JP2007152257A - 液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器 - Google Patents

Abstract

【課題】簡単な構造で、基板上の各画素領域の全域に機能液を確実に濡れ拡がらせることができる液滴吐出装置を提供する。
【解決手段】バンク部５０７ｂにより画成した基板Ｗ上の多数の画素領域５０７ａに対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、機能液の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッド１７に後行して基板Ｗに臨み、基板Ｗ上にガスを吹き付けて各画素領域５０７に着弾した機能液の液面を挙動させるガス吹出し口８１と、ガス吹出し口８１に連なるガス送出手段とを備えた。
【選択図】図５

Description

本発明は、バンク部により画成した基板上の多数の画素領域に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器に関するものである。

従来の液滴吐出装置は、基板に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら、前記基板上に形成した多数の画素領域に機能液を吐出・着弾させる描画手段と、基板とこれを載置するテーブルとの間に介設した振動板と、を備えている（特許文献１参照）。
多数の画素領域は親水性（親液性）を有すると共に疎水（疎液）性を有するバンク部で画成されており、振動板により基板に超音波振動を与えることにより、各画素領域に着弾した機能液（溶液）を、各画素領域の全域に満遍なく行き渡らせるようにしている。
特開２００３−１３９９３４号公報

しかしながら、このような従来の液滴吐出装置では、基板そのものを振動させる必要があり、エネルギー的に大きな振動を発生させる機構が必要であった。また、基板を振動させることで、基板の位置が変化するため、振動によってアライメントに狂いが生じないように設計するのは非常に困難である。

本発明は、簡単な構造で、基板上の各画素領域の全域に機能液を確実に濡れ拡がらせることができる液滴吐出装置および液滴吐出装置の制御方法、並びに電気光学装置の製造方法、電気光学装置および電子機器を提供することを課題としている。

本発明の液滴吐出装置は、バンク部により画成した基板上の多数の画素領域に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、機能液の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッドに後行して基板に臨み、基板上にガスを吹き付けて各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させるガス吹出し口と、ガス吹出し口に連なるガス送出手段と、を備えたことを特徴とする。

この構造によれば、機能液の吐出に伴って相対的に移動する機能液滴吐出ヘッドに後行し、機能液が着弾した各画素領域に対し、上方からガスを吹き付けると、着弾した機能液の液面が挙動し、表面張力に抗して機能液がガスの風圧により押し拡げられる。このため、機能液を各画素領域の全域に行き渡らせることができ、機能液の濡れ拡がり不足を解消することができる。また、ガス吹出し口は、基板に上方から臨むため、既存の液滴描画装置にも比較的簡単に搭載することができる。なお、この場合のガスは気体の意味であり、空気あるいは不活性ガスであることが、好ましい。

この場合、描画手段、ガス吹出し口およびガス送出手段を収容するチャンバ装置を、更に備えることが好ましい。

この構成によれば、チャンバ装置内の管理（温度およびクリーン度等）された雰囲気を、吹付けガスとして活用することができる。このため、ガスによる機能液の変質等を有効に防止することができる。

また、描画手段およびガス吹出し口を収容するチャンバルームと、送気側をチャンバルームの送気口に連結し、吸気側をチャンバルームの排気口に連通した清浄ガス供給ユニットと、を有するチャンバ装置を、更に備え、ガス送出手段は、清浄ガス供給ユニットで構成され、且つガス吹出し口は送気口に連通していることが、好ましい。

この構成によれば、清浄ガス供給ユニットからチャンバルームに供給される管理された雰囲気を、吹付けガスとして活用することができると共に、ガス送出手段を省略することができる。また、基板上に吹き付けたガスを、排気口から清浄ガス供給ユニットに戻すことにより、これを清浄化することができる。

これらの場合、ガス吹出し口と送気口とを連通するガス吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることが、好ましい。

この構成によれば、各画素領域に加える風圧を、機能液が挙動するのに十分なものであって且つ機能液がバンク部に吹き上げられることないものに、調整することができる。
なお、基板に対する吹付け時を除いて、流量調整手段あるいは流路開閉手段（開閉弁等）により、ガス吹出し口からのガスの吹出しを停止することがさらに好ましく、これによれば、吹出しガスにより機能液滴吐出ヘッドのノズルが乾燥する等の弊害を回避することができる。

これらの場合、機能液滴吐出ヘッドを挟んで機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向の前後にガス吹出し口が一対設けられていることが、好ましい。

これらの構成によれば、基板に対する機能液滴吐出ヘッドの相対的な往復動で機能液の吐出・着弾が行われる場合、往動時および復動時にそれぞれガスの吹き付けを行うことができる。

これらの場合、ガス吹出し口は、先端部に機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向に並ぶ４つの吹出しノズルを有し、４つの吹出しノズルは、相対移動方向に対しガスを、斜め前方に吹き出す前吹出しノズル、斜め後方に吹き出す後吹出しノズル、斜め左方に吹き出す左吹出しノズル、斜め右方に吹き出す後吹出しノズルから成ることが、好ましい。

この構成によれば、各画素領域に着弾した機能液に対して、様々な方向から風圧を掛けて機能液を挙動させることができ、各画素領域に着弾した機能液の量や着弾位置に関わらず、各画素領域内において機能液を均一に濡れ拡がらせることができる。

この場合、各吹出しノズルは、吹出し方向を指向する複数の風向板を有していることが、好ましい。

この構成によれば、吹付けガスを、各吹出しノズルから均一に吹き出すことができる。

これらの場合、ガス吹出し口は、基板がセットされるセットテーブルを横断するように配設されていることが、好ましい。

これらの構成によれば、基板の１回の相対的移動で、全画素領域にガスを吹き付けることができる。

これらの場合、ガス吹出し口とガス送出手段とを連通するガス吹出し流路に介設され、機能液の溶媒が気化した溶媒ガスを供給する溶媒蒸発槽を、更に備えることが好ましい。

この構成によれば、機能液の溶媒ガスを含んだガスを各画素領域に吹き付けることができるため、機能液の気化（揮発）による増粘を抑制しつつ、液面を挙動させることができる。このため、機能液の濡れ拡がりを促進させることができる。

この場合、ガス吹出し口に添設され、基板上に吹き付けたガスを吸込むガス吸込み口と、ガス吸込み口に連なるガス吸引手段と、を更に備えることが好ましい。

この場合、ガス吸込み口は、ガス吹出し口を囲繞するように配設されていることが、好ましい。

この構成によれば、各画素領域の機能液に吹き付けた機能液の溶媒ガスを含むガスを、効率良く回収することができる。

これらの場合、描画手段の駆動およびガス送出手段の駆動を制御する制御手段を、更に備え、制御手段は、各画素領域の隅部近傍に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させた後、各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させ、更に各画素領域の中心部に必要量の機能液の残りを吐出・着弾させた後、各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させることが、好ましい。

この構成によれば、各画素領域に着弾した機能液は、ガスが吹き付けられることにより、同心円上に拡がる性質がある。最初の機能液の着弾において、各画素領域の隅部に機能液を濡れ拡げ、続く機能液の着弾において、各画素領域の中央部に機能液を拡げることができる。これにより、機能液を各画素領域内の全域に効率良く、且つ確実に濡れ拡げることができる。

本発明の液滴吐出装置の制御方法は、バンク部により画成した基板上の多数の画素領域に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、各画素領域に着弾した機能液の液面を送風により挙動させる液面挙動手段と、を備えた液滴吐出装置の制御方法であって、描画手段により、各画素領域の隅部近傍に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させる第１描画工程と、第１描画工程の後、液面挙動手段により、各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させる第１挙動工程と、挙動工程の後、描画手段により、各画素領域の中央部に必要量の機能液の残りを吐出・着弾させる第２描画工程と、第２描画工程の後、液面挙動手段により、各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させる第２挙動工程と、を備えたことを特徴とする。

この構成によれば、各画素領域に着弾した機能液は、ガスが吹き付けられることにより、同心円上に拡がる性質がある。最初の機能液の着弾において、各画素領域の隅部に機能液を濡れ拡げ、続く機能液の着弾において、各画素領域の中央部に機能液を拡げることができる。これにより、機能液を各画素領域内の全域に効率良く、且つ確実に濡れ拡げることができる。

本発明の電気光学装置の製造方法は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上の各画素領域に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする。

本発明の電気光学装置は、上記した液滴吐出装置を用い、基板上の各画素領域に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする。

これらの構成によれば、各画素内に着弾した機能液滴が均一に濡れ拡がり、各画素領域の全域に亘って成膜部を形成することができ、色むら等の無い高品質な電気光学装置を製造することができる。なお、機能材料としては、有機ＥＬ装置の発光材料（Elecreo-Luminescence発光層・正孔注入層）は元より、液晶表示装置に用いるカラーフィルタのフィルタ材料（フィルタエレメント）、電子放出装置（Field Emission Display, ＦＥＤ）の蛍光材料（蛍光体）、ＰＤＰ（plasma Display Panel）装置の蛍光材料（蛍光体）、電気泳動表示装置の泳動体材料（泳動体）等であって、機能液滴吐出ヘッド（インクジェットヘッド）により吐出可能な液体材料を言う。また、電気光学装置（Flat Panel Display, ＦＰＤ）としては、有機ＥＬ装置、液晶表示装置、電子放出装置、ＰＤＰ装置、電気泳動表示装置等がある。

