JP2007149749A - Radiation detector, radiation imaging system and photoelectric conversion device - Google Patents
Radiation detector, radiation imaging system and photoelectric conversion device Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007149749A JP2007149749A JP2005338677A JP2005338677A JP2007149749A JP 2007149749 A JP2007149749 A JP 2007149749A JP 2005338677 A JP2005338677 A JP 2005338677A JP 2005338677 A JP2005338677 A JP 2005338677A JP 2007149749 A JP2007149749 A JP 2007149749A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photoelectric conversion
- signal
- switching elements
- pixel
- radiation
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Abstract
Description
本発明は、可視光、赤外線等の光を電気信号に変換する光電変換装置、これを用いた放射線検出装置、および放射線撮像システムに係り、とくにX線、γ線などの放射線を検出するデジタル放射線検出装置に関する。 The present invention relates to a photoelectric conversion device that converts light such as visible light and infrared light into an electric signal, a radiation detection device using the photoelectric conversion device, and a radiation imaging system, and particularly digital radiation that detects radiation such as X-rays and γ-rays. The present invention relates to a detection device.
デジタル放射線検出装置は、未だ用途が限られており、量産効果による低価格化が図れていない装置である。特に医療用途においては、放射被爆低減、即ち、特性向上の要望が強く、且つ、低価格化も望まれている。このことは、デジタル放射線検出装置が広く普及する上で必須の課題となっている。 The digital radiation detection apparatus is an apparatus for which the use is still limited and the cost reduction due to the mass production effect has not been achieved. Particularly in medical applications, there is a strong demand for radiation exposure reduction, that is, improvement in characteristics, and cost reduction is also desired. This is an indispensable problem for the widespread use of digital radiation detection devices.
このような事情を背景にして、特許文献1ではMIS(Metal Insulator Semiconductor)型センサパネルが提案され、低価格な放射線検出装置が実現されている。この装置では、TFT(Thin Film Transistor:薄膜トランジスタ)素子とセンサ素子の層構成が同様なMIS構造であることから、製造工程における簡略化が図られている。特に、CVD(Chemical Vapor Deposition)装置を共有可能にしたことで、低価格化を実現している。
しかしながら、今後更に、広くデジタル放射線検出装置を普及させるためには、現状の価格、センサ特性、仕様から低価格、高機能であり、且つ、様々な分野において様々な種類及び特性のセンサパネルを提供することが必要となる。また、広く普及することが、量産効果を誘導し、更に、低価格装置を実現できることにもなる。 However, in order to further popularize digital radiation detectors in the future, we will offer sensor panels of various types and characteristics in various fields, with low price and high functionality from the current price, sensor characteristics and specifications. It is necessary to do. Further, widespread use can induce mass production effects and can realize a low-cost device.
例えば、医療分野においては、撮影部位として、胸部撮影と比較的高精細が必要とされる乳房撮影の差異、或いは、撮影用途として手術目的の動画像、または、一般撮影の静止画像など、求められる特性が異なり、その結果、画素サイズは様々となる。 For example, in the medical field, a difference between breast imaging and relatively high-definition mammography that require relatively high definition, or a moving image for surgery or a still image for general imaging is required as an imaging part. The characteristics are different, and as a result, the pixel size varies.
本発明は、このような従来の事情を考慮してなされたもので、様々な画素サイズの高機能センサパネルを低価格で実現することを目的とする。 The present invention has been made in consideration of such conventional circumstances, and an object thereof is to realize high-performance sensor panels having various pixel sizes at a low price.
上記目的を達成するため、本発明に係る放射線検出装置は、基板上に、光を電気信号に変換する光電変換素子と、該光電変換素子で変換された電気信号を転送するスイッチング素子とを有する画素を複数有し、前記光電変換素子上に、入射する放射線を前記光電変換素子が感知可能な波長帯域の光に変換する波長変換体を備えた光電変換装置において、前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された光電変換素子とで構成されていることを特徴とする。ここで波長変換体は、入射するX線、γ線などの放射線を光電変換素子が感知可能な波長帯域の光に変換するものである。 In order to achieve the above object, a radiation detection apparatus according to the present invention includes, on a substrate, a photoelectric conversion element that converts light into an electrical signal, and a switching element that transfers an electrical signal converted by the photoelectric conversion element. A photoelectric conversion device comprising a plurality of pixels, and comprising a wavelength converter for converting incident radiation into light in a wavelength band that can be sensed by the photoelectric conversion element on the photoelectric conversion element, wherein the pixel is on the substrate And a plurality of switching elements disposed on the plurality of switching elements and a photoelectric conversion element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. Here, the wavelength converting body converts incident radiation such as X-rays and γ-rays into light in a wavelength band that can be sensed by the photoelectric conversion element.
