態で、一方の偏光板の側からバックライトを当てて、他方の偏光板を通過した光の輝度Y2を測定する。得られた測定値を用いて、コントラストはY1/Y2で算出される。尚、コントラスト測定に用いる偏光板は、該カラーフィルターを使用する液晶表示装置に用いる偏光板と同一のものとする。   In the present specification, “contrast of colored pixels” means a contrast that is individually evaluated for each color of R, G, and B constituting the color filter. The contrast measurement method is as follows. In the state where the polarizing plates are overlapped on both sides of the object to be measured and the polarizing directions of the polarizing plates are parallel to each other, the backlight Y is applied from the side of one polarizing plate, and the luminance Y1 of the light passing through the other polarizing plate is obtained. taking measurement. Next, in a state where the polarizing plates are orthogonal to each other, a backlight is applied from the side of one polarizing plate, and the luminance Y2 of the light passing through the other polarizing plate is measured. The contrast is calculated by Y1 / Y2 using the obtained measurement value. The polarizing plate used for the contrast measurement is the same as the polarizing plate used for the liquid crystal display device using the color filter.

<重合性化合物>
本発明における重合性化合物としては、ラジカル活性種による重合反応により硬化するラジカル重合性化合物およびカチオン活性種によるカチオン重合反応により硬化するカチオン重合性化合物を用いることができる。
<Polymerizable compound>
As the polymerizable compound in the present invention, a radical polymerizable compound that is cured by a polymerization reaction by a radical active species and a cationic polymerizable compound that is cured by a cationic polymerization reaction by a cationic active species can be used.

(ラジカル重合性化合物)
ラジカル重合性化合物の具体的化合物としては、いかに示す化合物があるが、これらに限定されることは無い。
エチレン性不飽和二重結合を1個有する単官能モノマーとして、ブタンジオールモノアクリレート、N,N−ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、2−メトキシエチルアクリレート、N−ビニルカプロラクタム、N−ビニルピロリドン、アクリロイルモルフォリン、N−ビニルホルムアミド、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレート、グリシジルアクリレート、イソボニルアクリレート、イソデシルアクリレート、フェノキシメタクリレート、ステアリルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、2−フェノキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、t−ブチルアクリレート、イソオクチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、メトキシトリエチレングリコールアクリレート、2−エトキシエチルアクリレート、テトラヒドロフルフリルアクリレート、3−メトキシブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、エトキシエトキシエチルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、エトキシジエチレングリコールアクリレート、メトキシジプロピレングリコールアクリレート、メチルフェノキシエチルアクリレート、ジプロピレングリコールアクリレート等が挙げられる。
(Radically polymerizable compound)
Specific examples of the radical polymerizable compound include compounds shown below, but are not limited thereto.
Monofunctional monomers having one ethylenically unsaturated double bond include butanediol monoacrylate, N, N-dimethylaminoethyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, hydroxypropyl acrylate, 2-methoxyethyl Acrylate, N-vinylcaprolactam, N-vinylpyrrolidone, acryloylmorpholine, N-vinylformamide, cyclohexyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, dicyclopentanyl methacrylate, glycidyl acrylate, isobornyl acrylate, isodecyl acrylate, phenoxy methacrylate, stearyl acrylate, Tetrahydrofurfuryl acrylate, 2-phenoxyethyl acrylate, 2-hydroxypro Acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, isobutyl acrylate, t-butyl acrylate, isooctyl acrylate, isobornyl acrylate, methoxytriethylene glycol acrylate, 2-ethoxyethyl acrylate, tetrahydrofurfuryl acrylate, 3-methoxybutyl acrylate, benzyl Examples include acrylate, ethoxyethoxyethyl acrylate, butoxyethyl acrylate, ethoxydiethylene glycol acrylate, methoxydipropylene glycol acrylate, methylphenoxyethyl acrylate, and dipropylene glycol acrylate.

2官能以上のモノマーとして、オリゴマーにはエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、1,6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、1,4−ブタンジオールジ(メタ)アクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、2−n−ブチル−2−エチル−1,3−プロパンジオールジアクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、1,3−ブチレングリコールジ(メタ)アクリレート、エトキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールAジ(メタ)アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ(メタ)アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、テトラメチロールプロパントリアクリレート、テトラメチロールメタントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリアクリレート、エトキシ化イソシアヌール酸トリアクリレート、トリ(2−ヒドロキシエチルイソシアヌレート)トリアクリレー、プロポキシレートグリセリルトリアクリレート、テトラメチロールメタンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ネオペンチルグリコールオリゴアクリレート、1,4−ブタンジオールオリゴアクリレート、1,6−ヘキサンジオールオリゴアクリレート、トリメチロールプロパンオリゴアクリレート、ペンタエリスリトールオリゴアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。
これら化合物は、一種または必要に応じて二種以上用いてもよい。
As a bifunctional or higher monomer, the oligomer includes ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate, 1,6-hexanediol di (meth) acrylate, ethoxylated 1,6 -Hexanediol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, ethoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, propoxylated neopentyl glycol di (meth) acrylate, tripropylene glycol di (meth) acrylate, polypropylene glycol diacrylate 1,4-butanediol di (meth) acrylate, 1,9-nonanediol diacrylate, tetraethylene glycol diacrylate, 2-n-butyl-2-ester 1,3-propanediol diacrylate, dimethylol-tricyclodecane diacrylate, neopentyl glycol diacrylate hydroxypivalate, 1,3-butylene glycol di (meth) acrylate, ethoxylated bisphenol A di (meth) acrylate , Propoxylated bisphenol A di (meth) acrylate, cyclohexanedimethanol di (meth) acrylate, dimethylol dicyclopentane diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated trimethylolpropane triacrylate, propoxylated trimethylolpropane triacrylate, Pentaerythritol triacrylate, tetramethylolpropane triacrylate, tetramethylol methane triacrylate, pentae Thritol tetraacrylate, caprolactone-modified trimethylolpropane triacrylate, ethoxylated isocyanuric acid triacrylate, tri (2-hydroxyethyl isocyanurate) triacrylate, propoxylate glyceryl triacrylate, tetramethylol methane tetraacrylate, pentaerythritol tetraacrylate, ditril Methylolpropane tetraacrylate, ethoxylated pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, neopentyl glycol oligoacrylate, 1,4-butanediol oligoacrylate, 1,6-hexanediol oligoacrylate, trimethylolpropane oligoacrylate, pentaerythritol Oligoacrylate, U Examples thereof include letane acrylate, epoxy acrylate, and polyester acrylate.
These compounds may be used alone or in combination of two or more as required.

(カチオン重合性化合物)
カチオン重合性化合物としては、光重合開始剤から発生されるカチオン活性種により重合反応を生起し、硬化する化合物として、カチオン重合性化合物を用いることができる。
カチオン重合性化合物としては、光カチオン重合性モノマーとして知られる各種公知のカチオン重合性のモノマーを使用することができる。カチオン重合性モノマーとしては、例えば、特開平6−9714号、特開2001−31892、同2001−40068、同2001−55507、同2001−310938、同2001−310937、同2001−220526などの各公報に記載されているビニルエーテル化合物、オキセタン化合物、オキシラン化合物などが挙げられる。
(Cationically polymerizable compound)
As a cationically polymerizable compound, a cationically polymerizable compound can be used as a compound that causes a polymerization reaction by a cationically active species generated from a photopolymerization initiator and cures.
As the cationically polymerizable compound, various known cationically polymerizable monomers known as photocationically polymerizable monomers can be used. Examples of the cationic polymerizable monomer include various publications such as JP-A-6-9714, JP-A-2001-31892, JP-A-2001-40068, JP-A-2001-55507, JP-A-2001-310938, JP-A-2001-310937, and JP-A-2001-220526. And vinyl ether compounds, oxetane compounds, and oxirane compounds described in 1).

ビニルエーテルを官能基に有するカチオン重合性化合物の具体例としては、ウレタン系ビニルエーテル(ビニルエーテルウレタン)、エステル系ビニルエーテルなどが挙げられる。これらのオリゴマーは単独でまたは混合して使用することができる。
芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも1個の芳香族環を有する多価フェノール、またはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、例えばビスフェノールA、ビスフェノールF、またこれらに更にアルキレンオキサイドを付加させた化合物のグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂、ビスフェノールAノボラックジグリシジルエーテル、ビスフェノールFノボラックジグリシジルエーテル等が挙げられる。
また、脂環式エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも1個の脂環式環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテルまたはシクロヘキセン、シクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド構造含有化合物または、シクロペンテンオキサイド構造含有化合物、またはビニルシクロヘキサン構造を有する化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるビニルシクロヘキサンオキサイド構造含有化合物が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシシクロヘキシルカルボキシレート、3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−1−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−6−メチル−3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−3−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキシルメチル−3,4−エポキシ−5−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルメチル)アジペート、3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシル等が挙げられる。
Specific examples of the cationically polymerizable compound having vinyl ether as a functional group include urethane vinyl ether (vinyl ether urethane), ester vinyl ether, and the like. These oligomers can be used alone or in combination.
Specific examples of aromatic epoxy resins include polyphenols having at least one aromatic ring, or polyglycidyl ethers of alkylene oxide adducts thereof such as bisphenol A, bisphenol F, and further alkylene oxide added thereto. And glycidyl ether, epoxy novolac resin, bisphenol A novolac diglycidyl ether, and bisphenol F novolac diglycidyl ether.
Specific examples of the alicyclic epoxy resin include cyclohexene oxide obtained by epoxidizing a polyglycidyl ether of polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring or a cyclohexene or cyclopentene ring-containing compound with an oxidizing agent. Examples thereof include a structure-containing compound, a cyclopentene oxide structure-containing compound, or a vinylcyclohexane oxide structure-containing compound obtained by epoxidizing a compound having a vinylcyclohexane structure with an oxidizing agent. For example, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3,4-epoxycyclohexylcarboxylate, 3,4-epoxy-1-methylcyclohexyl-3,4-epoxy-1-methylcyclohexanecarboxylate 6-methyl-3,4-epoxycyclohexylmethyl-6-methyl-3,4-epoxycyclohexanecarboxylate, 3,4-epoxy-3-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-3-methylcyclohexanecarboxylate 3,4-epoxy-5-methylcyclohexylmethyl-3,4-epoxy-5-methylcyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5,5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane Meta Oxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methylcyclohexylmethyl) adipate, 3,4-epoxy-6-methyl Cyclohexyl carboxylate, methylene bis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) ether, ethylene bis (3,4-epoxycyclohexanecarboxylate), epoxy hexahydro Examples include dioctyl phthalate and di-2-ethylhexyl epoxyhexahydrophthalate.

脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂肪族多価アルコールまたはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、脂肪族長鎖不飽和炭化水素を酸化剤で酸化することによって得られるエポキシ含有化合物、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートのホモポリマー、グリシジルアクリレートまたはグリシジルメタクリレートのコポリマー等が挙げられる。代表的な化合物として、1,4−ブタンジオールジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールのテトラグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエルスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテルなどの多価アルコールのグリシジルエーテル、また、プロピレングリコール,グリセリン等の脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール,クレゾール,ブチルフェノール、またこれらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化アマニ油等が挙げられる。   Specific examples of aliphatic epoxy resins include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, and aliphatic long-chain unsaturated hydrocarbons oxidized with an oxidizing agent. Examples thereof include epoxy-containing compounds, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate homopolymers, glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate copolymers, and the like. Representative compounds include 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, pentaerythritol tetraglycidyl ether, sorbitol tetra 1 in glycidyl ether of polyhydric alcohols such as glycidyl ether, hexaglycidyl ether of dipentaerythritol, diglycidyl ether of polyethylene glycol, diglycidyl ether of polypropylene glycol, and aliphatic polyhydric alcohols such as propylene glycol and glycerin Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding seeds or two or more alkylene oxides, aliphatic long-chain dibases Like diglycidyl ester of. Furthermore, monoglycidyl ethers of higher aliphatic alcohols, phenols, cresols, butylphenols, polyether alcohol monoglycidyl ethers obtained by adding alkylene oxides to these, glycidyl esters of higher fatty acids, epoxidized soybean oil, epoxy stearin Examples include octyl acid, epoxy butyl stearate, and epoxidized linseed oil.

これら活性エネルギー線の照射により硬化性を有する成分が、全インキ量の50質量%以下になると、一般的な活性エネルギー線の強度では硬化性が不足してくる。そのため、照射時間を長くするなどの対応が必要となる。以上のことから、硬化性を有する成分量は全インキの50質量%以上、より好ましくは60質量%以上を有することが望ましい。   When the component having curability by irradiation with these active energy rays falls to 50% by mass or less of the total ink amount, curability becomes insufficient with the intensity of general active energy rays. Therefore, it is necessary to take measures such as extending the irradiation time. From the above, it is desirable that the amount of the curable component is 50% by mass or more, more preferably 60% by mass or more of the total ink.

<重合開始剤>
本発明に用いられる重合開始剤としては、活性光線の照射により、ラジカル活性種を発生し、ラジカル重合性化合物の重合を開始するラジカル重合開始剤、及び、カチオン活性種を発生し、カチオン重合性化合物の重合を開始するカチオン重合開始剤のいずれかを重合性化合物に合わせて、用いることができる。
<Polymerization initiator>
As the polymerization initiator used in the present invention, radical active species are generated by irradiation with actinic rays, and radical polymerization initiators that start polymerization of radical polymerizable compounds and cationic active species are generated, and are cationically polymerizable. Any of the cationic polymerization initiators that initiate the polymerization of the compound can be used in accordance with the polymerizable compound.

