JP2007141370A - Optical recording medium and manufacturing method thereof - Google Patents

Optical recording medium and manufacturing method thereof Download PDF

Info

Publication number
JP2007141370A
JP2007141370A JP2005334244A JP2005334244A JP2007141370A JP 2007141370 A JP2007141370 A JP 2007141370A JP 2005334244 A JP2005334244 A JP 2005334244A JP 2005334244 A JP2005334244 A JP 2005334244A JP 2007141370 A JP2007141370 A JP 2007141370A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrate
outer peripheral
recording medium
optical recording
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2005334244A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4618111B2 (en
Inventor
Takehiko Fukushima
剛彦 福島
Yoshio Shirai
良男 白井
Hidetoshi Watanabe
英俊 渡辺
Hiroshi Nakayama
比呂史 中山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sony Corp filed Critical Sony Corp
Priority to JP2005334244A priority Critical patent/JP4618111B2/en
Publication of JP2007141370A publication Critical patent/JP2007141370A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4618111B2 publication Critical patent/JP4618111B2/en
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To inhibit a photocurable resin in an outer peripheral part of a substrate from swelling and wraparounding at/to the outer peripheral part when the photocurable resin is expanded by a spin coating method. <P>SOLUTION: A substrate 1 and an extended part 24 having a plane almost as high as the outer peripheral part of the substrate 1 are rotated to expand the photocurable resin 3a on a first information signal part 2 (Figure 4B), light is emitted to the expanded photocurable resin 3a to half-cure the photocurable resin (Figure 4C) while covering the outer peripheral part of the substrate 1 with a light shielding part 25, the substrate 1 is rotated again to eliminate excessive photocurable resin 3c from the outer peripheral part (Figure 4D), a stamper 27 is pressed on the half-cured photocurable resin 3b, and light is also emitted to the photocurable resin 3b and 3c to completely cure the photocurable resin 3b and 3c. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、光記録媒体およびその製造方法に関する。詳しくは、光透過性の樹脂層を備える光記録媒体およびその製造方法に関する。   The present invention relates to an optical recording medium and a method for manufacturing the same. Specifically, the present invention relates to an optical recording medium including a light-transmitting resin layer and a manufacturing method thereof.

近年、動画像や静止画像の高画質化に伴って、光記録媒体の大容量化が要求されるようになっている。この要求に応えるために、レーザ光の短波長化および対物レンズの高NA化により、スポットサイズを微少化することが提案されている。例えば、ブルーレイディスク(Blu-ray Disc(登録商標)、以下BD)では、青紫色のレーザ光を、高NA(例えば、0.85)の対物レンズにより集光し、この集光したレーザ光を光透過層側から反射膜あるいは記録層に照射することにより、25GB程度の記録容量が実現されている。   In recent years, an increase in the capacity of an optical recording medium has been demanded as the quality of moving images and still images increases. In order to meet this demand, it has been proposed to reduce the spot size by reducing the wavelength of the laser light and increasing the NA of the objective lens. For example, in a Blu-ray disc (Blu-ray Disc (registered trademark), hereinafter referred to as BD), blue-violet laser light is condensed by an objective lens having a high NA (for example, 0.85), and the condensed laser light is collected. A recording capacity of about 25 GB is realized by irradiating the reflective film or the recording layer from the light transmission layer side.

さらに、近年では、記録膜の多層化によって更に大容量化を図ることも検討されている。例えば、片面に2層の反射膜または記録膜を有するBD(Dual Layer BD)では、記録膜の2層化によって、50GB程度の記録容量が実現可能となっている。   Further, in recent years, it has been studied to further increase the capacity by increasing the number of recording films. For example, in a BD (Dual Layer BD) having two reflective films or recording films on one side, a recording capacity of about 50 GB can be realized by forming the recording film into two layers.

ところで、上述した光透過層や中間層の形成には、スピンコート法を用いることが検討されている。しかしながら、スピンコート法により、光透過層や中間層を形成した場合には、外周部において表面張力により紫外線硬化樹脂の盛り上がりができてしまう。例えば、スピンコート法により光透過層を形成する場合には、このような樹脂の盛り上がりは、例えば光透過層の厚さの変動を招いてしまうため、レーザ光の光路長が変動し、反射膜または記録膜上でのスポット形状が変動してしまう。すなわち、安定した記録再生特性を実現することが困難となる。   By the way, the use of a spin coating method has been studied for the formation of the above-described light transmission layer and intermediate layer. However, when the light transmission layer or the intermediate layer is formed by the spin coating method, the ultraviolet curable resin can rise due to the surface tension at the outer peripheral portion. For example, when a light transmission layer is formed by a spin coating method, such bulging of the resin causes, for example, a variation in the thickness of the light transmission layer, so that the optical path length of the laser light varies, and the reflection film Or, the spot shape on the recording film changes. That is, it becomes difficult to realize stable recording / reproducing characteristics.

また、スピンコート法により中間層を形成する場合には、延伸された紫外線硬化樹脂上にスタンパを載置したときに、外周部における紫外線硬化樹脂の盛り上がりによって、スタンパと、延伸された紫外線硬化樹脂との間に隙間ができてしまう。このように隙間ができると、紫外線硬化樹脂とスタンパとの間にエアが巻き込まれてしまい、スタンパの成形面を転写することが困難となる。   Further, when the intermediate layer is formed by spin coating, when the stamper is placed on the stretched UV curable resin, the stamper and the stretched UV curable resin are caused by the rise of the UV curable resin in the outer peripheral portion. There will be a gap between them. When a gap is formed in this way, air is caught between the ultraviolet curable resin and the stamper, and it becomes difficult to transfer the molding surface of the stamper.

そこで、基板とほぼ同一形状の窪みをスピントレーに設け、この窪みに基板を載置し、スピントレーを回転させて紫外線硬化樹脂の延伸させる方法が提案されている(例えば、特許文献1参照)   Therefore, a method has been proposed in which a recess having substantially the same shape as the substrate is provided in the spin tray, the substrate is placed in the recess, and the spin tray is rotated to stretch the ultraviolet curable resin (for example, see Patent Document 1).

特開2004−288270号公報JP 2004-288270 A

しかしながら、本発明者の知見によれば、上述の方法であっても外周部の紫外線硬化樹脂の盛り上がりや基板側面への樹脂の回り込みを十分に抑えることはできず、均一性に優れた光透過層を有する光記録媒体や、基板側面に樹脂の回り込みのない光記録媒体などを実現することは難しい。このような光透過層の不均一性や、基板側面への紫外線硬化樹脂の周り込みは、BDやHD DVD(High Definition Digital Versatile Disc)などの高密度の光記録媒体では特に問題となる。   However, according to the knowledge of the present inventor, even with the above-described method, it is not possible to sufficiently suppress the swelling of the UV curable resin at the outer peripheral portion and the wraparound of the resin to the side surface of the substrate, and light transmission with excellent uniformity. It is difficult to realize an optical recording medium having a layer, an optical recording medium in which no resin wraps around the side surface of the substrate, or the like. Such non-uniformity of the light transmission layer and the penetration of the ultraviolet curable resin into the side surface of the substrate are particularly problematic in high-density optical recording media such as BD and HD DVD (High Definition Digital Versatile Disc).

したがって、この発明の目的は、スピンコート法により光硬化性樹脂を延伸した場合に、外周部における光硬化性樹脂の盛り上がりや回り込みを抑制することができる光記録媒体の製造方法およびその製造方法により製造された光記録媒体を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide an optical recording medium manufacturing method and a manufacturing method thereof capable of suppressing the swelling and wraparound of the photocurable resin in the outer peripheral portion when the photocurable resin is stretched by a spin coating method. It is to provide a manufactured optical recording medium.

上述の課題を解決するために、この発明は、第1の情報信号部、中間層、第2の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体において、
基板の外周面には光硬化性樹脂が25μm以下の厚さで回り込んでいることを特徴とする光記録媒体である。
In order to solve the above-described problems, the present invention provides an optical recording medium in which a first information signal portion, an intermediate layer, a second information signal portion, and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate.
An optical recording medium is characterized in that a photocurable resin is wrapped around the outer peripheral surface of the substrate with a thickness of 25 μm or less.

この発明は、第1の情報信号部、中間層、第2の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体の製造方法において、
基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を第1の情報信号部上に延伸し、基板の外周部を遮光部により覆いながら、延伸された光硬化性樹脂に弱い光を照射して、ゲル状の半硬化状態に変化させ、基板と延長部とを再び回転させて外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去し、半硬化された光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てるとともに光硬化性樹脂に光を照射して光硬化性樹脂を硬化することにより、
中間層は形成されることを特徴とする光記録媒体の製造方法である。
The present invention provides a method of manufacturing an optical recording medium in which a first information signal portion, an intermediate layer, a second information signal portion, and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate.
Rotating the substrate and an extension portion having a plane that is almost the same height as the outer periphery of the substrate, extending the photocurable resin onto the first information signal portion, and covering the outer periphery of the substrate with the light shielding portion The stretched photo-curing resin is irradiated with weak light to change it into a gel-like semi-cured state, and the substrate and the extension are rotated again to remove excess photo-curing resin on the outer periphery. By pressing the stamper on the cured photocurable resin and irradiating the photocurable resin with light to cure the photocurable resin,
An intermediate layer is formed.

この発明では、基板側面への光硬化性樹脂の回りこみは、基板側面の一部への回り込みならず、基板側面の全体への回りこみも含むものとする。   In the present invention, the wrapping of the photo-curable resin to the side surface of the substrate does not wrap around a part of the side surface of the substrate but also includes the wrapping of the entire side surface of the substrate.

この発明では、基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を第1の情報信号部上に延伸するので、基板の外周部を越えて延長部の平面上まで光硬化性樹脂を連続的に延伸させることができる。   In this invention, the substrate and the extension portion having a plane that is almost the same height as the outer periphery of the substrate are rotated to extend the photocurable resin onto the first information signal portion. The photocurable resin can be continuously stretched beyond the plane of the extension.

また、基板上に延伸された光硬化性樹脂に弱い光を照射して、ゲル状の半硬化状態に変化させ、基板を再び回転させて外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去するので、半硬化された光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てたときに、基板の外周側の側面から光硬化性樹脂が外側に向けて広がることを抑制できる。したがって、光硬化性樹脂の回り込みやバリの発生を抑制できる。   In addition, by irradiating the photocurable resin stretched on the substrate with weak light to change it into a gel-like semi-cured state, the substrate is rotated again to remove the excess photocurable resin on the outer peripheral portion. When the stamper is pressed onto the semi-cured photocurable resin, the photocurable resin can be prevented from spreading outward from the side surface on the outer peripheral side of the substrate. Therefore, the wrapping of the photocurable resin and the generation of burrs can be suppressed.

また、基板上に延伸された光硬化性樹脂に弱い光を照射して、ゲル状の半硬化状態に変化させ、その後、基板を再び回転させるので、外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去できる。   In addition, the light-curing resin stretched on the substrate is irradiated with weak light to change it into a gel-like semi-cured state, and then the substrate is rotated again, so that excess photo-curing resin on the outer periphery is removed. it can.

この発明では、基板と延長部との間には、5μm以上90μm以下の隙間が設けられていることが好ましい。この数値範囲に隙間を設定することで、光硬化性樹脂を延伸したときに、基板と延長部との間に光硬化性樹脂が入り込むことを抑制できる。すなわち、基板の外周に光硬化性樹脂が回りこむことを抑制できる。   In the present invention, it is preferable that a gap of 5 μm or more and 90 μm or less is provided between the substrate and the extension. By setting the gap in this numerical range, it is possible to prevent the photocurable resin from entering between the substrate and the extension when the photocurable resin is stretched. That is, it can suppress that photocurable resin wraps around the outer periphery of a board | substrate.

この発明では、延長部の平面の下方に貫通孔を設けることが好ましい。この貫通孔を設けることで、光硬化性樹脂を延伸したときに、基板と延長部との間に入り込んだ光硬化性樹脂を貫通孔を介して外部に排出することができる。したがって、基板と延長部との間に光硬化性樹脂が残留することを抑制できる。   In the present invention, it is preferable to provide a through hole below the plane of the extension. By providing this through hole, when the photocurable resin is stretched, the photocurable resin that has entered between the substrate and the extension portion can be discharged to the outside through the through hole. Therefore, it can suppress that photocurable resin remains between a board | substrate and an extension part.

以上説明したように、この発明によれば、基板上に紫外線硬化性樹脂を塗布したとき、外周部における紫外線硬化性樹脂の盛り上がりや回り込みを抑制できる。したがって、均一性に優れた光透過層を有する光記録媒体や、優れた成形面が設けられた中間層を有する光記録媒体を実現することができる。   As described above, according to the present invention, when the ultraviolet curable resin is applied on the substrate, the swelling and wraparound of the ultraviolet curable resin in the outer peripheral portion can be suppressed. Therefore, it is possible to realize an optical recording medium having a light transmission layer with excellent uniformity and an optical recording medium having an intermediate layer provided with an excellent molding surface.

以下、この発明の実施形態について図面を参照しながら説明する。なお、以下の実施形態の全図においては、同一または対応する部分には同一の符号を付す。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. In all the drawings of the following embodiments, the same or corresponding parts are denoted by the same reference numerals.

(1)第1の実施形態
(1−1)光記録媒体の構成
図1は、この発明の第1の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。この光記録媒体10は、2層の記録膜を有する書換型、追記型または再生専用型の光記録媒体であり、第1の記録膜(L0膜)2、中間層3、第2の記録膜(L1膜)4、光透過層5が基板1上に順次積層されて構成される。
(1) First Embodiment (1-1) Configuration of Optical Recording Medium FIG. 1 is a sectional view showing a configuration example of an optical recording medium according to the first embodiment of the present invention. This optical recording medium 10 is a rewritable, write once or read-only optical recording medium having two recording films, and includes a first recording film (L0 film) 2, an intermediate layer 3, and a second recording film. The (L1 film) 4 and the light transmission layer 5 are sequentially laminated on the substrate 1.

この第1の実施形態による光記録媒体10では、光透過層5の側からレーザ光7を第1の記録膜2または第2の記録膜4に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。例えば、400nm以上410nm以下の範囲の波長を有するレーザ光7を、0.84以上0.86以下の範囲の開口数を有する対物レンズ6により集光し、光透過層5の側から第1の記録膜2または第2の記録膜4に照射することにより、情報信号の記録または再生が行われる。このような光記録媒体10としては、例えばBD−RE(Blu-ray Disc-REwritable)が挙げられる。   In the optical recording medium 10 according to the first embodiment, the information signal is recorded or reproduced by irradiating the first recording film 2 or the second recording film 4 with the laser light 7 from the light transmission layer 5 side. Done. For example, the laser beam 7 having a wavelength in the range of 400 nm to 410 nm is condensed by the objective lens 6 having a numerical aperture in the range of 0.84 to 0.86, and the first light is transmitted from the light transmission layer 5 side. By irradiating the recording film 2 or the second recording film 4, information signals are recorded or reproduced. An example of such an optical recording medium 10 is BD-RE (Blu-ray Disc-REwritable).

以下、光記録媒体10を構成する基板1、第1の記録膜2、中間層3、第2の記録膜4、光透過層5について順次説明する。   Hereinafter, the substrate 1, the first recording film 2, the intermediate layer 3, the second recording film 4, and the light transmission layer 5 constituting the optical recording medium 10 will be described in order.

(基板)
基板1は、中央に開口(以下、センターホールと称する)が形成された円環形状を有する。この基板1の一主面は、凹凸面1aとなっており、この凹凸面1a上に第1の記録膜2が成膜される。以下では、凹凸面1aの凹部をイングルーブ、凹凸面1aの凸部をオングルーブと称する。
(substrate)
The substrate 1 has an annular shape with an opening (hereinafter referred to as a center hole) formed in the center. One main surface of the substrate 1 is an uneven surface 1a, and a first recording film 2 is formed on the uneven surface 1a. Hereinafter, the concave portion of the uneven surface 1a is referred to as in-groove, and the convex portion of the uneven surface 1a is referred to as on-groove.

このイングルーブおよびオングルーブの形状としては、例えば、スパイラル状、同心円状などの各種形状が挙げられる。また、イングルーブおよび/またはオングルーブが、アドレス情報を付加するためウォブル(蛇行)されている。   Examples of the shape of the in-groove and the on-groove include various shapes such as a spiral shape and a concentric shape. In-grooves and / or on-grooves are wobbled (meandered) to add address information.

基板1の直径は、例えば120mmに選ばれる。基板1の厚さは、剛性を考慮して選ばれ、好ましくは0.3mm以上1.3mm以下から選ばれ、より好ましくは0.6mm以上1.3mm以下から選ばれ、例えば1.1mmに選ばれる。また、センタホールの径(半径)は、例えば15mmに選ばれる。   The diameter of the substrate 1 is selected to be 120 mm, for example. The thickness of the substrate 1 is selected in consideration of rigidity, preferably from 0.3 mm to 1.3 mm, more preferably from 0.6 mm to 1.3 mm, for example, 1.1 mm. It is. The diameter (radius) of the center hole is selected to be 15 mm, for example.

基板1の材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂若しくはアクリル系樹脂などのプラスチック材料、またはガラスなどを用いることができる。なお、コストを考慮した場合には、基板1の材料として、プラスチック材料を用いることが好ましい。また、基板1の外周面には、紫外線硬化樹脂が回り込んでいる。この紫外線硬化樹脂の回り込み量、すなわち紫外線硬化樹脂の厚さdは、好ましくは25μm以下、より好ましくは15μm以下である。   As the material of the substrate 1, for example, a plastic material such as polycarbonate resin, polyolefin resin, or acrylic resin, or glass can be used. In consideration of cost, it is preferable to use a plastic material as the material of the substrate 1. In addition, an ultraviolet curable resin wraps around the outer peripheral surface of the substrate 1. The wraparound amount of the ultraviolet curable resin, that is, the thickness d of the ultraviolet curable resin is preferably 25 μm or less, more preferably 15 μm or less.

(第1の記録膜)
第1の記録膜2は、レーザ光の照射により情報信号を記録または再生できる記録膜である。この第1の記録膜は、例えば、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板1上に順次積層してなる積層膜である。相変化材料膜を形成する材料としては、レーザ光の照射を受けて可逆的な状態変化を生じる相変化材料を用いることができる。かかる相変化材料としては、例えば、アモルファス状態と結晶状態との可逆的相変化を生じる共晶系相変化材料または化合物系相変化材料を用いることができる。
(First recording film)
The first recording film 2 is a recording film capable of recording or reproducing information signals by irradiation with laser light. The first recording film is, for example, a laminated film in which a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film are sequentially laminated on the substrate 1. As a material for forming the phase change material film, a phase change material that undergoes a reversible state change upon irradiation with laser light can be used. As such a phase change material, for example, a eutectic phase change material or a compound phase change material that causes a reversible phase change between an amorphous state and a crystalline state can be used.

(中間層)
中間層3は、透明性を有する樹脂材料からなり、このような材料としては、例えばポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂などのプラスチック材料を用いることができる。中間層3の光透過層5側となる面は、基板1と同様に、イングルーブおよびオングルーブからなる凹凸面2aとなっている。この凹凸面2a上に第2の記録膜4が成膜される。また、中間層3の外周面には、微小な段差が設けられている。この段差は、後述する光記録媒体の製造方法に起因するものである。
(Middle layer)
The intermediate layer 3 is made of a resin material having transparency, and as such a material, for example, a plastic material such as a polycarbonate resin, a polyolefin resin, or an acrylic resin can be used. The surface on the light transmission layer 5 side of the intermediate layer 3 is an uneven surface 2 a composed of in-grooves and on-grooves, like the substrate 1. A second recording film 4 is formed on the uneven surface 2a. In addition, a minute step is provided on the outer peripheral surface of the intermediate layer 3. This level difference is caused by an optical recording medium manufacturing method described later.

(第2の記録膜)
第2の記録膜4は、レーザ光の照射により情報信号を記録または再生できる記録膜である。この第2の記録膜4は、例えば、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を中間層3上に順次積層してなる積層膜である。相変化材料膜を形成する材料としては、レーザ光の照射を受けて可逆的な状態変化を生じる相変化材料を用いることができる。かかる相変化材料としては、例えば、アモルファス状態と結晶状態との可逆的相変化を生じる共晶系相変化材料または化合物系相変化材料を用いることができる。
(Second recording film)
The second recording film 4 is a recording film capable of recording or reproducing information signals by irradiation with laser light. The second recording film 4 is a laminated film in which, for example, a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film are sequentially laminated on the intermediate layer 3. As a material for forming the phase change material film, a phase change material that undergoes a reversible state change upon irradiation with laser light can be used. As such a phase change material, for example, a eutectic phase change material or a compound phase change material that causes a reversible phase change between an amorphous state and a crystalline state can be used.

(光透過層)
光透過層5は、例えば、円環形状を有する光透過性シート(フィルム)と、この光透過性シートを基板1に対して貼り合わせるための接着層とから構成される。接着層は、例えば紫外線硬化樹脂または感圧性粘着剤(PSA:Pressure Sensitive Adhesive)からなる。光透過層5の厚さは、好ましくは10μm以上177μm以下の範囲内から選ばれ、例えば75μmに選ばれる。このような薄い光透過層5と、例えば0.85程度の高NA(numerical aperture)化された対物レンズとを組み合わせることによって、高密度記録を実現することができる。
(Light transmission layer)
The light transmissive layer 5 includes, for example, a light transmissive sheet (film) having an annular shape and an adhesive layer for bonding the light transmissive sheet to the substrate 1. The adhesive layer is made of, for example, an ultraviolet curable resin or a pressure sensitive adhesive (PSA). The thickness of the light transmission layer 5 is preferably selected from the range of 10 μm or more and 177 μm or less, for example, 75 μm. By combining such a thin light transmission layer 5 with an objective lens having a high NA (numerical aperture) of, for example, about 0.85, high-density recording can be realized.

光透過性シートは、記録および/または再生に用いられるレーザ光に対して、吸収能が低い材料からなることが好ましく、具体的には透過率90パーセント以上の材料からなることが好ましい。光透過性シートの材料としては、例えばポリカーボネート樹脂材料、ポリオレフィン系樹脂(例えばゼオネックス(登録商標))が挙げられる。また、光透過層5の内径(直径)は、例えば22.7mmに選ばれる。   The light-transmitting sheet is preferably made of a material having a low absorption ability with respect to laser light used for recording and / or reproduction, specifically, a material having a transmittance of 90% or more. Examples of the material for the light transmissive sheet include polycarbonate resin materials and polyolefin resins (for example, ZEONEX (registered trademark)). The inner diameter (diameter) of the light transmission layer 5 is selected to be 22.7 mm, for example.

(1−2)スピンコート装置の構成
次に、図2および図3を参照して、上述の中間層3の形成に用いられるスピンコート装置の構成について説明する。図2は、スピンコート装置の一構成例を示す断面図である。図3は、スピンコート装置の一構成例を示す上面図である。
(1-2) Configuration of Spin Coating Device Next, the configuration of the spin coating device used for forming the above-described intermediate layer 3 will be described with reference to FIGS. 2 and 3. FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration example of the spin coater. FIG. 3 is a top view showing a configuration example of the spin coater.

スピンコート装置は、スピントレー21と、紫外線照射装置(以下、UV照射装置)23とを備える。スピントレー21の下方には、図示を省略したスピンドルモータが備えられ、このスピンドルモータを駆動することによりスピントレー21が回転する。また、スピントレー21は、上下方向に移動可能な構成を有する。UV照射装置23は、基板1の内周から外周に渡って紫外光(以下、UV光)を一様に照射して、基板1上に延伸された紫外線硬化樹脂を硬化させるためのものである。図2では、1つのUV照射装置23により基板1の全面を照射する例について示しているが、UV照射装置23は、この例に限定されるものではない。例えば、基板1の径方向に直列するように配置された複数のUV照射装置23を用いてもよい。   The spin coater includes a spin tray 21 and an ultraviolet irradiation device (hereinafter referred to as UV irradiation device) 23. A spindle motor (not shown) is provided below the spin tray 21, and the spin tray 21 rotates by driving the spindle motor. The spin tray 21 has a configuration that can move in the vertical direction. The UV irradiation device 23 is for uniformly irradiating ultraviolet light (hereinafter referred to as UV light) from the inner periphery to the outer periphery of the substrate 1 to cure the ultraviolet curable resin stretched on the substrate 1. . Although FIG. 2 shows an example in which the entire surface of the substrate 1 is irradiated by one UV irradiation device 23, the UV irradiation device 23 is not limited to this example. For example, a plurality of UV irradiation devices 23 arranged in series in the radial direction of the substrate 1 may be used.

スピントレー21は、光記録媒体10を載置するための載置面21aを有する。この載置面21aの中央部には、この載置面21aから突出するセンターピン22が設けられている。このセンターピン22に光記録媒体10のセンターホール1bを嵌合することで、基板1の位置決めがなされる。   The spin tray 21 has a mounting surface 21 a for mounting the optical recording medium 10. A center pin 22 protruding from the placement surface 21a is provided at the center of the placement surface 21a. The substrate 1 is positioned by fitting the center hole 1b of the optical recording medium 10 to the center pin 22.

スピントレー21には、載置面21aを囲むように外周リング24が設けられ、この外周リング24の中心に上述のセンターピン22が位置する。この外周リング24は、延長部の一例であって、スピンコート法により紫外線硬化樹脂を基板1上に延伸した場合に、紫外線硬化樹脂の延伸を基板1の外周を越えて連続的に延長するためのものである。外周リング24は、スピントレー21と同期して回転するようになっている。   The spin tray 21 is provided with an outer ring 24 so as to surround the mounting surface 21 a, and the above-described center pin 22 is located at the center of the outer ring 24. The outer peripheral ring 24 is an example of an extension portion, and in order to continuously extend the extension of the UV curable resin beyond the outer periphery of the substrate 1 when the UV curable resin is extended onto the substrate 1 by spin coating. belongs to. The outer peripheral ring 24 rotates in synchronization with the spin tray 21.

外周リング24は、載置面21aから基板1の厚さ程度突出し、その突出面は載置面21aと平行な平面状となっている。したがって、基板1を載置面21aに載置したときに、この基板1の一主面と外周リング24の上面とがほぼ同じ高さとなる。これにより、紫外線硬化樹脂を基板1の一主面に延伸したときに、紫外線硬化樹脂の延伸を基板1の外周を越えて外周リング24の突出面まで連続的に延長することができる。   The outer peripheral ring 24 protrudes from the mounting surface 21a by the thickness of the substrate 1, and the protruding surface has a planar shape parallel to the mounting surface 21a. Therefore, when the substrate 1 is placed on the placement surface 21a, the one main surface of the substrate 1 and the upper surface of the outer peripheral ring 24 are substantially the same height. Thereby, when the ultraviolet curable resin is stretched to one main surface of the substrate 1, the stretch of the ultraviolet curable resin can be continuously extended beyond the outer periphery of the substrate 1 to the projecting surface of the outer peripheral ring 24.

外周リング24の内径は載置面21aに載置される基板1の径とほぼ同一に選ばれる。外周リング24の内周面と、載置面21aに載置された基板1の外周面との間の隙間(クリアランス)は、好ましくは5μm〜90μm、さらに好ましくは22μm〜60μmに設定される。クリアランスを5μm〜90μmの数値範囲に設定することで、中間層3を形成する際に、基板1の外周面に紫外線硬化樹脂などが回り込むことを抑制できる。クリアランスを22μm〜60μmの数値範囲に設定することで、中間層3を形成する際に、基板1の外周面に紫外線硬化樹脂などが回り込むことをさらに抑制できる。   The inner diameter of the outer peripheral ring 24 is selected to be substantially the same as the diameter of the substrate 1 placed on the placement surface 21a. The clearance (clearance) between the inner peripheral surface of the outer peripheral ring 24 and the outer peripheral surface of the substrate 1 placed on the placement surface 21a is preferably set to 5 μm to 90 μm, and more preferably 22 μm to 60 μm. By setting the clearance within a numerical range of 5 μm to 90 μm, it is possible to prevent the UV curable resin or the like from entering the outer peripheral surface of the substrate 1 when the intermediate layer 3 is formed. By setting the clearance within a numerical range of 22 μm to 60 μm, it is possible to further suppress the UV curable resin or the like from entering the outer peripheral surface of the substrate 1 when the intermediate layer 3 is formed.

また、外周リング24には、その内周面から外周面に向かって貫通する複数の排出孔24aが、例えば周方向に均等に設けられている。この排出孔24aを設けることで、スピントレー21を回転して基板1上に紫外線硬化樹脂を延伸させた場合に、基板1と外周リング24との間に入り込んだ紫外線硬化樹脂を外周リング24の外側に排出できる。したがって、基板1と外周リング24との間に紫外線硬化樹脂が残留することを抑制できる。排出孔24aの形状は特に限定されるものではないが、紫外線硬化樹脂の排出を良好にする点からすると、周方向に細長く広がっていることが好ましい。   Further, the outer peripheral ring 24 is provided with a plurality of discharge holes 24a penetrating from the inner peripheral surface toward the outer peripheral surface, for example, in the circumferential direction. By providing the discharge holes 24 a, when the ultraviolet ray curable resin is stretched on the substrate 1 by rotating the spin tray 21, the ultraviolet curable resin that has entered between the substrate 1 and the outer ring 24 is removed from the outer ring 24. Can be discharged to the outside. Therefore, it is possible to suppress the ultraviolet curable resin from remaining between the substrate 1 and the outer ring 24. The shape of the discharge hole 24a is not particularly limited, but it is preferable that the discharge hole 24a is elongated in the circumferential direction from the viewpoint of improving the discharge of the ultraviolet curable resin.

スピンコート装置には外周マスク25がさらに設けられている。UV光を基板1に照射するときには、外周マスク25により基板1の外周部を覆うことが可能なようにスピンコート装置は構成されている。外周マスク25は、UV照射装置23から出射されたUV光から基板1の外周部を遮光する遮光部である。この外周マスク25は、UV光を遮光可能な金属などの材料から構成されている。外周マスク25は、その載置面21aと対向する側の先端に突出部25aを有する。この突出部25aを設けることで、基板1の外周部に対するUV光の漏れ込みを低減できる。   The spin coater is further provided with an outer peripheral mask 25. When the substrate 1 is irradiated with UV light, the spin coater is configured so that the outer peripheral portion of the substrate 1 can be covered with the outer peripheral mask 25. The outer peripheral mask 25 is a light shielding portion that shields the outer peripheral portion of the substrate 1 from the UV light emitted from the UV irradiation device 23. The outer peripheral mask 25 is made of a material such as metal capable of blocking UV light. The outer peripheral mask 25 has a protrusion 25a at the tip on the side facing the mounting surface 21a. By providing the protruding portion 25a, it is possible to reduce leakage of UV light to the outer peripheral portion of the substrate 1.

外周マスク25の内径が狭すぎると、基板1の外周部の未硬化部が多くなり、この未硬化部がスピンコート時に振り切られてしまう。したがって、信号領域が狭くなってしまい、例えば規格で要求される信号領域を確保できなくなる。一方、外周マスク25の内径が大きすぎると、基板1の外周部またはそれより外側の部分まで、延伸された紫外線硬化樹脂が半硬化状態となってしまう。したがって、光記録媒体の外径が大きくなってしまい、例えば規格で要求される基板外径を越えてしまう。以上の点を考慮すると、所望とする光記録媒体の規格を満たすように、外周マスク25の内径、すなわち基板側面からの外周マスク25の突出幅を適宜選択することが好ましい。   If the inner diameter of the outer peripheral mask 25 is too narrow, the number of uncured portions on the outer peripheral portion of the substrate 1 increases, and this uncured portion is shaken off during spin coating. Therefore, the signal area becomes narrow, and for example, the signal area required by the standard cannot be secured. On the other hand, when the inner diameter of the outer peripheral mask 25 is too large, the stretched ultraviolet curable resin is in a semi-cured state up to the outer peripheral portion of the substrate 1 or a portion outside it. Therefore, the outer diameter of the optical recording medium increases, and exceeds the outer diameter of the substrate required by the standard, for example. In consideration of the above points, it is preferable to appropriately select the inner diameter of the outer peripheral mask 25, that is, the protruding width of the outer peripheral mask 25 from the side surface of the substrate, so as to satisfy the desired standard of the optical recording medium.

(1−3)光記録媒体の製造方法
次に、図4および図5を参照しながら、この発明の第1の実施形態による光記録媒体の製造方法について説明する。
(1-3) Manufacturing Method of Optical Recording Medium Next, a manufacturing method of the optical recording medium according to the first embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.

(基板の成形工程)
まず、一主面に凹凸面1aが形成された基板1を成形する。基板1の成形の方法としては、例えば射出成形(インジェクション)法、フォトポリマー法(2P法:Photo Polymerization)などを用いることができる。
(Substrate molding process)
First, the board | substrate 1 with which the uneven surface 1a was formed in one main surface is shape | molded. As a method for molding the substrate 1, for example, an injection molding (injection) method, a photopolymer method (2P method: Photo Polymerization), or the like can be used.

(第1の記録膜の成膜工程)
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板1上に順次積層する。これにより、第1の記録膜2が基板1上に成膜される。
(First recording film forming step)
Next, a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film are sequentially stacked on the substrate 1 by sputtering, for example. Thereby, the first recording film 2 is formed on the substrate 1.

(中間層の形成工程)
次に、図4Aに示すように、基板1のセンターホール1bを、センターピン22に嵌合するようにして、基板1をスピントレー21の載置面21aに載置する。次に、図4Aに示すように、基板1を回転させながらノズル(図示省略)から紫外線硬化樹脂3aをセンターホール1bの回りに、例えば1周に渡って滴下する。
(Intermediate layer formation process)
Next, as shown in FIG. 4A, the substrate 1 is placed on the placement surface 21 a of the spin tray 21 so that the center hole 1 b of the substrate 1 is fitted to the center pin 22. Next, as shown in FIG. 4A, the ultraviolet curable resin 3a is dropped from the nozzle (not shown) around the center hole 1b, for example, over one turn while rotating the substrate 1.

次に、図4Bに示すように、例えば2500〜3500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させる。これにより、基板1および外周リング24が高速で回転され、紫外線硬化樹脂3aが基板1全面に延伸されるとともに、余分な紫外線硬化樹脂が振り切られる。   Next, as shown in FIG. 4B, the spin tray 21 is rotated at a high speed for 1 to 4 seconds, for example, at a rotational speed in the range of 2500 to 3500 rpm. As a result, the substrate 1 and the outer peripheral ring 24 are rotated at a high speed, the ultraviolet curable resin 3a is stretched over the entire surface of the substrate 1, and excess ultraviolet curable resin is shaken off.

また、紫外線硬化樹脂3aは、基板1の外周部を越えて外周リング24の突出面まで延伸されるので、基板1の外周側の側面における紫外線硬化樹脂3aの回り込み、および基板1の外周部における樹脂の盛り上がりが低減される。   Further, since the ultraviolet curable resin 3 a extends beyond the outer peripheral portion of the substrate 1 to the protruding surface of the outer peripheral ring 24, the ultraviolet curable resin 3 a wraps around the outer peripheral side surface of the substrate 1 and the outer peripheral portion of the substrate 1. Resin swell is reduced.

次に、図4Cに示すように、外周マスク25により基板1の外周部を覆う。これにより、基板1の外周部にて盛り上がった紫外線硬化樹脂が外周マスク25により覆われる。次に、基板1を回転させて、例えば基板1の径方向に直列するように配置された複数のUV照射装置23により、弱いUV光を基板1の上面に一様に照射する。これにより、基板1の上面の紫外線硬化樹脂3bは、ゲル状の半硬化状態のものとされ、外周リング24の上面の紫外線硬化樹脂3cは、未硬化状態のものとされる。   Next, as shown in FIG. 4C, the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25. As a result, the ultraviolet curable resin raised at the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25. Next, the substrate 1 is rotated, and the upper surface of the substrate 1 is uniformly irradiated with weak UV light, for example, by a plurality of UV irradiation devices 23 arranged in series in the radial direction of the substrate 1. Thereby, the ultraviolet curable resin 3b on the upper surface of the substrate 1 is in a gel-like semi-cured state, and the ultraviolet curable resin 3c on the upper surface of the outer peripheral ring 24 is in an uncured state.

次に、図4Dに示すように、例えば3000〜4500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させる。これにより、基板1および外周リング24が高速で回転され、余剰な紫外線硬化樹脂が振り切られ、外周リング24の上面の紫外線硬化樹脂3cの厚さが低減される。次に、例えば載置面21aに対して垂直な方向に向けて基板1を搬出する。これにより、中間層3の外周面に微小な段差が形成される。また、この際、紫外線硬化樹脂が基板1の外周面に回り込むと考えられる。なお、この基板外周面に回り込んだ紫外線硬化樹脂の厚さは、従来の光記録媒体におけるものと比べて極めて薄いものである。   Next, as shown in FIG. 4D, the spin tray 21 is rotated at a high speed for 1 to 4 seconds at a rotation speed in the range of 3000 to 4500 rpm, for example. Thereby, the board | substrate 1 and the outer periphery ring 24 are rotated at high speed, an excess ultraviolet curing resin is shaken off, and the thickness of the ultraviolet curing resin 3c of the upper surface of the outer periphery ring 24 is reduced. Next, for example, the substrate 1 is unloaded in a direction perpendicular to the placement surface 21a. Thereby, a minute step is formed on the outer peripheral surface of the intermediate layer 3. At this time, it is considered that the ultraviolet curable resin goes around the outer peripheral surface of the substrate 1. In addition, the thickness of the ultraviolet curable resin that wraps around the outer peripheral surface of the substrate is extremely thinner than that in the conventional optical recording medium.

次に、中間層3を形成するための図5Aに示すテーブル33上に基板1を搬送し、光透過性を有するスタンパ27を、基板1の上面に一様に延伸された紫外線硬化樹脂3bに対して押し合わせる。スタンパ27は、例えば差圧ラミネート法で、紫外線硬化樹脂3bに対して押し合わせる。ここで、差圧ラミネート法とは、紫外線硬化樹脂3bに対するスタンパ27の押し合わせを、真空状態と大気圧が加わる状態とで生じる圧力差を利用して行う方法をいう。   Next, the substrate 1 is transported onto the table 33 shown in FIG. 5A for forming the intermediate layer 3, and the light-transmitting stamper 27 is applied to the ultraviolet curable resin 3 b uniformly stretched on the upper surface of the substrate 1. Push against each other. The stamper 27 is pressed against the ultraviolet curable resin 3b by, for example, a differential pressure laminating method. Here, the differential pressure laminating method refers to a method in which the stamper 27 is pressed against the ultraviolet curable resin 3b by using a pressure difference generated between a vacuum state and a state where an atmospheric pressure is applied.

図5Aに示すように、差圧ラミネート法では、基板1に押し合わせる前の状態のスタンパ27は、その中心開口が内周側の支持機構32を構成するセンタリングピンの先端側の小径部に嵌合され、スタンパ27の外周側は、外周側の支持機構28によって支持され、内周側の支持機構32および外周側の支持機構28によって、基板1に対して、適当な間隔を有し、且つスタンパ27の一主面と、基板1の一主面とがほぼ平行に対面するように、真空状態の真空チャンバT内に配置される。   As shown in FIG. 5A, in the differential pressure laminating method, the stamper 27 in a state before being pressed against the substrate 1 is fitted to the small diameter portion on the tip side of the centering pin whose center opening constitutes the support mechanism 32 on the inner peripheral side. The outer peripheral side of the stamper 27 is supported by the outer peripheral side support mechanism 28, and has an appropriate distance from the substrate 1 by the inner peripheral side support mechanism 32 and the outer peripheral side support mechanism 28, and It arrange | positions in the vacuum chamber T of a vacuum state so that one main surface of the stamper 27 and one main surface of the board | substrate 1 may face substantially parallel.

次に、真空チャンバT内の真空を破って大気圧の開放を行い真空と大気圧との差圧をスタンパ27に対して加える。この際、大気圧の開放と同期して、スタンパ27と、基板1との間隔を保持するための内周側の支持機構32および外周側の支持機構28の保持状態を解除する。大気圧の開放および大気圧の開放と同期した内周側の支持機構32および外周側の支持機構28の解除によって、スタンパ27の中周部が下方にたわみながら基板1に押し合わされ、これにより気泡の発生を低減できる。   Next, the vacuum in the vacuum chamber T is broken to release the atmospheric pressure, and a differential pressure between the vacuum and the atmospheric pressure is applied to the stamper 27. At this time, in synchronization with the release of the atmospheric pressure, the holding state of the inner peripheral support mechanism 32 and the outer peripheral support mechanism 28 for maintaining the distance between the stamper 27 and the substrate 1 is released. Release of the atmospheric pressure and the release of the support mechanism 32 on the inner peripheral side and the support mechanism 28 on the outer peripheral side in synchronism with the release of the atmospheric pressure cause the inner peripheral portion of the stamper 27 to be pressed against the substrate 1 while being bent downward, thereby causing bubbles. Can be reduced.

次に、図5Bに示すように、基板1を、例えば基板1の径方向に直行するように配置されたUV照射装置29によりUV光をスタンパ27び中央部付近から外周部付近まで照射する。これにより、スタンパ27を透過したUV光により半硬化状態の紫外線硬化樹脂3bが完全硬化した紫外線硬化樹脂とされる。   Next, as shown in FIG. 5B, the substrate 1 is irradiated with UV light from the vicinity of the central portion of the stamper 27 to the vicinity of the outer peripheral portion by, for example, a UV irradiation device 29 arranged so as to be orthogonal to the radial direction of the substrate 1. As a result, the UV curable resin 3b in a semi-cured state is made into a UV curable resin that is completely cured by the UV light transmitted through the stamper 27.

次に、基板1を、スタンパ27を基板1から剥離するための他のテーブル(図示省略)に搬送し、図5Cに示すように、スタンパ27を除去する。これにより、イングルーブおよびオングルーブが設けられた中間層3が得られる。   Next, the substrate 1 is transferred to another table (not shown) for peeling the stamper 27 from the substrate 1, and the stamper 27 is removed as shown in FIG. 5C. Thereby, the intermediate layer 3 provided with the in-groove and the on-groove is obtained.

(第2の記録膜の成膜工程)
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を中間層3上に順次積層する。これにより、第2の記録膜4が中間層3上に成膜される。
(Second Recording Film Formation Process)
Next, a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film are sequentially stacked on the intermediate layer 3 by sputtering, for example. Thereby, the second recording film 4 is formed on the intermediate layer 3.

(光透過層の形成工程)
次に、円環形状の光透過性シートを、例えば、このシート一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤(PSA)を用いて、基板1上の凹凸面2a側に貼り合わせる。これにより、基板1上に積層された積層膜を覆うように、光透過層5が形成される。
以上の工程により、図1に示す光記録媒体10が得られる。
(Light transmission layer forming process)
Next, an annular light-transmitting sheet is bonded to the uneven surface 2a side on the substrate 1 using, for example, a pressure-sensitive adhesive (PSA) uniformly applied in advance to one main surface of the sheet. Thereby, the light transmission layer 5 is formed so as to cover the laminated film laminated on the substrate 1.
Through the above steps, the optical recording medium 10 shown in FIG. 1 is obtained.

(2)第2の実施形態
(2−1)光記録媒体の構成
図6は、この発明の第2の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。この光記録媒体10は、単層の記録膜を有する書換型の光記録媒体であり、記録膜41、光透過層5を基板1上に順次積層して構成される。基板1は上述の第1の実施形態と同様であり、記録膜41は上述の第1の実施形態における第2の記録膜4と同様であるので説明を省略する。光透過層5は、紫外線硬化樹脂を硬化してなる。光透過層5の厚さは、好ましくは10μm以上177μm以下の範囲内から選ばれ、例えば100μmに選ばれる。
(2) Second Embodiment (2-1) Configuration of Optical Recording Medium FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration example of an optical recording medium according to the second embodiment of the present invention. This optical recording medium 10 is a rewritable optical recording medium having a single-layer recording film, and is configured by sequentially laminating a recording film 41 and a light transmission layer 5 on a substrate 1. The substrate 1 is the same as in the first embodiment described above, and the recording film 41 is the same as the second recording film 4 in the first embodiment described above. The light transmission layer 5 is formed by curing an ultraviolet curable resin. The thickness of the light transmission layer 5 is preferably selected from the range of 10 μm or more and 177 μm or less, for example, 100 μm.

(2−2)光記録媒体の製造方法
次に、図7を参照しながら、この発明の第2の実施形態による光記録媒体10の製造方法について説明する。なお、光透過層5の形成に用いるスピンコート装置の構成は、上述の第1の実施形態と同様であるので説明を省略する。
(2-2) Manufacturing Method of Optical Recording Medium Next, a manufacturing method of the optical recording medium 10 according to the second embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The configuration of the spin coater used for forming the light transmission layer 5 is the same as that in the first embodiment described above, and a description thereof will be omitted.

(基板の成形工程)
まず、一主面に凹凸面1aが形成された基板1を成形する。基板1の成形の方法としては、例えば射出成形(インジェクション)法、フォトポリマー法(2P法:Photo Polymerization)などを用いることができる。
(Substrate molding process)
First, the board | substrate 1 with which the uneven surface 1a was formed in one main surface is shape | molded. As a method for molding the substrate 1, for example, an injection molding (injection) method, a photopolymer method (2P method: Photo Polymerization), or the like can be used.

(記録膜の成膜工程)
次に、例えばスパッタリング法により、反射膜、下層誘電体膜、相変化記録膜、上層誘電体膜を基板1上に順次積層する。これにより、記録膜41が基板1上に成膜される。
(Recording film formation process)
Next, a reflective film, a lower dielectric film, a phase change recording film, and an upper dielectric film are sequentially stacked on the substrate 1 by sputtering, for example. Thereby, the recording film 41 is formed on the substrate 1.

(光透過層の形成工程)
次に、図7Aに示すように、基板1のセンターホール1bを、センターピン22に嵌合するようにして、基板1をスピントレー21の載置面21aに載置する。次に、図4Aに示すように、基板1を回転させながらノズル(図示省略)から紫外線硬化樹脂5aをセンターホール1bの回りに、例えば1周に渡って滴下する。
(Light transmission layer forming process)
Next, as shown in FIG. 7A, the substrate 1 is placed on the placement surface 21 a of the spin tray 21 so that the center hole 1 b of the substrate 1 is fitted to the center pin 22. Next, as shown in FIG. 4A, the ultraviolet curable resin 5a is dropped from the nozzle (not shown) around the center hole 1b, for example, over one turn while rotating the substrate 1.

次に、図7Bに示すように、例えば2500〜3500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させる。これにより、基板1および外周リング24が高速で回転され、紫外線硬化樹脂5aが基板1全面に延伸されるとともに、余分な紫外線硬化樹脂5aが振り切られる。また、紫外線硬化樹脂5aは、基板1の外周部を越えて外周リング24の突出面まで延伸されるので、基板1の外周側の側面における紫外線硬化樹脂5aの回り込み、および基板1の外周部における樹脂の盛り上がりが低減される。   Next, as shown in FIG. 7B, the spin tray 21 is rotated at a high speed for 1 to 4 seconds, for example, at a rotational speed in the range of 2500 to 3500 rpm. As a result, the substrate 1 and the outer ring 24 are rotated at high speed, the ultraviolet curable resin 5a is stretched over the entire surface of the substrate 1, and the excess ultraviolet curable resin 5a is shaken off. In addition, since the ultraviolet curable resin 5 a extends beyond the outer peripheral portion of the substrate 1 to the protruding surface of the outer peripheral ring 24, the ultraviolet curable resin 5 a wraps around the outer peripheral side surface of the substrate 1 and the outer peripheral portion of the substrate 1. Resin swell is reduced.

次に、図7Cに示すように、外周マスク25により基板1の外周部を覆う。これにより、基板1の外周部にて盛り上がった紫外線硬化樹脂5aが外周マスク25により覆われる。次に、基板の径方向に直列するように配置された複数のUV照射装置23によりUV光を基板1の上面に一様に照射する。これにより、基板1上の上面の紫外線硬化樹脂5bは、半硬化状態のものとされ、外周リング24の上面の紫外線硬化樹脂3cは、未硬化状態のものとされる。   Next, as shown in FIG. 7C, the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25. As a result, the ultraviolet curable resin 5 a raised at the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25. Next, UV light is uniformly irradiated on the upper surface of the substrate 1 by a plurality of UV irradiation devices 23 arranged in series in the radial direction of the substrate. Thereby, the ultraviolet curable resin 5b on the upper surface of the substrate 1 is in a semi-cured state, and the ultraviolet curable resin 3c on the upper surface of the outer peripheral ring 24 is in an uncured state.

次に、図7Dに示すように、例えば3000〜4500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させる。これにより、基板1および外周リング24が高速で回転され、余剰な紫外線硬化樹脂が振り切られ、外周リング24の上面の紫外線硬化樹脂5cの厚さが低減される。次に、UV照射装置23によりUV光を基板1の上面に照射する。これにより、基板1の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化樹脂5bが完全硬化され、光透過層5が形成される。
以上の工程により、図6に示す光記録媒体10が得られる。
Next, as shown in FIG. 7D, the spin tray 21 is rotated at a high speed for 1 to 4 seconds at a rotational speed in the range of 3000 to 4500 rpm, for example. Thereby, the board | substrate 1 and the outer periphery ring 24 are rotated at high speed, an excess ultraviolet curing resin is shaken off, and the thickness of the ultraviolet curing resin 5c of the upper surface of the outer periphery ring 24 is reduced. Next, the UV irradiation device 23 irradiates the upper surface of the substrate 1 with UV light. Thereby, the semi-cured ultraviolet curable resin 5b stretched on the upper surface of the substrate 1 is completely cured, and the light transmission layer 5 is formed.
Through the above steps, the optical recording medium 10 shown in FIG. 6 is obtained.

以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例のみに限定されるものではない。   EXAMPLES Hereinafter, although an Example demonstrates this invention concretely, this invention is not limited only to these Examples.

まず、上述のスピンコート装置と従来のスピンコート装置とにより紫外線硬化樹脂を延伸・硬化させて、樹脂層の厚みの均一性を評価した。   First, the ultraviolet curable resin was stretched and cured by the above spin coater and a conventional spin coater, and the thickness uniformity of the resin layer was evaluated.

実施例1
まず、射出成形法により、一主面にイングルーブおよびオングルーブが設けられた基板1を成形した。樹脂材料としては、ポリカーボネート樹脂を用いた。次に、スパッタリング法により、第1の記録膜2を基板1上に成膜した。
Example 1
First, the substrate 1 having an in-groove and an on-groove provided on one main surface was formed by an injection molding method. As the resin material, polycarbonate resin was used. Next, the first recording film 2 was formed on the substrate 1 by sputtering.

次に、図2に示すスピンコート装置に基板1を搬送し、基板1のセンターホール1bを、センターピン22に嵌合するようにして、基板1をスピントレー21の載置面21aに載置した。次に、基板1を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂3aをセンターホール1bの回りに1周に渡って滴下した。   Next, the substrate 1 is transported to the spin coater shown in FIG. 2, and the substrate 1 is placed on the placement surface 21 a of the spin tray 21 so that the center hole 1 b of the substrate 1 is fitted to the center pin 22. did. Next, the ultraviolet curable resin 3a was dropped from the nozzle over the circumference of the center hole 1b while rotating the substrate 1.

次に、2500〜3500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂3aを基板1上に延伸させた。なお、基板1と外周リング24とのクリアランスは、5μmとした。   Next, the spin tray 21 was rotated at a high speed for 1 to 4 seconds at a rotation speed in the range of 2500 to 3500 rpm, and the ultraviolet curable resin 3a was stretched on the substrate 1. The clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was 5 μm.

次に、外周マスク25により基板1の外周部を覆った後、UV照射装置23によりUV光を基板1の上面に一様に照射して、基板1の上面に延伸された紫外線硬化樹脂3bを半硬化させた。なお、円環状を有する外周マスク25の径は、118mmとした。次に、3000〜4500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させて、基板1の外周部の余剰な紫外線硬化樹脂を振り切って、紫外線硬化樹脂3cの厚さを低減させた。   Next, after the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25, the UV irradiation device 23 uniformly irradiates the upper surface of the substrate 1 with UV light, and the ultraviolet curable resin 3b stretched on the upper surface of the substrate 1 is applied. Semi-cured. The diameter of the outer peripheral mask 25 having an annular shape was 118 mm. Next, the spin tray 21 is rotated at a high speed for 1 to 4 seconds at a rotation speed in the range of 3000 to 4500 rpm, and the excess UV curable resin on the outer peripheral portion of the substrate 1 is shaken off to obtain the thickness of the UV curable resin 3c. Reduced.

次に、基板1を中間層を形成するためのテーブルに移動し、基板1の外周部を外周マスク31により覆った後、基板1の上面に対してUV光を照射し、基板1の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化樹脂3bを、完全硬化状態の紫外線硬化樹脂とした。   Next, the substrate 1 is moved to a table for forming an intermediate layer, and the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 31, and then, the upper surface of the substrate 1 is irradiated with UV light. The stretched semi-cured UV curable resin 3b was used as a fully cured UV curable resin.

比較例1
図8に、比較例の光記録媒体10の作製に用いたスピンコート装置の構成を示す。図8に示すように、このスピンコート装置は、外周リング24および外周マスク25が省略されている以外のことは、上述の実施例1で用いたスピンコート装置と同様である。このスピンコート装置を用いて、以下のようにしてサンプルを作製した。
Comparative Example 1
FIG. 8 shows a configuration of a spin coater used for manufacturing the optical recording medium 10 of the comparative example. As shown in FIG. 8, this spin coater is the same as the spin coater used in Example 1 described above except that the outer ring 24 and the outer mask 25 are omitted. Using this spin coater, a sample was produced as follows.

まず、実施例1と同様にして、基板1を成形し、この基板1上に第1の記録膜2を成膜した。次に、図8に示すスピンコート装置に基板1を搬送し、基板1のセンターホール1bを、センターピン22に嵌合するようにして、基板1をスピントレー21の載置面21aに載置した。次に、基板1を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂3aをセンターホール2bの回りに1周に渡って滴下した。   First, in the same manner as in Example 1, the substrate 1 was molded, and the first recording film 2 was formed on the substrate 1. Next, the substrate 1 is transported to the spin coater shown in FIG. 8, and the substrate 1 is placed on the placement surface 21 a of the spin tray 21 so that the center hole 1 b of the substrate 1 is fitted to the center pin 22. did. Next, the ultraviolet curable resin 3a was dropped from the nozzle over the circumference of the center hole 2b while rotating the substrate 1.

次に、例えば2500〜3500rpmの範囲の回転数で、1〜4秒間、スピントレー21を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂3aを基板1の上面に延伸させた。次に、UV照射装置23によりUV光を基板1の上面に一様に照射して、延伸された紫外線硬化樹脂3aを完全硬化させた。   Next, for example, the spin tray 21 was rotated at a high speed for 1 to 4 seconds at a rotational speed in the range of 2500 to 3500 rpm, and the ultraviolet curable resin 3 a was stretched on the upper surface of the substrate 1. Next, UV light was uniformly irradiated on the upper surface of the substrate 1 by the UV irradiation device 23 to completely cure the stretched ultraviolet curable resin 3a.

次に、上述のようにして得られた実施例1および比較例1の外周部の形状を評価した。この評価には、KLA TENCOR社製 P−15を用いた。図9は、実施例1の外周部の形状を示す。図10は、比較例1の外周部の形状を示す。   Next, the shape of the outer peripheral part of Example 1 and Comparative Example 1 obtained as described above was evaluated. For this evaluation, P-15 manufactured by KLA TENCOR was used. FIG. 9 shows the shape of the outer periphery of the first embodiment. FIG. 10 shows the shape of the outer peripheral portion of Comparative Example 1.

図9〜図10から、比較例1では、基板1の外周部における紫外線硬化樹脂3aの盛り上がりは17μm程度に達してしまっているのに対して、実施例1では、基板1の外周部における紫外線硬化樹脂3aの盛り上がりが2μm程度に低減されていることが分かる。   From FIG. 9 to FIG. 10, in Comparative Example 1, the rise of the ultraviolet curable resin 3 a in the outer peripheral portion of the substrate 1 has reached about 17 μm, whereas in Example 1, the ultraviolet light in the outer peripheral portion of the substrate 1 is reached. It can be seen that the rise of the cured resin 3a is reduced to about 2 μm.

次に、実施例2〜実施例7のサンプルを作製し、基板1と外周リング24とのクリアランスについて検討を行った。   Next, samples of Examples 2 to 7 were prepared, and the clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was examined.

実施例2
まず、実施例1と同様にして、基板1を成形し、この基板1上に第1の記録膜2を成膜した。次に、図2に示すスピンコート装置に基板1を搬送し、基板1のセンターホール1bを、センターピン22に嵌合するようにして、基板1をスピントレー21の載置面21aに載置した。次に、基板1を回転させながらノズルから紫外線硬化樹脂3aをセンターホールの回りに1周に渡って滴下した。
Example 2
First, in the same manner as in Example 1, the substrate 1 was molded, and the first recording film 2 was formed on the substrate 1. Next, the substrate 1 is transported to the spin coater shown in FIG. 2, and the substrate 1 is placed on the placement surface 21 a of the spin tray 21 so that the center hole 1 b of the substrate 1 is fitted to the center pin 22. did. Next, the ultraviolet curable resin 3a was dropped from the nozzle over the circumference of the center hole while rotating the substrate 1.

次に、例えば2500〜3500rpmの範囲の回転数で、2秒間、スピントレー21を高速で回転させて、紫外線硬化樹脂3aを基板1上に延伸させた。なお、基板1と外周リング24とのクリアランスは、4μmとした。   Next, for example, the spin tray 21 was rotated at a high speed for 2 seconds at a rotational speed in the range of 2500 to 3500 rpm, and the ultraviolet curable resin 3 a was stretched on the substrate 1. The clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was 4 μm.

次に、外周マスク25により基板1の外周部を覆った後、UV照射装置23によりUV光を基板1の上面に一様に照射して、基板1の上面に延伸された紫外線硬化樹脂3bを半硬化させた。なお、円環状を有する外周マスク25の径は、118mmとした。次に、3000〜4500rpmの範囲の回転数で、4秒間、スピントレー21を高速で回転させて、基板1の外周部の余剰な紫外線硬化樹脂を振り切り紫外線硬化樹脂cの厚さを低減させた。   Next, after the outer peripheral portion of the substrate 1 is covered with the outer peripheral mask 25, the UV irradiation device 23 uniformly irradiates the upper surface of the substrate 1 with UV light, and the ultraviolet curable resin 3b stretched on the upper surface of the substrate 1 is applied. Semi-cured. The diameter of the outer peripheral mask 25 having an annular shape was 118 mm. Next, the spin tray 21 was rotated at a high speed for 4 seconds at a rotational speed in the range of 3000 to 4500 rpm, and the excess UV curable resin on the outer periphery of the substrate 1 was shaken off to reduce the thickness of the UV curable resin c. .

次に、基板1を、中間層3を形成するためのテーブル33上に搬送し、光透過性を有するスタンパ27を、基板1の上面に一様に延伸された紫外線硬化樹脂3bに対して押し合わせた。なお、スタンパ27の押し合わせは、差圧ラミネート法により行った。次に、UV照射装置29により、基板1の上面に対してUV光を照射し、基板1の上面に延伸された半硬化状態の紫外線硬化性樹脂3bを、完全硬化状態の紫外線硬化樹脂とした。次に、基板1を、スタンパ27を基板1から剥離するための他のテーブルに搬送し、スタンパ27を除去した。これにより、イングルーブおよびオングルーブが設けられた中間層3が得られた。   Next, the substrate 1 is transported onto a table 33 for forming the intermediate layer 3, and a light-transmitting stamper 27 is pushed against the ultraviolet curable resin 3 b uniformly stretched on the upper surface of the substrate 1. Combined. The stamper 27 was pressed by a differential pressure laminating method. Next, the UV irradiation device 29 irradiates the upper surface of the substrate 1 with UV light, and the semi-cured ultraviolet curable resin 3b stretched on the upper surface of the substrate 1 is used as a fully cured ultraviolet curable resin. . Next, the substrate 1 was transported to another table for peeling the stamper 27 from the substrate 1, and the stamper 27 was removed. Thereby, the intermediate layer 3 provided with the in-groove and the on-groove was obtained.

次に、スパッタリング法により、第2の記録膜4を中間層3の凹凸面2a上に成膜した。次に、円環形状の光透過性シートを、例えば、このシート一主面に予め均一に塗布された感圧性粘着剤(PSA)を用いて、中間層3の凹凸面2a側に貼り合わせた。これにより、基板1上に積層された積層膜を覆うように、光透過層5が形成された。以上の工程により、目的とするサンプルが得られた。   Next, the second recording film 4 was formed on the uneven surface 2a of the intermediate layer 3 by sputtering. Next, the annular light-transmitting sheet was bonded to the concave-convex surface 2a side of the intermediate layer 3 using, for example, a pressure-sensitive adhesive (PSA) previously uniformly applied to one main surface of the sheet. . Thereby, the light transmission layer 5 was formed so as to cover the laminated film laminated on the substrate 1. The target sample was obtained through the above steps.

実施例3
基板1と外周リング24とのクリアランスを5μmとする以外のことは、上述の実施例2とすべて同様にしてサンプルを得た。
Example 3
A sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was set to 5 μm.

実施例4
基板1と外周リング24とのクリアランスを22μmとする以外のことは、上述の実施例2とすべて同様にしてサンプルを得た。
Example 4
A sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was 22 μm.

実施例5
基板1と外周リング24とのクリアランスを60μmとする以外のことは、上述の実施例2とすべて同様にしてサンプルを得た。
Example 5
A sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the clearance between the substrate 1 and the outer peripheral ring 24 was set to 60 μm.

実施例6
基板1と外周リング24とのクリアランスを90μmとする以外のことは、上述の実施例2とすべて同様にしてサンプルを得た。
Example 6
A sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was 90 μm.

実施例7
基板1と外周リング24とのクリアランスを100μmとする以外のことは、上述の実施例2とすべて同様にしてサンプルを得た。
Example 7
A sample was obtained in the same manner as in Example 2 except that the clearance between the substrate 1 and the outer ring 24 was 100 μm.

次に、上述のようにして得られた実施例2〜7の基板1の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を測定した。図11は、実施例2〜7の基板1の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を示す模式図である。図11では、便宜上紫外線硬化樹脂が基板1の外周面の一部に回り込んでいる場合を図示しているが、実際には、紫外線硬化樹脂は基板1の外周面の全体に回り込んでいる。なお、回り込み量は、実施例2〜7の基板それぞれについて8箇所の位置にて測定を行った。また、クリアランスの測定には、CNC画像測定器(ミツトヨ社製、商品名:Quick Vision PRO)を用い、回り込み量の測定には、CNC画像測定器(ミツトヨ社製:商品名:Quick Vision PRO)を用いた。   Next, the amount of UV curable resin wraparound at the outer peripheral portion of the substrate 1 of Examples 2 to 7 obtained as described above was measured. FIG. 11 is a schematic diagram illustrating the amount of UV curable resin wraparound in the outer peripheral portion of the substrate 1 of Examples 2 to 7. In FIG. 11, the case where the ultraviolet curable resin wraps around a part of the outer peripheral surface of the substrate 1 is illustrated for convenience, but actually, the ultraviolet curable resin wraps around the entire outer peripheral surface of the substrate 1. . In addition, the amount of wraparound was measured at eight positions for each of the substrates of Examples 2 to 7. In addition, a CNC image measuring device (trade name: Quick Vision PRO) is used for clearance measurement, and a CNC image measuring device (trade name: Quick Vision PRO) is used for measuring the amount of wraparound. Was used.

表1に、実施例2〜7の回り込み量の測定結果を示す。表1において、判定結果「○」、「△」、「×」は、回り込み量dが以下の範囲であることを示す。
「○」:0≦d≦15μm、「△」:15μm<d≦25μm、「×」:25μm<d
In Table 1, the measurement result of the amount of wraparound of Examples 2-7 is shown. In Table 1, the determination results “◯”, “Δ”, and “×” indicate that the amount of wraparound d is in the following range.
“◯”: 0 ≦ d ≦ 15 μm, “Δ”: 15 μm <d ≦ 25 μm, “×”: 25 μm <d

Figure 2007141370
Figure 2007141370

実施例2(クリアランス4μm)および実施例7(クリアランス100μm)では、測定位置によっては判定結果が「△」および「×」となるのに対して、実施例3〜7(クリアランス5μm〜90μm)では、全ての測定位置において判定結果が「○」であることが分かる。すなわち、クリアランスを5μm〜90μmの範囲にすることにより、基板1の外形への回り込み量を15μm以下にできることが分かる。   In Example 2 (clearance 4 μm) and Example 7 (clearance 100 μm), the determination results are “Δ” and “×” depending on the measurement position, whereas in Examples 3 to 7 (clearance 5 μm to 90 μm). It can be seen that the determination results are “◯” at all measurement positions. That is, it can be seen that the amount of wraparound to the outer shape of the substrate 1 can be reduced to 15 μm or less by setting the clearance in the range of 5 μm to 90 μm.

また、実施例3〜6(クリアランス5μm〜90μm)に着目すると、実施例4〜5(クリアランスを22μm〜60μm)では、実施例3(クリアランス5μm)および実施例6(クリアランス90μm)に比して、基板1の外形への回り込み量をさらに低減できることが分かる。すなわち、クリアランスを22μm〜60の範囲にすることにより、基板1の外形への回り込み量をさらに低減できることが分かる。   Focusing on Examples 3 to 6 (clearance 5 μm to 90 μm), Examples 4 to 5 (clearance 22 μm to 60 μm) are compared to Example 3 (clearance 5 μm) and Example 6 (clearance 90 μm). It can be seen that the amount of wraparound to the outer shape of the substrate 1 can be further reduced. That is, it can be seen that the amount of wraparound to the outer shape of the substrate 1 can be further reduced by setting the clearance in the range of 22 μm to 60 μm.

以上、この発明の第1〜第2の実施形態について具体的に説明したが、この発明は、上述の第1〜第2の実施形態に限定されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各種の変形が可能である。   The first and second embodiments of the present invention have been specifically described above. However, the present invention is not limited to the first and second embodiments described above, and is based on the technical idea of the present invention. Various variations based on this are possible.

例えば、上述の第1〜第2の実施形態において挙げた数値はあくまでも例に過ぎず、必要に応じてこれと異なる数値を用いてもよい。   For example, the numerical values given in the first to second embodiments are merely examples, and different numerical values may be used as necessary.

また、上述の第1〜第2の実施形態では、2層の記録膜を有する光記録媒体に対してこの発明を適用したが、この発明は3層以上の記録膜を有する光記録媒体に対して適用することも可能である。   In the first to second embodiments described above, the present invention is applied to an optical recording medium having a two-layer recording film. However, the present invention applies to an optical recording medium having a recording film having three or more layers. It is also possible to apply.

また、上述の第1〜第2の実施形態では、中間層または光透過層を有する光記録媒体の製造方法に対してこの発明を適用する例について説明したが、ハードコード層を有する光記録媒体の製造方法にこの発明を適用してもよい。   In the first and second embodiments described above, the example in which the present invention is applied to the method of manufacturing the optical recording medium having the intermediate layer or the light transmission layer has been described. However, the optical recording medium having the hard code layer is described. The present invention may be applied to the manufacturing method.

また、第1の実施形態では、光透過性シートを感圧性粘着剤により基板1に貼り合わせて光透過層5を作製する場合について説明したが、上述の第2の実施形態と同様に、紫外線硬化樹脂3aを延伸・硬化して光透過層5を形成するようにしてもよい。   In the first embodiment, the light transmissive sheet 5 is bonded to the substrate 1 with a pressure-sensitive adhesive to produce the light transmissive layer 5. However, as in the second embodiment, ultraviolet light is used. The light transmission layer 5 may be formed by stretching and curing the cured resin 3a.

また、上述の第1の実施形態では、光透過性シートを感圧性粘着剤により基板1に貼り合わせて光透過層5を作製する場合について説明したが、紫外線硬化樹脂により光透過性シートを基板1に貼り合わせて光透過層5を形成するようにしてもよい。この光透過層5は、例えば以下のようにして形成される。   In the first embodiment described above, the light transmissive sheet 5 is bonded to the substrate 1 with the pressure-sensitive adhesive to produce the light transmissive layer 5. However, the light transmissive sheet is made of the ultraviolet curable resin. 1 may be laminated to form the light transmission layer 5. The light transmission layer 5 is formed as follows, for example.

まず、例えば10μm〜20μm程度の厚さに紫外線硬化樹脂を第2の記録膜2上に延伸する。この際、上述の第2の実施形態と同様にして、図2に示したスピンコート装置を用いて紫外線硬化樹脂を延伸する。次に、基板1上に延伸された紫外線硬化樹脂の上に光透過性シートを載置した後、例えば光透過性シート側からUV光を紫外線硬化樹脂に照射して紫外線硬化樹脂を硬化させる。以上により光透過層5が形成される。   First, for example, an ultraviolet curable resin is stretched on the second recording film 2 to a thickness of about 10 μm to 20 μm. At this time, the ultraviolet curable resin is stretched using the spin coater shown in FIG. 2 in the same manner as in the second embodiment. Next, after placing the light transmissive sheet on the ultraviolet curable resin stretched on the substrate 1, for example, the ultraviolet curable resin is irradiated with UV light from the light transmissive sheet side to cure the ultraviolet curable resin. Thus, the light transmission layer 5 is formed.

また、上述の第1〜第2の実施形態では、基板1上に光透過層5を形成する構成を有する単板型の光記録媒体10に対してこの発明を適用した場合について説明したが、第1および第2の基板を貼り合わせる構成を有する貼り合わせ型の光記録媒体に対してこの発明を適用するようにしてもよい。この発明を適用可能な貼り合わせ型の光記録媒体としては、例えば、DVD、HD DVDなどを挙げることができる。   In the first to second embodiments described above, the case where the present invention is applied to the single-plate type optical recording medium 10 having a configuration in which the light transmission layer 5 is formed on the substrate 1 has been described. The present invention may be applied to a bonded optical recording medium having a configuration in which the first and second substrates are bonded together. Examples of the bonded optical recording medium to which the present invention can be applied include DVD and HD DVD.

また、上述の第1〜第2の実施形態では、基板1とは反対の側からUV光を照射する場合について説明したが、第1の記録膜2および記録膜41の透過率が高い場合には、基板1側からUV光を照射することも可能である。例えば、追記型光記録媒体の場合には、記録膜が高い透過率を有するので、基板1の側からUV光を照射することが可能である。このように、基板1側からUV光を照射することで、金属などからスタンパを用いることができる。したがって、スタンパの耐久性が向上するので、1つのスタンパを用いて複数の中間層3を形成できるようになる。すなわち、光記録媒体のコストを低減できる。   In the first and second embodiments described above, the case of irradiating UV light from the side opposite to the substrate 1 has been described. However, when the transmittance of the first recording film 2 and the recording film 41 is high. It is also possible to irradiate UV light from the substrate 1 side. For example, in the case of a write-once type optical recording medium, the recording film has a high transmittance, so that it is possible to irradiate UV light from the substrate 1 side. Thus, a stamper can be used from a metal etc. by irradiating UV light from the substrate 1 side. Therefore, since the durability of the stamper is improved, a plurality of intermediate layers 3 can be formed using one stamper. That is, the cost of the optical recording medium can be reduced.

また、上述の第1〜第2の実施形態では、書換型の光記録媒体に対してこの発明を適用する場合を例として説明したが、この発明はこの例に何ら限定されるものではなく、追記型および再生専用型の光記録媒体に対しても適用可能である。   In the first to second embodiments described above, the case where the present invention is applied to a rewritable optical recording medium has been described as an example. However, the present invention is not limited to this example. The present invention can also be applied to write-once and read-only optical recording media.

この発明の第1の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one structural example of the optical recording medium by 1st Embodiment of this invention. スピンコート装置の一構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows one structural example of a spin coater. スピンコート装置の一構成例を示す上面図である。It is a top view which shows one structural example of a spin coater. この発明の第1の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the optical recording medium by 1st Embodiment of this invention. この発明の第1の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the optical recording medium by 1st Embodiment of this invention. この発明の第2の実施形態による光記録媒体の一構成例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example of 1 structure of the optical recording medium by the 2nd Embodiment of this invention. この発明の第2の実施形態による光記録媒体の製造方法を説明するための模式図である。It is a schematic diagram for demonstrating the manufacturing method of the optical recording medium by 2nd Embodiment of this invention. 比較例1の光記録媒体10の作製に用いたスピンコート装置の構成を示す断面図である。6 is a cross-sectional view showing a configuration of a spin coater used for manufacturing the optical recording medium 10 of Comparative Example 1. FIG. 実施例1の外周部の形状を示す略線図である。3 is a schematic diagram illustrating a shape of an outer peripheral portion of Example 1. FIG. 比較例1の外周部の形状を示す略線図である。6 is a schematic diagram illustrating a shape of an outer peripheral portion of Comparative Example 1. FIG. 実施例2〜7の基板1の外周部における紫外線硬化樹脂の回り込み量を示す模式図である。It is a schematic diagram which shows the wraparound amount of the ultraviolet curable resin in the outer peripheral part of the board | substrate 1 of Examples 2-7.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・基板
1a,2a・・・凹凸面
1b・・・センターホール
2・・・記録膜
2b・・・センターホール
3・・・中間層
3a,3b,3c,3d・・・紫外線硬化樹脂
4・・・記録膜
5・・・光透過層
5a,5b,5c,5b・・・紫外線硬化樹脂
6・・・対物レンズ
7・・・レーザ光
10・・・光記録媒体
21・・・スピントレー
21a・・・載置面
22・・・センターピン
23・・・照射装置
24・・・外周リング
24a・・・排出孔
25,31・・・外周マスク
25a・・・突出部
26・・・赤外線照射装置
27・・・スタンパ
28,32・・・支持機構
29,30・・・UV照射装置
33・・・テーブル
41・・・記録膜
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 1a, 2a ... Uneven surface 1b ... Center hole 2 ... Recording film 2b ... Center hole 3 ... Intermediate layer 3a, 3b, 3c, 3d ... UV curable resin DESCRIPTION OF SYMBOLS 4 ... Recording film 5 ... Light transmission layer 5a, 5b, 5c, 5b ... UV curable resin 6 ... Objective lens 7 ... Laser beam 10 ... Optical recording medium 21 ... Spin Tray 21a ... Placement surface 22 ... Center pin 23 ... Irradiation device 24 ... Outer ring 24a ... Discharge hole 25, 31 ... Outer mask 25a ... Projection 26 ... Infrared irradiation device 27 ... Stamper 28, 32 ... Support mechanism 29, 30 ... UV irradiation device 33 ... Table 41 ... Recording film

Claims (5)

第1の情報信号部、中間層、第2の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体において、
上記基板の外周面には光硬化性樹脂が25μm以下の厚さで回り込んでいることを特徴とする光記録媒体。
In an optical recording medium in which a first information signal portion, an intermediate layer, a second information signal portion, and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate,
An optical recording medium, wherein a photocurable resin is wrapped around the outer peripheral surface of the substrate with a thickness of 25 μm or less.
上記中間層の外周面には段差が設けられていることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。   The optical recording medium according to claim 1, wherein a step is provided on the outer peripheral surface of the intermediate layer. 上記基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を上記第1の情報信号部上に延伸し、上記基板の外周部を遮光部により覆いながら、延伸された上記光硬化性樹脂に光を照射して半硬化させ、上記基板と上記延長部とを再び回転させて上記外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去し、半硬化された上記光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てるとともに上記光硬化性樹脂に光を照射して上記光硬化性樹脂を硬化することにより、
上記中間層は形成されることを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
Rotating the substrate and an extension portion having a plane substantially the same height as the outer periphery of the substrate, the photocurable resin is stretched on the first information signal portion, and the outer periphery portion of the substrate is shielded from the light shielding portion. The stretched photo-curing resin is irradiated with light and semi-cured, and the substrate and the extension are rotated again to remove excess photo-curing resin on the outer peripheral portion and semi-cured. By pressing a stamper on the photocurable resin and irradiating the photocurable resin with light to cure the photocurable resin,
The optical recording medium according to claim 1, wherein the intermediate layer is formed.
第1の情報信号部、中間層、第2の情報信号部、光透過層が基板上に順次積層された光記録媒体の製造方法において、
上記基板と、該基板の外周とほぼ同じ高さの平面を有する延長部とを回転させて、光硬化性樹脂を上記第1の情報信号部上に延伸し、上記基板の外周部を遮光部により覆いながら、延伸された上記光硬化性樹脂に光を照射して半硬化させ、上記基板と上記延長部とを再び回転させて上記外周部の余剰な光硬化性樹脂を除去し、半硬化された上記光硬化性樹脂上にスタンパを押し当てるとともに上記光硬化性樹脂に光を照射して上記光硬化性樹脂を硬化することにより、
上記中間層は形成されることを特徴とする光記録媒体の製造方法。
In the method of manufacturing an optical recording medium in which a first information signal portion, an intermediate layer, a second information signal portion, and a light transmission layer are sequentially laminated on a substrate,
Rotating the substrate and an extension portion having a plane substantially the same height as the outer periphery of the substrate, the photocurable resin is stretched on the first information signal portion, and the outer periphery portion of the substrate is shielded from the light shielding portion. The stretched photo-curing resin is irradiated with light and semi-cured, and the substrate and the extension are rotated again to remove excess photo-curing resin on the outer peripheral portion and semi-cured. By pressing a stamper on the photocurable resin and irradiating the photocurable resin with light to cure the photocurable resin,
A method for producing an optical recording medium, wherein the intermediate layer is formed.
上記基板と上記延長部との間には、5μm以上90μm以下の隙間が設けられていることを特徴とする請求項4記載の光記録媒体の製造方法。   5. The method of manufacturing an optical recording medium according to claim 4, wherein a gap of 5 μm or more and 90 μm or less is provided between the substrate and the extension portion.
JP2005334244A 2005-11-18 2005-11-18 Optical recording medium and manufacturing method thereof Expired - Fee Related JP4618111B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005334244A JP4618111B2 (en) 2005-11-18 2005-11-18 Optical recording medium and manufacturing method thereof

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2005334244A JP4618111B2 (en) 2005-11-18 2005-11-18 Optical recording medium and manufacturing method thereof

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2007141370A true JP2007141370A (en) 2007-06-07
JP4618111B2 JP4618111B2 (en) 2011-01-26

Family

ID=38204045

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2005334244A Expired - Fee Related JP4618111B2 (en) 2005-11-18 2005-11-18 Optical recording medium and manufacturing method thereof

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4618111B2 (en)

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011100538A (en) * 2010-11-29 2011-05-19 Toshiba Corp Method for manufacturing magnetic recording medium
US8070968B2 (en) 2009-03-13 2011-12-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same
US8173029B2 (en) 2009-03-18 2012-05-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic recording medium manufacturing method
US8372575B2 (en) 2009-03-13 2013-02-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curing resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1173691A (en) * 1997-08-29 1999-03-16 Sony Corp Production of optical disk and optical disk produced by that method
JP2003272237A (en) * 2002-03-20 2003-09-26 Sony Corp Optical recording medium and manufacturing method thereof
JP2003296978A (en) * 2002-01-30 2003-10-17 Sony Disc Technology Inc Method for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium
JP2004220750A (en) * 2002-07-04 2004-08-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical information recording medium and manufacturing method of the same
JP2005056503A (en) * 2003-08-05 2005-03-03 Sony Disc Technology Inc Spin coating method and apparatus, method and apparatus for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium
JP2005085402A (en) * 2003-09-10 2005-03-31 Tdk Corp Spin coat method and manufacturing method of disk-shaped recording medium
JP2005122829A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing optical disk

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH1173691A (en) * 1997-08-29 1999-03-16 Sony Corp Production of optical disk and optical disk produced by that method
JP2003296978A (en) * 2002-01-30 2003-10-17 Sony Disc Technology Inc Method for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium
JP2003272237A (en) * 2002-03-20 2003-09-26 Sony Corp Optical recording medium and manufacturing method thereof
JP2004220750A (en) * 2002-07-04 2004-08-05 Matsushita Electric Ind Co Ltd Optical information recording medium and manufacturing method of the same
JP2005056503A (en) * 2003-08-05 2005-03-03 Sony Disc Technology Inc Spin coating method and apparatus, method and apparatus for manufacturing optical recording medium, and optical recording medium
JP2005085402A (en) * 2003-09-10 2005-03-31 Tdk Corp Spin coat method and manufacturing method of disk-shaped recording medium
JP2005122829A (en) * 2003-10-17 2005-05-12 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method for manufacturing optical disk

Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US8070968B2 (en) 2009-03-13 2011-12-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curable resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same
US8372575B2 (en) 2009-03-13 2013-02-12 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curing resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same
US8551685B2 (en) 2009-03-13 2013-10-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Ultraviolet-curing resin material for pattern transfer and magnetic recording medium manufacturing method using the same
US8173029B2 (en) 2009-03-18 2012-05-08 Kabushiki Kaisha Toshiba Magnetic recording medium manufacturing method
JP2011100538A (en) * 2010-11-29 2011-05-19 Toshiba Corp Method for manufacturing magnetic recording medium

Also Published As

Publication number Publication date
JP4618111B2 (en) 2011-01-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US20110097532A1 (en) Method of manufacturing an optical data storage medium, optical data storage medium and apparatus for performing said method
JP4258037B2 (en) Optical recording medium and optical recording / reproducing apparatus using the same
US7221640B2 (en) Method of manufacturing an optical storage medium and optical storage medium
JP4618111B2 (en) Optical recording medium and manufacturing method thereof
WO2012105724A1 (en) Optical information recording medium and production method therefor
TW200527422A (en) Method of manufacturing optical information recording medium
JP2003022586A (en) Manufacturing method for optical information medium
JP3955867B2 (en) Manufacturing method of optical information recording medium
JP5485287B2 (en) Information recording medium manufacturing method and information recording medium
JP5108434B2 (en) Optical recording medium manufacturing method and manufacturing apparatus
JP4783193B2 (en) Coating film forming method
JP4266911B2 (en) Manufacturing method of optical disc
JP2005018882A (en) Optical disk
JP2007115317A (en) Optical disk and its manufacturing method
JP2008021353A (en) Optical disk medium and manufacturing method of optical disk medium
JP2008186509A (en) Optical information recording medium and its manufacturing method
WO2011126080A1 (en) Method for manufacturing optical storage media and apparatus for manufacturing same
JP2004178751A (en) Optical disk
JP2004303351A (en) Test disk
JP2005353144A (en) Optical disk and optical disk manufacturing method
JP2007122787A (en) Manufacturing method of optical recording medium
JP2007109293A (en) Resin layer forming apparatus, resin layer forming method and manufacturing method of optical disk
JP2008135145A (en) Method for producing multilayer optical recording medium, stamper for producing multilayer optical recording medium and producing method of stamper
JP2010186560A (en) Optical recording medium
JP2010186561A (en) Optical recording medium

Legal Events

Date Code Title Description
A621 Written request for application examination

Effective date: 20081105

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621

A977 Report on retrieval

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007

Effective date: 20100118

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100126

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20100329

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20100601

A521 Written amendment

Effective date: 20100721

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Effective date: 20100928

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Effective date: 20101011

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Year of fee payment: 3

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

FPAY Renewal fee payment (prs date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131105

Year of fee payment: 3

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees