JP2007145835A - Oxetane compound - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は新規なオキセタン化合物に関する。 The present invention relates to a novel oxetane compound.
オキセタン化合物は、光カチオン重合や酸無水物を用いる熱重合に適用される材料として、従来、多種のものが報告されている（例えば、下記特許文献１〜３参照。）
例えば、下記特許文献３には、下記式で表されるオキセタン化合物（オキセタン環含有(メタ)アクリル酸エステル）が開示される。
Conventionally, various oxetane compounds have been reported as materials applied to photocationic polymerization and thermal polymerization using an acid anhydride (for example, see Patent Documents 1 to 3 below).
For example, Patent Document 3 below discloses an oxetane compound (oxetane ring-containing (meth) acrylic acid ester) represented by the following formula.
本発明は、新規なオキセタン化合物を提供することを目的とする。 An object of the present invention is to provide a novel oxetane compound.
前記課題を解決するための手段は以下の通りである。
＜１＞ 下記一般式（Ｉ）で表される化合物。
Means for solving the above-mentioned problems are as follows.
<1> A compound represented by the following general formula (I).
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ３は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。 In general formula (I), each R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group. n shows the integer of 1-8.
本発明によれば、硬化性組成物の重合性成分として有用な、新規なオキセタン化合物を提供することができる。 According to the present invention, a novel oxetane compound useful as a polymerizable component of a curable composition can be provided.
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明は、下記一般式（Ｉ）で表される化合物である。
The present invention will be described in detail below.
The present invention is a compound represented by the following general formula (I).
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は各々独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。Ｒ３は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。 In general formula (I), each R 1 independently represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group. n shows the integer of 1-8.
一般式（Ｉ）中、Ｒ１で表されるアルキル基としては、炭素原子数１〜１０（好ましくは１〜６、より好ましくは１〜４）のアルキル基が挙げられる。具体的には、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基等が挙げられる。 In general formula (I), examples of the alkyl group represented by R 1 include an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms (preferably 1 to 6, more preferably 1 to 4). Specific examples include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, a pentyl group, and a hexyl group.
Ｒ１で表されるアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、ペンチル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基がより好ましい。 The alkyl group represented by R 1 is preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, an isopropyl group, a butyl group, or a pentyl group, and more preferably a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or an isopropyl group.
一般式（Ｉ）中、Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、炭素原子数４〜１２（好ましくは５〜７、より好ましくは５〜６）のシクロアルキル基が挙げられる。具体的には、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基、ビシクロ環基等が挙げられる。 In general formula (I), examples of the cycloalkyl group represented by R 1 include cycloalkyl groups having 4 to 12 carbon atoms (preferably 5 to 7, more preferably 5 to 6). Specific examples include a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a bicyclo ring group.
Ｒ１で表されるシクロアルキル基としては、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基が好ましく、シクロヘプチル基、シクロへキシル基がより好ましい。 The cycloalkyl group represented by R 1 is preferably a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, or a cyclopentyl group, and more preferably a cycloheptyl group or a cyclohexyl group.
Ｒ１で表されるフェニル基としては、炭素原子数６〜１２（好ましくは６〜８）のアリール基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基等が挙げられる。
Ｒ１で表されるアリール基としては、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が好ましく、フェニル基、ベンジル基がより好ましい。
Examples of the phenyl group represented by R 1 include aryl groups having 6 to 12 (preferably 6 to 8) carbon atoms. Specific examples include a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a benzyl group.
The aryl group represented by R 1 is preferably a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, or a benzyl group, and more preferably a phenyl group or a benzyl group.
これらのなかでも、Ｒ１としては、アルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましい。
一般式（Ｉ）における２つのＲ１は互いに同じでも異なっていてもよいが、合成適性の観点からは、互いに同じであることが好ましく、双方のＲ１が、炭素数１〜４のアルキル基であることが重合反応性の観点から最も好ましい。
Among these, R 1 is preferably an alkyl group, and more preferably an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms.
Two R 1 s in the general formula (I) may be the same or different from each other, but are preferably the same from the viewpoint of synthesis suitability, and both R 1 are alkyl groups having 1 to 4 carbon atoms. It is most preferable from the viewpoint of polymerization reactivity.
