JP2007155965A - Variable wavelength optical filter - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To enable low voltage driving since a selection characteristic of a filter is excellent. <P>SOLUTION: A movable mirror 32 is arranged inside holes 31a to 31d formed on a second substrate 31 and a mirror driving means has three sets of driving mechanisms provided around the movable mirror 32 at an equal distance, and each of the three driving mechanisms comprises: a pair of axes 42 and 43 which are orthogonal to the line extending from the center of the mirror 32 to the outer fringe of the second substrate 31, extend straightly inward from respectively different points on the outer fringe of the holes 31a to 31d, and are freely torsionably deformable in the longitudinal direction; a turning disk 41 arranged in the holes 31a to 31d, of which the outer fringe is connected to the end of the pair of axes 42 and 43 and is supported freely turnably around the axes; a flexible hinge 35 which connects the outer fringe of the movable mirror 32 and one end side of the turning disk 41; and electrodes 46 and 49 for giving the turning disk 41 turning force around the axes 42 and 43 by applying an electric voltage between the other end side of the turning disk 41 and the outer fringe of the second substrate 31. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、平行に対向する2つのミラーの距離を変化させてミラー間を透過する光の波長を可変させるファブリペロー型の可変波長光フィルタにおいて、ミラー変形による選択特性の劣化が少なく、低い駆動電圧で波長を大きく変化させるための技術に関する。   The present invention is a Fabry-Perot type variable wavelength optical filter that changes the wavelength of light transmitted between mirrors by changing the distance between two mirrors facing each other in parallel. The present invention relates to a technique for greatly changing a wavelength by voltage.

波長可変光フィルタとして、平行に対向する2つのミラーの距離を変化させてミラー間を透過する光の波長を可変させるファブリペロー型(キャビティ型)の光フィルタが知られており、この光フィルタとして半導体基板等に対するエッチング技術で構成した所謂MEMS構造のものが実現されている。   As a wavelength tunable optical filter, a Fabry-Perot type (cavity type) optical filter that changes the wavelength of light transmitted between mirrors by changing the distance between two mirrors facing each other in parallel is known. A so-called MEMS structure constituted by an etching technique for a semiconductor substrate or the like is realized.

図10は、従来のMEMS構造の光フィルタの断面構造を示ものである。この光フィルタは、透光性を有する第1基板1と第2基板10とをスペーサ9を挟んで重ね合わせた構造を有しており、第1基板1には、下面側中央に形成された高反射率のHR膜3と、その反対面側に形成された低反射率のAR膜4とにより固定ミラー2が形成されている。また、このHR膜3の外側には複数の電極5が設けられている。なお、ここでは第1基板1を非導電性とするが、導電性の基板の場合には、非導電性のHR膜3を大きく形成し、その表面外縁に複数の電極5を設けてもよい。   FIG. 10 shows a cross-sectional structure of a conventional MEMS structure optical filter. This optical filter has a structure in which a transparent first substrate 1 and a second substrate 10 are overlapped with a spacer 9 interposed therebetween, and is formed on the lower surface side center of the first substrate 1. The fixed mirror 2 is formed by the high reflectivity HR film 3 and the low reflectivity AR film 4 formed on the opposite side. A plurality of electrodes 5 are provided outside the HR film 3. Here, the first substrate 1 is made non-conductive. However, in the case of a conductive substrate, the non-conductive HR film 3 may be formed large and a plurality of electrodes 5 may be provided on the outer edge of the surface. .

一方、第2基板10は導電性を有し、その中央には、外側をエッチング処理により除去されて形成された可動ミラー12が、可撓性を有する複数のヒンジ11により上下動可能な状態で支持されている。   On the other hand, the second substrate 10 has conductivity, and a movable mirror 12 formed by removing the outer side by an etching process at the center is movable up and down by a plurality of flexible hinges 11. It is supported.

可動ミラー12は、第2基板10の上面側に形成されたHR膜13とその反対面側に形成されたAR膜14とにより構成され、第1基板1と第2基板10とが一体的に重ね合わされたとき、固定ミラー2に対してほぼスペーサ9の厚さ分離れた状態で平行に支持されている。   The movable mirror 12 is composed of an HR film 13 formed on the upper surface side of the second substrate 10 and an AR film 14 formed on the opposite surface side, and the first substrate 1 and the second substrate 10 are integrally formed. When overlaid, the spacer 9 is supported in parallel with the spacer 9 being separated in thickness.

