JP2007109293A - Resin layer forming apparatus, resin layer forming method and manufacturing method of optical disk - Google Patents

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英俊 渡辺
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a resin layer forming apparatus and a resin layer forming method capable of suppressing a protrusion generated at an outermost peripheral part and forming a resin layer having a uniform thickness, and to provide a manufacturing method of an optical disk. <P>SOLUTION: The resin layer forming apparatus is constituted of a spinner table 21, a center pin 22, a uniaxial robot 23 and a spot UV head 24 installed on the uniaxial robot 23. The spot UV head 24 is installed at the tip of the uniaxial robot 23 and has such a structure that a substrate 31 can be irradiated with spot UV from an inner peripheral part to an outer peripheral part so that the vicinity of the outermost peripheral part of the substrate 31 is not irradiated with UV. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

この発明は、樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法に関し、例えば、高密度記録光ディスクにおけるカバー層、中間層、潤滑材層などの樹脂層を均一の厚みに形成する樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法に関する。   TECHNICAL FIELD The present invention relates to a resin layer forming apparatus, a resin layer forming method, and an optical disc manufacturing method. For example, resin layer formation for forming resin layers such as a cover layer, an intermediate layer, and a lubricant layer in a high-density recording optical disc to a uniform thickness The present invention relates to an apparatus, a resin layer forming method, and an optical disc manufacturing method.

光ディスクの高密度記録は、例えば光ピックアップで使用されるレーザ光の短波長化と、対物レンズの開口数NA(Numerical Aperture)を大きくし、集光スポットのサイズを小さくすることで実現できる。   High-density recording of an optical disk can be realized, for example, by shortening the wavelength of laser light used in an optical pickup, increasing the numerical aperture NA (Numerical Aperture) of the objective lens, and reducing the size of the focused spot.

例えば、CD(Compact Disc)は、レーザ光の波長が780nm、開口数NAが0.45であり、650MB(メガバイト)の記録容量を有する。また、DVD−ROM(Digital Versatile Disc-ROM)は、レーザ光の波長が650nm、開口数が0.6とされ、4.7GB(ギガバイト)の記録容量を有する。   For example, a CD (Compact Disc) has a laser beam wavelength of 780 nm, a numerical aperture NA of 0.45, and a recording capacity of 650 MB (megabytes). A DVD-ROM (Digital Versatile Disc-ROM) has a laser beam wavelength of 650 nm and a numerical aperture of 0.6, and has a recording capacity of 4.7 GB (gigabytes).

さらに、次世代の高密度記録光ディスクは、レーザ光の波長が450nm以下とされ、NAが0.78以上とされ、これにより単層で22GB以上の大容量化が可能となる。高密度記録光ディスクは、ディスクの信号読み取り面側にいわゆるカバー層と称する光透過性の保護膜が形成される。カバー層は、例えば100μm(0.1mm)の厚みを有する。   Further, in the next generation high-density recording optical disc, the wavelength of the laser beam is 450 nm or less, and the NA is 0.78 or more, which makes it possible to increase the capacity of 22 GB or more with a single layer. In a high-density recording optical disk, a light-transmitting protective film called a cover layer is formed on the signal reading surface side of the disk. The cover layer has a thickness of, for example, 100 μm (0.1 mm).

CD、DVDでは、ディスクの信号読み取り面(ディスク表面)から信号が記録されている情報記録層までの距離が比較的大きく、CDの場合では、この距離が約1mmとされ、DVDの場合では、この距離が約0.6mmとされる。   In CD and DVD, the distance from the signal reading surface (disc surface) of the disc to the information recording layer where the signal is recorded is relatively large. In the case of CD, this distance is about 1 mm. In the case of DVD, This distance is about 0.6 mm.

一方、高密度記録光ディスクでは、この距離が0.1mm程度とされる。また、情報記録層を2層有する高密度記録用光ディスクが形成される場合には、2層の情報記録層の間の中間層は、20μm〜30μm程度に薄くする必要がある。また、カバー層の表面上に、ハードコート等の潤滑材層を形成し、潤滑材層によってカバー層の表面を保護し、且つ滑らかに加工する場合がある。この潤滑材層は、極めて薄い厚さで形成される。   On the other hand, in a high-density recording optical disk, this distance is about 0.1 mm. When a high-density recording optical disk having two information recording layers is formed, the intermediate layer between the two information recording layers needs to be as thin as about 20 μm to 30 μm. In some cases, a lubricant layer such as a hard coat is formed on the surface of the cover layer, the surface of the cover layer is protected by the lubricant layer, and is processed smoothly. This lubricant layer is formed with a very thin thickness.

上述したカバー層,中間層,および潤滑材層は、高い厚さ精度を有することが必要とされる。カバー層,中間層,および潤滑材層を形成する方法としては、スピンコート法が提案されている。スピンコート法は、液状の樹脂材料を基板の薄膜形成面に塗布し、スピンコート装置で基板を高速回転させることによって、基板の中心付近に滴下した樹脂材料を基板全面に均一に広げる方法である。以下、図8を参照して、スピンコート法によるカバー層の形成について説明する。   The cover layer, the intermediate layer, and the lubricant layer described above are required to have high thickness accuracy. As a method for forming the cover layer, the intermediate layer, and the lubricant layer, a spin coating method has been proposed. The spin coating method is a method in which a liquid resin material is applied to a thin film forming surface of a substrate, and the substrate is spread at high speed around the center of the substrate by rotating the substrate at a high speed with a spin coater. . Hereinafter, the formation of the cover layer by the spin coating method will be described with reference to FIG.