一般式（Ｉ）において、Ｒ３で表されるアルキレン基としては、炭素原子数２〜１２（好ましくは２〜８、より好ましくは２〜６）のアルキレン基が挙げられる。具体的には、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が挙げられる。
Ｒ３で表されるシクロアルキレン基としては、炭素原子数４〜１２（好ましくは４〜８、より好ましくは５〜７）のシクロアルキレン基が挙げられる。具体的には、シクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロペンチル基、ビシクロ環基等が挙げられる。
In the general formula (I), the alkylene group represented by R 3 includes an alkylene group having 2 to 12 (preferably 2 to 8, more preferably 2 to 6) carbon atoms. Specific examples include an ethylene group, a propylene group, an isopropylene group, a butylene group, a pentylene group, and a hexylene group.
Examples of the cycloalkylene group represented by R 3 include cycloalkylene groups having 4 to 12 carbon atoms (preferably 4 to 8, more preferably 5 to 7). Specific examples include a cycloheptyl group, a cyclohexyl group, a cyclopentyl group, and a bicyclo ring group.
Ｒ３で表されるアリーレン基としては、炭素原子数６〜１２（好ましくは６〜１２、より好ましくは６〜８）のアリーレン基が挙げられる。具体的には、フェニル基、ビフェニル基、ナフチル基、ベンジル基が好ましく、フェニル基、ベンジル基等が挙げられる。
これらのなかでも、Ｒ３としては、アルキル基が好ましく、炭素数１〜４のアルキル基であることがさらに好ましい。
Examples of the arylene group represented by R 3 include an arylene group having 6 to 12 carbon atoms (preferably 6 to 12 and more preferably 6 to 8). Specifically, a phenyl group, a biphenyl group, a naphthyl group, and a benzyl group are preferable, and a phenyl group, a benzyl group, and the like are mentioned.
Among these, as R < 3 >, an alkyl group is preferable and it is more preferable that it is a C1-C4 alkyl group.
Ｒ１、Ｒ３は、導入可能な場合、さらに置換基を有していてもよい。Ｒ１、Ｒ３に導入可能な置換基としては、例えば、ハロゲン原子、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、アミノ基が挙げられる。 When R 1 and R 3 can be introduced, they may further have a substituent. Examples of the substituent that can be introduced into R 1 and R 3 include a halogen atom, an alkoxy group, an aryloxy group, a nitro group, and an amino group.
一般式（Ｉ）で表される化合物としては、双方のＲ１が炭素数１〜４のアルキル基であり、且つ、Ｒ３が炭素数１〜４のアルキル基である態様が好ましい。 Examples of the compound represented by the general formula (I), both R 1 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms, and, aspect R 3 is an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms are preferred.
ｎとしては、１〜８の整数であり、２〜６の整数がより好ましく、２〜４の整数が特に好ましい。
本発明の化合物は、反応性に優れるが、ｎの値を上記好ましい範囲とすることにより、さらなる反応性の向上が達成され、且つ、低粘度であるために取り扱い性に優れる化合物となる。
As n, it is an integer of 1-8, the integer of 2-6 is more preferable, and the integer of 2-4 is especially preferable.
Although the compound of the present invention is excellent in reactivity, by setting the value of n within the above preferred range, further improvement in reactivity is achieved, and the compound is excellent in handleability because of low viscosity.
以下、一般式（Ｉ）で表される化合物の代表的な具体例〔例示化合物（１）〜（７）〕を挙げるが、本発明はこれらの具体例に何ら限定されるものではない。 Hereinafter, typical specific examples [Exemplary compounds (1) to (7)] of the compound represented by the general formula (I) are listed, but the present invention is not limited to these specific examples.
一般式（Ｉ）で表される化合物は、下記の製造方法により製造することができる。
（１）原料
まず、一般式（１）で表されるオキセタン化合物を製造する際の原料について説明する。すなわち、脱ハロゲン化水素反応であるモトイの方法（Ｍｏｔｏｉ、ｅｔ．Ａｌ．，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６１，１９９８）に準拠して、オキセタン化合物を製造できるものであれば、いずれの原料も使用することができる。オキセタン化合物を製造できるものであれば、いずれの原料も使用することができる。具体的には、下記一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物と、下記一般式（III）で表されるジハロゲン化エーテル化合物とのエーテル化反応により、一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造することができる。
The compound represented by the general formula (I) can be produced by the following production method.