このような構造の光フィルタで、図10の(a)のように、第2基板10を基準として、第1基板1の各電極5に電圧が印加されていない(V=0)の場合、上記したように、可動ミラー12は固定ミラー2からスペーサ9の厚さ分離れた位置で平行に支持されており、この状態で例えば可動ミラー12の下面側から広帯域光P0が入力されると、ミラー間の距離によって決まる波長間隔の光P1が固定ミラー2側から出射される。   In the optical filter having such a structure, as shown in FIG. 10A, when no voltage is applied to each electrode 5 of the first substrate 1 with respect to the second substrate 10 (V = 0), As described above, the movable mirror 12 is supported in parallel at the position where the thickness of the spacer 9 is separated from the fixed mirror 2, and in this state, for example, when broadband light P0 is input from the lower surface side of the movable mirror 12, Light P1 having a wavelength interval determined by the distance between the mirrors is emitted from the fixed mirror 2 side.

また、図10の(b)のように、第1基板1の各電極5に絶対値がゼロボルトより大きな電圧Vを印加すると、各電極5と可動ミラー12との間に静電的な引力が生じて、可動ミラー12が固定ミラー2側に近づき、電圧を印加しない場合に比べて狭い波長間隔の光P2が固定ミラー2側から出射されることになる。   As shown in FIG. 10B, when a voltage V having an absolute value greater than zero volts is applied to each electrode 5 of the first substrate 1, an electrostatic attractive force is generated between each electrode 5 and the movable mirror 12. As a result, the movable mirror 12 approaches the fixed mirror 2 side, and light P2 having a narrower wavelength interval is emitted from the fixed mirror 2 side than when no voltage is applied.

したがって、電極5に印加する電圧を可変することで、ミラー間を通過する光の波長を変化させることができる。   Therefore, by changing the voltage applied to the electrode 5, the wavelength of light passing between the mirrors can be changed.

なお、上記構造の光フィルタは、例えば、次の特許文献1に開示されている。   In addition, the optical filter of the said structure is disclosed by the following patent document 1, for example.

米国特許第6373632号明細書US Pat. No. 6,373,632

しかしながら、上記構造の光フィルタでは、可動ミラー12自体に力を加えているため、その厚さが薄い場合、可動ミラー12自体に歪みが発生して、平行度が悪くなり、フィルタとしての選択特性が劣化するという問題があった。   However, in the optical filter having the above structure, since force is applied to the movable mirror 12 itself, when the thickness is thin, the movable mirror 12 itself is distorted, the parallelism is deteriorated, and the selection characteristic as a filter is reduced. There was a problem of deterioration.

また、電極5と可動ミラー12との間に印加した電圧により、可動ミラー12を移動させているので、大きな移動距離を得るためには、非常に高い直流電圧が必要となり、製造コストが高くなるという問題があった。   Further, since the movable mirror 12 is moved by the voltage applied between the electrode 5 and the movable mirror 12, a very high DC voltage is required to obtain a large movement distance, resulting in an increase in manufacturing cost. There was a problem.

本発明は、これらの問題を解決し、フィルタの選択特性が良好で、低電圧駆動が可能な可変波長光フィルタを提供することを目的としている。   An object of the present invention is to solve these problems, and to provide a variable wavelength optical filter that has good filter selection characteristics and can be driven at a low voltage.