まず、図8Aに示すように、基板101上に液状の紫外線硬化樹脂(以下、UVレジンと適宜称する)102を内周部に滴下する。次に、図8Bに示すように、基板101を高速回転させて、UVレジンを基板全面に均一に広げ、基板101上の余分なUVレジン102を振り飛ばす。その後、高速回転を停止し、図8Cに示すように、紫外線ランプ103によって、紫外線を基板101に照射することによって、UVレジン102を硬化する。以上により、カバー層が形成される。   First, as shown in FIG. 8A, a liquid ultraviolet curable resin (hereinafter appropriately referred to as UV resin) 102 is dropped onto the inner periphery of the substrate 101. Next, as shown in FIG. 8B, the substrate 101 is rotated at a high speed to spread the UV resin uniformly over the entire surface of the substrate, and the excess UV resin 102 on the substrate 101 is shaken off. Thereafter, the high-speed rotation is stopped, and the UV resin 102 is cured by irradiating the substrate 101 with ultraviolet rays by the ultraviolet lamp 103 as shown in FIG. 8C. Thus, the cover layer is formed.

しかしながら、上述のスピンコート法は、基板101がセンター部に穴を有するために、UVレジンの滴下位置を基板101の中心位置とすることができないために、均一の厚さを有するカバー層を得ることができない。すなわち、図9に示すように、情報記録層104が形成された基板101に塗布されたUVレジン102は、内周から外周にかけて層が厚くなり、約5μm〜10μmの内周部と外周部との厚みの差が生じる。さらに、参照符号105aおよび105bで示すように、表面張力の影響を受けるために基板外周部において盛り上がりが生じる問題があった。   However, since the spin coating method described above has a hole in the center portion, the UV resin dropping position cannot be the center position of the substrate 101, and thus a cover layer having a uniform thickness is obtained. I can't. That is, as shown in FIG. 9, the UV resin 102 applied to the substrate 101 on which the information recording layer 104 is formed becomes thicker from the inner periphery to the outer periphery, and the inner periphery and the outer periphery of about 5 μm to 10 μm. The difference in thickness occurs. Further, as indicated by reference numerals 105a and 105b, there is a problem in that the outer periphery of the substrate is raised due to the influence of the surface tension.

この問題を解決するために、図10に示すように、センター部の穴111をキャップ112で塞いだ状態で、スピンコート法によりUVレジン102を塗布する手法が採られる。この手法は、まず、図10Aに示すように、基板101をスピナーテーブル113に載置し、基板中心部の穴111をキャップ112によって塞ぐ。   In order to solve this problem, as shown in FIG. 10, a method of applying the UV resin 102 by a spin coating method in a state where the hole 111 in the center portion is closed with a cap 112 is employed. In this method, first, as shown in FIG. 10A, the substrate 101 is placed on the spinner table 113, and the hole 111 at the center of the substrate is closed with a cap 112.

次に、図10Bに示すように、基板101が固定されたスピナーテーブル113を回転させながら、ディスク中心部にUVレジン102を滴下し、図10Cに示すように、UVレジン102からなる均一な厚さを有するカバー層を形成する。   Next, as shown in FIG. 10B, while rotating the spinner table 113 on which the substrate 101 is fixed, the UV resin 102 is dropped on the center of the disk, and as shown in FIG. 10C, the uniform thickness of the UV resin 102 is obtained. A cover layer having a thickness is formed.

次に、図10Dに示すように、スピナーの回転を停止する。そして、図10Eに示すように、ディスク中心部の穴111を塞いだキャップ112を取り外し、キャップ112を再使用のために洗浄する。以上により、UVレジン102を基板101に塗布し、基板101上にカバー層を形成する。   Next, as shown in FIG. 10D, the rotation of the spinner is stopped. Then, as shown in FIG. 10E, the cap 112 closing the hole 111 in the center of the disk is removed, and the cap 112 is washed for reuse. As described above, the UV resin 102 is applied to the substrate 101, and a cover layer is formed on the substrate 101.

しかしながら、スピンコートで振り切られたUVレジン102は、高速回転が停止すると、基板101の外周部におけるUVレジン102は、UVレジン102自体の表面張力により引き合い盛り上がる。すなわち、図11に示すように、キャップ112でセンター部の穴111を塞ぎ、内周と外周に生じる高低差を防止することによって、中周信号エリアは、平坦な形となるが、外周端113aおよび113bは、数十μm盛り上がる形となってしまう。   However, when the high speed rotation of the UV resin 102 shaken off by the spin coating is stopped, the UV resin 102 on the outer peripheral portion of the substrate 101 is attracted by the surface tension of the UV resin 102 itself. That is, as shown in FIG. 11, the hole 111 in the center portion is closed with a cap 112 to prevent the height difference generated between the inner periphery and the outer periphery, so that the intermediate periphery signal area has a flat shape, but the outer periphery end 113a. And 113b will be in the form of rising several tens of μm.

このように、キャップ112を用いたスピンコート法によっても、均一な厚さを有するカバー層の形成は困難である。また、キャップ112を用いた場合は、キャップ112の洗浄等の作業が不可欠となり、作業性の低下および装置が複雑となる。さらに、洗浄が不十分なキャップ112を用いると、均一な厚さのカバー層を形成できない。   As described above, it is difficult to form a cover layer having a uniform thickness even by the spin coating method using the cap 112. Further, when the cap 112 is used, work such as cleaning of the cap 112 becomes indispensable, and workability is lowered and the apparatus becomes complicated. Further, when the cap 112 that is not sufficiently cleaned is used, a cover layer having a uniform thickness cannot be formed.

下記の特許文献1には、盛り上がり部分をマスクにより覆うことで、外周部の盛り上がりの発生を防止する方法が記載されている。この方法では、基板最外周部に光が照射されないように、遮光性マスクで基板最外周部分を覆う。次に、盛り上がり部分以外の光硬化樹脂を硬化させる。そして、基板を再び回転させて、樹脂盛り上がり部分の光硬化樹脂を振り切って除去する。次に、残った光硬化樹脂に対して光を照射し硬化させる。以上により、均一な厚さの樹脂層が形成される。   Patent Document 1 below describes a method for preventing the bulge of the outer peripheral portion by covering the bulge with a mask. In this method, the outermost peripheral part of the substrate is covered with a light-shielding mask so that the outermost peripheral part of the substrate is not irradiated with light. Next, the photocurable resin other than the raised portion is cured. Then, the substrate is rotated again, and the photocured resin at the resin bulge portion is shaken off and removed. Next, the remaining photocurable resin is cured by irradiation with light. As a result, a resin layer having a uniform thickness is formed.

