JP2007116628A - Surface acoustic-wave device and communication apparatus - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a surface acoustic-wave device which is facedown mounted, can keep a high power durability even a large signal is input, and is excellent in heat dissipation capability. <P>SOLUTION: The surface acoustic-wave device comprises a plurality of surface acoustic-wave resonators which have IDT electrodes 2, are arranged on a piezoelectric substrate 1, and are mutually connected. At least one heat-dissipating pad electrode 16a, 16b is arranged in a region between surface acoustic-wave resonators. The pad electrode 16a, 16b is connected to an electric conductor pattern of a circuit board with a bump connector 13. As a consequence, the heat can be collected through the heat-dissipating pad electrode 16a, 16b, resulting to improve the heat dissipation capability. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、弾性表面波装置、及びそれを用いた携帯電話機、車載用センサー等の通信装置に関するものである。   The present invention relates to a surface acoustic wave device and a communication device such as a mobile phone and an in-vehicle sensor using the same.

従来、携帯電話機の段間フィルタやデュプレクサにおいては、主に誘電体フィルタが使用されてきたが、近年では高性能で小型軽量化に有利な弾性表面波装置を用いた段間フィルタやデュプレクサが使われてきている。
このような弾性表面波装置では、使用周波数の上昇傾向に伴って、入力レベルの要求が、従来の段間フィルタ用の10mWレベルから、デュプレクサなどに要求される1〜3Wレベルへと電力の範囲が広がってきている。このため、弾性表面波装置として、よりいっそうの耐電力性向上が望まれている。
Conventionally, dielectric filters have been mainly used for interstage filters and duplexers in mobile phones, but in recent years interstage filters and duplexers using surface acoustic wave devices that are advantageous for high performance and small size and weight have been used. It has been broken.
In such a surface acoustic wave device, the input level requirement ranges from 10 mW level for a conventional interstage filter to 1 to 3 W level required for a duplexer or the like as the operating frequency increases. Is spreading. For this reason, further improvement in power durability is desired as a surface acoustic wave device.

また、近年、携帯電話機で使用される周波数帯の高周波化に伴い、弾性表面波装置を構成する共振子のIDT(Inter Digital Transducer)電極の線幅は、使用する周波数に反比例して細くなっている。従来、800MHz帯では弾性表面波共振子の電極線幅が約1μm程度であったのに対して、1.9GHz帯では約0.5μmとよりいっそう細くなる。このように細い電極指を用いて弾性表面波を励振、受信する場合、信号電力が大きくなると、電極指振動の損失分の熱への変換や、電極配線抵抗によるジュール熱により、電極指とその近傍が 100 ℃ から 300 ℃まで発熱される。高温状態においては、ストレスマイグレーションと発熱の影響により、その相乗効果で電極指の破壊が助長される。さらに、高温状態になると弾性表面波装置の温度特性に影響が表れ、特性が大きく変化する。   In recent years, with the increase in the frequency band used in mobile phones, the line width of the IDT (Inter Digital Transducer) electrode of the resonator constituting the surface acoustic wave device has become smaller in inverse proportion to the frequency used. Yes. Conventionally, the electrode line width of the surface acoustic wave resonator is about 1 μm in the 800 MHz band, but becomes thinner to about 0.5 μm in the 1.9 GHz band. When surface acoustic waves are excited and received using such thin electrode fingers, if the signal power increases, the electrode finger and its finger due to the conversion of electrode finger vibration loss into heat and Joule heat due to electrode wiring resistance. The neighborhood generates heat from 100 ° C to 300 ° C. In a high temperature state, due to the effects of stress migration and heat generation, the synergistic effect promotes the destruction of the electrode fingers. Further, when the temperature becomes high, the temperature characteristics of the surface acoustic wave device are affected, and the characteristics change greatly.

また、携帯電話機の段間フィルタやデュプレクサに用いられる弾性表面波装置は、各種無線通信機器の小型化に伴い、更なる小型軽量化が求められている。そのため、近年ではフリップチップ実装を用いた表面実装型やCSP(Chip Scale Package)構造の弾性表面波装置が採用されてきている。
図24に、従来の弾性表面波装置の断面図を示す。弾性表面波装置は、LiTaO単結晶等の圧電基板101上に少なくとも1対のIDT電極102等が形成されて成る弾性表面波素子と、それを気密封止する回路基板105とからなる。圧電基板101を回路基板105の上にフェースダウン実装して、IDT電極102等を、バンプ接続体を介して回路基板105の上面に形成されたパッド電極104に接着固定する。これにより、弾性表面波素子と回路基板105の電極とを導通接続した後、封止樹脂107により気密封止している。
Further, surface acoustic wave devices used for interstage filters and duplexers of mobile phones are required to be further reduced in size and weight as the various types of wireless communication devices become smaller. Therefore, in recent years, surface mount devices using flip chip mounting and surface acoustic wave devices having a CSP (Chip Scale Package) structure have been adopted.
FIG. 24 is a sectional view of a conventional surface acoustic wave device. The surface acoustic wave device includes a surface acoustic wave element in which at least a pair of IDT electrodes 102 and the like are formed on a piezoelectric substrate 101 such as a LiTaO 3 single crystal, and a circuit board 105 that hermetically seals the surface acoustic wave device. The piezoelectric substrate 101 is mounted face-down on the circuit substrate 105, and the IDT electrode 102 and the like are bonded and fixed to the pad electrode 104 formed on the upper surface of the circuit substrate 105 via the bump connector. Thus, the surface acoustic wave element and the electrode of the circuit board 105 are electrically connected, and then hermetically sealed with the sealing resin 107.

フリップチップ実装構造を採用した場合、回路基板105との接続点がバンプ接続体のみで、かつ発熱した熱を放熱する空間が、回路基板105と弾性表面波素子が形成された圧電基板101の主面との間の限られた狭い空間のみである。
このようにフリップチップ実装構造を採用した場合、放熱に比較的不利な構造であるので、熱抵抗を低減する熱設計、放熱対策が課題となっている。
When the flip chip mounting structure is adopted, the connection point with the circuit board 105 is only the bump connection body, and the space for radiating the generated heat is the main board of the piezoelectric substrate 101 on which the circuit board 105 and the surface acoustic wave element are formed. There is only a limited narrow space between the faces.
When the flip chip mounting structure is employed as described above, the structure is relatively unfavorable for heat dissipation, so that thermal design for reducing thermal resistance and measures for heat dissipation are problems.

このような弾性表面波装置の放熱対策に関しては、弾性表面波素子が形成された圧電基板の裏面にヒートシンク用金属片を接触させた構造や、さらに圧電基板に貫通孔を設けて金属片と導通した構造が提案されている(特許文献1参照)。
特開2003-087093号公報
With regard to heat dissipation countermeasures for such surface acoustic wave devices, a structure in which a metal piece for heat sink is brought into contact with the back surface of the piezoelectric substrate on which the surface acoustic wave element is formed, and further, a through hole is provided in the piezoelectric substrate to conduct with the metal piece. Such a structure has been proposed (see Patent Document 1).
Japanese Patent Laid-Open No. 2003-087093

しかしながら、前記構造では、圧電基板に金属片を配置する必要があり、弾性表面波装置の小型化、低背化には不利となる。
弾性表面波装置のフェースダウン実装で、弾性表面波装置の放熱対策として、積極的に圧電基板上の電極の配置に着目した提案はなされていない。
そこで本発明は、フェースダウン実装で弾性表面装置を構成する場合、励振電極の発熱による影響を低減し、放熱性に優れ、安定した所望の特性が得られる弾性表面波装置及びこれを用いた通信装置を提供することを目的とする。
However, in the above structure, it is necessary to dispose a metal piece on the piezoelectric substrate, which is disadvantageous for reducing the size and height of the surface acoustic wave device.
In the face-down mounting of a surface acoustic wave device, no proposal has been made that actively focuses on the arrangement of electrodes on the piezoelectric substrate as a heat dissipation measure for the surface acoustic wave device.
Accordingly, the present invention provides a surface acoustic wave device that reduces the influence of heat generated by the excitation electrode, has excellent heat dissipation, and provides stable desired characteristics when a surface acoustic device is configured by face-down mounting, and communication using the same. An object is to provide an apparatus.

本発明の弾性表面波装置は、弾性表面波素子が回路基板上にフェースダウン実装された構造において、圧電基板の主面の、弾性表面波共振子同士の間の部位に、入出力パッド電極が形成され、前記入出力パッド電極は、バンプ接続体によって、前記回路基板の実装面の接続電極に接続されているものである。
または、前記入出力パッド電極ではなく、信号入出力機能を持たない放熱用パッド電極が前記弾性表面波共振子同士の間の部位に形成されている。
The surface acoustic wave device according to the present invention has a structure in which a surface acoustic wave element is mounted face-down on a circuit board, and input / output pad electrodes are provided at portions of the main surface of the piezoelectric substrate between the surface acoustic wave resonators. The formed input / output pad electrode is connected to a connection electrode on a mounting surface of the circuit board by a bump connection body.
Alternatively, instead of the input / output pad electrode, a heat radiating pad electrode having no signal input / output function is formed at a portion between the surface acoustic wave resonators.

これらの構成によれば、フェースダウン実装でありながら弾性表面波共振子で発生した熱を入出力パッド電極又は放熱用パッド電極を通して、効率良く放熱することができる。したがって、弾性表面波装置の温度特性による特性の変化が少なく、安定した特性を得ることができる。結果として、IDT電極の電極指の破壊が生じることなく、長期信頼性に優れた弾性表面波装置を提供することができる。   According to these configurations, heat generated by the surface acoustic wave resonator can be efficiently radiated through the input / output pad electrode or the heat radiating pad electrode while being face-down mounted. Therefore, there is little change in characteristics due to temperature characteristics of the surface acoustic wave device, and stable characteristics can be obtained. As a result, it is possible to provide a surface acoustic wave device with excellent long-term reliability without causing destruction of electrode fingers of the IDT electrode.

前記回路基板の前記入出力パッド電極又は前記放熱用パッド電極と対向する部位に、前記接続電極に接続された貫通導体が形成されている構造では、弾性表面波共振子で発生した熱を対向する回路基板を介して効率良く放熱できる。
また、前記圧電基板の主面に、前記弾性表面波素子を取り囲んで、接地された環状電極が形成されている構造であれば、小型軽量で気密性を充分確保でき、さらに耐電力性と放熱性に優れた弾性表面波装置を提供することできる。
In a structure in which a through conductor connected to the connection electrode is formed at a portion facing the input / output pad electrode or the heat dissipation pad electrode of the circuit board, the heat generated by the surface acoustic wave resonator is opposed. Heat can be efficiently radiated through the circuit board.
Further, if the surface of the piezoelectric substrate surrounds the surface acoustic wave element and a grounded annular electrode is formed, the structure can be sufficiently small and light and airtightness can be ensured. It is possible to provide a surface acoustic wave device having excellent properties.

また、前記圧電基板の裏面及び側面の少なくとも一方の面に金属層が形成されているとともに、前記圧電基板の裏面及び側面が封止樹脂で覆われている構造であれば、外周を金属膜と樹脂でカバーすることにより、耐湿性、気密性に優れ、素子を破壊から保護することができる。結果として、IDT電極の電極指の破壊が生じることなく、長期信頼性に優れた弾性表面波装置を提供することができる。   In addition, if the metal layer is formed on at least one of the back surface and the side surface of the piezoelectric substrate and the back surface and the side surface of the piezoelectric substrate are covered with a sealing resin, the outer periphery is a metal film. By covering with resin, it is excellent in moisture resistance and airtightness, and the element can be protected from destruction. As a result, it is possible to provide a surface acoustic wave device with excellent long-term reliability without causing destruction of electrode fingers of the IDT electrode.

