JP2007123678A - Ceramic laminate electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Hidenori Katsumura
英則 勝村
Ryuichi Saito
隆一 齊藤
Shozo Fujii
昌三 藤井
Yasushi Fuwa
裕史 不破
Shinichi Endo
真一 遠藤
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Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a ceramic laminate electronic component and a manufacturing method thereof wherein its electric property is stable and highly reliable, and it has a higher Q-value than a conventional one, and further, its manufacturing cost is low, and especially, it is used in a high-frequency region. <P>SOLUTION: With respect to the structure of the ceramic laminate component wherein conductor layers and ceramic layers are laminated alternately, there are included conductors in its one or more portions, and the whole periphery of each conductor is covered with ceramic materials substantially same with each other. Each conductor has such a nearly trapezoidal sectional shape that the average length (average width) of its major and minor sides is not longer than 60 μm, the ratio of its minor side to its major side is not smaller than 0.7 and is smaller than 1.0, and further, its thickness is not smaller than 10 μm. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、携帯電話端末等のモバイル機器に用いられる高周波積層セラミック電子部品とその製造方法に関するものである。   The present invention relates to a high-frequency multilayer ceramic electronic component used in a mobile device such as a mobile phone terminal and a manufacturing method thereof.

以下、従来の高周波用積層セラミック電子部品およびその製造方法について説明する。従来の共振器等の高周波積層セラミック部品は、図9(a)(b)(c)に示すようなスクリーン印刷法が用いられ作製されている(例えば、特許文献1参照)。   Hereinafter, a conventional high frequency multilayer ceramic electronic component and a manufacturing method thereof will be described. Conventional high-frequency multilayer ceramic parts such as resonators are manufactured by using a screen printing method as shown in FIGS. 9A, 9B, and 9C (see, for example, Patent Document 1).

図9(a)のように、セラミックグリーンシート101上の所望の位置に、所望の導体パターン形成の開口部103を有するスクリーン版102を位置合わせする。銀などの導体ペースト104を、スクリーン版102の上に供給し、スキージー105を用いて矢印方向に加圧させながら動かす。これによって、導体ペースト104はスクリーン版の開口部103を通してセラミックグリーンシート101上に塗布され、乾燥することにより内部導体パターンが形成される。   As shown in FIG. 9A, a screen plate 102 having an opening 103 for forming a desired conductor pattern is aligned at a desired position on the ceramic green sheet 101. A conductive paste 104 such as silver is supplied onto the screen plate 102 and moved while being pressurized in the direction of the arrow using a squeegee 105. Thereby, the conductor paste 104 is applied onto the ceramic green sheet 101 through the opening 103 of the screen plate and dried to form an internal conductor pattern.

次に図9(b)のように、上面に内部導体パターン106が印刷されたセラミックグリーンシート101に他のセラミックグリーンシート107を積層し、これらシート同士を密着させるためにプレスを行う。次いで焼結処理を施す。図9(c)(d)は、このような方法で形成された従来の高周波積層セラミック部品の内部導体断面写真である。図9(c)(d)から明らかなように、内部導体パターン106の中央部は平坦であるが、側面端部108が鋭い先細りの形状となる。導体層を高周波電流が流れる場合、表皮効果により、導体層表面に高周波電流が集中する傾向がある。図9(c)(d)に示すような先端が尖った形状を有する導体層は、側面端部108に高周波電流が集中するため、導体層の電気抵抗が増大しQ値が低下する。特に電極幅が細くなると、端部108への電流集中の影響が相対的に高くなるためQ値の大きな低下を引き起こす。またスクリーン印刷法は、スクリーン版のメッシュ線径が細いものでも15μm程度であるため、60μm以下の微細な導体層を、確実に安定して形成するのは困難である。   Next, as shown in FIG. 9B, another ceramic green sheet 107 is laminated on the ceramic green sheet 101 having the inner conductor pattern 106 printed on the upper surface, and pressing is performed to bring these sheets into close contact with each other. Next, a sintering process is performed. FIGS. 9C and 9D are cross-sectional photographs of internal conductors of a conventional high-frequency multilayer ceramic component formed by such a method. As is clear from FIGS. 9C and 9D, the central portion of the inner conductor pattern 106 is flat, but the side end portion 108 has a sharp tapered shape. When a high-frequency current flows through the conductor layer, the high-frequency current tends to concentrate on the surface of the conductor layer due to the skin effect. In the conductor layer having a sharp pointed shape as shown in FIGS. 9C and 9D, the high-frequency current is concentrated on the side surface end portion 108, so that the electrical resistance of the conductor layer increases and the Q value decreases. In particular, when the electrode width is narrowed, the influence of current concentration on the end portion 108 becomes relatively high, so that the Q value is greatly reduced. Further, in the screen printing method, even if the screen plate has a thin mesh wire diameter of about 15 μm, it is difficult to reliably and stably form a fine conductor layer of 60 μm or less.

一方で上記問題点を解決するための方法として、凹版転写法を用いる技術が開示されている(例えば、特許文献2参照)。この方法によれば、幅の細い導体層を確実かつ安定に形成することができ、また導体の横断面形状が略台形形状で側面端部の先細りがなく、Q値の高い導体層が得られるとされている。図10にもとづいて本工法の手順を説明する。   On the other hand, as a method for solving the above problems, a technique using an intaglio transfer method is disclosed (for example, see Patent Document 2). According to this method, a narrow conductor layer can be formed reliably and stably, and the conductor cross-sectional shape is substantially trapezoidal, and there is no side end taper, and a conductor layer having a high Q value can be obtained. It is said that. The procedure of this construction method will be described based on FIG.