また、本発明に係る放射線検出装置は、基板上に、入射する放射線を電気信号に変換する半導体素子と、該半導体素子で変換された電気信号を転送するためのスイッチング素子とを有する画素を複数有してなる放射線検出装置において、前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された半導体素子とで構成されていることを特徴とする。 In addition, the radiation detection apparatus according to the present invention includes a plurality of pixels on a substrate having a semiconductor element that converts incident radiation into an electrical signal and a switching element that transfers the electrical signal converted by the semiconductor element. In the radiation detection apparatus, the pixel includes a plurality of switching elements disposed on the substrate, and a semiconductor element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. It is characterized by.
本発明において、前記複数のスイッチング素子に接続される複数の駆動配線と、該複数の駆動配線に接続される駆動配線引出し端子部とをさらに有し、前記駆動配線引出し端子部は、前記複数の駆動配線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていてもよい。前記複数のスイッチング素子に接続される複数の信号線と、該複数の信号線が接続される信号線引出し端子部とをさらに有し、前記信号線引出し端子部は、前記複数の信号線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていてもよい。 In the present invention, it further includes a plurality of drive wires connected to the plurality of switching elements, and a drive wire lead terminal portion connected to the plurality of drive wires, and the drive wire lead terminal portion includes the plurality of drive wires. The drive wiring may be formed so as to be integrated into one terminal for each pixel. And a plurality of signal lines connected to the plurality of switching elements, and a signal line lead terminal portion to which the plurality of signal lines are connected. It may be formed so as to be integrated into one terminal every time.
本発明に係る放射線撮像システムは、上記いずれかに記載の放射線検出装置と、前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、前記放射線を発生させるための放射線源とを備えたことを特徴とする。 A radiation imaging system according to the present invention includes any one of the radiation detection apparatuses described above, a signal processing means for processing a signal from the radiation detection apparatus, and a recording means for recording a signal from the signal processing means. A display means for displaying a signal from the signal processing means; a transmission processing means for transmitting a signal from the signal processing means; and a radiation source for generating the radiation. And
本発明に係る光電変換装置は、基板上に、光を電気信号に変換する光電変換素子と、該光電変換素子で変換された電気信号を転送するスイッチング素子とを有する画素を複数有してなる光電変換装置において、前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された光電変換素子とで構成されていることを特徴とする。 A photoelectric conversion device according to the present invention includes, on a substrate, a plurality of pixels each including a photoelectric conversion element that converts light into an electric signal and a switching element that transfers an electric signal converted by the photoelectric conversion element. In the photoelectric conversion device, the pixel includes a plurality of switching elements disposed on the substrate and a photoelectric conversion element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. It is characterized by.
本発明によれば、同一のTFTアレイ基板などの複数のスイッチング素子が形成された基板から、画素サイズが異なる様々な種類のパネルを実現することが可能になる。これにより、多品種パネルの共通化が達成でき、製造工程を簡略化することが可能となる。その結果、様々な画素サイズの高機能センサパネルを低価格で実現することが可能になる。 According to the present invention, it is possible to realize various types of panels having different pixel sizes from a substrate on which a plurality of switching elements such as the same TFT array substrate are formed. As a result, it is possible to achieve commonality of multi-product panels and simplify the manufacturing process. As a result, high-performance sensor panels with various pixel sizes can be realized at a low price.
以下、本発明に係る放射線検出装置、放射線撮像システム、および光電変換装置を実施するための最良の形態について図面を参照して説明する。 DESCRIPTION OF EXEMPLARY EMBODIMENTS Hereinafter, a best mode for carrying out a radiation detection device, a radiation imaging system, and a photoelectric conversion device according to the invention will be described with reference to the drawings.