(1) Raw material First, the raw material at the time of manufacturing the oxetane compound represented by General formula (1) is demonstrated. That is, any raw material can be used as long as it can produce an oxetane compound according to the method of Motoi, which is a dehydrohalogenation reaction (Motoi, et. Al., Bull. Chem. Soc. Jpn. 61, 1998). Can also be used. Any raw material can be used as long as it can produce an oxetane compound. Specifically, it is represented by the general formula (I) by an etherification reaction between an oxetane alcohol compound represented by the following general formula (II) and a dihalogenated ether compound represented by the following general formula (III). Oxetane compounds can be produced.
一般式（II)中、Ｒ１は、アルキル基、シクロアルキル基、又はアリール基を表す。一般式（III)中、Ｒ３は、アルキレン基、シクロアルキレン基、又はアリーレン基を表す。ｎは１〜８の整数を示す。Ｘ１、Ｘ２はそれぞれ独立にハロゲン基又はスルホン酸エステル等の脱離基を表す。 In general formula (II), R 1 represents an alkyl group, a cycloalkyl group, or an aryl group. In general formula (III), R 3 represents an alkylene group, a cycloalkylene group, or an arylene group. n shows the integer of 1-8. X 1 and X 2 each independently represent a halogen group or a leaving group such as a sulfonate ester.
より具体的な一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物としては、例えば、３−メチル−３−オキセタンメタノール、３−メチル−３−オキセタンエタノール、３−メチル−３−オキセタンプロパノール、３−エチル−３−オキセタンメタノール、３−エチル−３−オキセタンエタノール、３−エチル−３−オキセタンプロパノール、３−プロピル−３−オキセタンメタノール、３−プロピル−３−オキセタンエタノール、３−プロピル−３−オキセタンプロパノール等の１種単独あるいは２種以上の組合せが挙げられる。 More specific examples of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II) include 3-methyl-3-oxetanemethanol, 3-methyl-3-oxetaneethanol, 3-methyl-3-oxetanepropanol, 3- Ethyl-3-oxetanemethanol, 3-ethyl-3-oxetaneethanol, 3-ethyl-3-oxetanepropanol, 3-propyl-3-oxetanemethanol, 3-propyl-3-oxetaneethanol, 3-propyl-3-oxetane One type alone or a combination of two or more types such as propanol may be mentioned.
また、より具体的な一般式（III）で表されるジハロゲン化エーテル化合物としては、ビス（２−クロルエチル）エーテル、ビス（２−ブロムエチル）エーテル、ビス（３−クロルプロピル）エーテル、ビス（３−ブロムプロピル）エーテル、ビス（４−クロルブチル）エーテル、ビス（４−ブロムブチル）エーテル、ビス（２−ブロモエチル）エーテル、１，２−ビス（２−クロロエトキシ）エタン等の１種単独あるいは２種以上の組合せが挙げられる。 As more specific dihalogenated ether compounds represented by general formula (III), bis (2-chloroethyl) ether, bis (2-bromoethyl) ether, bis (3-chloropropyl) ether, bis (3 -Brompropyl) ether, bis (4-chlorobutyl) ether, bis (4-bromobutyl) ether, bis (2-bromoethyl) ether, 1,2-bis (2-chloroethoxy) ethane, etc. The combination of the above is mentioned.
また、一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物と、一般式（III）で表されるジハロゲン化エーテル化合物との反応割合は特に制限されるものではないが、一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物１モルあたり、一般式（III）で表されるジハロゲン化エーテル化合物を０．０５〜０．６モルの範囲内で反応させることが好ましい。更に、一般式（II）で表されるオキセタンアルコール化合物１モルあたり、一般式（III）で表されるハロゲン化ビニルエーテル化合物を０．２〜０．５モルの範囲内で反応させることがより好ましい。 The reaction rate of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II) and the dihalogenated ether compound represented by the general formula (III) is not particularly limited, but is represented by the general formula (II). It is preferable to react the dihalogenated ether compound represented by the general formula (III) within a range of 0.05 to 0.6 mol per 1 mol of the oxetane alcohol compound. Furthermore, it is more preferable to react the halogenated vinyl ether compound represented by the general formula (III) within a range of 0.2 to 0.5 mole per 1 mole of the oxetane alcohol compound represented by the general formula (II). .