まず可とう性のある樹脂フィルム(ポリイミドなど)113を用意する。このフィルム表面にエキシマレーザ等によって導体層パターンに対応した溝114を形成し、この溝に導体ペースト115を充填する。溝への導体ペーストの充填方法としては、まずフィルム表面全面を導体ペーストによって覆い、セラミック製の堅いスキージによって、フィルム表面の余分なペーストを掻き取り、溝の部分のみペーストを残す方法が提案されている。   First, a flexible resin film (such as polyimide) 113 is prepared. A groove 114 corresponding to the conductor layer pattern is formed on the film surface by an excimer laser or the like, and the conductor paste 115 is filled in the groove. As a method for filling the groove with the conductive paste, firstly, the entire surface of the film is covered with a conductive paste, and a solid ceramic squeegee is used to scrape off the excess paste on the film surface, leaving only the groove in the paste. Yes.

次に絶縁基板111を用意する。111は焼結した誘電材料、磁性材料、およびこれらの焼結前のシート(グリーンシート)であることが開示されている。この絶縁基板の少なくとも片面に接着層としての樹脂層112を形成する。111がグリーンシートである場合は、グリーンシート中に樹脂成分が含まれているため、樹脂層112の形成を省略できるとしている。   Next, an insulating substrate 111 is prepared. It is disclosed that 111 is a sintered dielectric material, a magnetic material, and a sheet (green sheet) before sintering. A resin layer 112 as an adhesive layer is formed on at least one surface of the insulating substrate. When 111 is a green sheet, since the resin component is contained in the green sheet, the formation of the resin layer 112 can be omitted.

樹脂層112が形成された絶縁基板111に、溝114に導体ペースト115を充填した凹版樹脂フィルム113を所定の位置に貼り合わせ、加熱および加圧によって導体ペースト115を絶縁基板111へ転写し、樹脂フィルム113を剥離する。この基板を導体ペーストが緻密に焼結する温度で焼成すると、図10(g)に示したような基板表面に、導体の横断面形状が略台形形状で側面端部の先細りのない微細導体層117が形成される。   An intaglio resin film 113 in which the groove 114 is filled with the conductor paste 115 is bonded to a predetermined position on the insulating substrate 111 on which the resin layer 112 is formed, and the conductor paste 115 is transferred to the insulating substrate 111 by heating and pressurizing. The film 113 is peeled off. When this substrate is fired at a temperature at which the conductor paste is densely sintered, a fine conductor layer having a substantially trapezoidal cross-sectional shape of the conductor and having no side end taper is formed on the substrate surface as shown in FIG. 117 is formed.

この導体層の保護、マイグレーション防止、およびこの導体層の上部にさらに導体層を形成するために、例えば結晶化ガラスからなる絶縁ペースト118を導体層上に形成し、絶縁ペースト118が緻密化する温度で処理する。以上のプロセスにより図10(i)に示したような、絶縁基板111上に微細導体層117と、その表面を覆う絶縁層119で構成された基板が完成する。   In order to protect the conductor layer, prevent migration, and further form a conductor layer on the conductor layer, an insulating paste 118 made of, for example, crystallized glass is formed on the conductor layer, and the temperature at which the insulating paste 118 is densified. Process with. Through the above process, a substrate composed of the fine conductor layer 117 and the insulating layer 119 covering the surface thereof is completed on the insulating substrate 111 as shown in FIG.

導体層の上部に二層目の導体層を形成する場合には、図11(a)のように高さの高いビア導体120を凹版樹脂フィルムの溝を深くすることによって形成して絶縁層119を形成し、図11(b)のように絶縁層119からビア導体120が露出するまで研磨し、図11(c)のように引き出し導体121をスクリーン印刷法等によって形成する。
特開2000−156621号公報 特許第3039285号公報
When the second conductor layer is formed on the conductor layer, the via conductor 120 having a high height is formed by deepening the groove of the intaglio resin film as shown in FIG. Then, polishing is performed until the via conductor 120 is exposed from the insulating layer 119 as shown in FIG. 11B, and the lead conductor 121 is formed by a screen printing method or the like as shown in FIG. 11C.
JP 2000-156621 A Japanese Patent No. 3039285

前記凹版印刷工法は、横断面形状が略台形形状で側面端部の先細りがなく、また、電極幅、厚みのばらつきが小さく電気特性が安定した導体層を形成することができる優れた導体層形成工法であるが、発明者らの検討により以下のような課題が確認されている。   The intaglio printing method has an excellent conductor layer formation in which the cross-sectional shape is substantially trapezoidal and there is no taper of the side edge, and the conductor layer can be formed with a small variation in electrode width and thickness and stable electrical characteristics. Although it is a construction method, the following problems have been confirmed by the inventors' investigation.

まず導体層を焼成する工程において、接着層である樹脂層112が導体ペースト115が焼結する前に消失してしまうため、焼成後の導体層117は絶縁基板111上に歪んだ形状で形成される可能性があり、最悪の場合ショート不良またはオープン不良を引き起こす。   First, in the step of firing the conductor layer, the resin layer 112 as an adhesive layer disappears before the conductor paste 115 is sintered, so that the conductor layer 117 after firing is formed in a distorted shape on the insulating substrate 111. In the worst case, a short circuit failure or an open failure may occur.

また導体ペースト115を絶縁基板111に固着させるためには、導体ペースト115内にガラスなどを含有させる必要があるため、導体層の電気抵抗が増大し、Q値を低下させる。   Further, in order to fix the conductive paste 115 to the insulating substrate 111, it is necessary to contain glass or the like in the conductive paste 115, so that the electrical resistance of the conductive layer increases and the Q value decreases.