本発明の第1の実施例では、MIS型センサを用いた放射線検出装置について述べる。本実施例の放射線検出装置は、放射線を波長変換体であるシンチレータ層(蛍光体層)で光に変換し、光電変換素子で電気信号に変換する間接変換型のものに適用している。この放射線検出装置で用いる光電変換装置は、駆動配線と信号線に接続されたスイッチング素子としてのTFT素子と、そのTFT素子に接続されたセンサ素子とから構成されている。この構成において、駆動配線と信号線の行列配置により決定される画素要素が配列され、1つの画素として形成されるセンサ素子が複数の画素要素に接続されている。画素要素に接続されている複数の信号線は、夫々の端子部に接続され、1端子に統合されている。複数の駆動配線も、夫々の端子部に接続され、1端子に統合されている。 In the first embodiment of the present invention, a radiation detection apparatus using an MIS type sensor will be described. The radiation detection apparatus of the present embodiment is applied to an indirect conversion type device that converts radiation into light by a scintillator layer (phosphor layer) that is a wavelength converter and converts it into an electric signal by a photoelectric conversion element. The photoelectric conversion device used in this radiation detection apparatus is composed of a TFT element as a switching element connected to a drive wiring and a signal line, and a sensor element connected to the TFT element. In this configuration, pixel elements determined by a matrix arrangement of drive wirings and signal lines are arranged, and a sensor element formed as one pixel is connected to a plurality of pixel elements. A plurality of signal lines connected to the pixel element are connected to respective terminal portions and integrated into one terminal. A plurality of drive wirings are also connected to the respective terminal portions and integrated into one terminal.
図1に本実施例による放射線検出装置の模式的平面図を示す。図中、11はスイッチング素子を形成するTFT部、12は個別電極である。13はTFT部11のゲート電極に制御信号を送る駆動配線、14はセンサ部21からの信号をTFT部11のソース・ドレインを介して読み出す信号線である。21はセンサ素子を構成するセンサ部(図中、二点鎖線の輪郭で表示)である。22は端子接続部、15は端子接続部22に設けられる駆動配線13及び信号線14の引出し端子部、23は端子接続部22に設けられる最終引出し端子開口部である。駆動配線13の引出し端子部15は、最終引出し端子開口部23を介して駆動回路(非図示)に、また信号線14の引出し端子部15は、最終引出し端子開口部23を介して読み出し回路(非図示)にそれぞれ接続される。
FIG. 1 shows a schematic plan view of a radiation detection apparatus according to this embodiment. In the figure, 11 is a TFT portion for forming a switching element, and 12 is an individual electrode.
図中の例では、センサ部21上に波長変換体としてのシンチレータ(非図示)が実装される。シンチレータの実装工程は、センサパネル上にシンチレータ(蛍光体)を積層させたカーボンやフィルムに貼り合わせる方式でも、センサパネル上に直接シンチレータを堆積させる方式でも、いずれでも適用可能である。この構成において、X線等の放射線は、シンチレータ(非図示)により光電変換素子で検出可能な波長の光に変換され、その光がセンサ部21に入射する。入射光は、センサ部21にて光電変換及び蓄積され、その信号がTFT部11の転送動作により読み出し回路(非図示)に読み出される。
In the example in the figure, a scintillator (not shown) as a wavelength converter is mounted on the
本実施例では、TFT部11から成る2×2の画素要素が単一画素として機能している。即ち、2×2の画素要素上に1個のセンサ部21が配置されている。これに合わせて、TFT部11のゲート電極に接続される駆動配線13及びSD(ソース/ドレイン)電極に接続される信号線14は、引出し接続部22において、2ライン分が引出し端子部15を介して互いに接続される。これにより、単一画素を構成するセンサ部21毎に2×2の画素要素を成す複数のTFT部11の同時駆動および同時読出しが可能な構造となっている。この接続構造は、TFTアレイ上、即ち、個別電極12上に形成されるセンサ部21を作成する段階で同時に形成される。また、本実施例では、2×2の画素要素を1画素として機能させているが、画素サイズはこれに限らず、例えば3×3の画素要素を1画素として機能させてもよく、1×1の画素要素を1画素として機能させてもよい。
In this embodiment, a 2 × 2 pixel element composed of the
図2は、図1中のA−A部の模式的断面図を示す。 FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along a line AA in FIG.
