JP2007109575A - Substrate for electroluminescent element - Google Patents

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誠治 俵屋
Mitsuru Iida
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate for an EL element which is hardly affected by the external light, and superior in display quality such as high contrast and high brightness, and in which light scattering intensity of the three primary colors is controllable. <P>SOLUTION: This is the substrate for the EL element that has a transparent substrate and a light scattering layer which is formed on the transparent substrate, in which particulates are dispersed in a transparent resin, and which is constituted of a scattering part for red light, a scattering part for green light, and a scattering part for blue light, wherein the abundance of the particulates contained respectively in the scattering part for the red light, in the scattering part for the green light, and in the scattering part for the blue light is mutually different. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えばエレクトロルミネッセンス表示装置に用いられるエレクトロルミネッセンス素子用基板に関するものである。   The present invention relates to an electroluminescent element substrate used in, for example, an electroluminescent display device.

エレクトロルミネッセンス(以下、ELと略す。)素子は、電界を印加することにより、陽極より注入された正孔と陰極より注入された電子との再結合エネルギーにより蛍光性物質などが発光する原理を利用した自発光素子である。EL素子は、数Vの低電圧で数千cd/m以上の高輝度の面発光が可能であり、また発光層等に用いる有機化合物等を適切に選択することにより、青色から赤色までの任意の波長の発光が可能であるという特徴を有している。このEL素子は、自発光素子であるため視野角が広く、μs以下の高速応答性が可能であることから、液晶表示装置やプラズマディスプレイに変わりうる表示装置として、近年活発な研究開発が行われている。 An electroluminescence (hereinafter abbreviated as EL) element utilizes the principle that a fluorescent substance or the like emits light by recombination energy between holes injected from an anode and electrons injected from a cathode when an electric field is applied. Self-luminous element. The EL element can emit surface light with high luminance of several thousand cd / m 2 or more at a low voltage of several volts, and by appropriately selecting an organic compound or the like used for the light emitting layer or the like, from blue to red It has a feature that light emission of an arbitrary wavelength is possible. Since this EL element is a self-luminous element, it has a wide viewing angle and can respond at a high speed of less than μs. Therefore, active research and development has recently been conducted as a display device that can be changed to a liquid crystal display device or a plasma display. ing.

従来のEL素子の基本構造の一例としては、透明基板上に透明電極と、発光層と、背面電極とを積層した構造を挙げることができる。通常、背面電極には反射特性を有する金属電極が用いられており、発光層から発せられた光のうち、発光層の後方(金属電極側)に出射した光は、金属電極により反射され、前方(透明電極側)に出射されるので、素子の輝度が向上するという利点がある。
しかしながら、この金属電極は外部から素子に入射した光も反射するため、非表示(非発光)であるべき画素から外光による反射が生じ、表示のコントラストが低下するという問題がある。特に、屋外等明るい環境下で使用する携帯用の表示装置においては、このような外光の反射が問題になる。
As an example of a basic structure of a conventional EL element, a structure in which a transparent electrode, a light emitting layer, and a back electrode are stacked on a transparent substrate can be exemplified. Usually, a metal electrode having reflection characteristics is used for the back electrode, and among the light emitted from the light emitting layer, the light emitted to the rear side (metal electrode side) of the light emitting layer is reflected by the metal electrode and forward Since it radiates | emits to (transparent electrode side), there exists an advantage that the brightness | luminance of an element improves.
However, since this metal electrode also reflects light incident on the element from the outside, there is a problem that reflection by external light occurs from a pixel that should not be displayed (non-light emitting), and display contrast is lowered. In particular, in a portable display device used in a bright environment such as outdoors, such reflection of external light becomes a problem.

このような外光の反射によるコントラストの低下を抑えるためには、透明基板の前面に円偏光板を設けるのが一般的である(例えば特許文献1参照)。円偏光板を使用した場合には、外光が金属電極で反射する際に円偏光の回転方向が逆になるため、効率よく外光の反射を抑えることができ、高コントラストの表示が得られる。
しかしながら、EL素子における発光層からの発光は一般に非偏光であるため、外光反射を防止するために円偏光板を使用した場合は、発光の約半分が円偏光板により吸収されてしまう。このため、外部への発光の取り出し効率が低下し、輝度が半分以下まで低下するという問題がある。
In order to suppress such a decrease in contrast due to reflection of external light, a circularly polarizing plate is generally provided on the front surface of the transparent substrate (see, for example, Patent Document 1). When a circularly polarizing plate is used, the rotation direction of the circularly polarized light is reversed when the external light is reflected by the metal electrode, so that the reflection of the external light can be efficiently suppressed and a high contrast display can be obtained. .
However, since light emitted from the light emitting layer in the EL element is generally non-polarized light, when a circularly polarizing plate is used to prevent reflection of external light, about half of the emitted light is absorbed by the circularly polarizing plate. For this reason, there is a problem that the efficiency of taking out emitted light to the outside is reduced, and the luminance is reduced to half or less.

また、EL素子では、発光層から発せられた光のうち、透明基板の屈折率と出射媒質(例えば空気)の屈折率とによって決まる臨界角以上の入射角を有する光が、透明基板と出射媒質との界面で全反射し、発光層の内部に閉じ込められて、外部に取り出すことができないため、光の取出し効率が低下するという問題がある。   Further, in the EL element, light having an incident angle greater than the critical angle determined by the refractive index of the transparent substrate and the refractive index of the output medium (for example, air) out of the light emitted from the light emitting layer is converted into the transparent substrate and the output medium. There is a problem that the light extraction efficiency is lowered because the light is totally reflected at the interface with the light-emitting layer and is confined inside the light emitting layer and cannot be extracted outside.

光の取り出し効率を向上させる手法としては、光散乱層を設けることが提案されている(例えば特許文献2〜4参照)。上述した構成の有機EL素子において、例えば透明基板と発光層との間に光散乱層を形成した場合、光散乱層によって、臨界角以上の入射角を有する光も出射媒質(例えば空気)に導かれることになる。このため、光散乱層を形成することにより、光の取り出し効率を向上させることができるのである。   Providing a light scattering layer has been proposed as a method for improving the light extraction efficiency (see, for example, Patent Documents 2 to 4). In the organic EL element having the above-described configuration, for example, when a light scattering layer is formed between the transparent substrate and the light emitting layer, the light scattering layer also guides light having an incident angle greater than the critical angle to the emission medium (for example, air). Will be. For this reason, the light extraction efficiency can be improved by forming the light scattering layer.

しかしながら、光散乱層により光散乱効果が得られたとしても、光の散乱強度は波長に依存し、波長の短い光の方が強く散乱するため、青色光の散乱強度が緑色光や赤色光に比べて大きくなってしまう。このように赤色光、緑色光および青色光の散乱強度が異なると、視野角によっては色シフトが生じるという問題がある。   However, even if the light scattering effect is obtained by the light scattering layer, the light scattering intensity depends on the wavelength, and the light having a shorter wavelength scatters more strongly. It will be bigger than that. Thus, when the scattering intensity of red light, green light and blue light is different, there is a problem that color shift occurs depending on the viewing angle.

特開平8−321381号公報Japanese Patent Laid-Open No. 8-322138 特開平6−347617号公報JP-A-6-347617 特開平6−151061号公報Japanese Patent Laid-Open No. 6-151061 特開2004−39388公報JP 2004-39388 A

本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、外光の影響を受けにくく、高コントラストおよび高輝度等の表示品位に優れ、三原色の光の散乱強度を制御可能なEL素子用基板を提供することを主目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above problems, and is an EL element substrate that is hardly affected by external light, has excellent display quality such as high contrast and high brightness, and can control the scattering intensity of light of three primary colors. The main purpose is to provide

本発明は、上記目的を達成するために、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる上記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするEL素子用基板を提供する。   In order to achieve the above object, the present invention provides a transparent substrate and fine particles dispersed in the transparent resin, the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light formed on the transparent substrate. A light scattering layer composed of a light scattering portion, and the abundances of the fine particles contained in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion are different from each other. An EL element substrate is provided.

本発明のEL素子用基板は光散乱層を有するので、EL表示装置に用いた場合には、外光の反射を抑制し、透明基板と出射媒質との界面における発光の全反射を抑制することが可能である。また、光散乱層を構成する赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部に含まれる上記微粒子の存在量を異なるものとすることにより、三原色の光の散乱強度を制御することができ、視野角に依存した色シフトの発生を防ぐことが可能である。   Since the EL element substrate of the present invention has a light scattering layer, when used in an EL display device, it suppresses reflection of external light and suppresses total reflection of light emission at the interface between the transparent substrate and the emission medium. Is possible. Also, the scattering intensity of light of the three primary colors is controlled by making the amount of the fine particles contained in the red light scattering portion, green light scattering portion, and blue light scattering portion constituting the light scattering layer different. It is possible to prevent occurrence of color shift depending on the viewing angle.

上記発明においては、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部の厚みが、互いに異なっていてもよい。また、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部中の上記微粒子の濃度が、互いに異なっていてもよい。このように各散乱部の厚み、または各散乱部中の微粒子の濃度を適宜調整することにより、三原色の光の散乱強度を効果的に制御することができるからである。   In the above invention, the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion may have different thicknesses. The concentration of the fine particles in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion may be different from each other. This is because the scattering intensity of light of the three primary colors can be effectively controlled by appropriately adjusting the thickness of each scattering portion or the concentration of fine particles in each scattering portion as described above.

さらに本発明においては、上記透明基板と上記光散乱層との間、または、上記光散乱層の上記透明基板が形成されている面とは反対側の面に、着色層が形成されていてもよい。   Furthermore, in this invention, even if the colored layer is formed in the surface on the opposite side to the surface in which the said transparent substrate of the said light-scattering layer is formed between the said transparent substrate and the said light-scattering layer. Good.

また本発明においては、上記透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていてもよい。これにより、コントラストをさらに向上させることができるからである。   In the present invention, a light shielding portion may be formed in the non-display area on the transparent substrate. This is because the contrast can be further improved.

さらに本発明においては、上記微粒子の平均粒径が、1.0μm〜1.6μmの範囲内であることが好ましい。微粒子の平均粒径を所定の範囲とすることにより、ヘイズ値を高くすることができるので、本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合には、外光の反射を抑制してコントラストを効果的に向上させ、また透明基板と出射媒質との界面における発光の全反射を抑制して光の取り出し効率を効果的に向上させることが可能となるからである。   Furthermore, in the present invention, the average particle size of the fine particles is preferably in the range of 1.0 μm to 1.6 μm. Since the haze value can be increased by setting the average particle size of the fine particles within a predetermined range, when the EL element substrate of the present invention is used in an EL display device, reflection of external light is suppressed. This is because the contrast can be effectively improved and the light extraction efficiency can be effectively improved by suppressing the total reflection of light emission at the interface between the transparent substrate and the emission medium.

また本発明のEL素子用基板は、ヘイズ値が30〜95の範囲内であることが好ましい。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。   Moreover, it is preferable that the board | substrate for EL elements of this invention has the haze value in the range of 30-95. This is because if the haze value is smaller than the above range, a sufficient light scattering effect may not be obtained.

さらに本発明は、上述したEL素子用基板を用いたことを特徴とするEL表示装置を提供する。本発明のEL表示装置は、上記EL素子用基板を用いるので、色シフトを抑制することができ、視認性が良好である。   Furthermore, the present invention provides an EL display device using the above-described EL element substrate. Since the EL display device of the present invention uses the EL element substrate, color shift can be suppressed and visibility is good.