さらに絶縁基板111に歪みや変形などのダメージを与えないためには、絶縁層119の材料は、絶縁基板111よりも低い温度で緻密に焼結する材料を用いる必要があるため、現実的には絶縁基板111の材料と絶縁層119の材料は異なる材料を選択せざるを得ない。両材料の熱膨張係数を合致させ、絶縁基板に濡れ性の高い絶縁層材料を選択しないと、絶縁基板111と絶縁層119の界面における欠陥が発生する可能性があるが、そのような材料を選択するのは至難の業であり、絶縁基板111と絶縁層119の界面に欠陥が発生する要因を内在している。例えば小型で高性能の方向性結合器(カプラ)を作製しようとすると、導体層に導電率の良好な銀を用い、二本の導体層の間隔をより狭くする必要があるが、前記のように界面に欠陥が発生する要因が内在していると、界面の欠陥を介して銀のマイグレーションを引き起こす可能性があり、信頼性に不安がある。   Further, in order not to damage the insulating substrate 111 such as distortion or deformation, the material of the insulating layer 119 needs to be a material that is densely sintered at a lower temperature than the insulating substrate 111. A material different from the material of the insulating substrate 111 and the material of the insulating layer 119 must be selected. If the thermal expansion coefficients of both materials are matched and an insulating layer material with high wettability is not selected for the insulating substrate, defects at the interface between the insulating substrate 111 and the insulating layer 119 may occur. It is a difficult task to select, and there are inherent factors that cause defects at the interface between the insulating substrate 111 and the insulating layer 119. For example, in order to manufacture a small and high-performance directional coupler (coupler), it is necessary to use silver having good conductivity for the conductor layer and to narrow the distance between the two conductor layers. If there are inherent factors causing defects at the interface, silver migration may occur through the defects at the interface, and there is concern about reliability.

図11(c)のように、凹版印刷工法で形成した導体層と電気的に接合する第二の導体層を形成するためには、図11のような複雑なプロセスを経なければならず、特に高さの高いビア導体120を形成するためには、スキージで充填するだけでは不十分で、遠心力を作用させるなどの作業が必要であり、コストを高くする原因の一つとなっている。   As shown in FIG. 11C, in order to form the second conductor layer that is electrically joined to the conductor layer formed by the intaglio printing method, a complicated process as shown in FIG. In particular, in order to form the via conductor 120 having a high height, it is not sufficient to fill the via conductor 120 with a squeegee, and an operation such as applying a centrifugal force is required, which is one of the causes of increasing the cost.

また特に絶縁基板が焼結基板である場合、図10のプロセス(e)(f)の凹版樹脂フィルムに充填された導体ペーストを基板に転写する工程において、絶縁基板の反り、うねりによる基板の割れ、欠けを防止するため高い圧力を加えることができず、高温で長時間保持する必要がある。したがって使用するたびに凹版樹脂フィルムが伸び寸法精度が悪くなるため、凹版樹脂フィルムの寿命は短く、コストを高くする原因の一つとなっている。   In particular, when the insulating substrate is a sintered substrate, in the process of transferring the conductive paste filled in the intaglio resin film in the processes (e) and (f) of FIG. 10 to the substrate, the substrate is cracked due to warping or undulation of the insulating substrate. In order to prevent chipping, high pressure cannot be applied, and it is necessary to hold at high temperature for a long time. Therefore, the intaglio resin film stretches every time it is used, and the dimensional accuracy deteriorates. Therefore, the life of the intaglio resin film is short, which is one of the causes for increasing the cost.

そこで、本発明はかかる問題点に鑑みてなされたものであり、側面端部の先細りのない導体層が形成でき、電極幅、厚みのばらつきが小さく電気特性が安定しているという凹版印刷工法をさらに改良し、高信頼性、より高いQ値、かつ製造コストの安い特に高周波領域で用いられる積層セラミック電子部品とその製造方法を提供することを目的とするものである。   Therefore, the present invention has been made in view of such a problem, and an intaglio printing method in which a conductor layer without a taper at the side end can be formed, variation in electrode width and thickness is small, and electrical characteristics are stable. It is a further object of the present invention to provide a multilayer ceramic electronic component used in the high frequency region, which has high reliability, a higher Q value, and a low manufacturing cost, and a manufacturing method thereof.

上記目的を達成するため、本発明は以下の構成を有するものである。   In order to achieve the above object, the present invention has the following configuration.

導体層とセラミック層が交互に積層されたセラミック積層部品において、導体の横断面形状が略台形形状で、その台形形状の長辺と短辺の平均長さ(平均幅)が60μm以下、長辺と短辺の比が0.7以上1.0未満、厚みが10μm以上である導体を少なくとも一部に有し、前記導体の全周囲には本質的に同一のセラミック材料で覆われた積層セラミック電子部品であり、特に高周波におけるQ値が高く、信頼性に優れた積層セラミック電子部品を実現できるという作用効果+を有する。   In a ceramic laminated part in which conductor layers and ceramic layers are alternately laminated, the conductor has a substantially trapezoidal cross-sectional shape, and the average length (average width) of the long and short sides of the trapezoid is 60 μm or less, the long side And a short ceramic in which the ratio of the short side is 0.7 or more and less than 1.0 and the thickness is 10 μm or more at least in part, and the entire circumference of the conductor is covered with the essentially same ceramic material It is an electronic component, and particularly has an effect + that a multilayer ceramic electronic component having a high Q value at a high frequency and excellent in reliability can be realized.