本発明の電子機器は、上記した電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または上記した電気光学装置を、搭載したことを特徴とする。

この場合、電子機器としては、いわゆるフラットパネルディスプレイを搭載した携帯電話、パーソナルコンピュータのほか、各種の電気製品がこれに該当する。

以下、添付の図面を参照して、本発明に係る液滴吐出装置の一実施形態について説明する。この液滴吐出装置は、液晶表示装置等のＦＰＤの製造工程において、カラーフィルタ等をいわゆる印刷方式で製造する描画システムに組み込まれている。すなわち、特殊なインクや発光性の樹脂液等の機能液を機能液滴吐出ヘッドに導入し、カラーフィルタの基板上に構成された画素領域に機能液を吐出・着弾させ、機能液による成膜部を形成するものである。そこで、まず、液滴吐出装置による機能液の吐出対象（描画対象）となる基板について説明する。

図１に示すように、基板Ｗは、ガラス板（石英ガラス）やポリイミド樹脂等で構成されており、その周縁部の前後２箇所には、搬入された液滴吐出装置１（図２参照）により位置認識される一対の基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍがそれぞれ形成されており、その周縁部を除いた範囲には、区画壁部５０７ｂ（バンク部）により画成した複数の画素領域５０７ａがマトリクス状に配列されている。

各画素領域５０７ａは、区画壁部５０７ｂで囲まれた平面視長方形の凹部となっており、液滴吐出装置１に搭載された機能液滴吐出ヘッド１７（図２参照）により、Ｒ（赤）・Ｇ（緑）・Ｂ（青）３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂ（成膜部）を形成する際に、機能液の着弾領域となる（図９参照）。この場合、機能液が着弾した３個の画素領域５０７ａ、すなわち、Ｒの機能液が着弾した画素領域５０７ａと、Ｇの機能液が着弾した画素領域５０７ａと、Ｂの機能液が着弾した画素領域５０７ａとにより、いわゆる画素が構成される。

各画素領域５０７ａには、吐出を考慮した濃度に調製された機能液を導入した機能液滴吐出ヘッド１７により、乾燥処理後の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが所定の膜厚となるように、必要量の機能液（所定のショット数の機能液滴）を吐出・着弾させる。

各画素領域５０７ａは、詳細は後述するが、表面処理により親液（親水）性となっており、着弾した機能液が各画素領域５０７ａ内で濡れ拡がりやすくなっている。一方、区画壁部５０７ｂは、疎液（疎水）性の樹脂材料等で構成されているため、区画壁部５０７ｂに機能液が着弾しても、その機能液は隣接する画素領域５０７ａ内へ流れ込むようになっている。もっとも、各画素領域５０７ａの周縁部は、区画壁部５０７ｂを構成するレジスト層５０４（図９参照）の残渣等の影響により、疎液性となっている。このため、各画素領域５０７ａに着弾した機能液は、その周縁部、特に隅部（角部）では濡れ拡がりにくくなっている。本実施形態の液滴吐出装置１は、この濡れ拡がりにくい隅部にも、機能液を行き渡らせるものである（詳細は後述する）。

次に、本発明に係る液滴吐出装置１について説明する。カラーフィルタを製造する描画システムには、Ｒ・Ｇ・Ｂの各色にそれぞれ対応した３台の液滴吐出装置１が設置されており、各液滴吐出装置１は、順次導入された基板Ｗ上に着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを１色分ずつ形成するように設計されている。もちろん、１台の液滴吐出装置１によりＲ・Ｇ・Ｂ３色の描画を一括して行うようにしてもよい。

図２に示すように、液滴吐出装置１は、機能液滴吐出ヘッド１７を搭載した描画装置２と、機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理（機能維持・回復）を行うメンテナンス装置３と、基板Ｗ上にガスを吹き付けるガス吹出し装置４と、吹き付けたガスを吸込むガス吸込み装置５と、アライメント処理等のために画像認識を行う画像認識装置６と、これらの各部を統括制御するコントローラ７と、各装置を収容するチャンバ装置８とを備えている。

そして、メンテナンス装置３により機能液滴吐出ヘッド１７のメンテナンス処理を適宜行うと共に、機能液滴吐出ヘッド１７から基板Ｗ上に機能液を吐出・着弾させる描画処理と、これに続いて、ガス吹出し装置４のガス吹出し口８１（後述する）から基板Ｗ上にガスを吹き付け、着弾した機能液の液面を挙動させる液面挙動処理とを行うようにしている（詳細は後述する）。

描画装置２は、Ｘ軸テーブル１２およびＸ軸テーブル１２に直交するＹ軸テーブル１３から成るＸＹ移動機構１１と、Ｙ軸テーブル１３に移動自在に取り付けられたキャリッジ１４と、キャリッジ１４に搭載された機能液滴吐出ヘッド１７とを備えている。なお、本実施形態では、１個の機能液滴吐出ヘッド１７を搭載しているが、その個数や配置は任意である。

Ｘ軸テーブル１２による基板Ｗの移動軌跡と、Ｙ軸テーブル１３によるキャリッジ１４の移動軌跡とが交わる領域が、描画処理を行う描画エリア（図示省略）となり、また、Ｙ軸テーブル１３によるキャリッジ１４の移動軌跡上のＸ軸テーブル１２から外側に外れた領域（図示右側）がメンテナンス領域（図示省略）となっており、このメンテナンス領域にメンテナンス装置３が設置されている。

Ｘ軸テーブル１２の手前側の領域は、液滴吐出装置１に対する基板Ｗの搬出入を行う基板搬出入エリア（図示省略）となっている。また、Ｘ軸方向に描画エリア（機能液滴吐出ヘッド１７）を間に挟んで一対のガス吹出し口８１および一対のガス吸込み口９１（後述する）が配設されており、液面挙動処理が行われる一対の挙動処理エリア（図示省略）となっている。なお、詳細は後述するが、基板Ｗの往動時（図示下側から上側への移動時）には、図示上側のガス吹出し口８１（往動時ガス吹出し口８１ａ）により液面挙動処理が行われ、基板Ｗの復動時（図示上側から下側への移動時）には、図示下側のガス吹出し口８１（復動時ガス吹出し口８１ｂ）により液面挙動処理が行われる。

Ｘ軸テーブル１２は、床上に立設した前後の支柱に支持されており、Ｘ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＸ軸スライダ（図示省略）を有し、これに基板Ｗを吸着セットするセットテーブル２１を移動自在に搭載して、構成されている。このＸ軸テーブル１２により、セットした基板ＷをＸ軸方向に移動させることで、基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７がＸ軸方向に相対的に移動する。

Ｙ軸テーブル１３は、Ｘ軸テーブル１２およびメンテナンス装置３を跨ぐようにして、床上に立設した左右の支柱に支持されており、Ｙ軸方向の駆動系を構成するモータ駆動のＹ軸スライダ（図示省略）を有しており、これにキャリッジ１４介して機能液滴吐出ヘッド１７を移動自在に搭載している。

図３に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７は、図示しない機能液パック等から機能液が導入され、インクジェット方式（例えば圧電素子駆動）で機能液を吐出するものであって、ノズル面４１に相互に平行に形成した２列のノズル列４２を有している。各ノズル列４２は、複数（例えば１８０個）のノズル４３が等ピッチで並べられて構成されている。そして、コントローラ７からヘッドドライバ（図示省略）を介して駆動波形を印加することにより、各ノズル４３から機能液が吐出される。

図２に示すように、メンテナンス装置３は、メンテナンスエリアにおいて、描画エリアから遠い側（図示右側）から順に、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル４３から機能液を吸引する吸引ユニット５１、機能液滴吐出ヘッド１７のノズル面４１を払拭するワイピングユニット５２、吐出された機能液滴の飛行状態を観測する飛行観測ユニット５３を備えている。

画像認識装置６は、基板搬出入エリアの前後２箇所に臨み、一対の基板アライメントマークＷｍ、Ｗｍを画像認識する２台の基板アライメントカメラ（図示省略）と、Ｘ軸テーブル１２のＸ軸スライダに連結され、キャリッジ１４に設けた基準ピン（図示省略）を画像認識するキャリッジアライメントカメラ６１と、描画エリアの近傍に位置して、基板Ｗに対する描画結果等を画像認識する描画観測カメラ６２と、Ｙ軸テーブル１３と平行に延在し、描画観測カメラ６２をＹ軸方向に移動させるカメラ移動機構６３とを有している。

チャンバ装置８は、描画装置２等を収容するチャンバルーム７１と、チャンバルーム７１に併設され、温度管理された清浄なガスをチャンバルーム７１内に供給する清浄ガス供給ユニット７２とを有している。チャンバルーム７１の側壁には、後述する各ガス吸込み口９１と連通する排気ポート７３が設けられている。なお、チャンバ装置８の詳細な構成については、第２実施形態において説明する。