特開平11−73691号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-73691

特許文献1に記載の方法では、遮光性マスクの位置が少しでもずれると、紫外線光が外周盛り上がり部に入り込み、均一な厚さを確保できない。さらに、たとえ遮光性マスクを配置しても、拡散した光が外周盛り上がり部に照射され、厚さ精度が低下する問題があった。   In the method described in Patent Document 1, if the position of the light-shielding mask is shifted even a little, ultraviolet light enters the outer peripheral bulge portion, and a uniform thickness cannot be ensured. Furthermore, even if a light-shielding mask is arranged, there is a problem in that the diffused light is irradiated to the outer peripheral bulge portion and the thickness accuracy is lowered.

したがって、この発明の目的は、最外周部に生じる盛り上がりを抑制でき、均一な厚さの樹脂層を形成できる樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法を提供することにある。   Accordingly, an object of the present invention is to provide a resin layer forming apparatus, a resin layer forming method, and an optical disc manufacturing method capable of suppressing the swell generated in the outermost peripheral portion and forming a resin layer having a uniform thickness.

また、この発明の目的は、キャップを用いないで、均一な厚さの樹脂層を形成できる樹脂層形成装置および樹脂層形成方法並びに光ディスクの製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a resin layer forming apparatus, a resin layer forming method, and an optical disc manufacturing method capable of forming a resin layer having a uniform thickness without using a cap.

上述した課題を解決するために、この発明は、基板が載置され、基板上に光硬化樹脂を塗布する時に回転駆動されるテーブルと、
基板の上方に配され、光硬化樹脂に対してスポット状に紫外線を照射すると共に、紫外線の照射位置および照射時の移動速度が調整可能とされた光源部とを有し、
テーブルの回転中に、基板の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、光源部が基板の径方向に移動しながら紫外線を照射することを特徴とする樹脂層形成装置である。
In order to solve the above-described problem, the present invention provides a table on which a substrate is placed and which is rotationally driven when a photocurable resin is applied on the substrate;
A light source portion disposed above the substrate and irradiating the photo-curing resin with ultraviolet rays in a spot shape, and having a light source part capable of adjusting the irradiation position of the ultraviolet rays and the moving speed during irradiation,
In the resin layer forming apparatus, the light source unit irradiates ultraviolet rays while moving in the radial direction of the substrate so that the ultraviolet rays are not irradiated near the outermost periphery of the substrate while the table is rotating.

この発明は、基板に光硬化樹脂を滴下する工程と、
基板を回転させ光硬化樹脂を基板の面上に延伸させるとともに、基板の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、基板の上方に配された光源部が径方向に移動しながら光硬化樹脂に対してスポット状の紫外線を照射する工程とを有すること
を特徴とする樹脂層形成方法である。
The present invention includes a step of dripping a photocurable resin on a substrate;
While rotating the substrate to stretch the photo-curing resin on the surface of the substrate, the photo-curing resin is moved while the light source part arranged above the substrate moves in the radial direction so that the vicinity of the outermost periphery of the substrate is not irradiated with ultraviolet rays. And a step of irradiating with spot-like ultraviolet rays.

この発明は、基板上に樹脂層を有する光ディスクの製造方法であって、
樹脂層を、
基板上に光硬化樹脂を滴下し、基板を回転させて光硬化樹脂を基板の面上に延伸させるとともに、基板の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、基板の上方に配された光源部が径方向に移動しながら光硬化樹脂に対してスポット状の紫外線を照射して形成すること
を特徴とする光ディスクの製造方法である。
The present invention is a method of manufacturing an optical disc having a resin layer on a substrate,
Resin layer,
A light source disposed above the substrate so that the photo-curing resin is dropped on the substrate, the substrate is rotated to extend the photo-curing resin on the surface of the substrate, and ultraviolet rays are not irradiated near the outermost periphery of the substrate. A method of manufacturing an optical disc, characterized in that the portion is formed by irradiating a photo-curing resin with spot-like ultraviolet rays while moving in the radial direction.

この発明によれば、基板の最外周部に盛り上がりが生じることを抑制でき、均一な厚さの樹脂層を形成できる。また、キャップを用いないで、均一な厚さの樹脂層を形成できる。   According to this invention, it is possible to suppress the rise of the outermost peripheral portion of the substrate, and it is possible to form a resin layer having a uniform thickness. In addition, a resin layer having a uniform thickness can be formed without using a cap.

以下、この発明の実施の形態について図面を参照して説明する。最初に、この発明の一実施の形態を適用できる光ディスクの一例について説明する。図1は、この発明の一実施の形態による高密度記録光ディスクの一例を示す。この光ディスクでは、カバー層3側から情報記録層2にレーザ光を照射することによって、情報信号の記録および再生が行われる。例えば、400nm〜410nmの波長を有するレーザ光が0.84〜0.86の開口数を有する対物レンズ4により集光されカバー層3側から情報記録層2に照射されることで、情報信号の記録および再生が行われる。   Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. First, an example of an optical disc to which an embodiment of the present invention can be applied will be described. FIG. 1 shows an example of a high-density recording optical disk according to an embodiment of the present invention. In this optical disc, information signals are recorded and reproduced by irradiating the information recording layer 2 with laser light from the cover layer 3 side. For example, a laser beam having a wavelength of 400 nm to 410 nm is collected by the objective lens 4 having a numerical aperture of 0.84 to 0.86 and irradiated to the information recording layer 2 from the cover layer 3 side, thereby Recording and playback are performed.