本発明の弾性表面波装置は、弾性表面波素子が回路基板上にフェースダウン実装された構造において、前記弾性表面波素子は、圧電基板の主面にIDT電極及び反射器電極を有する弾性表面波共振子が複数配設され、これらの弾性表面波共振子が互いに接続されてなり、前記圧電基板の前記主面において、前記弾性表面波共振子同士の間の部位に放熱用パッド電極が形成されているとともに、前記弾性表面波素子を取り囲む環状電極が形成されているものである。    The surface acoustic wave device of the present invention has a structure in which a surface acoustic wave element is mounted face-down on a circuit board, and the surface acoustic wave element has a surface acoustic wave having an IDT electrode and a reflector electrode on the main surface of the piezoelectric substrate. A plurality of resonators are arranged and these surface acoustic wave resonators are connected to each other, and a heat dissipation pad electrode is formed at a portion between the surface acoustic wave resonators on the main surface of the piezoelectric substrate. In addition, an annular electrode surrounding the surface acoustic wave element is formed.

この構造により、小型軽量で気密性を充分確保できるとともに、弾性表面波共振子で発生した熱を、放熱用パッド電極及び環状電極を通して、効率良く放熱することができ、さらに耐電力性と放熱性に優れた弾性表面波装置を提供することできる。
なお、前記放熱用パッド電極は、前記圧電基板の前記主面を介して、又は回路基板の実装面を介して、前記環状電極に接続されていることが放熱面でさらに好ましい。
With this structure, it is compact and lightweight and can sufficiently secure airtightness, and heat generated by the surface acoustic wave resonator can be efficiently radiated through the heat radiating pad electrode and the annular electrode. It is possible to provide an excellent surface acoustic wave device.
The heat dissipation pad electrode is more preferably connected to the annular electrode via the main surface of the piezoelectric substrate or the mounting surface of the circuit board.

前記放熱用パッド電極は、バンプ接続体、回路基板上に形成された接続電極及び回路基板を貫く貫通導体を介して、前記回路基板の底面に形成された放熱用底面電極に接続されていることがさらに好ましい。放熱用パッド電極と貫通導体及び環状電極を利用した熱伝導経路を利用して、回路基板側への放熱性を向上させることができる。
前記放熱用電極として、前記回路基板の実装面や底面以外に、回路基板の内層に形成された放熱用内層電極を利用してもかまわない。
The heat dissipation pad electrode is connected to a heat dissipation bottom electrode formed on the bottom surface of the circuit board through a bump connector, a connection electrode formed on the circuit board, and a through conductor penetrating the circuit board. Is more preferable. The heat dissipation to the circuit board side can be improved using the heat conduction path using the heat dissipation pad electrode, the through conductor, and the annular electrode.
As the heat radiation electrode, a heat radiation inner layer electrode formed on the inner layer of the circuit board may be used in addition to the mounting surface and the bottom surface of the circuit board.

また、前記回路基板の側面に形成された側面導体を通じて熱伝導パスを形成することとすれば、さらに放熱効率を上げることができる。
前記複数の弾性表面波共振子を直列及び並列に接続して、ラダー型回路を構成しても良い。ラダー型弾性表面波装置において信号が大きくなると、特に直列共振子における発熱が大きくなり問題となるが、共振子の近傍に積極的に放熱させるパッド電極を配置することにより、発生した熱を対向する回路基板を介して効率良く放熱することができる。
Further, if the heat conduction path is formed through the side conductor formed on the side surface of the circuit board, the heat dissipation efficiency can be further increased.
A ladder type circuit may be configured by connecting the plurality of surface acoustic wave resonators in series and in parallel. When a signal increases in a ladder-type surface acoustic wave device, heat generation particularly in a series resonator increases, which causes a problem. By arranging a pad electrode that actively dissipates heat in the vicinity of the resonator, the generated heat is opposed. Heat can be efficiently radiated through the circuit board.

以上に説明した弾性表面波装置を、通信装置のフィルタ回路部品として用いることとすれば、小型軽量で、送信電力の大きな通信装置を実現することができる。   If the surface acoustic wave device described above is used as a filter circuit component of a communication device, a communication device that is small and light and has high transmission power can be realized.

以下、本発明に係る弾性表面波装置及び通信装置の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。 なお、以下の図面において、各電極の大きさや電極間の距離、電極指の本数や間隔等については、説明のために模式的に描いたものである。
弾性表面波装置は、弾性表面波素子及びこれを実装するための回路基板とから構成される。
Hereinafter, embodiments of a surface acoustic wave device and a communication device according to the present invention will be described in detail with reference to the drawings. In the following drawings, the size of each electrode, the distance between the electrodes, the number of electrode fingers, the interval, and the like are schematically illustrated for explanation.
The surface acoustic wave device includes a surface acoustic wave element and a circuit board for mounting the surface acoustic wave element.

図1は、放熱用電極として入出力電極を利用した弾性表面波素子の配置例を示す平面図である。
なお、本明細書での「主面」とは、圧電基板の表面のIDT電極や反射器電極が形成される面のことをいう。
図1に示すように、弾性表面波素子は、タンタル酸リチウム単結晶、ニオブ酸リチウム単結晶、四ホウ酸リチウム単結晶などの圧電性の単結晶から成る圧電基板1と、圧電基板1の主面に、直列接続、並列接続等の方式で接続された励振電極であるIDT電極2a〜2gと、各IDT電極2a〜2gの弾性表面波伝搬方向両端に位置する反射器9と、IDT電極2a〜2gに接続される複数の引出し電極10a〜10fと、IDT電極2a〜2g同士を接続する内部接続電極20a,20bとを備えている。IDT電極2a〜2gと反射器電極(以下、「反射器」ともいう)9と引出し電極10a〜10fと内部接続電極20a,20bとを、保護膜(図示せず)で覆ってなる。
FIG. 1 is a plan view showing an arrangement example of a surface acoustic wave element using input / output electrodes as heat radiation electrodes.
In addition, the “main surface” in this specification refers to the surface on which the IDT electrode and the reflector electrode are formed on the surface of the piezoelectric substrate.
As shown in FIG. 1, the surface acoustic wave element includes a piezoelectric substrate 1 made of a piezoelectric single crystal such as a lithium tantalate single crystal, a lithium niobate single crystal, or a lithium tetraborate single crystal; IDT electrodes 2a to 2g which are excitation electrodes connected to the surface by a system such as series connection or parallel connection, reflectors 9 positioned at both ends of the surface acoustic wave propagation direction of each IDT electrode 2a to 2g, and IDT electrode 2a The plurality of extraction electrodes 10a to 10f connected to 2g and internal connection electrodes 20a and 20b for connecting the IDT electrodes 2a to 2g are provided. The IDT electrodes 2a to 2g, the reflector electrode (hereinafter also referred to as “reflector”) 9, the extraction electrodes 10a to 10f, and the internal connection electrodes 20a and 20b are covered with a protective film (not shown).

ここで、IDT電極2a〜2gは、複数対の櫛歯状電極をかみ合わせたものである。
IDT電極2a,2bにつながる引出し電極10a,10bの端部には、入出力用パッド電極3a,3bが形成され、IDT電極2d,2fにつながる引出し電極10c,10eの端部と、IDT電極2e,2gにつながる引出し電極10d,10fの端部とには、接地用パッド電極4が形成されている。
Here, the IDT electrodes 2a to 2g are obtained by engaging a plurality of pairs of comb-like electrodes.
Input / output pad electrodes 3a and 3b are formed at the ends of the extraction electrodes 10a and 10b connected to the IDT electrodes 2a and 2b. The ends of the extraction electrodes 10c and 10e connected to the IDT electrodes 2d and 2f and the IDT electrode 2e , 2g, ground pad electrodes 4 are formed on the ends of the lead electrodes 10d, 10f.

前記保護膜は、パッド電極上ではエッチングされ、パッド電極を露出させた状態で、形成されている。
図1の実施形態では、入出力用パッド電極3a,3bが、弾性表面波共振子の間の領域、すなわちIDT電極2a〜2c,2e,2g、反射器9、内部接続電極20a,20bに囲まれた領域にそれぞれ配置された構成となっている。
The protective film is formed on the pad electrode with the pad electrode exposed.
In the embodiment of FIG. 1, the input / output pad electrodes 3a and 3b are surrounded by the region between the surface acoustic wave resonators, that is, the IDT electrodes 2a to 2c, 2e and 2g, the reflector 9, and the internal connection electrodes 20a and 20b. The configuration is arranged in each of the areas.

IDT電極2a〜2g、反射器9、引出し電極10a〜10f、内部接続電極20a,20b、入出力用パッド電極3a,3b及び接地用パッド電極4は、例えばAl−Cuを主成分とするAl合金からなる。
その製造方法を概略説明すると、スパッタリング法、蒸着法又はCVD(Chemical Vapor Deposition)法等の薄膜形成法によりAl合金薄膜を形成し、次に縮小投影露光機(ステッパー)とRIE(Reactive Ion Etching)装置を用いてフォトリソグラフィ法によりパターニングし、所定の形状を得る。その上から、CVD法又は蒸着法等の薄膜形成法により保護膜を形成する。保護膜にはSiO膜、SiN膜、Si膜等が用いられる。
The IDT electrodes 2a to 2g, the reflector 9, the extraction electrodes 10a to 10f, the internal connection electrodes 20a and 20b, the input / output pad electrodes 3a and 3b, and the grounding pad electrode 4 are, for example, an Al alloy mainly composed of Al—Cu. Consists of.
An outline of the manufacturing method is as follows. An Al alloy thin film is formed by a thin film forming method such as a sputtering method, a vapor deposition method or a CVD (Chemical Vapor Deposition) method, and then a reduction projection exposure machine (stepper) and RIE (Reactive Ion Etching). Patterning is performed by photolithography using an apparatus to obtain a predetermined shape. Then, a protective film is formed by a thin film forming method such as a CVD method or a vapor deposition method. As the protective film, a SiO 2 film, a SiN film, a Si film, or the like is used.

なお、IDT電極2a〜2gは一般的には前述のようなCuを含むAl合金からなるが、Cu以外に又はCuとともにTi,Ta,Mg,W,Mb等の一種又は二種以上を含むAl合金でも構わない。例えば、Al−Ti系、Al−Mg系、Al−Cu−Mg系等のAl合金である。またそれらの合金の複数種、例えばAlCu/Cu/AlCu、Ti/AlCu、Ti/AlCu/Tiが積層された構造でも適応可能である(/は積層界面を示す)。   The IDT electrodes 2a to 2g are generally made of an Al alloy containing Cu as described above, but Al containing one or more of Ti, Ta, Mg, W, Mb and the like other than Cu or together with Cu. An alloy may be used. For example, Al alloys such as Al—Ti, Al—Mg, and Al—Cu—Mg are available. Also, a structure in which a plurality of types of these alloys, for example, AlCu / Cu / AlCu, Ti / AlCu, and Ti / AlCu / Ti are laminated is applicable (/ indicates a laminated interface).

IDT電極2a〜2gの形状は、互いに噛み合うように形成された櫛歯状である。電極指の対数は50〜300程度、電極指の幅は0.1〜 10 μm程度、電極指の間隔は0.1〜 10 μm程度、電極指の交差幅は10〜 200 μm程度、IDT電極2a〜2gの厚みは0.1〜 0.5 μm程度とすることが、共振器あるいはフィルタとしの所望の特性を得るうえで好適である。   The shapes of the IDT electrodes 2a to 2g are comb teeth formed so as to mesh with each other. The number of pairs of electrode fingers is about 50 to 300, the width of electrode fingers is about 0.1 to 10 μm, the distance between electrode fingers is about 0.1 to 10 μm, the crossing width of electrode fingers is about 10 to 200 μm, and the IDT electrodes 2a to 2g A thickness of about 0.1 to 0.5 μm is suitable for obtaining desired characteristics as a resonator or a filter.