(ラジカル重合開始剤)
本発明において、使用し得る光重合開始剤は以下のものが挙げられる。ベンゾフェノン系として、ベンゾフェノン、ベンゾイル安息香酸、4−フェニルベンゾフェノン、4、4−ジエチルアミノベンゾフェノン、3、3’−ジメチル−4−メトキシベンゾフェノン、4−ベンゾイル−4’−メチルジフェニルサルファイド等が、チオキサントン系として、チオキサントン、2−クロロオキサントン、2、4−ジエチルチオキサントン、1−クロロ−4−プロポキシチオキサントン、イソプロピルキサントン等が、アセトフェノン系として、2−メチル−1−(4−メチルチオ)フェニル−2−モルフォリノプロパン−1−オン、2−ベンジル−2−ジメチルアミノ−1−(4−モルフォリノフェニル)−ブタノン−1、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2、2−ジメチル−2−ヒドロキシアセエトフェノン、2、2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、4−フェノキシジクロロアセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等が、ベンゾイン系として、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルメチルケタール等が、アシルフォスフィンオキサイド系として、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス(2,4,6−トリメチルベンゾイル)アシルフォスフィンオキサイド、等が挙げられる。
(Radical polymerization initiator)
Examples of the photopolymerization initiator that can be used in the present invention include the following. As benzophenone series, benzophenone, benzoylbenzoic acid, 4-phenylbenzophenone, 4,4-diethylaminobenzophenone, 3,3′-dimethyl-4-methoxybenzophenone, 4-benzoyl-4′-methyldiphenyl sulfide, etc. Thioxanthone, 2-chlorooxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 1-chloro-4-propoxythioxanthone, isopropylxanthone and the like are 2-methyl-1- (4-methylthio) phenyl-2-morpholine as acetophenone series. Linopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -butanone-1, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1-hydroxy Cyclohexyl Phenyl ketone, 2,2-dimethyl-2-hydroxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, 4-phenoxydichloroacetophenone, diethoxyacetophenone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone and the like are Benzoin methyl ether, benzoin isobutyl ether, benzyl methyl ketal, etc. are acylphosphine oxides such as 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) acylphosphine oxide, etc. Is mentioned.

(カチオン重合開始剤)
カチオン重合開始剤としては、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、鉄アレーン錯体及び有機ポリハロゲン化合物を好ましく使用することができる。ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩としては、特公昭54−14277号、特公昭54−14278号、特開昭51−56885号、米国特許第3,70 8,296号、同第3,853,002号等に記載された化合物が挙げられる。
光カチオン重合開始剤としては、例えば芳香族ジアゾニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、メタロセン化合物、ケイ素化合物/アルミニウム錯体等が例示される。
(Cationic polymerization initiator)
As the cationic polymerization initiator, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, iron arene complexes, and organic polyhalogen compounds can be preferably used. Examples of the diazonium salt, iodonium salt, and sulfonium salt include Japanese Patent Publication No. 54-14277, Japanese Patent Publication No. 54-14278, Japanese Patent Publication No. 51-56885, U.S. Pat. Nos. 3,708,296, and 3,853. And compounds described in No. 002 and the like.
Examples of the photocationic polymerization initiator include aromatic diazonium salts, aromatic sulfonium salts, aromatic iodonium salts, metallocene compounds, silicon compounds / aluminum complexes, and the like.

≪隔壁≫
本発明における隔壁は、2以上の画素群を離画するものであり、遮光性を有することを特徴とする。本発明における隔壁は、光重合性遮光層を前述の貧酸素条件下にて露光し、その後現像することにより形成することが好ましい。
≪Bulk wall≫
The partition wall according to the present invention separates two or more pixel groups and has a light shielding property. The partition wall in the present invention is preferably formed by exposing the photopolymerizable light-shielding layer under the above-mentioned poor oxygen condition and then developing it.

<光重合性遮光層>
本発明における光重合性遮光層を形成する組成物を、以下単に濃色組成物という。
ここで、濃色組成物とは、高い光学濃度を有する組成物のことであり、その値は2.0〜10.0である。濃色組成物の光学濃度は好ましくは2.5〜6.0であり、特に好ましくは3.0〜5.0である。また、この濃色組成物は、後述するように好ましくは光開始系で硬化させる為、露光波長(一般には紫外域)に対する光学濃度も重要である。すなわち、その値は2.0〜10.0であり、好ましくは2.5〜6.0、最も好ましいのは3.0〜5.0である。2.0未満では隔壁形状が望みのものとならない恐れがあり、10.0を超えると、重合を開始することができず隔壁そのものを作ることが困難となる。かかる性質を有しさえすれば、組成物中の遮光剤は有機物(染料、顔料などの各種色素)であっても、各形態の炭素であっても、また金属又はそれらの合金及び酸化物であっても良く、さらにこれらの組み合わせからなるものであってもよい。かかる遮光剤は、特に限定されないが、黒色体がもっとも多く使用される。黒色体の例示としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛、銀及び錫及びそれらの合金などが挙げられ、中でも、カーボンブラック、銀及び錫及びそれらの合金が好ましい。
<Photopolymerizable light shielding layer>
The composition forming the photopolymerizable light-shielding layer in the present invention is hereinafter simply referred to as a dark color composition.
Here, the dark color composition is a composition having a high optical density, and the value thereof is 2.0 to 10.0. The optical density of the dark color composition is preferably 2.5 to 6.0, particularly preferably 3.0 to 5.0. Further, since this dark color composition is preferably cured by a photoinitiating system as described later, the optical density with respect to the exposure wavelength (generally the ultraviolet region) is also important. That is, the value is 2.0 to 10.0, preferably 2.5 to 6.0, and most preferably 3.0 to 5.0. If it is less than 2.0, the shape of the partition may not be as desired, and if it exceeds 10.0, polymerization cannot be started and it is difficult to produce the partition itself. As long as it has such properties, the light-shielding agent in the composition may be an organic substance (various dyes such as dyes and pigments), carbon in various forms, metals or alloys thereof and oxides. It may also be a combination of these. Such a light shielding agent is not particularly limited, but a black body is most often used. Examples of black bodies include carbon black, titanium carbon, iron oxide, titanium oxide, graphite, silver and tin, and alloys thereof, among which carbon black, silver, tin, and alloys thereof are preferable.

濃色組成物はかかる遮光剤以外に、重合性化合物および重合開始剤を少なくとも含んでなることが好ましい。また、必要に応じて更に公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、重合禁止剤、界面活性剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに濃色組成物は少なくとも150℃以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。   The dark color composition preferably comprises at least a polymerizable compound and a polymerization initiator in addition to the light-shielding agent. Further, if necessary, a known additive such as a plasticizer, a filler, a stabilizer, a polymerization inhibitor, a surfactant, a solvent, an adhesion promoter, and the like can be further contained. Furthermore, the dark color composition is preferably softened or tacky at a temperature of at least 150 ° C., and is preferably thermoplastic. From such a viewpoint, it can be modified by adding a compatible plasticizer.

(重合開始剤)
濃色組成物を硬化させる方法としては、熱重合開始剤を用いる熱開始系や光重合開始剤を用いる光開始系が一般的であるが、光開始系を用いることが好ましい。
ここで用いる光重合開始剤は、可視光線、紫外線、遠紫外線、電子線、X線等の放射線の照射(露光ともいう)により、後述の多官能性モノマーの重合を開始する活性種を発生し得る化合物であり、公知の光重合開始剤若しくは光重合開始剤系の中から適宜選択することができる。
例えば、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物、ベンゾイン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、α−ジケトン系化合物、多核キノン系化合物、キサントン系化合物、ジアゾ系化合物、等を挙げることができる。
(Polymerization initiator)
As a method for curing the dark color composition, a thermal initiation system using a thermal polymerization initiator and a photoinitiation system using a photopolymerization initiator are common, but it is preferable to use a photoinitiation system.
The photopolymerization initiator used here generates an active species that initiates polymerization of a polyfunctional monomer, which will be described later, upon irradiation with radiation such as visible light, ultraviolet light, far ultraviolet light, electron beam, or X-ray (also referred to as exposure). It is a compound to be obtained and can be appropriately selected from known photopolymerization initiators or photopolymerization initiator systems.
For example, trihalomethyl group-containing compounds, acridine compounds, acetophenone compounds, biimidazole compounds, triazine compounds, benzoin compounds, benzophenone compounds, α-diketone compounds, polynuclear quinone compounds, xanthone compounds, diazo compounds Compound, etc. can be mentioned.

具体的には、特開2001−117230公報に記載の、トリハロメチル基が置換したトリハロメチルオキサゾール誘導体又はs−トリアジン誘導体、米国特許第4239850号明細書に記載のトリハロメチル−s−トリアジン化合物、米国特許第4212976号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾール化合物などのトリハロメチル基含有化合物;
9−フェニルアクリジン、9−ピリジルアクリジン、9−ピラジニルアクリジン、1,2−ビス(9−アクリジニル)エタン、1,3−ビス(9−アクリジニル)プロパン、1,4−ビス(9−アクリジニル)ブタン、1,5−ビス(9アクリジニル)ペンタン、1,6−ビス(9−アクリジニル)ヘキサン、1,7−ビス(9−アクリジニル)ヘプタン、1,8−ビス(9−アクリジニル)オクタン、1,9−ビス(9−アクリジニル)ノナン、1,10−ビス(9−アクリジニル)デカン、1,11−ビス(9−アクリジニル)ウンデカン、1,12−ビス(9−アクリジニル)ドデカン等のビス(9−アクリジニル)アルカン、などのアクリジン系化合物;
6−(p−メトキシフェニル)−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、6−〔p−(N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノ)フェニル〕−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジンなどのトリアジン系化合物;その他、9,10−ジメチルベンズフェナジン、ミヒラーズケトン、ベンゾフェノン/ミヒラーズケトン、ヘキサアリールビイミダゾール/メルカプトベンズイミダゾール、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン/アミン、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールなどが挙げられる。
Specifically, a trihalomethyl group-substituted trihalomethyloxazole derivative or s-triazine derivative described in JP-A No. 2001-117230, a trihalomethyl-s-triazine compound described in US Pat. No. 4,239,850, A trihalomethyl group-containing compound such as the trihalomethyloxadiazole compound described in Japanese Patent No. 4221976;
9-phenylacridine, 9-pyridylacridine, 9-pyrazinylacridine, 1,2-bis (9-acridinyl) ethane, 1,3-bis (9-acridinyl) propane, 1,4-bis (9-acridinyl) ) Butane, 1,5-bis (9acridinyl) pentane, 1,6-bis (9-acridinyl) hexane, 1,7-bis (9-acridinyl) heptane, 1,8-bis (9-acridinyl) octane, Bis such as 1,9-bis (9-acridinyl) nonane, 1,10-bis (9-acridinyl) decane, 1,11-bis (9-acridinyl) undecane, 1,12-bis (9-acridinyl) dodecane Acridine compounds such as (9-acridinyl) alkanes;
6- (p-methoxyphenyl) -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis ( Triazine compounds such as trichloromethyl) -s-triazine; 9,10-dimethylbenzphenazine, Michler's ketone, benzophenone / Michler's ketone, hexaarylbiimidazole / mercaptobenzimidazole, benzyldimethyl ketal, thioxanthone / amine, 2,2 ′ -Bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ', 5,5'-tetraphenyl-1,2'-biimidazole and the like.

上記のうち、トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物、アセトフェノン系化合物、ビイミダゾール系化合物、トリアジン系化合物から選択される少なくとも一種が好ましく、特に、トリハロメチル基含有化合物及びアクリジン系化合物から選択される少なくとも一種を含有することが好ましい。トリハロメチル基含有化合物、アクリジン系化合物は、汎用性でかつ安価である点でも有用である。
特に好ましいのは、トリハロメチル基含有化合物としては、2−トリクロロメチル−5−(p−スチリルスチリル)−1,3,4−オキサジアゾールであり、アクリジン系化合物としては、9−フェニルアクリジンであり、更に、6−〔p−(N,N−ビス(エトキシカルボニルメチル)アミノ)フェニル〕−2,4−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4’−(N,N−ビスエトキシカルボニルメチル)アミノ−3’−ブロモフェニル]−s−トリアジン、2−(p−ブトキシスチリル)−5−トリクロロメチル−1,3,4−オキサジアゾールなどのトリハロメチル基含有化合物、及びミヒラーズケトン、2,2’−ビス(2,4−ジクロロフェニル)−4,4’,5,5’−テトラフェニル−1,2’−ビイミダゾールである。
Among the above, at least one selected from a trihalomethyl group-containing compound, an acridine compound, an acetophenone compound, a biimidazole compound, and a triazine compound is preferable, and particularly selected from a trihalomethyl group-containing compound and an acridine compound. It is preferable to contain at least one kind. Trihalomethyl group-containing compounds and acridine compounds are also useful in that they are versatile and inexpensive.
Particularly preferred as the trihalomethyl group-containing compound is 2-trichloromethyl-5- (p-styrylstyryl) -1,3,4-oxadiazole, and as the acridine compound, 9-phenylacridine is preferred. Further, 6- [p- (N, N-bis (ethoxycarbonylmethyl) amino) phenyl] -2,4-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2,4-bis (trichloromethyl) -6 -[4 '-(N, N-bisethoxycarbonylmethyl) amino-3'-bromophenyl] -s-triazine, 2- (p-butoxystyryl) -5-trichloromethyl-1,3,4-oxadi Trihalomethyl group-containing compounds such as azoles, and Michler's ketone, 2,2′-bis (2,4-dichlorophenyl) -4,4 ′, 5,5′-tetrafe Le 1,2' is a bi-imidazole.

前記光重合開始剤は、単独で用いてもよいし、2種以上を併用してもよい。前記光重合開始剤の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分(質量)の0.1〜20質量%が好ましく、0.5〜10質量%が特に好ましい。前記総量が、0.1質量%未満であると、組成物の光硬化の効率が低く露光に長時間を要することがあり、20質量%を超えると、現像する際に、形成された画像パターンが欠落したり、パターン表面に荒れが生じやすくなることがある。   The said photoinitiator may be used independently and may use 2 or more types together. The total amount of the photopolymerization initiator in the dark color composition is preferably from 0.1 to 20% by weight, particularly preferably from 0.5 to 10% by weight, based on the total solid content (mass) of the dark color composition. When the total amount is less than 0.1% by mass, the photocuring efficiency of the composition is low and exposure may take a long time. When it exceeds 20% by mass, an image pattern formed during development is formed. May be lost or the pattern surface may be rough.

