JP2007125835A - Original lithographic printing plate and lithographic printing plate - Google Patents

Original lithographic printing plate and lithographic printing plate Download PDF

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JP2007125835A JP2005321679A JP2005321679A JP2007125835A JP 2007125835 A JP2007125835 A JP 2007125835A JP 2005321679 A JP2005321679 A JP 2005321679A JP 2005321679 A JP2005321679 A JP 2005321679A JP 2007125835 A JP2007125835 A JP 2007125835A
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Hiroyoshi Kurihara
宏嘉 栗原
Tomoya Terauchi
知哉 寺内
Yuji Inatomi
裕司 稲冨
Takayuki Sanada
隆幸 眞田
Tetsuhiro Koide
哲裕 小出
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Mitsui Chemicals Inc
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Mitsui Chemicals Inc
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a lithographic printing original plate which is free from the deterioration of exposure sensitivity and has improved plate strength as an original printing plate which does not require post-exposure development, and a lithographic printing plate to be obtained from the lithographic printing original plate. <P>SOLUTION: This lithographic printing original plate includes a photosensitive layer formed through a primary coat or directly on a support, wherein the a photosensitive resin composition forming the photosensitive layer contains at least an organic fine particle with from 1 or above to less than 80 of a hydroxyl group value (KOHmg/g) and a hydrophilic resin. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は印刷用原版、特に湿し水を用いる平版印刷用原版に関するものであり、さらに詳しくは、近赤外領域の光に感光し、版に直接レーザー光で描画できる平版印刷用原版、及び該原版に光照射して得られる平版印刷用版に関するものである。   The present invention relates to a printing original plate, in particular, a lithographic printing original plate using a fountain solution, and more specifically, a lithographic printing original plate that is sensitive to light in the near-infrared region and can be directly drawn on the plate with a laser beam, and The present invention relates to a planographic printing plate obtained by irradiating the original with light.

コンピュータの普及に従い、製版用フィルムを使用せずに、コンピュータ上のデータを直接版材にレーザー光やサーマルヘッド、インクジェットで印字して製版する所謂コンピュータ・ツー・プレート(CTP)タイプの印刷版が普及し始めている。このうちレーザー光を用いる版は、光反応によるフォトンモードタイプと、光熱変換を行って熱反応を起こさせるヒートモードタイプの2つのタイプに分けられる。このうちヒートモードタイプのCTP版は、明室で取り扱えるといった利点があり、今後主流になるといわれている。また、フォトンモードでは、露光後に未露光部が反応しないよう、失活や現像といった後工程が必須であるのに対し、ヒートモードではこれらの後工程を省くことが可能であり、それ故、ヒートモードタイプ印刷版は現像液を使用しない所謂現像レス版が可能となる、として期待されている。   With the spread of computers, there is a so-called computer-to-plate (CTP) type printing plate in which data on a computer is directly printed on a plate material with a laser beam, thermal head, or ink jet without using a plate-making film. It has begun to spread. Of these, plates using laser light are classified into two types: a photon mode type by photoreaction and a heat mode type in which photothermal conversion is performed to cause a thermal reaction. Among them, the heat mode type CTP plate has an advantage that it can be handled in a bright room, and is said to become mainstream in the future. Also, in photon mode, post-processes such as deactivation and development are essential so that unexposed parts do not react after exposure, whereas in heat mode these post-processes can be omitted. The mode type printing plate is expected to be a so-called development-less plate that does not use a developer.

現像レス版には大きく分けて三つのタイプが挙げられる。表面層をレーザー露光で焼き飛ばすアブレーションタイプ、印刷機上で湿し水あるいはインクにより非画線部あるいは画線部を除去する印刷機上現像タイプ、レーザー露光部の親水性(あるいは撥インク性)が変化する極性変換タイプの三つであり、各社から提案されている。   There are three types of development-less plates. Ablation type that burns off the surface layer by laser exposure, development type on printer that removes non-image area or image area with dampening water or ink on the printing press, hydrophilicity (or ink repellency) of laser exposure area There are three types of polarity conversion that change, and are proposed by various companies.

このうちアブレーションタイプは、焼き飛ばした表面層がゴミとなり、版表面に付着するため、露光後に拭き取りあるいは洗浄の実施が推奨されている。また、印刷機上現像タイプは、除去物が湿し水に混入することで汚れやすくなったり、インクに混入することで印刷物の色が濁ったりするといった問題がある。これらに対し、極性変換タイプは拭き取り等の後工程が全く不要で、かつ印刷に悪影響を与える除去物の発生がないため、完全なプロセスレス版が可能となり、今後期待されている。   Among these, the ablation type is recommended to be wiped off or washed after exposure because the burned-out surface layer becomes dust and adheres to the plate surface. Further, the development type on the printing press has a problem that the removed material is easily contaminated by mixing with dampening water, and the color of the printed material is clouded by mixing with ink. On the other hand, the polarity conversion type does not require any post-process such as wiping, and does not generate a removed material that adversely affects printing, and thus a complete process-less version is possible and is expected in the future.

そこで本出願人らは、感光性樹脂組成物を架橋した親水性樹脂感光層からなり、光の照射により表面が親水性から親インク性に変化する極性変換タイプの現像レス版を開発し提案してきた。例えば、特開2001−180144号公報(特許文献1)、特開2002−362052号公報(特許文献2)、特開2002−370467号公報(特許文献3)、特開2004−122599号公報(特許文献4)、国際公開01/083234号(特許文献5)等は、感光層として親水性ポリマーマトリクス中に疎水性樹脂の微粒子を分散させており、感光層中に存在する光吸収剤が光照射することで光を熱に変換し、発生した熱により疎水性ポリマーが発泡したり、熱融着したりして、光照射した部分の感光層の親水性が失われ、親インク性に変化することを利用しているものである。   Therefore, the present applicants have developed and proposed a polarity conversion type development-less plate comprising a hydrophilic resin photosensitive layer obtained by crosslinking a photosensitive resin composition, and the surface changes from hydrophilic to ink-philicity by light irradiation. It was. For example, JP 2001-180144 A (Patent Document 1), JP 2002-362052 A (Patent Document 2), JP 2002-370467 A (Patent Document 3), JP 2004-122599 A (Patent Document 2). Document 4), International Publication No. 01/083234 (Patent Document 5), etc. have hydrophobic resin fine particles dispersed in a hydrophilic polymer matrix as a photosensitive layer, and the light absorber present in the photosensitive layer is irradiated with light. In this way, light is converted into heat, and the generated heat causes the hydrophobic polymer to foam or heat-seal, so that the hydrophilicity of the photosensitive layer in the light-irradiated portion is lost and changes to ink affinity. It is something that uses that.

これらの平版印刷版は現像や拭き取り操作が不要な完全プロセスレス版であるが、レーザー光照射部の表面だけが親インキ性に変化するため、版表面の強度が十分でないと表層の削れまたは剥離が発生し、それに伴い画線の劣化が発生する可能性がある。そのため、印刷部数の多いの印刷物に対応できるように、強度が向上した版を提供することが望まれていた。しかしその際、感度の低下が生じると製版の際の露光時間が長くなり製版効率が低下する。そこで、版強度が向上し、尚且つ露光感度の低下が無い版を供給することが望まれていた。   These lithographic printing plates are completely processless plates that do not require development or wiping operations. However, only the surface of the laser light irradiated area changes to ink-philic properties, so that the surface layer is scraped or peeled off if the plate surface is not strong enough. May occur, and the image line may deteriorate accordingly. Therefore, it has been desired to provide a plate with improved strength so that it can cope with printed matter having a large number of printed copies. However, in this case, if the sensitivity is lowered, the exposure time for plate making becomes long and plate making efficiency is lowered. Therefore, it has been desired to supply a plate with improved plate strength and no reduction in exposure sensitivity.

一方、レーザー感光性平版印刷用原版において、画像再現性、耐刷性向上の目的で水酸基を含有する熱可塑性ポリマー微粒子、アミン化合物及び溶剤可溶性のバインダーポリマーを主成分とする層を感熱層に用いるレーザー感応性平版印刷原版なども知られている(特許文献6等参照)。しかしながら、該公報記載の方法における感熱層は親油層であり、印刷版を得るに際し現像を必要とするものである。
特開2001−180144号公報 特開2002−362052号公報 特開2002−370467号公報 特開2004−122599号公報 国際公開第01/083234号 特開平11−334238号公報
On the other hand, in a laser-sensitive lithographic printing original plate, a layer mainly composed of a thermoplastic polymer fine particle containing a hydroxyl group, an amine compound and a solvent-soluble binder polymer is used as a heat-sensitive layer for the purpose of improving image reproducibility and printing durability. A laser-sensitive lithographic printing original plate is also known (see Patent Document 6, etc.). However, the heat-sensitive layer in the method described in this publication is an oleophilic layer and requires development for obtaining a printing plate.
JP 2001-180144 A Japanese Patent Laid-Open No. 2002-362052 JP 2002-370467 A JP 2004-122599 A International Publication No. 01/083234 JP-A-11-334238

本発明の目的は、近赤外領域のレーザー光に感光し、現像や拭き取り操作が不要で、且つ露光感度を低下させること無く、版の強度が改良された平版印刷用原版および平版印刷版を提供することである。   An object of the present invention is to provide a lithographic printing plate and a lithographic printing plate which are sensitive to laser light in the near-infrared region, require no development or wiping operation, and have improved plate strength without reducing exposure sensitivity. Is to provide.

本発明者らは鋭意検討した結果、画線部を形成する有機微粒子として水酸基価が1以上80未満である有機微粒子を使用することにより、露光感度を低下させること無く印刷版の強度を向上させることを見出し、本発明を完成した。   As a result of intensive studies, the present inventors have improved the strength of the printing plate without reducing the exposure sensitivity by using organic fine particles having a hydroxyl value of 1 or more and less than 80 as the organic fine particles forming the image area. As a result, the present invention has been completed.

即ち本発明は、以下の構成からなるものである。
(1)支持体上に下地層を介して又は直接形成された感光層を有する平版印刷用原版において、感光層を形成する感光性樹脂組成物中に少なくとも水酸基価(KOHmg/g)が1以上80未満である有機微粒子および親水性樹脂を含有すること特徴とする平版印刷用原版。
(2)感光層中の親水性樹脂が、下記一般式(1)(化1)及び/または(2)(化2)で示されるN−アルキルまたはN−アルキレン置換(メタ)アクリルアミド系化合物を用いて反応して得られる親水性樹脂を含むものである、(1)記載の平版印刷用原版。
That is, the present invention has the following configuration.
(1) In a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer formed directly on the support via an underlayer or directly, at least the hydroxyl value (KOHmg / g) is 1 or more in the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer A lithographic printing original plate comprising organic fine particles and a hydrophilic resin of less than 80.
(2) The hydrophilic resin in the photosensitive layer is an N-alkyl or N-alkylene-substituted (meth) acrylamide compound represented by the following general formula (1) (Chemical Formula 1) and / or (2) (Chemical Formula 2). The lithographic printing plate precursor as described in (1), which comprises a hydrophilic resin obtained by reaction using the lithographic printing plate.

Figure 2007125835
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子またはメチル基、R、Rは、水素原子、低級アルキルまたは低級アルコキシ基を表す。) (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, a lower alkyl or a lower alkoxy group.)

Figure 2007125835
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子またはメチル基、Aは、(CH2)n(但し、nは4〜6)または(CH2O(CH2を表す。)
(3)親水性樹脂が、更に下記一般式(3)(化3)で示される化合物および/またはそれらの塩類から選ばれる1種以上の化合物から得られるものである(1)〜(2)記載の平版印刷用原版。
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents (CH 2 ) n (where n is 4 to 6) or (CH 2 ) 2 O (CH 2 ) 2 ).
(3) The hydrophilic resin is obtained from one or more compounds selected from compounds represented by the following general formula (3) (Chemical Formula 3) and / or salts thereof: (1) to (2) The lithographic printing original plate described.