本発明のEL素子用基板は、EL表示装置に用いた場合、高コントラストおよび高輝度の表示が実現できるという効果を奏する。また、光散乱層を構成する各散乱部に含まれる微粒子の存在量を互いに異なるものとすることにより、三原色の光の散乱強度を制御することができるという効果を奏する。   When used in an EL display device, the EL element substrate of the present invention has the effect of realizing high contrast and high luminance display. Further, by making the abundances of the fine particles contained in the respective scattering portions constituting the light scattering layer different from each other, there is an effect that the light intensity of the three primary colors can be controlled.

以下、本発明のEL素子用基板およびEL表示装置について詳細に説明する。   Hereinafter, the EL element substrate and the EL display device of the present invention will be described in detail.

A.EL素子用基板
本発明のEL素子用基板は、透明基板と、上記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、上記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる上記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするものである。
A. EL Element Substrate The EL element substrate of the present invention is formed on a transparent substrate and the transparent substrate, in which fine particles are dispersed in a transparent resin, and includes a red light scattering portion, a green light scattering portion, and a blue light. A light scattering layer composed of a light scattering portion, and the amount of the fine particles contained in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion is different from each other. It is a feature.

本発明のEL素子用基板について図面を参照しながら説明する。
図1は、本発明のEL素子用基板の一例を示す概略断面図である。図1に例示するように、本発明のEL素子用基板10は、透明基板1と、その上に形成された光散乱層2とを有するものである。この光散乱層2は、透明樹脂中に微粒子を分散させてなる。
The EL element substrate of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing an example of an EL element substrate of the present invention. As illustrated in FIG. 1, an EL element substrate 10 of the present invention includes a transparent substrate 1 and a light scattering layer 2 formed thereon. The light scattering layer 2 is formed by dispersing fine particles in a transparent resin.

本発明のEL素子用基板は、光散乱層を有するので、EL表示装置に用いた場合には、外光の反射を抑制してコントラストを向上させ、また透明基板と出射媒質(例えば空気)との界面における発光の全反射を抑制して光の取り出し効率を向上させることが可能である。   Since the EL element substrate of the present invention has a light scattering layer, when used in an EL display device, reflection of external light is suppressed to improve contrast, and a transparent substrate and an emission medium (for example, air) It is possible to improve the light extraction efficiency by suppressing total reflection of light emission at the interface.

また図1に例示するように、光散乱層2は、赤色光用散乱部2R、緑色光用散乱部2G、および青色光用散乱部2Bから構成されており、各散乱部2R、2Gおよび2Bに含まれる微粒子の存在量は、三原色の光に応じて異なるものとなっている。   As illustrated in FIG. 1, the light scattering layer 2 includes a red light scattering portion 2R, a green light scattering portion 2G, and a blue light scattering portion 2B, and each of the scattering portions 2R, 2G, and 2B. The abundance of the fine particles contained in is different depending on the light of the three primary colors.

図2は、従来のEL素子用基板の散乱特性の一例を示すグラフである。なお、このグラフは、透明基板および光散乱層を有するEL素子用基板を用い、EL素子用基板およびカラーフィルタを、光源/カラーフィルタ/EL素子用基板/受光器の順になるように、光源と受光器との間に配置して、受光器を±30°で変化させて、赤色光(R)、緑色光(G)および青色光(B)のそれぞれの散乱強度を測定した結果である。図2に例示するグラフによると、例えば受光角度10°のとき、散乱強度が青色光(B)>緑色光(G)>赤色光(R)の順に小さくなっている。これは、光の散乱強度が波長に依存し、波長の短い光の方が強く散乱するためである。   FIG. 2 is a graph showing an example of scattering characteristics of a conventional EL element substrate. This graph uses an EL element substrate having a transparent substrate and a light scattering layer, and the EL element substrate and the color filter are arranged in the order of the light source / color filter / EL element substrate / light receiver. This is a result of measuring the scattering intensity of each of red light (R), green light (G), and blue light (B) by placing the light receiver between the light receivers and changing the light receiver by ± 30 °. According to the graph illustrated in FIG. 2, for example, when the light receiving angle is 10 °, the scattering intensity decreases in the order of blue light (B)> green light (G)> red light (R). This is because the light scattering intensity depends on the wavelength, and light having a shorter wavelength is more strongly scattered.

本発明においては、上述したように、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる微粒子の存在量が互いに異なるものであり、例えば微粒子の存在量を赤色光用散乱部>緑色光用散乱部>青色光用散乱部の順に少なくすることができる。一般に、微粒子の存在量が多いほど散乱強度が大きくなるので、微粒子の存在量を赤色光用散乱部>緑色光用散乱部>青色光用散乱部の順に少なくすることにより、赤色光の散乱強度を高めて、赤色光、緑色光および青色光の散乱強度分布を揃えることができる。したがって本発明においては、各散乱部中の微粒子の存在量を適宜調整することにより、図2に例示するような光の波長に依存する散乱特性を改善することができ、これにより視野角に依存した色シフトの発生を抑制することが可能である。   In the present invention, as described above, the abundances of the fine particles contained in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion are different from each other. Light scattering portion> green light scattering portion> blue light scattering portion. In general, the greater the amount of fine particles present, the greater the scattering intensity. Therefore, by reducing the amount of fine particles in the order of red light scattering portion> green light scattering portion> blue light scattering portion, red light scattering intensity is reduced. To increase the scattering intensity distribution of red light, green light, and blue light. Therefore, in the present invention, by appropriately adjusting the abundance of the fine particles in each scattering portion, the scattering characteristics depending on the wavelength of light as illustrated in FIG. 2 can be improved, thereby depending on the viewing angle. It is possible to suppress the occurrence of color shift.

また、本発明のEL素子用基板を、白色を発光する発光層を用いたEL表示装置に適用する場合には、発光層からの白色光が主に赤色成分および青色成分を有し、青味が強い光になる傾向が見られることから、青色光に対して赤色光の散乱強度が高められるように、各散乱部中の微粒子の存在量を調整することが好ましい。この場合には、各散乱部中の微粒子の存在量を、例えば赤色光用散乱部>緑色光用散乱部≒青色光用散乱部の順に少なくすることにより、三原色の光の散乱強度分布を揃えることができる。   Further, when the EL element substrate of the present invention is applied to an EL display device using a light emitting layer that emits white light, white light from the light emitting layer mainly has a red component and a blue component, and has a blue tint. Therefore, it is preferable to adjust the abundance of fine particles in each scattering portion so that the scattering intensity of red light is increased with respect to blue light. In this case, the scattering intensity distribution of the light of the three primary colors is made uniform by decreasing the abundance of the fine particles in each scattering portion in the order of, for example, the scattering portion for red light> the scattering portion for green light≈the scattering portion for blue light. be able to.

また本発明においては、光散乱層上に着色層が形成されていてもよい。例えば図3(a)に示すように、透明基板1と光散乱層2との間に着色層3が形成されていてもよい。通常、着色層3は、赤色着色パターン3R、緑色着色パターン3G、および青色着色パターン3Bから構成される。   In the present invention, a colored layer may be formed on the light scattering layer. For example, as illustrated in FIG. 3A, a colored layer 3 may be formed between the transparent substrate 1 and the light scattering layer 2. Usually, the colored layer 3 includes a red colored pattern 3R, a green colored pattern 3G, and a blue colored pattern 3B.

さらに本発明においては、透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていてもよい。この遮光部は、各散乱部のアライメントを取るためや、各散乱部間を遮光するために設けられるものである。
以下、本発明のEL素子用基板の各構成について説明する。
Furthermore, in the present invention, a light shielding part may be formed in a non-display area on the transparent substrate. This light-shielding part is provided in order to align each scattering part and to shield between each scattering part.
Hereafter, each structure of the board | substrate for EL elements of this invention is demonstrated.

1.光散乱層
本発明に用いられる光散乱層は、本発明のEL素子用基板を例えばEL表示装置に用いた場合、EL表示装置における発光層から発せられた光に適度の散乱を生じさせて十分な視認性を確保するために設けられるものであり、透明樹脂中に光散乱作用を有する微粒子を分散させたものである。
1. Light Scattering Layer The light scattering layer used in the present invention is sufficient to cause appropriate scattering in light emitted from the light emitting layer in the EL display device when the EL element substrate of the present invention is used in, for example, an EL display device. It is provided to ensure high visibility, and is obtained by dispersing fine particles having a light scattering action in a transparent resin.

また、光散乱層は、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成され、各散乱部に含まれる微粒子の存在量が互いに異なるものとなっている。本発明においては、例えば各散乱部の厚みを異なるものとする、あるいは、各散乱部中の微粒子の濃度を異なるものとすることにより、各散乱部に含まれる微粒子の存在量を異なるものとすることができる。
なお、各散乱部に含まれる微粒子の存在量が互いに異なるとは、三種類の散乱部のうち、すべての微粒子の存在量が異なる場合だけでなく、少なくとも二種類の散乱部に含まれる微粒子の存在量が異なる場合をも含むものである。例えば緑色光用散乱部および青色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量が同一であり、この緑色光用散乱部および青色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量と、赤色光用散乱部に含まれる微粒子の存在量とが異なっていてもよい。
The light scattering layer includes a red light scattering portion, a green light scattering portion, and a blue light scattering portion, and the abundance of fine particles contained in each scattering portion is different from each other. In the present invention, for example, by making the thickness of each scattering portion different, or by making the concentration of the fine particles in each scattering portion different, the abundance of the fine particles contained in each scattering portion is made different. be able to.
Note that the abundances of the fine particles contained in each scattering part are different from each other, not only when the abundances of all the fine particles are different among the three kinds of scattering parts, but also for the fine particles contained in at least two kinds of scattering parts. This includes cases where the abundance is different. For example, the amount of fine particles contained in the green light scattering portion and the blue light scattering portion is the same, and the amount of fine particles contained in the green light scattering portion and the blue light scattering portion is equal to the red light scattering portion. The abundance of fine particles contained in may be different.

例えば各散乱部の厚みが異なる場合、各散乱部の厚みは、目的とする赤色光、緑色光および青色光の散乱強度に応じて適宜調整される。具体的に、各散乱部の厚みは、光散乱層の透明性を損なわない程度の厚みであれば特に限定されるものではなく、0.5μm〜20μm程度で設定することができ、好ましくは1.0μm〜8.0μmの範囲内であり、さらに好ましくは、パターニングの観点より、1.5μm〜6.5μmの範囲内である。   For example, when the thickness of each scattering portion is different, the thickness of each scattering portion is appropriately adjusted according to the intended scattering intensity of red light, green light, and blue light. Specifically, the thickness of each scattering portion is not particularly limited as long as the transparency of the light scattering layer is not impaired, and can be set at about 0.5 μm to 20 μm, preferably 1 It is in the range of 0.0 μm to 8.0 μm, and more preferably in the range of 1.5 μm to 6.5 μm from the viewpoint of patterning.

一般に、波長の短い光の方が強く散乱することから、例えば図2に示すような波長に依存する散乱特性の各色間でのばらつきを補正するためには、各散乱部中の微粒子の濃度が一定である場合、各散乱部の厚みは、赤色光用散乱部>緑色光用散乱部>青色光用散乱部の順に薄くなることが好ましい。この場合、一般に厚みが厚いほど散乱強度が大きくなるからである。   In general, since light having a shorter wavelength scatters more strongly, for example, in order to correct variations in the scattering characteristics depending on the wavelength as shown in FIG. When it is constant, it is preferable that the thickness of each scattering portion becomes thinner in the order of red light scattering portion> green light scattering portion> blue light scattering portion. In this case, generally, the thicker the thickness, the greater the scattering intensity.