圧電基板1としては、 36 °±10°Yカット−X伝搬のLiTaO単結晶、 64 °±10°Yカット−X伝搬のLiNbO単結晶、 45 °±10°Xカット−Z伝搬のLi単結晶等を採用することが、電気機械結合係数が大きく且つ群遅延時間温度係数が小さいため好ましく、特に電気機械結合係数の大きな 36 °±10°Yカット−X伝搬のLiTaO単結晶が好ましい。また、結晶Y軸方向におけるカット角は 36 °±10°の範囲内であれば良く、その場合十分な圧電特性が得られる。 Piezoelectric substrate 1 includes 36 ° ± 10 ° Y cut-X propagation LiTaO 3 single crystal, 64 ° ± 10 ° Y cut-X propagation LiNbO 3 single crystal, 45 ° ± 10 ° X cut-Z propagation Li It is preferable to use 2 B 4 O 7 single crystal or the like because it has a large electromechanical coupling coefficient and a small group delay time temperature coefficient, and is especially a 36 ° ± 10 ° Y cut-X propagation LiTaO having a large electromechanical coupling coefficient. Three single crystals are preferred. Further, the cut angle in the crystal Y-axis direction may be in the range of 36 ° ± 10 °, and in that case, sufficient piezoelectric characteristics can be obtained.

圧電基板1の厚みは0.1〜0.5mm程度がよく、0.1mm未満では圧電基板1が脆くなり、0.5mm超では材料コストが大きくなる。
また、圧電基板1の焦電効果による電極破壊を防ぐために、還元処理を施した圧電基板1や、Fe元素が添加された圧電基板1を使用しても何ら問題ない。
また、この弾性表面波素子で分波器を構成する場合、受信用の弾性表面波素子、送信用の弾性表面波素子を、1つの圧電基板1の主面上に形成してもよい。また、それぞれ別々の圧電基板1に作成し、個々にパッケージに実装してもよい。
The thickness of the piezoelectric substrate 1 is preferably about 0.1 to 0.5 mm. If the thickness is less than 0.1 mm, the piezoelectric substrate 1 becomes brittle, and if it exceeds 0.5 mm, the material cost increases.
Moreover, in order to prevent the electrode destruction due to the pyroelectric effect of the piezoelectric substrate 1, there is no problem even if the piezoelectric substrate 1 subjected to the reduction treatment or the piezoelectric substrate 1 added with Fe element is used.
Further, when a duplexer is constituted by this surface acoustic wave element, a surface acoustic wave element for reception and a surface acoustic wave element for transmission may be formed on the main surface of one piezoelectric substrate 1. Alternatively, they may be formed on separate piezoelectric substrates 1 and individually mounted on a package.

図2に、放熱用電極として放熱用パッド電極を用いた他の構造の弾性表面波素子の平面図を示す。
この構造では、圧電基板1の主面に、IDT電極2a〜2gと、反射器9と、IDT電極2a〜2gに接続される複数の引出し電極10a,10b等と、IDT電極2a〜2g同士を接続する内部接続電極20a,20bと、接地用パッド電極4とを形成している点では、図1と同様である。
FIG. 2 is a plan view of a surface acoustic wave element having another structure using a heat dissipation pad electrode as a heat dissipation electrode.
In this structure, IDT electrodes 2a to 2g, a reflector 9, a plurality of extraction electrodes 10a and 10b connected to the IDT electrodes 2a to 2g, and the IDT electrodes 2a to 2g are provided on the main surface of the piezoelectric substrate 1. The internal connection electrodes 20a and 20b to be connected and the ground pad electrode 4 are formed in the same manner as in FIG.

図1の構造と異なるところは、図1の構造では入出力用パッド電極3a,3bが弾性表面波共振子の間の領域に配置されていたが、この図2の構造では、入出力用パッド電極3a,3bや接地用パッド電極4の他に、何にも接続されない放熱用パッド電極16a,16bが設けられ、この放熱用パッド電極16a,16bが、弾性表面波共振子の間の領域、すなわちIDT電極2a〜2c,2e,2g、反射器9、内部接続電極20a,20bに囲まれた領域に配置されている。そして、入出力用パッド電極3a,3bは、接地用パッド電極4とともに、弾性表面波共振子の外周部に配置されている。   1 is different from the structure of FIG. 1 in that the input / output pad electrodes 3a and 3b are arranged in the region between the surface acoustic wave resonators in the structure of FIG. In addition to the electrodes 3a and 3b and the grounding pad electrode 4, heat dissipating pad electrodes 16a and 16b that are not connected to anything are provided, and the heat dissipating pad electrodes 16a and 16b are formed between the surface acoustic wave resonators, That is, it is arranged in a region surrounded by the IDT electrodes 2a to 2c, 2e, 2g, the reflector 9, and the internal connection electrodes 20a, 20b. The input / output pad electrodes 3 a and 3 b are arranged along with the grounding pad electrode 4 on the outer peripheral portion of the surface acoustic wave resonator.

図3に、以上のように構成した弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置の模式的な断面図を示す。
弾性表面波素子は、圧電基板1の、IDT電極2a〜2g(総称して「IDT電極2」という)等の設けられた主面が回路基板11の上面(実装面という)に対面するようにして、フェースダウン実装されている。
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view of a surface acoustic wave device in which the surface acoustic wave element configured as described above is mounted on a circuit board.
The surface acoustic wave element is configured such that the principal surface of the piezoelectric substrate 1 provided with IDT electrodes 2a to 2g (generally referred to as “IDT electrode 2”) faces the upper surface (referred to as a mounting surface) of the circuit board 11. It is mounted face down.

圧電基板1の主面に形成された入出力用パッド電極3a,3b(総称して「入出力用パッド電極3」という)は、回路基板11の実装面に形成された接続電極12に、バンプ接続体13を介して接続されている。
接続電極12は、回路基板11を貫通するように設けられた貫通導体19を通して、回路基板11の底面に形成された放熱用底面電極21に接続される。放熱用底面電極21は、本弾性表面波装置が搭載されるメインボードの所定の電極に接続されることはもちろんである。
Input / output pad electrodes 3a and 3b (collectively referred to as “input / output pad electrode 3”) formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1 are bumped to the connection electrodes 12 formed on the mounting surface of the circuit substrate 11. The connection body 13 is connected.
The connection electrode 12 is connected to a heat radiation bottom electrode 21 formed on the bottom surface of the circuit board 11 through a through conductor 19 provided so as to penetrate the circuit board 11. Of course, the heat radiation bottom electrode 21 is connected to a predetermined electrode of the main board on which the surface acoustic wave device is mounted.

前記回路基板11は、例えば一枚のセラミック基板、又は、セラミック基板と1枚以上の枠状セラミック基板とを積層することによって作製される。なお、セラミックに代えてBTレジンなどの樹脂を用いてもよい。
回路基板11に設けられる接続電極12や放熱用底面電極21は、電解めっき又は無電解めっき法によって形成する。
The circuit board 11 is produced, for example, by laminating a single ceramic substrate or a ceramic substrate and one or more frame-shaped ceramic substrates. A resin such as BT resin may be used instead of ceramic.
The connection electrode 12 and the heat radiation bottom electrode 21 provided on the circuit board 11 are formed by electrolytic plating or electroless plating.

バンプ接続体13は、半田ペースト、Au−Sn合金ペースト等をスクリーン印刷等の印刷法により形成するか又はディスペンサーで塗布することにより同時に形成する。バンプ接続体13は、ここでは回路基板11側に形成される場合を示したが、弾性表面波素子側に形成してもかまわない。
貫通導体19は、回路基板11に設けた孔の中に導電性ペーストを充填した後、加熱硬化することにより形成する。
The bump connection body 13 is formed simultaneously by forming a solder paste, an Au—Sn alloy paste or the like by a printing method such as screen printing, or by applying with a dispenser. Here, the bump connection body 13 is formed on the circuit board 11 side. However, the bump connection body 13 may be formed on the surface acoustic wave element side.
The through conductor 19 is formed by filling a hole provided in the circuit board 11 with a conductive paste and then curing by heating.

この圧電基板1の載置された回路基板11をリフロー炉にてリフロー溶融することにより、弾性表面波素子と回路基板11とを電気的かつ機械的に接続する。そして、ポッティング法又は印刷法により弾性表面波素子の裏面及び周囲面に封止樹脂15を形成し、樹脂を加熱硬化することにより弾性表面波装置が完成する。
なお、図3において、圧電基板1と回路基板11との対向面同士の間に形成される振動空間S内に、低湿度の空気を封入し密閉するようにしてもよい。これにより、IDT電極2の酸化等による劣化を抑制でき好ましい。また、空気の代わりに、窒素ガス,アルゴンガスなどの不活性ガス等を封入し密閉すれば、より好ましい効果が得られる。
By reflow-melting the circuit board 11 on which the piezoelectric substrate 1 is placed in a reflow furnace, the surface acoustic wave element and the circuit board 11 are electrically and mechanically connected. Then, the sealing resin 15 is formed on the back surface and the peripheral surface of the surface acoustic wave element by the potting method or the printing method, and the surface acoustic wave device is completed by heat curing the resin.
In FIG. 3, low-humidity air may be sealed and sealed in the vibration space S formed between the opposing surfaces of the piezoelectric substrate 1 and the circuit substrate 11. This is preferable because deterioration due to oxidation or the like of the IDT electrode 2 can be suppressed. Further, if an inert gas such as nitrogen gas or argon gas is sealed instead of air and sealed, a more preferable effect can be obtained.

この弾性表面波素子で発生した熱は、圧電基板1の主面に形成された入出力用パッド電極3a,3b(図1の場合)又は放熱用パッド電極16a,16b(図2の場合)から、バンプ接続体13を介して接続電極12に伝わり、さらに貫通導体19を介して回路基板11の底面に形成された放熱用底面電極21に伝わり、放熱される。
特に、本発明の実施形態では、圧電基板1の上で、入出力用パッド電極3a,3b又は放熱用パッド電極16a,16bを弾性表面波共振子の間の領域に配置したので、これらの入出力用パッド電極3a,3bや放熱用パッド電極16a,16bによって、熱を集めることが容易にでき、その収集した熱を回路基板11の底面に放熱することで、効率的な放熱を行うことができる。
The heat generated by the surface acoustic wave element is generated from the input / output pad electrodes 3a and 3b (in the case of FIG. 1) or the heat dissipation pad electrodes 16a and 16b (in the case of FIG. 2) formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1. The heat is transmitted to the connection electrode 12 through the bump connection body 13 and further transmitted to the heat-dissipating bottom electrode 21 formed on the bottom surface of the circuit board 11 through the through conductor 19 to be dissipated.
In particular, in the embodiment of the present invention, the input / output pad electrodes 3a and 3b or the heat radiation pad electrodes 16a and 16b are arranged on the piezoelectric substrate 1 in the region between the surface acoustic wave resonators. Heat can be easily collected by the output pad electrodes 3a and 3b and the heat radiation pad electrodes 16a and 16b, and the collected heat can be radiated to the bottom surface of the circuit board 11 so that efficient heat radiation can be performed. it can.

このような放熱を積極的に行う構造を採用することにより、小型軽量で、フェースダウン実装でありながら弾性表面波共振子で発生した熱を効率良く放熱することができる。したがって、温度による弾性表面波装置の特性の変化が少なく、安定した特性を得ることができる。その結果として、電極指の破壊が生じることなく、耐電力性、長期信頼性に優れた弾性表面波装置を提供することができる。   By adopting such a structure that actively dissipates heat, it is possible to efficiently dissipate heat generated by the surface acoustic wave resonator while being face-down mounted with a small size and light weight. Therefore, there is little change in the characteristics of the surface acoustic wave device due to temperature, and stable characteristics can be obtained. As a result, it is possible to provide a surface acoustic wave device excellent in power durability and long-term reliability without causing electrode finger destruction.