前記光重合開始剤は、水素供与体を併用して構成されてもよい。該水素供与体としては、感度をより良化することができる点で、以下で定義するメルカプタン系化合物、アミン系化合物等が好ましい。ここでの「水素供与体」とは、露光により前記光重合開始剤から発生したラジカルに対して、水素原子を供与することができる化合物をいう。
前記メルカプタン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したメルカプト基を1個以上、好ましくは1〜3個、更に好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「メルカプタン系水素供与体」という)である。また、前記アミン系化合物は、ベンゼン環あるいは複素環を母核とし、該母核に直接結合したアミノ基を1個以上、好ましくは1〜3個、更に好ましくは1〜2個有する化合物(以下、「アミン系水素供与体」という)である。尚、これらの水素供与体は、メルカプト基とアミノ基とを同時に有していてもよい。
The photopolymerization initiator may be configured using a hydrogen donor in combination. The hydrogen donor is preferably a mercaptan compound or an amine compound as defined below from the viewpoint that sensitivity can be further improved. The “hydrogen donor” herein refers to a compound that can donate a hydrogen atom to a radical generated from the photopolymerization initiator by exposure.
The mercaptan-based compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having one or more, preferably 1 to 3, more preferably 1 to 2, mercapto groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “ A mercaptan-based hydrogen donor). The amine compound is a compound having a benzene ring or a heterocyclic ring as a mother nucleus and having 1 or more, preferably 1 to 3, and more preferably 1 to 2 amino groups directly bonded to the mother nucleus (hereinafter referred to as “the amine compound”). , Referred to as “amine-based hydrogen donor”). These hydrogen donors may have a mercapto group and an amino group at the same time.

上記のメルカプタン系水素供与体の具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾール、2−メルカプトベンゾイミダゾール、2,5−ジメルカプト−1,3,4−チアジアゾール、2−メルカプト−2,5−ジメチルアミノピリジン、等が挙げられる。これらのうち、2−メルカプトベンゾチアゾール、2−メルカプトベンゾオキサゾールが好ましく、特に2−メルカプトベンゾチアゾールが好ましい。
上記のアミン系水素供与体の具体例としては、4、4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4、4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、4−ジエチルアミノアセトフェノン、4−ジメチルアミノプロピオフェノン、エチル−4−ジメチルアミノベンゾエート、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノベンゾニトリル等が挙げられる。これらのうち、4,4’− ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましく、特に4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンが好ましい。
Specific examples of the mercaptan-based hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole, 2-mercaptobenzoxazole, 2-mercaptobenzimidazole, 2,5-dimercapto-1,3,4-thiadiazole, 2-mercapto-2. , 5-dimethylaminopyridine, and the like. Of these, 2-mercaptobenzothiazole and 2-mercaptobenzoxazole are preferable, and 2-mercaptobenzothiazole is particularly preferable.
Specific examples of the amine-based hydrogen donor include 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 4-diethylaminoacetophenone, 4-dimethylaminopropiophenone, ethyl. Examples include -4-dimethylaminobenzoate, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzonitrile and the like. Of these, 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone are preferable, and 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone is particularly preferable.

前記水素供与体は、単独でまたは2種以上を混合して使用することができ、形成された画像が現像時に永久支持体上から脱落し難く、かつ強度及び感度も向上させ得る点で、1種以上のメルカプタン系水素供与体と1種以上のアミン系水素供与体とを組合せて使用することが好ましい。   The hydrogen donor can be used alone or in admixture of two or more, and the formed image is difficult to drop off from the permanent support during development, and can be improved in strength and sensitivity. It is preferable to use a combination of one or more mercaptan hydrogen donors and one or more amine hydrogen donors.

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体との組合せの具体例としては、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジメチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン等が挙げられる。より好ましい組合せは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノン、2−メルカプトベンゾオキサゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノベンゾフェノンであり、特に好ましい組合せは、2−メルカプトベンゾチアゾール/4,4’−ビス(ジエチルアミノ)ベンゾフェノンである。   Specific examples of the combination of the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor include 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-. Examples thereof include bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (dimethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone. More preferred combinations are 2-mercaptobenzothiazole / 4,4′-bis (diethylamino) benzophenone, 2-mercaptobenzoxazole / 4,4′-bis (diethylaminobenzophenone, and a particularly preferred combination is 2-mercaptobenzothiazole. / 4,4'-bis (diethylamino) benzophenone.

前記メルカプタン系水素供与体とアミン系水素供与体とを組合せた場合の、メルカプタン系水素供与体(M)とアミン系水素供与体(A)との質量比(M:A)は、通常1:1〜1:4が好ましく、1:1〜1:3がより好ましい。前記水素供与体の濃色組成物における総量としては、濃色組成物の全固形分(質量)の0.1〜20質量% が好ましく、0.5〜10質量% が特に好ましい。   When the mercaptan hydrogen donor and the amine hydrogen donor are combined, the mass ratio (M: A) of the mercaptan hydrogen donor (M) to the amine hydrogen donor (A) is usually 1: 1-1: 4 is preferable, and 1: 1-1: 3 is more preferable. The total amount of the hydrogen donor in the dark color composition is preferably from 0.1 to 20% by weight, particularly preferably from 0.5 to 10% by weight, based on the total solid content (mass) of the dark color composition.

(重合性化合物)
本発明の重合性化合物としては、多官能性モノマーを用いることができる。
多官能性モノマーとしては、下記化合物を単独で又は他のモノマーとの組合わせて使用することができる。具体的には、t−ブチル(メタ)アクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、トリエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、2−エチル−2−ブチル−プロパンジオールジ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ(メタ)アクリレート、ポリオキシエチル化トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート、トリス(2−(メタ)アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート、1,4−ジイソプロペニルベンゼン、1,4−ジヒドロキシベンゼンジ(メタ)アクリレート、デカメチレングリコールジ(メタ)アクリレート、スチレン、ジアリルフマレート、トリメリット酸トリアリル、ラウリル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミド、キシリレンビス(メタ)アクリルアミド、等が挙げられる。
また、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート等のヒドロキシル基を有する化合物とヘキサメチレンジイソシアネート、トルエンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート等のジイソシアネートとの反応物も使用できる。
これらのうち、特に好ましいのは、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレートである。
(Polymerizable compound)
A polyfunctional monomer can be used as the polymerizable compound of the present invention.
As the polyfunctional monomer, the following compounds can be used alone or in combination with other monomers. Specifically, t-butyl (meth) acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, triethylene glycol di (meth) acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate, 2- Ethyl-2-butyl-propanediol di (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, polyoxy Ethylated trimethylolpropane tri (meth) acrylate, tris (2- (meth) acryloyloxyethyl) isocyanurate, 1,4-diisopropenylbenzene, 1,4-dihydroxy Nzenji (meth) acrylate, decamethylene glycol di (meth) acrylate, styrene, diallyl fumarate, triallyl trimellitate, lauryl (meth) acrylate, (meth) acrylamide, xylylenebis (meth) acrylamide, and the like.
Reaction of compounds having hydroxyl groups such as 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate and polyethylene glycol mono (meth) acrylate with diisocyanates such as hexamethylene diisocyanate, toluene diisocyanate and xylene diisocyanate Things can also be used.
Of these, pentaerythritol tetraacrylate, dipentaerythritol hexaacrylate, dipentaerythritol pentaacrylate, and tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate are particularly preferable.

多官能性モノマーの濃色組成物における含有量としては、濃色組成物の全固形分(質量)に対して、5〜80質量%が好ましく、10〜70質量% が特に好ましい。前記含有量が、5質量% 未満であると、組成物の露光部でのアルカリ現像液への耐性が劣ることがあり、80質量% を越えると、濃色組成物としたときのタッキネスが増加してしまい、取扱い性に劣ることがある。   The content of the polyfunctional monomer in the dark color composition is preferably 5 to 80% by weight, particularly preferably 10 to 70% by weight, based on the total solid content (mass) of the dark color composition. When the content is less than 5% by mass, the resistance to an alkaline developer at the exposed portion of the composition may be inferior. When the content exceeds 80% by mass, the tackiness of a dark color composition increases. Therefore, the handleability may be inferior.

(バインダー)
濃色離画壁形成用の濃色組成物は、バインダーの少なくとも一種を用いて構成することができる。
バインダーとしては、側鎖にカルボン酸基やカルボン酸塩基などの極性基を有するポリマーが好ましい。その例としては、特開昭59−44615号公報、特公昭54−34327号公報、特公昭58−12577号公報、特公昭54−25957号公報、特開昭59−53836号公報、及び特開昭59−71048号公報に記載の、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体、等を挙げることができる。
(binder)
The dark color composition for forming a dark color separation image wall can be constituted using at least one kind of binder.
As the binder, a polymer having a polar group such as a carboxylic acid group or a carboxylic acid group in the side chain is preferable. Examples thereof include JP-A-59-44615, JP-B-54-34327, JP-B-58-12577, JP-B-54-25957, JP-A-59-53836, and JP-A-59-53836. As disclosed in JP-A-59-71048, methacrylic acid copolymer, acrylic acid copolymer, itaconic acid copolymer, crotonic acid copolymer, maleic acid copolymer, partially esterified maleic acid copolymer, etc. Can be mentioned.

また、側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げられる。さらに、水酸基を有するポリマーに環状酸無水物を付加したものも好ましく使用できる。
特に好ましい例として、米国特許第4139391号明細書に記載のベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸との共重合体や、ベンジル(メタ)アクリレートと(メタ)アクリル酸と他のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。これらの極性基を有するバインダーは、一種単独で用いてもよいし、通常の膜形成性のポリマーと併用する組成物の状態で使用するようにしてもよい。
Moreover, the cellulose derivative which has a carboxylic acid group in a side chain is also mentioned. Furthermore, what added the cyclic acid anhydride to the polymer which has a hydroxyl group can also be used preferably.
As particularly preferred examples, copolymers of benzyl (meth) acrylate and (meth) acrylic acid described in US Pat. No. 4,139,391, benzyl (meth) acrylate, (meth) acrylic acid, and other monomers can be used. Mention may be made of multi-component copolymers. These binders having a polar group may be used singly or may be used in the state of a composition used in combination with a normal film-forming polymer.

バインダーの濃色組成物中における含有量としては、層又は組成物の全固形分(質量)に対して、20〜50質量%が好ましく、24〜45質量%がより好ましい。   As content in the dark color composition of a binder, 20-50 mass% is preferable with respect to the total solid (mass) of a layer or a composition, and 24-45 mass% is more preferable.

(溶剤)
本発明における離画壁を作製する際に用いる濃色組成物は、一般に前記成分以外に、有機溶剤を用いて構成することができる。有機溶剤の例としては、メチルエチルケトン、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、メチルイソブチルケトン、乳酸エチル、乳酸メチル、カプロラクタム等が挙げられる。
(solvent)
In general, the dark color composition used for producing the separation wall in the present invention can be constituted using an organic solvent in addition to the above components. Examples of the organic solvent include methyl ethyl ketone, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monomethyl ether acetate, cyclohexanone, cyclohexanol, methyl isobutyl ketone, ethyl lactate, methyl lactate, caprolactam and the like.

(他の成分)
本発明における濃色組成物層には、さらに下記成分、例えば界面活性剤、紫外線吸収剤、並びに公知の添加剤、例えば、可塑剤、充填剤、安定化剤、熱重合防止剤、溶剤、密着促進剤等を含有させることができる。さらに、感光性樹脂組成物は少なくとも150 ℃ 以下の温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可塑性であることが好ましい。かかる観点からは、相溶性の可塑剤を添加することで改質することができる。
(Other ingredients)
In the dark color composition layer in the present invention, the following components, for example, surfactants, ultraviolet absorbers, and known additives such as plasticizers, fillers, stabilizers, thermal polymerization inhibitors, solvents, adhesion An accelerator or the like can be contained. Furthermore, the photosensitive resin composition is preferably softened or tacky at a temperature of at least 150 ° C., and is preferably thermoplastic. From such a viewpoint, it can be modified by adding a compatible plasticizer.

−界面活性剤−
濃色組成物を基板上又は後述の感光性転写材料の仮支持体上に塗布する場合には、濃色組成物中に界面活性剤を含有させることで、均一な膜厚に制御でき、塗布ムラを効果的に防止することができる。界面活性剤としては、特開2003−337424号公報、特開平11−133600号公報に記載の界面活性剤が好適に挙げられる。なお、界面活性剤の濃色組成物中における含有量としては、該組成物の全固形分(質量)に対して、0.001〜1%が一般的であり、0.01〜0.5%が好ましく、0.03〜0.3%が特に好ましい。
-Surfactant-
When the dark color composition is applied on a substrate or a temporary support of a photosensitive transfer material described later, a uniform film thickness can be controlled by including a surfactant in the dark color composition. Unevenness can be effectively prevented. Preferred examples of the surfactant include surfactants described in JP-A Nos. 2003-337424 and 11-133600. In addition, as content in the deep color composition of surfactant, 0.001-1% is common with respect to the total solid (mass) of this composition, 0.01-0.5 % Is preferable, and 0.03 to 0.3% is particularly preferable.

−紫外線吸収剤−
濃色組成物には、必要に応じて紫外線吸収剤を含有することができる。
紫外線吸収剤としては、特開平5−72724号公報に記載の化合物、並びにサリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系等の化合物が挙げられる。
-UV absorber-
The dark color composition may contain an ultraviolet absorber as necessary.
Examples of the ultraviolet absorber include compounds described in JP-A-5-72724, and compounds such as salicylates, benzophenones, benzotriazoles, cyanoacrylates, nickel chelates, and hindered amines.