また焼成後にセラミック層となる焼成前のセラミック原材料粉にバインダ樹脂と可塑剤を加えセラミックグリーンシートを形成する工程と、前記セラミックグリーンシートを複数枚積層し、セラミックグリーン焼成後にセラミック層となる焼成前のセラミック原材料粉にバインダ樹脂と可塑剤を加えセラミックグリーンシートを形成する工程と、前記セラミックグリーンシートを複数枚積層し、セラミックグリーン積層体を形成する工程と、可とう性を有する樹脂フィルムの表面に溝を形成する凹版フィルム製造工程と、前記凹版フィルムの溝に導電性ペーストを充填する充填工程と、前記充填された導電性ペースト中に含まれる溶剤を揮発させ乾燥する工程と、前記凹版フィルムと前記セラミックグリーンシート積層体を貼り合わせ、温度と圧力を作用させる転写工程と、前記凹版フィルムを前記セラミックグリーンシート積層体から剥離して前記導電性ペーストをセラミックグリーンシート積層体上に転写することにより導体パターンを形成するフィルム剥離工程と、セラミックグリーン積層体面上に形成された導体パターンを、セラミックグリーンシートと本質的に同一の材料のセラミックペーストによって覆う工程と、前記導体パターンが転写されたセラミックグリーン積層体を、所望の形状に複数分割する工程と、前記分割されたセラミックグリーン積層体を加熱して樹脂成分を飛散させた後、セラミック材料が緻密に焼結する温度で焼成する焼成工程を含む積層セラミック電子部品の製造方法であり、特に高周波におけるQ値が高く、信頼性に優れ、製造コストの安い積層セラミック電子部品の製造方法を実現できるという作用効果を有する。   In addition, a step of forming a ceramic green sheet by adding a binder resin and a plasticizer to a ceramic raw material powder before firing that becomes a ceramic layer after firing, and laminating a plurality of the ceramic green sheets, before firing to become a ceramic layer after firing the ceramic green A step of forming a ceramic green sheet by adding a binder resin and a plasticizer to the ceramic raw material powder, a step of laminating a plurality of the ceramic green sheets to form a ceramic green laminate, and a surface of a flexible resin film An intaglio film manufacturing process for forming grooves, a filling process for filling the grooves of the intaglio film with a conductive paste, a step of volatilizing and drying a solvent contained in the filled conductive paste, and the intaglio film And the ceramic green sheet laminate together A transfer step for applying pressure, a film peeling step for peeling the intaglio film from the ceramic green sheet laminate and transferring the conductive paste onto the ceramic green sheet laminate, and a ceramic green A step of covering a conductor pattern formed on the surface of the laminate with a ceramic paste made of essentially the same material as the ceramic green sheet, and a step of dividing the ceramic green laminate to which the conductor pattern is transferred into a desired shape into a plurality of shapes And heating the divided ceramic green laminate to disperse the resin component, and then firing the ceramic material at a temperature at which the ceramic material is densely sintered. Has a high Q value, excellent reliability, and low manufacturing costs It has the effect that can be achieved a production method of layer ceramic electronic component.

本発明の積層セラミック電子部品およびその製造方法は、電極幅が60μmと細くても横断面形状が略台形形状で側面端部の先細りがないため特に高周波におけるQ値が高く、電極幅、厚みのばらつきが小さいため電気特性が安定しており、かつ、導体層の全周囲を本質的に同一のセラミック材料で覆われている構造のため信頼性が高く、また他の層の導体と電気的に接続するビアホール電極を、セラミックグリーンシートに穴を開け導体を充填し焼成形成するため、従来の凹版印刷工法と比較すると製造コストが安く、また凹版フィルムからグリーンシート積層体への転写が低温、短時間で可能なため凹版樹脂フィルムの耐久性が高く、製造コストを安くすることができる。したがって本発明は、高性能、高信頼性で安価な積層セラミック電子部品およびその製造方法として有用である。   The multilayer ceramic electronic component of the present invention and the method for manufacturing the same have a high Q value especially at high frequencies because the cross-sectional shape is substantially trapezoidal and there is no taper at the side edges even when the electrode width is as thin as 60 μm. The electrical characteristics are stable due to small variations, and the entire periphery of the conductor layer is covered with essentially the same ceramic material, so it is highly reliable and electrically connected to the conductors of other layers. The via-hole electrode to be connected is formed by drilling a ceramic green sheet, filling it with a conductor, and firing it. Therefore, the manufacturing cost is low compared to the conventional intaglio printing method, and the transfer from the intaglio film to the green sheet laminate is low and short. Since it is possible in time, the durability of the intaglio resin film is high, and the manufacturing cost can be reduced. Therefore, the present invention is useful as a high-performance, highly reliable and inexpensive multilayer ceramic electronic component and a method for manufacturing the same.

(実施の形態1)
以下、本発明の積層セラミック電子部品及びその製造方法を、図面を参照しながら説明する。
(Embodiment 1)
Hereinafter, a multilayer ceramic electronic component and a manufacturing method thereof according to the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は本発明の積層セラミック電子部品の製造工程図である。   FIG. 1 is a manufacturing process diagram of the multilayer ceramic electronic component of the present invention.

まずセラミックグリーンシート1を任意の枚数用意する。セラミックグリーンシートは、積層セラミック電子部品のセラミック層となる焼成前のセラミック粉体にバインダ樹脂と可塑剤、および溶剤を加え混合したスラリーを、ドクターブレード等の方法によってPETフィルム等のキャリアフィルム上にシート成形したものである。使用するセラミック材料は特に規定しないが、インダクタ、ストリップライン共振器、方向性結合器(カプラ)、平衡不平衡インピーダンス整合器(バラン)などの高周波用の積層セラミック部品を製造する場合は、内部導体に導電率の良好な純度95重量%以上の銀を用いると高性能の部品が得られるため、銀の融点961℃よりも低い温度で緻密に焼結する材料が好ましい。例えばアルミナとガラスを重量比で約1:1の割合で混合したガラスセラミック混合物や、フェライト材料に低温焼結剤やガラスを添加した低温焼結フェライトなどがあげられる。   First, an arbitrary number of ceramic green sheets 1 are prepared. Ceramic green sheets are prepared by mixing a slurry obtained by adding a binder resin, a plasticizer, and a solvent to a ceramic powder before firing, which becomes a ceramic layer of a multilayer ceramic electronic component, and mixing it on a carrier film such as a PET film by a method such as a doctor blade. Sheet molded. The ceramic material to be used is not particularly specified, but when manufacturing multilayer ceramic parts for high frequency such as inductors, stripline resonators, directional couplers (couplers), balanced / unbalanced impedance matching devices (baluns), the inner conductor In addition, when silver having a good conductivity and a purity of 95% by weight or more is used, a high-performance component can be obtained. Therefore, a material that is densely sintered at a temperature lower than the melting point of silver, 961 ° C., is preferable. Examples thereof include a glass ceramic mixture in which alumina and glass are mixed at a weight ratio of about 1: 1, and a low-temperature sintered ferrite obtained by adding a low-temperature sintering agent or glass to a ferrite material.

