JP2007142293A - 基板検査装置 - Google Patents
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Abstract
【構成】本発明の一態様の基板検査装置100は、基板101を検査する基板検査装置100において、水平方向に移動するXYステージ121と、前記XYステージ121上に配置され、上下方向と回転方向に移動するZ・θステージ122と、基板101の検査面の高さ位置が、Z・θステージ122の重心高さ位置に配置されるように基板101を保持する保持具102と、を備えたことを特徴とする。
【選択図】 図3
Description
例えば、パターン検査方法として、同一マスク上の異なる場所の同一パターンを撮像した光学画像データ同士を比較する「die to die検査」や、マスクパターンを描画する時に使用した設計データとなるCADデータやCADデータを装置入力フォーマットに変換した描画データをベースに設計画像データを生成して、それとパターンを撮像した測定データとなる光学画像データとを比較する「die to database検査」がある。かかる検査装置における検査方法では、試料はXYステージ上に載置され、XYステージが動くことによって光束が試料上を走査し、検査が行われる。試料には、光源及び照明光学系によって光束が照射される。試料を透過あるいは反射した光は光学系を介して、センサー上に結像される。センサーで撮像された画像は測定データとして比較回路へ送られる。比較回路では、画像同士の位置合わせの後、測定データと参照データとを適切なアルゴリズムに従って比較し、一致しない場合には、パターン欠陥有りと判定する。
また、θステージを回転させる場合には、エア浮上させる摩擦を減らした状態で回転させることが望ましいが、浮上量の調整もまた時間がかかるといった問題があった。
また、θステージの回転角度は、微小角度であるのに対して、θステージの軸受には、角度の際限を必要としないリング状の外輪が用いられていた。
被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向と回転方向に移動するZ・θステージと、
前記被検査基板の検査面の高さ位置が、前記Z・θステージの重心高さ位置に配置されるように前記被検査基板を保持する保持部と、
を備えたことを特徴とする。
被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
前記θステージの外周を支持し、前記Zステージに固定されて配置された2つの固定型軸受と、
前記θステージの外周を支持し、前記θステージの回転中心に向かって位置を調整自在に前記Zステージに配置された1つの調整型軸受と、
を備えたことを特徴とする。
被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
棒状に形成され、前記θステージに接続して前記θステージの回転を弾性変形しながら支持する弾性部材と、
を備えたことを特徴とする。
被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
前記θステージの外周面に気体を吹きつけて前記θステージの回転を支持する気体軸受と、
を備えたことを特徴とする。
図1は、実施の形態1における基板検査装置の構成を示す概念図である。
図1において、基準ベースとなる定盤120は、設置床から除振台119を介して取り付けられている。定盤120上には、レーザー光源117と、反射ミラー211,212,213、受光器214といった光学系118が配置される。また、定盤120上には、XYステージ121、及びXYステージ121の上に上下方向と回転方向に移動するZ・θステージ122が搭載される。ここで、Z・θステージ122上には、被検査基板となる基板101を保持する保持部の一例となる保持具102が搭載される。基板101は、図示していないローダーによって搬送され、所定の受け渡し位置で定盤120と別置き(又は連結)のロボットハンド123のチャッキング機構でチャッキングされ、ロボットハンド123により基板検査装置100内の保持具102の所定位置に搭載配置される。言い換えれば、基板101は、搬送機構やロボットハンド123等の組み合わせによりZ・θステージ122上に搬送され、ロボットハンド123により基板検査装置100内の保持具102の保持位置となる中央部の所定位置に搭載配置される。また、保持具102の平面には、基板101の幅よりも大きな開口面の開口部が形成される。保持具102の開口部は、検査用の光学系のレーザー光が透過できるように、及びロボットハンド123の基板101搭載時のチャック機構動作の干渉回避ができるように設けられている。
ここで、基板検査装置100及び基板検査システムは、クリーンルームチャンバー内に設置され、クリーン度や温度が厳しく管理された環境で使用されることが望ましい。