ガス吹出し装置４は、Ｘ軸方向に描画エリアを間に挟んで配設され、基板Ｗ上にガスを吹き付ける一対のガス吹出し口８１（往動時ガス吹出し口８１ａおよび復動時ガス吹出し口８１ｂ）と、チャンバ装置８内の雰囲気ガスを導入すると共にそれを各ガス吹出し口８１に供給するブロアユニット８２（フィルタ８２ａ内蔵）と、各ガス吹出し口８１とブロアユニット８２とを連通するガス吹出しダクト８３とを備えている。

一対のガス吹出し口８１は、基板Ｗに上方から臨む構成であるため、既存の液滴吐出装置１にも比較的簡単に搭載することができる。また、チャンバルーム７１内に収容されたブロアユニット８２をガス送気手段としているため、チャンバルーム７１内の管理された雰囲気を、吹き付けガスとして活用することができ、ガスによる機能液の変質等を有効に防止することができる。

ガス吹出しダクト８３は、ブロアユニット８２に接続する共通ダクト８４と、共通ダクト８４から分岐してそれぞれ各ガス吹出し口８１の上部に設けた接続口に接続する２本の分岐ダクト８５から構成されている。なお、ガス流路は、ダクトに代えて、パイプで構成してもよい。

共通ダクト８４の上流端近傍には、ガス流量を調整可能なモータダンパー８６（ボリュームダンパー）が介設されており、コントローラ７によりダンパー開度を制御することで、各ガス吹出し口８１から吹き出すガスの流量が調整されるようになっている。

さらに、共通ダクト８４には、モータダンパー８６の下流側に、機能液の溶媒が気化した溶媒ガスを供給する溶媒蒸発槽８７が介設されている。この溶媒蒸発槽８７から溶媒ガスが供給されるため、ガス吹出し口８１からは、溶媒ガスを含んだガスが吹き出される。

２本の分岐ダクト８５には、各分岐ダクト８５を開閉する開閉弁８８（または開閉ダンパー）がそれぞれ介設されている。２個の開閉弁８８は、コントローラ７により開閉弁動作が個々に制御されており、ガス吹出し流路の流路切り換え手段を構成している。すなわち、２個の開閉弁８８を交互に開弁させることにより、ブロアユニット８２から送り出されるガスの流路が切り換えられ、往動時ガス吹出し口８１ａおよび復動時ガス吹出し口８１ｂから交互にガスが吹き出されるようになっている。

各ガス吹出し口８１は、セットテーブル２１を横断するように配設されている。すなわち、セットテーブル２１にセット可能な最大サイズの基板Ｗよりも幅広（Ｙ軸方向に長い）に構成されている。これによれば、基板Ｗの１回の移動（往動または復動）で、全画素領域５０７ａにガスを吹き付けることができる。

図４に示すように、各ガス吹出し口８１は、板金等によりボックス形状に構成されており、下端部（先端部）にＸ軸方向（機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動方向）に並ぶ４つの吹出しノズル８９を有している。

各吹出しノズル８９は、複数の風向板９０を有しており、この複数の風向板９０により、ガスが一様に吹き出されると共に、４つの吹出しノズル８９間で互いに異なる方向にガスを吹き出すように、ガスの吹出し方向が指向されている。

すなわち、４つの吹出しノズル８９は、描画エリアに近い側から順に、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動方向に対し、ガスを斜め後方（描画エリア側）に吹き出す後吹出しノズル８９ａ、ガスを斜め右方に吹き出す右吹出しノズル８９ｂ、ガスを斜め左方に吹き出す左吹出しノズル８９ｃ、ガスを斜め前方に吹き出す前吹出しノズル８９ｄとで構成されている。

これにより、基板Ｗが各ガス吹出し口８１の直下を通過する際に、これに４つの吹出しノズル８９が順に臨むため、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対して、４方向から順に、すなわち後方、右方、左方、前方の順にガスが吹き付けられる。なお、４つの吹出しノズル８９による吹出し方向の並び順は、これに限定されず、例えば描画エリアに近い側から順に、後方、右方、前方、左方とし、機能液に対して左回り（あるいはこれとは逆にして右回りに）にガスが吹き付けられるようにしてもよい。さらに、往動時ガス吹出し口８１ａと復動時ガス吹出し口８１ｂとで、４つの吹出しノズル８９の並び順が相違するようにしてもよい。

ガス吸込み装置５は、それぞれ上記一対のガス吹出し口８１に添設した一対のガス吸込み口９１（往動時ガス吸込み口９１ａおよび復動時ガス吸込み口９１ｂ）と、各ガス吸込み口９１と、チャンバルーム７１の側壁に設けた排気ポート７３とを連通する排気ダクト９２と、排気ダクト９２の下流端に介設された排気ファン９３（ガス吸引手段）とを備えている。

各ガス吸込み口９１は、板金等によりボックス形状に形成されており、各ガス吹出し口８１を囲繞するように配設されている。すなわち、各ガス吸込み口９１と各ガス吹出し口８１とは、その先端部の外縁形状が、相互に同心となる長方形にそれぞれ形成されている。各ガス吸込み口９１には、上部に設けた接続口に排気ダクト９２の上流端が接続しており、基板Ｗに吹き付けられたガスを、下端部の吸込みノズルから吸い込むようになっている。

各排気ファン９３は、上記の各ガス吹出し口８１から基板Ｗに吹き付けたガスを、強制吸引して排気ポート７３からチャンバルーム７１外に強制排気するものである。なお、各排気ポート７３から排気されたガスは、排気処理設備（工場設備）に送られるようになっている。これによれば、各画素領域５０７ａの機能液に吹き付けた機能液の溶媒ガスを含むガスを、効率良く回収することができる。

なお、２個の排気ファン９３は、上記２つの開閉弁８８と同様に、交互に駆動制御されるようになっており、往動時ガス吸込み口９１ａおよび復動時ガス吸込み口９１ｂから交互にガスを吸込むようになっている。

コントローラ７は、図示しないが、ＣＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭ、インターフェース等を備え、液滴吐出装置１の各種処理を制御している。例えば、コントローラ７は、機能液滴吐出ヘッド１７の吐出駆動を制御すると共に、Ｘ軸テーブル１２およびＹ軸テーブル１３の移動動作を制御して、基板Ｗ上に描画処理を行わせると共に、２本の分岐ダクト８５に介設した開閉弁８８を制御して、基板Ｗに着弾した機能液にガスを吹き付ける液面挙動処理を行わせるようにしている（詳細は後述する）。

ここで、液滴吐出装置１による基板Ｗへの一連の描画処理および液面挙動処理について詳細に説明する。まず、セットテーブル２１にセットした基板Ｗに対し、機能液滴吐出ヘッド１７を相対的に移動させながら機能液を吐出させる。すなわち、Ｘ軸テーブル１２により基板ＷをＸ軸方向に往復動させながら、基板Ｗに対して機能液滴吐出ヘッド１７から機能液をそれぞれ吐出・着弾させる主走査と、Ｙ軸テーブル１３により機能液滴吐出ヘッド１７をＹ軸方向に移動させる副走査とを繰り返し行って、基板Ｗの端から端まで各画素領域５０７ａに機能液を着弾させる描画処理を行う。そして、各画素領域５０７ａに着弾した機能液がその全域に行き渡るように、各主走査（１回または複数回の往動・復動）の後に（副走査に移る前に）、液面挙動処理を行うようにしている。

すなわち、図５に示すように、まず、基板Ｗを移動させながら、機能液滴吐出ヘッド１７により、未描画の各画素領域５０７ａの隅部近傍（周縁部）に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させる第１描画処理を行う（同図（ａ）参照）。さらに、第１描画処理の後、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨むガス吹出し口８１により、基板Ｗ上にガスを吹き付け、各画素領域５０７ａの隅部近傍に着弾した機能液の液面を挙動させる第１液面挙動処理を行う（同図（ｂ）参照）。

すなわち、基板Ｗを往動させ、各画素領域５０７ａの隅部近傍に機能液を着弾させたときには、基板Ｗを引き続き往動させ、往動時ガス吹出し口８１ａおよび往動時ガス吸込み口９１ａに臨ませると共に、往動時ガス吸込み口９１ａからガスを吸込みつつ往動時ガス吹出し口８１ａからガスを吹き出させ、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対しガスを吹き付ける。同様に、基板Ｗを復動させ、各画素領域５０７ａの隅部近傍に機能液を着弾させたときには、基板Ｗを引き続き復動させ、復動時ガス吹出し口８１ｂおよび復動時ガス吸込み口９１ｂに臨ませると共に、復動時ガス吸込み口９１ｂからガスを吸込みつつ復動時ガス吹出し口８１ｂからガスを吹き出させ、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対しガスを吹き付ける。

このように、本実施形態では、主走査（描画処理）、液面挙動処理および副走査を、交互に繰り返し行っているが、主走査および副走査を繰り返し行って基板Ｗの端から端までの描画処理が完了した後、まとめて液面挙動処理を行ってもよい。この場合には、最後に液面挙動処理を行うまでは、２つの開閉弁８８をいずれも「閉」としておけばよい。