Figure 2007125835
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子または低級アルキル基、nは1〜8の整数を示す。)
(4)感光層を形成する感光性樹脂組成物中に水酸基と反応し得る架橋剤を含有することを特徴とする(1)〜(3)記載の平版印刷用原版。
(5)感光層が親水性であり、感光層表面がレーザー光の照射により親水性から親油性に変化する性質を有するものである(1)〜(4)の平版印刷用原版。
(6)感光層を形成する感光性樹脂組成物中に、更に光吸収剤、界面活性剤を含有するものである(1)〜(5)記載の平版印刷用原版。
(7)(1)〜(6)記載の平版印刷用原版に光を照射して得られた平版印刷用版。
(In the formula, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and n represents an integer of 1 to 8.)
(4) The lithographic printing plate precursor as described in (1) to (3), wherein the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer contains a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group.
(5) The lithographic printing plate precursor according to (1) to (4), wherein the photosensitive layer is hydrophilic, and the surface of the photosensitive layer has a property of changing from hydrophilic to oleophilic upon irradiation with laser light.
(6) The lithographic printing original plate as described in (1) to (5), wherein the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer further contains a light absorber and a surfactant.
(7) A lithographic printing plate obtained by irradiating light to the lithographic printing original plate described in (1) to (6).

本発明の平版印刷用原版を用いれば、耐刷強度に優れ、且つ露光後に現像や拭き取り等の工程を不要とすることの可能な平版印刷用原版を提供することができる。   By using the lithographic printing original plate of the present invention, it is possible to provide a lithographic printing original plate that has excellent printing durability and can eliminate the need for steps such as development and wiping after exposure.

以下、本発明の平版印刷用原版、それから得られる平版印刷用版およびその製造方法について、詳細に説明する。   Hereinafter, the lithographic printing original plate of the present invention, the lithographic printing plate obtained therefrom and the production method thereof will be described in detail.

本発明の平版印刷用原版及び平版印刷用版は、支持体上に下地層を介して又は直接形成された感光層を有しており、該感光層を形成する感光性樹脂組成物中に少なくとも水酸基価(KOHmg/g)が1以上80未満の有機微粒子及び親水性樹脂を含有することを特徴とするものである。   The lithographic printing original plate and lithographic printing plate of the present invention have a photosensitive layer formed directly or via an underlayer on a support, and at least in the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer. It contains organic fine particles having a hydroxyl value (KOHmg / g) of 1 or more and less than 80 and a hydrophilic resin.

一般的に親水性置換基を有する樹脂から形成される微粒子は、水と接する界面付近に親水性置換基を集中させる傾向がある。本発明に用いる有機微粒子においては水酸基がその親水性置換基にあたり、微粒子の表面には部分的に水酸基が存在する構造となっていると考えられる。そのため粒子表面に存在する水酸基の一部が架橋剤と反応することにより、有機微粒子は光照射時に熱融着を起こし画線部を形成するという機能を低下させること無く版の強度を向上させられるものと考えられる。   In general, fine particles formed from a resin having a hydrophilic substituent tend to concentrate the hydrophilic substituent near the interface in contact with water. In the organic fine particles used in the present invention, the hydroxyl group is considered to be a hydrophilic substituent, and the surface of the fine particle is considered to have a partial hydroxyl group structure. Therefore, a part of the hydroxyl groups present on the particle surface react with the crosslinking agent, so that the organic fine particles can improve the strength of the plate without deteriorating the function of causing thermal fusion during light irradiation and forming the image area. It is considered a thing.

[感光層]
次に本発明の平版印刷用原版に用いることのできる感光層に関して説明する。本発明の平版印刷用原版は湿し水を用いるオフセット印刷用の現像レス版であることが好ましく、感光層の光照射部以外は親水性であり非画像部になることが好ましい。従って、本発明において感光層は親水性で、且つ水に溶けないことが好ましい。そして、本発明の印刷用原版では、レーザー光等の光を照射した部分の感光層はアブレーションにより取り除かれることはなく、感光層の親水性が親インク性に変化する性質を有するものであることが好ましい。そのため、本発明の平版印刷用原版は光の照射後の現像や拭き取り等を不要とすることができる。上記したような特性の変化を具現化するために、本発明の平版印刷用原版に用いる感光層は、有機微粒子、親水性樹脂、架橋剤及び光吸収剤を含有してなる感光性樹脂組成物を架橋してなるものであることが好ましい。その中で、本発明においては、有機微粒子として水酸基価(KOHmg/g)が1以上80未満である有機微粒子を用いること、及び親水性樹脂を含有することが特に重要である。
[Photosensitive layer]
Next, the photosensitive layer that can be used in the lithographic printing original plate of the present invention will be described. The lithographic printing original plate of the present invention is preferably a development-less plate for offset printing using a fountain solution, and is preferably hydrophilic and non-image portions other than the light-irradiated portion of the photosensitive layer. Therefore, in the present invention, the photosensitive layer is preferably hydrophilic and insoluble in water. In the printing original plate of the present invention, the photosensitive layer in the portion irradiated with light such as laser light is not removed by ablation, and the hydrophilicity of the photosensitive layer has a property of changing to ink-philicity. Is preferred. Therefore, the lithographic printing original plate of the present invention can eliminate the need for development or wiping after light irradiation. In order to embody the above-described change in characteristics, the photosensitive layer used in the lithographic printing original plate of the present invention comprises a photosensitive resin composition containing organic fine particles, a hydrophilic resin, a crosslinking agent, and a light absorber. It is preferable to crosslink. Among them, in the present invention, it is particularly important to use organic fine particles having a hydroxyl value (KOHmg / g) of 1 or more and less than 80 as the organic fine particles and to contain a hydrophilic resin.

有機微粒子の詳細について説明する。本発明の平版印刷用原版において、感光層を形成する感光性樹脂組成物中に含有される有機微粒子の水酸基価(KOHmg/g)は、1以上80未満であり、好ましくは5以上75以下である。この範囲のものを用いることにより、有機微粒子が熱融着により画線部を形成する際の流動性を大きく低下させることなく、つまり、光照射時の画線形成能力を低下させること無く感光層の強度を向上させることが可能となる。これは感光層中に分散した有機微粒子の水酸基が、後述する架橋剤と反応することで、有機微粒子が感光層中で部分的に架橋に関与するため、光照射時の流動性、即ち画線形成能力を低下させること無く感光層の強度を向上させることができる。また、反応せずに粒子表面に残存する水酸基の効果により有機微粒子表面の親水性が向上し、未露光部においても地汚れを起こすこと無く印刷することが可能となると考えられる。   Details of the organic fine particles will be described. In the lithographic printing original plate of the present invention, the hydroxyl value (KOHmg / g) of the organic fine particles contained in the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer is 1 or more and less than 80, preferably 5 or more and 75 or less. is there. By using a material in this range, the photosensitive layer does not significantly reduce the fluidity when the organic fine particles form the image line portion by heat fusion, that is, without decreasing the image line forming ability during light irradiation. It becomes possible to improve the intensity | strength of. This is because the organic fine particles dispersed in the photosensitive layer react with a cross-linking agent described later, so that the organic fine particles are partially involved in the crosslinking in the photosensitive layer. The strength of the photosensitive layer can be improved without reducing the forming ability. Further, it is considered that the hydrophilicity of the surface of the organic fine particles is improved by the effect of the hydroxyl group remaining on the surface of the particle without reacting, and printing can be performed without causing scumming even in an unexposed portion.

なお、ここで言う水酸基価は、樹脂1g中のOH基をエステル化するのに必要な酸無水物を中和するために必要な水酸化カリウムのmg数を指す。水酸基価の測定方法は、公知の酸無水物による逆滴定により行われるが、特に酸無水物に無水フタル酸、触媒にイミダゾールを使用する方法が望ましく、これら酸無水物、触媒を溶かす溶剤にはピリジンを用いて反応試薬とする。反応試薬と樹脂を反応させた後にこれらを希釈する溶剤には、ピリジン又はテトラヒドロフラン等、樹脂の溶解性に優れた溶剤を使用する。本発明では、特に実施例の項に記載した方法で決定される水酸基価を用いることが好ましい。   In addition, the hydroxyl value said here points out mg number of potassium hydroxide required in order to neutralize the acid anhydride required in order to esterify OH group in 1 g of resin. The hydroxyl value is measured by back titration with a known acid anhydride. In particular, a method using phthalic anhydride as the acid anhydride and imidazole as the catalyst is desirable, and a solvent for dissolving these acid anhydrides and catalysts is preferable. Use pyridine as the reaction reagent. As a solvent for diluting these after reacting the reaction reagent with the resin, a solvent having excellent resin solubility such as pyridine or tetrahydrofuran is used. In the present invention, it is particularly preferable to use a hydroxyl value determined by the method described in the Examples section.

次に有機微粒子の平均粒径について説明する。有機微粒子の好ましい平均粒径の範囲は5nm以上150nm以下であり、特に好ましくは、5nm以上100nm以下である。この範囲であることにより、水との界面エネルギーが小さく、表面の親水性が高い状態であると考えられる。また、この範囲の小粒径の粒子では感光性樹脂組成物中における流動性が高くなり、感光層中により均一に分散することも期待される。尚、微粒子の平均粒径は、一般的には水で薄めて粒度測定器(例えば「動的光散乱法を原理とするレーザー粒径解析システム」や「マイクロトラック」等)により測定することが可能である。その他、微粒子を凍結後スライスして透過型電子顕微鏡で測定することもでき、平均粒径が10nm以下の場合には特にこの方法が好ましく用いられる。   Next, the average particle diameter of the organic fine particles will be described. The range of the preferable average particle diameter of the organic fine particles is 5 nm or more and 150 nm or less, and particularly preferably 5 nm or more and 100 nm or less. By being in this range, it is considered that the interfacial energy with water is small and the surface is highly hydrophilic. In addition, particles having a small particle diameter in this range have high fluidity in the photosensitive resin composition and are expected to be more uniformly dispersed in the photosensitive layer. The average particle size of the fine particles is generally measured with a particle size measuring device (for example, “laser particle size analysis system based on the dynamic light scattering method” or “Microtrack”) after thinning with water. Is possible. In addition, fine particles can be sliced after freezing and measured with a transmission electron microscope, and this method is particularly preferably used when the average particle size is 10 nm or less.

次に、有機微粒子を形成する樹脂の詳細に関して説明する。本発明において用いる有機微粒子は水酸基価(KOHmg/g)が1以上80未満であるが、この条件を満たす粒子を形成することができる樹脂であれば、特に限定はない。本発明において用いる有機微粒子を形成することが可能な樹脂の例として、ポリエステル、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール共重合体、ポリスチレン系樹脂、ポリアクリル系樹脂、スチレン‐アクリル共重合体、ポリエーテルポリオール等を例示することができるが、下記に示す理由により樹脂末端のみに水酸基を有する樹脂が好ましい。   Next, details of the resin forming the organic fine particles will be described. The organic fine particles used in the present invention have a hydroxyl value (KOHmg / g) of 1 or more and less than 80, but there is no particular limitation as long as the resin can form particles satisfying this condition. Examples of resins capable of forming organic fine particles used in the present invention include polyester, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol copolymer, polystyrene resin, polyacrylic resin, styrene-acrylic copolymer, polyether polyol, etc. However, a resin having a hydroxyl group only at the resin terminal is preferable for the following reasons.