XYステージ121がZ・θステージ122上で保持具102に保持された基板101を水平方向(光軸方向と直交する方向)となるXY方向に所定の速度で連続移動或いはステップ移動を繰り返しながら、レーザー光源117から照射されたレーザー光が反射ミラー211,212で反射され、基板101の検査位置となるパターン像を透過した後、反射ミラー213で反射され、受光器214で受光される。かかる光学系118により光学画像を得ることができる。そして、かかる光学画像を図示していない画像処理装置により処理することにより基板101に生じた欠陥の有無を検査する。
図3は、図2のQ矢視図の一部を示す図である。
ただし、各図において、縮尺等は一致させている訳ではない。
ここで、上述したZ・θステージ122は、Zステージ103とθステージ106を有している。Zステージ103は、XYステージ121上に配置され、中央部に開口部が形成されている。Zステージ103は、上下方向(Z方向、或いは光軸方向ともいう。)に移動する。そして、θステージ106は、Zステージ103に形成された開口部に落とし込むように配置され、開口部の底面に配置される。θステージ106は、回転方向に移動する。また、θステージ106には、基板101を保持する保持具102が配置されている。そして、基板101の検査面(保持具102と接触する側の面)の高さ位置が、Z・θステージ122の重心高さ位置に配置されるように保持具102で基板が保持される。基板101の検査面の高さ位置とZ・θステージ122の重心高さ位置とを合わせることで、XYステージ121が走行する際の加減速の影響(加速度)によるモーメント負荷の発生を無くす、或いは低減することができる。その結果、基板101のピッチング・ヨーイング又はローリングなどの姿勢変化への影響を無くす、或いは小さくすることができる。
また、XY方向についても基板101の検査面の中心位置とZ・θステージ122の重心位置とがずれているとXY平面自体に傾き成分(Z方向成分)が生じている場合にモーメント負荷が生じる場合がある。そこで、高さ方向と同様に、水平方向についても、基板101の検査面の中心位置座標(X,Y)がZ・θステージ122の重心位置座標(X,Y)に一致するように保持具102で基板101を保持する。XY方向についても基板101の検査面の中心位置とZ・θステージ122の重心位置とを合わせることで、基板101のヨーイングなどの姿勢変化への影響をさらに無くす、或いは小さくすることができる。よって、従来、かかる姿勢変化に対応するために画像の取り込み重複幅を広げて画像を取り込む必要があったが、かかる画像の取り込み重複幅を無くす、或いは狭めることができ、検査時間を短縮することができる。
また、ロッド308には、弾性変形しながらロッド308の移動に伴う動きに合わせてθステージ106を回転させる弾性部材113が接続される。弾性部材113は、取り付け部材302を介してθステージ106に接続されている。弾性部材113を用いることで、ロッド308の直線方向の動きをθステージ106が移動する回転方向に変換することができる。言い換えれば、θステージ106が回転することによる起こるオフセット量を弾性構造部材113の変形により吸収することが可能である。
弾性部材113は、例えば、φ1〜2mm程度の細い棒状の線材(ワイヤー)を用いると好適である。例えば、ステンレスの線材を用いると好適である。断面が円形の線材を用いることで上下左右に同じ力で変形させることができる。そのため、θステージ106をスムーズに回転させることができる。また、θ駆動用リニアアクチュエータ112は、例えば、ロッド308をネジ機構により移動させる。そして、図示していない引っ張りばねでロッド308の移動方向に与圧を与えると好適である。与圧を与えることで、θ駆動用リニアアクチュエータ112のネジ機構で生じる移動方向のバックラッシュ分のガタを生じさせないようにすることができる。また、移動量のリミッターについてはリニアアクチュエータ112に内臓又は外部に図示していないフォトセンサーを取り付けて、かかるフォトセンサーにより制御し、原点位置についてもフォトセンサーで位置決めすればよい。
図4では、θステージ106の同心円外周に1個配置している調整型軸受111の構成を示している。調整型軸受111も回転ガイド軸受けで、θステージ106の回転中心方向への調整が可能に構成されている。調整型軸受111の軸台146は軸と一体に形成され、Zステージ103側にネジ等で固定されるが、かかるネジを通す固定用の穴を長穴等にしておくことで回転中心方向への調整が可能に構成されている。一定の与圧をθステージ106の同心円外周に付加した後、軸台146はZステージ103側に固定される。それによってθステージ106の外周方向の遊びを除去することができる。調整型軸受111の外輪320は、軸台146の軸にはめられている。固定型軸受110の外輪はθステージ106の外周円とスキマ無く接触している。但し、固定型軸受110と調整型軸受111とは共に、θステージ106が数十μ浮上する際には上下方向に移動可能な軸受構造を有するため、θステージ106の上下の負荷にはならないように滑る。