（２）反応温度
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応温度について説明する。前記２成分を反応させるための反応温度としては、オキセタン化合物の収率等を考慮して定められるが、原料化合物同士の反応性や収率向上、及び、使用可能な有機溶媒選択の自由度といった観点からは、０〜１００℃の範囲内の温度が好ましく、１０〜９０℃の範囲内の値とするのがより好ましく、２０〜８０℃の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(2) Reaction temperature The reaction temperature at the time of manufacturing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction temperature for reacting the two components is determined in consideration of the yield of the oxetane compound, etc., such as reactivity between raw material compounds and improvement in yield, and freedom of selection of usable organic solvent. From the viewpoint, a temperature in the range of 0 to 100 ° C is preferable, a value in the range of 10 to 90 ° C is more preferable, and a value in the range of 20 to 80 ° C is more preferable.
（３）反応時間
次に、一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応時間について説明する。反応時間は、オキセタン化合物の収率や反応温度等を考慮して定められるが、例えば、反応温度を前記の好ましい範囲である０〜１００℃の反応温度において、１０分〜１００時間の範囲内の値とするのが好ましい。この反応時間の範囲において、未反応原料の残留を抑制し、高い生産性を達成することができる。オキセタン化合物を製造する際の反応時間は、３０分〜５０時間の範囲内の値とするのがより好ましく、１〜１０時間の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(3) Reaction time Next, the reaction time at the time of manufacturing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction time is determined in consideration of the yield of the oxetane compound, the reaction temperature, and the like. A value is preferred. Within the range of this reaction time, the remaining unreacted raw material can be suppressed and high productivity can be achieved. The reaction time for producing the oxetane compound is more preferably a value within the range of 30 minutes to 50 hours, and even more preferably a value within the range of 1 to 10 hours.
（４）反応雰囲気（ｐＨ）
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際の反応雰囲気（ｐＨ）について説明する。反応雰囲気（ｐＨ値）は、オキセタン化合物の収率等を考慮して定められるが、副反応の抑制と使用原料選択の自由度といった観点からは、例えば、５〜１４の範囲内の値とするのが好ましい。オキセタン化合物を製造する際のｐＨ値は、より好ましくは６〜１４の範囲であり、さらに好ましくは、７〜１４の範囲内の値である。なお、このような範囲内の値にｐＨ値を調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリを添加使用することが好ましい。
(4) Reaction atmosphere (pH)
The reaction atmosphere (pH) when producing the oxetane compound represented by the general formula (I) will be described. The reaction atmosphere (pH value) is determined in consideration of the yield of the oxetane compound and the like, but from the viewpoint of suppression of side reactions and the freedom of selection of raw materials used, for example, a value in the range of 5 to 14 is used. Is preferred. The pH value when producing the oxetane compound is more preferably in the range of 6 to 14, and still more preferably in the range of 7 to 14. In order to adjust the pH value to a value within such a range, it is preferable to add and use an alkali such as sodium hydroxide or potassium hydroxide.