次に、圧電基板1に環状電極を設けた弾性表面波素子の構造を説明する。
図4は、本発明の弾性表面波素子のさらに他の構造を示す平面図である。
この構造では、圧電基板1上の弾性表面波共振子の外周部に、弾性表面波共振子を取り囲むように環状電極17が形成されている。そしてIDT電極2d〜2gの接地側に接続された接地用パッド電極4がなく、IDT電極2d〜2gの接地側は環状電極17に接続されている。すなわち、接地用パッド電極4に代えて、環状電極17が接地機能を果たしている。
Next, the structure of a surface acoustic wave element in which an annular electrode is provided on the piezoelectric substrate 1 will be described.
FIG. 4 is a plan view showing still another structure of the surface acoustic wave element of the present invention.
In this structure, an annular electrode 17 is formed on the outer peripheral portion of the surface acoustic wave resonator on the piezoelectric substrate 1 so as to surround the surface acoustic wave resonator. There is no grounding pad electrode 4 connected to the ground side of the IDT electrodes 2d to 2g, and the ground side of the IDT electrodes 2d to 2g is connected to the annular electrode 17. That is, instead of the grounding pad electrode 4, the annular electrode 17 performs the grounding function.

この図4においても、図1と同様、入出力用パッド電極3a,3bが弾性表面波共振子の間の領域、すなわちIDT電極2a〜2c,2e,2g、反射器9、内部接続電極20a,20bに囲まれた領域に配置された構成となっている。
図5は、図4の弾性表面波素子を、回路基板11にフェースダウン実装した状態を示す断面図である。
Also in FIG. 4, as in FIG. 1, the input / output pad electrodes 3a, 3b are regions between the surface acoustic wave resonators, that is, the IDT electrodes 2a to 2c, 2e, 2g, the reflector 9, the internal connection electrodes 20a, It is the structure arrange | positioned in the area | region enclosed by 20b.
FIG. 5 is a cross-sectional view showing a state where the surface acoustic wave element of FIG. 4 is mounted face-down on the circuit board 11.

この構造によれば、圧電基板1を回路基板11上に載置し、弾性表面波素子の主面に形成された入出力用パッド電極3a,3bと、回路基板11の実装面に形成された接続電極12とを、バンプ接続体13を介して接続し、接続電極12を、貫通導体19を通して回路基板11の放熱用底面電極21に接続するとともに、環状電極17を、半田等からなる環状封止材18を介して回路基板11側に形成された環状導体14に接続している。   According to this structure, the piezoelectric substrate 1 is placed on the circuit board 11, and the input / output pad electrodes 3 a and 3 b formed on the main surface of the surface acoustic wave element and the mounting surface of the circuit board 11 are formed. The connection electrode 12 is connected via the bump connection body 13, the connection electrode 12 is connected to the bottom electrode 21 for heat dissipation of the circuit board 11 through the through conductor 19, and the annular electrode 17 is connected to the annular seal made of solder or the like. It is connected to an annular conductor 14 formed on the circuit board 11 side via a stopper 18.

これにより、入出力用パッド電極3a,3bで、熱を集めることが容易にでき、その熱を、貫通導体19を通して回路基板11の底面に放熱することで、効率的な熱放散を行うことができる。また、環状導体14を通して、環状電極17を接地することができるので、電磁的なノイズを遮断できるとともに、圧電基板1の主面と、回路基板11の実装面との間の間隙を気密封止しやすくなる。   Thus, heat can be easily collected by the input / output pad electrodes 3a and 3b, and the heat can be efficiently dissipated by dissipating the heat to the bottom surface of the circuit board 11 through the through conductors 19. it can. Further, since the annular electrode 17 can be grounded through the annular conductor 14, electromagnetic noise can be cut off, and the gap between the main surface of the piezoelectric substrate 1 and the mounting surface of the circuit substrate 11 is hermetically sealed. It becomes easy to do.

図6に他の実施形態に係る弾性表面波素子を回路基板11に実装した状態の断面図を示す。
この実施形態の図3と異なるところは、圧電基板1の主面と反対側の面(裏面という)に、スパッタリング法等により金属膜22が形成されていることである。
前記金属膜22としては、密着層となるCr、バリアメタル層となるNi、半田の濡れ性を向上させるAu等が順次積層された構造を用いることができる。
FIG. 6 shows a cross-sectional view of a surface acoustic wave element according to another embodiment mounted on a circuit board 11.
The difference from FIG. 3 of this embodiment is that a metal film 22 is formed on the surface opposite to the main surface of the piezoelectric substrate 1 (referred to as the back surface) by sputtering or the like.
As the metal film 22, a structure in which Cr serving as an adhesion layer, Ni serving as a barrier metal layer, Au improving solder wettability, and the like are sequentially laminated can be used.

この圧電基板1の裏面に設けた金属膜22によって、素子製造時に、温度履歴が加わっても、圧電基板1が集電破壊されるおそれが少なくなる(圧電基板1に還元処理を施したり、Fe元素を添加したりするのと同じ効果である)。
なお、金属膜22は、圧電基板1の裏面のみならず、図7に示すように、圧電基板1の側面に形成されていてもよい。
The metal film 22 provided on the back surface of the piezoelectric substrate 1 reduces the possibility that the piezoelectric substrate 1 is destroyed due to current collection even when a temperature history is applied during the manufacture of the element (reduction treatment is performed on the piezoelectric substrate 1 or Fe This is the same effect as adding elements).
The metal film 22 may be formed not only on the back surface of the piezoelectric substrate 1 but also on the side surface of the piezoelectric substrate 1 as shown in FIG.

また、以上の圧電基板1の裏面に金属膜22を形成した図6の構造や、圧電基板1の裏面及び側面に金属膜22を形成した図7の構造においても、図4と同様に、圧電基板1の、弾性表面波共振子の外周部に、弾性表面波共振子を取り囲むように環状電極17を形成し、この環状電極17を接地用電極として機能させてもよい。環状電極17が形成された弾性表面波共振子を回路基板11にフェースダウン実装することにより、圧電基板1の弾性表面波共振子の外周部に形成された環状電極17を、回路基板11側に形成された半田等からなる環状導体14に接続して、弾性表面波素子の主面と、回路基板11の実装面との間隙を気密封止した状態を断面図である図8に示す。   Further, in the structure of FIG. 6 in which the metal film 22 is formed on the back surface of the piezoelectric substrate 1 and the structure of FIG. 7 in which the metal film 22 is formed on the back surface and side surface of the piezoelectric substrate 1, as in FIG. An annular electrode 17 may be formed on the outer peripheral portion of the surface acoustic wave resonator of the substrate 1 so as to surround the surface acoustic wave resonator, and this annular electrode 17 may function as a grounding electrode. By mounting the surface acoustic wave resonator formed with the annular electrode 17 face-down on the circuit board 11, the annular electrode 17 formed on the outer peripheral portion of the surface acoustic wave resonator of the piezoelectric substrate 1 is placed on the circuit board 11 side. FIG. 8 is a sectional view showing a state in which the gap between the main surface of the surface acoustic wave element and the mounting surface of the circuit board 11 is hermetically sealed by connecting to the formed annular conductor 14 made of solder or the like.

図9は、本発明の他の実施形態に係る弾性表面波素子を示す平面図である。図10は、この弾性表面波素子を回路基板11に実装した状態を示す模式的な断面図である。
図9に示すように、圧電基板1の主面に、弾性表面波を発生させるための励振電極であるIDT電極2と、IDT電極2に接続される複数の引出し電極10と、IDT電極2同士を接続する内部接続電極20とが形成されたものである。弾性表面波共振子の外周部には、前記電極を取り囲むように環状電極17が形成されている。
FIG. 9 is a plan view showing a surface acoustic wave device according to another embodiment of the present invention. FIG. 10 is a schematic cross-sectional view showing a state in which this surface acoustic wave element is mounted on the circuit board 11.
As shown in FIG. 9, an IDT electrode 2 that is an excitation electrode for generating a surface acoustic wave, a plurality of extraction electrodes 10 connected to the IDT electrode 2, and the IDT electrodes 2 are formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1. And an internal connection electrode 20 for connecting the two. An annular electrode 17 is formed on the outer peripheral portion of the surface acoustic wave resonator so as to surround the electrode.

さらに、圧電基板1上に少なくとも1つの放熱用パッド電極16a,16b(総称するときは「放熱用パッド電極16」という)が配置されている。これらの放熱用パッド電極16は、接続電極24を通して、環状電極17に接続されている。したがって、放熱用パッド電極16で発生した熱が、接続電極24を通して、環状電極17に伝達されるようになっている。なお、この図9では、放熱用パッド電極16からつながる接続電極24は、IDT電極2eの接地電極と合体して環状電極17につながっているが、IDT電極2eの接地電極と別々に延びて、環状電極17につながっていても良い。   Further, at least one heat radiation pad electrode 16 a, 16 b (collectively referred to as “heat radiation pad electrode 16”) is disposed on the piezoelectric substrate 1. These heat radiation pad electrodes 16 are connected to the annular electrode 17 through the connection electrodes 24. Therefore, the heat generated in the heat dissipation pad electrode 16 is transmitted to the annular electrode 17 through the connection electrode 24. In FIG. 9, the connection electrode 24 connected to the heat radiation pad electrode 16 is joined to the ground electrode of the IDT electrode 2e and connected to the annular electrode 17, but extends separately from the ground electrode of the IDT electrode 2e, It may be connected to the annular electrode 17.

図10に示すように、圧電基板1のIDT電極2等が設けられた主面が、回路基板11の実装面に対面するようにフェースダウン実装されている。
圧電基板1を回路基板11上に載置し、環状電極17を、これに対応して回路基板11上に形成された環状導体14に、バンプ接続体13を介して接続している。
環状導体14は、回路基板11を貫通する貫通導体19を介して、回路基板11の放熱用底面電極21と接続される。回路基板11中には、導体層(内層導体という)8が形成されていて、貫通導体19がこの内層導体8に接続されている。したがって、内層導体8によって熱を拡散させる効果が得られる。内層導体8の平面形状は、図示しないが、他の電極に接触しないという条件で、できるだけ広い面積にわたって形成するほうが、放熱性の点で有利なことは言うまでもない。
As shown in FIG. 10, the main surface of the piezoelectric substrate 1 on which the IDT electrodes 2 and the like are provided is mounted face-down so that the mounting surface of the circuit substrate 11 faces.
The piezoelectric substrate 1 is placed on the circuit board 11, and the annular electrode 17 is connected to the annular conductor 14 formed on the circuit board 11 correspondingly via the bump connector 13.
The annular conductor 14 is connected to the heat-dissipating bottom electrode 21 of the circuit board 11 through the through conductor 19 that penetrates the circuit board 11. A conductor layer (referred to as an inner layer conductor) 8 is formed in the circuit board 11, and a through conductor 19 is connected to the inner layer conductor 8. Therefore, the effect of diffusing heat by the inner layer conductor 8 is obtained. The planar shape of the inner layer conductor 8 is not shown, but it is needless to say that it is more advantageous in terms of heat dissipation if it is formed over as large an area as possible without contact with other electrodes.