前記目的を達成するために、本発明の請求項1の可変波長光フィルタは、
透光性を有する第1基板(21)と、
前記第1基板に形成され、その一面側が高反射率に形成された固定ミラー(22)と、
透光性を有し、前記第1基板に平行に対向する状態で配置された第2基板(31)と、
前記第2基板に形成され、その一面側が高反射率に形成され、該高反射率面を前記固定ミラーの高反射率面に対向させた可動ミラー(32)と、
前記可動ミラーを前記固定ミラーとの距離が変化する方向に移動させ、前記固定ミラーと前記可動ミラーの間を透過する光の波長を変化させるミラー駆動手段とを有する波長可変光フィルタにおいて、
前記可動ミラーは、前記第2基板に形成された穴(31a〜31d)の内側に配置され、
前記ミラー駆動手段は、
前記可動ミラーの中心から前記第2基板の外縁に向かう線に直交し、且つ前記穴の外縁の異なるそれぞれの位置から一直線をなすように内方へ延び、長さ方向に捩れ変形自在な一対の軸(42、43)と、
前記穴の内部に配置され、前記一対の軸の先端にその外縁が連結されて該一対の軸を中心に回動自在に支持された回動板(41)と、
前記可動ミラーの外縁から前記回動板の一端側との間を連結する可撓性を有するヒンジ(35)と、
前記回動板の他端側と前記第2基板の外縁との間に電圧を印加して、前記回動板に前記軸を中心とする回動力を与えるための電極(46、49)とを一組の駆動機構とし、
当該駆動機構が前記可動ミラーの周りに等間隔で3組以上設けられていることを特徴としている。
In order to achieve the above object, the variable wavelength optical filter according to claim 1 of the present invention comprises:
A first substrate (21) having translucency;
A fixed mirror (22) formed on the first substrate and having one surface side formed with high reflectivity;
A second substrate (31) having translucency and disposed in a state of facing the first substrate in parallel;
A movable mirror (32) formed on the second substrate, the one side of which is formed with high reflectivity, and the high reflectivity surface is opposed to the high reflectivity surface of the fixed mirror;
In the wavelength tunable optical filter having a mirror driving unit that moves the movable mirror in a direction in which the distance to the fixed mirror changes, and changes a wavelength of light transmitted between the fixed mirror and the movable mirror,
The movable mirror is disposed inside holes (31a to 31d) formed in the second substrate,
The mirror driving means includes
A pair of pairs that are orthogonal to a line from the center of the movable mirror toward the outer edge of the second substrate and extend inward to form a straight line from different positions of the outer edge of the hole, and are twistable in the longitudinal direction. Shafts (42, 43);
A rotating plate (41) disposed inside the hole, the outer edge of which is connected to the distal ends of the pair of shafts, and is supported rotatably about the pair of shafts;
A flexible hinge (35) for connecting between the outer edge of the movable mirror and one end of the rotating plate;
Electrodes (46, 49) for applying a voltage between the other end side of the rotating plate and the outer edge of the second substrate to apply a turning force about the axis to the rotating plate. A set of drive mechanisms,
Three or more sets of the drive mechanisms are provided at equal intervals around the movable mirror.

また、本発明の請求項2記載の可変波長光フィルタは、請求項1記載の可変波長光フィルタにおいて、
前記固定ミラーの前記一面側の反対面側が低反射率に形成され、前記可動ミラーの前記一面側の反対面側が低反射率に形成されていることを特徴としている。
The variable wavelength optical filter according to claim 2 of the present invention is the variable wavelength optical filter according to claim 1,
The opposite surface side of the one surface side of the fixed mirror is formed with a low reflectance, and the opposite surface side of the one surface side of the movable mirror is formed with a low reflectance.

また、本発明の請求項3記載の可変波長光フィルタは、請求項1または請求項2記載の可変波長光フィルタにおいて、前記可動ミラーの外縁部にスリット(51A〜51C)が形成されている。   The variable wavelength optical filter according to claim 3 of the present invention is the variable wavelength optical filter according to claim 1 or 2, wherein slits (51A to 51C) are formed at outer edges of the movable mirror.

このように本発明の波長可変光フィルタは、可動ミラー自身に直接力を与えずに、回動板に与えた回動力を、ヒンジを介して可動ミラーに間接的に伝達しているので、可動ミラーに歪みが生じにくく、良好な選択特性を維持できる。   As described above, the wavelength tunable optical filter of the present invention transmits the rotational force applied to the rotating plate indirectly to the movable mirror via the hinge without directly applying force to the movable mirror itself. The mirror is less likely to be distorted, and good selection characteristics can be maintained.

また、回動板の回動中心を電極側に近づけることで、先端側の移動量を大きくすることができ、低電圧駆動で大きな波長変化を与えることができる。   Further, by bringing the rotation center of the rotation plate closer to the electrode side, the amount of movement on the tip side can be increased, and a large wavelength change can be given by low voltage driving.

また、可動ミラーの外縁部にスリットを形成したことにより、AR膜やHR膜の蒸着等によるミラーの反りを防止でき、より良好な選択特性を得ることができる。   In addition, since the slit is formed in the outer edge portion of the movable mirror, it is possible to prevent the mirror from warping due to the deposition of the AR film or the HR film, and to obtain better selection characteristics.

以下、図面に基づいて本発明の実施の形態を説明する。
図1〜図6は、本発明を適用したMEMS構造のファブリペロー型の可変波長光フィルタ20(以下、単に光フィルタ20と記す)の構造を示している。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
1 to 6 show a structure of a Fabry-Perot variable wavelength optical filter 20 (hereinafter simply referred to as an optical filter 20) having a MEMS structure to which the present invention is applied.

これらの図において、光フィルタ20は、外形が同一(この例では正方形)で透光性を有する第1基板21と第2基板31とを重ね合わせた構造を有している。   In these drawings, the optical filter 20 has a structure in which a first substrate 21 and a second substrate 31 having the same outer shape (in this example, a square) and having translucency are overlapped.