例えば、フェニルサリシレート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、2,4−ジ−t−ブチルフェニル−3’,5’−ジ−t−4’−ヒドロキシベンゾエート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、2,4−ジヒドロキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、2−ヒドロキシ−4−n−オクトキシベンゾフェノン、2−(2’−ヒドロキシ−5’−メチルフェニル)ベンゾトリアゾール、2−(2’−ヒドロキシ−3’−t−ブチル−5’−メチルフェニル)−5−クロロベンゾトリアゾール、エチル−2−シアノ−3,3−ジ−フェニルアクリレート、2,2’−ヒドロキシ−4−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピリジン)−セバケート、4−t−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、4−ヒドロキシ−2,2,6,6−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス(2,2,6,6−テトラメチル−4−ピペリデニル)−エステル、2−[2−ヒドロキシ−3,5−ビス(α,α−ジメチルベンジル)フェニル]−2H−ベンゾトリアゾール、7−{[4−クロロ−6−(ジエチルアミノ)−5−トリアジン−2−イル]アミノ}−3−フェニルクマリン等が挙げられる。
紫外線吸収剤を用いる場合の、濃色組成物の全固形分に対する紫外線吸収剤の含有量としては0.5〜15%が一般的であり、1〜12%が好ましく、1.2〜10%が特に好ましい。
For example, phenyl salicylate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2,4-di-t-butylphenyl-3 ′, 5′-di-t-4′-hydroxybenzoate, 4-t-butylphenyl salicylate, 2, 4-dihydroxybenzophenone, 2-hydroxy-4-methoxybenzophenone, 2-hydroxy-4-n-octoxybenzophenone, 2- (2′-hydroxy-5′-methylphenyl) benzotriazole, 2- (2′-hydroxy -3'-t-butyl-5'-methylphenyl) -5-chlorobenzotriazole, ethyl-2-cyano-3,3-di-phenyl acrylate, 2,2'-hydroxy-4-methoxybenzophenone, nickel dibutyl Dithiocarbamate, bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-pyridine) -sebacate 4-t-butylphenyl salicylate, phenyl salicylate, 4-hydroxy-2,2,6,6-tetramethylpiperidine condensate, succinic acid-bis (2,2,6,6-tetramethyl-4-piperenyl) Ester, 2- [2-hydroxy-3,5-bis (α, α-dimethylbenzyl) phenyl] -2H-benzotriazole, 7-{[4-chloro-6- (diethylamino) -5-triazine-2 -Yl] amino} -3-phenylcoumarin and the like.
In the case of using the ultraviolet absorber, the content of the ultraviolet absorber with respect to the total solid content of the dark color composition is generally 0.5 to 15%, preferably 1 to 12%, preferably 1.2 to 10%. Is particularly preferred.

−熱重合防止剤−
濃色組成物には、熱重合防止剤を含むことが好ましい。熱重合防止剤の例としては、ハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、p−メトキシフェノール、ジ−t−ブチル−p−クレゾール、ピロガロール、t−ブチルカテコール、ベンゾキノン、4,4’−チオビス(3−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2,2’−メチレンビス(4−メチル−6−t−ブチルフェノール)、2−メルカプトベンズイミダゾール、フェノチアジン等が挙げられる。
熱重合防止剤を用いる場合の、濃色組成物の全固形分に対する含有量としては0.01〜1%が一般的であり、0.02〜0.7%が好ましく、0.05〜0.5%が特に好ましい。
-Thermal polymerization inhibitor-
The dark composition preferably contains a thermal polymerization inhibitor. Examples of thermal polymerization inhibitors include hydroquinone, hydroquinone monomethyl ether, p-methoxyphenol, di-t-butyl-p-cresol, pyrogallol, t-butylcatechol, benzoquinone, 4,4′-thiobis (3-methyl- 6-t-butylphenol), 2,2′-methylenebis (4-methyl-6-t-butylphenol), 2-mercaptobenzimidazole, phenothiazine and the like.
When the thermal polymerization inhibitor is used, the content with respect to the total solid content of the dark color composition is generally 0.01 to 1%, preferably 0.02 to 0.7%, preferably 0.05 to 0%. .5% is particularly preferred.

また、濃色組成物には、前記成分以外に、特開平11−133600号公報に記載の「接着助剤」やその他の添加剤等を含有させることもできる。   Further, in addition to the above components, the dark color composition may contain “adhesion aid” described in JP-A-11-133600, other additives, and the like.

<隔壁の表面粗さ>
本発明においては、隔壁形成の際、貧酸素条件下で光重合性遮光層を露光するため、酸素の影響を受けにくく、隔壁の表面粗さを小さくすることができる。隔壁の表面粗さRa値は5nm以下とすることができ、好ましくは4.0nm以下、より好ましくは3.6nmの以下とすることができる。隔壁の表面粗さRa値が5nm以下となると、隔壁の表面におけるインク等着色液体組成物の移動を抑制することができ、この結果、隣接する画素間の着色液体組成物の移動による混色を未然に防止することができる。
<Surface roughness of partition walls>
In the present invention, since the photopolymerizable light-shielding layer is exposed under poor oxygen conditions when forming the partition walls, it is difficult to be affected by oxygen, and the surface roughness of the partition walls can be reduced. The surface roughness Ra value of the partition walls can be 5 nm or less, preferably 4.0 nm or less, more preferably 3.6 nm or less. When the surface roughness Ra value of the partition wall is 5 nm or less, the movement of the colored liquid composition such as ink on the surface of the partition wall can be suppressed. As a result, color mixture due to the movement of the colored liquid composition between adjacent pixels is prevented. Can be prevented.

<隔壁の高さ>
本発明において、隔壁の高さは、1μm〜20μmであることが好ましく、1.5μm〜5μmであることがより好ましい。1μm〜20μmとすることにより、より効果的に混色を防止することができる。
<Height of partition wall>
In the present invention, the height of the partition wall is preferably 1 μm to 20 μm, and more preferably 1.5 μm to 5 μm. By setting the thickness to 1 μm to 20 μm, it is possible to prevent color mixing more effectively.

<隔壁の断面形状>
本発明における隔壁の断面形状は、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色及び白抜けなどを防止する観点から、矩形型に近いものであることが好ましい。
<Cross sectional shape of partition wall>
The cross-sectional shape of the partition wall in the present invention is preferably close to a rectangular shape from the viewpoint of preventing bleeding, protrusion, color mixture with adjacent pixels, and white spots.

≪基板≫
本発明のカラーフィルターを構成する基板(永久支持体)としては、金属性支持体、金属張り合わせ支持体、ガラス、セラミック、合成樹脂フィルム等を使用することができる。特に好ましくは、透明性で寸度安定性の良好なガラスや合成樹脂フィルムが挙げられる。
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As the substrate (permanent support) constituting the color filter of the present invention, a metal support, a metal bonded support, glass, ceramic, a synthetic resin film, or the like can be used. Particularly preferred are transparent glass and synthetic resin film having good dimensional stability.

≪感光性転写材料≫
かかる隔壁形状を容易且つ低コストで実現するものとして、仮支持体上に少なくとも光重合性遮光層と、酸素遮断層とを有してなる感光性転写材料を使用するという手法がある。このような材料を用いた場合、光重合性遮光層は酸素遮断層に保護されるため自動的に貧酸素条件下となる。そのため露光工程を不活性気体下や減圧下で行う必要がないため、現状の工程をそのまま利用できる利点がある。
≪Photosensitive transfer material≫
In order to realize such a partition shape easily and at low cost, there is a method of using a photosensitive transfer material having at least a photopolymerizable light shielding layer and an oxygen blocking layer on a temporary support. When such a material is used, the photopolymerizable light-shielding layer is protected by the oxygen barrier layer, so that it is automatically in an anoxic condition. Therefore, there is no need to carry out the exposure process under an inert gas or under reduced pressure, so that there is an advantage that the current process can be used as it is.

上記の感光性転写材料は、必要に応じて熱可塑性樹脂層を有していてもよい。かかる熱可塑性樹脂層とは、アルカリ可溶性であって、少なくとも樹脂成分を含んで構成され、該樹脂成分としては、実質的な軟化点が80℃以下であることが好ましい。このような熱可塑性樹脂層が設けられることにより、後述する隔壁形成方法において、永久支持体との良好な密着性を発揮することができる。   The photosensitive transfer material may have a thermoplastic resin layer as necessary. Such a thermoplastic resin layer is alkali-soluble and includes at least a resin component, and the resin component preferably has a substantial softening point of 80 ° C. or less. By providing such a thermoplastic resin layer, good adhesion to the permanent support can be exhibited in the partition wall forming method described later.

軟化点が80℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、スチレンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体のケン化物、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステル共重合体などのケン化物、等が挙げられる。   Examples of alkali-soluble thermoplastic resins having a softening point of 80 ° C. or lower include saponified products of ethylene and acrylate copolymers, saponified products of styrene and (meth) acrylate copolymers, vinyltoluene and (meth) acrylic. Examples thereof include saponification products of acid ester copolymers, saponification products such as poly (meth) acrylic acid esters, and (meth) acrylic acid ester copolymers such as butyl (meth) acrylate and vinyl acetate.

熱可塑性樹脂層には、上記の熱可塑性樹脂の少なくとも一種を適宜選択して用いることができ、更に「プラスチック性能便覧」(日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、1968年10月25日発行)による、軟化点が約80℃ 以下の有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用することができる。   For the thermoplastic resin layer, at least one of the above-mentioned thermoplastic resins can be appropriately selected and used. Further, “Plastic Performance Handbook” (edited by the Japan Plastics Industry Federation, All Japan Plastics Molding Industry Federation, published by the Industrial Research Council, Among those organic polymers having a softening point of about 80 ° C. or lower, issued on October 25, 1968), those soluble in an alkaline aqueous solution can be used.

また、軟化点が80℃以上の有機高分子物質についても、その有機高分子物質中に該高分子物質と相溶性のある各種可塑剤を添加することで、実質的な軟化点を80℃以下に下げて用いることもできる。また、これらの有機高分子物質には、仮支持体との接着力を調節する目的で、実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で、各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型剤、等を加えることもできる。   In addition, for an organic polymer substance having a softening point of 80 ° C. or higher, by adding various plasticizers compatible with the polymer substance to the organic polymer substance, the substantial softening point is 80 ° C. or lower. It can also be used by lowering. In addition, these organic polymer substances include various polymers, supercooling substances, adhesion improvers or interfaces within the range where the substantial softening point does not exceed 80 ° C. for the purpose of adjusting the adhesive force with the temporary support. Activators, mold release agents, etc. can also be added.

好ましい可塑剤の具体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニル、ジフェニルフォスフェートを挙げることができる。   Specific examples of preferable plasticizers include polypropylene glycol, polyethylene glycol, dioctyl phthalate, diheptyl phthalate, dibutyl phthalate, tricresyl phosphate, cresyl diphenyl phosphate biphenyl, and diphenyl phosphate.

上記の感光性転写材料における仮支持体としては、化学的及び熱的に安定であって、可撓性の物質で構成されるものから適宜選択することができる。具体的には、テフロン(登録商標) 、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン等、薄いシート若しくはこれらの積層体が好ましい。前記仮支持体の厚みとしては、5〜300μmが適当であり、好ましくは20〜150μmである。   The temporary support in the above photosensitive transfer material can be appropriately selected from those that are chemically and thermally stable and composed of a flexible substance. Specifically, a thin sheet such as Teflon (registered trademark), polyethylene terephthalate, polycarbonate, polyethylene, polypropylene, or a laminate thereof is preferable. As thickness of the said temporary support body, 5-300 micrometers is suitable, Preferably it is 20-150 micrometers.

≪カラーフィルターの製造方法≫
以下、本発明のカラーフィルターの製造方法について説明する。
<隔壁の形成>
本発明における隔壁を形成する方法は、
(1)基板上に濃色組成物を含有する塗布液を塗布して光重合性遮光層を形成し、その上に、必要に応じて酸素遮断膜を塗布する方法
(2)仮支持体上に、濃色組成物からなる光重合性遮光層と、必要に応じて酸素遮断膜とを少なくとも有する感光性転写材料を基板上に転写する方法
が好ましい。以下、単に(1)の方法を塗布法、(2)の方法を転写法ともいう。
以下、これらについて詳細に説明する。
≪Color filter manufacturing method≫
Hereinafter, the manufacturing method of the color filter of this invention is demonstrated.
<Formation of partition walls>
The method for forming the partition wall in the present invention is as follows.
(1) A method in which a coating solution containing a dark color composition is applied onto a substrate to form a photopolymerizable light-shielding layer, and an oxygen-blocking film is applied thereon as needed (2) on a temporary support In addition, a method of transferring a photosensitive transfer material having at least a photopolymerizable light-shielding layer composed of a dark color composition and, if necessary, an oxygen-blocking film onto a substrate is preferable. Hereinafter, the method (1) is simply referred to as a coating method, and the method (2) is also referred to as a transfer method.
Hereinafter, these will be described in detail.

(塗布法による隔壁の形成)
まず、基板を洗浄した後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。該基板を温調後、前記濃色組成物を塗布する。引き続き、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性をなくした後、プリベークして光重合性遮光層を得る。この時、EBR(エッジ・ビード・リムーバー)等にて基板周囲の不要な塗布液を除去してもよい。
前記塗布としては、特に限定されず、公知のスリット状ノズルを有するガラス基板用コーター(例えば、エフ・エー・エス・アジア社製、商品名:MH−1600)や、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター(平田機工株式会社製)等を用いて行うことができる。
前記乾燥は、公知の乾燥装置(例えば、VCD(真空乾燥装置;東京応化工業社製)等)を用いて行うことができる。
プリベークとしては、特に限定されないが、例えば、120℃3分間することにより達成することができる。
(Partition formation by coating method)
First, after cleaning the substrate, the substrate is heat-treated to stabilize the surface state. After the temperature of the substrate is adjusted, the dark color composition is applied. Subsequently, after part of the solvent is dried to eliminate the fluidity of the coating layer, pre-baking is performed to obtain a photopolymerizable light-shielding layer. At this time, unnecessary coating liquid around the substrate may be removed by EBR (edge bead remover) or the like.
The coating is not particularly limited, and is a glass substrate coater having a known slit nozzle (for example, product name: MH-1600 manufactured by FAS Asia) or glass having a slit nozzle. A substrate coater (manufactured by Hirata Kiko Co., Ltd.) can be used.
The drying can be performed using a known drying apparatus (for example, VCD (vacuum drying apparatus; manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.)).
Although it does not specifically limit as prebaking, For example, it can achieve by making 120 degreeC 3 minutes.

続いて、基板と画像パターンを有するマスク(例えば、石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該光重合性遮光層の間の距離を適宜(例えば、200μm)に設定し、前述の貧酸素雰囲気下で露光する。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機(例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製)等で行い、露光量としては適宜(例えば、300mJ/cm)選択することができる。
Subsequently, in a state where the substrate and a mask having an image pattern (for example, a quartz exposure mask) are vertically set, the distance between the exposure mask surface and the photopolymerizable light-shielding layer is appropriately set (for example, 200 μm), Exposure is performed in the above-mentioned poor oxygen atmosphere.
The exposure is performed, for example, with a proximity type exposure machine (for example, manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultrahigh pressure mercury lamp, and the exposure amount may be appropriately selected (for example, 300 mJ / cm 2 ). it can.