図5は、実施の形態2におけるZ・θステージの構成の一例を示す平面図である。
図5において、基板検査装置100について、Z・θステージ122が固定型軸受110と調整型軸受111との代わりにθステージ106の同心円外周に4個配置している棒状の弾性ヒンジ115を備えた点、θステージ106フレームの上面にかかるように、位置決めブロック139をZステージ103に複数個配置した点、及びZステージ103に位置決めブロック139の内部流路に空気を供給するための流路が形成された点以外は、実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。よって、実施の形態2でも、実施の形態1と同様、θステージ106はZステージ103の構造体の中に落とし込まれるような形でZステージ103に形成された開口部に搭載されている。Z・θステージ122全体の重心位置X・Y・Zと基板101の検査面がほぼ一致する位置に配置されている。
弾性部材の一例となる棒状に形成された弾性ヒンジ115は、一方はθステージ106に、片側は取付部材156を介してZステージ103側に固定されている。実施の形態2では、θステージ106を回転させるときには、Zステージ103上面に設けられた溝114から空気を吹き出し、θステージ106を空気圧にて数十μ浮上させ、外側に配置しているリニアアクチュエータ112と弾性部材113を介して連結されている状態でリニアアクチュエータ112を駆動させることでθステージ106を回転させる。θステージ106を着座させた後は、Zステージ103上面に設けられた孔hあるいは溝114によりZステージ103上面に吸着(真空チャック)した状態(着座した状態)で固定し、検査モードに入る。棒状の弾性ヒンジ115は回転方向及び上下方向に柔軟に撓む構造であれば良い。弾性ヒンジ115は、θステージ106の回転を弾性変形しながら支持する。弾性ヒンジ115の強度は、4本の弾性ヒンジ115を弾性変形させた場合に弾性部材113が座屈しない程度の強度であればよい。材料として、例えばステンレス、チタン、アルミニウム等が好適である。また、φ1mm程度の棒材が好適である。断面が円形な棒材を用いると回転方向及び上下方向に同じ力で弾性変形するため好適である。また、ここでは、4本で支持しているが、3本でも構わない。3本にすることで部品点数を減らすことができる。或いは5本以上でも構わない。
以上のように、本実施の形態2によれば、回転ガイド軸受けを用いなくともθステージ106における微小角度の駆動を効率良く支持することができる。また、弾性ヒンジ115の弾性変形によりθステージ106の回転方向にテンションがかかるため、θ駆動用リニアアクチュエータ112に与圧を与えることができる。その結果、θ駆動用リニアアクチュエータ112のネジ機構で生じる移動方向のバックラッシュ分のガタを生じさせないようにすることができる。
上述したように、Zステージ103には、θステージ106の上面の一部に被さるように位置決めブロック139が配置される。θステージ106が浮上しても位置決めブロック139により拘束され、浮上高さ位置を制御することができる。さらに、位置決めブロック139の下面には、溝152が形成され、溝152からはZステージ103へと続く流路154が形成されている。そして、Zステージ103にも流路154から続く流路が形成され、外部へと繋がっている。そして、Zステージ103の開口部上面に形成された溝114から空気を吹き出し、θステージ106を浮上させる場合に、位置決めブロック139下面の溝152からも空気を吹き出す。溝152からも空気を下向きに供給して吹き出すことによりθステージ106の浮上高さを制御することができる。
以上のように、本実施の形態2によれば、上下からの空気圧により所定量の浮上量を確保することができる。溝114用の流路と溝152用の流路とを別系統とすることで、エア配管系統の切り替えにより溝114を真空チャック機構として流用することができる。
図8は、実施の形態3におけるZ・θステージの構成の一例を示す平面図である。
図8において、基板検査装置100について、Z・θステージ122が固定型軸受110と調整型軸受111との代わりにθステージ106の同心円外周に4個配置している静圧空気軸受ブロック116を備えた点、Zステージ103上面に溝114及び孔hを設けていない点、及びZステージ103に静圧空気軸受ブロック116の内部流路に空気を供給するための流路が形成された点以外は、実施の形態1と同様であるため、説明を省略する。よって、実施の形態3でも、実施の形態1と同様、θステージ106はZステージ103の構造体の中に落とし込まれるような形でZステージ103に形成された開口部に搭載されている。Z・θステージ122全体の重心位置X・Y・Zと基板101の検査面がほぼ一致する位置に配置されている。
図9において、気体軸受の一例となる静圧空気軸受ブロック116は、Zステージ103の開口部の底面に固定されている。そして、θステージ106の外周回転面及び上面とは数μmのスキマを有した状態で配置される。そして、流路169を介して溝166からθステージ106の下面に向けて、流路168を介して溝164からθステージ106の回転する外周面に向けて、及び流路168を介して溝162からθステージ106の上面に向けて空気を吹付けることにより非接触な状態で浮上させることができる。そして、浮上させた状態で基板101の回転位置合せをし、検査時はZステージ103に着座させる。そして、流路168と流路169とを別系統とすることで、流路169と溝166とをエア配管系統の切り替えにより真空チャック機構として流用することができる。そして、溝166を流用して流路169につながるエア配管系統の切り替えにより真空チャックして固定保持する。回転精度はθステージ106や静圧空気軸受ブロック116の加工精度に依存し、剛性は浮上ギャップや軸受面積及び供給空気圧力に依存するので必要条件において決定すればよい。
以上のように、静圧空気軸受ブロック116は、θステージ106の外周面に気体を吹きつけてθステージ106の回転を支持すると共に、θステージ106がZステージ103から浮上する場合に、θステージ106の上面に空気を吹きつけることにより、浮上量を制御することができる。また、ここでは、静圧空気軸受ブロック116を用いて、4箇所で支持しているが、3箇所でも構わない。3箇所にすることで部品点数を減らすことができる。或いは5箇所以上でも構わない。
101 基板
102 保持具
103 Zステージ
106 θステージ
112 リニアアクチュエータ
113 弾性部材
114,152,162,164,166 溝
115 弾性ヒンジ
116 静圧空気軸受ブロック
121 XYステージ
122 Z・θステージ
139 位置決めブロック
154,168,169 流路
Claims (7)
- 被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向と回転方向に移動するZ・θステージと、
前記被検査基板の検査面の高さ位置が、前記Z・θステージの重心高さ位置に配置されるように前記被検査基板を保持する保持部と、
を備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 前記Z・θステージは、
前記XYステージ上に配置され、中央部に開口部が形成された上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージに形成された前記開口部に配置され、回転方向に移動するθステージと、
を有することを特徴とする請求項1記載の基板検査装置。 - 前記保持部は、さらに、水平方向について、前記被検査基板の検査面の中心位置が前記Z・θステージの重心位置に配置されるように前記被検査基板を保持することを特徴とする請求項1又は2記載の基板検査装置。
- 被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
前記θステージの外周を支持し、前記Zステージに固定されて配置された2つの固定型軸受と、
前記θステージの外周を支持し、前記θステージの回転中心に向かって位置を調整自在に前記Zステージに配置された1つの調整型軸受と、
を備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
棒状に形成され、前記θステージに接続して前記θステージの回転を弾性変形しながら支持する弾性部材と、
を備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 被検査基板を検査する基板検査装置において、
水平方向に移動するXYステージと、
前記XYステージ上に配置され、上下方向に移動するZステージと、
前記Zステージ上に配置され、回転方向に移動するθステージと、
前記θステージの外周面に気体を吹きつけて前記θステージの回転を支持する気体軸受と、
を備えたことを特徴とする基板検査装置。 - 前記θステージは、前記Zステージから浮上して回転し、
前記気体軸受は、さらに、前記θステージの上面に気体を吹きつけることを特徴とする請求項6記載の基板検査装置。
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JP2009076521A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-09 | Yaskawa Electric Corp | 精密微動位置決め装置およびそれを備えた微動位置決めステージ、露光装置、検査装置 |
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