このように圧電基板1を載置した回路基板11をリフロー炉にてリフロー溶融することにより、弾性表面波素子と回路基板11とが電気的かつ機械的に接続される。そして、ポッティング法又は印刷法により弾性表面波素子の裏面及び周囲面に封止樹脂15を形成し、樹脂を加熱硬化することにより弾性表面波装置が完成する。
このフェースダウン実装した弾性表面波装置の特徴は、圧電基板1の主面において、IDT電極2等を取囲む環状電極17を形成し、放熱用パッド電極16をこの環状電極17に接続したことである。環状電極17は、回路基板11の放熱用底面電極21と接続されるので、放熱用パッド電極16で集められた熱を、環状電極17を通して、内層導体8及び回路基板11の放熱用底面電極21に逃がすことが容易にできる。
Thus, by reflow-melting the circuit board 11 on which the piezoelectric substrate 1 is placed in a reflow furnace, the surface acoustic wave element and the circuit board 11 are electrically and mechanically connected. Then, the sealing resin 15 is formed on the back surface and the peripheral surface of the surface acoustic wave element by the potting method or the printing method, and the surface acoustic wave device is completed by heat curing the resin.
The feature of this surface-down surface acoustic wave device is that an annular electrode 17 surrounding the IDT electrode 2 and the like is formed on the main surface of the piezoelectric substrate 1, and the heat dissipating pad electrode 16 is connected to the annular electrode 17. is there. Since the annular electrode 17 is connected to the bottom electrode 21 for heat dissipation of the circuit board 11, the heat collected by the pad electrode 16 for heat dissipation passes through the annular electrode 17 and the bottom electrode 21 for heat dissipation of the inner layer conductor 8 and the circuit board 11. Easy to escape.

したがって、大きな信号電力が入力された場合、IDT電極2の近傍で発生する熱を、環状電極17を介して効率的に逃がすことにより、充分な放熱性が得られる。
図11は、図10の構造に加えて、放熱用パッド電極16を、バンプ接続体13を通して回路基板11の接続電極12に直接接続した構造を示す断面図である。回路基板11の接続電極12は、回路基板11を貫通する貫通導体19を介して、回路基板11中の内層導体8に接続されている。
Therefore, when large signal power is input, sufficient heat dissipation is obtained by efficiently releasing the heat generated in the vicinity of the IDT electrode 2 through the annular electrode 17.
FIG. 11 is a cross-sectional view showing a structure in which the heat dissipation pad electrode 16 is directly connected to the connection electrode 12 of the circuit board 11 through the bump connection body 13 in addition to the structure of FIG. The connection electrode 12 of the circuit board 11 is connected to the inner layer conductor 8 in the circuit board 11 through a through conductor 19 that penetrates the circuit board 11.

この構造では、放熱用パッド電極16で集められた熱は、バンプ接続体13を通して回路基板11中の内層導体8に伝達され、内層導体8を通って放熱用底面電極21に放熱される。図10の放熱経路の他に、放熱経路面積が増えるので、放熱効率がよくなる。
図12に本発明の弾性表面波装置の他の実施形態の平面図を示す。図13は、その模式的な断面図である。
In this structure, the heat collected by the heat dissipating pad electrode 16 is transmitted to the inner layer conductor 8 in the circuit board 11 through the bump connector 13, and is radiated to the heat dissipating bottom electrode 21 through the inner layer conductor 8. Since the heat dissipation path area is increased in addition to the heat dissipation path of FIG. 10, the heat dissipation efficiency is improved.
FIG. 12 shows a plan view of another embodiment of the surface acoustic wave device of the present invention. FIG. 13 is a schematic cross-sectional view thereof.

図12の弾性表面波装置は、図9の弾性表面波装置と同様に、圧電基板1の主面に放熱用パッド電極16とIDT電極2を取囲む環状電極17を設けている。
図9との違いは、圧電基板1の主面において、入出力用パッド電極3aが、放熱用パッド電極16aとともに、弾性表面波共振子の間の領域に配置され、入出力用パッド電極3bが、放熱用パッド電極16bとともに、弾性表面波共振子の間の領域に配置されていることである。これらの入出力用パッド電極3a,3bや放熱用パッド電極16a,16bによって、熱を集めることが容易にでき、その収集した熱を回路基板11の底面に放熱することで、効率的な放熱を行うことができる。
The surface acoustic wave device of FIG. 12 is provided with an annular electrode 17 surrounding the heat radiation pad electrode 16 and the IDT electrode 2 on the main surface of the piezoelectric substrate 1 as in the surface acoustic wave device of FIG.
The difference from FIG. 9 is that, on the main surface of the piezoelectric substrate 1, the input / output pad electrode 3a is disposed in the region between the surface acoustic wave resonators together with the heat dissipation pad electrode 16a, and the input / output pad electrode 3b is In other words, the heat dissipation pad electrode 16b is disposed in a region between the surface acoustic wave resonators. The input / output pad electrodes 3a and 3b and the heat dissipation pad electrodes 16a and 16b can easily collect heat, and the collected heat is dissipated to the bottom surface of the circuit board 11, thereby efficiently dissipating heat. It can be carried out.

回路基板11の実装面には、入出力用パッド電極3に対向する接続電極が形成され、この接続電極が貫通導体を通して回路基板の放熱用底面電極と接続されることは、図3と同様である。
図13〜図18は、放熱用パッド電極16からつながる放熱経路の配置例を示す断面図である。
A connection electrode facing the input / output pad electrode 3 is formed on the mounting surface of the circuit board 11, and this connection electrode is connected to the bottom electrode for heat dissipation of the circuit board through the through conductor as in FIG. is there.
13 to 18 are cross-sectional views showing examples of arrangement of heat radiation paths connected from the heat radiation pad electrode 16.

図13では、放熱用パッド電極16は、バンプ接続体13により、回路基板11上で接続電極23に接続されている。接続電極23は、回路基板11上で環状電極17に対向する環状導体14に接続されている。すなわち図13に示すように、放熱用パッド電極16は、回路基板11側で環状導体14と接続される。環状導体14は、貫通導体19を通して回路基板11の放熱用底面電極21と接続されることは、図10と同様である。   In FIG. 13, the heat dissipation pad electrode 16 is connected to the connection electrode 23 on the circuit board 11 by the bump connection body 13. The connection electrode 23 is connected to the annular conductor 14 facing the annular electrode 17 on the circuit board 11. That is, as shown in FIG. 13, the heat radiation pad electrode 16 is connected to the annular conductor 14 on the circuit board 11 side. The annular conductor 14 is connected to the heat radiation bottom electrode 21 of the circuit board 11 through the through conductor 19 in the same manner as in FIG.

この実施形態においても、放熱用パッド電極16で集められた熱を、接続電極23、環状導体14を通して、回路基板11の放熱用底面電極21に効率的に逃がすことができ、図10の実施形態と同様に、高い放熱性が得られる。
また、図14に他の変形例に係る断面図を示す。
この図14の構造においては、図13の構成に加えて、放熱用パッド電極16a,16bが、回路基板11に形成された接続電極12、貫通導体19a,19bと接続され、貫通導体19a,19bが回路基板11の放熱用底面電極21と接続されている。
Also in this embodiment, the heat collected by the heat dissipating pad electrode 16 can be efficiently released to the heat dissipating bottom electrode 21 of the circuit board 11 through the connection electrode 23 and the annular conductor 14, and the embodiment of FIG. As with, high heat dissipation is obtained.
FIG. 14 is a cross-sectional view according to another modification.
In the structure of FIG. 14, in addition to the configuration of FIG. 13, the heat radiation pad electrodes 16a and 16b are connected to the connection electrode 12 and the through conductors 19a and 19b formed on the circuit board 11, and the through conductors 19a and 19b are connected. Is connected to the bottom electrode 21 for heat dissipation of the circuit board 11.

この実施形態においても、放熱用パッド電極16a,16bで集められた熱を、バンプ接続体13、接続電極12及び貫通導体19a,19bを通して、直接、回路基板11の放熱用底面電極21に効率的に逃がすことができ、図13の実施形態よりも、さらに高い放熱性が得られる。
また、図15に他の変形例に係る断面図を示す。
Also in this embodiment, the heat collected by the heat dissipating pad electrodes 16a and 16b is efficiently applied directly to the heat dissipating bottom electrode 21 of the circuit board 11 through the bump connector 13, the connecting electrode 12, and the through conductors 19a and 19b. Therefore, higher heat dissipation than that of the embodiment of FIG. 13 can be obtained.
FIG. 15 is a cross-sectional view according to another modification.

この図15の構造においては、放熱用パッド電極16a,16bが、回路基板11に形成された接続電極12、貫通導体19a,19bと接続され、貫通導体19a,19bが回路基板11の放熱用底面電極21と接続されている。図14との違いは、回路基板11の底面の広い範囲にわたって放熱用底面電極21が形成されていることである。図14と同様に、回路基板11側の放熱用底面電極21を通して放熱効率を向上させることができる。   In the structure of FIG. 15, the heat dissipation pad electrodes 16 a and 16 b are connected to the connection electrode 12 and the through conductors 19 a and 19 b formed on the circuit board 11, and the through conductors 19 a and 19 b are the bottom surface for heat dissipation of the circuit board 11. It is connected to the electrode 21. The difference from FIG. 14 is that the heat radiation bottom electrode 21 is formed over a wide range of the bottom surface of the circuit board 11. Similarly to FIG. 14, the heat radiation efficiency can be improved through the heat radiation bottom electrode 21 on the circuit board 11 side.

また、図16に、さらに他の変形例に係る断面図を示す。
この図16の構造では、図13の弾性表面波装置と同様に、圧電基板1の主面に放熱用パッド電極16a,16bとIDT電極2を取囲む環状電極17を設けている。また、回路基板11の実装面において、環状電極17に対向する環状導体14が形成されているとともに、放熱用パッド電極16a,16bに対向する接続電極12が形成されている。
FIG. 16 is a cross-sectional view according to still another modification.
In the structure of FIG. 16, as in the surface acoustic wave device of FIG. 13, the annular electrode 17 surrounding the heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b and the IDT electrode 2 is provided on the main surface of the piezoelectric substrate 1. On the mounting surface of the circuit board 11, an annular conductor 14 that faces the annular electrode 17 is formed, and a connection electrode 12 that faces the heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b is formed.

図14,図15との違いは、回路基板11が積層構造を有し、回路基板11中に導体層(内層導体という)8が形成されていることである。環状導体14及び接続電極12がそれぞれ貫通導体19a,19bを通して回路基板11の内層面の内層導体8によってつながっている。
したがって、図16の構造では、放熱用パッド電極16a,16bは、回路基板11の内層面で内層導体8を通して環状導体14と接続される。環状導体14は、貫通導体19を通して回路基板11の放熱用底面電極21と接続されているので、放熱用パッド電極16a,16bで集められた熱を、バンプ接続体13、接続電極12、貫通導体19、内層導体8を通して、回路基板11の放熱用底面電極21に効率的に逃がすことができ、図13の実施形態と同様に、高い放熱性が得られる。
The difference from FIGS. 14 and 15 is that the circuit board 11 has a laminated structure, and a conductor layer (referred to as an inner layer conductor) 8 is formed in the circuit board 11. The annular conductor 14 and the connection electrode 12 are connected by the inner layer conductor 8 on the inner layer surface of the circuit board 11 through the through conductors 19a and 19b, respectively.
Therefore, in the structure of FIG. 16, the heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b are connected to the annular conductor 14 through the inner layer conductor 8 on the inner layer surface of the circuit board 11. Since the annular conductor 14 is connected to the heat radiation bottom electrode 21 of the circuit board 11 through the through conductor 19, the heat collected by the heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b is transferred to the bump connector 13, the connection electrode 12, and the through conductor. 19. Through the inner layer conductor 8, it is possible to efficiently escape to the bottom electrode 21 for heat dissipation of the circuit board 11, and high heat dissipation is obtained as in the embodiment of FIG.