図2において、101はガラス基板、102はゲート電極、103はゲート絶縁膜、104はTFT半導体層、105はTFTチャネル保護膜、106はオーミックコンタクト層、107はTFT SD電極である。108は保護層、109は層間絶縁層、110は個別電極である。また、201はセンサ絶縁層、202はセンサ半導体層、203はキャリアブロッキング層、204はセンサ透明電極、205はセンサバイアス線、206は保護膜である。このように、TFTアレイ上に、層間絶縁層109を介して、センサ部を形成することにより、開口率を上げ、また信号線などの配線幅を広げてノイズを低減させ、センサ感度向上を達成することができる。
In FIG. 2, 101 is a glass substrate, 102 is a gate electrode, 103 is a gate insulating film, 104 is a TFT semiconductor layer, 105 is a TFT channel protective film, 106 is an ohmic contact layer, and 107 is a TFT SD electrode.
本実施例では、センサ半導体層202が複数の個別電極110にまたがって配置されている。これによれば、1つの画素要素が欠陥であっても、他の3つの画素要素で駆動でき、画素欠陥低減に効果があり、画像品位を向上させる利点もある。
In this embodiment, the
図3は、図1中のB−B部の模式的断面図を示す。 FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB in FIG.
図3において、101はガラス基板、103はゲート絶縁膜、108、206は保護膜、301は図2においてTFT SD電極107と同時に形成される引出し電極、302は図2において個別電極110と同時に形成される引出し電極、303は図2においてセンサ透明電極204と同時に形成される端子接続部、304は最終引出し端子開口部である。
3, 101 is a glass substrate, 103 is a gate insulating film, 108 and 206 are protective films, 301 is an extraction electrode formed simultaneously with the
以上説明したように、本実施例では、例えば、2×2の画素要素が単一画素として機能させるため、2×2画素要素上に1個のセンサを配置し、引出し接続部においても、2ラインを引出し端子部で接続して同時駆動、同時読出しが可能な構造としている。この接続構造は、前述のようにTFTアレイ上にセンサ部を作成する段階で同時に形成される。本実施例では、2×2の画素要素を1画素として機能させる場合を例示しているが、例えば3×3の画素要素を1画素として機能させたり、1×1の画素要素を1画素として機能させたりすることも可能である。 As described above, in this embodiment, for example, in order for a 2 × 2 pixel element to function as a single pixel, one sensor is arranged on the 2 × 2 pixel element, and the drawer connection portion also has 2 The line is connected at the lead-out terminal so that it can be driven and read simultaneously. This connection structure is formed at the same time as the sensor part is formed on the TFT array as described above. In this embodiment, a case where a 2 × 2 pixel element is caused to function as one pixel is illustrated, but for example, a 3 × 3 pixel element is allowed to function as one pixel, or a 1 × 1 pixel element is assumed to be one pixel. It is also possible to make it function.
従って、本実施例によれば、同一のTFTアレイ基板を用いて画素サイズが異なる様々な種類のパネルを実現することができる。これにより、多品種パネルの共通化が達成でき、製造工程を簡略化することが可能となる。その結果、低価格化と特性向上が同時に達成できる。 Therefore, according to the present embodiment, various types of panels having different pixel sizes can be realized using the same TFT array substrate. As a result, it is possible to achieve commonality of multi-product panels and simplify the manufacturing process. As a result, lower prices and improved characteristics can be achieved at the same time.
なお、図2で示したセンサ部を統合した構造、及び、図3で示した端子部を統合した構造は、どちらか一方の構造を採用することで十分に低価格化が達成できる。例えば、図2の構造は、開口率が向上し、複数ライン駆動など駆動方法を工夫すれば本質的な低価格化と高機能化が達成できる。また、図3の構造は、外付けのドライバー及びアンプICの固執を削減できる利点がある。しかし、最大の効果を出すためには、両構造を採用することが望ましい。また本実施例では、MIS型センサを例にとって述べているが、基本的には、PIN型センサにおいても同様に本発明は有効に機能する。 In addition, the structure which integrated the sensor part shown in FIG. 2 and the structure which integrated the terminal part shown in FIG. 3 can achieve price reduction enough by employ | adopting either one structure. For example, the aperture ratio of the structure of FIG. 2 is improved, and if a driving method such as multi-line driving is devised, an essential cost reduction and high functionality can be achieved. Further, the structure of FIG. 3 has an advantage that sticking of an external driver and an amplifier IC can be reduced. However, in order to obtain the maximum effect, it is desirable to adopt both structures. In the present embodiment, the MIS type sensor is described as an example. Basically, the present invention functions effectively also in the PIN type sensor.