ここで、光重合性遮光層上に酸素遮断層を形成し、露光してもよい。この場合には、前記貧酸素雰囲気下で露光してもよいし、大気下で露光してもよい。酸素遮断層は光重合性遮光層と同様の方法で形成できる。   Here, an oxygen blocking layer may be formed on the photopolymerizable light blocking layer and exposed. In this case, the exposure may be performed in the poor oxygen atmosphere or in the air. The oxygen blocking layer can be formed by the same method as the photopolymerizable light blocking layer.

次に、現像液で現像してパターニング画像を得、引き続き必要に応じて、水洗処理して隔壁を得る。
前記現像の前には、純水をシャワーノズル等にて噴霧して、該濃色感光性樹脂層の表面を均一に湿らせることが好ましい。前記現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。
光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
Next, it develops with a developing solution and a patterning image is obtained, and if necessary, it wash-processes and obtains a partition.
Prior to the development, it is preferable to spray pure water with a shower nozzle or the like to uniformly wet the surface of the dark color photosensitive resin layer. As the developer used in the development process, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is used, but it may be further added with a small amount of an organic solvent miscible with water.
Examples of the light source used for the light irradiation include medium to ultrahigh pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and the like.

(転写法による隔壁の形成)
次に、前述の感光性転写材料を用いて、隔壁を形成する場合を説明する。
まず、基板を洗浄した後、該基板を熱処理して表面状態を安定化させる。次に、仮支持体上に、酸素遮断層、光重合性遮光層、更に光重合性遮光層上にカバーシートが設けられた感光性転写材料を用意する。ここで、仮支持体と酸素遮断層との間に、熱可塑性樹脂層が設けられていてもよい。
まず、カバーシートを剥離除去した後、露出した光重合性遮光層の表面を永久支持体(基板)上に貼り合わせ、ラミネーター等を通して加熱、加圧して積層する(積層体)。ラミネーターには、従来公知のラミネーター、真空ラミネーター等の中から適宜選択したものが使用でき、より生産性を高めるには、オートカットラミネーターも使用可能である。
(Partition formation by transfer method)
Next, the case where a partition is formed using the above-described photosensitive transfer material will be described.
First, after cleaning the substrate, the substrate is heat-treated to stabilize the surface state. Next, a photosensitive transfer material in which an oxygen blocking layer, a photopolymerizable light-shielding layer, and a cover sheet is provided on the photopolymerizable light-shielding layer is prepared on a temporary support. Here, a thermoplastic resin layer may be provided between the temporary support and the oxygen barrier layer.
First, after removing and removing the cover sheet, the exposed surface of the photopolymerizable light-shielding layer is bonded onto a permanent support (substrate) and laminated by heating and pressing through a laminator or the like (laminate). As the laminator, those appropriately selected from conventionally known laminators, vacuum laminators and the like can be used, and an auto-cut laminator can also be used in order to increase productivity.

次いで、仮支持体と酸素遮断層(熱可塑性樹脂層がある場合には熱可塑性樹脂層)との間で剥離し、仮支持体を除去する。続いて、基板と画像パターンを有するマスク(例えば、石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と該酸素遮断層(熱可塑性樹脂層がある場合には熱可塑性樹脂層)との間の距離を適宜(例えば、200μm)に設定し、大気下で露光する。尚、露光は前記貧酸素雰囲気下で行ってもよい。
該露光としては、例えば、超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機(例えば、日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製)等で行い、露光量としては適宜(例えば、300mJ/cm)選択することができる。
露光後、所定の処理液を用いて現像処理する。現像処理に用いる現像液としては、アルカリ性物質の希薄水溶液が用いられるが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加したものでもよい。光照射に用いる光源としては、中圧〜超高圧水銀灯、キセノンランプ、メタルハライドランプ等が挙げられる。
Subsequently, it peels between a temporary support body and an oxygen barrier layer (a thermoplastic resin layer, when there is a thermoplastic resin layer), and a temporary support body is removed. Subsequently, with the substrate and a mask having an image pattern (for example, a quartz exposure mask) standing vertically, the exposure mask surface and the oxygen blocking layer (a thermoplastic resin layer if a thermoplastic resin layer is provided) The distance between them is set appropriately (for example, 200 μm), and exposure is performed in the atmosphere. In addition, you may perform exposure in the said poor oxygen atmosphere.
The exposure is performed, for example, with a proximity type exposure machine (for example, manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultrahigh pressure mercury lamp, and the exposure amount may be appropriately selected (for example, 300 mJ / cm 2 ). it can.
After the exposure, development processing is performed using a predetermined processing solution. As the developer used in the development process, a dilute aqueous solution of an alkaline substance is used, but it may be further added with a small amount of an organic solvent miscible with water. Examples of the light source used for the light irradiation include medium to ultrahigh pressure mercury lamps, xenon lamps, metal halide lamps, and the like.

適当なアルカリ性物質としては、アルカリ金属水酸化物類(例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ金属炭酸塩類(例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩類(例えば、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩類(例えば、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)、アルカリ金属メタケイ酸塩類(例えば、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒドロキシド類( 例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド)、燐酸三ナトリウム、等が挙げられる。アルカリ性物質の濃度は、0.01〜30質量%が好ましく、pHは8〜14が好ましい。   Suitable alkaline substances include alkali metal hydroxides (eg, sodium hydroxide, potassium hydroxide), alkali metal carbonates (eg, sodium carbonate, potassium carbonate), alkali metal bicarbonates (eg, sodium bicarbonate). , Potassium bicarbonate), alkali metal silicates (eg, sodium silicate, potassium silicate), alkali metal metasilicates (eg, sodium metasilicate, potassium metasilicate), triethanolamine, diethanolamine, monoethanolamine, Examples include morpholine, tetraalkylammonium hydroxides (for example, tetramethylammonium hydroxide), trisodium phosphate, and the like. The concentration of the alkaline substance is preferably 0.01 to 30% by mass, and the pH is preferably 8 to 14.

前記「水と混和性の有機溶剤」としては、例えば、メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロリドン等が好適に挙げられる。水と混和性の有機溶剤の濃度は0.1〜30質量%が好ましい。更に、公知の界面活性剤を添加することもでき、該界面活性剤の濃度としては0.01〜10質量%が好ましい。   Examples of the “water-miscible organic solvent” include, for example, methanol, ethanol, 2-propanol, 1-propanol, butanol, diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol mono n-butyl ether. Benzyl alcohol, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, ε-caprolactone, γ-butyrolactone, dimethylformamide, dimethylacetamide, hexamethylphosphoramide, ethyl lactate, methyl lactate, ε-caprolactam, N-methylpyrrolidone and the like are preferable. . The concentration of the organic solvent miscible with water is preferably 0.1 to 30% by mass. Furthermore, a known surfactant can be added, and the concentration of the surfactant is preferably 0.01 to 10% by mass.

前記現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液としても用いることができる。感光性樹脂層の未硬化部分を除去する場合、現像液中で回転ブラシや湿潤スポンジで擦るなどの方法を組合わせることができる。現像液の液温度は、通常室温付近から40℃が好ましい。 現像時間は、感光性樹脂層の組成、現像液のアルカリ性や温度、有機溶剤を添加する場合にはその種類と濃度、等に依るが、通常10秒〜2分程度である。短すぎると非露光部の現像が不充分となると同時に紫外線の吸光度も不充分となることがあり、長すぎると露光部もエッチングされることがある。いずれの場合にも、隔壁形状を好適なものとすることが困難となる。現像処理の後に水洗工程を入れることも可能である。この現像工程にて、隔壁形状は前述のごとく形成される。   The developer can be used as a bath solution or a spray solution. When removing the uncured portion of the photosensitive resin layer, methods such as rubbing with a rotating brush or wet sponge in the developer can be combined. The liquid temperature of the developer is usually preferably from about room temperature to 40 ° C. The development time is usually about 10 seconds to 2 minutes, depending on the composition of the photosensitive resin layer, the alkalinity and temperature of the developer, and the type and concentration when an organic solvent is added. If it is too short, the development of the non-exposed area may be insufficient, and the absorbance of ultraviolet rays may be insufficient, and if it is too long, the exposed area may be etched. In any case, it is difficult to make the partition shape suitable. It is also possible to put a water washing step after the development processing. In this development step, the partition wall shape is formed as described above.

ついで、上記現像工程にて形成された隔壁の空隙に対し、RGB各画素を形成する為のインクをその空隙に侵入させるが、各画素を形成する前に、隔壁の形状を固定化してもよく、その手段は特に限定されないが以下のようなものが挙げられる。すなわち、1)現像後、再露光を行う(ポスト露光と呼ぶことがある)、2)現像後、比較的低い温度で加熱処理を行う等である。ここでいう加熱処理とは隔壁を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射するということをさす。   Next, the ink for forming the RGB pixels is made to enter the gaps in the gaps formed in the development step. However, the shape of the partition may be fixed before forming the pixels. The means is not particularly limited, and examples include the following. That is, 1) re-exposure after development (sometimes referred to as post-exposure), and 2) heat treatment at a relatively low temperature after development. The heat treatment here refers to heating a substrate having a partition wall in an electric furnace, a dryer or the like, or irradiating an infrared lamp.

ここで、上記1)を行う場合の露光量は、大気下であれば500〜3000mJ/cm、好ましくは1000〜2000mJ/cmであり、貧酸素雰囲気下である場合にはそれより低い露光量で露光することも可能である。また、同じく2)を行う場合の加熱温度は50〜250℃、好ましくは70〜200℃程度であり、その加熱時間は、10〜40分程度である。温度が50℃より低い場合には隔壁の硬化が進まない懸念があり、250℃より大きい場合には隔壁形状が崩れてしまう懸念がある。 Here, the exposure amount when performing the above 1) is 500 to 3000 mJ / cm 2 , preferably 1000 to 2000 mJ / cm 2 in the atmosphere, and lower exposure in the poor oxygen atmosphere. It is also possible to expose in quantity. Moreover, the heating temperature in the case of performing 2) is 50 to 250 ° C., preferably about 70 to 200 ° C., and the heating time is about 10 to 40 minutes. When the temperature is lower than 50 ° C., there is a concern that the curing of the partition walls does not proceed, and when the temperature is higher than 250 ° C., there is a concern that the shape of the partition walls may collapse.

<各画素の形成>
各画素形成のために用いるインクジェット方式に関しては、公知の方法を用いることができる。
好ましくは、各画素を形成した後、加熱処理(いわゆるベーク処理)する加熱工程を設ける。即ち、光照射により光重合した層を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱する、あるいは赤外線ランプを照射する。加熱の温度及び時間は、感光性濃色組成物の組成や形成された層の厚みに依存するが、一般に充分な耐溶剤性、耐アルカリ性、及び紫外線吸光度を獲得する観点から、約120℃〜約250℃で約10分〜約120分間加熱することが好ましい。
このようにして形成されたカラーフィルターのパターン形状は特に限定されるものではなく、一般的なブラックマトリックス形状であるストライプ状であっても、格子状であっても、さらにはデルタ配列状であってもよい。
<Formation of each pixel>
A known method can be used for the ink jet method used for forming each pixel.
Preferably, after each pixel is formed, a heating step of performing a heat treatment (so-called baking treatment) is provided. That is, a substrate having a layer photopolymerized by light irradiation is heated in an electric furnace, a dryer or the like, or an infrared lamp is irradiated. The temperature and time of heating depend on the composition of the photosensitive dark color composition and the thickness of the formed layer, but generally from about 120 ° C. to the point of obtaining sufficient solvent resistance, alkali resistance, and ultraviolet absorbance. Heating at about 250 ° C. for about 10 minutes to about 120 minutes is preferred.
The pattern shape of the color filter thus formed is not particularly limited, and may be a general black matrix stripe shape, a lattice shape, or a delta arrangement. May be.

≪表示装置≫
本発明のカラーフィルターは、表示装置に好適に用いることができる。表示装置としては液晶表示装置、プラズマディスプレイ表示装置、EL表示装置、CRT表示装置などの表示装置などをいう。表示装置の定義や各表示装置の説明は例えば「電子ディスプレイデバイス(佐々木 昭夫著、(株)工業調査会 1990年発行)」、「ディスプレイデバイス(伊吹 順章著、産業図書(株)平成元年発行)」などに記載されている。
本発明の表示装置のうち、液晶表示装置は特に好ましい。液晶表示装置については例えば「次世代液晶ディスプレイ技術(内田 龍男編集、(株)工業調査会 1994年発行)」に記載されている。本発明が適用できる液晶表示装置に特に制限はなく、例えば上記の「次世代液晶ディスプレイ技術」に記載されている色々な方式の液晶表示装置に適用できる。本発明はこれらのなかで特にカラーTFT方式の液晶表示装置に対して有効である。カラーTFT方式の液晶表示装置については例えば「カラーTFT液晶ディスプレイ(共立出版(株)1996年発行)」に記載されている。さらに本発明はもちろんIPSなどの横電界駆動方式、MVAなどの画素分割方式などの視野角が拡大された液晶表示装置にも適用できる。これらの方式については例えば「EL、PDP、LCDディスプレイ−技術と市場の最新動向−(東レリサーチセンター調査研究部門 2001年発行)」の43ページに記載されている。
≪Display device≫
The color filter of the present invention can be suitably used for a display device. The display device refers to a display device such as a liquid crystal display device, a plasma display display device, an EL display device, or a CRT display device. For the definition of display devices and explanation of each display device, refer to “Electronic Display Devices (Akio Sasaki, published by Industrial Research Institute 1990)”, “Display Devices (written by Junaki Ibuki, Sangyo Tosho Co., Ltd.) Issue)).
Among the display devices of the present invention, a liquid crystal display device is particularly preferable. The liquid crystal display device is described in, for example, “Next-generation liquid crystal display technology (edited by Tatsuo Uchida, published by Kogyo Kenkyukai 1994)”. The liquid crystal display device to which the present invention can be applied is not particularly limited, and can be applied to various types of liquid crystal display devices described in, for example, the “next generation liquid crystal display technology”. Among these, the present invention is particularly effective for a color TFT liquid crystal display device. The color TFT liquid crystal display device is described in, for example, “Color TFT liquid crystal display (issued in 1996 by Kyoritsu Publishing Co., Ltd.)”. Further, the present invention can be applied to a liquid crystal display device with a wide viewing angle such as a lateral electric field driving method such as IPS and a pixel division method such as MVA. These methods are described, for example, on page 43 of "EL, PDP, LCD display-latest technology and market trends-(issued in 2001 by Toray Research Center Research Division)".