図1に示すように、この光ディスクは、基板1の一主面上に情報記録層2、カバー層3が順次積層された構成とされる。光ディスクは、中心部にセンターホール(図示せず)が開口された略円盤形状とされる。光ディスクは、例えば、ディスク径120mm,センターホール径15mm,ディスク厚み1.2mm,基板厚み1.1mmとされる。   As shown in FIG. 1, this optical disc has a configuration in which an information recording layer 2 and a cover layer 3 are sequentially laminated on one main surface of a substrate 1. The optical disk has a substantially disk shape with a center hole (not shown) opened at the center. The optical disk has, for example, a disk diameter of 120 mm, a center hole diameter of 15 mm, a disk thickness of 1.2 mm, and a substrate thickness of 1.1 mm.

基板1としては、例えばポリカーボネート(PC),シクロオレフィンポリマー等の低吸収性の樹脂を用いることができる。情報記録層2は、基板の凹凸上に成膜された反射膜、記録膜等のことである。情報記録層2は、光ディスクが再生専用型である場合には、例えば、金(Au),銀(Ag),銀合金,アルミニウム(Al)またはアルミニウム合金等からなる反射膜である。光ディスクが追記型である場合には、情報記録層2は、例えば、反射膜,有機色素材料からなる記録層を順次積層して構成される。光ディスクが書き換え可能型である場合には、情報記録層2は、例えば、反射膜,下層誘電体層,相変化記録層,上層誘電体層を順次積層して構成される。   As the substrate 1, for example, a low-absorbency resin such as polycarbonate (PC) or cycloolefin polymer can be used. The information recording layer 2 is a reflective film, a recording film or the like formed on the unevenness of the substrate. The information recording layer 2 is a reflective film made of, for example, gold (Au), silver (Ag), silver alloy, aluminum (Al), aluminum alloy or the like when the optical disk is a read-only type. When the optical disc is a write-once type, the information recording layer 2 is configured by sequentially laminating a recording layer made of a reflective film and an organic dye material, for example. When the optical disc is of a rewritable type, the information recording layer 2 is configured by sequentially laminating a reflective film, a lower dielectric layer, a phase change recording layer, and an upper dielectric layer, for example.

カバー層3としては、UVレジンを用いることができる。また、必要に応じてカバー層3の表面に例えばハードコート等の潤滑材層(図示せず)を形成してもよい。潤滑材層は、カバー層3の表面の保護および表面を滑らかにするためのものである。   As the cover layer 3, a UV resin can be used. Further, if necessary, a lubricant layer (not shown) such as a hard coat may be formed on the surface of the cover layer 3. The lubricant layer is for protecting the surface of the cover layer 3 and smoothing the surface.

この発明の一実施の形態を適用できる高密度記録光ディスクの他の例について、図2を参照して説明する。この光ディスクは、図2に示すように、基板11上に、L0層、中間層12、L1層、カバー層13が順次積層された構成を有する。基板11は、例えばポリカーボネート(PC)やシクロオレフィンポリマーなどの低吸収性の樹脂から構成される。   Another example of a high-density recording optical disk to which an embodiment of the present invention can be applied will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2, the optical disc has a configuration in which an L0 layer, an intermediate layer 12, an L1 layer, and a cover layer 13 are sequentially laminated on a substrate 11. The substrate 11 is made of a low-absorbency resin such as polycarbonate (PC) or cycloolefin polymer.

情報記録層であるL0層およびL1層は、基板11の凹凸上に成膜された反射膜、記録膜等である。L0層およびL1層は、光ディスクが再生専用型である場合には、例えば、金(Au)、銀(Ag)、銀合金、アルミニウム(Al)またはアルミニウム合金等からなる反射膜である。光ディスクが追記型である場合には、L0層およびL1層は、例えば、反射膜、有機色素材料からなる記録層を順次積層して構成される。光ディスクが書き換え可能型である場合には、L0層およびL1層は、例えば、反射膜、下層誘電体層、相変化記録層、上層誘電体層を順次積層して構成される。   The L0 layer and the L1 layer that are information recording layers are a reflective film, a recording film, and the like formed on the unevenness of the substrate 11. The L0 layer and the L1 layer are reflective films made of, for example, gold (Au), silver (Ag), silver alloy, aluminum (Al), or aluminum alloy when the optical disk is a read-only type. When the optical disc is a write-once type, the L0 layer and the L1 layer are configured by sequentially laminating, for example, a reflective film and a recording layer made of an organic dye material. When the optical disc is a rewritable type, the L0 layer and the L1 layer are configured by sequentially laminating, for example, a reflective film, a lower dielectric layer, a phase change recording layer, and an upper dielectric layer.

基板11に形成されたL0層上には、中間層12が形成される。中間層12上には、L1層が形成される。中間層12に形成されたL1層上には、カバー層13が形成される。カバー層13は、光ディスクの保護を目的として、形成される。情報信号の記録および再生は、例えば、対物レンズ14によりレーザ光がカバー層15を通じて情報記録層に集光されることによって行われる。   An intermediate layer 12 is formed on the L0 layer formed on the substrate 11. An L1 layer is formed on the intermediate layer 12. A cover layer 13 is formed on the L1 layer formed in the intermediate layer 12. The cover layer 13 is formed for the purpose of protecting the optical disc. Information signals are recorded and reproduced, for example, by focusing laser light on the information recording layer through the cover layer 15 by the objective lens 14.

中間層12およびカバー層13として、UVレジンを用いることができる。中間層12の厚さは、例えば25μm、カバー層13の厚さは、例えば75μmであり、均一な厚みの層を形成することが求められる。なお、カバー層13としては、例えば、UVレジンとPCシートを用いることができる。   A UV resin can be used as the intermediate layer 12 and the cover layer 13. The thickness of the intermediate layer 12 is, for example, 25 μm, and the thickness of the cover layer 13 is, for example, 75 μm, and it is required to form a layer having a uniform thickness. For example, a UV resin and a PC sheet can be used as the cover layer 13.