（５）相間移動触媒
一般式（Ｉ）で表されるオキセタン化合物を製造する際に使用する相間移動触媒について説明する。オキセタンアルコール化合物とジハロゲン化エーテル化合物との反応性を向上させる目的で、反応時に相間移動触媒を添加することが好ましい。添加量としては、添加による反応性、収率の向上などの効果発現性と得られたオキセタン化合物の精製の容易性の観点から、例えば、原料の総量を１００重量部としたときに、相間移動触媒の添加量を０．１〜３０重量部の範囲内の値とするのが好ましい。原料１００重量部あたり、１．０〜２０．０重量部の範囲内の値とするのがより好ましく、２．０〜１０．０重量部の範囲内の値とするのがさらに好ましい。
(5) Phase transfer catalyst The phase transfer catalyst used when manufacturing the oxetane compound represented by general formula (I) will be described. For the purpose of improving the reactivity between the oxetane alcohol compound and the dihalogenated ether compound, it is preferable to add a phase transfer catalyst during the reaction. In terms of the amount of addition, reactivity, improvement in yield and other effects, and ease of purification of the obtained oxetane compound, for example, when the total amount of raw materials is 100 parts by weight, the phase transfer The addition amount of the catalyst is preferably set to a value within the range of 0.1 to 30 parts by weight. The value is more preferably in the range of 1.0 to 20.0 parts by weight per 100 parts by weight of the raw material, and further preferably in the range of 2.0 to 10.0 parts by weight.
また、相間移動触媒の種類についても、特に制限されるものではないが、例えば、４級アンモニウム塩化合物及び４級ホスホニウム塩化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物であることが好ましい。より具体的には、テトラ−ｎ−ブチルアンモニウムブロミド、テトラメチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミド、ヘキサデシルトリメチルアンモニウムブロミド、トリエチルヘキサデシルアンモニウムブロミド、トリオクチルメチルアンモニウムブロミド、メチルトリフェニルホスホニウムブロミド、トリエチルヘキサデシルホスホニウムブロミド、テトラフェニルホスホニウムブロミド、テトラブチルホスホニウムブロミド等が挙げられ、これらは１種単独で用いられてもよく、２種以上の組み合わせて用いてもよい。 The type of the phase transfer catalyst is not particularly limited, but is preferably at least one compound selected from the group consisting of a quaternary ammonium salt compound and a quaternary phosphonium salt compound, for example. More specifically, tetra-n-butylammonium bromide, tetramethylammonium bromide, benzyltriethylammonium bromide, hexadecyltrimethylammonium bromide, triethylhexadecylammonium bromide, trioctylmethylammonium bromide, methyltriphenylphosphonium bromide, triethylhexa Examples include decylphosphonium bromide, tetraphenylphosphonium bromide, tetrabutylphosphonium bromide, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
（６）有機溶媒
一般式（II）で表されるオキセタンアルコールと一般式(III)で表されるジハロゲン化化合物を製造する際に使用する有機溶媒について説明する。かかる有機溶剤としては、原料について良溶媒であり、また、製造が容易となる観点から、大気圧下での沸点が２５０℃以下の液体であることが好ましい。このような有機溶媒の例を挙げると、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの炭化水素類、ジクロロメタン、クロロホルム等のハロゲン化炭化水素類、ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンおよびシクロヘキサノンなどのケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミルおよびγ−ブチロラクトンなどのエステル類、ベンゼン、トルエンおよびキシレンなどの芳香族炭化水素類等が挙げられ、これらは１種単独で用いられてもよく、２種以上の組合わせて用いてもよい。
(6) Organic solvent The organic solvent used when manufacturing the oxetane alcohol represented by general formula (II) and the dihalogenated compound represented by general formula (III) is demonstrated. Such an organic solvent is preferably a liquid having a boiling point of 250 ° C. or lower under atmospheric pressure from the viewpoint of being a good solvent for the raw material and facilitating production. Examples of such organic solvents include hydrocarbons such as hexane, heptane and octane, halogenated hydrocarbons such as dichloromethane and chloroform, ethers such as diethyl ether, dibutyl ether, ethylene glycol dimethyl ether, tetrahydrofuran and dioxane. Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate, amyl acetate and γ-butyrolactone, and aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene. May be used individually by 1 type, and may be used in combination of 2 or more type.
上記製造方法により得られた化合物は、１Ｈ−ＮＭＲ、ＩＲスペクトルにより構造を確認することができる。 The structure of the compound obtained by the above production method can be confirmed by 1 H-NMR and IR spectrum.
以下、実施例により本発明を具体的に示すが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES Hereinafter, although an Example shows this invention concretely, this invention is not limited to these Examples.
（実施例１）
３Ｌ 三口フラスコに冷却管、滴下ロートを二つ設置した。この３Ｌ 三口フラスコに、５０ｗｔ％ＮａＯＨ １０００ｇ、テトラブチルアンモニウムブロミド ３４．０ｇ（０．１ｍｏｌ）、ヘキサン ７００ｍｌを入れた。更に、冷却バスを用いて０℃まで降温した。一方の滴下ロートに３−エチル−３−オキセタンメタノール ２７８．８ｇ（２．４ｍｏｌ）を入れ、もう一方の滴下ロートにジプロピレングリコールジトシルエーテル（アイソマー混合物） １７７．０ｇ（０．４ｍｏｌ）を入れ、両方同時にゆっくり滴下開始した。１時間後、滴下終了し、そのまま、攪拌を３０分間継続した。その後、室温まで昇温させ、１時間攪拌した。更に、オイルバスを用いて内温７３℃まで昇温させた。そのまま、５時間攪拌した。
反応終了後、水と飽和食塩水で洗浄、硫酸マグネシウムで乾燥後濾過、濾液をエバポレーターで濃縮した。濃縮した濾液をシリカゲルカラム（展開溶液：ヘキサン／エチルアセテート＝９／１〜２／１）を用いて精製した。以上により目的とする化合物（下記構造：アイソマー混合物）を収量２００ｇで得た。化合物１の構造は１Ｈ−ＮＭＲで確認した。化合物１の１Ｈ−ＮＭＲチャートを図１に示す。
Example 1
Two condensers and a dropping funnel were installed in a 3 L three-necked flask. In this 3 L three-necked flask, 1000 g of 50 wt% NaOH, 34.0 g (0.1 mol) of tetrabutylammonium bromide, and 700 ml of hexane were added. Further, the temperature was lowered to 0 ° C. using a cooling bath. One dropping funnel is charged with 278.8 g (2.4 mol) of 3-ethyl-3-oxetanemethanol, and 177.0 g (0.4 mol) of dipropylene glycol ditosyl ether (isomer mixture) is charged into the other dropping funnel. Both began slowly dropping simultaneously. After 1 hour, the dropping was completed, and stirring was continued for 30 minutes. Then, it heated up to room temperature and stirred for 1 hour. Furthermore, the temperature was raised to an internal temperature of 73 ° C. using an oil bath. The mixture was stirred as it was for 5 hours.
After completion of the reaction, the reaction mixture was washed with water and saturated brine, dried over magnesium sulfate, filtered, and the filtrate was concentrated with an evaporator. The concentrated filtrate was purified using a silica gel column (developing solution: hexane / ethyl acetate = 9/1 to 2/1). The target compound (the following structure: isomer mixture) was thus obtained in a yield of 200 g. The structure of Compound 1 was confirmed by 1 H-NMR. A 1 H-NMR chart of Compound 1 is shown in FIG.
本発明の化合物は、反応性に優れ、カチオン重合開始剤と共に用いる硬化性組成物の重合性成分として有用である。この硬化性組成物は、ＵＶ硬化インク、接着剤、コーティング剤などに好適に適用しうる。 The compound of the present invention has excellent reactivity and is useful as a polymerizable component of a curable composition used with a cationic polymerization initiator. This curable composition can be suitably applied to UV curable inks, adhesives, coating agents and the like.
Claims (1)
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2006298746A JP5305580B2 (en) | 2005-11-04 | 2006-11-02 | Oxetane compounds |
Applications Claiming Priority (3)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2005320963 | 2005-11-04 | ||
| JP2005320963 | 2005-11-04 | ||
| JP2006298746A JP5305580B2 (en) | 2005-11-04 | 2006-11-02 | Oxetane compounds |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2007145835A true JP2007145835A (en) | 2007-06-14 |
| JP5305580B2 JP5305580B2 (en) | 2013-10-02 |
Family
ID=38207673
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2006298746A Expired - Fee Related JP5305580B2 (en) | 2005-11-04 | 2006-11-02 | Oxetane compounds |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP5305580B2 (en) |
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| JP5305580B2 (en) | 2013-10-02 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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| A621 | Written request for application examination |
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| A131 | Notification of reasons for refusal |
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| A521 | Request for written amendment filed |
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| A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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| A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
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|
| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 5305580 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
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| R250 | Receipt of annual fees |
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