液晶表示装置はカラーフィルター以外に電極基板、偏光フィルム、位相差フィルム、バックライト、スペーサ、視野角保障フィルムなどさまざまな部材から構成される。本発明のブラックマトリックスはこれらの公知の部材で構成される液晶表示装置に適用することができる。これらの部材については例えば「’94液晶ディスプレイ周辺材料・ケミカルズの市場(島 健太郎 (株)シーエムシー 1994年発行 )」、「2003液晶関連市場の現状と将来展望(下巻)(表 良吉 (株)富士キメラ総研 2003年発行)」に記載されている。   In addition to the color filter, the liquid crystal display device includes various members such as an electrode substrate, a polarizing film, a retardation film, a backlight, a spacer, and a viewing angle guarantee film. The black matrix of the present invention can be applied to a liquid crystal display device composed of these known members. For example, “'94 Liquid Crystal Display Peripheral Materials and Chemicals Market (Kentaro Shima, CMC 1994)” and “2003 Liquid Crystal Related Markets Current Status and Future Prospects (Volume 2)” (Table Yoshiyoshi) Fuji Chimera Research Institute, published in 2003) ”.

≪対象用途≫
本発明のカラーフィルターはテレビ、パーソナルコンピュータ、液晶プロジェクター、ゲーム機、携帯電話などの携帯端末、デジタルカメラ、カーナビなどの用途に特に制限なく適用できる。
≪Target use≫
The color filter of the present invention can be applied to applications such as televisions, personal computers, liquid crystal projectors, game machines, mobile phones and other portable terminals, digital cameras, car navigation systems and the like.

以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、割合、機器、操作等は本発明の精神から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す具体例に限定されるものではない。なお、以下の実施例において、特に断りのない限り「%」および「部」は、「質量%」および「質量部」を表し、分子量とは重量平均分子量のことを示す。   The present invention will be described more specifically with reference to the following examples. The materials, reagents, ratios, equipment, operations, and the like shown in the following examples can be appropriately changed without departing from the spirit of the present invention. Therefore, the scope of the present invention is not limited to the specific examples shown below. In the following examples, “%” and “parts” represent “mass%” and “parts by mass” unless otherwise specified, and the molecular weight indicates the weight average molecular weight.

[実施例1]
<隔壁形成用濃色組成物K1の調製>
濃色組成物K1は、まず表1に記載の量のK顔料分散物1、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートをはかり取り、温度24℃(±2℃)で混合して150RPM、10分間攪拌し、次いで、表1に記載の量のメチルエチルケトン、バインダー2、ハイドロキノンモノメチルエーテル、DPHA液、2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−[4’−(N,N−ジエトキシカルボニルメチル)アミノ−3’−ブロモフェニル]−s−トリアジン、界面活性剤1をはかり取り、温度25℃(±2℃)でこの順に添加して、温度40℃(±2℃)で150RPM30分間攪拌することによって得られた。なお、表1に記載の量は質量部であり、詳しくは以下の組成となっている。
<K顔料分散物1>
・カーボンブラック(デグッサ社製 Nipex35) ・・・ 13.1%
・分散剤 ・・・ 0.65%

Figure 2007163689
・ポリマー(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=72/28モル比のランダム共重合物、分子量3.7万) ・・・ 6.72%
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・79.53%
<バインダー2>
・ポリマー(ベンジルメタクリレート/メタクリル酸=78/22モル比のランダム共重合物、分子量3.8万) ・・・ 27%
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ 73%
<DPHA液>
・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート(重合禁止剤MEHQ 500ppm含有、日本化薬(株)製、商品名:KAYARAD DPHA) ・・・ 76%
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ 24%
<界面活性剤1>
・下記構造物1 ・・・ 30%
Figure 2007163689
・メチルエチルケトン 70% [Example 1]
<Preparation of partition wall forming dark color composition K1>
The dark color composition K1 is first weighed in the amounts of K pigment dispersion 1 and propylene glycol monomethyl ether acetate listed in Table 1, mixed at a temperature of 24 ° C. (± 2 ° C.), stirred at 150 RPM for 10 minutes, and then Methyl ethyl ketone, binder 2, hydroquinone monomethyl ether, DPHA solution, 2,4-bis (trichloromethyl) -6- [4 '-(N, N-diethoxycarbonylmethyl) amino-3' in the amounts shown in Table 1 -Bromophenyl] -s-triazine and surfactant 1 were weighed out, added in this order at a temperature of 25 ° C. (± 2 ° C.), and stirred at a temperature of 40 ° C. (± 2 ° C.) for 150 RPM for 30 minutes. . In addition, the quantity of Table 1 is a mass part, and has the following composition in detail.
<K pigment dispersion 1>
・ Carbon black (Nexex 35 manufactured by Degussa) ... 13.1%
・ Dispersant: 0.65%
Figure 2007163689
-Polymer (Random copolymer of benzyl methacrylate / methacrylic acid = 72/28 molar ratio, molecular weight 37,000) ... 6.72%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate: 79.53%
<Binder 2>
・ Polymer (benzyl methacrylate / methacrylic acid = 78/22 molar ratio random copolymer, molecular weight 38,000) 27%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 73%
<DPHA solution>
・ Dipentaerythritol hexaacrylate (containing polymerization inhibitor MEHQ 500ppm, Nippon Kayaku Co., Ltd., trade name: KAYARAD DPHA) 76%
・ Propylene glycol monomethyl ether acetate 24%
<Surfactant 1>
・ The following structure 1 ・ ・ ・ 30%
Figure 2007163689
・ Methyl ethyl ketone 70%

Figure 2007163689
Figure 2007163689

<隔壁の形成>
無アルカリガラス基板を、UV洗浄装置で洗浄後、洗浄剤を用いてブラシ洗浄し、更に超純水で超音波洗浄した。基板を120℃3分熱処理して表面状態を安定化させた。
基板を冷却し23℃に温調後、スリット状ノズルを有すガラス基板用コーター(エフ・エー・エス・アジア社製、商品名:MH−1600)にて、上表に記載の組成よりなる濃色組成物K1を塗布した。引き続きVCD(真空乾燥装置、東京応化工業(株)製)で30秒間、溶媒の一部を乾燥して塗布層の流動性を無くした後、120℃3分間プリベークして光重合性遮光層K1を得た。
<Formation of partition walls>
The alkali-free glass substrate was cleaned with a UV cleaning apparatus, then brush-cleaned with a cleaning agent, and further ultrasonically cleaned with ultrapure water. The substrate was heat-treated at 120 ° C. for 3 minutes to stabilize the surface state.
After cooling the substrate and adjusting the temperature to 23 ° C., a glass substrate coater (manufactured by FS Asia Co., Ltd., trade name: MH-1600) having a slit-like nozzle has the composition described in the above table. Dark color composition K1 was applied. Subsequently, a part of the solvent was dried with a VCD (vacuum drying apparatus, manufactured by Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd.) for 30 seconds to eliminate the fluidity of the coating layer, and then pre-baked at 120 ° C. for 3 minutes to form a photopolymerizable light-shielding layer K1. Got.

超高圧水銀灯を有すプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製)で、基板とマスク(画像パターンを有す石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と光重合性遮光層K1の間の距離を200μmに設定し、0.2気圧まで減圧した環境下で、露光量300mJ/cmでパターン露光した。 Exposure mask surface and photopolymerization in a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) with an ultra-high pressure mercury lamp, with the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically The distance between the light shielding layers K1 was set to 200 μm, and pattern exposure was performed at an exposure amount of 300 mJ / cm 2 in an environment where the pressure was reduced to 0.2 atm.

次に、純水をシャワーノズルにて噴霧して、光重合性遮光層K1の表面を均一に湿らせた後、KOH系現像液(KOH、ノニオン界面活性剤含有、商品名:CDK−1、富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製)にて23℃80秒、フラットノズル圧力0.04MPaでシャワー現像しパターニング画像を得た。引き続き、超純水を、超高圧洗浄ノズルにて9.8MPaの圧力で噴射して残渣除去を行い、大気下にて露光量2000mJ/cmにてポスト露光を行って光学濃度3.9の黒色隔壁を得た。 Next, after spraying pure water with a shower nozzle to uniformly wet the surface of the photopolymerizable light-shielding layer K1, a KOH developer (KOH, containing nonionic surfactant, trade name: CDK-1, (Fujifilm Electronics Materials Co., Ltd.) was subjected to shower development at 23 ° C. for 80 seconds and a flat nozzle pressure of 0.04 MPa to obtain a patterning image. Subsequently, ultrapure water was sprayed at a pressure of 9.8 MPa with an ultra-high pressure cleaning nozzle to remove the residue, and post exposure was performed in the atmosphere with an exposure amount of 2000 mJ / cm 2 to obtain an optical density of 3.9. A black partition was obtained.

<ラジカル重合性インクの調製>
・顔料分散液の調製
下記の表2の組成物を混合し、1時間スターラーで攪拌した。攪拌後の混合物をアイガーミルにて分散し、R、G、Bの顔料分散物を得た。分散条件は直径0.65mmのジルコニアビーズを70%の充填率で充填し、周速を9m/sとし、分散時間、1時間で行った。
<Preparation of radical polymerizable ink>
-Preparation of pigment dispersion The compositions shown in Table 2 below were mixed and stirred with a stirrer for 1 hour. The mixture after stirring was dispersed with an Eiger mill to obtain R, G, and B pigment dispersions. Dispersion conditions were as follows: zirconia beads having a diameter of 0.65 mm were filled at a filling rate of 70%, the peripheral speed was 9 m / s, and the dispersion time was 1 hour.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

・インク液の調製
R、G、Bの各顔料分散液を表3の組成で混合し、1時間スターラーで攪拌し、R1、G1、B1インクを得た。
-Preparation of ink liquid R, G, B pigment dispersions were mixed in the composition shown in Table 3 and stirred with a stirrer for 1 hour to obtain R1, G1, B1 inks.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

<ラジカル重合性インクによるRGB画素の記録>
上記で得られたRインク1、Gインク1、Bインク1をピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた凹部に、下記のように打滴を行った。
ヘッドは25.4mmあたり150のノズル密度で、318ノズルを有しており、これを2個ノズル列方向にノズル間隔の1/2ずらして固定することにより、基板上にはノズル配列方向に25.4mmあたり300滴打滴される。
ヘッドおよびインクは、ヘッド内に温水を循環させることにより吐出部分近辺が50±0.5℃となるように制御されている。
ヘッドからのインク吐出は、ヘッドに付与されるピエゾ駆動信号により制御され、一滴あたり6〜42plの吐出が可能であって、本実施例ではヘッドの下1mmの位置でガラス基板が搬送されながらヘッドより打滴される。搬送速度は50〜200mm/sの範囲で設定可能である。またピエゾ駆動周波数は最大4.6KHzまでが可能であって、これらの設定により打滴量を制御することができる。
<Recording RGB pixels with radical polymerizable ink>
The R ink 1, G ink 1 and B ink 1 obtained above were ejected into the recesses surrounded by the light-shielding partition using a piezo head as follows.
The head has a nozzle density of 150 per 25.4 mm, and has 318 nozzles. By fixing these two nozzles in the nozzle row direction with a shift of 1/2 the nozzle interval, 25 heads are arranged on the substrate in the nozzle array direction. . 300 drops per 4 mm.
The head and ink are controlled so that the vicinity of the ejection portion is 50 ± 0.5 ° C. by circulating hot water in the head.
Ink ejection from the head is controlled by a piezo drive signal applied to the head, and ejection of 6 to 42 pl per drop is possible. In this embodiment, the head is moved while the glass substrate is conveyed at a position 1 mm below the head. More drops. The conveyance speed can be set in the range of 50 to 200 mm / s. The piezo drive frequency can be up to 4.6 KHz, and the droplet ejection amount can be controlled by these settings.

本実施例では、R、G、Bそれぞれ、顔料の塗設量が、1.1、1.8、0.75g/mなるように、搬送速度、駆動周波数を制御し、所望するR、G、Bに対応する凹部にR、G、Bのインクを打滴した。 In this example, the transfer speed and drive frequency are controlled so that the coating amount of the pigment is 1.1, 1.8, and 0.75 g / m 2 for each of R, G, and B. R, G, and B inks were ejected onto the recesses corresponding to G and B.

打滴されたインクは、露光部に搬送され、紫外発光ダイオード(UV−LED)により露光される。本実施例ではUV−LEDは日亜化学製NCCU033を用いた。本LEDは1チップから波長365nmの紫外光を出力するものであって、約500mAの電流を通電することにより、チップから約100mWの光が発光される。これを7mm間隔に複数個配列し、表面で0.3W/cmのパワーが得られる。打滴後露光されるまでの時間、および露光時間はメディアの搬送速度およびヘッドとLEDの搬送方向の距離により変更可能である。本実施例では着弾後、約0.5秒後に露光される。 The ejected ink is conveyed to an exposure unit and exposed by an ultraviolet light emitting diode (UV-LED). In this embodiment, NCC A03C manufactured by Nichia Chemical was used as the UV-LED. This LED outputs ultraviolet light having a wavelength of 365 nm from one chip. When a current of about 500 mA is applied, light of about 100 mW is emitted from the chip. A plurality of these are arranged at intervals of 7 mm, and a power of 0.3 W / cm 2 can be obtained on the surface. The exposure time after the droplet ejection and the exposure time can be changed according to the medium transport speed and the distance between the head and the LED transport direction. In this embodiment, the exposure is performed about 0.5 seconds after landing.

距離および搬送速度の設定に応じて、メディア上の露光エネルギーを0.01〜15J/cmの間で調整することができる。本実施例では搬送速度により露光エネルギーを調整した。 Depending on the setting of the distance and the conveyance speed, the exposure energy on the medium can be adjusted between 0.01 and 15 J / cm 2 . In this embodiment, the exposure energy is adjusted according to the conveyance speed.

これら露光パワー、露光エネルギーの測定にはウシオ電機製スペクトロラディオメータURS−40Dを用い、波長220nmから400nmの間を積分した値を用いた。
打滴後のガラス基板を230℃オーブン中で30分ベークすることで、遮光性隔壁、各画素共に完全に硬化させた。
For the measurement of the exposure power and exposure energy, a spectroradiometer URS-40D manufactured by USHIO INC. Was used, and a value obtained by integrating the wavelength between 220 nm and 400 nm was used.
The glass substrate after droplet ejection was baked in an oven at 230 ° C. for 30 minutes, so that both the light-shielding partition and each pixel were completely cured.