また、本発明のEL素子用基板を、白色を発光する発光層を用いたEL表示装置に適用する場合には、上述したように、青色光に対して赤色光の散乱強度が高められるように、各散乱部の厚みを調整することが好ましい。この場合には、各散乱部の厚みを、例えば赤色光用散乱部>緑色光用散乱部≒青色光用散乱部の順に薄くすることにより、各色の散乱強度分布を揃えることができる。   In addition, when the EL element substrate of the present invention is applied to an EL display device using a light emitting layer that emits white light, as described above, the scattering intensity of red light can be increased with respect to blue light. It is preferable to adjust the thickness of each scattering portion. In this case, the scattering intensity distribution of each color can be made uniform by decreasing the thickness of each scattering portion in the order of, for example, the scattering portion for red light> the scattering portion for green light≈the scattering portion for blue light.

なお、各散乱部の厚みは、例えばEL素子用基板の断面を走査型電子顕微鏡(SEM)で観察することにより、測定することができる。   The thickness of each scattering portion can be measured, for example, by observing the cross section of the EL element substrate with a scanning electron microscope (SEM).

このように各散乱部の厚みが異なる場合、各散乱部中の微粒子の濃度は同じであってもよく、異なっていてもよい。   Thus, when the thickness of each scattering part differs, the density | concentration of the microparticles | fine-particles in each scattering part may be the same, and may differ.

一方、例えば各散乱部中の微粒子の濃度が異なる場合、上記微粒子の濃度は、目的とする赤色光、緑色光および青色光の散乱強度に応じて適宜調整される。具体的に、各散乱部中の微粒子の濃度は、光を散乱させることができ、光散乱層の透明性を損なわない程度の量であれば特に限定されるものではなく、0.5重量%〜70重量%程度で設定することができ、好ましくは1.0重量%〜50重量%の範囲内である。上記微粒子の濃度が上記範囲より低いと、光散乱効果が得られない場合があるからである。逆に、上記微粒子の濃度が上記範囲より高いと、光散乱層の透明性や強度を保つことが困難となる可能性があるからである。   On the other hand, for example, when the concentration of the fine particles in each scattering portion is different, the concentration of the fine particles is appropriately adjusted according to the intended scattering intensity of red light, green light, and blue light. Specifically, the concentration of the fine particles in each scattering portion is not particularly limited as long as it is an amount that can scatter light and does not impair the transparency of the light scattering layer. It can be set at about 70% by weight, and is preferably in the range of 1.0% by weight to 50% by weight. This is because if the concentration of the fine particles is lower than the above range, the light scattering effect may not be obtained. Conversely, if the concentration of the fine particles is higher than the above range, it may be difficult to maintain the transparency and strength of the light scattering layer.

一般に、波長の短い光の方が強く散乱することから、上記の場合と同様に、例えば図2に示すような波長に依存する散乱特性の各色間でのばらつきを補正するためには、各散乱部の厚みが一定である場合、上記微粒子の濃度は、赤色光用散乱部>緑色光用散乱部>青色光用散乱部の順に少なくなることが好ましい。この場合、一般に微粒子の濃度が高いほど散乱強度が大きくなるからである。   In general, light having a shorter wavelength is more strongly scattered. Therefore, as in the case described above, for example, in order to correct the dispersion between the colors in the scattering characteristic depending on the wavelength as shown in FIG. When the thickness of the portion is constant, the concentration of the fine particles is preferably decreased in the order of red light scattering portion> green light scattering portion> blue light scattering portion. In this case, generally, the higher the concentration of fine particles, the greater the scattering intensity.

また、本発明のEL素子用基板を、白色を発光する発光層を用いたEL表示装置に適用する場合には、上述したように、青色光に対して赤色光の散乱強度が高められるように、各散乱部中の微粒子の濃度を調整することが好ましく、各散乱部中の微粒子の濃度を、例えば赤色光用散乱部>緑色光用散乱部≒青色光用散乱部の順に少なくすることにより、各色の散乱強度分布を揃えることができる。   In addition, when the EL element substrate of the present invention is applied to an EL display device using a light emitting layer that emits white light, as described above, the scattering intensity of red light can be increased with respect to blue light. It is preferable to adjust the concentration of the fine particles in each scattering portion, and by decreasing the concentration of the fine particles in each scattering portion, for example, in order of red light scattering portion> green light scattering portion≈blue light scattering portion. The scattering intensity distribution of each color can be made uniform.

このように各散乱部中の微粒子の濃度が異なる場合、各散乱部の厚みは同じであってもよく、異なっていてもよい。   Thus, when the density | concentration of the microparticles | fine-particles in each scattering part differs, the thickness of each scattering part may be the same and may differ.

本発明に用いられる光散乱層は、上述したように、透明樹脂中に光散乱作用を有する微粒子を分散させたものである。以下、光散乱層の構成材料およびその他の点について説明する。   As described above, the light scattering layer used in the present invention is obtained by dispersing fine particles having a light scattering action in a transparent resin. Hereinafter, the constituent material of the light scattering layer and other points will be described.

(1)微粒子
本発明に用いられる微粒子としては、光散乱作用を有するものであれば特に限定されるものではなく、例えば酸化珪素、酸化アルミニウム、硫酸バリウム等の無機物、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、スチレン系樹脂、メラミン系樹脂、アクリル−スチレン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂等の有機物、あるいは、これらの2種以上の混合系等の微粒子を挙げることができる。
(1) Fine particles The fine particles used in the present invention are not particularly limited as long as they have a light scattering action. For example, inorganic substances such as silicon oxide, aluminum oxide, barium sulfate, acrylic resins, divinylbenzene Fine particles such as resin, benzoguanamine resin, styrene resin, melamine resin, acrylic-styrene resin, polycarbonate resin, polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, or a mixture of two or more of these Can be mentioned.

また、上記微粒子は透明性を有していることが好ましい。これにより、全光線透過率を向上させることができるからである。このような微粒子としては、上記の中でも、メラミン系樹脂、ベンゾグアナミン系樹脂、ポリメタクリル酸メチル系樹脂、およびその混合系樹脂や共重合体などの微粒子が好ましく用いられる。なお、これらの微粒子は耐久性も有している。   The fine particles preferably have transparency. This is because the total light transmittance can be improved. Of these, fine particles such as melamine resin, benzoguanamine resin, polymethyl methacrylate resin, and mixed resins and copolymers thereof are preferably used as such fine particles. These fine particles also have durability.

ここで一般的に、光散乱層の光学設計には微粒子の粒径が大きく影響し、具体的には微粒子の粒径dにより散乱状態が異なることが知られている。すなわち、
(1)粒径dが光波長λに比べて大きい場合(d>λ)は、幾何光学領域となり、幾何光学的な屈折、反射による散乱が発生し、波長依存性はない。
(2)粒径dが光波長λに近い場合(λ/3<d<λ)は、回折散乱領域(ミー散乱)となり、幾何光学的な散乱と回折効果(光干渉)とによる散乱が発生し、複雑な波長依存性を有する。このため、散乱による色付きが生じる。
(3)粒径dが光波長λより小さい場合(d<λ/3)は、レイリー散乱領域となり、原子・分子との相互作用による散乱が発生し、ほぼ均一に全方向に散乱する。このため、前方散乱のみならず後方散乱も発生する。
Here, it is generally known that the particle size of the fine particles greatly affects the optical design of the light scattering layer, and specifically, the scattering state varies depending on the particle size d of the fine particles. That is,
(1) When the particle size d is larger than the light wavelength λ (d> λ), the region becomes a geometric optical region, geometric optical refraction and scattering due to reflection occur, and there is no wavelength dependency.
(2) When the particle diameter d is close to the light wavelength λ (λ / 3 <d <λ), it becomes a diffraction scattering region (Mie scattering), and scattering due to geometric optical scattering and diffraction effect (light interference) occurs. And has a complicated wavelength dependency. For this reason, coloring due to scattering occurs.
(3) When the particle diameter d is smaller than the light wavelength λ (d <λ / 3), it becomes a Rayleigh scattering region, scattering due to interaction with atoms / molecules occurs, and the scattering is almost uniformly performed in all directions. For this reason, not only forward scattering but also back scattering occurs.

本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合、外光の反射を抑制してコントラストを向上させ、また透明基板と出射媒質(例えば空気)との界面における発光の全反射を抑制して光の取り出し効率を向上させるためには、全方向の散乱は好ましくない。したがって、微粒子の粒径が、上記のうち前方散乱特性に優れる(1)または(2)の場合に該当することが好ましい。さらに、散乱による色付きを防止するためには、微粒子の粒径が上記(1)の幾何光学的領域となることが好ましい。   When the EL element substrate of the present invention is used in an EL display device, the reflection of external light is suppressed to improve contrast, and the total reflection of light emission at the interface between the transparent substrate and the emission medium (for example, air) is suppressed. In order to improve the light extraction efficiency, omnidirectional scattering is not preferable. Therefore, it is preferable that the particle diameter of the fine particles corresponds to the case (1) or (2) having excellent forward scattering characteristics among the above. Furthermore, in order to prevent coloring due to scattering, the particle diameter of the fine particles is preferably in the geometric optical region (1).

また、光散乱層による散乱光の強度を十分なものとするためには、ヘイズ値[ヘイズ値=(拡散光線透過率)/(全光線透過率)×100]を高くする必要がある。特に、EL表示装置においては、より高いヘイズ値が要求される。これは、例えば液晶表示装置では光源として外光を用いる場合があり、この場合には積極的に反射光を表示に使用するのに対し、EL素子は自発光素子であるので、光源として外光を用いる必要がなく、表示品位の向上のためには外光の反射を抑制することが好ましいからである。ヘイズ値がより高いものであれば、外光の反射を効果的に抑制するとともに、透明基板と出射媒質(例えば空気)との界面における発光の全反射も効果的に抑制することができる。   Moreover, in order to make the intensity of the scattered light by the light scattering layer sufficient, it is necessary to increase the haze value [haze value = (diffuse light transmittance) / (total light transmittance) × 100]. In particular, in an EL display device, a higher haze value is required. This is because, for example, external light is sometimes used as a light source in a liquid crystal display device. In this case, reflected light is actively used for display, whereas an EL element is a self-luminous element. This is because it is preferable to suppress reflection of external light in order to improve display quality. If the haze value is higher, reflection of external light can be effectively suppressed, and total reflection of light emission at the interface between the transparent substrate and the emission medium (for example, air) can also be effectively suppressed.

高いヘイズ値(高にごり度)を可能とするには、各散乱部中の微粒子の濃度を多くしたり、各散乱部の厚みを厚くしたりする必要があるが、このとき全光線透過率が低下するのは好ましくない。例えば、光散乱層に一般的な微粒子として知られている酸化チタンや炭酸カルシウムを用いた場合、光散乱層中の微粒子の濃度を多くしたり、光散乱層の厚みを厚くしたりすることによってヘイズ値を高めることはできるが、その一方で微粒子のもつ遮光性が発現して、全光線透過率が著しく低下してしまう。   In order to enable a high haze value (high degree of coarseness), it is necessary to increase the concentration of fine particles in each scattering part or increase the thickness of each scattering part. It is not preferable to decrease. For example, when titanium oxide or calcium carbonate, which is known as general fine particles, is used for the light scattering layer, the concentration of fine particles in the light scattering layer is increased or the thickness of the light scattering layer is increased. Although the haze value can be increased, the light shielding property of the fine particles is developed, and the total light transmittance is significantly reduced.