本発明では、有機微粒子を形成する原料樹脂として、樹脂末端に水酸基を有する樹脂を用いることが好ましい。上記樹脂を粒子化した場合、親水性の水酸基が粒子表面付近に、疎水性の樹脂骨格部分がブロックとして粒子内部に存在する構造をとると考えられる。そのため、樹脂骨格中に均一に水酸基が分散した樹脂を原料とする粒子と比較して、粒子表面と粒子内部における親水性/疎水性のコントラストが大きくなる。よって未露光部では表面の水酸基の効果により親水性の高い非画線部が形成され、光照射部では粒子の融着により粒子内部の疎水性部分が版表面に露出した着インキ性の高い画線部が形成されると考えられる。上記のような樹脂末端に水酸基を有する樹脂の好適な例としてポリエステル樹脂を挙げることができる。ポリエステルを形成するモノマーについて特に限定はないが、樹脂骨格の疎水性を向上させ、着インキ性が良好となるように、芳香族系のアルコールモノマーを使用することが望ましい。   In the present invention, it is preferable to use a resin having a hydroxyl group at the resin terminal as a raw material resin for forming organic fine particles. When the resin is made into particles, it is considered that a hydrophilic hydroxyl group is present in the vicinity of the particle surface and a hydrophobic resin skeleton is present as a block inside the particle. Therefore, the hydrophilic / hydrophobic contrast between the particle surface and the inside of the particle is increased as compared with particles made from a resin in which hydroxyl groups are uniformly dispersed in the resin skeleton. Therefore, in the unexposed area, a non-image area with high hydrophilicity is formed due to the effect of the hydroxyl group on the surface, and in the light irradiated area, the hydrophobic area inside the particle is exposed on the plate surface due to the fusion of the particle, and the image is highly ink-adhesive. It is thought that a line part is formed. A polyester resin can be mentioned as a suitable example of the resin having a hydroxyl group at the resin terminal as described above. Although there is no particular limitation on the monomer that forms the polyester, it is desirable to use an aromatic alcohol monomer so as to improve the hydrophobicity of the resin skeleton and to improve the ink receiving property.

芳香族系アルコールモノマーの例として、ビスフェノールA骨格を有する化合物、例えば、ビスフェノールA、ビスフェノールA−2プロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−3プロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−ポリプロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−2エチレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−3エチレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−ポリエチレンオキサイド付加物等を挙げることができる。上記モノマーのうち、ビスフェノールA−2プロピレンオキサイド付加物、ビスフェノールA−3プロピレンオキサイド付加物を使用することが特に好ましく、その量は5モル%以上100モル%以下であることが好ましい。   Examples of aromatic alcohol monomers include compounds having a bisphenol A skeleton, such as bisphenol A, bisphenol A-2 propylene oxide adduct, bisphenol A-3 propylene oxide adduct, bisphenol A-polypropylene oxide adduct, bisphenol A- 2 ethylene oxide adduct, bisphenol A-3 ethylene oxide adduct, bisphenol A-polyethylene oxide adduct, and the like. Among the above monomers, it is particularly preferable to use a bisphenol A-2 propylene oxide adduct or a bisphenol A-3 propylene oxide adduct, and the amount is preferably 5 mol% or more and 100 mol% or less.

また、分子量を調整する目的で3価以上の多価アルコールを使用することができ、具体的には1,2,3,6−ヘキサンテトロール、1,4−ソルビトール、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、1,2,4−ブタントリオール、グリセロール、2−メチルプロパントリオール、2−メチル−1,2,4−ブタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、1,3,5−トリヒドロキシメチルベンゼン等を例示することができる。これら3価以上の多価アルコールを使用する場合、全アルコールモノマー中で多価アルコールの割合が20モル%を超えるとゲル化しやすくなり重縮合し難くなるため、0.5〜20モル%の量の範囲で用いることが好ましく、2〜20モル%がより好ましい。   In addition, a trihydric or higher polyhydric alcohol can be used for the purpose of adjusting the molecular weight, and specifically, 1,2,3,6-hexanetetrol, 1,4-sorbitol, pentaerythritol, dipentaerythritol. , Tripentaerythritol, 1,2,4-butanetriol, glycerol, 2-methylpropanetriol, 2-methyl-1,2,4-butanetriol, trimethylolethane, trimethylolpropane, 1,3,5-tri A hydroxymethylbenzene etc. can be illustrated. When these trihydric or higher polyhydric alcohols are used, if the proportion of polyhydric alcohol in all alcohol monomers exceeds 20 mol%, gelation tends to occur and polycondensation becomes difficult. It is preferable to use in the range of 2-20 mol%.

酸モノマーに関しても特に限定は無いが、アルコールモノマーと同様の理由により芳香族酸モノマーを使用することが好ましい。芳香族酸モノマーの量は全酸モノマーの中で10モル%以上100%以下であることが好ましい。芳香族酸モノマーの具体例としては無水フタル酸、フタル酸、テレフタル酸、イソフタル酸などの芳香族二塩基酸を使用することが好ましい。上記の他に使用可能なジカルボン酸として、マロン酸、コハク酸、グルタミン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、アゼライン酸などの脂肪族ジカルボン酸類、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸などの不飽和ジカルボン酸類、およびこれらの低級アルキルエステルなどを例示することができる。また、分子量を調整する目的でモノカルボン酸および三価以上のポリカルボン酸等を用いることもできる。具体的にはモノカルボン酸として、プロピオン酸、酪酸、カプロン酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、ステアリン酸等の脂肪族カルボン酸、安息香酸、トルイル酸、α−ナフトエ酸、β−ナフトエ酸、フェニル酢酸等の芳香環含有1価カルボン酸を例示することができ、ポリカルボン酸としてトリメリット酸、ピロメリット酸およびこれらの酸無水物などを例示することができる。モノカルボン酸を使用する場合、全酸モノマー中でモノカルボン酸の割合が30モル%を超えると、樹脂中の酸化および水酸基価が低下する為、0.5〜30モル%の範囲内で使用することが好ましく、2〜20モル%の量で使用することがより好ましい。また、多価カルボン酸を使用する場合は、全酸モノマー中でモノカルボン酸の割合が20モル%を超えると、ゲル化を起こしやすくなるため、0.5〜20モル%の範囲で使用することが好ましく、2〜20モル%の量で使用することが特に好ましい。   Although there is no limitation in particular also about an acid monomer, It is preferable to use an aromatic acid monomer for the same reason as an alcohol monomer. The amount of the aromatic acid monomer is preferably 10% by mole or more and 100% or less in the total acid monomers. As specific examples of the aromatic acid monomer, aromatic dibasic acids such as phthalic anhydride, phthalic acid, terephthalic acid, and isophthalic acid are preferably used. In addition to the above, usable dicarboxylic acids include malonic acid, succinic acid, glutamic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, azelaic acid and other aliphatic dicarboxylic acids, maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, etc. Examples thereof include unsaturated dicarboxylic acids and lower alkyl esters thereof. In addition, for the purpose of adjusting the molecular weight, monocarboxylic acid, trivalent or higher polycarboxylic acid, and the like can be used. Specifically, as monocarboxylic acid, aliphatic carboxylic acid such as propionic acid, butyric acid, caproic acid, caprylic acid, pelargonic acid, stearic acid, benzoic acid, toluic acid, α-naphthoic acid, β-naphthoic acid, phenylacetic acid An aromatic ring-containing monovalent carboxylic acid such as trimellitic acid, pyromellitic acid, and acid anhydrides thereof can be illustrated as polycarboxylic acids. When using monocarboxylic acid, if the proportion of monocarboxylic acid in all acid monomers exceeds 30 mol%, the oxidation and hydroxyl value in the resin will decrease, so use within the range of 0.5-30 mol%. It is preferable to use it in an amount of 2 to 20 mol%. Moreover, when using polyvalent carboxylic acid, since it will become easy to raise | generate gelatinization when the ratio of monocarboxylic acid exceeds 20 mol% in all the acid monomers, it uses in the range of 0.5-20 mol%. It is particularly preferable to use it in an amount of 2 to 20 mol%.

上記の有機微粒子を形成する樹脂は乳化を促進することを目的として、樹脂中の水酸基の一部をマレイン酸やフタル酸等の2価以上の酸モノマーと反応させ一部を酸末端に変換して使用する、もしくはその金属塩やアミン塩として使用することも可能である。上記のように一部を酸末端もしくはその塩に変換する場合、残存する水酸基価(KOHmg/g)が本発明で規定する範囲内であればよい。   For the purpose of promoting emulsification, the resin that forms the organic fine particles described above reacts with a part of the hydroxyl group in the resin with a divalent or higher acid monomer such as maleic acid or phthalic acid to convert a part thereof to an acid terminal. Or as a metal salt or amine salt thereof. When a part is converted into an acid terminal or a salt thereof as described above, the remaining hydroxyl value (KOHmg / g) may be within the range specified in the present invention.

上記の有機微粒子の製造方法については特に限定は無く、得る方法としては、例えば、水中で不飽和モノマーを適宜、乳化剤あるいは分散剤等を使用/あるいは不使用して、重合させ得る方法、より具体的には、乳化重合、ソープフリー乳化重合、沈殿重合、分散重合、不飽和モノマーを懸濁重合することによって得る方法、親水化原料を用いて樹脂骨格中に親水成分を直接導入して自己乳化型あるいはアイオノマー型として得る方法、樹脂を適宜必要に応じて分散助剤や界面活性剤を加え、機械的に強制乳化させることで得る方法、樹脂を可溶な有機溶剤にあらかじめ溶解させた後に水中に分散させる所謂、溶解懸濁法により得る方法、あるいはこれらを適宜複合させ得る方法等、公知の方法をあげることができるが、どのような方法によって得たものであっても本発明で規定する範囲のものを製造するためのものであれば使用可能である。尚、本発明において感光層を形成する感光性樹脂組成物に含有させる有機微粒子は、一種で使用しても、二種以上を併用して用いてもよい。   The method for producing the organic fine particles is not particularly limited, and a method for obtaining the organic fine particles is, for example, a method in which an unsaturated monomer can be polymerized in water with or without using an emulsifier or a dispersant as appropriate. Specifically, emulsion polymerization, soap-free emulsion polymerization, precipitation polymerization, dispersion polymerization, a method obtained by suspension polymerization of unsaturated monomers, self-emulsification by directly introducing hydrophilic components into the resin skeleton using hydrophilic raw materials Mold or ionomer type, a resin obtained by adding a dispersion aid or a surfactant as necessary, and mechanically emulsified, and after the resin is dissolved in a soluble organic solvent in advance, Known methods such as a so-called solution suspension method for dispersing in water or a method in which these can be appropriately combined can be exemplified. Even those obtained can be used as long as for the production of a range defined by the present invention. In the present invention, the organic fine particles contained in the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer may be used singly or in combination of two or more.

本発明の感光層は有機化合物を主成分として構成されるものであり、水に不溶であることが好ましい。水に不溶とする為に、感光層には触媒の存在下あるいは非存在下で熱あるいは光等を受けて架橋反応を生じ得る、架橋剤を含有することが好ましい。架橋剤の架橋反応は、適当な官能基を有する架橋剤以外の化合物と行っても良いし、また自己架橋する特性を有する架橋剤を用いても良いが、より好ましくは自己架橋する特性を有する架橋剤である。ここで自己架橋する特性を有する架橋剤とは、化合物が有する同一官能基、または化合物が有する他の官能基と反応して結合することが可能な化合物を指すものとする。更に本発明における架橋剤は、前記の有機微粒子表面の水酸基と反応し感光層の強度を向上させ得るものが好ましく、水酸基と反応し得る架橋剤を含むことが好ましい。これらの好ましい具体例としては、エポキシ基を含有する化合物、メチロール基、イミノ基を含有する化合物等が挙げられる。これらの化合物を使用することにより、感光層の親水性を維持したまま強い架橋物を作ることができる。   The photosensitive layer of the present invention is composed mainly of an organic compound and is preferably insoluble in water. In order to make it insoluble in water, the photosensitive layer preferably contains a crosslinking agent capable of causing a crosslinking reaction upon receiving heat or light in the presence or absence of a catalyst. The cross-linking reaction of the cross-linking agent may be performed with a compound other than the cross-linking agent having an appropriate functional group, or a cross-linking agent having a self-cross-linking property may be used, but more preferably has a self-cross-linking property. It is a crosslinking agent. Here, the crosslinking agent having the property of self-crosslinking refers to a compound capable of reacting with and binding to the same functional group of the compound or another functional group of the compound. Furthermore, the crosslinking agent in the present invention is preferably one that can react with the hydroxyl group on the surface of the organic fine particles to improve the strength of the photosensitive layer, and preferably contains a crosslinking agent that can react with the hydroxyl group. Specific examples of these include compounds containing an epoxy group, methylol groups, and compounds containing an imino group. By using these compounds, a strong cross-linked product can be produced while maintaining the hydrophilicity of the photosensitive layer.