こうして得られたカラーフィルターの、各画素を構成するインクは黒色隔壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。   In the color filter thus obtained, the ink constituting each pixel fits exactly in the gap between the black partition walls, and no defects such as bleeding, protrusion, color mixture with adjacent pixels and white spots were found.

<ITO電極の形成>
前記カラーフィルターが形成されたガラス基板をスパッタ装置に入れて、100℃で130nmの厚さのITO(インヂウム錫酸化物)を全面真空蒸着した後、240℃で90分間アニールしてITOを結晶化し、ITO透明電極を形成した。
<Formation of ITO electrode>
The glass substrate on which the color filter is formed is put into a sputtering apparatus, and ITO (indium tin oxide) with a thickness of 130 nm is vacuum-deposited at 100 ° C., and then annealed at 240 ° C. for 90 minutes to crystallize the ITO. An ITO transparent electrode was formed.

[実施例2]
<隔壁の形成>
露光する工程を、0.5気圧まで減圧した環境下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、遮光性隔壁を形成した。
<カチオン重合性インクの調製>
・顔料分散体の調製
まず、表4下記に示す顔料、モノマーおよび分散剤をボールミルに入れて、直径0.6mmのジルコンビーズを使用して、16時間分散して顔料分散体を得た。
[Example 2]
<Formation of partition walls>
A light-shielding partition was formed in the same manner as in Example 1 except that the exposure process was changed to an exposure process under an environment reduced to 0.5 atm.
<Preparation of cationic polymerizable ink>
-Preparation of Pigment Dispersion First, the pigment, monomer and dispersant shown in Table 4 below were placed in a ball mill and dispersed for 16 hours using zircon beads having a diameter of 0.6 mm to obtain a pigment dispersion.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

・インク液の調製
表5に示す成分を撹拌混合し、5.0μmのメンブランフィルターでろ過してRGBのインクを得た。
-Preparation of ink liquid The components shown in Table 5 were mixed with stirring and filtered through a 5.0 µm membrane filter to obtain RGB ink.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

<カチオン重合性インクによるRGB画素の記録>
実施例1のラジカル重合性インクを上記のカチオン重合性インクに代えた以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製し、ITO透明電極を形成した。
<Recording RGB pixels with cationically polymerizable ink>
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the radical polymerizable ink in Example 1 was replaced with the above cationic polymerizable ink, and an ITO transparent electrode was formed.

こうして得られたカラーフィルターの、各画素を構成するインクは黒色隔壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。また、カラーフィルターのITO抵抗を測定した(三菱化学(株)製「ロレスタ」;四探針法でシート抵抗を測定)ところ、11Ω/□という非常に低い値を示した。これは、本発明を用いることで予期せずカラーフィルター表面の平坦性が高まったためと考えられる。   In the color filter thus obtained, the ink constituting each pixel fits exactly in the gap between the black partition walls, and no defects such as bleeding, protrusion, color mixture with adjacent pixels and white spots were found. Further, the ITO resistance of the color filter was measured (“Loresta” manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation; sheet resistance was measured by a four-probe method), and a very low value of 11Ω / □ was shown. This is probably because the flatness of the color filter surface was unexpectedly increased by using the present invention.

[実施例3]
隔壁を露光する工程を、窒素90%、酸素10%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 3]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing in a state of 90% nitrogen and 10% oxygen.

[実施例4]
隔壁を露光する工程を、窒素96%、酸素4%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 4]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing in a state of 96% nitrogen and 4% oxygen.

[実施例5]
隔壁を露光する工程を、窒素100%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 5]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing under the condition of 100% nitrogen.

[実施例6]
隔壁を露光する工程を、ヘリウムガス100%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 6]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing in a state of 100% helium gas.

[実施例7]
隔壁を露光する工程を、アルゴンガス100%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 7]
A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing under the condition of 100% argon gas.

[実施例8]
光重合性遮光層K1上に下記の酸素遮断層用塗布液処方P1を塗布し、乾燥膜厚が1.6μmの酸素遮断層を設けた状態で、露光する工程を、大気圧(1気圧(酸素分圧が0.21気圧))下で露光する工程に変更した以外は、実施例1と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 8]
On the photopolymerizable light-shielding layer K1, the following oxygen-blocking layer coating liquid formulation P1 is applied, and an exposure process is performed in the state where an oxygen-blocking layer having a dry film thickness of 1.6 μm is provided. A color filter was produced in the same manner as in Example 1 except that the exposure step was changed under an oxygen partial pressure of 0.21 atm)).

<酸素遮断層用塗布液:処方P1>
・PVA205(ポリビニルアルコール、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550) ・・・ 32.2部
・ポリビニルピロリドン(アイエスピー・ジャパン社製、K−30)
・・・ 14.9部
・蒸留水 ・・・ 524部
・メタノール ・・・ 429部
<Coating liquid for oxygen barrier layer: prescription P1>
-PVA205 (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification = 88%, degree of polymerization 550) ... 32.2 parts-Polyvinylpyrrolidone (manufactured by ASP Japan, K-30)
・ ・ ・ 14.9 parts ・ Distilled water ・ ・ ・ 524 parts ・ Methanol ・ ・ ・ 429 parts

[実施例9]
<感光性転写材料の作製>
厚さ75μmのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体の上に、スリット状ノズルを用いて、下記処方H1からなる熱可塑性樹脂層用塗布液を塗布、乾燥させた。次に、下記処方P1から成る酸素遮断層用塗布液を塗布、乾燥させた。更に、表6の濃色組成物K2を塗布、乾燥させた。このようにして仮支持体の上に乾燥膜厚が14.6μmの熱可塑性樹脂層と、乾燥膜厚が1.6μmの酸素遮断層と、光重合性遮光層を設け、最後に保護フイルム(厚さ12μmポリプロピレンフィルム)を圧着した。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断層とブラック(K)の光重合性遮光層とが一体となった黒色感光性転写材料を作製した。
[Example 9]
<Production of photosensitive transfer material>
On a 75 μm thick polyethylene terephthalate film temporary support, a coating solution for a thermoplastic resin layer having the following formulation H1 was applied and dried using a slit nozzle. Next, an oxygen barrier layer coating solution having the following formulation P1 was applied and dried. Further, the dark color composition K2 in Table 6 was applied and dried. In this way, a thermoplastic resin layer having a dry film thickness of 14.6 μm, an oxygen blocking layer having a dry film thickness of 1.6 μm, and a photopolymerizable light-shielding layer are provided on the temporary support, and finally a protective film ( A 12 μm-thick polypropylene film) was pressure-bonded.
In this way, a black photosensitive transfer material was produced in which the temporary support, the thermoplastic resin layer, the oxygen blocking layer, and the black (K) photopolymerizable light-shielding layer were integrated.

<熱可塑性樹脂層用塗布液:処方H1>
・メタノール ・・・ 11.1部
・プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート ・・・ 6.36部
・メチルエチルケトン ・・・ 52.4部
・メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/11.7/4.5/28.8、分子量=10万、Tg≒70℃)
・・・ 5.83部
・スチレン/アクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=63/37、分子量=1万、Tg≒100℃)
・・・ 13.6部
・2,2−ビス[4−(メタクリロキシポリエトキシ)フェニル]プロパン(新中村化学工業(株)製)
・・・ 9.1部
・前記界面活性剤1 ・・・ 0.54部
<Coating liquid for thermoplastic resin layer: Formulation H1>
Methanol: 11.1 parts Propylene glycol monomethyl ether acetate: 6.36 parts Methyl ethyl ketone: 52.4 parts Methyl methacrylate / 2-ethylhexyl acrylate / benzyl methacrylate / methacrylic acid copolymer (co-polymer) Polymerization composition ratio (molar ratio) = 55 / 11.7 / 4.5 / 28.8, molecular weight = 100,000, Tg≈70 ° C.)
... 5.83 parts styrene / acrylic acid copolymer (copolymerization composition ratio (molar ratio) = 63/37, molecular weight = 10,000, Tg≈100 ° C.)
... 13.6 parts 2,2-bis [4- (methacryloxypolyethoxy) phenyl] propane (manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.)
9.1 parts ・ Surfactant 1 ・ ・ ・ 0.54 parts

<酸素遮断層用塗布液:処方P1>
・PVA205(ポリビニルアルコール、(株)クラレ製、鹸化度=88%、重合度550) ・・・ 32.2部
・ポリビニルピロリドン(アイエスピー・ジャパン社製、K−30)
・・・ 14.9部
・蒸留水 ・・・ 524部
・メタノール ・・・ 429部
<Coating liquid for oxygen barrier layer: prescription P1>
-PVA205 (polyvinyl alcohol, manufactured by Kuraray Co., Ltd., degree of saponification = 88%, degree of polymerization 550) ... 32.2 parts-Polyvinylpyrrolidone (manufactured by ASP Japan, K-30)
・ ・ ・ 14.9 parts ・ Distilled water ・ ・ ・ 524 parts ・ Methanol ・ ・ ・ 429 parts

Figure 2007163689
Figure 2007163689

無アルカリガラス基板を、25℃に調整したガラス洗浄剤液をシャワーにより20秒間吹き付けながらナイロン毛を有する回転ブラシで洗浄し、純水シャワー洗浄後、シランカップリング液(N−β(アミノエチル)γ−アミノプロピルトリメトキシシラン0.3%水溶液、商品名:KBM603、信越化学工業)をシャワーにより20秒間吹き付け、純水シャワー洗浄した。この基板を基板予備加熱装置で100℃2分加熱した。   The alkali-free glass substrate was washed with a rotating brush having nylon hair while spraying a glass detergent solution adjusted to 25 ° C. for 20 seconds by showering, and after washing with pure water shower, silane coupling solution (N-β (aminoethyl)) A 0.3% aqueous solution of γ-aminopropyltrimethoxysilane, trade name: KBM603, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) was sprayed for 20 seconds with a shower and washed with pure water. This substrate was heated at 100 ° C. for 2 minutes by a substrate preheating apparatus.

得られたシランカップリング処理ガラス基板に、上記の製法にて作製された感光性転写材料からカバーフィルムを除去し、除去後に露出した光重合性遮光層の表面と前記シランカップリング処理ガラス基板の表面とが接するように重ね合わせ、ラミネータ(株式会社日立インダストリイズ製(LamicII型))を用いて、前記100℃で2分間加熱した基板に、ゴムローラー温度130℃、線圧100N/cm、搬送速度2.2m/分でラミネートした。続いてポリエチレンテレフタレートの仮支持体を、熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去した。仮支持体を剥離後、超高圧水銀灯を有するプロキシミティー型露光機(日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社製)で、基板とマスク(画像パターンを有す石英露光マスク)を垂直に立てた状態で、露光マスク面と熱可塑性樹脂層の間の距離を200μmに設定し、露光量70mJ/cmでパターン露光した。 On the obtained silane coupling treated glass substrate, the cover film is removed from the photosensitive transfer material produced by the above production method, and the surface of the photopolymerizable light-shielding layer exposed after the removal and the silane coupling treated glass substrate The substrates are heated so as to be in contact with each other, and a laminator (manufactured by Hitachi Industries (Lamic II type)) is used to heat the substrate at 100 ° C. for 2 minutes. The rubber roller temperature is 130 ° C., the linear pressure is 100 N / cm, Lamination was performed at a conveyance speed of 2.2 m / min. Subsequently, the polyethylene terephthalate temporary support was peeled off at the interface with the thermoplastic resin layer to remove the temporary support. After peeling off the temporary support, exposure is performed with a proximity type exposure machine (manufactured by Hitachi High-Tech Electronics Engineering Co., Ltd.) having an ultra-high pressure mercury lamp with the substrate and mask (quartz exposure mask with image pattern) standing vertically. The distance between the mask surface and the thermoplastic resin layer was set to 200 μm, and pattern exposure was performed with an exposure amount of 70 mJ / cm 2 .

次に、トリエタノールアミン系現像液(2.5%のトリエタノールアミン含有、ノニオン性界面活性剤含有、ポリプロピレン系消泡剤含有、商品名:T−PD1、富士写真フイルム製)にて30℃50秒、フラットノズル圧力0.04MPaでシャワー現像し熱可塑性樹脂層と酸素遮断層を除去した。   Next, 30 ° C. in a triethanolamine developer (containing 2.5% triethanolamine, nonionic surfactant, polypropylene antifoam, trade name: T-PD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) The thermoplastic resin layer and the oxygen barrier layer were removed by shower development for 50 seconds with a flat nozzle pressure of 0.04 MPa.

引き続き炭酸Na系現像液(0.06モル/リットルの炭酸水素ナトリウム、同濃度の炭酸ナトリウム、1%のジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム、アニオン性界面活性剤、消泡剤、安定剤含有、商品名:T−CD1、富士写真フイルム製)を用い、29℃30秒、コーン型ノズル圧力0.15MPaでシャワー現像し濃色感光性樹脂組成物層を現像しパターニング画素を得た。   Subsequently, a sodium carbonate-based developer (0.06 mol / liter sodium bicarbonate, sodium carbonate of the same concentration, 1% sodium dibutylnaphthalenesulfonate, anionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer, trade name: T-CD1, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was used for shower development at 29 ° C. for 30 seconds and a cone type nozzle pressure of 0.15 MPa to develop the dark photosensitive resin composition layer to obtain a patterned pixel.

引き続き洗浄剤(燐酸塩・珪酸塩・ノニオン界面活性剤・消泡剤・安定剤含有、商品名「T−SD1(富士写真フイルム製)」を用い、33℃20秒、コーン型ノズル圧力0.02MPaでシャワーとナイロン毛を有す回転ブラシにより残渣除去を行い、ブラック(K)の画像を得た。
その後更に、該基板に対して該濃色感光性樹脂組成物層の側から超高圧水銀灯で500mJ/cmの光でポスト露光後、220℃、15分熱処理し、隔壁を得た。
Subsequently, using a detergent (containing phosphate, silicate, nonionic surfactant, antifoaming agent, stabilizer, trade name “T-SD1 (manufactured by Fuji Photo Film)” at 33 ° C. for 20 seconds, cone type nozzle pressure of 0. Residue removal was performed with a rotating brush having a shower and nylon hair at 02 MPa to obtain a black (K) image.
Thereafter, the substrate was further post-exposed with 500 mJ / cm 2 of light from an ultrahigh pressure mercury lamp from the dark color photosensitive resin composition layer side, and then heat-treated at 220 ° C. for 15 minutes to obtain partition walls.