次に、図3を参照して、この発明の一実施の形態による樹脂層形成装置について説明する。上述した光ディスクのカバー層、中間層、潤滑材層等の樹脂層は、この樹脂層形成装置によって、均一な厚みで形成できる。   Next, a resin layer forming apparatus according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIG. The resin layers such as the cover layer, the intermediate layer, and the lubricant layer of the optical disk described above can be formed with a uniform thickness by this resin layer forming apparatus.

図3に示すように、この樹脂層形成装置は、スピナーテーブル21と、センターピン22と、1軸ロボット23と、1軸ロボットの先端に設置されるスポットUVヘッド24とから構成される。   As shown in FIG. 3, the resin layer forming apparatus includes a spinner table 21, a center pin 22, a single-axis robot 23, and a spot UV head 24 installed at the tip of the single-axis robot.

スピナーテーブル21は、スピンコートを行う際に、基板31が載置されるテーブルである。また、スピナーテーブル21は、基板31と一体と回転する。センターピン22は、スピナーテーブル21に載置した基板31を位置決めし、基板31の中央部の開口を塞ぐ機能を有する。   The spinner table 21 is a table on which the substrate 31 is placed when performing spin coating. Further, the spinner table 21 rotates together with the substrate 31. The center pin 22 has a function of positioning the substrate 31 placed on the spinner table 21 and closing the opening at the center of the substrate 31.

スポットUVヘッド24は、スポットUVの光源部である。スポットUVヘッド24は、1軸ロボット23に設置され、紫外線を基板の内周から外周にスポットUVを照射できる構造とされる。ここでスポットUVとは、基板上を微細な範囲のスポット状で照射する紫外線である。基板31の面上において、スポットUVのスポットサイズは、好ましくは、直径1mm〜直径10mm程度であり、より好ましくは、直径2mm〜直径5mm程度である。   The spot UV head 24 is a spot UV light source unit. The spot UV head 24 is installed in the single-axis robot 23 and has a structure capable of irradiating the spot UV from the inner periphery to the outer periphery of the substrate. Here, the spot UV is ultraviolet light that irradiates the substrate with a spot in a fine range. On the surface of the substrate 31, the spot size of the spot UV is preferably about 1 mm to 10 mm in diameter, and more preferably about 2 mm to 5 mm in diameter.

また、スポットUVヘッド24は、レンズホルダー(図示せず)を有する構造としてもよい。レンズホルダーは、内部にレンズが配置されており、スポットUVヘッドから取り外して交換可能な構造とされる。レンズホルダーを交換することによって、光を集光させたり、拡散光、平行光にすることができる。すなわち、基板に対する照射範囲を変更することが可能となる。さらに、スポットUVの発光は、インバータータイプで減光した状態でも使用できるような電源を用いてもよい。   The spot UV head 24 may have a structure having a lens holder (not shown). The lens holder has a lens disposed therein, and has a structure that can be removed from the spot UV head and replaced. By exchanging the lens holder, light can be condensed, or diffused light and parallel light can be obtained. That is, the irradiation range for the substrate can be changed. Further, the spot UV may be emitted by using a power source that can be used even in a dimmed state with an inverter type.

次に、この樹脂層形成装置を用いた樹脂層形成方法について図4を参照して説明する。ここでは、樹脂層の一例として光ディスクのカバー層を形成する例を挙げて説明する。   Next, a resin layer forming method using this resin layer forming apparatus will be described with reference to FIG. Here, an example of forming a cover layer of an optical disc will be described as an example of the resin layer.

まず、基板31の中心付近にUVレジン32を滴下する。次に、スピナーテーブル21を高速回転させて、遠心力によって、UVレジンを基板31上に拡げ、基板上の余分なUVレジン32を振り飛ばす。この高速回転時に、基板31の径方向に内周から外周へスポットUVヘッド24を移動することによって、基板31の内周から外周に向かってスポットUVを照射する。   First, the UV resin 32 is dropped near the center of the substrate 31. Next, the spinner table 21 is rotated at a high speed, the UV resin is spread on the substrate 31 by centrifugal force, and the excess UV resin 32 on the substrate is shaken off. During this high-speed rotation, the spot UV head 24 is moved from the inner periphery to the outer periphery in the radial direction of the substrate 31 to irradiate the spot UV from the inner periphery to the outer periphery.

ここで、スピナー時の基板31上のUVレジン32は、図4に示すように、紫外線光の照射量,スポットUVの照射速度,スピナーの回転数に依存した変化態様を示す。すなわち、回転数および速度によって、時系列的に図4A〜図4Gの変化態様を示す。よって、カバー層の厚みが均等になるように調整するためには、最適なスピナー回転数および最適な照射速度を選びスポットUVをUVレジン32に対して照射する。   Here, as shown in FIG. 4, the UV resin 32 on the substrate 31 at the time of the spinner shows a change mode depending on the irradiation amount of the ultraviolet light, the irradiation speed of the spot UV, and the rotation speed of the spinner. That is, the change modes of FIGS. 4A to 4G are shown in time series according to the rotation speed and speed. Therefore, in order to adjust the thickness of the cover layer to be uniform, an optimum spinner rotation speed and an optimum irradiation speed are selected and the spot UV is irradiated onto the UV resin 32.

スポットUVヘッド24は、スピナーテーブル21の回転数と同期した速度で送られる。また、スピナーテーブル21の回転数と同期せずに移動時間を変化させることによって、スポットUVヘッド24が送られるようになしてもよい。このようにスポットUVヘッド24の径方向の移動速度を制御することによって、カバー層の厚さを最適な厚さに調整できる。   The spot UV head 24 is sent at a speed synchronized with the rotation speed of the spinner table 21. Further, the spot UV head 24 may be sent by changing the moving time without synchronizing with the rotation speed of the spinner table 21. By controlling the moving speed in the radial direction of the spot UV head 24 in this way, the thickness of the cover layer can be adjusted to an optimum thickness.

一実施の形態では、図5に示すように、基板31を回転させている状態で、UV光41が基板31の最外周の近傍を照射しないで、外周端において未硬化部42aを残すように、スポットUVヘッド24を移動させる。これにより、基板の外周端に留まっているUVレジン32は、遠心力で振り飛ばされ、基板の外周端に位置するUVレジン32の量が低減されることによって、表面張力のために数10μmの外周端の盛り上がりが発生することを抑えることができる。   In one embodiment, as shown in FIG. 5, the UV light 41 does not irradiate the vicinity of the outermost periphery of the substrate 31 in a state where the substrate 31 is rotated so that an uncured portion 42a is left at the outer peripheral end. The spot UV head 24 is moved. As a result, the UV resin 32 remaining on the outer peripheral edge of the substrate is shaken off by centrifugal force, and the amount of the UV resin 32 located at the outer peripheral edge of the substrate is reduced, so that the surface tension is several tens of μm. Occurrence of the bulge at the outer peripheral edge can be suppressed.

さらに、外周端の盛り上がりを確実に低減させるためには、外周付近におけるUV光41が照射される境界の精度を上げることが効果的である。具体的には、例えば、図6に示すように、基板31の最外周の近傍を覆うリング状の遮光マスク51を、基板面の上方に間隔を設けて設置する。   Furthermore, in order to reliably reduce the rise at the outer peripheral edge, it is effective to increase the accuracy of the boundary where the UV light 41 is irradiated in the vicinity of the outer periphery. Specifically, for example, as shown in FIG. 6, a ring-shaped light shielding mask 51 that covers the vicinity of the outermost periphery of the substrate 31 is provided above the substrate surface with a gap therebetween.

スポット状の照射を行うUV光41と、最外周の近傍を覆う遮光マスク51の併用により、最外周の近傍におけるUV光の照射を確実に遮ることによって、未硬化部42bを残し、最外周付近におけるUV光が照射される境界の精度をあげることができる。   By combining the UV light 41 that performs spot-shaped irradiation and the light-shielding mask 51 that covers the vicinity of the outermost periphery, the UV light irradiation in the vicinity of the outermost periphery is reliably blocked, leaving the uncured portion 42b and the vicinity of the outermost periphery. It is possible to increase the accuracy of the boundary irradiated with UV light.

遮光マスク51としては、例えば、表面反射を抑えるためにつや消しの黒塗装を施したリング状の金属ステンシルマスクを用いることができる。遮光マスク51は、例えば基板31面上方に、約1mmの間隔を設けて設置する。   As the light shielding mask 51, for example, a ring-shaped metal stencil mask having a matte black coating for suppressing surface reflection can be used. For example, the light shielding mask 51 is installed above the surface of the substrate 31 with an interval of about 1 mm.

さらに、遮光マスク51の代わりに、例えばクロムマスク等の光透過性が制御された透過型マスクを用いてもよい。透過型マスクを用いる場合は、基板の外径より若干短い径を有する透明の円形開口部と、その外側は完全に遮光された形状となる。   Furthermore, instead of the light shielding mask 51, a transmissive mask with controlled light transmission, such as a chrome mask, may be used. In the case of using a transmissive mask, a transparent circular opening having a diameter slightly shorter than the outer diameter of the substrate and the outside thereof are completely shielded from light.

上述のように、スポット状の照射を行うUV光を使用し、さらに、最外周部でUV光を遮る遮光マスク51を設けることによって、外周端のUVレジンの盛り上がりを抑えることができるのみならず、図7に示すように、情報記録層62上に形成されたカバー層63の外周端の厚みを中周部信号エリアより積極的に薄くした構造となるように調整が可能となる。さらには、外周部の盛り上がりを安定して抑制でき、この結果製造マージンを大きく取ることができる。   As described above, by using the UV light that performs spot-shaped irradiation and further providing the light shielding mask 51 that blocks the UV light at the outermost peripheral portion, not only the rising of the UV resin at the outer peripheral end can be suppressed. As shown in FIG. 7, the cover layer 63 formed on the information recording layer 62 can be adjusted to have a structure in which the thickness of the outer peripheral end is made thinner than the middle peripheral signal area. Furthermore, the rise of the outer peripheral portion can be stably suppressed, and as a result, a manufacturing margin can be increased.

以上説明したように、上述した方法によって、樹脂層の均一な厚さを確保し、その後、全体露光または外周端の部分露光で硬化することによって、膜厚の均一性に優れ、且つ外周端の盛り上がりが抑制された樹脂層を形成することが可能となる。   As described above, the above-described method secures a uniform thickness of the resin layer, and then cures by overall exposure or partial exposure of the outer peripheral edge, thereby providing excellent film thickness uniformity and the outer peripheral edge. It is possible to form a resin layer in which the swelling is suppressed.

次に、この発明の一実施の形態による樹脂層形成方法を利用した光ディスクの製造方法について説明する。ここでは、図2に示す情報記録層を2層有する光ディスクの製造方法について説明する。   Next, an optical disk manufacturing method using the resin layer forming method according to one embodiment of the present invention will be described. Here, a method of manufacturing an optical disc having two information recording layers shown in FIG. 2 will be described.

まず、基板11は、例えば射出成形により、その一主面上に凹凸面が設けられたものが成形される。基板11の面上には、例えば、スパッタリング法により、L0層として記録膜や反射膜等を凹凸面上に成膜する。なお、凹凸面上には、再生型光ディスクと、追記型光ディスクと、書き換え型光ディスクとに応じて、記録膜や反射膜等を成膜する。それぞれの光ディスクごとに膜構成は異なる。   First, the board | substrate 11 is shape | molded by the injection molding which provided the uneven surface on the one main surface, for example. On the surface of the substrate 11, for example, a recording film, a reflection film, or the like is formed as an L0 layer on the concavo-convex surface by a sputtering method. Note that a recording film, a reflective film, and the like are formed on the concavo-convex surface in accordance with the reproduction type optical disc, the write-once optical disc, and the rewritable optical disc. The film configuration is different for each optical disc.

中間層12は、上述した樹脂形成装置を用いて、基板11の一主面上にUVレジンを塗布し、紫外線を照射し硬化することによって、形成される。UVレジンを硬化する際の紫外線の照射量は、まずUVレジンが半硬化状態となるように調整される。半硬化状態とされたUVレジンに対して、転写用の凹凸面を有する樹脂スタンパが押し付けられ、凹凸面が転写される。紫外線硬化樹脂に樹脂スタンパを押し付けた状態を保持したまま、樹脂スタンパ上から紫外線が照射され、UVレジンを完全硬化する。   The intermediate layer 12 is formed by applying a UV resin on one main surface of the substrate 11 and irradiating it with ultraviolet rays to be cured using the resin forming apparatus described above. The irradiation amount of ultraviolet rays when curing the UV resin is first adjusted so that the UV resin is in a semi-cured state. A resin stamper having an uneven surface for transfer is pressed against the UV resin in a semi-cured state, and the uneven surface is transferred. While maintaining the state in which the resin stamper is pressed against the ultraviolet curable resin, ultraviolet rays are irradiated from above the resin stamper to completely cure the UV resin.

中間層12に形成された凹凸面上には、例えば、スパッタリング法により、L1層として記録膜や反射膜等を成膜する。なお、凹凸面上には、再生型光ディスクと、追記型光ディスクと、書き換え型光ディスクとに応じて、記録膜や反射膜等を成膜する。それぞれの光ディスクごとに膜構成は異なる。   On the concavo-convex surface formed in the intermediate layer 12, a recording film, a reflection film, or the like is formed as the L1 layer by, for example, a sputtering method. Note that a recording film, a reflective film, and the like are formed on the concavo-convex surface in accordance with the reproduction type optical disc, the write-once optical disc, and the rewritable optical disc. The film configuration is different for each optical disc.

カバー層13は、上述した樹脂形成装置を用いて、中間層の凹凸面上にUVレジンを塗布し、紫外線を照射し硬化することによって、形成される。以上により、光ディスクが製造される。   The cover layer 13 is formed by applying a UV resin on the concavo-convex surface of the intermediate layer using the resin forming apparatus described above, and irradiating with ultraviolet rays and curing. Thus, an optical disk is manufactured.

この発明の一実施の形態では、光ディスクのカバー層、中間層および潤滑材層等を内外周差の少ない均一な層として容易に作製できる。また、一実施の形態では、2層ディスクの製造において、UVレジンを用いた中間層を均一な厚みで形成することが容易となる。   In one embodiment of the present invention, the cover layer, the intermediate layer, the lubricant layer, and the like of the optical disk can be easily manufactured as a uniform layer with little difference between the inner and outer circumferences. In one embodiment, it is easy to form an intermediate layer using a UV resin with a uniform thickness in the manufacture of a two-layer disc.

さらに、カバー層をUVレジンで構成する場合には、均一な厚みでカバー層を容易に作製できる。さらに、カバー層の保護として一般的にハードコート等を表面にコーティングする場合においても、均一な厚みで容易に作製できる。さらに、高密度記録光ディスクの製造を、UVレジンを使用した方式でセンターキャップ無しで行うことができる。   Further, when the cover layer is made of UV resin, the cover layer can be easily produced with a uniform thickness. Further, even when a hard coat or the like is generally coated on the surface for protecting the cover layer, it can be easily produced with a uniform thickness. Furthermore, a high-density recording optical disk can be manufactured without a center cap by a method using a UV resin.

さらに、カバー層の傾斜(内外周の膜厚差)を制御することができる。例えば、スポットUVを速い速度で内周から外周にかけて照射すると、内周が厚く、外周が薄くなるように調整できる。スポットUVを遅い速度で内周から外周にかけて照射すると、内周が薄く、外周が厚くなるように調整できる。したがって、スポットUVの移動速度を制御することによって膜厚を制御することができる。   Furthermore, the inclination of the cover layer (thickness difference between the inner and outer circumferences) can be controlled. For example, when the spot UV is irradiated from the inner periphery to the outer periphery at a high speed, the inner periphery can be adjusted to be thick and the outer periphery can be adjusted to be thin. When the spot UV is irradiated from the inner periphery to the outer periphery at a slow speed, the inner periphery is thin and the outer periphery can be adjusted to be thick. Therefore, the film thickness can be controlled by controlling the moving speed of the spot UV.

この発明は、上述したこの発明の実施の形態に限定されるものでは無く、この発明の要旨を逸脱しない範囲内で様々な変形や応用が可能である。例えば、上述した一実施の形態による光ディスクでは、単層光ディスク、片面2層光ディスクを例として説明したが、これらに限定されず、情報記録層を3層以上有する光ディスクにおける中間層、カバー層の形成にも適用可能である。   The present invention is not limited to the above-described embodiment of the present invention, and various modifications and applications can be made without departing from the gist of the present invention. For example, in the optical disc according to the above-described embodiment, the description has been given by taking the single-layer optical disc and the single-sided dual-layer optical disc as examples. However, the present invention is not limited thereto. It is also applicable to.

また、上述した実施の形態では、センターピンを用いて基板をスピナーテーブルに固定しているが、例えば、真空吸着等の手段を用いて固定してもよい。   In the above-described embodiment, the substrate is fixed to the spinner table using the center pin, but may be fixed using means such as vacuum suction.

また、この発明の実施の形態による樹脂層形成装置に用いる材料としては、UVレジンに限られたものではなく、接着剤などの他の薄膜形成用の塗布材料を用いることができる。さらに、この発明の実施の形態による樹脂層形成装置は、光ディスクの基板に樹脂層を形成するものとして説明したが、被コーティング体は、これに限られるものではない。   Further, the material used for the resin layer forming apparatus according to the embodiment of the present invention is not limited to the UV resin, and other thin film forming coating materials such as an adhesive can be used. Furthermore, although the resin layer forming apparatus according to the embodiment of the present invention has been described as forming the resin layer on the substrate of the optical disk, the object to be coated is not limited to this.

この発明の一実施の形態による光ディスクの一例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows an example of the optical disk by one Embodiment of this invention. この発明の一実施の形態による光ディスクの他の例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the other example of the optical disk by one Embodiment of this invention. この発明の一実施の形態による樹脂層形成装置を示す概略図である。It is the schematic which shows the resin layer forming apparatus by one Embodiment of this invention. スピナー時のUVレジンの動きを示す概略図である。It is the schematic which shows the motion of UV resin at the time of a spinner. この発明の一実施の形態による樹脂層形成方法の一例を示す概略図である。It is the schematic which shows an example of the resin layer forming method by one embodiment of this invention. この発明の一実施の形態による樹脂層形成方法の他の例を示す概略図である。It is the schematic which shows the other example of the resin layer formation method by one Embodiment of this invention. この発明の一実施の形態による樹脂層の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the example of the resin layer by one embodiment of this invention. 従来のスピンコート法を示す概略図である。It is the schematic which shows the conventional spin coat method. 従来の樹脂層の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the conventional resin layer. センターキャップを用いたスピンコート法を示す概略図である。It is the schematic which shows the spin coat method using a center cap. 従来の樹脂層の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the conventional resin layer.

符号の説明Explanation of symbols

1・・・基板
2・・・情報記録層
3・・・カバー層
4・・・対物レンズ
11・・・基板
12・・・中間層
13・・・カバー層
14・・・対物レンズ
15・・・カバー層
21・・・スピナーテーブル
22・・・センターピン
23・・・1軸ロボット
24・・・スポットUVヘッド
31・・・基板
32・・・UVレジン
42a,42b・・・未硬化部
51・・・遮光マスク
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Substrate 2 ... Information recording layer 3 ... Cover layer 4 ... Objective lens 11 ... Substrate 12 ... Intermediate layer 13 ... Cover layer 14 ... Objective lens 15 ... Cover layer 21 ... Spinner table 22 ... Center pin 23 ... Single axis robot 24 ... Spot UV head 31 ... Substrate 32 ... UV resin 42a, 42b ... Uncured part 51 ... Shading mask

Claims (6)

基板が載置され、上記基板上に光硬化樹脂を塗布する時に回転駆動されるテーブルと、
上記基板の上方に配され、上記光硬化樹脂に対してスポット状に紫外線を照射すると共に、紫外線の照射位置および照射時の移動速度が調整可能とされた光源部とを有し、
上記テーブルの回転中に、上記基板の最外周の近傍に上記紫外線が照射されないように、上記光源部が上記基板の径方向に移動しながら上記紫外線を照射することを特徴とする樹脂層形成装置。
A table on which a substrate is placed and driven to rotate when applying a photo-curing resin on the substrate;
A light source unit disposed above the substrate and irradiating the photo-curing resin with ultraviolet rays in a spot shape, and having an ultraviolet irradiation position and a moving speed during irradiation adjustable.
The resin layer forming apparatus, wherein the light source unit irradiates the ultraviolet rays while moving in the radial direction of the substrate so that the ultraviolet rays are not irradiated near the outermost periphery of the substrate during rotation of the table. .
請求項1において、
上記基板の最外周の近傍を覆うマスクを備えることを特徴とする樹脂層形成装置。
In claim 1,
A resin layer forming apparatus comprising a mask covering the vicinity of the outermost periphery of the substrate.
請求項1において、
上記光源部が内部にレンズが配置された取り外し可能なレンズホルダーを備えることを特徴とする樹脂層形成装置。
In claim 1,
The resin layer forming apparatus, wherein the light source unit includes a removable lens holder in which a lens is disposed.
基板に光硬化樹脂を滴下する工程と、
上記基板を回転させ上記光硬化樹脂を上記基板の面上に延伸させるとともに、上記基板の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、上記基板の上方に配された光源部が径方向に移動しながら上記光硬化樹脂に対してスポット状の紫外線を照射する工程とを有すること
を特徴とする樹脂層形成方法。
Dropping a photocurable resin on the substrate;
The light source part arranged above the substrate moves in the radial direction so that the substrate is rotated and the photo-curing resin is stretched on the surface of the substrate, and ultraviolet rays are not irradiated near the outermost periphery of the substrate. And a step of irradiating the photocured resin with spot-like ultraviolet rays.
請求項4において、
上記基板の最外周の近傍をマスクで覆うことを特徴とする樹脂層形成方法。
In claim 4,
A method for forming a resin layer, characterized by covering the vicinity of the outermost periphery of the substrate with a mask.
基板上に樹脂層を有する光ディスクの製造方法であって、
上記樹脂層を、
上記基板上に光硬化樹脂を滴下し、上記基板を回転させて上記光硬化樹脂を上記基板の面上に延伸させるとともに、上記基板の最外周の近傍に紫外線が照射されないように、上記基板の上方に配された光源部が径方向に移動しながら上記光硬化樹脂に対してスポット状の紫外線を照射して形成すること
を特徴とする光ディスクの製造方法。
A method of manufacturing an optical disc having a resin layer on a substrate,
The resin layer
A photo-curing resin is dropped on the substrate, the substrate is rotated to extend the photo-curing resin on the surface of the substrate, and ultraviolet rays are not irradiated near the outermost periphery of the substrate. A method for producing an optical disc, comprising: forming a light source portion disposed above by irradiating the photocurable resin with spot-like ultraviolet rays while moving in a radial direction.
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