以上のことから、本発明に用いられる微粒子の平均粒径は、1.0μm〜1.6μmの範囲内であることが好ましく、好ましくは1.0μm〜1.4μm、より好ましくは1.2μm〜1.4μmの範囲内である。平均粒径が上記範囲であることにより、高いヘイズ値を達成することができ、優れた散乱特性を得ることができるからである。上述したように、光散乱層中の微粒子の濃度または光散乱層の厚みの制御だけでは、ヘイズ値が上昇する反面、全光線透過率が低下する場合があるが、微粒子の平均粒径を上記範囲とすることにより、全光線透過率の低下を抑制しつつ、ヘイズ値を高めることができる。さらに、円偏光板を用いることなく、上述したように外光の反射を抑制することができるので、本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合には、発光層からの発光を有効に利用することができ、輝度を向上させることが可能である。
さらに、平均粒径が上記範囲であれば、通常のスピンナーによる塗布で均一な膜厚分布を達成することができ、またパターニング特性に優れる比較的厚みの薄い光散乱層が形成可能である。
From the above, the average particle size of the fine particles used in the present invention is preferably in the range of 1.0 μm to 1.6 μm, preferably 1.0 μm to 1.4 μm, more preferably 1.2 μm to Within the range of 1.4 μm. This is because when the average particle size is in the above range, a high haze value can be achieved and excellent scattering characteristics can be obtained. As described above, only by controlling the concentration of the fine particles in the light scattering layer or the thickness of the light scattering layer, the haze value increases, but the total light transmittance may decrease. By setting it as the range, the haze value can be increased while suppressing a decrease in the total light transmittance. Furthermore, since reflection of external light can be suppressed without using a circularly polarizing plate as described above, when the EL element substrate of the present invention is used in an EL display device, light emission from the light emitting layer is performed. It can be used effectively and the luminance can be improved.
Furthermore, when the average particle diameter is in the above range, a uniform film thickness distribution can be achieved by application with a normal spinner, and a relatively thin light scattering layer having excellent patterning characteristics can be formed.

なお、上述した粒径dと光波長λとの関係からも説明できるように、微粒子の平均粒径が大きくなるほど、三原色の光の散乱強度分布が揃う傾向が見られるが、上述したようにヘイズ値を考慮すると、微粒子の平均粒径は上記範囲であることが好ましい。光散乱効果の指標となるヘイズ値は微粒子の平均粒径に大きく依存し、また、コントラストや輝度等を考慮しつつ光散乱効果を得るためには好適な微粒子の平均粒径が存在すると考えられるからである。   As can also be explained from the relationship between the particle diameter d and the light wavelength λ, as the average particle diameter of the fine particles increases, the light intensity distribution of the three primary colors tends to be uniform. Considering the value, the average particle diameter of the fine particles is preferably in the above range. The haze value that serves as an index of the light scattering effect greatly depends on the average particle size of the fine particles, and it is considered that there is a suitable average particle size of the fine particles in order to obtain the light scattering effect in consideration of contrast, brightness, etc. Because.

ここで、平均粒径とは、一般に粒子の粒度を示すために用いられるものであり、本発明においては、レーザー法により測定した値である。レーザー法とは、粒子を溶媒中に分散し、その分散溶媒にレーザー光線を当てて得られた散乱光を細くし、演算することにより、平均粒径、粒度分布等を測定する方法である。なお、上記平均粒径は、レーザー法による粒径測定機として、リーズ&ノースラップ(Leeds & Northrup)社製 粒度分析計 マイクロトラックUPA Model-9230を使用して測定した値である。   Here, the average particle diameter is generally used to indicate the particle size of the particles, and in the present invention, is a value measured by a laser method. The laser method is a method of measuring an average particle size, a particle size distribution, and the like by dispersing particles in a solvent and thinning and calculating scattered light obtained by applying a laser beam to the dispersion solvent. The average particle size is a value measured using a particle size analyzer Microtrac UPA Model-9230 manufactured by Leeds & Northrup as a particle size measuring device by a laser method.

上記微粒子の形状としては特に限定されるものではないが、球状であることが好ましい。   The shape of the fine particles is not particularly limited, but is preferably spherical.

本発明においては、微粒子の屈折率が後述する透明樹脂の屈折率より大きいことが好ましい。一般的に、散乱特性を発現させるためには、微粒子と透明樹脂との屈折率差を利用しており、理想的には透明樹脂の屈折率が微粒子の屈折率より大きくなるように設定することが好ましい。しかしながら、微粒子と透明樹脂との屈折率差を明確にすることや、光散乱層の色付きを考慮すると、微粒子の屈折率が透明樹脂の屈折率より大きくなるように設定することが好ましいのである。   In the present invention, the refractive index of the fine particles is preferably larger than the refractive index of the transparent resin described later. Generally, in order to develop scattering characteristics, the refractive index difference between the fine particles and the transparent resin is used. Ideally, the refractive index of the transparent resin should be set to be larger than the refractive index of the fine particles. Is preferred. However, considering the difference in refractive index between the fine particles and the transparent resin and considering the coloring of the light scattering layer, it is preferable to set the refractive index of the fine particles to be larger than the refractive index of the transparent resin.

後述する透明樹脂の屈折率は一般的に1.5程度であることから、微粒子の屈折率は1.5より大きいことが好ましい。このような微粒子としては、例えば酸化アルミニウム(1.62)、ベンゾグアナミン・ホルムアルデヒド縮合体(1.66)、ベンゾクアナミン・メラミン・ホルムアルデヒド縮合体(1.66、1.52)、メラミン・ホルムアルデヒド縮合体(1.66)、シリカ・アクリル複合化合物(1.52)、メタクリル化合物(1.51)等が挙げられる。なお、括弧内の数字は屈折率を示す。   Since the refractive index of a transparent resin to be described later is generally about 1.5, the refractive index of the fine particles is preferably larger than 1.5. Examples of such fine particles include aluminum oxide (1.62), benzoguanamine / formaldehyde condensate (1.66), benzoquamine / melamine / formaldehyde condensates (1.66, 1.52), and melamine / formaldehyde condensates ( 1.66), silica / acrylic compound (1.52), methacrylic compound (1.51) and the like. The numbers in parentheses indicate the refractive index.

(2)透明樹脂
本発明に用いられる透明樹脂は、上記微粒子との屈折率差、光散乱層の透明性、透明基板や着色層との密着性等を考慮して適宜選択される。透明樹脂としては、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリイミド系樹脂、ビニルエーテル系樹脂等を挙げることができる。これらの透明樹脂は、単独で、または2種以上の混合物として使用することができる。
(2) Transparent resin The transparent resin used in the present invention is appropriately selected in consideration of the refractive index difference from the fine particles, the transparency of the light scattering layer, the adhesion to the transparent substrate and the colored layer, and the like. Examples of the transparent resin include acrylic resins, epoxy resins, polyvinyl alcohol resins, polyimide resins, vinyl ether resins, and the like. These transparent resins can be used alone or as a mixture of two or more.

(3)その他
本発明に用いられる光散乱層の全光線透過率は、85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、最も好ましくは95%以上である。全光線透過率が小さすぎると、本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合に輝度が低下するおそれがあるからである。
(3) Others The total light transmittance of the light scattering layer used in the present invention is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more. This is because if the total light transmittance is too small, the luminance may decrease when the EL element substrate of the present invention is used in an EL display device.

また、光散乱層のヘイズ値は、30〜95程度であることが好ましく、より好ましくは40〜80の範囲内、最も好ましくは50〜70の範囲内である。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。   Moreover, it is preferable that the haze value of a light-scattering layer is about 30-95, More preferably, it exists in the range of 40-80, Most preferably, it exists in the range of 50-70. This is because if the haze value is smaller than the above range, a sufficient light scattering effect may not be obtained.

なお、上記の全光線透過率およびヘイズ値は、積分球を用いて、東洋精機製作所(株)製の直読ヘイズメーターにより測定した値である。   In addition, said total light transmittance and haze value are the values measured with the direct reading haze meter by Toyo Seiki Seisakusho Co., Ltd. using the integrating sphere.

各散乱部は、EL表示装置における発光層のパターンに応じて形成されていてもよく、また後述する着色層が形成されている場合は着色層の各色着色パターンに応じて形成されていてもよい。各散乱部の配列としては特に限定されるものではなく、例えばストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等が挙げられる。   Each scattering portion may be formed according to the pattern of the light emitting layer in the EL display device, and may be formed according to each color coloring pattern of the colored layer when a colored layer described later is formed. . The arrangement of the scattering portions is not particularly limited, and examples thereof include a stripe type, a mosaic type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type.

本発明に用いられる光散乱層は、微粒子および透明樹脂を含有する光散乱層形成用塗工液を塗布し、固化させることにより形成することができる。この際、光散乱層形成用塗工液は、紫外線硬化型レジストであることが好ましく、中でもネガ型紫外線硬化型レジストであることが好ましい。光散乱層形成用塗工液が紫外線硬化型レジストであれば、例えばフォトマスクを介して露光することにより、容易にパターニングできるからである。   The light scattering layer used in the present invention can be formed by applying and solidifying a light scattering layer forming coating solution containing fine particles and a transparent resin. In this case, the light scattering layer forming coating solution is preferably an ultraviolet curable resist, and more preferably a negative ultraviolet curable resist. This is because, if the coating solution for forming the light scattering layer is an ultraviolet curable resist, it can be easily patterned by, for example, exposure through a photomask.

この際、用いられる紫外線硬化型レジストには紫外線硬化性のバインダ樹脂や光重合開始剤などが含有される。この紫外線硬化性のバインダ樹脂や光重合開始剤などを紫外線硬化型レジストに多量に含有させて、厚膜の光散乱層を形成すると、光散乱層に色付きが生じる可能性がある。このため、光散乱層の厚みは比較的薄い方が好ましい。   At this time, the ultraviolet curable resist used contains an ultraviolet curable binder resin, a photopolymerization initiator, and the like. When a thick light scattering layer is formed by containing a large amount of this ultraviolet curable binder resin or photopolymerization initiator in an ultraviolet curable resist, the light scattering layer may be colored. For this reason, the thickness of the light scattering layer is preferably relatively thin.

また、上記光散乱層形成用塗工液は各散乱部ごとに調製されるが、この際に、所望の存在量を有する散乱部が形成できるように、上記微粒子の添加量が適宜調整される。   In addition, the light scattering layer forming coating solution is prepared for each scattering portion, and at this time, the addition amount of the fine particles is appropriately adjusted so that a scattering portion having a desired abundance can be formed. .

2.透明基板
本発明に用いられる透明基板としては、一般にEL表示装置に用いることができるものであれば特に限定されるものではない。例えば石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材を用いることができる。この中でも、コーニング社製イーグル2000または1737材ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、好ましく用いられる。特に、本発明のEL素子用基板をアクティブ駆動方式のEL表示装置に適用する場合に好適である。
2. Transparent substrate The transparent substrate used in the present invention is not particularly limited as long as it can be generally used in an EL display device. For example, inflexible transparent rigid materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and synthetic quartz plates, or transparent flexible materials having flexibility such as transparent resin films and optical resin plates may be used. it can. Among these, Corn 2000 Eagle 2000 or 1737 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is a non-alkali glass containing no alkali component in the glass. Are preferably used. In particular, the present invention is suitable when the EL element substrate of the present invention is applied to an active display type EL display device.