第1基板21および第2基板31は、酸化シリコン(SiO)からなる絶縁層101とシリコン(Si)からなる導電層102とを有する2層構造のSOI基板に対するエッチング処理および蒸着処理により形成されている。 The first substrate 21 and the second substrate 31 are formed by etching and vapor deposition on a two-layer SOI substrate having an insulating layer 101 made of silicon oxide (SiO 2 ) and a conductive layer 102 made of silicon (Si). ing.

第1基板21の中央部には固定ミラー22が形成されている。固定ミラー22は、第1基板21の表面側(第2基板31側)でエッチング処理により円形に残された導電層102と、その表面に円形に蒸着形成された例えば誘電体多層膜等からなる高反射膜23(以下、HR膜23と記す)と、このHR膜23に重なり合う位置で導電層102の裏面側に円形に蒸着形成された低反射率膜24(以下、AR膜24と記す)とにより構成されている。   A fixed mirror 22 is formed at the center of the first substrate 21. The fixed mirror 22 is composed of a conductive layer 102 left circularly by etching on the surface side (second substrate 31 side) of the first substrate 21, and a dielectric multilayer film or the like deposited on the surface in a circular shape. A highly reflective film 23 (hereinafter referred to as HR film 23) and a low reflectivity film 24 (hereinafter referred to as AR film 24) formed by vapor deposition on the back side of the conductive layer 102 at a position overlapping the HR film 23. It is comprised by.

なお、図4〜図6に示しているように、第1基板21の絶縁層101のうち、固定ミラー22が形成されている中心部分はエッチング処理により円形に除去されて穴21aを形成している。   As shown in FIGS. 4 to 6, the central portion of the insulating layer 101 of the first substrate 21 where the fixed mirror 22 is formed is removed in a circular shape by etching to form a hole 21 a. Yes.

一方、第2基板31には、可動ミラー32および可動ミラー32を動かすための機構が一体的に形成されている。   On the other hand, the second substrate 31 is integrally formed with a movable mirror 32 and a mechanism for moving the movable mirror 32.

即ち、第2基板31の中央部には、第1基板21と重なりあったときに固定ミラー22と同心の円形状に形成された円形穴31aと、その円形穴31aを中心にして第2基板31の外縁部まで放射状に且つ長方形状に延びた複数(この例では3つ)の矩形穴31b〜31dが形成されている。各矩形穴31b〜31dは、円形穴31aの中心に対して120度の間隔をあけて形成されている。   That is, in the center of the second substrate 31, a circular hole 31a formed concentrically with the fixed mirror 22 when overlapped with the first substrate 21, and the second substrate around the circular hole 31a. A plurality (three in this example) of rectangular holes 31b to 31d extending radially and rectangularly to the outer edge of 31 are formed. The rectangular holes 31b to 31d are formed with an interval of 120 degrees with respect to the center of the circular hole 31a.

円形穴31aの内側には円形の可動ミラー32が同心状に配置されている。可動ミラー32は、エッチング処理により円形に残された導電層102と、その下面側(第1基板21側)に円形に蒸着されたHR膜33と、その反対面に円形に蒸着されたAR膜34とにより構成されている。   A circular movable mirror 32 is concentrically disposed inside the circular hole 31a. The movable mirror 32 includes a conductive layer 102 left in a circle by the etching process, an HR film 33 deposited in a circle on the lower surface side (first substrate 21 side), and an AR film deposited in a circle on the opposite surface. 34.

可動ミラー32の外周には各矩形穴31b〜31dの方向に延び、長さ方向およびそれと直交する方向に可撓性を有するヒンジ35A〜35Cの一端側が連結されている。   Extending in the direction of the respective rectangular holes 31b to 31d, one end side of the hinges 35A to 35C having flexibility is connected to the outer periphery of the movable mirror 32 in the length direction and the direction orthogonal thereto.

各ヒンジ35A〜35Cの他端側は、各矩形穴31b〜31dの中央部に配置された回動板41A〜41Cの先端にそれぞれ連結されている。   The other end sides of the hinges 35A to 35C are connected to the tips of the rotation plates 41A to 41C arranged at the central portions of the rectangular holes 31b to 31d, respectively.

各回動板41A〜41Cは、矩形穴31b〜31dと中心線が一致する長方形状に形成され、その先端側の中央にヒンジ35A〜35Cの一端側が連結されている。   Each of the rotating plates 41A to 41C is formed in a rectangular shape whose center line coincides with the rectangular holes 31b to 31d, and one end side of the hinges 35A to 35C is connected to the center of the tip side.