図17に本発明の弾性表面波装置における他の実施形態の断面図を示す。
この弾性表面波装置は、図10の弾性表面波装置と同様に、圧電基板1の主面に放熱用パッド電極16a,16bと、環状電極17とを設けている。回路基板11には、これに対応して環状導体14が形成され、環状導体14は、回路基板11を貫通する貫通導体19を介して、回路基板11の放熱用底面電極21と接続される。
FIG. 17 shows a cross-sectional view of another embodiment of the surface acoustic wave device of the present invention.
This surface acoustic wave device is provided with heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b and an annular electrode 17 on the main surface of the piezoelectric substrate 1 as in the surface acoustic wave device of FIG. 10. Correspondingly, an annular conductor 14 is formed on the circuit board 11, and the annular conductor 14 is connected to a heat radiation bottom electrode 21 of the circuit board 11 through a through conductor 19 that penetrates the circuit board 11.

この構造では、環状導体14が回路基板11の側面に形成した導体パターン21aに接続され、導体パターン21aは、回路基板11の放熱用底面電極21と接続されている。
側面に形成された導体パターン21aは、同様に導体ペーストを印刷して加熱硬化するか、無電解メッキにて形成される。
この構造では、回路基板11の実装面、底面だけでなく、回路基板11の側面も熱を逃がす経路に利用しているので、より放熱性を高めることができる。
In this structure, the annular conductor 14 is connected to a conductor pattern 21 a formed on the side surface of the circuit board 11, and the conductor pattern 21 a is connected to the bottom electrode 21 for heat dissipation of the circuit board 11.
The conductor pattern 21a formed on the side surface is similarly formed by printing a conductor paste and heating and curing, or by electroless plating.
In this structure, not only the mounting surface and the bottom surface of the circuit board 11 but also the side surfaces of the circuit board 11 are used as a path for releasing heat, so that heat dissipation can be further improved.

図18(a)〜(c)に本発明の弾性表面波装置における他の実施形態の断面図を示す。
この弾性表面波装置は、図10の弾性表面波装置と同様に、圧電基板1の主面に放熱用パッド電極16a,16bと、環状電極17とを設けている。回路基板11には、これに対応して環状導体14が形成され、環状導体14は、回路基板11を貫通する貫通導体19を介して、回路基板11の放熱用底面電極21と接続される。
18A to 18C are sectional views of other embodiments of the surface acoustic wave device of the present invention.
This surface acoustic wave device is provided with heat radiation pad electrodes 16 a and 16 b and an annular electrode 17 on the main surface of the piezoelectric substrate 1 as in the surface acoustic wave device of FIG. 10. Correspondingly, an annular conductor 14 is formed on the circuit board 11, and the annular conductor 14 is connected to a heat radiation bottom electrode 21 of the circuit board 11 through a through conductor 19 that penetrates the circuit board 11.

図18(a)の構造では、回路基板11及び封止樹脂15の側面に、回路基板11底面の放熱用底面電極21につながる熱良導体21bが被覆形成されている。熱良導体21bは、Agフィラー等を充填した樹脂を塗布した後、加熱硬化して形成される。このため、弾性表面波装置の側面も熱を逃がす経路として利用することができる。
図18(b)は、封止樹脂15の側面に、熱良導体21bを被覆形成した例を示す。熱良導体21bの存在により、熱抵抗を小さくして、封止樹脂15の側面から熱を逃がしている。
In the structure of FIG. 18A, a good thermal conductor 21 b connected to the heat radiation bottom electrode 21 on the bottom surface of the circuit board 11 is coated on the side surfaces of the circuit board 11 and the sealing resin 15. The heat good conductor 21b is formed by applying a resin filled with Ag filler or the like and then heat-curing it. For this reason, the side surface of the surface acoustic wave device can also be used as a path for releasing heat.
FIG. 18B shows an example in which the heat good conductor 21 b is formed on the side surface of the sealing resin 15. Due to the presence of the good thermal conductor 21 b, the thermal resistance is reduced and heat is released from the side surface of the sealing resin 15.

図18(c)は、封止樹脂15の側面たけでなく、封止樹脂15の上面に熱良導体21cを被覆形成した例を示す。封止樹脂15の側面及び上面を熱を逃がす経路として利用することにより、熱良導体の面積をさらに広げることができるので、放熱性がさらに高まる。
次に、本発明の通信装置の実施形態について、携帯電話機を例にあげて説明する。
FIG. 18C shows an example in which the good thermal conductor 21 c is formed on the upper surface of the sealing resin 15 instead of just the side surfaces of the sealing resin 15. By using the side surface and the upper surface of the sealing resin 15 as a path for releasing heat, the area of the heat good conductor can be further increased, so that heat dissipation is further enhanced.
Next, an embodiment of the communication apparatus of the present invention will be described by taking a mobile phone as an example.

受信回路又は送信回路の一方又は両方を備える通信装置において、本発明の弾性表面波素子を、これらの回路に含まれるバンドパスフィルタとして用いることができる。
図19に携帯電話機の高周波回路のブロック回路図を示す。携帯電話機から送信される高周波信号は、弾性表面波フィルタ41によりその不要信号が除去され、パワーアンプ42で増幅された後、アイソレータ43と弾性表面波分波器35を通り、アンテナ34から放射される。
In a communication apparatus including one or both of a reception circuit and a transmission circuit, the surface acoustic wave element of the present invention can be used as a bandpass filter included in these circuits.
FIG. 19 shows a block circuit diagram of a high-frequency circuit of a mobile phone. The unnecessary signal is removed from the high frequency signal transmitted from the cellular phone by the surface acoustic wave filter 41, amplified by the power amplifier 42, and then radiated from the antenna 34 through the isolator 43 and the surface acoustic wave demultiplexer 35. The

また、アンテナ34で受信された高周波信号は、弾性表面波分波器35で切り分けられ、ローノイズアンプ36で増幅され、弾性表面波フィルタ37でその不要信号を除去された後、アンプ38で再増幅されミキサ39で低周波信号に変換される。
本発明の弾性表面波素子を採用すれば、感度が向上した優れた通信装置を提供できる。
以上で、本発明の実施の形態を説明したが、本発明の実施は、前記の形態に限定されるものではない。例えば、以下、弾性表面波素子は、ラダー型弾性表面波フィルタをしたが、2重モード弾性表面波共振器フィルタで構成されてもよい。
The high frequency signal received by the antenna 34 is separated by a surface acoustic wave demultiplexer 35, amplified by a low noise amplifier 36, unnecessary signals are removed by a surface acoustic wave filter 37, and then re-amplified by an amplifier 38. Then, it is converted into a low frequency signal by the mixer 39.
If the surface acoustic wave element of the present invention is employed, an excellent communication device with improved sensitivity can be provided.
Although the embodiments of the present invention have been described above, the embodiments of the present invention are not limited to the above-described embodiments. For example, hereinafter, the surface acoustic wave element is a ladder type surface acoustic wave filter, but may be a double mode surface acoustic wave resonator filter.

また本発明において、圧電基板の主面において弾性表面波素子同士の間の部位に、入出力パッド電極又は放熱用パッド電極の少なくとも一方を複数形成する場合、入出力端子に最も近く接続されたIDT電極が最も発熱するので、そのIDT電極の周囲の放熱用パッド電極の面積を最も大きくする構成が好ましい。その他、本発明の範囲内で種々の変更を施すことが可能である。   In the present invention, in the case where at least one of the input / output pad electrodes and the heat dissipation pad electrode is formed in a portion between the surface acoustic wave elements on the main surface of the piezoelectric substrate, the IDT connected closest to the input / output terminals. Since the electrode generates the most heat, a configuration in which the area of the heat radiation pad electrode around the IDT electrode is maximized is preferable. In addition, various modifications can be made within the scope of the present invention.

図4に示される弾性表面波装置を製造した。
圧電基板1として 36 °Yカット−X伝搬のLiTaO結晶を用い、そのチップサイズは、 1.1mm ×1.5mmであった。また、回路基板11として 70mm ×70mm、厚さ 250 μmのLTCC(Low Temperature Co-fired Ceramics:低温同時焼成セラミックス)基板を用いた。LTCC基板には約1μm膜厚のAg電極を形成した。
The surface acoustic wave device shown in FIG. 4 was manufactured.
As the piezoelectric substrate 1, a 36 ° Y cut-X propagation LiTaO 3 crystal was used, and its chip size was 1.1 mm × 1.5 mm. Further, as the circuit board 11, an LTCC (Low Temperature Co-fired Ceramics) board having a thickness of 70 mm × 70 mm and a thickness of 250 μm was used. An Ag electrode having a thickness of about 1 μm was formed on the LTCC substrate.

圧電基板1に、スパッタ法によりIDT電極2としてAl−Cu電極を形成した。Al−Cu電極の電極厚さは、 1800 Åであった。入出力用パッド電極3は、弾性表面波素子チップの中央で、直列腕の弾性表面波共振子の間の領域に配置した。
また、スパッタ法により圧電基板1の裏面にCr膜 1000 Å、Ni膜1μm、Au膜 1000 Åを形成した。
An Al—Cu electrode was formed as an IDT electrode 2 on the piezoelectric substrate 1 by sputtering. The electrode thickness of the Al—Cu electrode was 1800 mm. The input / output pad electrode 3 is disposed in a region between the surface acoustic wave resonators of the serial arm at the center of the surface acoustic wave element chip.
Also, a Cr film 1000 Å, a Ni film 1 μm, and an Au film 1000 に were formed on the back surface of the piezoelectric substrate 1 by sputtering.

回路基板11には、圧電基板1の入出力パッド電極3が当接する位置と環状電極17の位置に、環状導体14となる半田ペーストを予めスクリーン印刷法により塗布した。塗布した半田ペーストの線幅は、約 100 μmであった。同様に半田ペーストをスクリーン印刷法により圧電基板1の裏面に塗布した。圧電基板1の側面への半田印刷には、圧電基板1のサイズよりも大きなスクリーンの印刷パターンを用いて側面に塗布した。   On the circuit board 11, a solder paste to be the annular conductor 14 was applied in advance by a screen printing method at a position where the input / output pad electrode 3 of the piezoelectric substrate 1 abuts and a position of the annular electrode 17. The line width of the applied solder paste was about 100 μm. Similarly, a solder paste was applied to the back surface of the piezoelectric substrate 1 by screen printing. For solder printing on the side surface of the piezoelectric substrate 1, a screen printing pattern larger than the size of the piezoelectric substrate 1 was used for application to the side surface.

回路基板11の導体パターンと圧電基板1の入出力パッド電極3が当接する位置と環状電極17の位置に、フェースダウンで載置した後、リフロー炉で 240 ℃、5分間、リフロー溶融後半田を硬化させた。さらに弾性表面波素子を形成した圧電基板1の裏面上部よりエポキシ封止樹脂15をポッティングにより塗布した後、乾燥炉で 150 ℃,5分間、加熱硬化させた。最後に、回路基板11の裏面より各チップ間の分離位置でダイシングすることにより、個々のチップを形成した。以上の工程により幅 1.6mm ×2.0mm、高さ0.6mmの小型で信頼性の高いラダー型弾性表面波フィルタを完成させた。   After face-down mounting at the position where the conductor pattern of the circuit board 11 and the input / output pad electrode 3 of the piezoelectric substrate 1 abut and the position of the annular electrode 17, solder after reflow melting at 240 ° C. for 5 minutes in a reflow oven. Cured. Further, an epoxy sealing resin 15 was applied by potting from the upper part of the back surface of the piezoelectric substrate 1 on which the surface acoustic wave element was formed, and then cured by heating in a drying oven at 150 ° C. for 5 minutes. Finally, individual chips were formed by dicing from the back surface of the circuit board 11 at separation positions between the chips. Through the above process, a small and highly reliable ladder-type surface acoustic wave filter having a width of 1.6 mm × 2.0 mm and a height of 0.6 mm was completed.