なお、本実施例では、アモルファスシリコンTFTとして、逆スタガ型(ボトムゲート型)のものを用いているが、スタガ型(トップゲート型)のものを用いてもよい。また、アモルファスシリコンTFTの代わりにポリシリコンTFTを用いてもよい。 In this embodiment, as the amorphous silicon TFT, an inverted stagger type (bottom gate type) is used, but a stagger type (top gate type) may be used. A polysilicon TFT may be used in place of the amorphous silicon TFT.
また、本実施例では、スイッチング素子の例としてTFTを用いた場合を説明しているが、本発明は必ずしもこれに限定されるものではない。例えば、スイッチング素子として、ダイオードを用いたものでもよい。 In this embodiment, the case where a TFT is used as an example of the switching element is described. However, the present invention is not necessarily limited to this. For example, a diode may be used as the switching element.
本発明の第2の実施例では、LCD(Liquid Crystal Display)パネルのTFTアレイ基板を利用した放射線検出装置について説明する。 In the second embodiment of the present invention, a radiation detection apparatus using a TFT array substrate of an LCD (Liquid Crystal Display) panel will be described.
図4は本実施例の模式的平面図である。図中、11はTFT部、12は個別電極、13は駆動配線、14は信号線、15は引出し端子部、21はセンサ部(図中、二点鎖線の輪郭で表示)である。本実施例は3×3画素のセンサであり、1画素は3画素要素(LCDで用いるカラーフィルタの赤、緑、青の三原色パターンに対応する画素要素)より構成されている。 FIG. 4 is a schematic plan view of the present embodiment. In the figure, 11 is a TFT section, 12 is an individual electrode, 13 is a drive wiring, 14 is a signal line, 15 is a lead terminal section, and 21 is a sensor section (indicated by the outline of a two-dot chain line in the figure). The present embodiment is a 3 × 3 pixel sensor, and one pixel is composed of three pixel elements (pixel elements corresponding to the three primary color patterns of red, green, and blue of the color filter used in the LCD).
本実施例では、3個の画素要素が1画素を構成しているが、このとき、統合された1画素は正方形であり、個々の画素要素は複数等分された長方形である。即ち、TFTアレイまでは、液晶表示素子で用いられる画素構造であり、安価に大量生産されている構造であり、センサを低価格する上で利点の大きい画素構成である。勿論、個別電極12からセンサと同様、統合することも考えられる。
In the present embodiment, three pixel elements constitute one pixel. At this time, one integrated pixel is a square, and each pixel element is a rectangle divided into a plurality of equal parts. That is, the pixel structure used in the liquid crystal display element up to the TFT array is a structure that is mass-produced at a low price, and has a great advantage in reducing the cost of the sensor. Of course, integration from the
従って、本実施例によれば、前述と同様の効果に加え、LCDで大量生産されるTFTアレイ基板をそのまま利用して放射線検出装置を製造することができ、より一層の低価格化を実現することが可能になる。 Therefore, according to the present embodiment, in addition to the same effects as described above, the radiation detection apparatus can be manufactured using the TFT array substrate mass-produced by the LCD as it is, and further cost reduction is realized. It becomes possible.
前述した各実施例では、入射される放射線をシンチレータで光に変換して光電変換素子で検出する間接変換型センサを用いた放射線検出装置を例示している。これに対し、本発明の第3の実施例では、入射される放射線を直接電気信号に変換するCdTeなどの直接型センサを用いた放射線検出装置について述べる。 In each of the above-described embodiments, a radiation detection apparatus using an indirect conversion type sensor that converts incident radiation into light with a scintillator and detects the light with a photoelectric conversion element is illustrated. In contrast, in a third embodiment of the present invention, a radiation detection apparatus using a direct sensor such as CdTe that directly converts incident radiation into an electrical signal will be described.