<ラジカル重合性インクの製法>
顔料分散液及びインクの組成を表7、8に代えた以外は、実施例1と同様の方法で、ラジカル重合性インクを調製した。
<Method for producing radically polymerizable ink>
A radical polymerizable ink was prepared in the same manner as in Example 1 except that the compositions of the pigment dispersion and the ink were changed to those shown in Tables 7 and 8.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

Figure 2007163689
Figure 2007163689

上記で得られたRGBインクを実施例1と同様に、ピエゾ方式のヘッドを用いて遮光性隔壁に囲まれた凹部に打滴を行い、カラーフィルターを作製し、ITO透明電極を形成した。
こうして得られたカラーフィルターの、各画素を構成するインクは黒色隔壁間隙にぴったり収まり、にじみ、はみ出し、隣接画素との混色および白抜けなどの欠陥となる不良は見つからなかった。
In the same manner as in Example 1, the RGB ink obtained above was ejected into a recess surrounded by a light-shielding partition using a piezo-type head to produce a color filter, and an ITO transparent electrode was formed.
In the color filter thus obtained, the ink constituting each pixel fits exactly in the gap between the black partition walls, and no defects such as bleeding, protrusion, color mixture with adjacent pixels and white spots were found.

[実施例10]
隔壁を露光する工程を、窒素100%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例8と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 10]
A color filter was produced in the same manner as in Example 8 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing under the condition of 100% nitrogen.

[実施例11]
隔壁を露光する工程を、窒素100%の状態下で露光する工程に変更した以外は、実施例9と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 11]
A color filter was produced in the same manner as in Example 9 except that the step of exposing the partition walls was changed to a step of exposing under the condition of 100% nitrogen.

[実施例12]
隔壁の高さを2.5μmに変更した以外は、実施例9と同様の方法で、カラーフィルターを作製した。
[Example 12]
A color filter was produced in the same manner as in Example 9 except that the height of the partition walls was changed to 2.5 μm.

[比較例1]
表9の組成のインクを調製し、実施例1の遮光性隔壁を有するガラス基板の凹部に、インクジェット法により、R、G、Bパターンに対応したインクを顔料の塗設量が実施例1と同じになるように打滴した。
[Comparative Example 1]
An ink having the composition shown in Table 9 was prepared, and the amount of pigment applied to the concave portion of the glass substrate having the light-shielding partition wall of Example 1 was changed according to Example 1 to the ink corresponding to the R, G, and B patterns by the inkjet method. The droplets were shot in the same way.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

打滴後、30分自然乾燥を行い、さらに150℃で乾燥した。その後、実施例1と同様に、ベークを行い、カラーフィルターを得た。
得られたカラーフィルターを観察したところ、R、G、Bの各画素は、遮光性隔壁を乗り越えた他色のインクの顔料が混在しており、混色が見られ、所望の色相が得られなかった。
After droplet ejection, it was naturally dried for 30 minutes and further dried at 150 ° C. Thereafter, baking was performed in the same manner as in Example 1 to obtain a color filter.
When the obtained color filter was observed, each of the R, G, and B pixels was mixed with pigments of inks of other colors that passed over the light-shielding partition walls, and color mixing was observed, and the desired hue could not be obtained. It was.

<液晶表示装置用基板の作製>
実施例1〜11、比較例1で得られたカラーフィルターを用い、下記のようにして液晶表示装置用基板を作製した。
<Production of substrate for liquid crystal display device>
Using the color filters obtained in Examples 1 to 11 and Comparative Example 1, substrates for liquid crystal display devices were produced as follows.

(スペーサの形成)
特開2004−240335号公報の[実施例1]に記載のスペーサ形成方法と同様の方法で、上記で作製したITO透明電極上にスペーサを形成した。
(Spacer formation)
A spacer was formed on the ITO transparent electrode produced above by the same method as the spacer forming method described in [Example 1] of JP-A-2004-240335.

(液晶配向制御用突起の形成)
下記のポジ型感光性樹脂層用塗布液を用いて、前記スペーサを形成したITO透明電極上に液晶配向制御用突起を形成した。
但し、露光、現像、及び、ベーク工程は、以下の方法を用いた。
(Formation of liquid crystal alignment control protrusions)
A liquid crystal alignment control protrusion was formed on the ITO transparent electrode on which the spacer was formed, using the following positive photosensitive resin layer coating solution.
However, the following methods were used for exposure, development, and baking.

所定のフォトマスクが感光性樹脂層の表面から100μmの距離となるようにプロキシミティ露光機(日立電子エンジニアリング株式会社製)を配置し、該フォトマスクを介して超高圧水銀灯により照射エネルギー150mJ/cmでプロキシミティ露光した。
続いて、2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を、シャワー式現像装置にて33℃で30秒間基板に噴霧しながら現像した。こうして、感光性樹脂層の不要部(露光部)を現像除去することにより、カラーフィルター側基板上に、所望の形状にパターニングされた感光性樹脂層よりなる液晶配向制御用突起を形成した。
A proximity exposure machine (manufactured by Hitachi Electronics Engineering Co., Ltd.) is arranged so that the predetermined photomask is at a distance of 100 μm from the surface of the photosensitive resin layer, and the irradiation energy is 150 mJ / cm with an ultrahigh pressure mercury lamp through the photomask. Proximity exposure was performed at 2 .
Subsequently, a 2.38% tetramethylammonium hydroxide aqueous solution was developed by spraying it on a substrate at 33 ° C. for 30 seconds in a shower type developing device. Thus, unnecessary portions (exposed portions) of the photosensitive resin layer were developed and removed, thereby forming liquid crystal alignment control protrusions made of the photosensitive resin layer patterned in a desired shape on the color filter side substrate.

次いで、該液晶配向制御用突起が形成された基板を230℃下で30分ベークすることにより、硬化された液晶配向制御用突起を有する液晶表示装置用基板を得た。   Next, the substrate on which the liquid crystal alignment control protrusions were formed was baked at 230 ° C. for 30 minutes to obtain a liquid crystal display device substrate having a cured liquid crystal alignment control protrusion.

−ポジ型感光性樹脂層用塗布液処方−
・ポジ型レジスト液(富士フイルムエレクトロニクスマテリアルズ(株)製FH−2413F) ・・・ 53.3部
・メチルエチルケトン ・・・ 46.7部
・メガファックF−780F(大日本インキ化学工業(株)製) ・・・ 0.04部
-Coating formulation for positive photosensitive resin layer-
・ Positive type resist solution (FH-2413F manufactured by FUJIFILM Electronics Materials Co., Ltd.) ・ ・ ・ 53.3 parts ・ Methyl ethyl ketone ・ ・ ・ 46.7 parts ・ Megafac F-780F (Dainippon Ink Chemical Co., Ltd.) Made) ... 0.04 part

<液晶表示装置の作製>
上記で得られた液晶表示装置用基板上に更にポリイミドよりなる配向膜を設けた。
その後、カラーフィルタの画素群を取り囲むように周囲に設けられたブラックマトリックス外枠に相当する位置にエポキシ樹脂のシール剤を印刷すると共に、MVAモード用液晶を滴下し、対向基板と貼り合わせた後、貼り合わされた基板を熱処理してシール剤を硬化させた。このようにして得た液晶セルの両面に、(株)サンリツ製の偏光板HLC2−2518を貼り付けた。次いで、3波長冷陰極管光源(東芝ライテック(株)製FWL18EX−N)のバックライトを構成し、前記偏光板が設けられた液晶セルの背面となる側に配置し、液晶表示装置とした。
<Production of liquid crystal display device>
An alignment film made of polyimide was further provided on the liquid crystal display substrate obtained above.
After that, an epoxy resin sealant is printed at a position corresponding to a black matrix outer frame provided around the pixel group of the color filter, and MVA mode liquid crystal is dropped and bonded to the counter substrate. The bonded substrate was heat treated to cure the sealant. A polarizing plate HLC2-2518 manufactured by Sanritsu Co., Ltd. was attached to both surfaces of the liquid crystal cell thus obtained. Next, a backlight of a three-wavelength cold-cathode tube light source (FWL18EX-N manufactured by Toshiba Lighting & Technology Co., Ltd.) was constructed and placed on the side of the liquid crystal cell on which the polarizing plate was provided to obtain a liquid crystal display device.

<評価>
−表示ムラ−
得られた液晶表示装置1〜4をグレイのテスト信号を入力させた時に、目視及びルーペにて観察し、ムラの発生の有無を確認し、以下の基準に従い判断した。
A:まったくムラが見られない(非常に良い)
B:ガラス基板の縁部分にかすかにムラが見られるが、表示部に問題なし(良い)
C:表示部にかすかにムラが見られるが実用レベル(普通)
D:表示部にムラがある(やや悪い)
E:表示部に強いムラがある(非常に悪い)
<Evaluation>
-Display unevenness-
When the obtained liquid crystal display devices 1 to 4 were inputted with a gray test signal, they were observed visually and with a magnifying glass to check for the occurrence of unevenness, and judged according to the following criteria.
A: Unevenness is not seen at all (very good)
B: Slight unevenness is observed on the edge of the glass substrate, but there is no problem in the display (good)
C: Slight unevenness on the display, but practical level (normal)
D: Display is uneven (somewhat bad)
E: Strong unevenness in display (very bad)

−白抜け−
基板と厚さ方向画素形成側から光学顕微鏡で観察し、白抜けについて評価した。白抜けについては、画素内にインクが付着していない箇所があるか観察すると共に、隔壁上面にインクが残っているか観察した。
白抜けの観察は、画素内の、隔壁側に凸な角の任意の100点について行い、白抜けが確認できる画素の数を数えた。5個以下であれば実用レベルである。
-White-
Observation from the substrate and the pixel forming side in the thickness direction was performed with an optical microscope, and white spots were evaluated. As for white spots, it was observed whether there was a portion of the pixel where no ink was adhered, and whether ink remained on the upper surface of the partition wall was observed.
The white spots were observed at arbitrary 100 points in the pixel with convex corners toward the partition wall, and the number of pixels where white spots could be confirmed was counted. If it is 5 or less, it is a practical level.

Figure 2007163689
Figure 2007163689

評価結果を表10に示す。
表10からわかるように、本発明のカラーフィルター(実施例1〜12)は白抜けが無いか、あっても実用レベルであり、また、該カラーフィルターを用いて作製した液晶表示装置では、表示ムラが無いか、あっても実用レベルであった。
一方、光重合性遮光層上に酸素遮断層を設けず、かつ光重合性遮光層を大気下で露光することにより隔壁を形成したカラーフィルター(比較例1)については、白抜けが発生し、該カラーフィルターを用いて作製した液晶表示装置では、強い表示ムラが発生した。
Table 10 shows the evaluation results.
As can be seen from Table 10, the color filters of the present invention (Examples 1 to 12) have no white spots or are at a practical level, and a liquid crystal display device manufactured using the color filters has a display function. Even if there was no unevenness, it was at a practical level.
On the other hand, with respect to the color filter (Comparative Example 1) in which the oxygen-blocking layer is not provided on the photopolymerizable light-shielding layer and the partition wall is formed by exposing the photopolymerizable light-shielding layer in the atmosphere, white spots occur. In the liquid crystal display device manufactured using the color filter, strong display unevenness occurred.

Claims (9)

基板上に遮光性を有する隔壁を形成し、該隔壁により区切られた凹部に、インクジェット方式によってR、G、Bの各色のインクを付与することにより着色層を形成するカラーフィルターの製造方法であって、前記隔壁が、光重合性遮光層を貧酸素条件下で露光することにより形成され、前記インクが、着色剤、重合性化合物および重合開始剤を含み、かつインク中の溶剤量が50質量%以下であることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。   This is a method for producing a color filter, in which a partition having light-shielding properties is formed on a substrate, and a colored layer is formed by applying inks of R, G, and B colors to the recesses partitioned by the partition by an inkjet method. The partition is formed by exposing the photopolymerizable light-shielding layer under poor oxygen conditions, the ink contains a colorant, a polymerizable compound, and a polymerization initiator, and the amount of solvent in the ink is 50% by mass. % Or less, a method for producing a color filter. 前記貧酸素条件が、減圧若しくは不活性気体の充填により、酸素分圧を大気1気圧における酸素分圧より低下させた条件であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。   2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the poor oxygen condition is a condition in which an oxygen partial pressure is lowered from an oxygen partial pressure in an atmospheric pressure of 1 atmosphere by reducing pressure or filling with an inert gas. 前記貧酸素条件が、光重合性遮光層上に酸素遮断層が形成された条件であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the poor oxygen condition is a condition in which an oxygen blocking layer is formed on a photopolymerizable light blocking layer. 前記貧酸素条件が、減圧若しくは不活性気体の充填により、酸素分圧を大気1気圧における酸素分圧より低下させ、かつ、光重合性遮光層上に酸素遮断層が形成された条件であることを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルターの製造方法。   The poor oxygen condition is a condition in which the partial pressure of oxygen is reduced from the partial pressure of oxygen at atmospheric pressure by reducing the pressure or filling with an inert gas, and an oxygen blocking layer is formed on the photopolymerizable light shielding layer. The method for producing a color filter according to claim 1. 前記光重合性遮光層が少なくとも遮光剤、重合性化合物および重合開始剤を含有してなることを特徴とする請求項1〜4のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the photopolymerizable light-shielding layer contains at least a light-shielding agent, a polymerizable compound, and a polymerization initiator. 前記隔壁の高さが1〜20μmであることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a height of the partition wall is 1 to 20 μm. 前記インクがラジカル重合性組成物であることを特徴とする請求項1〜6のいずれか1項に記載のカラーフィルターの製造方法。   The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the ink is a radically polymerizable composition. 請求項1〜7のいずれか1項に記載の製造方法で製造されたことを特徴とするカラーフィルター。   A color filter manufactured by the manufacturing method according to claim 1. 請求項8に記載のカラーフィルターを有することを特徴とする液晶表示装置。   A liquid crystal display device comprising the color filter according to claim 8.
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