放熱性を評価する目的で、弾性表面波装置に信号電力が入ったときのパッド電極の配置による温度上昇の違いを、有限要素法を用いた熱解析により求めた。
図20に、本発明と同じ構造を有し、弾性表面波素子チップの中央で直列腕弾性表面波共振子の間の領域に入出力用パッド電極3を配置した場合の熱解析用モデル(モデル(a))を示す。また、本発明と比較するため、図21に、従来の弾性表面波共振子の外周部に入出力用パッド電極3を配置した場合の熱解析モデル(モデル(b))を示す。なお、外周の環状電極は、両モデルともに存在するものとして評価している。さらに、比較するための極端なモデル(モデル(c)、図示せず。)として、弾性表面波共振子以外の全ての領域にパッド電極が存在する場合も解析した。
For the purpose of evaluating heat dissipation, the difference in temperature rise due to the placement of the pad electrode when signal power was applied to the surface acoustic wave device was determined by thermal analysis using the finite element method.
FIG. 20 shows a thermal analysis model (model) having the same structure as that of the present invention and having the input / output pad electrode 3 arranged in the region between the series arm surface acoustic wave resonators in the center of the surface acoustic wave element chip. (A)) is shown. For comparison with the present invention, FIG. 21 shows a thermal analysis model (model (b)) in the case where the input / output pad electrode 3 is arranged on the outer periphery of a conventional surface acoustic wave resonator. Note that the annular electrode on the outer periphery is evaluated as existing in both models. Furthermore, as an extreme model for comparison (model (c), not shown), the case where the pad electrode exists in all regions other than the surface acoustic wave resonator was also analyzed.

解析条件として、各材料の熱伝導率(W/m・k)は、LiTaO基板が4.1、LTCC基板が3.9、半田接続材が61、エポキシ樹脂が0.5、ビア用Agが150、空気が 2.6 ×10−2を用いた。
解析方法としては、弾性表面波装置に0.4Wの信号電力を入力し、弾性表面波共振子近傍で発生した熱が、弾性表面波装置の内部を伝導し、弾性表面波装置の表面から 25 ℃の雰囲気へ伝達する過程の発熱部における温度を解析した。また、発熱部から雰囲気までの熱抵抗を計算した。結果を表1に示す。
As analysis conditions, thermal conductivity (W / m · k) of each material is 4.1 for LiTaO 3 substrate, 3.9 for LTCC substrate, 61 for solder connection material, 0.5 for epoxy resin, 150 for via Ag, and 2.6 for air. × 10 -2 was used.
As an analysis method, a signal power of 0.4 W is input to the surface acoustic wave device, and the heat generated in the vicinity of the surface acoustic wave resonator is conducted inside the surface acoustic wave device and is 25 ° C from the surface of the surface acoustic wave device. The temperature in the heat generating part during the process of transferring to the atmosphere was analyzed. Further, the thermal resistance from the heat generating part to the atmosphere was calculated. The results are shown in Table 1.

Figure 2007116628
Figure 2007116628

弾性表面波共振子近傍の発熱部における最大温度は、本発明と同様な構造のモデル(a)が 78.6 ℃、従来構造のモデル(b)が 85.7 ℃、モデル(c)が 65.7 ℃であった。発熱部から雰囲気までの熱抵抗は、モデル(a)が 134.0 ℃、モデル(b)が 151.8 ℃、モデル(c)が 101.8 ℃であった。従来構造のモデル(b)に比べて発熱部に近い位置に入出力用パッド電極3を配置したモデル(a)では、熱抵抗が12%低減している(表1より、(151.8−134.0)/151.8=0.117(11.7%)である)。また、従来構造に比較してモデル(c)では、熱抵抗が約33%低減している(表1より、(151.8−101.8)/151.8=0.329(32.9%)である)。   The maximum temperature in the heat generating part near the surface acoustic wave resonator was 78.6 ° C. for the model (a) having the same structure as the present invention, 85.7 ° C. for the model (b) of the conventional structure, and 65.7 ° C. for the model (c). . The thermal resistance from the heat generating part to the atmosphere was 134.0 ° C. for model (a), 151.8 ° C. for model (b), and 101.8 ° C. for model (c). In the model (a) in which the input / output pad electrode 3 is arranged at a position closer to the heat generating portion as compared with the model (b) of the conventional structure, the thermal resistance is reduced by 12% (from Table 1, (151.8- 134.0) /151.8=0.117 (11.7%)). Further, in the model (c), the thermal resistance is reduced by about 33% as compared with the conventional structure (from Table 1, (151.8-101.8) /151.8=0.329 (32.9). %)).

以上の結果より、パッド電極は、発熱部である弾性表面波共振子にできるだけ近い弾性表面波共振子間に配置した方が、放熱性が向上することがわかる。また、モデル(a)とモデル(c)の比較より、パッド電極の面積は、できるだけ大きくかつ弾性表面波共振子間に位置するパッド電極の数が多いほど放熱性が向上することがわかる。
次に、圧電基板1の裏面、裏面と側面に金属膜22を形成したときの放熱性の評価を、弾性表面波装置に信号電力が入ったときのパッド電極の配置による温度上昇の違いについて有限要素法を用いた熱解析により求めた。
From the above results, it can be seen that the heat dissipation is improved when the pad electrode is disposed between the surface acoustic wave resonators as close as possible to the surface acoustic wave resonator as the heat generating portion. Further, from comparison between the model (a) and the model (c), it can be seen that the heat dissipation is improved as the area of the pad electrode is as large as possible and the number of pad electrodes positioned between the surface acoustic wave resonators is increased.
Next, the evaluation of heat dissipation when the metal film 22 is formed on the back surface, back surface, and side surface of the piezoelectric substrate 1 is limited with respect to the difference in temperature rise due to the arrangement of the pad electrodes when signal power enters the surface acoustic wave device. It was obtained by thermal analysis using the element method.

比較するためのモデルとして、圧電基板1の裏面及び側面に金属膜22を形成しておらず、従来の弾性表面波共振子の外周部に入出力用パッド電極3を配置した場合の熱解析モデルB1を用いた。モデルB1に対して、圧電基板1の裏面の金属膜22厚みを0.05mmとしたものをモデルB2、同じく0.1mmとしたものをモデルB3、同じく0.2mmとしてものをモデルB4とし、さらに圧電基板1の裏面の金属膜22厚みが0.1mmで圧電基板1の側面にも金属膜22を形成したものをモデルB5とした。   As a model for comparison, a thermal analysis model in which the metal film 22 is not formed on the back surface and side surface of the piezoelectric substrate 1 and the input / output pad electrode 3 is disposed on the outer peripheral portion of the conventional surface acoustic wave resonator. B1 was used. For model B1, the thickness of the metal film 22 on the back surface of the piezoelectric substrate 1 is 0.05 mm, model B2 is 0.1 mm, model B3 is 0.2 mm, model B4 is 0.2 mm, and piezoelectric substrate 1 A model B5 was obtained by forming a metal film 22 on the side surface of the piezoelectric substrate 1 with the thickness of the metal film 22 on the back surface of 0.1 mm.

なお、外周の環状電極17は、全モデルともに存在するものとして評価している。解析条件として用いた各材料の熱伝導率は、前述と同じ値を用いている。
結果を図22及び表2に示す。
The outer peripheral annular electrode 17 is evaluated as existing in all models. The same values as described above are used for the thermal conductivity of each material used as the analysis condition.
The results are shown in FIG.

Figure 2007116628
Figure 2007116628

弾性表面波共振子近傍の発熱部における最大温度は、モデルB1が 85.7 ℃、モデルB2が 75.5 ℃、モデルB3が 74.4 ℃、モデルB4が 72.7 ℃、モデルB5が 66.6 ℃であった。発熱部から雰囲気までの熱抵抗比は、金属膜22の膜厚が厚くなるほど小さくなる。モデルB2の0.1mmで、金属膜22が無いモデルB1と比べて、熱抵抗が19%減少している。また、圧電基板1の側面にも金属膜22を形成したモデルB5は、熱抵抗比が31%減少している。   The maximum temperatures in the heat generating part near the surface acoustic wave resonator were 85.7 ° C for model B1, 75.5 ° C for model B2, 74.4 ° C for model B3, 72.7 ° C for model B4, and 66.6 ° C for model B5. The thermal resistance ratio from the heat generating part to the atmosphere decreases as the thickness of the metal film 22 increases. The thermal resistance is reduced by 19% compared to the model B1 which is 0.1 mm of the model B2 and does not have the metal film 22. Further, in the model B5 in which the metal film 22 is also formed on the side surface of the piezoelectric substrate 1, the thermal resistance ratio is reduced by 31%.

以上の結果より、圧電基板1の裏面と側面に金属膜22を形成し、所定の膜厚を堆積することにより、弾性表面波共振子で発生する熱を、効率良く放熱できることがわかる。
最後に、同様に圧電基板1の厚みと放熱性の関係の評価を、弾性表面波装置に信号電力が入ったときのパッド電極の配置による温度上昇の違いについて有限要素法を用いた熱解析により求めた。基本構造として、圧電基板1の裏面及び側面に金属膜22を形成しておらず、従来の弾性表面波共振子の外周部に入出力用パッド電極3を配置したものを用いた。圧電基板1として用いるLiTaO基板の厚みは、モデルC1が0.25mm、モデルC2が0.35mm、モデルC3が0.45mmである。なお、外周の環状電極17は、全モデルともに存在するものとして評価している。解析条件として用いた各材料の熱伝導率は、前述と同じ値を用いている。
From the above results, it can be seen that the heat generated by the surface acoustic wave resonator can be efficiently dissipated by forming the metal film 22 on the back surface and side surfaces of the piezoelectric substrate 1 and depositing a predetermined film thickness.
Finally, the relationship between the thickness of the piezoelectric substrate 1 and the heat dissipation is similarly evaluated by thermal analysis using the finite element method for the difference in temperature rise due to the arrangement of the pad electrode when signal power enters the surface acoustic wave device. Asked. As a basic structure, a metal film 22 is not formed on the back and side surfaces of the piezoelectric substrate 1, and a conventional surface acoustic wave resonator having an input / output pad electrode 3 disposed on the outer peripheral portion thereof is used. The thickness of the LiTaO 3 substrate used as the piezoelectric substrate 1 is 0.25 mm for the model C1, 0.35 mm for the model C2, and 0.45 mm for the model C3. The outer peripheral annular electrode 17 is evaluated as existing in all models. The same values as described above are used for the thermal conductivity of each material used as the analysis condition.

結果を図23及び表3に示す。弾性表面波共振子近傍の発熱部における最大温度は、モデルC1が 85.7 ℃、モデルC2が 81.7 ℃、モデルC3が 79.0 ℃であった。発熱部から雰囲気までの熱抵抗比は、圧電基板1の膜みが厚くなるほど小さくなる。モデルC2の厚み0.45mmで、厚み0.25mのモデルC1と比べて、熱抵抗が11%減少している。   The results are shown in FIG. The maximum temperatures in the heat generating part near the surface acoustic wave resonator were 85.7 ° C. for model C1, 81.7 ° C. for model C2, and 79.0 ° C. for model C3. The thermal resistance ratio from the heat generating part to the atmosphere decreases as the thickness of the piezoelectric substrate 1 increases. The thickness of the model C2 is 0.45 mm, and the thermal resistance is 11% lower than that of the model C1 having a thickness of 0.25 m.