グリーンシートは50〜100μmの厚みに成形し、複数枚積層、加圧して任意の厚みのセラミックグリーン積層体2を作製する。   The green sheet is formed to a thickness of 50 to 100 μm, and a plurality of layers are laminated and pressed to produce a ceramic green laminate 2 having an arbitrary thickness.

一方、厚み125μmのポリイミドフィルム3を用意し、エキシマレーザーによって導体パターンに対応する溝4を形成する。図1(c)は図2のA−Bラインの断面図に相当する。溝の深さは任意であるが、浅すぎると導体層の厚みが薄くなり抵抗値が高くなり、深すぎると後工程でペーストの充填、転写が困難となるので、20〜30μmの深さとすることが望ましい。溝4の断面は図1(c)に示したようなテーパーのついた断面とする。これは後工程で導体ペーストを転写しやすくするためであり、特性と転写性の観点からテーパー比は0.7以上1.0未満であるのが好ましい。樹脂フィルムの厚み、材質は限定されるものではないが、後工程で加圧、加熱工程を経るので、熱、圧力によって伸びにくい材質、厚みを決定するのが好ましい。   On the other hand, a polyimide film 3 having a thickness of 125 μm is prepared, and grooves 4 corresponding to the conductor pattern are formed by an excimer laser. FIG. 1C corresponds to a cross-sectional view taken along line AB in FIG. The depth of the groove is arbitrary, but if it is too shallow, the thickness of the conductor layer becomes thin and the resistance value becomes high, and if it is too deep, it becomes difficult to fill and transfer the paste in the subsequent process, so the depth is 20 to 30 μm. It is desirable. The cross section of the groove 4 is a tapered cross section as shown in FIG. This is for facilitating transfer of the conductor paste in a later step, and the taper ratio is preferably 0.7 or more and less than 1.0 from the viewpoint of characteristics and transferability. Although the thickness and material of the resin film are not limited, it is preferable to determine the material and thickness that are difficult to stretch due to heat and pressure because they are subjected to pressurization and heating processes in the subsequent steps.

エキシマレーザで形成した溝4に導体ペースト5を充填するため、まず導体ペーストをポリイミドフィルム溝形成面に、ベタ印刷し全体を導体ペーストで覆う。その後ペーストが乾燥しない間に、刃先が鋭く堅いジルコニアセラミック製のスキージによってポリイミドフィルム表面に付着した導体ペーストを掻き取る。数回掻き取れば、表面にはほとんど導体ペーストは残らなくなるので、150℃で3分間乾燥する。乾燥させると導体ペーストは収縮し、中央部分が凹んでしまうため、上記の作業を2〜3回繰返す。すると図1(d)のように溝4に導体ペースト5が完全に充填される。フィルム表面には、少量ながらも導体ペーストが残存している可能性があるので、純水などによって拭き取るとなお良い。   In order to fill the conductor paste 5 in the groove 4 formed by the excimer laser, first, the conductor paste is solid-printed on the polyimide film groove forming surface and the whole is covered with the conductor paste. Thereafter, while the paste is not dried, the conductive paste adhered to the polyimide film surface is scraped off with a squeegee made of zirconia ceramic having a sharp blade and a sharp edge. After scraping several times, almost no conductor paste remains on the surface, and it is dried at 150 ° C. for 3 minutes. When dried, the conductive paste shrinks and the central portion is recessed, so the above operation is repeated 2-3 times. Then, the conductor paste 5 is completely filled in the groove 4 as shown in FIG. A small amount of conductor paste may remain on the film surface, so it is better to wipe off with pure water.

セラミックグリーンシートは、PETフィルム等のキャリアフィルム表面に形成されるが、樹脂成分はキャリアフィルム側に偏析する。これはセラミックスラリーが乾燥する際、表面から溶剤が乾燥し、最後に樹脂成分が溶け込んだ溶剤がキャリアフィルム面上で乾燥するためと推定される。したがって通常、セラミックグリーンシートはキャリアフィルム側の方が接着性が高い場合がほとんどである。図1(e)は導体ペースト5を溝4に充填したポリイミドフィルムを、セラミックグリーン積層体に貼り付ける工程であるが、セラミックグリーン積層体はキャリアフィルム側をポリイミドフィルムと貼り合わせる側に配置した方が、図1(e)から(f)のポリイミドフィルム3を剥がし、導体ペースト5のみをグリーン積層体に転写しやすく好ましい。   The ceramic green sheet is formed on the surface of a carrier film such as a PET film, but the resin component is segregated on the carrier film side. This is presumably because when the ceramic slurry dries, the solvent dries from the surface, and finally the solvent in which the resin component is dissolved dries on the carrier film surface. Therefore, usually, the ceramic green sheet is almost always more adhesive on the carrier film side. FIG. 1 (e) shows a process in which a polyimide film filled with a conductor paste 5 in a groove 4 is attached to a ceramic green laminate. The ceramic green laminate is disposed on the side where the carrier film is attached to the polyimide film. However, it is preferable that the polyimide film 3 of FIGS. 1E to 1F is peeled off and only the conductive paste 5 is easily transferred to the green laminate.

セラミックグリーン積層体に転写された導体ペースト5に、前記セラミックグリーンシートを構成するセラミック材料と本質的に同一の材料で作製した絶縁ペーストをベタ印刷し、導体ペースト5を完全に覆う。絶縁層6の厚みは、導体層の1.5倍以上厚くするのが好ましい。これより薄くすると、ベタ印刷時のピンホールの発生などによって、完全に導体ペースト5を絶縁層6によって覆われない場合があるためである。   The conductor paste 5 transferred to the ceramic green laminate is solid-printed with an insulating paste made of essentially the same material as the ceramic material constituting the ceramic green sheet to completely cover the conductor paste 5. The insulating layer 6 is preferably 1.5 times thicker than the conductor layer. This is because if the thickness is smaller than this, the conductive paste 5 may not be completely covered with the insulating layer 6 due to the occurrence of pinholes during solid printing.