3.着色層
本発明においては、光散乱層上に着色層が形成されていてもよい。着色層3は、例えば図3(a)に示すように透明基板1と光散乱層2との間に形成されていてもよく、例えば図3(b)に示すように光散乱層2の透明基板1が形成された面とは反対側の面に形成されていてもよい。
透明基板と光散乱層との間に着色層が形成されている場合は、光散乱層に比べて透明基板表面の方が平坦であることから、着色層の成膜およびパターニングが容易であるという利点がある。また、光散乱層よりも色特性補正のための着色層の方が光の出射面側に設けられることになるので、光散乱層に色付きがあっても高いコントラストが得られる。さらに、着色層形成時の熱工程(ポストベーク)に曝されることなく光散乱層を形成できるので、光散乱層中の透明樹脂が熱により黄変するのを回避することができる。
3. Colored layer In the present invention, a colored layer may be formed on the light scattering layer. The colored layer 3 may be formed between the transparent substrate 1 and the light scattering layer 2 as shown in FIG. 3A, for example. For example, as shown in FIG. You may form in the surface on the opposite side to the surface in which the board | substrate 1 was formed.
When a colored layer is formed between the transparent substrate and the light scattering layer, the transparent substrate surface is flatter than the light scattering layer, and therefore it is easy to form and pattern the colored layer. There are advantages. Further, since the colored layer for correcting the color characteristics is provided on the light exit surface side than the light scattering layer, a high contrast can be obtained even if the light scattering layer is colored. Furthermore, since the light scattering layer can be formed without being exposed to the heat process (post-bake) when forming the colored layer, it is possible to avoid yellowing of the transparent resin in the light scattering layer due to heat.

本発明に用いられる着色層は、赤色着色パターン、緑色着色パターン、および青色着色パターンから構成されているものである。通常、各色着色パターンは、上記光散乱層の各散乱部に対応して設けられる。各色着色パターンの配列としては特に限定されるものではなく、例えばストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等が挙げられる。   The colored layer used in the present invention is composed of a red colored pattern, a green colored pattern, and a blue colored pattern. Usually, each color coloring pattern is provided corresponding to each scattering portion of the light scattering layer. The arrangement of each color coloring pattern is not particularly limited, and examples thereof include a stripe type, a mosaic type, a triangle type, and a four-pixel arrangement type.

透明基板上の非表示領域に後述する遮光部が形成されていない場合は、各色着色パターンは隙間なく形成されていることが好ましい。これにより、コントラストを向上させることができるからである。   When the light-shielding part mentioned later is not formed in the non-display area | region on a transparent substrate, it is preferable that each color coloring pattern is formed without the gap. This is because the contrast can be improved.

着色層の形成材料としては、一般的にカラーフィルタに用いられる材料を適用することができ、例えば有機顔料や無機顔料が挙げられる。   As a material for forming the colored layer, materials generally used for color filters can be applied, and examples thereof include organic pigments and inorganic pigments.

また、着色層の厚みとしては、特に限定されるものではないが、上記光散乱層の色付きの色特性補正が可能な厚みであることが好ましい。例えば着色層の厚みを比較的薄くすることにより、上記光散乱層の色付きの色特性補正ができる。この場合、着色層の厚みは、目的とする色特性補正に応じて適宜調整される。   Further, the thickness of the colored layer is not particularly limited, but is preferably a thickness capable of correcting colored characteristics of the light scattering layer. For example, the colored characteristics of the light scattering layer can be corrected by making the thickness of the colored layer relatively thin. In this case, the thickness of the colored layer is appropriately adjusted according to the target color characteristic correction.

上記着色層は、一般的な顔料分散法、染色法、電着法、印刷法等により形成することができる。顔料分散法により着色層を形成する場合は、着色層形成用塗工液として上述した有機顔料や無機顔料を分散させた顔料分散レジストが用いられる。   The colored layer can be formed by a general pigment dispersion method, dyeing method, electrodeposition method, printing method, or the like. In the case of forming a colored layer by a pigment dispersion method, a pigment dispersion resist in which the above-described organic pigment or inorganic pigment is dispersed is used as a colored layer forming coating solution.

各色着色パターンを精度良く形成するためには、アライメントマークが形成されていることが好ましい。アライメントマークは、通常、1色目の着色パターンの形成と同時に形成される。後述する遮光部が所定の位置に形成されている場合には、この遮光部をアライメントマークとして用いることができる。   In order to form each color coloring pattern with high accuracy, an alignment mark is preferably formed. The alignment mark is usually formed simultaneously with the formation of the first color pattern. When a light shielding portion described later is formed at a predetermined position, this light shielding portion can be used as an alignment mark.

4.遮光部
本発明においては、例えば図4に示すように、透明基板1上の非表示領域に遮光部5が形成されていてもよい。遮光部は、EL表示装置における発光層のパターン間を遮光するため、または各散乱部のアライメントをとるため、あるいは、上記着色層が形成されている場合は各色着色パターン間を遮光するため、または各色着色パターンのアライメントをとるため、等に設けられるものである。遮光部を設けることにより、コントラストを向上させることができる。
4). In the present invention, for example, as shown in FIG. 4, a light shielding portion 5 may be formed in a non-display area on the transparent substrate 1. The light shielding part shields light between the patterns of the light emitting layer in the EL display device, or aligns the scattering parts, or shields light between the colored patterns when the colored layer is formed, or In order to align each color coloring pattern, etc. are provided. By providing the light shielding portion, the contrast can be improved.

さらに、上記遮光部は、透明基板上の非表示領域に形成されていればよく、透明基板の光散乱層が形成されている側、または光散乱層が形成されていない側のいずれに形成されていてもよい。   Furthermore, the light-shielding portion only needs to be formed in a non-display area on the transparent substrate, and is formed on either the side of the transparent substrate where the light scattering layer is formed or the side where the light scattering layer is not formed. It may be.

本発明に用いられる遮光部は、例えば遮光性樹脂、クロム等の金属、遮光性顔料を分散させたレジストなどにより形成することができる。   The light shielding part used in the present invention can be formed of, for example, a light shielding resin, a metal such as chromium, a resist in which a light shielding pigment is dispersed, or the like.

5.平坦化層
本発明においては、光散乱層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、また各散乱部の厚みが異なる場合には各散乱部による段差をなくして平坦な面を形成するために、あるいは、上記着色層が形成されている場合には、着色層表面の微細な凹凸をなくして平坦な面を形成するために、また各色着色パターンによる凹凸をなくして平坦な面を形成するために、光散乱層や着色層の上に平坦化層が形成されていてもよい。
5. Flattening layer In the present invention, in order to eliminate the fine irregularities on the surface of the light scattering layer and form a flat surface, and when the thickness of each scattering portion is different, the flat surface without the step due to each scattering portion Or when the colored layer is formed, the surface of the colored layer is flat to eliminate the fine irregularities, and the irregularities due to the colored patterns of each color are eliminated. In order to form the surface, a planarizing layer may be formed on the light scattering layer or the colored layer.

特に、本発明のEL素子用基板を用いてEL表示装置を作製する際に、例えばEL素子用基板における光散乱層上に透明電極層等が形成される場合には、上記平坦化層が形成されていることが好ましい。光散乱層は微粒子を含有するため表面に微細な凹凸が生じやすく、均一な透明電極層の形成が困難となる場合があるが、光散乱層上に平坦化層が形成されていることにより、均一な透明電極層を形成することができるからである。また、各散乱部の厚みが異なる場合に、透明電極層に各散乱部による段差が反映されると電極間で短絡が生じる場合があるが、平坦化層が形成されていることにより、この電極間の短絡を防止することができるからである。   In particular, when an EL display device is manufactured using the EL element substrate of the present invention, for example, when a transparent electrode layer or the like is formed on a light scattering layer in the EL element substrate, the planarizing layer is formed. It is preferable that Since the light scattering layer contains fine particles, fine irregularities are likely to occur on the surface, and it may be difficult to form a uniform transparent electrode layer, but by the formation of a planarizing layer on the light scattering layer, This is because a uniform transparent electrode layer can be formed. In addition, when the thickness of each scattering portion is different, if a step due to each scattering portion is reflected in the transparent electrode layer, a short circuit may occur between the electrodes. This is because a short circuit can be prevented.

また、光散乱層上に着色層が形成されている場合には、光散乱層と着色層との間に平坦化層を設けることにより、光散乱層表面の微細な凹凸を平坦化することができ、着色層のパターニング特性が向上する。さらに、この場合には、着色層上に平坦化層が形成されていることにより、上記の場合と同様に、均一な透明電極層を形成することができる。また、着色層上に平坦化層が形成されていることにより、各色着色パターンによる凹凸によって生じる電極間の短絡を防止することができる。   In addition, when a colored layer is formed on the light scattering layer, it is possible to planarize fine irregularities on the surface of the light scattering layer by providing a planarizing layer between the light scattering layer and the colored layer. And the patterning characteristics of the colored layer are improved. Furthermore, in this case, since the planarizing layer is formed on the colored layer, a uniform transparent electrode layer can be formed as in the above case. Moreover, the short circuit between the electrodes which arises by the unevenness | corrugation by each color coloring pattern can be prevented by forming the planarization layer on the colored layer.

一方、例えばEL素子用基板と対向基板とを別々に作製して貼り合わせることによりEL表示装置を作製する場合には、上記平坦化層は形成されていなくてもよい。   On the other hand, for example, in the case where an EL display device is manufactured by separately manufacturing and bonding an EL element substrate and a counter substrate, the planarization layer may not be formed.

上記平坦化層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層の積層順にかかわらず、光散乱層および着色層が積層された上に形成されていてもよく、光散乱層と着色層との間に形成されていてもよい。   The flattening layer is formed on the light scattering layer when only the light scattering layer is formed on the transparent substrate, but when the colored layer is formed, the light scattering layer and Regardless of the order of lamination of the colored layers, the light scattering layer and the colored layer may be formed on top of each other, or may be formed between the light scattering layer and the colored layer.

本発明に用いられる平坦化層は、例えばアクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ビニルエーテル系樹脂、ポリイミド系樹脂、プロピニル系樹脂等を用いて形成することができる。   The planarization layer used in the present invention can be formed using, for example, an acrylic resin, an epoxy resin, a vinyl ether resin, a polyimide resin, a propynyl resin, or the like.

6.ガスバリア層
本発明においては、光散乱層上にガスバリア層が形成されていてもよい。EL表示装置における発光層やその他の有機層は、酸素、水蒸気、およびその他のガス等に弱い部材であるため、ガスバリア層を設けることにより、ダークスポットやダークエリアの発生を抑制することができるからである。特に、上記着色層が形成されている場合には、EL表示装置の製造時や駆動時に、この着色層等からガスが発生する場合があるが、ガスバリア層によって、この発生したガスにより発光層等が劣化するのを抑えることができる。
6). Gas Barrier Layer In the present invention, a gas barrier layer may be formed on the light scattering layer. Since the light emitting layer and other organic layers in the EL display device are weak members against oxygen, water vapor, and other gases, the generation of dark spots and dark areas can be suppressed by providing a gas barrier layer. It is. In particular, when the colored layer is formed, a gas may be generated from the colored layer or the like during manufacture or driving of an EL display device. Can be prevented from deteriorating.

ガスバリア層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層が積層された上に形成される。   When only the light scattering layer is formed on the transparent substrate, the gas barrier layer is formed on the light scattering layer, but when the colored layer is formed, the light scattering layer and the colored layer are formed. Are formed on the stacked layers.

ガスバリア層としては、一般にEL表示装置のガスバリア層として用いられるものを使用することができ、例えば酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素等が用いられる。   As the gas barrier layer, those generally used as a gas barrier layer of an EL display device can be used. For example, silicon oxide, silicon nitride, silicon oxynitride or the like is used.

7.透明電極層
本発明においては、光散乱層上に透明電極層が形成されていてもよい。透明電極層は、透明基板上に光散乱層のみが形成されている場合は、光散乱層上に形成されるものであるが、上記着色層が形成されている場合は、光散乱層および着色層が積層された上に形成される。
7). Transparent electrode layer In the present invention, a transparent electrode layer may be formed on the light scattering layer. The transparent electrode layer is formed on the light scattering layer when only the light scattering layer is formed on the transparent substrate, but when the colored layer is formed, the light scattering layer and the colored layer are formed. Layers are formed on top of each other.

本発明に用いられる透明電極層としては、例えば酸化インジウムスズ(ITO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)等、またはその合金等が用いられる。また、透明電極層は、スパッタリング法、真空蒸着法、CVD法等の一般的な成膜方法により形成することができる。   As the transparent electrode layer used in the present invention, for example, indium tin oxide (ITO), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO), or an alloy thereof is used. The transparent electrode layer can be formed by a general film forming method such as a sputtering method, a vacuum vapor deposition method, a CVD method or the like.

上記透明電極層の厚みは、0.01μm〜1μm程度で設定することができ、好ましくは0.03μm〜0.5μm程度である。   The thickness of the transparent electrode layer can be set to about 0.01 μm to 1 μm, and preferably about 0.03 μm to 0.5 μm.

8.その他
本発明のEL素子用基板のヘイズ値としては、30〜95程度であることが好ましく、より好ましくは40〜80の範囲内、最も好ましくは50〜70の範囲内である。ヘイズ値が上記範囲より小さいと、十分な光散乱効果が得られない場合があるからである。また、正面輝度の観点からは、ヘイズ値の上限は95であることが好ましい。
8). Others The haze value of the EL device substrate of the present invention is preferably about 30 to 95, more preferably in the range of 40 to 80, and most preferably in the range of 50 to 70. This is because if the haze value is smaller than the above range, a sufficient light scattering effect may not be obtained. From the viewpoint of front luminance, the upper limit of the haze value is preferably 95.

また、本発明のEL素子用基板の全光線透過率としては、85%以上であることが好ましく、より好ましくは90%以上、最も好ましくは95%以上である。全光線透過率が小さすぎると、本発明のEL素子用基板をEL表示装置に用いた場合、輝度が低下するおそれがあるからである。   Further, the total light transmittance of the EL device substrate of the present invention is preferably 85% or more, more preferably 90% or more, and most preferably 95% or more. This is because if the total light transmittance is too small, the luminance may decrease when the EL element substrate of the present invention is used in an EL display device.

なお、上記ヘイズ値および全光線透過率は、東洋精機製作所(株)製の直読ヘイズメーターを用いて測定した値である。   The haze value and total light transmittance are values measured using a direct reading haze meter manufactured by Toyo Seiki Seisakusho.

本発明のEL素子用基板は、例えばEL表示装置、プラズマディスプレイ(PDP)、フィールドエミッションディスプレイ(FED)などの自発光型表示装置に適用することができる。本発明のEL素子用基板を用いることにより、三原色の光の散乱特性に優れ、高コントラストおよび高輝度の表示を得ることが可能である。   The EL element substrate of the present invention can be applied to a self-luminous display device such as an EL display device, a plasma display (PDP), or a field emission display (FED). By using the EL element substrate of the present invention, it is possible to obtain a display with excellent light scattering characteristics of the three primary colors and high contrast and high brightness.

B.EL表示装置
次に、本発明のEL表示装置について説明する。本発明のEL表示装置は、上述したEL素子用基板を用いたことを特徴とするものである。本発明のEL表示装置は、上記EL素子用基板を用いるので、色シフトを抑制することができ、視認性が良好である。
EL表示装置としては、有機EL表示装置であっても無機EL表示装置であってもよい。
B. EL Display Device Next, the EL display device of the present invention will be described. The EL display device of the present invention is characterized by using the above-described EL element substrate. Since the EL display device of the present invention uses the EL element substrate, color shift can be suppressed and visibility is good.
The EL display device may be an organic EL display device or an inorganic EL display device.

特に、本発明のEL表示装置は、アクティブ駆動方式により駆動されるものであることが好ましい。これは、上記EL素子用基板が外光の反射を抑えることが可能であり、外部環境で使用するデジタルスチルカメラやデジタルビデオムービー等に用いられる表示装置に適しているからである。一般的に、デジタルスチルカメラやデジタルビデオムービー等の解像度はメガピクセルを有するものが用いられるため、それを表示する表示装置に対しても解像度が要求される。パッシブ駆動方式の表示装置では、その構成から高解像度を得ることができず、高精細の表示装置は一般的にアクティブ駆動方式に移行してきている。また、色の表示色に関しても、薄膜トランジスタ(TFT)素子等で中間色を制御できるアクティブ駆動方式の表示装置の方が表示色を多く再現できる。   In particular, the EL display device of the present invention is preferably driven by an active driving method. This is because the EL element substrate can suppress reflection of external light and is suitable for a display device used in a digital still camera or a digital video movie used in an external environment. In general, since a digital still camera, a digital video movie, or the like has a megapixel resolution, a resolution is also required for a display device that displays the resolution. A passive drive display device cannot obtain high resolution due to its configuration, and high-definition display devices have generally shifted to an active drive method. Further, regarding the display colors of colors, an active drive type display device capable of controlling an intermediate color with a thin film transistor (TFT) element can reproduce many display colors.

図5に、本発明のEL表示装置の一例を示す。図5(a)はボトムエミッションのEL表示装置の例であり、図5(b)はトップエミッションのEL表示装置の例である。
例えば図5(a)に示すEL表示装置30においては、EL素子用基板10の光散乱層2(2R、2Gおよび2B)上に透明電極層12、発光層11、および背面電極層13が形成され、その上に基板15が形成されている。発光層12の間には隔壁16が形成され、透明電極層12は薄膜トランジスタ(TFT)17とともに形成されている。
また例えば図5(b)に示すEL表示装置30においては、EL素子用基板10と、基板15上に背面電極層13、発光層11、透明電極層12および屈折率マッチング層14が形成された対向基板20とが積層されている。そして、発光層12の間には隔壁16が形成され、背面電極層13は薄膜トランジスタ(TFT)17とともに形成されている。
FIG. 5 shows an example of an EL display device of the present invention. FIG. 5A illustrates an example of a bottom emission EL display device, and FIG. 5B illustrates an example of a top emission EL display device.
For example, in the EL display device 30 shown in FIG. 5A, the transparent electrode layer 12, the light emitting layer 11, and the back electrode layer 13 are formed on the light scattering layer 2 (2R, 2G, and 2B) of the EL element substrate 10. A substrate 15 is formed thereon. A partition wall 16 is formed between the light emitting layers 12, and the transparent electrode layer 12 is formed together with a thin film transistor (TFT) 17.
For example, in the EL display device 30 shown in FIG. 5B, the back electrode layer 13, the light emitting layer 11, the transparent electrode layer 12, and the refractive index matching layer 14 are formed on the EL element substrate 10 and the substrate 15. The counter substrate 20 is laminated. A partition wall 16 is formed between the light emitting layers 12, and the back electrode layer 13 is formed together with a thin film transistor (TFT) 17.

ボトムエミッションとトップエミッションとでは、トップエミッションの方が発光部分の割合(開口率)が大きい点で有利である。これは、ボトムエミッションでは、光の取出し面側にTFT回路が形成されるため、開口率が狭くなってしまうが、トップエミッションでは、TFT回路の形成面とは反対側の面から光を取り出すため、複雑なTFT回路が形成されていても、開口率には影響しないからである。   Among bottom emission and top emission, top emission is advantageous in that the ratio of the light emitting portion (aperture ratio) is large. This is because, in bottom emission, a TFT circuit is formed on the light extraction surface side, and the aperture ratio becomes narrow. However, in top emission, light is extracted from the surface opposite to the TFT circuit formation surface. This is because even if a complicated TFT circuit is formed, the aperture ratio is not affected.

また、本発明のEL表示装置は、例えば白色を発光する発光層を用いたもの、三原色をそれぞれ発光する発光層を用いたもの、および青色を発光する発光層を用いたもののいずれであってもよい。
上記EL素子用基板が透明基板と光散乱層とを有するものである場合には、三原色をそれぞれ発光する発光層を用いたEL表示装置とすることが好ましい。一方、上記EL素子用基板が透明基板と光散乱層と着色層とを有するものである場合には、白色を発光する発光層を用いたEL表示装置とすることが好ましい。
The EL display device of the present invention may be, for example, one using a light emitting layer that emits white light, one using a light emitting layer that emits three primary colors, or one using a light emitting layer that emits blue light. Good.
In the case where the EL element substrate has a transparent substrate and a light scattering layer, an EL display device using light emitting layers that emit three primary colors is preferable. On the other hand, when the EL element substrate has a transparent substrate, a light scattering layer, and a colored layer, an EL display device using a light emitting layer that emits white light is preferably used.

なお、本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下、本発明について実施例を用いて具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be specifically described with reference to examples.

[実施例1]
(遮光部の形成)
透明基板として、370mm×470mm、厚み0.7mmのソーダガラス(セントラル硝子社製)を用いた。この透明基板上に、スパッタリングにより酸化窒化複合クロムの薄膜(厚み0.2μm)を形成した。この複合クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、および複合クロム薄膜のエッチングを順次行って、80μm×280μmの長方形状の開口部が、短辺方向に100μmのピッチ、長辺方向に300μmのピッチでマトリックス状に配列した遮光部を形成した。
[Example 1]
(Formation of light shielding part)
As the transparent substrate, soda glass (manufactured by Central Glass Co., Ltd.) having a thickness of 370 mm × 470 mm and a thickness of 0.7 mm was used. On this transparent substrate, a thin film (thickness: 0.2 μm) of oxynitride composite chromium was formed by sputtering. A photosensitive resist is applied on the composite chrome thin film, mask exposure, development, and etching of the composite chrome thin film are sequentially performed, so that 80 μm × 280 μm rectangular openings have a pitch of 100 μm and a long side in the short side direction. Light-shielding portions arranged in a matrix at a pitch of 300 μm in the direction were formed.

(着色層の形成)
赤色、緑色、および青色の各着色層形成用塗工液を調製した。赤色着色剤としては縮合アゾ系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルレッドBRN)、緑色着色剤としてはフタロシアニン系緑色顔料(東洋インキ製造社製、リオノールグリーン2Y−301)、および青色着色剤としてはアンスラキノン系顔料(チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、クロモフタルブルーA3R)をそれぞれ用い、バインダー樹脂としてはポリビニルアルコールを用いた。ポリビニルアルコール10%水溶液10部に対し、各着色剤を1部(部数はいずれも質量基準。)の割合で配合した。得られた溶液100部に対し、1部の重クロム酸アンモニウムを架橋剤として添加し、各着色層形成用塗工液を得た。
(Formation of colored layer)
Red, green, and blue colored layer forming coating solutions were prepared. Condensed azo pigments (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Chromophthalred BRN) as red colorants, phthalocyanine green pigments (Lionol Green 2Y-301, manufactured by Toyo Ink Co., Ltd.), and blue as green colorants Anthraquinone pigments (manufactured by Ciba Specialty Chemicals, Chromophthal Blue A3R) were used as the colorant, and polyvinyl alcohol was used as the binder resin. Each coloring agent was blended at a ratio of 1 part (all parts are based on mass) to 10 parts of a 10% aqueous solution of polyvinyl alcohol. To 100 parts of the obtained solution, 1 part of ammonium dichromate was added as a crosslinking agent to obtain each colored layer forming coating solution.