図5は本実施例の模式的断面図である。図中、101はガラス基板、102はゲート電極、103はゲート絶縁膜、104はTFT半導体層、105はTFTチャネル保護膜、106はオーミックコンタクト層、107はTFT SD電極である。108は保護層、109は層間絶縁層、110は個別電極である。また、301は導電性樹脂接続部、302はセンサ部個別電極、303はCdTe等直接変換材料(半導体素子)、304はセンサ共通電極である。本実施例は、TFTアレイの複数の画素要素がセンサアレイの1画素に接続されている。そのため、接続方法は、図5の様に一括であっても、個別であっても基本的に同様である。この構成において、X線等の放射線は、直接変換材料303で電気信号に変換され、TFT部の転送動作により読み出し回路(非図示)に読み出される。
FIG. 5 is a schematic sectional view of the present embodiment. In the figure, 101 is a glass substrate, 102 is a gate electrode, 103 is a gate insulating film, 104 is a TFT semiconductor layer, 105 is a TFT channel protective film, 106 is an ohmic contact layer, and 107 is a TFT SD electrode.
なお、本実施例では、直接型センサを構成する直接変換材料(半導体素子)としてCdTeを例示しているが、本発明にこれに限定されるものではなく、例えばa−Se(アモルファスセレン)材料などでもよい。 In this embodiment, CdTe is exemplified as the direct conversion material (semiconductor element) constituting the direct sensor, but the present invention is not limited to this, and for example, a-Se (amorphous selenium) material. Etc.
なお、上述した各実施例では、放射線検出装置を説明しているが、本発明は必ずしもこれに限らず、完全積層型の光電変換装置にも適用可能である。例えば、基板上に、光を電気信号に変換する光電変換素子と、該光電変換素子で変換された電気信号を転送するスイッチング素子とを有する画素を複数有してなる光電変換装置に用いることができる。この場合、画素は、基板上に配置された複数のスイッチング素子と、複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された光電変換素子とで構成される。 In each of the above-described embodiments, the radiation detection apparatus has been described. However, the present invention is not necessarily limited thereto, and can be applied to a completely stacked photoelectric conversion apparatus. For example, it is used for a photoelectric conversion device including a plurality of pixels each including a photoelectric conversion element that converts light into an electric signal and a switching element that transfers an electric signal converted by the photoelectric conversion element on a substrate. it can. In this case, the pixel includes a plurality of switching elements arranged on the substrate and photoelectric conversion elements arranged on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements.
本発明の第4の実施例では、本発明に係る放射線検出装置を用いた放射線撮像システムについて説明する。 In the fourth embodiment of the present invention, a radiation imaging system using the radiation detection apparatus according to the present invention will be described.
図6は本実施例の概要図である。図6において、X線チューブ6050で発生したX線6060は患者あるいは被験者6061の胸部6062を透過し、シンチレータを上部に実装した放射線検出装置6040に入射する。この入射したX線には患者6061の体内部の情報が含まれている。X線の入射に対応してシンチレータは発光し、これを光電変換して、電気的情報を得る。この情報はデジタルに変換され。イメージプロセッサ6070により画像処理され制御室のディスプレイ6080で観察できる。
FIG. 6 is a schematic diagram of this embodiment. In FIG. 6, the
また、この情報は電話回線6090等の伝送手段により遠隔地へ転送でき、別の場所のドクタールームなどディスプレイ6081に表示もしくは光ディスク等の保存手段に保存することができ、遠隔地の医師が診断することも可能である。またフィルムプロセッサ6100によりフィルム6110に記録することもできる。
Further, this information can be transferred to a remote place by a transmission means such as a
本発明は、完全積層型の光電変換装置及びこれを用いた放射線検出装置の用途に適用でき、とくに医療画像診断装置、非破壊検査装置、放射線を用いた分析装置などに応用できる。 INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can be applied to the use of a completely stacked photoelectric conversion device and a radiation detection device using the photoelectric conversion device, and particularly applicable to medical image diagnostic devices, nondestructive inspection devices, analysis devices using radiation, and the like.