図1(g)のグリーン基板を、セラミック材料が緻密に焼成する温度で焼成すると、図1(h)のように、セラミック積層体8と絶縁層9は本質的に同一の材料であるので、モノリシックなセラミック基板内に、図3のような断面形状が略台形形状の導体層7が形成される。   When the green substrate of FIG. 1 (g) is fired at a temperature at which the ceramic material is densely fired, the ceramic laminate 8 and the insulating layer 9 are essentially the same material as shown in FIG. 1 (h). A conductor layer 7 having a substantially trapezoidal cross section as shown in FIG. 3 is formed in a monolithic ceramic substrate.

図3(a)は導体層断面を模式的に示したものである。本発明の範囲は製造しやすさと電気特性に鑑みて、平均電極幅cはスクリーン印刷工法では安定して形成できない60μm以下、テーパーb/aは0.7以上1.0未満、電極厚みdは10μm以上と規定する。図3(b)は実際に上記製造工程で作製した導体層の断面写真であり、平均電極幅46μm、テーパ0.84、厚み15μmの断面形状が略台形形状の導体層が形成できている。   FIG. 3 (a) schematically shows a cross section of the conductor layer. In the scope of the present invention, in view of manufacturability and electrical characteristics, the average electrode width c is 60 μm or less, the taper b / a is 0.7 or more and less than 1.0, and the electrode thickness d is not able to be stably formed by the screen printing method. It is defined as 10 μm or more. FIG. 3B is a cross-sectional photograph of a conductor layer actually produced in the above manufacturing process, and a conductor layer having an average electrode width of 46 μm, a taper of 0.84 and a thickness of 15 μm and a substantially trapezoidal cross-sectional shape can be formed.

図4は前記凹版転写法によって形成した導体層と、基板側面とをビア電極を用いて電気的に接続するための製造工程図である。   FIG. 4 is a manufacturing process diagram for electrically connecting the conductor layer formed by the intaglio transfer method and the side surface of the substrate using via electrodes.

図4(a)から(b)のセラミックグリーン積層体を作製する工程で、最上層部となるグリーンシートに穴を開けその穴に導体ペーストを充填することによりビア導体10を形成し、このビア導体10と基板側面を接続する内部導体層11をスクリーン印刷法等によって形成し、図4(b)のようなセラミックグリーン積層体を作製する。その後の工程は図1と全く同じであり、図4(h)または図5に示したような構造の基板を作製することができる。   In the step of producing the ceramic green laminate of FIGS. 4A to 4B, a via conductor 10 is formed by opening a hole in the green sheet as the uppermost layer portion and filling the hole with a conductor paste. An internal conductor layer 11 that connects the conductor 10 and the side surface of the substrate is formed by a screen printing method or the like to produce a ceramic green laminate as shown in FIG. Subsequent steps are exactly the same as those in FIG. 1, and a substrate having a structure as shown in FIG. 4H or FIG. 5 can be manufactured.

図6は凹版フィルムの溝4に充填した導体ペースト5をセラミックグリーン積層体に転写しにくい場合に効果的な製造工程図である。図1に示した製造工程図と異なる工程は、セラミックグリーン積層体に接着樹脂層14を貼り付ける工程である。接着樹脂層としては、酢酸ブチルなどの溶剤にバインダとしてPVB樹脂5重量%、可塑剤としてジブチルフタレートを1重量%溶解したものをPETフィルムなどのキャリアフィルム上に薄く成形し乾燥したものなどが用いられるが、この限りではない。この接着樹脂層14を貼り付けることによって、導体ペースト5のセラミックグリーン積層体2への転写性は飛躍的に向上し、転写工程における温度、圧力を大幅に下げることができ、プレス時間も大幅に短縮できる。したがって、セラミックグリーンシートの伸びが抑制され、寸法精度の良い積層セラミック部品を作製することができる。   FIG. 6 is an effective manufacturing process diagram when it is difficult to transfer the conductor paste 5 filled in the grooves 4 of the intaglio film to the ceramic green laminate. A process different from the manufacturing process diagram shown in FIG. 1 is a process of attaching the adhesive resin layer 14 to the ceramic green laminate. As the adhesive resin layer, a material obtained by dissolving 5% by weight of PVB resin as a binder and 1% by weight of dibutyl phthalate as a plasticizer in a solvent such as butyl acetate, and forming it thinly on a carrier film such as a PET film is used. This is not the case. By sticking this adhesive resin layer 14, the transferability of the conductive paste 5 to the ceramic green laminate 2 can be dramatically improved, the temperature and pressure in the transfer process can be greatly reduced, and the press time is also greatly increased. Can be shortened. Therefore, it is possible to produce a multilayer ceramic component with suppressed dimensional accuracy and with reduced elongation of the ceramic green sheet.

しかし接着樹脂層14が5μmよりも厚くなると、焼成後の絶縁層9とセラミック積層体8の界面に穴などの欠陥が発生し信頼性に問題が生じるため、接着樹脂層14の厚みは5μm以下であることが好ましい。   However, if the adhesive resin layer 14 is thicker than 5 μm, defects such as holes occur at the interface between the fired insulating layer 9 and the ceramic laminate 8, resulting in a problem in reliability. The thickness of the adhesive resin layer 14 is 5 μm or less. It is preferable that

図7は絶縁層6を形成したセラミックグリーン積層体を、所望の形状に複数分割する工程を詳しく説明した図である。図7(a)は絶縁層6をベタ印刷し、絶縁層6とセラミックグリーン積層体2の両者をカッター刃15によって押し切り切断する工法である。この場合、絶縁層6はセラミックグリーン積層体と比較して柔らかい材料であるため、切断した後界面に欠陥が生じる場合がある。このような場合には、図7(b)のように切断部分には絶縁層6を印刷しないようにすることによって回避することができる。また図8のようにセラミックグリーンシート16を絶縁層6の上に積層し、加圧一体化することによっても、押し切り切断時の欠陥発生を抑制することができる。   FIG. 7 is a diagram illustrating in detail the process of dividing the ceramic green laminate having the insulating layer 6 into a desired shape. FIG. 7A shows a method in which the insulating layer 6 is solid-printed and both the insulating layer 6 and the ceramic green laminate 2 are pressed and cut by the cutter blade 15. In this case, since the insulating layer 6 is a softer material than the ceramic green laminate, a defect may occur at the interface after cutting. Such a case can be avoided by not printing the insulating layer 6 on the cut portion as shown in FIG. Further, as shown in FIG. 8, the ceramic green sheet 16 is laminated on the insulating layer 6 and integrated by pressurization, so that the occurrence of defects at the time of pressing and cutting can be suppressed.

本発明の製造方法によれば、高性能、高信頼性で安価な積層セラミック電子部品およびその製造方法が得られるという効果を有し、携帯電話等モバイル機器の高性能化、高信頼性化、低コスト化に有用である。   According to the manufacturing method of the present invention, there is an effect that a multilayer ceramic electronic component having high performance, high reliability, and low cost and a method for manufacturing the same can be obtained. High performance, high reliability of mobile devices such as mobile phones, Useful for cost reduction.

本発明の実施の形態1における積層セラミック電子部品の製造工程図Manufacturing process diagram of multilayer ceramic electronic component according to Embodiment 1 of the present invention 同、樹脂フィルムに溝を形成した凹版フィルムの上面図The top view of the intaglio film with grooves formed in the resin film 同、焼成後の導体層の断面概略図Same cross-sectional view of conductor layer after firing 同、ビア導体を含む積層セラミック電子部品の製造工程図Manufacturing process diagram of multilayer ceramic electronic components including via conductors 同、ビア導体を含む積層セラミック電子部品の焼成後の断面概略図Same cross-sectional view after firing of multilayer ceramic electronic component including via conductor 同、接着樹脂層を用いる積層セラミック電子部品の製造工程図Manufacturing process diagram of multilayer ceramic electronic parts using adhesive resin layer 同、積層セラミック電子部品の分割工程説明図Same as above, illustration of division process of multilayer ceramic electronic parts 同、積層セラミック電子部品の製造工程図の一例を示す説明図Explanatory drawing which shows an example of the manufacturing process figure of a multilayer ceramic electronic component (a)(b)従来の積層セラミック電子部品の製造工程図(スクリーン印刷工法)、(c)(d)従来の積層セラミック電子部品の焼成後の導体層の断面図(A) (b) Manufacturing process diagram of conventional multilayer ceramic electronic component (screen printing method), (c) (d) Cross-sectional view of conductor layer after firing of conventional multilayer ceramic electronic component 従来の製造工程図(凹版転写法)Conventional manufacturing process diagram (intaglio transfer method) 従来の製造工程(凹版転写法)におけるビア導体形成工法説明図Via conductor formation method explanatory drawing in the conventional manufacturing process (intaglio transfer method)

符号の説明Explanation of symbols

1 セラミックグリーンシート
2 セラミックグリーン積層体
3 樹脂フィルム
4 溝
5 導体ペースト
6 絶縁ペースト
7 焼成後の導体
8 焼成後のセラミック積層体
9 焼成後の絶縁層
10 ビア導体
11 内部導体層
12 焼成後のビア導体
13 焼成後の内部導体層
14 接着樹脂層
15 カッター刃
16 セラミックグリーンシート
101 セラミックグリーンシート
102 スクリーン版
103 スクリーン版の開口部
104 導体ペースト
105 スキージ
106 内部導体パターン
107 セラミックグリーンシート
108 導体側面端部
111 絶縁基板
112 樹脂層
113 樹脂フィルム
114 溝
115 導体ペースト
116 絶縁基板に転写された導体ペースト
117 焼成後の導体層
118 絶縁ペースト
119 焼成後の絶縁層
120 凹版転写法によるビア導体
121 引き出し導体
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Ceramic green sheet 2 Ceramic green laminated body 3 Resin film 4 Groove 5 Conductive paste 6 Insulating paste 7 The conductor after baking 8 The ceramic laminated body after baking 9 The insulating layer after baking 10 Via conductor 11 Internal conductor layer 12 Via after baking Conductor 13 Internal conductor layer after firing 14 Adhesive resin layer 15 Cutter blade 16 Ceramic green sheet 101 Ceramic green sheet 102 Screen plate 103 Screen plate opening 104 Conductor paste 105 Squeegee 106 Internal conductor pattern 107 Ceramic green sheet 108 Conductor side edge 111 Insulating Substrate 112 Resin Layer 113 Resin Film 114 Groove 115 Conductor Paste 116 Conductor Paste Transferred to Insulating Substrate 117 Conductive Layer After Firing 118 Insulating Paste 119 Insulating Layer 1 After Firing 0 via conductors 121 lead conductor by intaglio transfer method

Claims (10)

導体層とセラミック層が交互に積層されたセラミック積層部品において、導体の横断面形状が略台形形状で、その台形形状の長辺と短辺の平均長さ(平均幅)が60μm以下、長辺と短辺の比が0.7以上1.0未満、厚みが10μm以上である導体を少なくとも一部に有し、前記導体の全周囲には本質的に同一のセラミック材料で覆われていることを特徴とする積層セラミック電子部品。 In a ceramic laminated part in which conductor layers and ceramic layers are alternately laminated, the conductor has a substantially trapezoidal cross-sectional shape, and the average length (average width) of the long and short sides of the trapezoid is 60 μm or less, the long side And a conductor having a short side ratio of 0.7 or more and less than 1.0 and a thickness of 10 μm or more at least in part, and the entire circumference of the conductor is covered with essentially the same ceramic material. Multilayer ceramic electronic parts characterized by 前記導体層は95重量%以上の銀で構成され、かつ、セラミック層材料は導体層材料と同時焼成可能なセラミックスであることを特徴とする請求項1記載の積層セラミック電子部品。 2. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, wherein the conductor layer is composed of 95% by weight or more of silver, and the ceramic layer material is ceramic that can be fired simultaneously with the conductor layer material. 前記略台形形状の導体層によって、インダクタ、ストリップライン共振器、方向性結合器(カプラ)、平衡不平衡インピーダンス整合器(バラン)のいずれかを形成していることを特徴とする請求項2記載の積層セラミック電子部品。 3. The substantially trapezoidal conductor layer forms any one of an inductor, a stripline resonator, a directional coupler (coupler), and a balanced / unbalanced impedance matching device (balun). Multilayer ceramic electronic components. 焼成後にセラミック層となる焼成前のセラミック原材料粉にバインダ樹脂と可塑剤を加えセラミックグリーンシートを形成する工程と、
前記セラミックグリーンシートを複数枚積層し、セラミックグリーン積層体を形成する工程と、
可とう性を有する樹脂フィルムの表面に溝を形成する凹版フィルム製造工程と、
前記凹版フィルムの溝に導電性ペーストを充填する充填工程と、
前記充填された導電性ペースト中に含まれる溶剤を揮発させ乾燥する工程と、
前記凹版フィルムと前記セラミックグリーンシート積層体を貼り合わせ、温度と圧力を作用させる転写工程と、
前記凹版フィルムを前記セラミックグリーンシート積層体から剥離して前記導電性ペーストをセラミックグリーンシート積層体上に転写することにより導体パターンを形成するフィルム剥離工程と、
セラミックグリーン積層体面上に形成された導体パターンを、セラミックグリーンシートと本質的に同一の材料のセラミックペーストによって覆う工程と、
前記導体パターンが転写されたセラミックグリーン積層体を、所望の形状に複数分割する工程と、
前記分割されたセラミックグリーン積層体を加熱して樹脂成分を飛散させた後、セラミック材料が緻密に焼結する温度で焼成する焼成工程を含むことを特徴とする請求項1記載の積層セラミック電子部品の製造方法。
A step of forming a ceramic green sheet by adding a binder resin and a plasticizer to the ceramic raw material powder before firing to become a ceramic layer after firing;
Laminating a plurality of the ceramic green sheets to form a ceramic green laminate;
An intaglio film manufacturing process for forming grooves on the surface of the resin film having flexibility;
A filling step of filling the grooves of the intaglio film with a conductive paste;
Evaporating and drying the solvent contained in the filled conductive paste;
A transfer process in which the intaglio film and the ceramic green sheet laminate are bonded together, and temperature and pressure are applied,
A film peeling step of peeling the intaglio film from the ceramic green sheet laminate and transferring the conductive paste onto the ceramic green sheet laminate to form a conductor pattern;
Covering the conductor pattern formed on the surface of the ceramic green laminate with a ceramic paste made of essentially the same material as the ceramic green sheet;
A step of dividing the ceramic green laminate to which the conductor pattern is transferred into a desired shape;
2. The multilayer ceramic electronic component according to claim 1, further comprising a firing step in which the ceramic material is heated to disperse the resin component and then fired at a temperature at which the ceramic material is densely sintered. Manufacturing method.
前記転写工程において、セラミックグリーン積層体の両主面を比較して、グリーンシート内に含まれている樹脂成分がより多く偏析している面に凹版フィルムを貼り合わせ、凹版フィルムの凹部に充填されている導電性ペーストを転写することを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 In the transfer step, the two main surfaces of the ceramic green laminate are compared, and an intaglio film is bonded to the surface on which more resin components contained in the green sheet are segregated, and the intaglio film is filled in the recesses. 5. The method for producing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein the conductive paste is transferred. 前記セラミックペースト層の厚みは、導体パターンの厚みの1.5倍以上であることを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 5. The method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein the thickness of the ceramic paste layer is 1.5 times or more the thickness of the conductor pattern. 前記セラミックグリーンシートを複数枚積層し、セラミックグリーン積層体を形成する工程において、セラミックグリーンシートに穴をあけその穴に導体ペーストを充填するビアホール導体形成工程と、このセラミックグリーンシートをセラミックグリーン積層体の最上層部に積層する工程を含み、前記凹版フィルムから転写された導体層の一部とそのビアホール導体を接続させ、そのビアホール導体とセラミック積層体内に形成した内部導体層とを電気的に接続させることを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 In the step of laminating a plurality of the ceramic green sheets to form a ceramic green laminate, a via hole conductor forming step in which a hole is formed in the ceramic green sheet and a conductor paste is filled therein, and the ceramic green sheet is formed into the ceramic green laminate. A portion of the conductor layer transferred from the intaglio film is connected to the via hole conductor, and the via hole conductor is electrically connected to the internal conductor layer formed in the ceramic laminate. The method for producing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein: 前記転写工程において、セラミックグリーンシート積層体面に厚み5μm以下の接着樹脂層を形成した後、この接着樹脂層を介して凹版フィルムとセラミックグリーンシート積層体を貼り合わせ、凹版フィルムの凹部に充填されている導電性ペーストを転写することを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 In the transfer step, after an adhesive resin layer having a thickness of 5 μm or less is formed on the surface of the ceramic green sheet laminate, the intaglio film and the ceramic green sheet laminate are bonded together via the adhesive resin layer, and the concave portion of the intaglio film is filled. 5. The method for producing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein the conductive paste is transferred. 複数個に分割する部分には、前記セラミックペースト層を形成しないことを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 5. The method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein the ceramic paste layer is not formed in a portion divided into a plurality of portions. 前記セラミックペーストによって導体パターンを覆う工程の後、セラミックペースト層上にセラミックグリーンシートを積層し、加圧一体化することを特徴とする請求項4記載の積層セラミック電子部品の製造方法。 5. The method of manufacturing a multilayer ceramic electronic component according to claim 4, wherein after the step of covering the conductor pattern with the ceramic paste, a ceramic green sheet is stacked on the ceramic paste layer and press-integrated.
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