エポキシ基を含有する化合物はエポキシ基同士で架橋することが知られており、親水性ポリマーの架橋性官能基と反応しなくても残ったエポキシ基が自己縮合で消費されるため、網目構造が細かくなり強度が増すため好ましい。エポキシ基を含有する化合物としては、例としてエチレングリコールジグリシジルエーテルやポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、炭素数3以上のグリコールのジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールAジグリシジルエーテル等のジグリシジルエーテル、ソルビトールポリグリシジルエーテル、ポリグリコールポリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールポリグリシジルエーテル、ジグリセロールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル、トリエチロールプロピレンポリグリシジルエーテル等の脂肪族系、レゾルシノールジグリシジルエーテル、ビスフェノールA型グリシジルエーテル、トリグリシジルイソシアヌレートのような芳香族環や環状化合物を含むもの等が挙げることができる。前記化合物の市販品の例として、ナガセケムテックス株式会社製エポキシ化合物、「デナコールTM」シリーズ等が挙げられる。 Compounds containing epoxy groups are known to crosslink between epoxy groups, and the remaining epoxy groups are consumed by self-condensation without reacting with the crosslinkable functional groups of the hydrophilic polymer. It is preferable because it becomes finer and strength increases. Examples of the compound containing an epoxy group include ethylene glycol diglycidyl ether, polyethylene glycol diglycidyl ether, propylene glycol diglycidyl ether, polypropylene glycol diglycidyl ether, neopentyl glycol diglycidyl ether, and diglycol having 3 or more carbon atoms. Diglycidyl ether such as glycidyl ether, hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, sorbitol polyglycidyl ether, polyglycol polyglycidyl ether, pentaerythritol polyglycidyl ether, diglycerol polyglycidyl ether, glycerol polyglycidyl ether, triethylolpropylene polyglycidyl ether Aliphatic, such as resorcinol diglycidyl ether, bisph Can Knoll A type glycidyl ether, such as those containing an aromatic ring or a cyclic compound such as triglycidyl isocyanurate include. Examples of commercially available compounds include epoxy compounds manufactured by Nagase ChemteX Corporation, “Denacol ” series, and the like.

メチロール基及びイミノ基を有する化合物としては、例えば、メラミン樹脂、フェノール樹脂等を挙げることができるが、親水性と耐刷性のバランスや有機微粒子の水酸基との反応性の点からメラミン樹脂を用いることが好ましい。該メラミン樹脂で、架橋性置換基部分が完全にアルキル化されたメチロールアルキルタイプでは反応速度が遅く自己縮合が進行しにくい為、イミノ基とメチロール基を含有するタイプのメラミン樹脂を用いることが好ましい。該メラミン樹脂が自己縮合することで感光層内の網目構造が密になり機械強度が増す。使用可能な市販品の例としては、日本サイテックインダストリーズ株式会社製のメラミン樹脂「サイメルTM」シリーズ等が挙げられる。 Examples of the compound having a methylol group and an imino group include a melamine resin and a phenol resin. A melamine resin is used from the viewpoint of the balance between hydrophilicity and printing durability and reactivity with hydroxyl groups of organic fine particles. It is preferable. In the melamine resin, a methylol alkyl type in which the crosslinkable substituent part is completely alkylated has a slow reaction rate and hardly progresses self-condensation. Therefore, it is preferable to use a melamine resin of a type containing an imino group and a methylol group. . The self-condensation of the melamine resin makes the network structure in the photosensitive layer dense and increases the mechanical strength. Examples of commercially available products that can be used include melamine resin “Cymel ” series manufactured by Nippon Cytec Industries, Ltd.

感光層用樹脂組成物中における架橋剤の含有量は、固形分として10〜40質量%であることが好ましく、特に10〜30質量%であることが好ましい。架橋剤の含有量が上記範囲にあることにより、感光層は良好な親水性を発揮し、かつ印刷時にも感光層が水に溶解することのないものを提供することができる。   The content of the crosslinking agent in the photosensitive layer resin composition is preferably 10 to 40% by mass, and particularly preferably 10 to 30% by mass, as a solid content. When the content of the crosslinking agent is in the above range, the photosensitive layer can exhibit good hydrophilicity, and can provide a photosensitive layer that does not dissolve in water even during printing.

さらに本発明の感光層を形成する感光性樹脂組成物は、親水性樹脂を含有することが好ましい。ここで親水性樹脂とは、親水基として、例えば、水酸基、アミド基、スルホンアミド基、オキシメチレン基、オキシエチレン基等、更にカルボキシル基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の酸性基やこれら酸性基のアルカリ金属塩やアミン塩等を有する樹脂であり、水に対する溶解性を有する樹脂である。水に対する溶解度は、具体的には、25℃において、水に20質量%以上溶解することが好ましく、更に好ましくは50質量%以上であり、80質量%以上であることがより更に好ましい。また、該親水性樹脂は単独もしくは2種以上を併用して使用することが可能である。   Furthermore, the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer of the present invention preferably contains a hydrophilic resin. Here, the hydrophilic resin refers to a hydrophilic group such as a hydroxyl group, an amide group, a sulfonamide group, an oxymethylene group, an oxyethylene group, an acidic group such as a carboxyl group, a sulfonic acid group, or a phosphonic acid group, or these acidic groups. It is a resin having a basic alkali metal salt, amine salt or the like, and is a resin having solubility in water. Specifically, the solubility in water is preferably 20% by mass or more, more preferably 50% by mass or more, and still more preferably 80% by mass or more in water at 25 ° C. The hydrophilic resins can be used alone or in combination of two or more.

本発明の親水性樹脂のより具体的な例としては、以下の樹脂が挙げられる。即ち、ポリ酢酸ビニルのけん化物類、セルロース類、ゼラチン、前記した親水性基を有する不飽和単量体類やN―ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、酢酸ビニル、ビニルエーテル等を重合、共重合してなる樹脂及びその加水分解樹脂等である。   More specific examples of the hydrophilic resin of the present invention include the following resins. That is, polymerization and copolymerization of saponified products of polyvinyl acetate, celluloses, gelatin, unsaturated monomers having the above-mentioned hydrophilic groups, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, vinyl acetate, vinyl ether, etc. And a hydrolyzed resin thereof.

この中でも、本発明において好ましく用いられる親水性樹脂は、少なくとも下記一般式(1)及びまたはまたは(2)で示される(メタ)アクリルアミドを含むN−アルキルまたはN−アルキレン置換(メタ)アクリルアミドを用いて反応して得られるアクリルアミド系樹脂である。   Among these, the hydrophilic resin preferably used in the present invention uses N-alkyl or N-alkylene-substituted (meth) acrylamide including (meth) acrylamide represented by at least the following general formula (1) and / or (2). Acrylamide resin obtained by reaction.

Figure 2007125835
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子またはメチル基、R、Rは、水素原子、低級アルキルまたは低級アルコキシ基を表す。) (Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, a lower alkyl or a lower alkoxy group.)

Figure 2007125835
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子またはメチル基、Aは、(CH2)n(但し、nは4〜6)または(CH2O(CH2を表す。)
一般式(1)及び(2)中、低級アルキル基とは具体例としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられ、低級アルコキシ基としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等が挙げられる。より好ましくは、上記化合物(1)のRはメチル基またはエチル基であり、Rは、水素原子、メチル基、エチル基またはプロピル基である。
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents (CH 2 ) n (where n is 4 to 6) or (CH 2 ) 2 O (CH 2 ) 2 ).
In general formulas (1) and (2), specific examples of the lower alkyl group include a methyl group, an ethyl group, a propyl group, and a butyl group, and the lower alkoxy group includes a methoxy group, an ethoxy group, and a propoxy group. Can be mentioned. More preferably, R 2 in the compound (1) is a methyl group or an ethyl group, and R 3 is a hydrogen atom, a methyl group, an ethyl group, or a propyl group.

該化合物(1)、(2)で表されるN−アルキルまたはN−アルキレン置換(メタ)アクリルアミドの具体例としては、(メタ)アクリルアミド、N−メチル(メタ)アクリルアミド、N−エチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N,N−ジエチル(メタ)アクリルアミド、N−メチル−N−エチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、N−n−プロピル(メタ)アクリルアミド、N−(メタ)アクリロイルピロリジン、N−(メタ)アクリロイルピペリジン、N−アクリロイルヘキサヒドロアゼピン、N−アクリロイルモルホリン、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等を挙げることができる。なお、本発明における記述において、(メタ)アクリルアミド等は、アクリルアミドとメタアクリルアミドの両者を意味する。これらのモノマーの中で、アクリルアミドをモノマーとして用い重合して得られるものであるものがより更に好ましい。もちろん、上記化合物は2種以上を用いることができる。さらに、前記化合物(1)、(2)を親水性樹脂のモノマーとして用いた場合の使用量は、親水性樹脂中に好ましくは60質量%以上、より好ましくは60〜99.9質量%、より更に好ましくは70〜99.5質量%である。上記化合物を使用することにより、本発明の平版印刷用原版は良好な親水性を発揮することができる。   Specific examples of the N-alkyl or N-alkylene-substituted (meth) acrylamide represented by the compounds (1) and (2) include (meth) acrylamide, N-methyl (meth) acrylamide, and N-ethyl (meth). Acrylamide, N, N-dimethyl (meth) acrylamide, N, N-diethyl (meth) acrylamide, N-methyl-N-ethyl (meth) acrylamide, N-isopropyl (meth) acrylamide, Nn-propyl (meth) Examples include acrylamide, N- (meth) acryloylpyrrolidine, N- (meth) acryloylpiperidine, N-acryloylhexahydroazepine, N-acryloylmorpholine, methoxymethyl (meth) acrylamide, and butoxymethyl (meth) acrylamide. In the description of the present invention, (meth) acrylamide and the like mean both acrylamide and methacrylamide. Among these monomers, those obtained by polymerization using acrylamide as a monomer are even more preferable. Of course, two or more of the above compounds can be used. Furthermore, the amount used when the compounds (1) and (2) are used as the monomer of the hydrophilic resin is preferably 60% by mass or more, more preferably 60 to 99.9% by mass in the hydrophilic resin. More preferably, it is 70-99.5 mass%. By using the above compound, the lithographic printing original plate of the present invention can exhibit good hydrophilicity.

前記一般式(1)及び/又は(2)記載の化合物から得られる親水性樹脂は、さらに、更に下記一般式(3)(化3)で示される化合物および/またはそれらの塩類から選ばれる1種以上の化合物を加えることが好ましい。   The hydrophilic resin obtained from the compound described in the general formula (1) and / or (2) is further selected from compounds represented by the following general formula (3) (Chemical Formula 3) and / or salts thereof. It is preferred to add more than one species of compound.

Figure 2007125835
Figure 2007125835

一般式(3)で表される化合物および/またはそれらの塩類の具体例として、アリルスルホン酸、アリルスルホン酸ナトリウム、アリルスルホン酸カリウム、メタリルスルホン酸、メタリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸カリウム、メタリルスルホン酸塩アンモニウム等が挙げられ、これらから選ばれる1種以上の化合物をモノマーとして用いて得られる親水性樹脂であることが好ましく、特にメタリルスルホン酸、メタリルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸カリウムを用いることが好ましい。これらのモノマーの使用量は、前記親水性樹脂の全使用量に対して、好ましくは0.01〜10質量%、より好ましくは0.1〜5質量%、更に好ましくは、0.2〜3質量%である。上記化合物を用いることにより、親水性樹脂の親水性を更に良好なものとすることができる。 Specific examples of the compound represented by the general formula (3) and / or salts thereof include allyl sulfonic acid, sodium allyl sulfonate, potassium allyl sulfonate, methallyl sulfonic acid, sodium methallyl sulfonate, and methallyl sulfonic acid. Potassium, ammonium methallyl sulfonate and the like can be mentioned, and a hydrophilic resin obtained by using one or more compounds selected from these as monomers is preferable. In particular, methallyl sulfonic acid, sodium methallyl sulfonate, It is preferable to use potassium methallylsulfonate. The amount of these monomers used is preferably 0.01 to 10% by mass, more preferably 0.1 to 5% by mass, and still more preferably 0.2 to 3%, based on the total amount of the hydrophilic resin used. % By mass. By using the above compound, the hydrophilicity of the hydrophilic resin can be further improved.

また、その他の親水性樹脂を構成することのできるモノマーとして、(メタ)アクリル酸等の一塩基不飽和酸、イタコン酸、フマル酸、マレイン酸及びその無水物等の二塩基不飽和酸等のカルボキシル基を有するモノマーや、スルホエチル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリルアミドメチルプロパンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビニルメチルスルホン酸、イソプロぺニルメチルスルホン酸、(メタ)アクリル酸にエチレンオキシド等のスルホン酸基を有するモノマーや、ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチロール(メタ)アクリルアミド等の水酸基を有するモノマーや、無置換又は置換イタコン酸アミド、無置換又は置換フマル酸アミド、無置換又は置換フタル酸アミド、N―ビニルアセトアミド、N−ビニルホルムアミド、ダイアセトン(メタ)アクリルアミド、スルホン酸プロピル(メタ)アクリルアミド、メトキシメチル(メタ)アクリルアミド、ブトキシメチル(メタ)アクリルアミド等の前記(1)、(2)で示した(メタ)アクリルアミドを含むN−置換(メタ)アクリルアミド誘導体の他のアミド基を有するモノマーや、グリシジル(メタ)アクリレート、パラビニルフェニルグリシジルエーテル等のグリシジル基を有するモノマーや、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ジメチルアミノエチル(メタ)アクリレート、ジエチルアミノエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、イソポロニル(メタ)アクリレート、アダマンチル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、α-メチルスチレン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、酢酸ビニル等の疎水的な性質を有するモノマーや、メチレンビスアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミド、エチレンビスアクリルアミド、エチレンビスメタアクリルアミド、エチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジメタアクリレート、ジエチレングリコールアクリレート、ジエチレングリコールメタアクリレート、ジビニルベンゼン、ジアリルアクリルアミド、トリアリルイソシアヌレート、トリアクリル酸ペンタエリスリトール等の多官能型モノマーを始めとする従来公知の各種モノマーを例示することができ、親水性樹脂の親水性を損ねない範囲内であれば、必要に応じこれらを用いることができる。上記親水性樹脂のうち市販品の例として三井化学株式会社製ポリアクリルアミド「ホープロンTM」シリーズ等を挙げることができる。 In addition, as monomers that can constitute other hydrophilic resins, monobasic unsaturated acids such as (meth) acrylic acid, dibasic unsaturated acids such as itaconic acid, fumaric acid, maleic acid and anhydrides thereof, etc. Monomers having a carboxyl group, sulfoethyl (meth) acrylate, (meth) acrylamidomethylpropanesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylmethylsulfonic acid, isopropenylmethylsulfonic acid, (meth) acrylic acid and sulfonic acid groups such as ethylene oxide Monomers, hydroxyethyl (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, hydroxypropyl (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, hydroxybutyl (meth) acrylate, methylol (meth) acrylate Monomers having a hydroxyl group such as amide, unsubstituted or substituted itaconic acid amide, unsubstituted or substituted fumaric acid amide, unsubstituted or substituted phthalic acid amide, N-vinylacetamide, N-vinylformamide, diacetone (meth) acrylamide, In addition to N-substituted (meth) acrylamide derivatives including (meth) acrylamide shown in the above (1) and (2), such as propyl (meth) acrylamide, methoxymethyl (meth) acrylamide, butoxymethyl (meth) acrylamide, etc. Monomers having an amide group, monomers having a glycidyl group such as glycidyl (meth) acrylate, paravinylphenyl glycidyl ether, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl ( Acrylate), dimethylaminoethyl (meth) acrylate, diethylaminoethyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, isopronyl (meth) acrylate, adamantyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, Monomers having hydrophobic properties such as styrene, α-methylstyrene, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl acetate, methylene bisacrylamide, methylene bisacrylamide, ethylene bisacrylamide, ethylene bismethacrylamide, ethylene glycol diacrylate, ethylene glycol Dimethacrylate, diethylene glycol acrylate, diethylene glycol methacrylate, divinylbenzene, Examples of conventionally known various monomers including polyfunctional monomers such as allyl acrylamide, triallyl isocyanurate, pentaerythritol triacrylate, and the like, as long as the hydrophilicity of the hydrophilic resin is not impaired, These can be used as needed. Examples of commercially available hydrophilic resins include polyacrylamide “Hopron ” series manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.

本発明において感光層を形成する感光性樹脂組成物には、更に光吸収剤を含有していることが好ましい。この光吸収剤は、光を吸収して熱を生じるものであることが好ましく、光の照射に際しては光吸収剤が吸収する波長域の光を適宜用いる。光吸収剤の具体例としては、シアニン系色素、ポリメチン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、アントラシアニン系色素、ポルフィリン系色素、アゾ系色素、ベンゾキノン系色素、ナフトキノン系色素、ジチオール金属錯体類、ジアミンの金属錯体類、ニグロシン等の各種色素、及びカーボンブラック等が挙げられる。これらの色素に於いては、明室での取り扱い性、露光機に用いる光源の出力や使い易さの点から750〜1100nmの領域の光を吸収する色素が好ましく、より具体的には、最大吸収波長λmaxが750〜900nmである色素が好ましい。色素の吸収波長域に関しては置換基やπ電子の共役系の長さ等により変えることが出来る。また、光熱変換を効果的に行う為に、最大吸収波長における吸光係数εmaxは1×10L mol−1 cm−1以上であることが好ましく、より好ましくは2×10Lmol-1 cm-1以上である。これらの光吸収剤は感光性樹脂組成物が含まれる水溶液に溶解していても、又分散していても良いが、感光層中に該光吸収剤を含有し、版に充分な親水性を付与する為に、前記した光吸収剤の中で本発明に於いては、親水性の光吸収剤が好ましい。具体的は、水への溶解性が1質量%以上の光吸収剤が好ましい。 In the present invention, the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer preferably further contains a light absorber. This light absorber is preferably one that absorbs light and generates heat, and appropriately uses light in a wavelength region that is absorbed by the light absorber when irradiated with light. Specific examples of light absorbers include cyanine dyes, polymethine dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, anthracocyanine dyes, porphyrin dyes, azo dyes, benzoquinone dyes, naphthoquinone dyes, dithiol metal complexes , Metal complexes of diamine, various pigments such as nigrosine, and carbon black. Among these dyes, dyes that absorb light in the region of 750 to 1100 nm are preferable from the viewpoints of handling in a bright room, output of a light source used in an exposure machine, and ease of use. A dye having an absorption wavelength λmax of 750 to 900 nm is preferred. The absorption wavelength range of the dye can be changed depending on the length of the substituent or the conjugated system of π electrons. In order to effectively perform photothermal conversion, the extinction coefficient εmax at the maximum absorption wavelength is preferably 1 × 10 5 L mol −1 cm −1 or more, more preferably 2 × 10 5 L mol −1 cm −. 1 or more. These light absorbers may be dissolved or dispersed in an aqueous solution containing the photosensitive resin composition, but the light absorber is contained in the photosensitive layer, so that the plate has sufficient hydrophilicity. In order to give, in the present invention, among the above-mentioned light absorbers, hydrophilic light absorbers are preferable. Specifically, a light absorber having a solubility in water of 1% by mass or more is preferable.

本発明において感光性樹脂組成物には、印刷条件に対する安定性を広げるため、種々の界面活性剤を添加しても良い。前記界面活性剤としては、アニオン性界面活性剤、カチオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤及び両性界面活性剤等が挙げられる。また、感光性樹脂組成物水溶液の塗布性を良化するため、ハジキ防止剤、レベリング剤等の添加剤を添加しても良い。これらの界面活性剤の添加量は、特に制限されないが、親水性樹脂、架橋剤および有機微粒子の合計100重量部に対して、0.001〜5重量部であることが好ましい。   In the present invention, various surfactants may be added to the photosensitive resin composition in order to increase the stability to printing conditions. Examples of the surfactant include an anionic surfactant, a cationic surfactant, a nonionic surfactant, and an amphoteric surfactant. Moreover, in order to improve the applicability | paintability of photosensitive resin composition aqueous solution, you may add additives, such as a repellency inhibitor and a leveling agent. The addition amount of these surfactants is not particularly limited, but is preferably 0.001 to 5 parts by weight with respect to 100 parts by weight as a total of the hydrophilic resin, the crosslinking agent and the organic fine particles.

本発明において感光層は、上記の感光性樹脂組成物を架橋してなるものであるが、その感光性樹脂組成物の組成割合は好ましくは以下の範囲であることで良好な印刷版を提供することができる。感光性樹脂組成物における親水性樹脂の配合量は、親水性樹脂、架橋剤、有機微粒子および光吸収剤の合計100重量部に対して、20重量部以上であることが好ましい。さらに好ましくは、20重量部以上60重量部以下であることが好ましい。   In the present invention, the photosensitive layer is formed by crosslinking the above-described photosensitive resin composition. The composition ratio of the photosensitive resin composition is preferably in the following range to provide a good printing plate. be able to. The blending amount of the hydrophilic resin in the photosensitive resin composition is preferably 20 parts by weight or more with respect to 100 parts by weight in total of the hydrophilic resin, the crosslinking agent, the organic fine particles, and the light absorber. More preferably, it is 20 parts by weight or more and 60 parts by weight or less.

本発明に於ける感光性樹脂組成物中の上記架橋剤量は、親水性樹脂、架橋剤、有機微粒子および光吸収剤の合計100重量部に対して、3〜60重量部の範囲にあることが好ましく、より好ましくは5〜50重量部である。架橋剤量が該範囲内にあることにより、本発明の平版印刷用版において、良好な親水性と良好な耐刷性能を発揮することができる。   The amount of the crosslinking agent in the photosensitive resin composition in the present invention is in the range of 3 to 60 parts by weight with respect to 100 parts by weight in total of the hydrophilic resin, the crosslinking agent, the organic fine particles and the light absorber. Is more preferable, and 5 to 50 parts by weight is more preferable. When the amount of the crosslinking agent is within the above range, good hydrophilicity and good printing durability can be exhibited in the planographic printing plate of the present invention.

感光性樹脂組成物における、有機微粒子の量は光照射部の親インク化の点からは多い方が好ましいが、多くなり過ぎると版の親水性が低下し、印刷において地汚れを起こす可能性が出てくる。これらの観点から本発明に於ける感光性樹脂組成物中の有機微粒子量は、親水性樹脂、架橋剤、有機微粒子および光吸収剤の合計100重量部に対して、固形分として好ましくは15〜80重量部、更に好ましくは25〜70重量部の範囲にあることが好ましい。本発明の感光性樹脂組成物における光吸収剤の配合比は、親水性樹脂、架橋剤、有機微粒子および光吸収剤の合計100重量部に対して、光吸収剤2〜40重量部であることが好ましく、2〜30重量部であることがより好ましい。上記範囲にあることで版の耐刷性や親水性に悪影響を及ぼすことが少なく、効果が十分期待することができる。   The amount of organic fine particles in the photosensitive resin composition is preferably large from the viewpoint of making the light irradiated portion ink-philic. However, if the amount is too large, the hydrophilicity of the plate is lowered, and there is a possibility of causing background staining in printing. Come out. From these viewpoints, the amount of the organic fine particles in the photosensitive resin composition in the present invention is preferably 15 to 15 in terms of solid content with respect to a total of 100 parts by weight of the hydrophilic resin, the crosslinking agent, the organic fine particles and the light absorbent. It is preferably 80 parts by weight, more preferably 25 to 70 parts by weight. The mixing ratio of the light absorber in the photosensitive resin composition of the present invention is 2 to 40 parts by weight of the light absorber with respect to 100 parts by weight of the total of the hydrophilic resin, the crosslinking agent, the organic fine particles, and the light absorber. Is more preferable, and it is more preferable that it is 2-30 weight part. By being in the above range, the printing durability and hydrophilicity of the plate are hardly adversely affected, and the effect can be sufficiently expected.

[下地層]
本発明の平版印刷原版においては、支持体に直接感光層を設置する以外に、支持体と感光層の密着性を高めるため下地層を設置することも可能である。この時に用いる下地層の組成は特に制限はないが、ポリエステル系、ウレタン系、アクリル系、酢酸ビニル系、合成ゴム系、エチレン系等の疎水性ポリマーを使用することが好ましい。
[Underlayer]
In the lithographic printing original plate according to the present invention, in addition to providing the photosensitive layer directly on the support, it is also possible to provide an underlayer for improving the adhesion between the support and the photosensitive layer. The composition of the undercoat layer used at this time is not particularly limited, but it is preferable to use a hydrophobic polymer such as polyester, urethane, acrylic, vinyl acetate, synthetic rubber, or ethylene.

これら下地層に用いられる疎水性ポリマーは、水溶液又は有機溶媒に溶解した均一溶液やエマルジョンの形態とし、これらを成膜することで下地層とすることができる。特に好ましいのはポリマーエマルジョン型である。この疎水性ポリマーエマルジョンは、強制乳化型でもよいし、自己乳化型でもよい。エマルジョンを用いた場合、下地層の表面凹凸を防ぐため、ポリマーの平均粒径は5〜500nm程度、より好ましくは10〜300nmが好ましい。   The hydrophobic polymer used in these underlayers can be in the form of a uniform solution or emulsion dissolved in an aqueous solution or an organic solvent, and these can be formed into a base layer by forming a film. Particularly preferred is a polymer emulsion type. This hydrophobic polymer emulsion may be a forced emulsification type or a self-emulsification type. When an emulsion is used, the average particle size of the polymer is preferably about 5 to 500 nm, more preferably 10 to 300 nm in order to prevent surface irregularities of the underlayer.

このエマルジョンは塗布後、分散溶媒が蒸発すると融着して造膜する特性を有することが好ましい。製造上問題がなければ造膜温度は特に限定されず、何℃でもよい。下地層には1種類または2種類以上の前記疎水性ポリマーを混合して使用できる。さらに、架橋剤を加えて強靭な膜を作ることも可能である。   This emulsion preferably has a property of forming a film by fusion when the dispersion solvent evaporates after coating. If there is no problem in production, the film forming temperature is not particularly limited and may be any temperature. One or two or more kinds of the hydrophobic polymers can be mixed and used for the underlayer. Furthermore, a tough film can be formed by adding a crosslinking agent.

この下地層を塗布するときには例えば、バーコーター、ロールコータ、ブレードコータ、グラビアコータ、カーテンフローコータ、ダイコータ、ディップコータやスプレー法等を用いれば良い。下地層の膜厚は特に制限はないが、通常0.1〜10μm程度、好ましくは0.2〜5μmである。   When this underlayer is applied, for example, a bar coater, roll coater, blade coater, gravure coater, curtain flow coater, die coater, dip coater, spray method or the like may be used. Although there is no restriction | limiting in particular in the film thickness of a base layer, Usually, about 0.1-10 micrometers, Preferably it is 0.2-5 micrometers.

下地層塗布後、そのまま感光性樹脂組成物を塗布してもよいし、加熱または送風乾燥してから使用してもよい。このように設けた下地層によって、支持体/下地層界面、下地層/感光層界面の密着性が上がるため耐刷性がよく、湿し水が供給されても界面での剥離は起きない。   After application of the underlayer, the photosensitive resin composition may be applied as it is, or may be used after being heated or blown and dried. The base layer thus provided improves the adhesion between the support / underlying layer interface and the underlayer / photosensitive layer interface, so that the printing durability is good, and even when dampening water is supplied, peeling at the interface does not occur.

[支持体]
本発明の平版印刷用原版及び平版印刷用版は、支持体上に下地層を介して/または直接感光層を設けるものであるが、この際用いられる支持体としては特に制限はなく、公知のものが使用可能である。支持体の具体例としては、アルミ板、鋼板、ステンレス板、銅板等の金属板やポリエステル、ナイロン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ABS樹脂等のプラスチックフィルムや紙、プラスチックフィルムラミネート紙等が挙げられる。これらの支持体の厚さは特に制限はないが、通常100〜400μm程度である。又、これらの支持体には下地層との密着性の改良等のために酸化処理、クロメート処理、サンドブラスト処理、コロナ放電処理等の表面処理を施してもよい。
[Support]
The lithographic printing original plate and the lithographic printing plate of the present invention are those in which a photosensitive layer is directly provided on a support via an underlayer, but the support used in this case is not particularly limited, and is publicly known. Things can be used. Specific examples of the support include metal plates such as aluminum plates, steel plates, stainless steel plates, and copper plates, plastic films and papers such as polyester, nylon, polyethylene, polypropylene, polycarbonate, and ABS resin, and plastic film laminated paper. The thickness of these supports is not particularly limited, but is usually about 100 to 400 μm. Further, these supports may be subjected to surface treatment such as oxidation treatment, chromate treatment, sand blast treatment, corona discharge treatment, etc. in order to improve adhesion to the underlayer.

本発明において感光層は、親水性樹脂、架橋剤、有機微粒子および光吸収剤を含有する感光性樹脂組成物が含まれる溶液を基板に塗布し、乾燥、硬化すればよい。塗布する方法としては塗布する溶液の粘度や塗布速度等によって異なるが、通常例えば、ロールコーター、ブレードコーター、グラビアコーター、カーテンフローコーター、ダイコーターやスプレー法等を用いれば良い。塗布溶液を塗布した後、加熱して乾燥及び親水性樹脂の架橋を行う。加熱温度は通常50〜200℃程度である。感光層の膜厚は特に制限はないが、通常0.5〜10μm程度が好ましい。   In the present invention, the photosensitive layer may be formed by applying a solution containing a photosensitive resin composition containing a hydrophilic resin, a crosslinking agent, organic fine particles, and a light absorber to a substrate, and drying and curing. The application method varies depending on the viscosity of the solution to be applied, the application speed, and the like. Usually, for example, a roll coater, a blade coater, a gravure coater, a curtain flow coater, a die coater, or a spray method may be used. After coating the coating solution, it is heated to dry and crosslink the hydrophilic resin. The heating temperature is usually about 50 to 200 ° C. The film thickness of the photosensitive layer is not particularly limited, but is usually preferably about 0.5 to 10 μm.

本発明の印刷用原版に於いては、親水性樹脂からなる感光層を形成した後、カレンダー加工したり、又該感光層を保護するために感光層の上にフィルムを積層しても良い。   In the printing original plate of the present invention, after forming a photosensitive layer made of a hydrophilic resin, calendering may be performed, or a film may be laminated on the photosensitive layer in order to protect the photosensitive layer.

本発明の平版印刷用原版は光吸収剤の吸収波長域の光、例えば750〜1100nmの領域の光を照射すると、光吸収剤が該光を吸収して発熱する。この発熱により感光層の光照射部は、有機微粒子が熱融着して親水性が失われ親インク化する。こうして得られるものが平版印刷用版である。この際、光の照射量を大きくし過ぎたり、又光吸収剤を多量に添加したりすると感光層が分解、燃焼等によって除去、融除されてしまい、照射部の周辺に分解物が飛散するので、このようなことは避けなければならない。   When the lithographic printing original plate of the present invention is irradiated with light in the absorption wavelength region of the light absorber, for example, light in the region of 750 to 1100 nm, the light absorber absorbs the light and generates heat. Due to this heat generation, the organic fine particles are thermally fused in the light irradiation part of the photosensitive layer, and the hydrophilicity is lost and the ink becomes an ink-philic ink. What is obtained in this way is a planographic printing plate. At this time, if the amount of light irradiation is excessively increased or a light absorber is added in a large amount, the photosensitive layer is removed and ablated by decomposition, combustion, etc., and the decomposed material is scattered around the irradiated portion. So this must be avoided.

このように本発明の平版印刷用原版は光を照射した部分の感光層の親水性が親インク性に特性が変化し、現像や拭き取り操作をしなくても光の照射部にはインクが付着し、印刷が可能となる。   As described above, in the lithographic printing original plate according to the present invention, the hydrophilicity of the photosensitive layer in the portion irradiated with light changes to the ink-philic property, and the ink adheres to the light irradiated portion without performing development or wiping operation. And printing becomes possible.

本発明における平版印刷用原版の光の照射に用いられる光の波長は特に限定はなく、光吸収剤の吸収波長域に合致しする光を用いればよい。照射に際しては照射速度の点から収束光を高速で走査するのが好ましく、使用し易く、且つ高出力の光源が適しており、この点から照射する光としてはレーザー光、特に750〜1100nmの波長域の発振波長を有するレーザーの光が好ましく、例えば830nmの高出力半導体レーザーや1064nmのYAGレーザーが用いられる。これらのレーザーを搭載した露光機は所謂サーマル用プレートセッター(露光機)として既に市場に供されている。   The wavelength of the light used for light irradiation of the lithographic printing original plate in the present invention is not particularly limited, and light that matches the absorption wavelength region of the light absorbent may be used. At the time of irradiation, it is preferable to scan the convergent light at a high speed from the point of irradiation speed, and it is easy to use and suitable for a high-output light source. Laser light having an oscillation wavelength in the range is preferable, and for example, a high-power semiconductor laser of 830 nm or a YAG laser of 1064 nm is used. Exposure machines equipped with these lasers are already on the market as so-called thermal plate setters (exposure machines).

以下に実施例、比較例により本発明を具体的に説明する。また、各表中のデータの測定法及び判定法は次の通りである。
(水酸基価の測定)
本発明における有機微粒子の水酸基価の測定は、下記の酸無水物による逆滴定により、行った。樹脂2gに、別途調製したフタル化試薬(ピリジン500cc/フタル酸70g/イミダゾール10gの割合で調製)5ccを加え、溶解させた後、100℃で1時間静置させる。その後、該樹脂溶液に水1cc、テトラヒドロフラン70cc、フェノールフタレイン/エタノール溶液を数滴加え、0.4規定NaOH水溶液で滴定を行った。試料溶液の色が無色から紫色に着色した点を終点とし、この際の滴定量と試料質量から水酸基価(KOHmg/g)を算出した。
The present invention will be specifically described below with reference to examples and comparative examples. Moreover, the measurement method and determination method of the data in each table are as follows.
(Measurement of hydroxyl value)
The hydroxyl value of the organic fine particles in the present invention was measured by back titration with the following acid anhydride. To 2 g of resin, 5 cc of a separately prepared phthalating reagent (prepared at a ratio of 500 cc of pyridine / 70 g of phthalic acid / 10 g of imidazole) is added and dissolved, and then allowed to stand at 100 ° C. for 1 hour. Thereafter, 1 cc of water, 70 cc of tetrahydrofuran and several drops of phenolphthalein / ethanol solution were added to the resin solution, and titration was performed with a 0.4 N NaOH aqueous solution. The point at which the color of the sample solution colored from colorless to purple was used as the end point, and the hydroxyl value (KOHmg / g) was calculated from the titration amount and the sample mass at this time.

(有機微粒子の粒径)
本発明では動的光散乱法を原理とするレーザー粒径解析システム(LPA−3000/3100:大塚電子株式会社製)での散乱強度分布(g(GAMMA))から求められた平均粒子径値(φ)を平均粒径とした。
(Particle size of organic fine particles)
In the present invention, an average particle diameter value (g (GAMMA)) obtained from a scattering intensity distribution (g (GAMMA)) in a laser particle size analysis system (LPA-3000 / 3100: manufactured by Otsuka Electronics Co., Ltd.) based on the dynamic light scattering method. φ) was defined as the average particle size.

(版強度測定)
本発明における版強度は、学振型摩擦試験機II型(テスター産業株式会社製)に500gの負荷をかけ、BEMCOT(R) M-3(旭化成株式会社製)を6枚重ねて純水で湿らせたもので版表面を30回/分で磨耗し、版面に傷または削れが付き始める回数を目視によりカウントした。本発明では版面に傷または削れが付き始める回数を版強度の基準とした。従って、耐磨耗回数が多いほど強度が強い版となる。今回の測定では4000回を磨耗回数の上限とし、4000回磨耗しても版面に傷・削れが見られらなかった版を合格とした。
(Plate strength measurement)
In the present invention, the strength of the plate is 500 g on a Gakushin friction tester type II (manufactured by Tester Sangyo Co., Ltd.), and 6 sheets of BEMCOT (R) M-3 (manufactured by Asahi Kasei Co., Ltd.) are layered on pure water. The surface of the plate was abraded at 30 times / minute with a wet one, and the number of times the plate surface began to be scratched or scraped was visually counted. In the present invention, the number of times the plate surface starts to be scratched or scraped is defined as the plate strength standard. Therefore, the stronger the number of wear resistance, the stronger the plate. In this measurement, the upper limit of the number of wear was set to 4000 times, and a plate that was not scratched or scraped on the plate surface even after being worn 4000 times was accepted.

(印刷評価)
この描画した版をオフセット印刷機(小森コーポレーション製SPRINT21)にセットし、湿し水として(株)日研化学研究所のH液アストロマーク3の2%水溶液、インクとして東洋インキ製造(株)製のハイエコーTMSOYを使用して印刷を行った。本特許では270mJ/cmで露光した印刷版を用いて印刷評価を行い、1000枚印刷後に2%網点が再現されているものを感度合格とした。また、2万枚印刷後に50%網点濃度を測定し、ドットゲインが10%以上のものを耐刷性合格とした。これら網点濃度の測定はX‐Rite(R)528分光光度計(X‐Rite社製)を用いて行った。
(Print evaluation)
This drawn plate is set on an offset printing machine (SPRINT21 manufactured by Komori Corporation), 2% aqueous solution of H liquid astromark 3 of Nikken Chemical Research Co., Ltd. as dampening water, and manufactured by Toyo Ink Mfg. Co., Ltd. as ink. Printing was carried out using HiEcho TM SOY. In this patent, printing evaluation was performed using a printing plate exposed at 270 mJ / cm 2 , and a film with 2% halftone dots reproduced after printing 1000 sheets was regarded as a passing sensitivity. Further, after printing 20,000 sheets, a 50% halftone dot density was measured, and a dot gain of 10% or more was regarded as passing printing durability. These halftone dot concentrations were measured using an X-Rite (R) 528 spectrophotometer (manufactured by X-Rite).

(疎水性樹脂(P−1)の合成)
3リットルの4口フラスコに、還流冷却器、水分離装置、窒素ガス導入管、温度計及び攪拌装置を取り付け、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド付加物(三井化学(株)製、ポリオールTMKB300)40.6部、トリメチロールプロパン10.2部、イソフタル酸44.4部、ステアリン酸4.8部を仕込み、フラスコ内に窒素を導入しながら、180〜240℃で脱水縮合を行った。反応生成物の酸価が所定の値に達したところで反応生成物をフラスコより抜きだし、冷却・粉砕して、疎水性樹脂(P−1)を得た。得られた疎水性樹脂の水酸基価は55.3であった。
(Synthesis of hydrophobic resin (P-1))
A 3 liter four-necked flask is equipped with a reflux condenser, a water separator, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer, and a stirrer, and a bisphenol A / propylene oxide adduct (polyol TM KB300, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) 40. 6 parts, 10.2 parts of trimethylolpropane, 44.4 parts of isophthalic acid, and 4.8 parts of stearic acid were charged, and dehydration condensation was performed at 180 to 240 ° C. while introducing nitrogen into the flask. When the acid value of the reaction product reached a predetermined value, the reaction product was extracted from the flask, cooled and pulverized to obtain a hydrophobic resin (P-1). The obtained hydrophobic resin had a hydroxyl value of 55.3.

(有機微粒子(E−1)の調製)
温度計、撹拌羽、コンデンサー、滴下漏斗を備えた四つ口のセパラブルフラスコに前述の方法で合成された疎水性樹脂(P−1)50g、ラウリル硫酸ナトリウム((株)花王製 エマールTM10)2.5g、メチルエチルケトン25g、テトラヒドロフラン12.5gを仕込み75℃にて溶解し、さらにホモミキサーにて混合分散した後、ポリエステル樹脂の酸価と当量になるように1Nアンモニア水溶液を加え、75℃を維持し30分間撹拌した後、70℃のイオン交換水200gを加え、乳化・分散化した。さらに蒸留用フラスコにて留分温度が100℃になるまで蒸留し、有機微粒子(E−1)を得た。得られた有機微粒子の平均粒径は80nmであった。
(Preparation of organic fine particles (E-1))
Hydrophobic resin (P-1) 50 g synthesized in the above-mentioned method in a four-necked separable flask equipped with a thermometer, stirring blade, condenser, and dropping funnel, sodium lauryl sulfate (Emar TM 10 manufactured by Kao Corporation) ) 2.5 g, methyl ethyl ketone 25 g and tetrahydrofuran 12.5 g were charged and dissolved at 75 ° C., and further mixed and dispersed with a homomixer. Then, 1N ammonia aqueous solution was added so as to be equivalent to the acid value of the polyester resin. After stirring for 30 minutes, 200 g of ion exchange water at 70 ° C. was added to emulsify and disperse. Furthermore, it distilled until the fraction temperature became 100 degreeC with the flask for distillation, and obtained organic fine particles (E-1). The average particle size of the obtained organic fine particles was 80 nm.

(疎水性樹脂(P−2)の合成)
3リットルの4口フラスコに、還流冷却器、水分離装置、窒素ガス導入管、温度計及び攪拌装置を取り付け、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド付加物(三井化学(株)製、ポリオールTMKB300)29部、ジエチレングリコール23部、トリメチロールプロパン2部、イソフタル酸42.5部を仕込み、フラスコ内に窒素を導入しながら、180〜240℃で脱水縮合を行った。反応生成物の酸価が所定の値に達したところで反応生成物をフラスコより抜きだし、冷却・粉砕して、疎水性樹脂(P−2)を得た。得られた疎水性樹脂の水酸基価は76.5であった。
(Synthesis of hydrophobic resin (P-2))
Attach a reflux condenser, water separator, nitrogen gas inlet tube, thermometer, and stirrer to a 3 liter 4-neck flask, and 29 parts of bisphenol A / propylene oxide adduct (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Polyol TM KB300) Then, 23 parts of diethylene glycol, 2 parts of trimethylolpropane and 42.5 parts of isophthalic acid were charged, and dehydration condensation was performed at 180 to 240 ° C. while introducing nitrogen into the flask. When the acid value of the reaction product reached a predetermined value, the reaction product was extracted from the flask, cooled and pulverized to obtain a hydrophobic resin (P-2). The obtained hydrophobic resin had a hydroxyl value of 76.5.

(有機微粒子(E−2)の調製)
疎水性樹脂をP−2に変更して使用したこと以外はE−1の調製と同様の操作により有機微粒子(E−2)を調製した。E−2の平均粒径は120nmであった。
(Preparation of organic fine particles (E-2))
Organic fine particles (E-2) were prepared by the same operation as the preparation of E-1, except that the hydrophobic resin was changed to P-2. The average particle size of E-2 was 120 nm.

(疎水性樹脂(P−3)の合成)
3リットルの4口フラスコに還流冷却器、水分離装置、窒素ガス導入管、温度計及び攪拌装置を取り付け、フレーク状のリサイクルPET(重量平均分子量55000)をPET中のエチレングリコールユニット単位で70部、ネオペンチルグリコール30.0部、イソフタル酸23.8部、安息香酸8.0部を仕込みフラスコ内に窒素を導入しながら240℃で脱水縮重合を行った。反応生成物の酸価が所定値に達したところでフラスコより抜き出し冷却、粉砕して疎水性樹脂(P−3)を得た。得られた疎水性樹脂の水酸基価は4.8(KOHmg/g)であった。
(Synthesis of hydrophobic resin (P-3))
Attach a reflux condenser, water separator, nitrogen gas inlet tube, thermometer, and stirrer to a 3 liter 4-neck flask, and 70 parts of flake-shaped recycled PET (weight average molecular weight 55000) in units of ethylene glycol units in the PET. Then, 30.0 parts of neopentyl glycol, 23.8 parts of isophthalic acid, and 8.0 parts of benzoic acid were charged, and dehydration condensation polymerization was performed at 240 ° C. while introducing nitrogen into the flask. When the acid value of the reaction product reached a predetermined value, it was extracted from the flask, cooled and pulverized to obtain a hydrophobic resin (P-3). The obtained hydrophobic resin had a hydroxyl value of 4.8 (KOH mg / g).

(有機微粒子(E−3)の調製)
疎水性樹脂をP−3に変更して使用したこと以外はE−1の調製と同様の操作により有機微粒子(E−3)を調製した。E−3の平均粒径は142nmであった。
(Preparation of organic fine particles (E-3))
Organic fine particles (E-3) were prepared in the same manner as in E-1, except that the hydrophobic resin was changed to P-3. The average particle size of E-3 was 142 nm.

(疎水性樹脂(P−4)の合成)
3リットルの4口フラスコに、還流冷却器、水分離装置、窒素ガス導入管、温度計及び攪拌装置を取り付け、ビスフェノールA・プロピレンオキサイド付加物(三井化学(株)製、ポリオールTMKB300)100部、イソフタル酸120部を仕込み、フラスコ内に窒素を導入しながら、180〜240℃で脱水縮合を行った。反応生成物の酸価が所定の値に達したところで反応生成物をフラスコより抜きだし、冷却・粉砕して、疎水性樹脂(P−6)を得た。得られた疎水性樹脂の水酸基価は0.4であった。
(Synthesis of hydrophobic resin (P-4))
A reflux condenser, a water separator, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a stirrer were attached to a 3 liter four-necked flask, and 100 parts of bisphenol A / propylene oxide adduct (manufactured by Mitsui Chemicals, Inc., Polyol TM KB300) Then, 120 parts of isophthalic acid was charged, and dehydration condensation was performed at 180 to 240 ° C. while introducing nitrogen into the flask. When the acid value of the reaction product reached a predetermined value, the reaction product was extracted from the flask, cooled and pulverized to obtain a hydrophobic resin (P-6). The resulting hydrophobic resin had a hydroxyl value of 0.4.

(有機微粒子(E−4)の調製)
疎水性樹脂をP−4に変更して使用したこと以外はE−1の調製と同様の操作により有機微粒子(E−4)を調製した。E−4の平均粒径は40nmであった。
(Preparation of organic fine particles (E-4))
Organic fine particles (E-4) were prepared in the same manner as in E-1, except that the hydrophobic resin was changed to P-4. The average particle size of E-4 was 40 nm.

(疎水性樹脂(P−5)の合成)
3リットルの4口フラスコに還流冷却器、水分離装置、窒素ガス導入管、温度計及び攪拌装置を取り付け、フレーク状のリサイクルPET(重量平均分子量55000)をPET中のエチレングリコールユニット単位で64.4部、ネオペンペンチルグリコール27.6部、トリメチロールプロパン8部、テレフタル酸15部、アジピン酸6部を仕込みフラスコ内に窒素を導入しながら240℃で脱水縮重合を行った。反応生成物の酸価が所定値に達したところでフラスコより抜き出し冷却、粉砕して疎水性樹脂(P−5)を得た。得られた疎水性樹脂の水酸基価は82.7であった。
(Synthesis of hydrophobic resin (P-5))
A reflux condenser, a water separator, a nitrogen gas inlet tube, a thermometer and a stirrer were attached to a 3 liter four-necked flask, and flaky recycled PET (weight average molecular weight 55000) was measured in units of ethylene glycol units in the PET. 4 parts, 27.6 parts of neopentyl glycol, 8 parts of trimethylolpropane, 15 parts of terephthalic acid and 6 parts of adipic acid were charged and dehydration condensation polymerization was performed at 240 ° C. while introducing nitrogen into the flask. When the acid value of the reaction product reached a predetermined value, it was extracted from the flask, cooled and pulverized to obtain a hydrophobic resin (P-5). The obtained hydrophobic resin had a hydroxyl value of 82.7.

(有機微粒子(E−5)の調製)
疏水性樹脂をP−5に変更して使用したこと以外はE−1の調製と同様の操作により有機微粒子(E−5)を調製した。E−5の平均粒径は110nmであった。
(Preparation of organic fine particles (E-5))
Organic fine particles (E-5) were prepared in the same manner as in E-1, except that the hydrophobic resin was changed to P-5. The average particle size of E-5 was 110 nm.

実施例1
厚さ0.3mmのアルミニウム板に、下地層用樹脂液(三井化学(株)製 オレスターTMUD350、固形分40重量%)をワイヤーバーを用いて塗布した後、150℃1分間乾燥し、5μmの下地層を成膜した。上記方法にて作成した下地層の上に、下記組成からなる感光性樹脂組成物の水溶液をワイヤーバーを用いて塗布した後、150℃で20分間乾燥し、2μmの膜厚の感光層を成膜して平版印刷用原版を作成した。なお、以下に示す「部」はそれぞれの樹脂または化合物の、固形分についての重量部を示す。
Example 1
After applying a resin solution for the underlayer (Orestar TM UD350, manufactured by Mitsui Chemicals Co., Ltd., 40 wt% solid content) to a 0.3 mm thick aluminum plate using a wire bar, it was dried at 150 ° C. for 1 minute, A 5 μm underlayer was formed. An aqueous solution of a photosensitive resin composition having the following composition was applied onto the underlayer prepared by the above method using a wire bar, and then dried at 150 ° C. for 20 minutes to form a photosensitive layer having a thickness of 2 μm. A master for lithographic printing was prepared. In addition, "part" shown below shows the weight part about solid content of each resin or compound.

親水性樹脂:ポリアクリルアミド樹脂(三井化学(株)製 ホープロンTMH520B)40部
疎水性微粒子:有機微粒子(E−1) 35部
架橋剤:メチル化メラミン樹脂(日本サイテックインダストリーズ(株)製 サイメルTM385) 25部
光吸収剤:シアニン色素(メタノール溶液中でのλmax 784nm, εmax 2.43×10Lmol−1cm−1) 15部
界面活性剤:アニオン性界面活性剤(第一工業製薬(株)製ネオコールTMYSK)5部
この版に波長830nmの半導体レーザー光を270mJ/cm2の照射エネルギー密度となるように集光しながら走査照射して、200線/インチの画像情報の描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、4000回磨耗しても版面に傷および削れは検出されなかった。また、1000枚印刷後の印刷物には2%網点が再現され、2万枚印刷後の50%網点部におけるドットゲインは14%であった。
Hydrophilic resin: Polyacrylamide resin (Hopron TM H520B, manufactured by Mitsui Chemicals, Inc.) 40 parts Hydrophobic fine particles: Organic fine particles (E-1) 35 parts Crosslinker: Methylated melamine resin (Nippon Cytec Industries, Inc., Cymel TM 385) 25 parts Light absorber: Cyanine dye (λmax 784 nm in methanol solution, εmax 2.43 × 10 5 Lmol −1 cm −1 ) 15 parts Surfactant: Anionic surfactant (Daiichi Kogyo Seiyaku ( Co., Ltd. Neocor TM YSK) 5 parts This plate is irradiated with scanning laser light while condensing a semiconductor laser beam having a wavelength of 830 nm to an irradiation energy density of 270 mJ / cm 2 to draw image information of 200 lines / inch. A printing plate was prepared. When the strength was measured with a friction tester, scratches and scrapes were not detected on the plate surface even after abrasion 4000 times. In addition, 2% halftone dots were reproduced on the printed material after printing 1000 sheets, and the dot gain at the 50% halftone area after printing 20,000 sheets was 14%.

実施例2
実施例1の有機微粒子をE−2に変更して使用したこと以外は実施例1と同様の組成で感光性樹脂組成物水溶液を調製し、印刷原版を作成し、描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、4000回磨耗しても版面に傷および削れは検出されなかった。また、1000枚印刷後には2%網点が再現され、2万枚印刷後の50%網点部分におけるドットゲインは11%であった。
Example 2
A photosensitive resin composition aqueous solution was prepared with the same composition as in Example 1 except that the organic fine particles of Example 1 were changed to E-2, and a printing original plate was prepared, drawn, and the printing plate was prepared. Produced. When the strength was measured with a friction tester, scratches and scrapes were not detected on the plate surface even after abrasion 4000 times. In addition, 2% halftone dots were reproduced after printing 1000 sheets, and the dot gain in the 50% halftone area after printing 20,000 sheets was 11%.

実施例3
実施例1の有機微粒子をE−3に変更して使用したこと以外は実施例1と同様の組成で感光性樹脂組成物水溶液を調製し、印刷原版を作成し、描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、4000回磨耗しても版面に傷および削れは検出されなかった。また、1000枚印刷後には2%網点が再現され、2万枚印刷後の50%網点部分におけるドットゲインは12%であった。
Example 3
A photosensitive resin composition aqueous solution was prepared with the same composition as in Example 1 except that the organic fine particles of Example 1 were changed to E-3, and a printing original plate was prepared, drawn, and the printing plate was prepared. Produced. When the strength was measured with a friction tester, scratches and scrapes were not detected on the plate surface even after abrasion 4000 times. Further, 2% halftone dots were reproduced after printing 1000 sheets, and the dot gain at the 50% halftone portions after printing 20,000 sheets was 12%.

実施例4
実施例1の有機微粒子をミストパール(R)A−203(荒川化学工業(株)製;水酸基価34.8)に変更して使用したこと以外は実施例1と同様の組成で感光性樹脂組成水溶液を調整し、印刷原版を作製し、描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、4000回磨耗しても版面に傷および削れは検出されなかった。また、1000枚印刷後には2%網点が再現され、2万枚印刷後の50%網点部分におけるドットゲインは10%であった。
Example 4
A photosensitive resin having the same composition as that of Example 1 except that the organic fine particles of Example 1 were changed to Mistpearl (R) A-203 (Arakawa Chemical Industries, Ltd .; hydroxyl value 34.8). A composition aqueous solution was prepared, a printing original plate was prepared, drawn, and a printing plate was prepared. When the strength was measured with a friction tester, scratches and scrapes were not detected on the plate surface even after abrasion 4000 times. Further, 2% halftone dots were reproduced after printing 1000 sheets, and the dot gain at the 50% halftone portions after printing 20,000 sheets was 10%.

比較例1
実施例1の有機微粒子をE−4に変更して使用したこと以外は実施例1と同様の組成で感光性樹脂組成物水溶液を調製し、印刷原版を作成し、描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、約100回磨耗した時点で版面の削れが始まった。また、1000枚印刷後に2%網点は再現されたものの、2万枚印刷後の50%網点部分におけるドットゲインは3%であり耐刷性は不十分であった。
Comparative Example 1
A photosensitive resin composition aqueous solution is prepared with the same composition as in Example 1 except that the organic fine particles of Example 1 are changed to E-4, and a printing original plate is prepared, drawn, and the printing plate is prepared. Produced. When the strength was measured with a friction tester, the plate surface started to be scraped when it was worn about 100 times. Further, although the 2% halftone dot was reproduced after printing 1000 sheets, the dot gain at the 50% halftone portion after printing 20,000 sheets was 3%, and the printing durability was insufficient.

比較例2
実施例1の有機微粒子をE−5に変更して使用したこと以外は実施例1と同様の組成で感光性樹脂組成物水溶液を調製し、印刷原版を作成し、描画を行い、印刷版を作製した。耐摩擦試験機で強度を測定したところ、4000回磨耗しても版面に傷および削れは検出されなかった。また、印刷評価では感度不足により1000枚印刷後に2%網点は再現されなかった。そこで照射するレーザーのエネルギーを上げて同様の印刷評価を行ったところ、400mJ/cm‐2まで照射エネルギーを上げた段階でようやく2%網点が再現された。また、印刷初期からドットゲインが10%を下回り、2万枚印刷後の50%網点部分におけるドットゲインは−8%であり耐刷性は不十分であった。
Comparative Example 2
A photosensitive resin composition aqueous solution was prepared with the same composition as in Example 1 except that the organic fine particles of Example 1 were changed to E-5, and a printing original plate was prepared, drawn, and a printing plate was prepared. Produced. When the strength was measured with a friction tester, scratches and scrapes were not detected on the plate surface even after abrasion 4000 times. In the printing evaluation, 2% halftone dots were not reproduced after printing 1000 sheets due to insufficient sensitivity. Then, when the same printing evaluation was performed by increasing the energy of the irradiated laser, 2% halftone dots were finally reproduced when the irradiation energy was increased to 400 mJ / cm −2 . Further, the dot gain was less than 10% from the beginning of printing, and the dot gain at the 50% halftone portion after printing 20,000 sheets was -8%, and the printing durability was insufficient.

Figure 2007125835
Figure 2007125835

近赤外領域の光に感光し、版に直接レーザー光で描画でき、且つ現像や拭き取り操作が不要で、さらに耐刷性に優れた平版印刷用原版およびその原版から得られる平版印刷用版を提供する。   A lithographic printing plate that is sensitive to light in the near-infrared region, can be directly drawn on the plate with a laser beam, does not require development or wiping operations, and has excellent printing durability, and a lithographic printing plate obtained from the original plate provide.

Claims (7)

支持体上に下地層を介して又は直接形成された感光層を有する平版印刷用原版において、感光層を形成する感光性樹脂組成物中に少なくとも水酸基価(KOHmg/g)が1以上80未満である有機微粒子および親水性樹脂を含有すること特徴とする平版印刷用原版。 In a lithographic printing plate precursor having a photosensitive layer formed directly on the support through an undercoat layer, the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer has at least a hydroxyl value (KOHmg / g) of 1 or more and less than 80. A lithographic printing plate precursor comprising certain organic fine particles and a hydrophilic resin. 感光層中の親水性樹脂が、下記一般式(1)(化1)及び/または(2)(化2)で示されるN−アルキルまたはN−アルキレン置換(メタ)アクリルアミド系化合物を用いて反応して得られる親水性樹脂を含むものである、請求項1記載の平版印刷用原版。
Figure 2007125835
(式中Rは、水素原子またはメチル基、R、Rは、水素原子、低級アルキルまたは低級アルコキシ基を表す。)
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子またはメチル基、Aは、(CH2)n(但し、nは4〜6)または(CH2O(CH2を表す。)
The hydrophilic resin in the photosensitive layer reacts with an N-alkyl or N-alkylene-substituted (meth) acrylamide compound represented by the following general formula (1) (Chemical Formula 1) and / or (2) (Chemical Formula 2) The lithographic printing original plate according to claim 1, which comprises a hydrophilic resin obtained in this manner.
Figure 2007125835
(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, and R 2 and R 3 represent a hydrogen atom, a lower alkyl or a lower alkoxy group.)
Figure 2007125835

(Wherein R 1 represents a hydrogen atom or a methyl group, A represents (CH 2 ) n (where n is 4 to 6) or (CH 2 ) 2 O (CH 2 ) 2 ).
親水性樹脂が、更に下記一般式(3)(化3)で示される化合物および/またはそれらの塩類から選ばれる1種以上の化合物から得られるものである請求項1〜2記載の平版印刷用原版。
Figure 2007125835

(式中Rは、水素原子または低級アルキル基、nは1〜8の整数を示す。)
The lithographic printing material according to claim 1 or 2, wherein the hydrophilic resin is obtained from one or more compounds selected from compounds represented by the following general formula (3) (chemical formula 3) and / or salts thereof: Original edition.
Figure 2007125835

(In the formula, R represents a hydrogen atom or a lower alkyl group, and n represents an integer of 1 to 8.)
感光層を形成する感光性樹脂組成物中に水酸基と反応し得る架橋剤を含有することを特徴とする請求項1〜3記載の平版印刷用原版。 4. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer contains a crosslinking agent capable of reacting with a hydroxyl group. 感光層が親水性であり、感光層表面がレーザー光の照射により親水性から親油性に変化する性質を有するものである請求項1〜4記載の平版印刷用原版。 5. The lithographic printing plate precursor according to claim 1, wherein the photosensitive layer is hydrophilic and the surface of the photosensitive layer has a property of changing from hydrophilic to oleophilic upon irradiation with laser light. 感光層を形成する感光性樹脂組成物に、更に光吸収剤、界面活性剤を含有するものである請求項1〜5記載の平版印刷用原版。 The lithographic printing plate precursor according to any one of claims 1 to 5, wherein the photosensitive resin composition forming the photosensitive layer further contains a light absorber and a surfactant. 請求項1〜6記載の平版印刷用原版に光を照射して得られた平版印刷用版。 A lithographic printing plate obtained by irradiating light to the lithographic printing original plate according to claim 1.
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