上記の各着色層形成用塗工液を順次用いて各着色層を形成した。すなわち、遮光部が形成された上記透明基板上に、赤色着色層形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、100℃の温度で5分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行った。次いで、200℃の温度で60分間のポストベイクを行い、遮光部の所定の位置に幅85μm、厚み1.5μmの帯状の赤色着色層を形成した。以降、緑色着色層形成用塗工液、および青色着色層形成用塗工液を順次用い、緑色着色層、および青色着色層を形成した。   Each colored layer was formed using the above-described colored layer forming coating solutions sequentially. That is, a red colored layer forming coating solution was applied by spin coating on the transparent substrate on which the light shielding portion was formed, and prebaked at a temperature of 100 ° C. for 5 minutes. Then, it exposed using the photomask and developed with the developing solution (0.05% KOH aqueous solution). Next, post-baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes, and a band-like red colored layer having a width of 85 μm and a thickness of 1.5 μm was formed at a predetermined position of the light shielding portion. Thereafter, a green color layer and a blue color layer were formed using a green color layer forming coating solution and a blue color layer forming coating solution in this order.

(光散乱層の形成)
まず、光散乱層形成用塗工液を調製した。
<硬化性樹脂組成物の調製>
重合槽中に、メタクリル酸メチル(MMA)63重量部と、アクリル酸(AA)12重量部と、メタクリル酸−2−ヒドロキシエチル(HEMA)6重量部と、ジエチレングリコールジメチルエーテル(DMDG)88重量部とを仕込み、攪拌し溶解させた後、2,2´−アゾビス(2−メチルブチロニトリル)を7重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、85℃で2時間攪拌し、さらに100℃で1時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル(GMA)7重量部と、トリエチルアミン0.4重量部と、ハイドロキノン0.2重量部とを添加し、100℃で5時間攪拌し、硬化性樹脂組成物(固形分50%)を得た。
次に、下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を得た。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・上記硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
(Formation of light scattering layer)
First, a coating solution for forming a light scattering layer was prepared.
<Preparation of curable resin composition>
In the polymerization tank, 63 parts by weight of methyl methacrylate (MMA), 12 parts by weight of acrylic acid (AA), 6 parts by weight of 2-hydroxyethyl methacrylate (HEMA), and 88 parts by weight of diethylene glycol dimethyl ether (DMDG) After stirring and dissolving, 7 parts by weight of 2,2′-azobis (2-methylbutyronitrile) was added and dissolved uniformly. Then, it stirred at 85 degreeC under nitrogen stream for 2 hours, and also was made to react at 100 degreeC for 1 hour. 7 parts by weight of glycidyl methacrylate (GMA), 0.4 parts by weight of triethylamine, and 0.2 parts by weight of hydroquinone were further added to the obtained solution, and the mixture was stirred at 100 ° C. for 5 hours to obtain a curable resin composition. (Solid content 50%) was obtained.
Next, the materials having the following composition were mixed and stirred at room temperature to obtain each coating solution for forming a light scattering layer.
<Composition of coating solution for forming light scattering layer for red>
-The above-mentioned curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight- Orthocresol novolac-type epoxy resin (Oilized Shell Epoxy Epicoat 180S70): 4 Part by weight: 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight Diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size: 1.2 μm): 10 parts by weight <Composition of coating solution for forming light scattering layer for green>
-The above-mentioned curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight- Orthocresol novolac-type epoxy resin (Oilized Shell Epoxy Epicoat 180S70): 4 Part by weight: 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight Diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size: 1.2 μm): 10 parts by weight <Composition of coating solution for forming light scattering layer for blue>
-The above-mentioned curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight-Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight- Orthocresol novolac-type epoxy resin (Oilized Shell Epoxy Epicoat 180S70): 4 Part by weight: 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight Diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size: 1.2 μm): 10 parts by weight

次に、上記光散乱層形成用塗工液を用い、各着色層に対応する光拡散層を形成した。すなわち、遮光部の所定の位置に赤色、緑色、および青色着色層が形成された基板上に、赤色用光散乱層形成用塗工液をスピンコート法により塗布し、100℃の温度で5分間のプリベイクを行った。その後、フォトマスクを用いて露光し、現像液(0.05%KOH水溶液)にて現像を行った。次いで、200℃の温度で60分間のポストベイクを行い、赤色着色層上に厚み2.0μmの帯状の赤色用光拡散層を形成した。以降、緑色用光散乱層形成用塗工液、および青色用光散乱層形成用塗工液を順次用い、緑色用光拡散層(厚み1.8μm)、および青色用光拡散層(厚み1.5μm)を形成した。   Next, a light diffusion layer corresponding to each colored layer was formed using the light scattering layer forming coating solution. That is, a coating solution for forming a light scattering layer for red is applied by spin coating on a substrate on which red, green, and blue colored layers are formed at predetermined positions of a light-shielding portion, and the temperature is 100 ° C. for 5 minutes. Pre-baked. Then, it exposed using the photomask and developed with the developing solution (0.05% KOH aqueous solution). Next, post baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to form a strip-shaped red light diffusion layer having a thickness of 2.0 μm on the red colored layer. Thereafter, the green light-scattering layer forming coating liquid and the blue light-scattering layer forming coating liquid are sequentially used, and the green light-diffusing layer (thickness 1.8 μm) and the blue light-diffusing layer (thickness 1. 5 μm) was formed.

(平坦化層の形成)
アクリレート系光硬化性樹脂(新日鐵化学社製、品名:「V−259PA/PH5」)をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートで希釈した平坦化層形成用塗工液を調製した。この平坦化層形成用塗工液を、光散乱層上にスピンコート法により塗布し、温度120℃で5分間のプリベイクを行った。次いで、フォトリソグラフィ法によりパターニングを行った後、温度200℃で60分間のポストベイクを行って、厚み5μmの平坦化層を形成した。
(Formation of planarization layer)
A coating solution for forming a planarization layer was prepared by diluting an acrylate-based photocurable resin (manufactured by Nippon Steel Chemical Co., Ltd., product name: “V-259PA / PH5”) with propylene glycol monomethyl ether acetate. This flattening layer forming coating solution was applied onto the light scattering layer by spin coating, and prebaked at a temperature of 120 ° C. for 5 minutes. Subsequently, after patterning by a photolithography method, post baking was performed at a temperature of 200 ° C. for 60 minutes to form a flattened layer having a thickness of 5 μm.

(ガスバリア層の形成)
次に、上記平坦化層上に、Siターゲット(3N)を用い、アルゴンガス導入量:40sccm、RFパワー:430kW、基板温度:100℃でスパッタリング法により厚み150nmの酸化窒化ケイ素膜を成膜し、透明なガスバリア層を形成した。
(Formation of gas barrier layer)
Next, a silicon oxynitride film having a thickness of 150 nm is formed on the planarizing layer by sputtering using an Si 3 N 4 target (3N), an argon gas introduction amount: 40 sccm, an RF power: 430 kW, and a substrate temperature: 100 ° C. A film was formed to form a transparent gas barrier layer.

(透明電極層の形成)
上記ガスバリア層上に、イオンプレーティング法により膜厚150nmの酸化インジウムスズ(ITO)膜を形成し、このITO膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ITO膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。
次に、上記透明電極層を覆うようにガスバリア層上の全面にスパッタリング法によりクロム薄膜(厚み0.2μm)を形成し、このクロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、クロム薄膜のエッチングを行って、補助電極を形成した。
(Formation of transparent electrode layer)
An indium tin oxide (ITO) film having a thickness of 150 nm is formed on the gas barrier layer by ion plating, a photosensitive resist is applied on the ITO film, mask exposure, development, and etching of the ITO film are performed. A transparent electrode layer was formed.
Next, a chrome thin film (thickness 0.2 μm) is formed by sputtering on the entire surface of the gas barrier layer so as to cover the transparent electrode layer, a photosensitive resist is applied on the chrome thin film, mask exposure, development, chromium The auxiliary electrode was formed by etching the thin film.

(絶縁層および隔壁の形成)
平均分子量が約100,000であるノルボルネン系樹脂(JSR社製:ARTON)をトルエンで希釈した絶縁層形成用塗工液を使用し、スピンコート法により透明電極層を覆うようにガスバリア層上に塗布した後、ベーク(100℃、30分)を行って、絶縁膜(厚み1μm)を形成した。次に、この絶縁膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、絶縁膜のエッチングを行って絶縁層を形成した。この絶縁層は、透明電極層と直角に交差する帯状(幅20μm)のパターンであり、遮光部上に位置するものとした。
(Formation of insulating layer and partition)
An insulating layer forming coating solution obtained by diluting norbornene-based resin (manufactured by JSR: ARTON) having an average molecular weight of about 100,000 with toluene is used on the gas barrier layer so as to cover the transparent electrode layer by spin coating. After coating, baking (100 ° C., 30 minutes) was performed to form an insulating film (thickness 1 μm). Next, a photosensitive resist was applied on the insulating film, mask exposure, development, and etching of the insulating film were performed to form an insulating layer. This insulating layer was a strip-like pattern (width 20 μm) intersecting the transparent electrode layer at a right angle, and was located on the light shielding portion.

次に、隔壁形成用塗工液(日本ゼオン社製フォトレジスト:ZPN1100)をスピンコート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベーク(70℃、30分間)を行った。その後、所定の隔壁用フォトマスクを用いて露光し、現像液(日本ゼオン社製:ZTMA−100)にて現像を行い、次いで、ポストベーク(100℃、30分間)を行って、絶縁層上に隔壁を形成した。   Next, a partition wall-forming coating solution (Nippon Zeon Photoresist: ZPN1100) was applied over the entire surface by spin coating so as to cover the insulating layer, and prebaked (70 ° C., 30 minutes). Then, it exposes using the photomask for predetermined | prescribed partition, develops with a developing solution (Nippon-Zeon company make: ZTMA-100), then performs post-baking (100 degreeC, 30 minutes), and on an insulating layer A partition wall was formed.

(有機EL層の形成)
次いで、真空蒸着法により正孔注入層、白色発光層、および電子注入層からなる有機EL層を形成した。すなわち、まずN,N´−ジフェニル−N,N´−ビス(3−メチルフェニル)−〔1,1´−ビフェニル〕−4,4´−ジアミンを、画像表示領域に対応する所定の開口部を備えたフォトマスクを介して600nmまで蒸着して成膜することによって、透明電極層上に正孔注入層を形成した。同様にして、4,4´−ビス(2,2−ジフェニルビニル)ビフェニルを50nmまで蒸着して成膜した。このとき同時にルブレン(アルドリッチ(株)製、蛍光ピーク波長585nm)を少量含有させた。これにより白色発光層を形成した。その後、トリス(8−キノリノール)アルミニウムを20nm厚まで蒸着して成膜することにより電子注入層を形成した。このようにして形成された有機EL層は、幅280μmの帯状のパターンとして各隔壁間に存在するものであった。
(Formation of organic EL layer)
Subsequently, the organic EL layer which consists of a positive hole injection layer, a white light emitting layer, and an electron injection layer was formed by the vacuum evaporation method. That is, first, N, N′-diphenyl-N, N′-bis (3-methylphenyl)-[1,1′-biphenyl] -4,4′-diamine is used as a predetermined opening corresponding to the image display area. A hole injection layer was formed on the transparent electrode layer by vapor deposition up to 600 nm through a photomask provided with a film. Similarly, 4,4′-bis (2,2-diphenylvinyl) biphenyl was deposited to 50 nm to form a film. At the same time, a small amount of rubrene (manufactured by Aldrich Co., Ltd., fluorescence peak wavelength: 585 nm) was contained. This formed the white light emitting layer. Thereafter, tris (8-quinolinol) aluminum was deposited to a thickness of 20 nm to form a film, thereby forming an electron injection layer. The organic EL layer thus formed was present between the partition walls as a strip-shaped pattern having a width of 280 μm.

(背面電極層の形成)
次に、画像表示領域よりも広い所定の開口部を備えたフォトマスクを介して、上記隔壁が形成されている領域に、真空蒸着法によりマグネシウムと銀を同時に蒸着(マグネシウムの蒸着速度=1.3〜1.4nm/秒、銀の蒸着速度=0.1nm/秒)して成膜した。これにより、隔壁がマスクとなって、マグネシウム/銀化合物からなる厚み200nmの背面電極層を有機EL層上に形成した。この背面電極層は、幅280μmの帯状のパターンとして有機EL層上に存在するものであった。
(Formation of back electrode layer)
Next, magnesium and silver are simultaneously vapor-deposited in a region where the partition wall is formed through a photomask having a predetermined opening wider than the image display region by a vacuum vapor deposition method (magnesium vapor deposition rate = 1. 3 to 1.4 nm / second, silver deposition rate = 0.1 nm / second). Thereby, the partition wall was used as a mask to form a 200 nm-thick back electrode layer made of magnesium / silver compound on the organic EL layer. This back electrode layer was present on the organic EL layer as a band-like pattern having a width of 280 μm.

(有機EL表示装置)
上記の有機EL素子を封止し、有機EL表示装置を得た。この有機EL表示装置の透明電極層と背面電極層に直流8.5Vの電圧を10mA/cmの一定電流密度で印加して連続駆動させることにより、透明電極層と背面電極層とが交差する所望の部位の白色発光層を発光させた。
(Organic EL display device)
The organic EL element was sealed to obtain an organic EL display device. The transparent electrode layer and the back electrode layer intersect each other by applying a voltage of DC 8.5 V to the transparent electrode layer and the back electrode layer of this organic EL display device at a constant current density of 10 mA / cm 2 and driving them continuously. The white light emitting layer at the desired site was caused to emit light.

[実施例2]
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):12重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):8重量部
[Example 2]
In Example 1, an organic EL display device was produced in the same manner as Example 1 except that the light scattering layer was formed as follows.
(Formation of light scattering layer)
The materials having the following composition were mixed and stirred at room temperature to prepare each coating solution for forming a light scattering layer. The curable resin composition used was the same as in Example 1.
<Composition of coating solution for forming light scattering layer for red>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Parts: 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size: 1.2 μm): 12 Weight part <Composition of coating solution for forming light scattering layer for green>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.2 μm): 10 parts Part by weight <Composition of coating solution for forming light scattering layer for blue>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Parts 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine-based resin beads (average particle size 1.2 μm): 8 Parts by weight

次に、赤色用光拡散層の厚みを2.0μm、緑色用光拡散層の厚みを2.0μm、および青色用光拡散層の厚みを2.0μmとした以外は、実施例1と同様にして光拡散層を形成した。   Next, the same procedure as in Example 1 was performed except that the thickness of the red light diffusion layer was 2.0 μm, the thickness of the green light diffusion layer was 2.0 μm, and the thickness of the blue light diffusion layer was 2.0 μm. Thus, a light diffusion layer was formed.

[実施例3]
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.6μm):10重量部
[Example 3]
In Example 1, an organic EL display device was produced in the same manner as Example 1 except that the light scattering layer was formed as follows.
(Formation of light scattering layer)
The materials having the following composition were mixed and stirred at room temperature to prepare each coating solution for forming a light scattering layer. The curable resin composition used was the same as in Example 1.
<Composition of coating solution for forming light scattering layer for red>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.6 μm): 10 parts Weight part <Composition of coating solution for forming light scattering layer for green>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.6 μm): 10 parts Part by weight <Composition of coating solution for forming light scattering layer for blue>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.6 μm): 10 parts Parts by weight

次に、赤色用光拡散層の厚みを2.0μm、緑色用光拡散層の厚みを1.8μm、および青色用光拡散層の厚みを1.5μmとした以外は、実施例1と同様にして光拡散層を形成した。   Next, the same procedure as in Example 1 was performed except that the thickness of the red light diffusion layer was 2.0 μm, the thickness of the green light diffusion layer was 1.8 μm, and the thickness of the blue light diffusion layer was 1.5 μm. Thus, a light diffusion layer was formed.

[比較例1]
実施例1において、下記のようにして光散乱層を形成した以外は、実施例1と同様にして、有機EL表示装置を作製した。
(光散乱層の形成)
下記の組成で材料を混合し、室温で攪拌して、各光散乱層形成用塗工液を調製した。なお、硬化性樹脂組成物は実施例1と同様のものを用いた。
<赤色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<緑色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
<青色用光散乱層形成用塗工液の組成>
・硬化性樹脂組成物(固形分50%):16重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート(サートマー社 SR399):24重量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェルエポキシ社 エピコート180S70):4重量部
・2−メチル−1−(4−メチルチオフェニル)−2−モルフォリノプロパン−1−オン:4重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル:52重量部
・メラミン系樹脂ビーズ(平均粒径1.2μm):10重量部
[Comparative Example 1]
In Example 1, an organic EL display device was produced in the same manner as Example 1 except that the light scattering layer was formed as follows.
(Formation of light scattering layer)
The materials having the following composition were mixed and stirred at room temperature to prepare each coating solution for forming a light scattering layer. The curable resin composition used was the same as in Example 1.
<Composition of coating solution for forming light scattering layer for red>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.2 μm): 10 parts Weight part <Composition of coating solution for forming light scattering layer for green>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.2 μm): 10 parts Part by weight <Composition of coating solution for forming light scattering layer for blue>
Curable resin composition (solid content 50%): 16 parts by weight Dipentaerythritol pentaacrylate (Sartomer SR399): 24 parts by weight Orthocresol novolac type epoxy resin (Oka Chemical Shell Epoxy Co., Ltd. Epicoat 180S70): 4 weights Part 2-methyl-1- (4-methylthiophenyl) -2-morpholinopropan-1-one: 4 parts by weight diethylene glycol dimethyl ether: 52 parts by weight Melamine resin beads (average particle size 1.2 μm): 10 parts Parts by weight

次に、赤色用光拡散層の厚みを2.0μm、緑色用光拡散層の厚みを2.0μm、および青色用光拡散層の厚みを2.0μmとした以外は、実施例1と同様にして光拡散層を形成した。   Next, the same procedure as in Example 1 was performed except that the thickness of the red light diffusion layer was 2.0 μm, the thickness of the green light diffusion layer was 2.0 μm, and the thickness of the blue light diffusion layer was 2.0 μm. Thus, a light diffusion layer was formed.

[評価]
有機EL表示装置の任意の領域に関して分光放射輝度計(株式会社トプコン製 SR-2)にて基板正面に対して45°傾斜させた場合の色ずれ(CIE色度座標でのΔxy)、および明室下での視認性(外光反射低減効果)について評価を行った。
[Evaluation]
Color shift (Δxy in CIE chromaticity coordinates) and brightness when tilting 45 ° with respect to the front of the substrate with a spectral radiance meter (SR-2 manufactured by Topcon Co., Ltd.) for an arbitrary area of the organic EL display device The visibility under the room (external light reflection reduction effect) was evaluated.

ここで、Δxyとは、全色点灯時の基板正面でのWhite座標(x1,y1)に対し、基板面に対して45°傾斜させた場合のWhite座標(x2,y2)から、下記式により算出される。
Δxy=((x1−x2)+(y1−y2)1/2
Here, Δxy is obtained from the following equation from the White coordinates (x2, y2) when inclined by 45 ° with respect to the substrate surface with respect to the White coordinates (x1, y1) at the front of the substrate when all colors are lit. Calculated.
Δxy = ((x1−x2) 2 + (y1−y2) 2 ) 1/2

また、光散乱層のヘイズ値を、東洋精機製作所(株)製の直読ヘイズメーターで測定した。
結果を表1に示す。なお、表1における微粒子の濃度とは、各光拡散層形成用塗工液中の固形分の総重量に対する微粒子重量の比率(%)である。
Further, the haze value of the light scattering layer was measured with a direct reading haze meter manufactured by Toyo Seiki Seisakusho.
The results are shown in Table 1. In addition, the density | concentration of microparticles | fine-particles in Table 1 is a ratio (%) of microparticle weight with respect to the total weight of solid content in each coating liquid for light diffusion layer formation.

Figure 2007109575
Figure 2007109575

本発明のEL素子用基板の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the board | substrate for EL elements of this invention. 従来のEL素子用基板の散乱特性の一例を示すグラフである。It is a graph which shows an example of the scattering characteristic of the conventional board | substrate for EL elements. 本発明のEL素子用基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the board | substrate for EL elements of this invention. 本発明のEL素子用基板の他の例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows the other example of the board | substrate for EL elements of this invention. 本発明のEL表示装置の一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the EL display apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 … 透明基板
2 … 光散乱層
2R … 赤色光用散乱部
2G … 緑色光用散乱部
2B … 青色光用散乱部
3 … 着色層
5 … 遮光部
10 … EL素子用基板
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Transparent substrate 2 ... Light scattering layer 2R ... Red light scattering part 2G ... Green light scattering part 2B ... Blue light scattering part 3 ... Colored layer 5 ... Light-shielding part 10 ... EL element substrate

Claims (8)

透明基板と、前記透明基板上に形成され、透明樹脂中に微粒子を分散させてなり、赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部から構成される光散乱層とを有し、前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部にそれぞれ含まれる前記微粒子の存在量が、互いに異なることを特徴とするエレクトロルミネッセンス素子用基板。   A transparent substrate, and a light scattering layer formed on the transparent substrate, in which fine particles are dispersed in a transparent resin, and comprising a red light scattering portion, a green light scattering portion, and a blue light scattering portion. A substrate for an electroluminescence element, wherein the abundances of the fine particles contained in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion are different from each other. 前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部の厚みが、互いに異なることを特徴とする請求項1に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   2. The electroluminescent element substrate according to claim 1, wherein the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion have different thicknesses. 前記赤色光用散乱部、緑色光用散乱部、および青色光用散乱部中の前記微粒子の濃度が、互いに異なることを特徴とする請求項1または請求項2に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   3. The electroluminescent device substrate according to claim 1, wherein concentrations of the fine particles in the red light scattering portion, the green light scattering portion, and the blue light scattering portion are different from each other. 前記透明基板と前記光散乱層との間、または、前記光散乱層の前記透明基板が形成されている面とは反対側の面に、着色層が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項3までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   The colored layer is formed between the transparent substrate and the light scattering layer or on the surface of the light scattering layer opposite to the surface on which the transparent substrate is formed. The substrate for electroluminescent elements according to any one of claims 1 to 3. 前記透明基板上の非表示領域に遮光部が形成されていることを特徴とする請求項1から請求項4までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   The electroluminescent element substrate according to any one of claims 1 to 4, wherein a light-shielding portion is formed in a non-display area on the transparent substrate. 前記微粒子の平均粒径が、1.0μm〜1.6μmの範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項5までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   6. The electroluminescent element substrate according to claim 1, wherein an average particle diameter of the fine particles is in a range of 1.0 μm to 1.6 μm. ヘイズ値が30〜95の範囲内であることを特徴とする請求項1から請求項6までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板。   The substrate for electroluminescent elements according to any one of claims 1 to 6, wherein a haze value is in a range of 30 to 95. 請求項1から請求項7までのいずれかの請求項に記載のエレクトロルミネッセンス素子用基板を用いたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
An electroluminescence display device using the electroluminescence element substrate according to any one of claims 1 to 7.
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