以上によれば、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の液面が挙動し、表面張力に抗して機能液がガスの風圧により同心円状に押し拡げられる。このため、機能液を各画素領域５０７ａの全域に行き渡らせることができ、機能液の濡れ拡がり不足を解消することができる。なお、各画素領域５０７ａに加える風圧は、上記のモータダンパー８６により流量を調整することで、機能液が挙動するのに十分なものであって且つ機能液が区画壁部５０７ｂに吹き上がられることのないものに、調整されている。

しかも、本実施形態では、機能液の溶媒ガスを含んだガスを各画素領域５０７ａに吹き付けることができるため、機能液の気化による増粘を抑制しつつ、液面を挙動させることができる。このため、機能液の濡れ拡がりを促進させることができる。

また、２つの開閉弁８８を交互に開弁・閉弁することで、基板Ｗに対する吹付け時（基板Ｗの通過時）を除いて、各ガス吹出し口８１からのガスの吹出しを停止させている。これによれば、吹出しガスにより機能液滴吐出ヘッド１７のノズル４３が乾燥する等の弊害を回避することができる。なお、液滴吐出装置１の設置スペース等の制約がない場合には、ガス吹出し口８１を、基板Ｗの描画処理のための往復移動範囲から外れた位置に配設して、必要な場合にのみ基板Ｗをガス吹出し口８１に臨ませるようにしてもよい。これにより、ガスの吹出しをＯＮ／ＯＦＦ制御することなく（吹出しを止めることなく）、選択的に基板Ｗにガスを吹き付けることができる。

さらに、上述したように、４つの吹出しノズル８９により、各画素領域５０７ａに着弾した機能液に対して、４方向から順にガスを吹き付けるため、様々な方向から風圧を掛けて機能液を挙動させることができる。このため、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の量や着弾位置に拘らず、各画素領域５０７ａ内において機能液を均一に濡れ拡がせることができる。

このようにして第１描画処理および第１液面挙動処理が終了すると、第２描画処理および第２液面挙動処理を行う。すなわち、基板Ｗを移動させながら、機能液滴吐出ヘッド１７により、未描画の各画素領域５０７ａの中央部に必要量の機能液の残りを吐出・着弾させる（同図（ｃ）参照）。もちろん、ここで各画素領域５０７ａの中央部に加えて、隅部近傍に機能液を吐出・着弾させてもよい。さらに、第２描画処理の後、機能液滴吐出ヘッド１７の相対移動に後行して基板Ｗに臨むガス吹出し口８１により、基板Ｗ上にガスを吹き付け、各画素領域５０７ａの中央部に着弾した機能液の液面を挙動させる第２液面挙動処理を行う（同図（ｄ）参照）。

このように、第１描画処理および第１液面挙動処理により、各画素領域５０７ａの隅部に機能液を濡れ拡げ、続く第２描画処理および第２液面挙動処理により、各画素領域５０７ａの中央部に機能液を拡げることができる。これにより、機能液を各画素領域５０７ａ内の全域に効率良く、且つ確実に濡れ拡げることができる。

なお、ガス吹出し口８１は、描画エリア（機能液滴吐出ヘッド１７）に対しＸ軸方向の手前側および奥側のいずれかのみに設けてもよい。もっとも、本実施形態では、手前側および奥側の双方にガス吹出し口８１（往動時ガス吹出し口８１ａおよび復動時ガス吹出し口８１ｂ）を設けたことで、基板Ｗの往動に伴った液滴吐出処理の後、基板Ｗを往動させたまま液面挙動処理を行うことができると共に、基板Ｗの複動に伴った液滴吐出処理の後、基板Ｗを復動させたまま液面挙動処理を行うことができる。

以上のように、本実施形態の液滴吐出装置１によれば、基板Ｗに上方から臨むようにガス吹出し口８１を設け、このガス吹出し口８１から基板Ｗ上にガスを吹き付けるというシンプルな構造により、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の液面を挙動させることで、各画素領域５０７ａの全域に機能液を行き渡らせることができる。

次に、本発明に係る液滴吐出装置の他の実施形態について説明する。この第２実施形態の液滴吐出装置は、上記した第１実施形態の液滴吐出装置１と略同様の構成であるが、第２実施形態の液滴吐出装置は、チャンバ装置の清浄ガス供給装置をガス送気手段として活用するようにした点で、第１実施形態と相違する。以下、相違点を中心に説明する。

図６および図７に示すように、第２実施形態の液滴吐出装置１０１は、第１実施形態の液滴吐出装置１と同様に、描画装置１０２、メンテナンス装置１０３、ガス吹出し装置１０４、画像認識装置（図示省略）、コントローラ（図示省略）およびチャンバ装置１０８を備えている。もっとも、本実施形態では、ガス吹出し装置１０４において、第１実施形態のような溶媒蒸発槽を設けておらず、溶媒ガスを含んだガスを吹き出すようにしていないため、これを回収するためのガス吸込み装置を備えていない。もちろん、本実施形態においても、ガス吹出し装置１０４に溶媒蒸発槽を設け、溶媒ガスを含んだガスを吹き出すようにしてもよく、さらに、ガス吸込み装置を設けてもよい。

チャンバ装置１０８は、描画装置１０２やガス吹出し装置１０４等を収容するチャンバルーム１７１と、チャンバルーム１７１に併設され、チャンバルーム１７１内にクリーンエアーを供給する清浄ガス供給ユニット１７２とを備えている。

チャンバルーム１７１は、四方を囲む側壁１７６、床壁１７７および天壁１７８で略直方体に形成され、基板搬出入エリア側の側壁１７６には、基板Ｗを搬出入するためのシャッタ付きの基板搬出入口１７９が形成されている。チャンバルーム１７１の天面の略全域には、複数のＨＥＰＡフィルタ１８５が設けられており、ＨＥＰＡフィルタ１８５の背面側空間である天井内送気室１８６には、清浄ガス供給ユニット１７２の送気側に連通する円形の送気口１８７が形成されている。また、チャンバルーム１７１の側壁下部には、清浄ガス供給ユニット１７２の吸気側に連通する円形の排気口１８８が形成されている。

天井内送気室１８６には、送気口１８７からＨＥＰＡフィルタ１８５に向かって延びる複数枚の天井内風向プレート１８９を設け、ガスをＨＥＰＡフィルタ１８５に均一に導くようになっている。これにより、ＨＥＰＡフィルタ１８５から構成装置に向かって流れるエアーは、均一なダウンフローとなって流れる。

清浄ガス供給ユニット１７２は、図示しないが、ファン、コイルおよびフィルタを内蔵し、適宜外気を取り入れると共に、所定の温度および湿度に調整したクリーンガスを生成し送気する。清浄ガス供給ユニット１７２の送気側は、送気ダクト１９１を介して上記の送気口１８７に接続され、吸気側は、吸気ダクト１９２を介して上記の排気口１８８に接続されている。

清浄ガス供給ユニット１７２は、チャンバルーム１７１内の雰囲気を所定の換気回数で連続的に循環させ、チャンバルーム１７１内を、所定の温度、湿度およびクリーン度に且つ正圧に維持する。本実施形態の清浄ガス供給ユニット１７２は、チャンバルーム内に、いわゆるドライクリーンエアー（ドライエアー）を供給するが、使用する機能液によっては、ドライエアーに代えて不活性ガス（窒素、二酸化炭素、希ガス等）を供給するようにしてもよい。

また、液滴吐出装置１０１のガス吹出し口１８１は、ガス吹出しダクト１８３により、チャンバルーム１７１の送気口１８７に連通している。ガス吹出しダクト１８３は、上流端が送気口１８７近傍において天井内送気室１８６に開放されており、ＨＥＰＡフィルタ１８５の部分を境に上下に２分割されている。すなわち、ガス吹出しダクト１８３の上流部は上方から、下流部は下方から、それぞれＨＥＰＡフィルタ１８５の取付け枠に固定されて、流路接続されている。

これにより、清浄ガス供給ユニット１７２からチャンバルーム１７１に供給される管理されたガスを、吹付けガスとして活用することができると共に、第１実施形態のようなブロアユニットを省略することができる。もっとも、このガス吹出しダクト１８３においては、ＨＥＰＡフィルタ１８５を省略してもよい。

なお、天井内送気室１８６に開放されたガス吹出しダクトの上流端部には、送気ダンパー１９３（吹出し流量調整手段）が介設されている。送気ダンパー１９３は、ボリュームダンパーで構成されており、ダンパー開度を全開から全閉の間で調整することで、吹出しガスの流量が調整される。

本実施形態の液滴吐出装置１０１においても、第１実施形態の液滴吐出装置１と同様にして、基板Ｗに対する描画処理および液面挙動処理が行われる。すなわち、描画処理の後、ガス吹出し口１８１から基板Ｗ上にガスを吹き付ける液面挙動処理を行うことで、各画素領域５０７ａに着弾した機能液の液面が挙動し、表面張力に抗して機能液がガスの風圧により同心円状に押し拡げられる。このため、機能液を各画素領域５０７ａの全域に行き渡らせることができ、機能液の濡れ拡がり不足を解消することができる。

次に、本実施形態の液滴吐出装置１を用いて製造される電気光学装置（フラットパネルディスプレイ）として、カラーフィルタ、液晶表示装置、有機ＥＬ装置、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ装置）、電子放出装置（ＦＥＤ装置、ＳＥＤ装置）、さらにこれら表示装置に形成されてなるアクティブマトリクス基板等を例に、これらの構造およびその製造方法について説明する。なお、アクティブマトリクス基板とは、薄膜トランジスタ、および薄膜トランジスタに電気的に接続するソース線、データ線が形成された基板をいう。

まず、液晶表示装置や有機ＥＬ装置等に組み込まれるカラーフィルタの製造方法について説明する。図８は、カラーフィルタの製造工程を示すフローチャート、図９は、製造工程順に示した本実施形態のカラーフィルタ５００（フィルタ基体５００Ａ）の模式断面図である。
まず、ブラックマトリクス形成工程（Ｓ１０１）では、図９（ａ）に示すように、基板（Ｗ）５０１上にブラックマトリクス５０２を形成する。ブラックマトリクス５０２は、金属クロム、金属クロムと酸化クロムの積層体、または樹脂ブラック等により形成される。金属薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成するには、スパッタ法や蒸着法等を用いることができる。また、樹脂薄膜からなるブラックマトリクス５０２を形成する場合には、グラビア印刷法、フォトレジスト法、熱転写法等を用いることができる。

続いて、バンク形成工程（Ｓ１０２）において、ブラックマトリクス５０２上に重畳する状態でバンク５０３を形成する。即ち、まず図９（ｂ）に示すように、基板５０１およびブラックマトリクス５０２を覆うようにネガ型の透明な感光性樹脂からなるレジスト層５０４を形成する。そして、その上面をマトリクスパターン形状に形成されたマスクフィルム５０５で被覆した状態で露光処理を行う。
さらに、図９（ｃ）に示すように、レジスト層５０４の未露光部分をエッチング処理することによりレジスト層５０４をパターニングして、バンク５０３を形成する。なお、樹脂ブラックによりブラックマトリクスを形成する場合は、ブラックマトリクスとバンクとを兼用することが可能となる。
このバンク５０３とその下のブラックマトリクス５０２は、各画素領域５０７ａを区画する区画壁部５０７ｂとなり、後の着色層形成工程において機能液滴吐出ヘッド１７により着色層（成膜部）５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する際に機能液滴の着弾領域を規定する。

以上のブラックマトリクス形成工程およびバンク形成工程を経ることにより、上記フィルタ基体５００Ａが得られる。
なお、本実施形態においては、バンク５０３の材料として、塗膜表面が疎液（疎水）性となる樹脂材料を用いている。そして、基板（ガラス基板）５０１の表面が親液（親水）性であるので、後述する着色層形成工程においてバンク５０３（区画壁部５０７ｂ）に囲まれた各画素領域５０７ａ内への液滴の着弾位置のばらつきを自動補正できる。

次に、着色層形成工程（Ｓ１０３）では、図９（ｄ）に示すように、機能液滴吐出ヘッド１７によって機能液滴を吐出して区画壁部５０７ｂで囲まれた各画素領域５０７ａ内に着弾させる。この場合、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の機能液（フィルタ材料）を導入して、機能液滴の吐出を行う。なお、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

その後、乾燥処理（加熱等の処理）を経て機能液を定着させ、３色の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成する。着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂを形成したならば、保護膜形成工程（Ｓ１０４）に移り、図９（ｅ）に示すように、基板５０１、区画壁部５０７ｂ、および着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂの上面を覆うように保護膜５０９を形成する。
即ち、基板５０１の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが形成されている面全体に保護膜用塗布液が吐出された後、乾燥処理を経て保護膜５０９が形成される。
そして、保護膜５０９を形成した後、カラーフィルタ５００は、次工程の透明電極となるＩＴＯ（Indium Tin Oxide）などの膜付け工程に移行する。

図１０は、上記のカラーフィルタ５００を用いた液晶表示装置の一例としてのパッシブマトリックス型液晶装置（液晶装置）の概略構成を示す要部断面図である。この液晶装置５２０に、液晶駆動用ＩＣ、バックライト、支持体などの付帯要素を装着することによって、最終製品としての透過型液晶表示装置が得られる。なお、カラーフィルタ５００は図９に示したものと同一であるので、対応する部位には同一の符号を付し、その説明は省略する。

この液晶装置５２０は、カラーフィルタ５００、ガラス基板等からなる対向基板５２１、および、これらの間に挟持されたＳＴＮ（Super Twisted Nematic）液晶組成物からなる液晶層５２２により概略構成されており、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置している。
なお、図示していないが、対向基板５２１およびカラーフィルタ５００の外面（液晶層５２２側とは反対側の面）には偏光板がそれぞれ配設され、また対向基板５２１側に位置する偏光板の外側には、バックライトが配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層側）には、図１０において左右方向に長尺な短冊状の第１電極５２３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５２３のカラーフィルタ５００側とは反対側の面を覆うように第１配向膜５２４が形成されている。
一方、対向基板５２１におけるカラーフィルタ５００と対向する面には、カラーフィルタ５００の第１電極５２３と直交する方向に長尺な短冊状の第２電極５２６が所定の間隔で複数形成され、この第２電極５２６の液晶層５２２側の面を覆うように第２配向膜５２７が形成されている。これらの第１電極５２３および第２電極５２６は、ＩＴＯなどの透明導電材料により形成されている。

液晶層５２２内に設けられたスペーサ５２８は、液晶層５２２の厚さ（セルギャップ）を一定に保持するための部材である。また、シール材５２９は液晶層５２２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するための部材である。なお、第１電極５２３の一端部は引き回し配線５２３ａとしてシール材５２９の外側まで延在している。
そして、第１電極５２３と第２電極５２６とが交差する部分が画素であり、この画素となる部分に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

通常の製造工程では、カラーフィルタ５００に、第１電極５２３のパターニングおよび第１配向膜５２４の塗布を行ってカラーフィルタ５００側の部分を作成すると共に、これとは別に対向基板５２１に、第２電極５２６のパターニングおよび第２配向膜５２７の塗布を行って対向基板５２１側の部分を作成する。その後、対向基板５２１側の部分にスペーサ５２８およびシール材５２９を作り込み、この状態でカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる。次いで、シール材５２９の注入口から液晶層５２２を構成する液晶を注入し、注入口を閉止する。その後、両偏光板およびバックライトを積層する。

実施形態の液滴吐出装置１は、例えば上記のセルギャップを構成するスペーサ材料（機能液）を塗布すると共に、対向基板５２１側の部分にカラーフィルタ５００側の部分を貼り合わせる前に、シール材５２９で囲んだ領域に液晶（機能液）を均一に塗布することが可能である。また、上記のシール材５２９の印刷を、機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。さらに、第１・第２両配向膜５２４，５２７の塗布を機能液滴吐出ヘッド１７で行うことも可能である。

図１１は、本実施形態において製造したカラーフィルタ５００を用いた液晶装置の第２の例の概略構成を示す要部断面図である。
この液晶装置５３０が上記液晶装置５２０と大きく異なる点は、カラーフィルタ５００を図中下側（観測者側とは反対側）に配置した点である。
この液晶装置５３０は、カラーフィルタ５００とガラス基板等からなる対向基板５３１との間にＳＴＮ液晶からなる液晶層５３２が挟持されて概略構成されている。なお、図示していないが、対向基板５３１およびカラーフィルタ５００の外面には偏光板等がそれぞれ配設されている。

カラーフィルタ５００の保護膜５０９上（液晶層５３２側）には、図中奥行き方向に長尺な短冊状の第１電極５３３が所定の間隔で複数形成されており、この第１電極５３３の液晶層５３２側の面を覆うように第１配向膜５３４が形成されている。
対向基板５３１のカラーフィルタ５００と対向する面上には、カラーフィルタ５００側の第１電極５３３と直交する方向に延在する複数の短冊状の第２電極５３６が所定の間隔で形成され、この第２電極５３６の液晶層５３２側の面を覆うように第２配向膜５３７が形成されている。

液晶層５３２には、この液晶層５３２の厚さを一定に保持するためのスペーサ５３８と、液晶層５３２内の液晶組成物が外部へ漏出するのを防止するためのシール材５３９が設けられている。
そして、上記した液晶装置５２０と同様に、第１電極５３３と第２電極５３６との交差する部分が画素であり、この画素となる部位に、カラーフィルタ５００の着色層５０８Ｒ、５０８Ｇ、５０８Ｂが位置するように構成されている。

図１２は、本発明を適用したカラーフィルタ５００を用いて液晶装置を構成した第３の例を示したもので、透過型のＴＦＴ（Thin Film Transistor）型液晶装置の概略構成を示す分解斜視図である。
この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００を図中上側（観測者側）に配置したものである。

この液晶装置５５０は、カラーフィルタ５００と、これに対向するように配置された対向基板５５１と、これらの間に挟持された図示しない液晶層と、カラーフィルタ５００の上面側（観測者側）に配置された偏光板５５５と、対向基板５５１の下面側に配設された偏光板（図示せず）とにより概略構成されている。
カラーフィルタ５００の保護膜５０９の表面（対向基板５５１側の面）には液晶駆動用の電極５５６が形成されている。この電極５５６は、ＩＴＯ等の透明導電材料からなり、後述の画素電極５６０が形成される領域全体を覆う全面電極となっている。また、この電極５５６の画素電極５６０とは反対側の面を覆った状態で配向膜５５７が設けられている。

対向基板５５１のカラーフィルタ５００と対向する面には絶縁層５５８が形成されており、この絶縁層５５８上には、走査線５６１および信号線５６２が互いに直交する状態で形成されている。そして、これらの走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた領域内には画素電極５６０が形成されている。なお、実際の液晶装置では、画素電極５６０上に配向膜が設けられるが、図示を省略している。

また、画素電極５６０の切欠部と走査線５６１と信号線５６２とに囲まれた部分には、ソース電極、ドレイン電極、半導体、およびゲート電極とを具備する薄膜トランジスタ５６３が組み込まれて構成されている。そして、走査線５６１と信号線５６２に対する信号の印加によって薄膜トランジスタ５６３をオン・オフして画素電極５６０への通電制御を行うことができるように構成されている。

なお、上記の各例の液晶装置５２０，５３０，５５０は、透過型の構成としたが、反射層あるいは半透過反射層を設けて、反射型の液晶装置あるいは半透過反射型の液晶装置とすることもできる。

次に、図１３は、有機ＥＬ装置の表示領域（以下、単に表示装置６００と称する）の要部断面図である。

この表示装置６００は、基板（Ｗ）６０１上に、回路素子部６０２、発光素子部６０３および陰極６０４が積層された状態で概略構成されている。
この表示装置６００においては、発光素子部６０３から基板６０１側に発した光が、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されると共に、発光素子部６０３から基板６０１の反対側に発した光が陰極６０４により反射された後、回路素子部６０２および基板６０１を透過して観測者側に出射されるようになっている。

回路素子部６０２と基板６０１との間にはシリコン酸化膜からなる下地保護膜６０６が形成され、この下地保護膜６０６上（発光素子部６０３側）に多結晶シリコンからなる島状の半導体膜６０７が形成されている。この半導体膜６０７の左右の領域には、ソース領域６０７ａおよびドレイン領域６０７ｂが高濃度陽イオン打ち込みによりそれぞれ形成されている。そして陽イオンが打ち込まれない中央部がチャネル領域６０７ｃとなっている。

また、回路素子部６０２には、下地保護膜６０６および半導体膜６０７を覆う透明なゲート絶縁膜６０８が形成され、このゲート絶縁膜６０８上の半導体膜６０７のチャネル領域６０７ｃに対応する位置には、例えばＡｌ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｔｉ、Ｗ等から構成されるゲート電極６０９が形成されている。このゲート電極６０９およびゲート絶縁膜６０８上には、透明な第１層間絶縁膜６１１ａと第２層間絶縁膜６１１ｂが形成されている。また、第１、第２層間絶縁膜６１１ａ、６１１ｂを貫通して、半導体膜６０７のソース領域６０７ａ、ドレイン領域６０７ｂにそれぞれ連通するコンタクトホール６１２ａ，６１２ｂが形成されている。

そして、第２層間絶縁膜６１１ｂ上には、ＩＴＯ等からなる透明な画素電極６１３が所定の形状にパターニングされて形成され、この画素電極６１３は、コンタクトホール６１２ａを通じてソース領域６０７ａに接続されている。
また、第１層間絶縁膜６１１ａ上には電源線６１４が配設されており、この電源線６１４は、コンタクトホール６１２ｂを通じてドレイン領域６０７ｂに接続されている。

このように、回路素子部６０２には、各画素電極６１３に接続された駆動用の薄膜トランジスタ６１５がそれぞれ形成されている。

上記発光素子部６０３は、複数の画素電極６１３上の各々に積層された機能層６１７と、各画素電極６１３および機能層６１７の間に備えられて各機能層６１７を区画するバンク部６１８とにより概略構成されている。
これら画素電極６１３、機能層６１７、および、機能層６１７上に配設された陰極６０４によって発光素子が構成されている。なお、画素電極６１３は、平面視略矩形状にパターニングされて形成されており、各画素電極６１３の間にバンク部６１８が形成されている。

バンク部６１８は、例えばＳｉＯ、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂等の無機材料により形成される無機物バンク層６１８ａ（第１バンク層）と、この無機物バンク層６１８ａ上に積層され、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の耐熱性、耐溶媒性に優れたレジストにより形成される断面台形状の有機物バンク層６１８ｂ（第２バンク層）とにより構成されている。このバンク部６１８の一部は、画素電極６１３の周縁部上に乗上げた状態で形成されている。
そして、各バンク部６１８の間には、画素電極６１３に対して上方に向けて次第に拡開した開口部６１９が形成されている。

上記機能層６１７は、開口部６１９内において画素電極６１３上に積層状態で形成された正孔注入／輸送層６１７ａと、この正孔注入／輸送層６１７ａ上に形成された発光層６１７ｂとにより構成されている。なお、この発光層６１７ｂに隣接してその他の機能を有する他の機能層をさらに形成しても良い。例えば、電子輸送層を形成することも可能である。
正孔注入／輸送層６１７ａは、画素電極６１３側から正孔を輸送して発光層６１７ｂに注入する機能を有する。この正孔注入／輸送層６１７ａは、正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物（機能液）を吐出することで形成される。正孔注入／輸送層形成材料としては、公知の材料を用いる。

発光層６１７ｂは、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、または青色（Ｂ）のいずれかに発光するもので、発光層形成材料（発光材料）を含む第２組成物（機能液）を吐出することで形成される。第２組成物の溶媒（非極性溶媒）としては、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な公知の材料を用いることが好ましく、このような非極性溶媒を発光層６１７ｂの第２組成物に用いることにより、正孔注入／輸送層６１７ａを再溶解させることなく発光層６１７ｂを形成することができる。

そして、発光層６１７ｂでは、正孔注入／輸送層６１７ａから注入された正孔と、陰極６０４から注入される電子が発光層で再結合して発光するように構成されている。

陰極６０４は、発光素子部６０３の全面を覆う状態で形成されており、画素電極６１３と対になって機能層６１７に電流を流す役割を果たす。なお、この陰極６０４の上部には図示しない封止部材が配置される。

次に、上記の表示装置６００の製造工程を図１４〜図２２を参照して説明する。
この表示装置６００は、図１４に示すように、バンク部形成工程（Ｓ１１１）、表面処理工程（Ｓ１１２）、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）、発光層形成工程（Ｓ１１４）、および対向電極形成工程（Ｓ１１５）を経て製造される。なお、製造工程は例示するものに限られるものではなく必要に応じてその他の工程が除かれる場合、また追加される場合もある。

まず、バンク部形成工程（Ｓ１１１）では、図１５に示すように、第２層間絶縁膜６１１ｂ上に無機物バンク層６１８ａを形成する。この無機物バンク層６１８ａは、形成位置に無機物膜を形成した後、この無機物膜をフォトリソグラフィ技術等によりパターニングすることにより形成される。このとき、無機物バンク層６１８ａの一部は画素電極６１３の周縁部と重なるように形成される。
無機物バンク層６１８ａを形成したならば、図１６に示すように、無機物バンク層６１８ａ上に有機物バンク層６１８ｂを形成する。この有機物バンク層６１８ｂも無機物バンク層６１８ａと同様にフォトリソグラフィ技術等によりパターニングして形成される。
このようにしてバンク部６１８が形成される。また、これに伴い、各バンク部６１８間には、画素電極６１３に対して上方に開口した開口部６１９が形成される。この開口部６１９は、画素領域を規定する。

表面処理工程（Ｓ１１２）では、親液化処理および撥液化処理が行われる。親液化処理を施す領域は、無機物バンク層６１８ａの第１積層部６１８ａａおよび画素電極６１３の電極面６１３ａであり、これらの領域は、例えば酸素を処理ガスとするプラズマ処理によって親液性に表面処理される。このプラズマ処理は、画素電極６１３であるＩＴＯの洗浄等も兼ねている。
また、撥液化処理は、有機物バンク層６１８ｂの壁面６１８ｓおよび有機物バンク層６１８ｂの上面６１８ｔに施され、例えば四フッ化メタンを処理ガスとするプラズマ処理によって表面がフッ化処理（撥液性に処理）される。
この表面処理工程を行うことにより、機能液滴吐出ヘッド１７を用いて機能層６１７を形成する際に、機能液滴を画素領域に、より確実に着弾させることができ、また、画素領域に着弾した機能液滴が開口部６１９から溢れ出るのを防止することが可能となる。

そして、以上の工程を経ることにより、表示装置基体６００Ａが得られる。この表示装置基体６００Ａは、図２に示した液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置され、以下の正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）および発光層形成工程（Ｓ１１４）が行われる。

図１７に示すように、正孔注入／輸送層形成工程（Ｓ１１３）では、機能液滴吐出ヘッド１７から正孔注入／輸送層形成材料を含む第１組成物を画素領域である各開口部６１９内に吐出する。その後、図１８に示すように、乾燥処理および熱処理を行い、第１組成物に含まれる極性溶媒を蒸発させ、画素電極（電極面６１３ａ）６１３上に正孔注入／輸送層６１７ａを形成する。

次に発光層形成工程（Ｓ１１４）について説明する。この発光層形成工程では、上述したように、正孔注入／輸送層６１７ａの再溶解を防止するために、発光層形成の際に用いる第２組成物の溶媒として、正孔注入／輸送層６１７ａに対して不溶な非極性溶媒を用いる。
しかしその一方で、正孔注入／輸送層６１７ａは、非極性溶媒に対する親和性が低いため、非極性溶媒を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａ上に吐出しても、正孔注入／輸送層６１７ａと発光層６１７ｂとを密着させることができなくなるか、あるいは発光層６１７ｂを均一に塗布できない虞がある。
そこで、非極性溶媒並びに発光層形成材料に対する正孔注入／輸送層６１７ａの表面の親和性を高めるために、発光層形成の前に表面処理（表面改質処理）を行うことが好ましい。この表面処理は、発光層形成の際に用いる第２組成物の非極性溶媒と同一溶媒またはこれに類する溶媒である表面改質材を、正孔注入／輸送層６１７ａ上に塗布し、これを乾燥させることにより行う。
このような処理を施すことで、正孔注入／輸送層６１７ａの表面が非極性溶媒になじみやすくなり、この後の工程で、発光層形成材料を含む第２組成物を正孔注入／輸送層６１７ａに均一に塗布することができる。

そして次に、図１９に示すように、各色のうちのいずれか（図１９の例では青色（Ｂ））に対応する発光層形成材料を含有する第２組成物を機能液滴として画素領域（開口部６１９）内に所定量打ち込む。画素領域内に打ち込まれた第２組成物は、正孔注入／輸送層６１７ａ上に広がって開口部６１９内に満たされる。なお、万一、第２組成物が画素領域から外れてバンク部６１８の上面６１８ｔ上に着弾した場合でも、この上面６１８ｔは、上述したように撥液処理が施されているので、第２組成物が開口部６１９内に転がり込み易くなっている。

その後、乾燥工程等を行うことにより、吐出後の第２組成物を乾燥処理し、第２組成物に含まれる非極性溶媒を蒸発させ、図２０に示すように、正孔注入／輸送層６１７ａ上に発光層６１７ｂが形成される。この図の場合、青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂが形成されている。

同様に、機能液滴吐出ヘッド１７を用い、図２１に示すように、上記した青色（Ｂ）に対応する発光層６１７ｂの場合と同様の工程を順次行い、他の色（赤色（Ｒ）および緑色（Ｇ））に対応する発光層６１７ｂを形成する。なお、発光層６１７ｂの形成順序は、例示した順序に限られるものではなく、どのような順番で形成しても良い。例えば、発光層形成材料に応じて形成する順番を決めることも可能である。また、Ｒ・Ｇ・Ｂの３色の配列パターンとしては、ストライプ配列、モザイク配列およびデルタ配列等がある。

以上のようにして、画素電極６１３上に機能層６１７、即ち、正孔注入／輸送層６１７ａおよび発光層６１７ｂが形成される。そして、対向電極形成工程（Ｓ１１５）に移行する。

対向電極形成工程（Ｓ１１５）では、図２２に示すように、発光層６１７ｂおよび有機物バンク層６１８ｂの全面に陰極６０４（対向電極）を、例えば蒸着法、スパッタ法、ＣＶＤ法等によって形成する。この陰極６０４は、本実施形態においては、例えば、カルシウム層とアルミニウム層とが積層されて構成されている。
この陰極６０４の上部には、電極としてのＡｌ膜、Ａｇ膜や、その酸化防止のためのＳｉＯ₂、ＳｉＮ等の保護層が適宜設けられる。

このようにして陰極６０４を形成した後、この陰極６０４の上部を封止部材により封止する封止処理や配線処理等のその他処理等を施すことにより、表示装置６００が得られる。

次に、図２３は、プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置：以下、単に表示装置７００と称する）の要部分解斜視図である。なお、同図では表示装置７００を、その一部を切り欠いた状態で示してある。
この表示装置７００は、互いに対向して配置された第１基板７０１、第２基板７０２、およびこれらの間に形成される放電表示部７０３を含んで概略構成される。放電表示部７０３は、複数の放電室７０５により構成されている。これらの複数の放電室７０５のうち、赤色放電室７０５Ｒ、緑色放電室７０５Ｇ、青色放電室７０５Ｂの３つの放電室７０５が組になって１つの画素を構成するように配置されている。

第１基板７０１の上面には所定の間隔で縞状にアドレス電極７０６が形成され、このアドレス電極７０６と第１基板７０１の上面とを覆うように誘電体層７０７が形成されている。誘電体層７０７上には、各アドレス電極７０６の間に位置し、且つ各アドレス電極７０６に沿うように隔壁７０８が立設されている。この隔壁７０８は、図示するようにアドレス電極７０６の幅方向両側に延在するものと、アドレス電極７０６と直交する方向に延設された図示しないものを含む。
そして、この隔壁７０８によって仕切られた領域が放電室７０５となっている。

放電室７０５内には蛍光体７０９が配置されている。蛍光体７０９は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、赤色放電室７０５Ｒの底部には赤色蛍光体７０９Ｒが、緑色放電室７０５Ｇの底部には緑色蛍光体７０９Ｇが、青色放電室７０５Ｂの底部には青色蛍光体７０９Ｂが各々配置されている。

第２基板７０２の図中下側の面には、上記アドレス電極７０６と直交する方向に複数の表示電極７１１が所定の間隔で縞状に形成されている。そして、これらを覆うように誘電体層７１２、およびＭｇＯなどからなる保護膜７１３が形成されている。
第１基板７０１と第２基板７０２とは、アドレス電極７０６と表示電極７１１が互いに直交する状態で対向させて貼り合わされている。なお、上記アドレス電極７０６と表示電極７１１は図示しない交流電源に接続されている。
そして、各電極７０６，７１１に通電することにより、放電表示部７０３において蛍光体７０９が励起発光し、カラー表示が可能となる。

本実施形態においては、上記アドレス電極７０６、表示電極７１１、および蛍光体７０９を、図２に示した液滴吐出装置１を用いて形成することができる。以下、第１基板７０１におけるアドレス電極７０６の形成工程を例示する。
この場合、第１基板７０１を液滴吐出装置１のセットテーブル２１に載置された状態で以下の工程が行われる。
まず、機能液滴吐出ヘッド１７により、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴としてアドレス電極形成領域に着弾させる。この液体材料は、導電膜配線形成用材料として、金属等の導電性微粒子を分散媒に分散したものである。この導電性微粒子としては、金、銀、銅、パラジウム、またはニッケル等を含有する金属微粒子や、導電性ポリマー等が用いられる。

補充対象となるすべてのアドレス電極形成領域について液体材料の補充が終了したならば、吐出後の液体材料を乾燥処理し、液体材料に含まれる分散媒を蒸発させることによりアドレス電極７０６が形成される。

ところで、上記においてはアドレス電極７０６の形成を例示したが、上記表示電極７１１および蛍光体７０９についても上記各工程を経ることにより形成することができる。
表示電極７１１の形成の場合、アドレス電極７０６の場合と同様に、導電膜配線形成用材料を含有する液体材料（機能液）を機能液滴として表示電極形成領域に着弾させる。
また、蛍光体７０９の形成の場合には、各色（Ｒ，Ｇ，Ｂ）に対応する蛍光材料を含んだ液体材料（機能液）を機能液滴吐出ヘッド１７から液滴として吐出し、対応する色の放電室７０５内に着弾させる。

次に、図２４は、電子放出装置（ＦＥＤ装置あるいはＳＥＤ装置ともいう：以下、単に表示装置８００と称する）の要部断面図である。なお、同図では表示装置８００を、その一部を断面として示してある。
この表示装置８００は、互いに対向して配置された第１基板８０１、第２基板８０２、およびこれらの間に形成される電界放出表示部８０３を含んで概略構成される。電界放出表示部８０３は、マトリクス状に配置した複数の電子放出部８０５により構成されている。

第１基板８０１の上面には、カソード電極８０６を構成する第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂが相互に直交するように形成されている。また、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂで仕切られた部分には、ギャップ８０８を形成した導電性膜８０７が形成されている。すなわち、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７により複数の電子放出部８０５が構成されている。導電性膜８０７は、例えば酸化パラジウム（ＰｄＯ）等で構成され、またギャップ８０８は、導電性膜８０７を成膜した後、フォーミング等で形成される。

第２基板８０２の下面には、カソード電極８０６に対峙するアノード電極８０９が形成されている。アノード電極８０９の下面には、格子状のバンク部８１１が形成され、このバンク部８１１で囲まれた下向きの各開口部８１２に、電子放出部８０５に対応するように蛍光体８１３が配置されている。蛍光体８１３は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）のいずれかの色の蛍光を発光するもので、各開口部８１２には、赤色蛍光体８１３Ｒ、緑色蛍光体８１３Ｇおよび青色蛍光体８１３Ｂが、上記した所定のパターンで配置されている。

そして、このように構成した第１基板８０１と第２基板８０２とは、微小な間隙を存して貼り合わされている。この表示装置８００では、導電性膜（ギャップ８０８）８０７を介して、陰極である第１素子電極８０６ａまたは第２素子電極８０６ｂから飛び出す電子を、陽極であるアノード電極８０９に形成した蛍光体８１３に当てて励起発光し、カラー表示が可能となる。

この場合も、他の実施形態と同様に、第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂ、導電性膜８０７およびアノード電極８０９を、液滴吐出装置１を用いて形成することができると共に、各色の蛍光体８１３Ｒ，８１３Ｇ，８１３Ｂを、液滴吐出装置１を用いて形成することができる。

第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７は、図２５（ａ）に示す平面形状を有しており、これらを成膜する場合には、図２５（ｂ）に示すように、予め第１素子電極８０６ａ、第２素子電極８０６ｂおよび導電性膜８０７を作り込む部分を残して、バンク部ＢＢを形成（フォトリソグラフィ法）する。次に、バンク部ＢＢにより構成された溝部分に、第１素子電極８０６ａおよび第２素子電極８０６ｂを形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）し、その溶剤を乾燥させて成膜を行った後、導電性膜８０７を形成（液滴吐出装置１によるインクジェット法）する。そして、導電性膜８０７を成膜後、バンク部ＢＢを取り除き（アッシング剥離処理）、上記のフォーミング処理に移行する。なお、上記の有機ＥＬ装置の場合と同様に、第１基板８０１および第２基板８０２に対する親液化処理や、バンク部８１１，ＢＢに対する撥液化処理を行うことが、好ましい。

また、他の電気光学装置としては、金属配線形成、レンズ形成、レジスト形成および光拡散体形成等の装置が考えられる。上記した液滴吐出装置１を各種の電気光学装置（デバイス）の製造に用いることにより、各種の電気光学装置を効率的に製造することが可能である。

本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の描画対象となる基板の平面模式図である。 本発明の一実施形態に係る液滴吐出装置の平面模式図である。 液滴吐出装置に搭載される機能液滴吐出ヘッドをノズル面側から見た模式図である。 液滴吐出装置のガス吹出し口の４つの吹出しノズルを模式的に示す図であって、（ａ）は底面図、（ｂ）はｂ−ｂ線による断面図、（ｃ）はｃ−ｃ線による断面図、（ｄ）はｄ−ｄ−線による断面図である。 液滴吐出装置による描画処理を説明する概念図であって、（ａ）は第１描画処理を示す図、（ｂ）は第１液面振動処理を示す図、（ｃ）は第２描画処理を示す図、（ｄ）は第２液面振動処理を示す図である。 本発明の他の実施形態に係る液滴吐出装置の平面模式図である。 本発明の他の実施形態に係る液滴吐出装置の正面模式図である。 カラーフィルタ製造工程を説明するフローチャートである。 （ａ）〜（ｅ）は、製造工程順に示したカラーフィルタの模式断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第２の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 本発明を適用したカラーフィルタを用いた第３の例の液晶装置の概略構成を示す要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の要部断面図である。 有機ＥＬ装置である表示装置の製造工程を説明するフローチャートである。 無機物バンク層の形成を説明する工程図である。 有機物バンク層の形成を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層を形成する過程を説明する工程図である。 正孔注入／輸送層が形成された状態を説明する工程図である。 青色の発光層を形成する過程を説明する工程図である。 青色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 各色の発光層が形成された状態を説明する工程図である。 陰極の形成を説明する工程図である。 プラズマ型表示装置（ＰＤＰ装置）である表示装置の要部分解斜視図である。 電子放出装置（ＦＥＤ装置）である表示装置の要部断面図である。 表示装置の電子放出部廻りの平面図（ａ）およびその形成方法を示す平面図（ｂ）である。

符号の説明

１…液滴吐出装置 ２…描画装置 ７…コントローラ ８…チャンバ装置 １７…機能液滴吐出ヘッド ２１…セットテーブル ７１…チャンバルーム ７２…清浄ガス供給ユニット ８１…ガス吹出し口 ８２…ブロアユニット ８６…モータダンパー ８７…溶媒蒸発槽 ８９…ガス吹出しノズル ９０…風向板 ９１…ガス吸込み口 ９３…排気ファン ５０７ａ…画素領域 ５０７ｂ…区画壁部 Ｗ…基板

Claims (16)

1. バンク部により画成した基板上の多数の画素領域に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、
   機能液の吐出に伴って相対的に移動する前記機能液滴吐出ヘッドに後行して前記基板に臨み、前記基板上にガスを吹き付けて前記各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させるガス吹出し口と、
   前記ガス吹出し口に連なるガス送出手段と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置。
2. 前記描画手段、前記ガス吹出し口および前記ガス送出手段を収容するチャンバ装置を、更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
3. 前記描画手段および前記ガス吹出し口を収容するチャンバルームと、送気側を前記チャンバルームの送気口に連結し、吸気側を前記チャンバルームの排気口に連通した清浄ガス供給ユニットと、を有するチャンバ装置を、更に備え、
   前記ガス送出手段は、前記清浄ガス供給ユニットで構成され、且つ前記ガス吹出し口は前記送気口に連通していることを特徴とする請求項１に記載の液滴吐出装置。
4. 前記ガス吹出し口と前記送気口とを連通するガス吹出し流路には、吹出し流量調整手段が介設されていることを特徴とする請求項３に記載の液滴吐出装置。
5. 前記機能液滴吐出ヘッドを挟んで前記機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向の前後に前記ガス吹出し口が一対設けられていることを特徴とする請求項１ないし４のいずれかに記載の液滴吐出装置。
6. 前記ガス吹出し口は、先端部に前記機能液滴吐出ヘッドの相対移動方向に並ぶ４つの吹出しノズルを有し、
   前記４つの吹出しノズルは、前記相対移動方向に対し前記ガスを、斜め前方に吹き出す前吹出しノズル、斜め後方に吹き出す後吹出しノズル、斜め左方に吹き出す左吹出しノズル、斜め右方に吹き出す後吹出しノズルから成ることを特徴とする請求項１ないし５のいずれかに記載の液滴吐出装置。
7. 前記各吹出しノズルは、吹出し方向を指向する複数の風向板を有していることを特徴とする請求項６に記載の液滴吐出装置。
8. 前記ガス吹出し口は、前記基板がセットされるセットテーブルを横断するように配設されていることを特徴とする請求項１ないし７のいずれかに記載の液滴吐出装置。
9. 前記ガス吹出し口と前記ガス送出手段とを連通するガス吹出し流路に介設され、機能液の溶媒が気化した溶媒ガスを供給する溶媒蒸発槽を、更に備えたことを特徴とする請求項１ないし８のいずれかに記載の液滴吐出装置。
10. 前記ガス吹出し口に添設され、前記基板上に吹き付けたガスを吸込むガス吸込み口と、
    前記ガス吸込み口に連なるガス吸引手段と、を更に備えたことを特徴とする請求項９に記載の液滴吐出装置。
11. 前記ガス吸込み口は、前記ガス吹出し口を囲繞するように配設されていることを特徴とする請求項１０に記載の液滴吐出装置。
12. 前記描画手段の駆動および前記ガス送出手段の駆動を制御する制御手段を、更に備え、
    前記制御手段は、各画素領域の隅部近傍に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させた後、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させ、更に前記各画素領域の中心部に前記必要量の機能液の残りを吐出・着弾させた後、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させることを特徴とする請求項１ないし１１のいずれかに記載の液滴吐出装置。
13. バンク部により画成した基板上の多数の画素領域に対し、機能液を導入した機能液滴吐出ヘッドを相対的に移動させながら機能液を吐出・着弾させる描画手段と、
    前記各画素領域に着弾した機能液の液面を送風により挙動させる液面挙動手段と、を備えた液滴吐出装置の制御方法であって、
    前記描画手段により、前記各画素領域の隅部近傍に必要量の機能液の一部を吐出・着弾させる第１描画工程と、
    前記第１描画工程の後、前記液面挙動手段により、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させる第１挙動工程と、
    前記挙動工程の後、前記描画手段により、前記各画素領域の中央部に前記必要量の機能液の残りを吐出・着弾させる第２描画工程と、
    前記第２描画工程の後、前記液面挙動手段により、前記各画素領域に着弾した機能液の液面を挙動させる第２挙動工程と、を備えたことを特徴とする液滴吐出装置の制御方法。
14. 請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上の前記各画素領域に機能液滴による成膜部を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
15. 請求項１ないし１２のいずれかに記載の液滴吐出装置を用い、前記基板上の前記各画素領域に機能液滴による成膜部を形成したことを特徴とする電気光学装置。
16. 請求項１４に記載の電気光学装置の製造方法により製造した電気光学装置または請求項１５に記載の電気光学装置を、搭載したことを特徴とする電子機器。

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