また、各回動板41A〜41Cの両側縁は、可動ミラー32の中心から第2基板31の外縁に向かう線に直交し、且つ矩形穴31b〜31dの外縁の異なるそれぞれの位置(矩形穴31b〜31dの両側縁)から一直線をなすように内方へ延び、その長さ方向に捩れ変形自在な一対の軸42A、43A、42B、43B、42C、43Cの先端に支持され、各軸42A〜42C、43A〜43Cを中心に回動できるようになっている。   Further, both side edges of each of the rotating plates 41A to 41C are orthogonal to a line from the center of the movable mirror 32 toward the outer edge of the second substrate 31, and different positions of the outer edges of the rectangular holes 31b to 31d (rectangular holes 31b to 31b). 31d) is supported by the tip of a pair of shafts 42A, 43A, 42B, 43B, 42C, and 43C that extend inward so as to form a straight line and can be torsionally deformed in the length direction. , 43A to 43C can be turned around.

各回動板41A〜41Cの後端には電極部45A〜45Cが形成されている。
電極部45A〜45Cには、矩形穴31b〜31dの奥端方向へ櫛歯状に間隔をあけて平行に延びた複数本の電極46が形成されている。なお、ここでは図示する都合上電極46を3本にしているが、実際にはより多く設けることが望ましく、これは後述の電極49についても同様である。
Electrode portions 45A to 45C are formed at the rear ends of the rotating plates 41A to 41C.
In the electrode portions 45A to 45C, a plurality of electrodes 46 extending in parallel at intervals in a comb shape toward the back end direction of the rectangular holes 31b to 31d are formed. Here, for convenience of illustration, the number of the electrodes 46 is three, but in reality, it is desirable to provide more, and this is the same for the electrode 49 described later.

一方、第2基板31の導電層102の表面側で各矩形穴31b〜31dの奥端部近傍の位置には、絶縁板47A〜47Cを介して導電性を有する電極板48A〜48Cが設けられている。   On the other hand, on the surface side of the conductive layer 102 of the second substrate 31, electrode plates 48A to 48C having conductivity are provided via insulating plates 47A to 47C at positions near the back end portions of the rectangular holes 31b to 31d. ing.

各電極板48A〜48Cには、回動板41A〜41Cの各電極46の隙間に入り込む幅と間隔で回動板41A〜41C方向に櫛歯状に延びた複数本の電極49がそれぞれ形成されている。   Each of the electrode plates 48A to 48C is formed with a plurality of electrodes 49 extending in a comb-like shape in the direction of the rotation plates 41A to 41C with a width and interval that enter the gaps of the electrodes 46 of the rotation plates 41A to 41C. ing.

ここで、可動ミラー32、ヒンジ35A〜35C、回動板41A〜41C、軸42A〜42C、43A〜43Cおよび電極部45A〜45Cは、第2基板31の導電層102で形成されており、電極板48A〜48Cは、この導電層102から絶縁板47A〜47Cの厚さ分だけ高い位置で絶縁された状態になっている。   Here, the movable mirror 32, the hinges 35A to 35C, the rotating plates 41A to 41C, the shafts 42A to 42C, 43A to 43C, and the electrode portions 45A to 45C are formed of the conductive layer 102 of the second substrate 31, and the electrodes The plates 48A to 48C are in a state of being insulated from the conductive layer 102 at positions higher by the thickness of the insulating plates 47A to 47C.

なお、上記構造の光フィルタ20では、ヒンジ35A〜35C、回動板41A〜41C、軸42A〜42C、43A〜43C、電極部45A〜45C、電極板48A〜48Cおよび制御回路60によりミラー駆動手段が構成され、制御回路60を除く部分が駆動機構となる。   In the optical filter 20 having the above structure, mirrors are driven by the hinges 35A to 35C, the rotating plates 41A to 41C, the shafts 42A to 42C, 43A to 43C, the electrode portions 45A to 45C, the electrode plates 48A to 48C, and the control circuit 60. And the part excluding the control circuit 60 is a drive mechanism.

このように構成された光フィルタ20では、図3に示しているように、制御回路60から、第2基板31の導電層102を基準として、各電極板48A〜48Cに直流電圧Va〜Vcを印加することで、固定ミラー22と可動ミラー32の距離を変化させて、指定された選択波長情報に対応した選択特性を与えることができる。   In the optical filter 20 configured as described above, as shown in FIG. 3, the control circuit 60 applies DC voltages Va to Vc to the electrode plates 48A to 48C with reference to the conductive layer 102 of the second substrate 31. By applying, the distance between the fixed mirror 22 and the movable mirror 32 can be changed, and a selection characteristic corresponding to the designated selection wavelength information can be given.

即ち、各電極板48A〜48Cに直流電圧を印加しない場合には、図7の(a)に示しているように、固定ミラー22に対する可動ミラー32の距離は、HR膜およびAR膜の厚さを無視すると、第2基板31の絶縁層101の厚さから導電層102の厚さを減じたものとなり、この状態で両ミラーは設計上平行状態となっており、この状態で、固定ミラー22の下面側から広帯域光P0が入射されたとき、可動ミラー32から出射される光P1のスペクトラムは、図8の(a)のように、固定ミラー22と可動ミラー32の距離によって決まる間隔Δλの各波長λ1、λ2、…でピークとなる。   That is, when no DC voltage is applied to each of the electrode plates 48A to 48C, as shown in FIG. 7A, the distance of the movable mirror 32 to the fixed mirror 22 is the thickness of the HR film and the AR film. Is neglected, the thickness of the conductive layer 102 is subtracted from the thickness of the insulating layer 101 of the second substrate 31. In this state, both mirrors are in a parallel state by design, and in this state, the fixed mirror 22 The spectrum of the light P1 emitted from the movable mirror 32 when the broadband light P0 is incident from the lower surface side of FIG. 8 is an interval Δλ determined by the distance between the fixed mirror 22 and the movable mirror 32, as shown in FIG. It becomes a peak at each wavelength λ1, λ2,.

そして、例えば、各電極板48A〜48Cに絶対値がゼロボルトより大きい同一電圧を与えることで、各電極板48A〜48Cの電極49と回動板41A〜41Cの電極46との間に静電的な引力が生じて、図7の(b)のように、各回動板41A〜41Cが、軸42A〜42C、43A〜43Cを中心に、その先端側が第1基板21に近づく方向へ回動する。   For example, by applying the same voltage having an absolute value greater than zero volts to each of the electrode plates 48A to 48C, the electrodes 49A to 48C and the electrodes 46 of the rotating plates 41A to 41C are electrostatically connected. As shown in FIG. 7B, each of the rotating plates 41 </ b> A to 41 </ b> C rotates about the shafts 42 </ b> A to 42 </ b> C and 43 </ b> A to 43 </ b> C in a direction in which the tip side approaches the first substrate 21. .

このため、各回動板41A〜41Cの先端側にヒンジ35A〜35Cを介して支持された可動ミラー32は固定ミラー22側に平行状態を維持したまま移動することになる。このとき、各回動板41A〜41Cの先端から可動ミラー32の縁部までの距離は大きくなるが、その間に生じる張力により各ヒンジ35A〜35Cが伸長するので、可動ミラー32は円滑に移動し、電極46、49の間に生じる引力と、軸42A〜42C、43A〜43C、ヒンジ35A〜35Cのバネ定数に依存した復帰力とが釣り合った状態で停止する。   For this reason, the movable mirror 32 supported via the hinges 35A to 35C on the front end sides of the respective rotating plates 41A to 41C moves while maintaining a parallel state on the fixed mirror 22 side. At this time, the distance from the tip of each of the rotating plates 41A to 41C to the edge of the movable mirror 32 increases, but the hinges 35A to 35C extend due to the tension generated therebetween, so that the movable mirror 32 moves smoothly, It stops in a state where the attractive force generated between the electrodes 46 and 49 and the return force depending on the spring constants of the shafts 42A to 42C, 43A to 43C and the hinges 35A to 35C are balanced.

このように固定ミラー22と可動ミラー32の距離が小さくなった状態で、固定ミラー22の下面側から広帯域光P0が入射されたとき、可動ミラー32から出射される光P2のスペクトラムは、図8の(b)のように、Δλより小さい間隔Δλ′の各波長λ1′、λ2′、…でピークとなる。   When the broadband light P0 is incident from the lower surface side of the fixed mirror 22 in a state where the distance between the fixed mirror 22 and the movable mirror 32 is thus reduced, the spectrum of the light P2 emitted from the movable mirror 32 is as shown in FIG. As shown in (b), peaks occur at the wavelengths λ1 ′, λ2 ′,... At intervals Δλ ′ smaller than Δλ.

また、この構造の光フィルタ20では、可動ミラー32自身に直接力を与えずに、回動板41A〜41Cに与えた回動力を、ヒンジ35A〜35Cを介して可動ミラー32に伝達しているので、可動ミラー32に歪みが生じにくく、良好な選択特性を維持できる。   Further, in the optical filter 20 having this structure, the rotational force given to the rotating plates 41A to 41C is transmitted to the movable mirror 32 via the hinges 35A to 35C without directly applying force to the movable mirror 32 itself. Therefore, the movable mirror 32 is hardly distorted, and good selection characteristics can be maintained.

さらに、回動板41A〜41Cの回動中心を電極側に近づけることで、先端側の移動量を大きくすることができ、低電圧駆動で大きな波長変化を与えることができる。   Furthermore, by moving the rotation center of the rotation plates 41A to 41C closer to the electrode side, the amount of movement on the tip side can be increased, and a large wavelength change can be given by low voltage driving.

また、固定ミラー22に対する可動ミラー32の平行度は、各ヒンジ35A〜35Cおよび軸42A〜42C、43A〜43Cのバネ定数のバラツキにより多少変化するが、その場合には、制御回路60が各電極板48A〜48Cに与える直流電圧Va〜Vcを指定された選択波長に応じて微調整することで対応できる。   In addition, the parallelism of the movable mirror 32 with respect to the fixed mirror 22 slightly changes due to variations in the spring constants of the hinges 35A to 35C and the shafts 42A to 42C and 43A to 43C. This can be dealt with by finely adjusting the DC voltages Va to Vc applied to the plates 48A to 48C in accordance with the designated selection wavelength.

なお、この実施形態では、可動ミラー32をヒンジ35A〜35Cを介して3つの回動板41A〜41Cで3方から支持していたが、可動ミラー32の周りに、回動板を含む駆動機構を4組以上等間隔に設けてもよい。   In this embodiment, the movable mirror 32 is supported from three directions by the three rotary plates 41A to 41C via the hinges 35A to 35C. However, the drive mechanism including the rotary plate around the movable mirror 32. Four or more sets may be provided at equal intervals.

また、この実施形態では、固定ミラー22に対して可動ミラー32を近づける方向に回動板41を駆動していたが、電極板48を第2基板31の下面側(第1基板21側)に配置することで、固定ミラー22に対して可動ミラー32を遠ざける方向に回動板41を駆動させることができる。   In this embodiment, the rotating plate 41 is driven in the direction in which the movable mirror 32 is brought closer to the fixed mirror 22, but the electrode plate 48 is placed on the lower surface side (first substrate 21 side) of the second substrate 31. By disposing, the rotating plate 41 can be driven in a direction to move the movable mirror 32 away from the fixed mirror 22.

また、可動ミラー32の表面にHR膜やAR膜を蒸着した場合に、その外縁部に反りが発生して、平行度が低下する場合があるが、このような場合には、図9に示すように、可動ミラー32の外縁部にスリット51A〜51Cを形成することで、ミラーの反りを防止し、より良好な選択特性を得ることができる。   Further, when an HR film or an AR film is deposited on the surface of the movable mirror 32, the outer edge portion may be warped and the parallelism may be lowered. In such a case, as shown in FIG. Thus, by forming the slits 51 </ b> A to 51 </ b> C at the outer edge portion of the movable mirror 32, it is possible to prevent the mirror from warping and to obtain better selection characteristics.

また、各ミラー22、32の形状や第2基板31の穴31a〜31dの形状については上記実施形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。   Further, the shape of the mirrors 22 and 32 and the shape of the holes 31a to 31d of the second substrate 31 are not limited to the above embodiment, and various modifications can be made.

また、以上の説明においては、固定ミラー22と可動ミラー32のHR膜が形成された面の反対側の面にAR膜が形成される構成としたが、これに限定されるものではなく、AR膜が形成されていない構成であってもよい。この構成であっても、入射される広帯域光のスペクトラムのレベルが多少減少するのみであり、良好な選択特性を得ることができる。   In the above description, the AR film is formed on the surface of the fixed mirror 22 and the movable mirror 32 opposite to the surface on which the HR film is formed. However, the present invention is not limited to this. The structure in which the film | membrane is not formed may be sufficient. Even with this configuration, the level of the spectrum of the incident broadband light is only slightly reduced, and good selection characteristics can be obtained.

本発明の実施形態の斜視図A perspective view of an embodiment of the present invention 実施形態の分解斜視図Exploded perspective view of the embodiment 実施形態の平面図Plan view of the embodiment 実施形態の背面図Back view of the embodiment 図3のA1−A2線断面図A1-A2 cross-sectional view of FIG. 図3のA1−A3線断面図A1-A3 cross-sectional view of FIG. 実施形態の動作を説明するための概略図Schematic for explaining the operation of the embodiment 実施形態の波長選択特性図Wavelength selection characteristic diagram of the embodiment 可動ミラーの外縁にスリットを設けた例を示す図The figure which shows the example which provided the slit in the outer edge of a movable mirror 従来装置の構成および動作を説明するための概略断面図Schematic cross-sectional view for explaining the configuration and operation of a conventional device

符号の説明Explanation of symbols

20……波長可変光フィルタ、21……第1基板、22……固定ミラー、23……HR膜、24……AR膜、31……第2基板、32……可動ミラー、33……HR膜、34……AR膜、35A〜35C……ヒンジ、41A〜41C……回動板、42A〜42C、43A〜43C……軸、45A〜45C……電極部、46……電極、47A〜47C……絶縁板、48A〜48C……電極板、49……電極、51A〜51C……スリット、60……制御回路   20... Tunable optical filter, 21... First substrate, 22... Fixed mirror, 23... HR film, 24... AR film, 31. Membrane, 34 ... AR membrane, 35A-35C ... Hinge, 41A-41C ... Rotating plate, 42A-42C, 43A-43C ... Shaft, 45A-45C ... Electrode section, 46 ... Electrode, 47A- 47C: Insulating plate, 48A to 48C ... Electrode plate, 49 ... Electrode, 51A to 51C ... Slit, 60 ... Control circuit

Claims (3)

透光性を有する第1基板(21)と、
前記第1基板に形成され、その一面側が高反射率に形成された固定ミラー(22)と、
透光性を有し、前記第1基板に平行に対向する状態で配置された第2基板(31)と、
前記第2基板に形成され、その一面側が高反射率に形成され、該高反射率面を前記固定ミラーの高反射率面に対向させた可動ミラー(32)と、
前記可動ミラーを前記固定ミラーとの距離が変化する方向に移動させ、前記固定ミラーと前記可動ミラーの間を透過する光の波長を変化させるミラー駆動手段とを有する波長可変光フィルタにおいて、
前記可動ミラーは、前記第2基板に形成された穴(31a〜31d)の内側に配置され、
前記ミラー駆動手段は、
前記可動ミラーの中心から前記第2基板の外縁に向かう線に直交し、且つ前記穴の外縁の異なるそれぞれの位置から一直線をなすように内方へ延び、長さ方向に捩れ変形自在な一対の軸(42、43)と、
前記穴の内部に配置され、前記一対の軸の先端にその外縁が連結されて該一対の軸を中心に回動自在に支持された回動板(41)と、
前記可動ミラーの外縁から前記回動板の一端側との間を連結する可撓性を有するヒンジ(35)と、
前記回動板の他端側と前記第2基板の外縁との間に電圧を印加して、前記回動板に前記軸を中心とする回動力を与えるための電極(46、49)とを一組の駆動機構とし、
当該駆動機構が前記可動ミラーの周りに等間隔で3組以上設けられていることを特徴とする可変波長光フィルタ。
A first substrate (21) having translucency;
A fixed mirror (22) formed on the first substrate and having one surface side formed with high reflectivity;
A second substrate (31) having translucency and disposed in a state of facing the first substrate in parallel;
A movable mirror (32) formed on the second substrate, the one side of which is formed with high reflectivity, and the high reflectivity surface is opposed to the high reflectivity surface of the fixed mirror;
In the wavelength tunable optical filter having a mirror driving unit that moves the movable mirror in a direction in which the distance to the fixed mirror changes, and changes a wavelength of light transmitted between the fixed mirror and the movable mirror,
The movable mirror is disposed inside holes (31a to 31d) formed in the second substrate,
The mirror driving means includes
A pair of pairs that are orthogonal to a line from the center of the movable mirror toward the outer edge of the second substrate and extend inward to form a straight line from different positions of the outer edge of the hole, and are twistable in the longitudinal direction. Shafts (42, 43);
A rotating plate (41) disposed inside the hole, the outer edge of which is connected to the distal ends of the pair of shafts, and is supported rotatably about the pair of shafts;
A flexible hinge (35) for connecting between the outer edge of the movable mirror and one end of the rotating plate;
Electrodes (46, 49) for applying a voltage between the other end side of the rotating plate and the outer edge of the second substrate to apply a turning force about the axis to the rotating plate. A set of drive mechanisms,
A variable wavelength optical filter, wherein three or more sets of the drive mechanisms are provided at equal intervals around the movable mirror.
前記固定ミラーの前記一面側の反対面側が低反射率に形成され、前記可動ミラーの前記一面側の反対面側が低反射率に形成されていることを特徴とする請求項1記載の可変波長光フィルタ。   2. The variable wavelength light according to claim 1, wherein an opposite surface side of the one surface side of the fixed mirror is formed with a low reflectance, and an opposite surface side of the one surface side of the movable mirror is formed with a low reflectance. filter. 前記可動ミラーの外縁部にスリット(51A〜51C)が形成されていることを特徴とする請求項1または請求項2記載の可変波長光フィルタ。   The variable wavelength optical filter according to claim 1 or 2, wherein slits (51A to 51C) are formed in an outer edge portion of the movable mirror.
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