Figure 2007116628
Figure 2007116628

以上の結果より、圧電基板1の厚みが厚いほど弾性表面波共振子で発生する熱の放熱性が向上することがわかる。
このように、本発明の構造を採用した場合、小型軽量で、耐電力性に優れ、フェースダウン実装でありながら弾性表面波共振子で発生した熱を効率良く放熱することができる弾性表面波装置を提供することができる。また、放熱を積極的に行う構造を採用しているため、弾性表面波装置の温度特性に起因する特性の変化が少なく、安定した特性を得ることができる。結果として、IDT電極2の電極指の破壊が生じることなく、長期信頼性に優れた弾性表面波装置を提供することができる。
From the above results, it can be seen that the heat dissipation of the heat generated by the surface acoustic wave resonator is improved as the thickness of the piezoelectric substrate 1 is increased.
As described above, when the structure of the present invention is adopted, the surface acoustic wave device is small and light, has excellent power durability, and can efficiently dissipate heat generated by the surface acoustic wave resonator while being face-down mounted. Can be provided. In addition, since a structure that actively dissipates heat is employed, there is little change in characteristics due to the temperature characteristics of the surface acoustic wave device, and stable characteristics can be obtained. As a result, it is possible to provide a surface acoustic wave device having excellent long-term reliability without causing destruction of electrode fingers of the IDT electrode 2.

本発明の弾性表面波素子の電極配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of electrode arrangement | positioning of the surface acoustic wave element of this invention. 本発明の弾性表面波素子の放熱用パッド電極を含む電極配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of electrode arrangement | positioning including the pad electrode for thermal radiation of the surface acoustic wave element of this invention. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子の環状電極を含む電極配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of electrode arrangement | positioning containing the annular electrode of the surface acoustic wave element of this invention. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波装置であって、圧電基板の裏面に金属膜が形成されている弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a surface acoustic wave device according to the present invention in which a surface acoustic wave element having a metal film formed on the back surface of a piezoelectric substrate is mounted on a circuit board. 本発明の弾性表面波装置であって、金属膜が圧電基板の側面にも形成されている弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a surface acoustic wave device according to the present invention, in which a surface acoustic wave element in which a metal film is also formed on a side surface of a piezoelectric substrate is mounted on a circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子の放熱用パッド電極を含む電極配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of electrode arrangement | positioning including the pad electrode for thermal radiation of the surface acoustic wave element of this invention. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子の放熱用パッド電極を含む電極配置例を示す平面図である。It is a top view which shows the example of electrode arrangement | positioning including the pad electrode for thermal radiation of the surface acoustic wave element of this invention. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention in the circuit board. 本発明の弾性表面波素子を回路基板に実装した弾性表面波装置を示す各断面図である。It is each sectional drawing which shows the surface acoustic wave apparatus which mounted the surface acoustic wave element of this invention on the circuit board. 本発明の通信装置の構成を示すブロック図である。It is a block diagram which shows the structure of the communication apparatus of this invention. 本発明の実施例における放熱性を評価ための熱解析に用いたモデルの入出力パッド電極位置を表す平面図である。It is a top view showing the input / output pad electrode position of the model used for the thermal analysis for evaluating the heat dissipation in the Example of this invention. 本発明の実施例における放熱性を評価ための熱解析に用いたモデルの入出力パッド電極位置を表す平面図である。It is a top view showing the input / output pad electrode position of the model used for the thermal analysis for evaluating the heat dissipation in the Example of this invention. 本発明の実施例における放熱性を熱解析により評価した圧電基板上の金属膜の厚みと熱抵抗比の関係を示す線図である。It is a diagram which shows the relationship between the thickness of the metal film on a piezoelectric substrate and thermal resistance ratio which evaluated the heat dissipation in the Example of this invention by the thermal analysis. 本発明の実施例における放熱性を熱解析により評価した圧電基板の厚みと熱抵抗比の関係を示す線図である。It is a diagram which shows the relationship between the thickness of the piezoelectric substrate which evaluated the heat dissipation in the Example of this invention by thermal analysis, and thermal resistance ratio. 従来の弾性表面波装置を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the conventional surface acoustic wave apparatus.

符号の説明Explanation of symbols

1:圧電基板
2:IDT電極
3:入出力用パッド電極
4:接地用パッド電極
9:反射器電極
10:引出し電極
11:回路基板
12:接続電極
13:バンプ接続体
15:封止樹脂
16a,16b:放熱用パッド電極
17:環状電極
18:環状封止材
S:振動空間
1: Piezoelectric substrate 2: IDT electrode 3: Input / output pad electrode 4: Grounding pad electrode 9: Reflector electrode 10: Lead electrode 11: Circuit board 12: Connection electrode 13: Bump connector 15: Sealing resin 16a, 16b: pad electrode for heat dissipation 17: annular electrode 18: annular sealing material S: vibration space

Claims (14)

弾性表面波素子が回路基板上にフェースダウン実装された構造を有する弾性表面波装置において、
前記弾性表面波素子は、圧電基板の主面にIDT電極及び反射器電極を有する弾性表面波共振子が複数配設され、これらの弾性表面波共振子が互いに接続されてなり、
前記圧電基板の前記主面において、前記弾性表面波共振子同士の間の部位に、入出力パッド電極又は放熱用パッド電極のいずれか一方又は両方が形成され、
前記入出力パッド電極又は放熱用パッド電極は、バンプ接続体を介して、前記回路基板の実装面の接続電極に接続されていることを特徴とする弾性表面波装置。
In a surface acoustic wave device having a structure in which a surface acoustic wave element is mounted face-down on a circuit board,
The surface acoustic wave element includes a plurality of surface acoustic wave resonators each having an IDT electrode and a reflector electrode on a main surface of a piezoelectric substrate, and these surface acoustic wave resonators are connected to each other.
In the main surface of the piezoelectric substrate, either or both of an input / output pad electrode and a heat dissipation pad electrode are formed in a portion between the surface acoustic wave resonators,
The surface acoustic wave device, wherein the input / output pad electrode or the heat dissipation pad electrode is connected to a connection electrode on a mounting surface of the circuit board via a bump connection body.
前記圧電基板の主面に、前記弾性表面波素子を取り囲んで、環状電極が形成されている請求項1記載の弾性表面波装置。   2. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein an annular electrode is formed on the main surface of the piezoelectric substrate so as to surround the surface acoustic wave element. 前記回路基板の前記入出力パッド電極又は前記放熱用パッド電極と対向する部位に、前記接続電極に接続された貫通導体が形成されている請求項1又は請求項2記載の弾性表面波装置。   3. The surface acoustic wave device according to claim 1, wherein a through conductor connected to the connection electrode is formed in a portion of the circuit board facing the input / output pad electrode or the heat dissipation pad electrode. 前記圧電基板の裏面及び側面の少なくとも一方の面に金属層が形成されているとともに、前記圧電基板の裏面及び側面が封止樹脂で覆われている請求項1から請求項3のいずれかに記載の弾性表面波装置。   4. The metal layer is formed on at least one of the back surface and the side surface of the piezoelectric substrate, and the back surface and the side surface of the piezoelectric substrate are covered with a sealing resin. 5. Surface acoustic wave device. 弾性表面波素子が回路基板上にフェースダウン実装された構造を有する弾性表面波装置において、
前記弾性表面波素子は、圧電基板の主面にIDT電極及び反射器電極を有する弾性表面波共振子が複数配設され、これらの弾性表面波共振子が互いに接続されてなり、
前記圧電基板の前記主面において、前記弾性表面波共振子同士の間の部位に放熱用パッド電極が形成されているとともに、
前記弾性表面波素子を取り囲む環状電極が形成されていることを特徴とする弾性表面波装置。
In a surface acoustic wave device having a structure in which a surface acoustic wave element is mounted face-down on a circuit board,
The surface acoustic wave element includes a plurality of surface acoustic wave resonators each having an IDT electrode and a reflector electrode on a main surface of a piezoelectric substrate, and these surface acoustic wave resonators are connected to each other.
In the main surface of the piezoelectric substrate, a heat dissipation pad electrode is formed at a portion between the surface acoustic wave resonators, and
A surface acoustic wave device characterized in that an annular electrode surrounding the surface acoustic wave element is formed.
前記放熱用パッド電極は、圧電基板上において、前記環状電極に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。   6. The surface acoustic wave device according to claim 5, wherein the heat dissipating pad electrode is connected to the annular electrode on a piezoelectric substrate. 前記回路基板の実装面に、前記環状電極に対向する環状導体が形成され、
前記放熱用パッド電極は、バンプ接続体及び回路基板上に形成された接続電極を介して、前記環状導体に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。
An annular conductor facing the annular electrode is formed on the mounting surface of the circuit board,
The surface acoustic wave device according to claim 5, wherein the heat dissipation pad electrode is connected to the annular conductor via a connection electrode formed on the bump connector and the circuit board.
前記放熱用パッド電極は、バンプ接続体、回路基板上に形成された接続電極及び回路基板を貫く貫通導体を介して、前記回路基板の底面に形成された放熱用底面電極に接続されている請求項7記載の弾性表面波装置。   The heat dissipation pad electrode is connected to a heat dissipation bottom electrode formed on a bottom surface of the circuit board via a bump connector, a connection electrode formed on the circuit board, and a through conductor penetrating the circuit board. Item 8. The surface acoustic wave device according to Item 7. 前記回路基板の実装面に、前記環状電極に対向する環状導体が形成され、
前記放熱用パッド電極は、バンプ接続体、回路基板上に形成された接続電極及び回路基板を貫く貫通導体を介して、前記回路基板の底面に形成された放熱用底面電極に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。
An annular conductor facing the annular electrode is formed on the mounting surface of the circuit board,
The heat dissipation pad electrode is connected to a heat dissipation bottom electrode formed on a bottom surface of the circuit board via a bump connector, a connection electrode formed on the circuit board, and a through conductor penetrating the circuit board. Item 6. The surface acoustic wave device according to Item 5.
前記回路基板は複数層を重ねた構造であり、
前記回路基板の実装面に、前記環状電極に対向する環状導体が形成され、
前記放熱用パッド電極は、バンプ接続体、回路基板上に形成された接続電極及び貫通導体を介して、前記回路基板の内層に形成された放熱用内層電極に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。
The circuit board has a structure in which a plurality of layers are stacked,
An annular conductor facing the annular electrode is formed on the mounting surface of the circuit board,
The heat dissipation pad electrode is connected to a heat dissipation inner layer electrode formed in an inner layer of the circuit board via a bump connection body, a connection electrode formed on the circuit board, and a through conductor. Surface acoustic wave device.
前記放熱用パッド電極は、前記バンプ接続体、前記接続電極及び前記回路基板の側面に形成された側面導体を介して前記回路基板の下面に形成された放熱用底面電極に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。   The heat dissipation pad electrode is connected to a heat dissipation bottom electrode formed on a lower surface of the circuit board via a bump conductor, the connection electrode, and a side conductor formed on a side surface of the circuit board. 5. The surface acoustic wave device according to 5. 前記放熱用パッド電極は、前記バンプ接続体、前記接続電極及び前記貫通導体を介して前記回路基板の下面に形成された放熱用底面電極及び前記回路基板の側面に形成された放熱用側面電極に接続されている請求項5記載の弾性表面波装置。   The heat dissipating pad electrode includes a heat dissipating bottom electrode formed on the bottom surface of the circuit board via the bump connector, the connecting electrode and the through conductor, and a heat dissipating side electrode formed on the side surface of the circuit board. The surface acoustic wave device according to claim 5, which is connected. 前記複数の弾性表面波共振子は、それらが直列及び並列に接続されたラダー型回路を構成している請求項1から請求項12のいずれかに記載の弾性表面波装置。   The surface acoustic wave device according to any one of claims 1 to 12, wherein the plurality of surface acoustic wave resonators constitute a ladder type circuit in which they are connected in series and in parallel. 請求項1から請求項13のいずれかに記載の弾性表面波装置をフィルタ回路部品として用いたことを特徴とする通信装置。   14. A communication apparatus using the surface acoustic wave device according to claim 1 as a filter circuit component.
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