11 TFT部
12 個別電極
13 駆動配線
14 信号線
15 引出し端子部
21 センサ部
22 端子接続部
23 最終引出し端子開口部
109 層間絶縁層
110 個別電極
201 センサ絶縁層
202 センサ半導体層
204 センサ透明電極
205 センサバイアス線
206 保護膜
301 導電性樹脂接続部
302 センサ部個別電極
303 CdTe等直接変換材料
304 センサ共通電極
11
Claims (8)
前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された光電変換素子とで構成されていることを特徴とする放射線検出装置。 Radiation incident on a photoelectric conversion element having a plurality of pixels each having a photoelectric conversion element that converts light into an electric signal and a switching element that transfers an electric signal converted by the photoelectric conversion element. In a radiation detection apparatus comprising a wavelength conversion body that converts light into a wavelength band that can be sensed by the photoelectric conversion element,
The pixel includes a plurality of switching elements disposed on the substrate and a photoelectric conversion element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. Detection device.
前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された半導体素子とで構成されていることを特徴とする放射線検出装置。 In a radiation detection apparatus comprising a plurality of pixels each having a semiconductor element that converts incident radiation into an electrical signal and a switching element for transferring the electrical signal converted by the semiconductor element on a substrate.
The pixel includes a plurality of switching elements disposed on the substrate and a semiconductor element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. apparatus.
前記駆動配線引出し端子部は、前記複数の駆動配線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていることを特徴とする請求項1又は2記載の放射線検出装置。 A plurality of drive wirings connected to the plurality of switching elements; and a drive wiring lead terminal portion connected to the plurality of drive wirings;
The radiation detection apparatus according to claim 1, wherein the drive wiring lead-out terminal portion is formed so that the plurality of drive wirings are integrated into one terminal for each pixel.
前記信号線引出し端子部は、前記複数の信号線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていることを特徴とする請求項1乃至3のいずれか1項に記載の放射線検出装置。 A plurality of signal lines connected to the plurality of switching elements; and a signal line lead-out terminal portion to which the plurality of signal lines are connected;
4. The radiation detection apparatus according to claim 1, wherein the signal line lead-out terminal portion is formed so that the plurality of signal lines are integrated into one terminal for each pixel. 5. .
前記放射線検出装置からの信号を処理する信号処理手段と、
前記信号処理手段からの信号を記録するための記録手段と、
前記信号処理手段からの信号を表示するための表示手段と、
前記信号処理手段からの信号を伝送するための伝送処理手段と、
前記放射線を発生させるための放射線源とを備えたことを特徴とする放射線撮像システム。 The radiation detection apparatus according to any one of claims 1 to 4,
Signal processing means for processing signals from the radiation detection device;
Recording means for recording a signal from the signal processing means;
Display means for displaying a signal from the signal processing means;
Transmission processing means for transmitting a signal from the signal processing means;
A radiation imaging system comprising: a radiation source for generating the radiation.
前記画素は、前記基板上に配置された複数のスイッチング素子と、前記複数のスイッチング素子上に配置され、複数のスイッチング素子に接続された光電変換素子とで構成されていることを特徴とする光電変換装置。 On a substrate, a photoelectric conversion device having a plurality of pixels each having a photoelectric conversion element that converts light into an electric signal and a switching element that transfers an electric signal converted by the photoelectric conversion element.
The pixel includes a plurality of switching elements disposed on the substrate, and a photoelectric conversion element disposed on the plurality of switching elements and connected to the plurality of switching elements. Conversion device.
前記駆動配線引出し端子部は、前記複数の駆動配線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていることを特徴とする請求項6記載の光電変換装置。 A plurality of drive wirings connected to the plurality of switching elements; and a drive wiring lead terminal portion connected to the plurality of drive wirings;
The photoelectric conversion device according to claim 6, wherein the drive wiring lead terminal portion is formed so that the plurality of drive wirings are integrated into one terminal for each pixel.
前記信号線引出し端子部は、前記複数の信号線が画素毎に1端子に統合されるように形成されていることを特徴とする請求項6又は7に記載の光電変換装置。 A plurality of signal lines connected to the plurality of switching elements; and a signal line lead-out terminal portion to which the plurality of signal lines are connected;
The photoelectric conversion device according to claim 6, wherein the signal line lead terminal portion is formed so that the plurality of signal lines are integrated into one terminal for each pixel.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005338677A JP4875349B2 (en) | 2005-11-24 | 2005-11-24 | Radiation detection apparatus, radiation imaging system, and detection apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005338677A JP4875349B2 (en) | 2005-11-24 | 2005-11-24 | Radiation detection apparatus, radiation imaging system, and detection apparatus |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007149749A true JP2007149749A (en) | 2007-06-14 |
JP2007149749A5 JP2007149749A5 (en) | 2009-01-08 |
JP4875349B2 JP4875349B2 (en) | 2012-02-15 |
Family
ID=38210836
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005338677A Expired - Fee Related JP4875349B2 (en) | 2005-11-24 | 2005-11-24 | Radiation detection apparatus, radiation imaging system, and detection apparatus |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4875349B2 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8440977B2 (en) | 2007-11-05 | 2013-05-14 | Takamasa Ishii | Manufacturing method of radiation detecting apparatus, and radiation detecting apparatus and radiation imaging system |
WO2023085531A3 (en) * | 2021-06-30 | 2023-07-06 | 주식회사 에이투테크 | Color image acquisition device using x-rays |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0595514A (en) * | 1991-10-02 | 1993-04-16 | Olympus Optical Co Ltd | Solid-state image pickup device and manufacture of the same |
JPH05145859A (en) * | 1991-11-25 | 1993-06-11 | Hitachi Ltd | Solid-state image pickup device and control method thereof |
JP2001320039A (en) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Canon Inc | Photoelectric conversion device |
JP2004015002A (en) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Canon Inc | Radiation imaging device |
-
2005
- 2005-11-24 JP JP2005338677A patent/JP4875349B2/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0595514A (en) * | 1991-10-02 | 1993-04-16 | Olympus Optical Co Ltd | Solid-state image pickup device and manufacture of the same |
JPH05145859A (en) * | 1991-11-25 | 1993-06-11 | Hitachi Ltd | Solid-state image pickup device and control method thereof |
JP2001320039A (en) * | 2000-05-11 | 2001-11-16 | Canon Inc | Photoelectric conversion device |
JP2004015002A (en) * | 2002-06-11 | 2004-01-15 | Canon Inc | Radiation imaging device |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8440977B2 (en) | 2007-11-05 | 2013-05-14 | Takamasa Ishii | Manufacturing method of radiation detecting apparatus, and radiation detecting apparatus and radiation imaging system |
WO2023085531A3 (en) * | 2021-06-30 | 2023-07-06 | 주식회사 에이투테크 | Color image acquisition device using x-rays |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4875349B2 (en) | 2012-02-15 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5043373B2 (en) | Conversion device, radiation detection device, and radiation detection system | |
JP5043374B2 (en) | Conversion device, radiation detection device, and radiation detection system | |
US8067743B2 (en) | Imaging apparatus and radiation imaging apparatus | |
JP5043380B2 (en) | Radiation detection apparatus and radiation detection system | |
JP4845352B2 (en) | Radiation imaging apparatus, manufacturing method thereof, and radiation imaging system | |
US8680472B2 (en) | Radiation detecting apparatus and radiation imaging system | |
JP5173234B2 (en) | Radiation imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP5235350B2 (en) | Imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP4908947B2 (en) | Conversion device, radiation detection device, and radiation detection system | |
JP4498283B2 (en) | Imaging apparatus, radiation imaging apparatus, and manufacturing method thereof | |
US7547890B2 (en) | Image pick-up apparatus and manufacturing method thereof, radiation image pick-up apparatus, and radiation image pick-up system | |
JP5328169B2 (en) | Imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP4908935B2 (en) | Photoelectric conversion device and imaging system | |
US20060033033A1 (en) | Radiation detection apparatus and system | |
JP5400507B2 (en) | Imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP2012079860A (en) | Detector and radiation detection system | |
JP2012038857A (en) | Detector and radiation detection system | |
JP2012079820A (en) | Detector and radiation detection system | |
JP4875349B2 (en) | Radiation detection apparatus, radiation imaging system, and detection apparatus | |
JP2004015000A (en) | Radiation detector and radiation imaging systems | |
US20070228423A1 (en) | Imaging apparatus and radiation imaging system | |
JP4393085B2 (en) | Radiation detector | |
JP2004303925A (en) | Substrate for imaging | |
JP2007281690A (en) | Electromagnetic wave detector and radiation imaging system | |
JP2005136330A (en) | Imaging device and radiation imaging system |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20080207 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20081114 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20081114 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20090326 |
|
RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7425 Effective date: 20090427 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110630 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110701 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110829 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110916 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20111104 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20111121 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20111125 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 4875349 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20141202 Year of fee payment: 3 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |