JP2007108408A - Manufacturing method of optical sheet, the optical sheet and manufacturing device of the optical sheet - Google Patents

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誠 小池
Shotaro Ogawa
正太郎 小川
Ryuichi Katsumoto
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technique of manufacturing high-quality optical sheets by appropriately pressing a pattern roller against a member, such as resin. <P>SOLUTION: A web W coated with optical resin is nipped by an embossing roller 13 and a nip roller 14, and is wound around the embossing roller 13, a prescribed pattern formed on the embossing roller 13 is transferred to the optical resin, and thereby an optical sheet is manufactured. Therein, nip pressure P (MPa) against the web W by means of the embossing roller 13 and the nip roller 14 and viscosity η(mPa s) of an optical member are set so as to satisfy relation; (1/2)×log<SB>10</SB>η-3≤log<SB>10</SB>P≤(1/2)×log<SB>10</SB>η-2, (1≤η≤10,000). <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、表面に所定のパターンが形成された光学シートおよびその製造方法に関し、例えば、表面に所定の凹凸パターンが形成され液晶表示装置などに用いられるプリズムシートに適用可能な技術に関する。   The present invention relates to an optical sheet having a predetermined pattern formed on the surface and a method for manufacturing the same, and, for example, to a technique applicable to a prism sheet having a predetermined uneven pattern formed on the surface and used in a liquid crystal display device or the like.

液晶ディスプレイなどの電子ディスプレイの表示を鮮明にするため、所定の凹凸状パターンが形成されたプリズムシートなどの光学シートが使用され、ディスプレイ表示の明るさの調整等が行われている。このような光学シートの製造方法として、例えば、支持体上に光硬化樹脂を塗布し、その光硬化樹脂に所定の凹凸状パターンを形成することによって光学シートを製造する方法が知られている。この場合、支持体に対する光硬化樹脂の塗布精度に応じて光学シートの光学特性が変わるため、光硬化樹脂が支持体上に適切に塗布されることが大切である。このような事情の下、光硬化樹脂などの光学部材を支持体上に適切に塗布するための技術がいくつか提案されている。   In order to make the display of an electronic display such as a liquid crystal display clear, an optical sheet such as a prism sheet on which a predetermined uneven pattern is formed is used to adjust the brightness of the display. As a method for producing such an optical sheet, for example, a method of producing an optical sheet by applying a photocurable resin on a support and forming a predetermined uneven pattern on the photocurable resin is known. In this case, since the optical characteristics of the optical sheet change according to the application accuracy of the photocurable resin to the support, it is important that the photocurable resin is appropriately applied on the support. Under such circumstances, several techniques for appropriately applying an optical member such as a photo-curing resin on a support have been proposed.

例えば特許文献1では、樹脂を硬化させて所望の凹凸パターンをフィルムに形成するフィルム製造装置が開示されている。この製造装置は、不完全形状のフィルムを生じにくくさせる目的で提案されている。
特開平11−300768号公報
For example, Patent Document 1 discloses a film manufacturing apparatus that cures a resin to form a desired uneven pattern on a film. This manufacturing apparatus has been proposed for the purpose of making it difficult to produce an incompletely shaped film.
JP-A-11-300768

近年の電子ディスプレイの需要の拡大に伴って、プリズムシートなどの光学シートの需要も拡大している。また、プリズムシートに代表される凹凸状シートの用途も多岐に亘り、凹凸状シートを必要とする技術分野は今後更に拡大していくことが予想される。そのため、様々な大きさの凹凸状シートが大量に製造されることが社会的に望まれている。   With the recent increase in demand for electronic displays, the demand for optical sheets such as prism sheets is also increasing. In addition, the use of the concavo-convex sheet represented by the prism sheet is diverse, and the technical field that requires the concavo-convex sheet is expected to further expand in the future. Therefore, it is socially desired that rugged sheets of various sizes are manufactured in large quantities.

しかしながら、凹凸状シートの幅等のサイズが大きくなる程、また凹凸状シートの製造速度を上げる程、製造誤差が生じやすくなり、一定の高品質を確保することが難しくなる。特に、液状または半液状の樹脂にパターンロールを押し当てて当該樹脂に所定の凹凸状パターンを形成する場合、樹脂に対するパターンロールの押し当て力の大きさによって、凹凸状シートの品質が大きく左右される。例えば、樹脂に対するパターンロールの押し当て力が小さい場合には、樹脂にエアーが巻き込まれ、樹脂の面状を悪化させてしまう。また、樹脂に対するパターンロールの押し当て力が大きい場合には、筋状のムラが樹脂に生じてしまい、樹脂の面状を悪化させてしまう。さらに、粘度の高い樹脂を使用する場合には、支持体上における樹脂の塗布状態が不均一になりやすく、その樹脂によって形成される光学シートの品質が悪化することがある。   However, as the size of the concavo-convex sheet increases, and the production speed of the concavo-convex sheet increases, manufacturing errors tend to occur and it becomes difficult to ensure a certain high quality. In particular, when a predetermined concavo-convex pattern is formed on a resin by pressing the pattern roll against a liquid or semi-liquid resin, the quality of the concavo-convex sheet is greatly influenced by the magnitude of the pressing force of the pattern roll against the resin. The For example, when the pressing force of the pattern roll against the resin is small, air is caught in the resin, and the surface state of the resin is deteriorated. Further, when the pressing force of the pattern roll against the resin is large, streaky unevenness occurs in the resin, and the surface state of the resin is deteriorated. Further, when a resin having a high viscosity is used, the application state of the resin on the support tends to be uneven, and the quality of the optical sheet formed by the resin may be deteriorated.

本発明は上述の事情に鑑みてなされたものであり、その目的は、樹脂などの部材に対しパターンロールを適切に押し当てることによって高品質な光学シートを製造することができる光学シートの製造方法に関する技術を提供することにある。   The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide an optical sheet manufacturing method capable of manufacturing a high-quality optical sheet by appropriately pressing a pattern roll against a member such as a resin. It is to provide the technology about.

上記課題を解決するために、本発明のある態様の光学シートの製造方法は、光学部材が塗布された支持体をパターンロールおよび入口ロールによりニップするとともにパターンロールに巻き掛けて、パターンロールに形成されている所定のパターンを光学部材に転写することによって、光学シートを製造する光学シートの製造方法であって、パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧P(MPa)と、光学部材の粘度η(mPa・s)とが、(1/2)×log10η−3≦log10P≦(1/2)×log10η−2(1≦η≦10000)という関係を満たすように設定される。 In order to solve the above-mentioned problems, an optical sheet manufacturing method according to an aspect of the present invention is formed on a pattern roll by niping a support coated with an optical member between a pattern roll and an entrance roll and winding the support around the pattern roll. An optical sheet manufacturing method for manufacturing an optical sheet by transferring a predetermined pattern to the optical member, the nip pressure P (MPa) on the support by the pattern roll and the inlet roll, and the viscosity of the optical member η (mPa · s) is set so as to satisfy the relationship of (1/2) × log 10 η−3 ≦ log 10 P ≦ (1/2) × log 10 η−2 (1 ≦ η ≦ 10000). Is done.

この態様によれば、ニップ圧Pが光学部材の粘度ηに対して好ましい範囲に設定され、パターンロールを光学部材に対して適切な力で押し当てて、高品質な光学シートを製造することができる。   According to this aspect, the nip pressure P is set in a preferable range with respect to the viscosity η of the optical member, and a high-quality optical sheet can be manufactured by pressing the pattern roll against the optical member with an appropriate force. it can.

なお、光学部材とは、光学的な機能が付与される部材全般を指し、一般に使用されている樹脂などの部材が光学部材に含まれる。また、光学部材は、液体状態、固体状態、あるいは液体と固体の中間状態のいずれであってもよい。   In addition, an optical member refers to the whole member to which an optical function is provided, and members, such as resin generally used, are contained in an optical member. The optical member may be in a liquid state, a solid state, or an intermediate state between the liquid and the solid.

また、光学シートとは、光学的な機能を有するシート類全般を指し、例えばプリズムシート、フライアイレンズシート(蝿の目レンズシート)、レンチキュラーシート、等の凹凸状の光学的なシートが光学シートに含まれる。   The optical sheet refers to all sheets having optical functions. For example, an uneven optical sheet such as a prism sheet, a fly-eye lens sheet (an eyelet lens sheet), or a lenticular sheet is an optical sheet. include.

また、パターンロールおよび入り口ロールのうち少なくとも入り口ロールは、剛性部材によって形成されることが好ましい。このような入り口ロールは、荷重に対する形状変化が非常に小さいので、光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに適切に狭持することができる。なお、ここでいう剛体とは、例えば金属やセラミックが挙げられる。   Moreover, it is preferable that at least an entrance roll is formed by a rigid member among a pattern roll and an entrance roll. Such an entrance roll has a very small change in shape with respect to the load, and thus the support on which the optical member is applied can be appropriately held together with the pattern roll. Here, examples of the rigid body include metals and ceramics.

光学部材の粘度η(mPa・s)は、10≦η≦1000を満たすものであってもよい。この場合、より好ましい範囲に光学部材の粘度ηが設定され、パターンロールを光学部材に対してより適切な力で押し当てることができる。   The viscosity η (mPa · s) of the optical member may satisfy 10 ≦ η ≦ 1000. In this case, the viscosity η of the optical member is set in a more preferable range, and the pattern roll can be pressed against the optical member with a more appropriate force.

パターンロールと入り口ロールとの距離のばらつきが50μm以下であってもよい。この場合、パターンロールと入り口ロールとの間の距離のばらつきが低減されるため、光学部材が塗布された支持体に対して付与される入り口ロールおよびパターンロールによるニップ圧が均一化される。これにより、パターンロールを光学部材に対して均一な力で押し当てることができ、高品質な光学シートを製造することができる。   The variation in the distance between the pattern roll and the entrance roll may be 50 μm or less. In this case, since the variation in the distance between the pattern roll and the entrance roll is reduced, the nip pressure by the entrance roll and the pattern roll applied to the support coated with the optical member is made uniform. Thereby, the pattern roll can be pressed against the optical member with a uniform force, and a high-quality optical sheet can be manufactured.

入り口ロールの直径のばらつきが50μm以下であってもよい。この場合、入り口ロールの中心軸と円周との間の距離のばらつきが低減されるため、光学部材が塗布された支持体に対して付与される入り口ロールおよびパターンロールによるニップ圧が均一化される。これにより、パターンロールを光学部材に対して均一な力で押し当てることができ、高品質な光学シートを製造することができる。   The variation in the diameter of the entrance roll may be 50 μm or less. In this case, since the variation in the distance between the center axis of the entrance roll and the circumference is reduced, the nip pressure by the entrance roll and the pattern roll applied to the support on which the optical member is applied is made uniform. The Thereby, the pattern roll can be pressed against the optical member with a uniform force, and a high-quality optical sheet can be manufactured.

本発明の別の態様は、上記の光学シート製造方法によって製造された光学シートである。この態様によれば、光学部材に対しパターンロールが適切な力で押し当てられ、高品質な光学シートが提供される。   Another aspect of the present invention is an optical sheet manufactured by the above-described optical sheet manufacturing method. According to this aspect, the pattern roll is pressed against the optical member with an appropriate force, and a high-quality optical sheet is provided.

本発明の別の態様は、光学シートの製造装置である。この装置は、光学シートを製造する光学シート製造装置であって、所定パターンを有するパターンロールと、光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに狭持して、パターンロールの所定パターンを光学部材に転写する入り口ロールと、を備える。パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧P(MPa)と、光学部材の粘度η(mPa・s)とが、(1/2)×log10η−3≦log10P≦(1/2)×log10η−2(1≦η≦10000)という関係を満たすように設定される。 Another aspect of the present invention is an optical sheet manufacturing apparatus. This apparatus is an optical sheet manufacturing apparatus for manufacturing an optical sheet, and sandwiches a pattern roll having a predetermined pattern and a support coated with an optical member together with the pattern roll, and the predetermined pattern of the pattern roll is optical member. And an entrance roll to be transferred. The nip pressure P (MPa) on the support by the pattern roll and the inlet roll and the viscosity η (mPa · s) of the optical member are (1/2) × log 10 η−3 ≦ log 10 P ≦ (1/2 ) × log 10 η−2 (1 ≦ η ≦ 10000).

この態様によれば、光学部材に対しパターンロールを適切な力で押し当てて、高品質な光学シートを製造することができる。   According to this aspect, a high-quality optical sheet can be manufactured by pressing the pattern roll against the optical member with an appropriate force.

本発明によれば、光学部材の粘度に応じた適切な力でパターンロールが光学部材に押し当てられ、高品質な光学シートが提供される。   According to the present invention, the pattern roll is pressed against the optical member with an appropriate force corresponding to the viscosity of the optical member, and a high-quality optical sheet is provided.

以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。   Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.

図1は、エンボスシートの製造装置10の構成を示す概念図である。エンボスシートの製造装置10は、上流から下流に向かって順次配置された、ウェブ供給部11、塗布部12、乾燥部19、ニップロール(入り口ロール)14、凹凸ロールであるエンボスロール(パターンロール)13、樹脂硬化部15、剥離ロール16、保護フィルム供給部17、およびシート巻き取り部18を備える。   FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of an embossed sheet manufacturing apparatus 10. The embossed sheet manufacturing apparatus 10 includes a web supply unit 11, a coating unit 12, a drying unit 19, a nip roll (entrance roll) 14, and an embossing roll (pattern roll) 13 that is an uneven roll, which are sequentially arranged from upstream to downstream. , A resin curing unit 15, a peeling roll 16, a protective film supply unit 17, and a sheet winding unit 18.

ウェブ供給部11は、シート状のウェブW(支持体)が巻回された送り出しロール等によって構成され、ウェブWを順次送り出すシート状体供給手段として機能する。   The web supply unit 11 is configured by a delivery roll or the like around which a sheet-like web W (support) is wound, and functions as a sheet-like body supply unit that sequentially feeds the web W.

塗布部12は、樹脂をウェブWの表面に順次塗布し、樹脂層をウェブW上に形成する装置である。   The application unit 12 is an apparatus that sequentially applies resin to the surface of the web W and forms a resin layer on the web W.

図2は、ウェブWおよび樹脂層Lの配置関係を示す断面図である。樹脂層Lは、最終的な製品として提供される凹凸状シート(プリズム層)を構成する部分であり、後段に設置されたエンボスロール13によって所定の凹凸パターンが形成される。なお、ウェブWおよび樹脂層Lによって構成されるシート状の積層体を、以下「樹脂塗布シートS」と称する。   FIG. 2 is a cross-sectional view showing the positional relationship between the web W and the resin layer L. The resin layer L is a part constituting a concavo-convex sheet (prism layer) provided as a final product, and a predetermined concavo-convex pattern is formed by the embossing roll 13 installed in the subsequent stage. In addition, the sheet-like laminated body comprised by the web W and the resin layer L is hereafter called "resin coating sheet S".

図1に示すように、塗布部12は、樹脂を供給する樹脂供給タンク(樹脂供給源)12Aと、樹脂を吐出する塗布ヘッド12Cと、樹脂供給タンク12Aから塗布ヘッド12Cに樹脂を送る送液ポンプ12Bと、樹脂の塗布対象のウェブWを巻き掛けて支持する支持ローラ12Dと、を含む。また、樹脂供給タンク12Aから塗布ヘッド12Cに樹脂を供給するための配管やポンプなどが設けられている。   As shown in FIG. 1, the application unit 12 includes a resin supply tank (resin supply source) 12 </ b> A that supplies resin, an application head 12 </ b> C that discharges resin, and a liquid feed that sends resin from the resin supply tank 12 </ b> A to the application head 12 </ b> C. It includes a pump 12B and a support roller 12D that wraps and supports the web W to be coated with resin. In addition, piping and a pump for supplying resin from the resin supply tank 12A to the coating head 12C are provided.

図1に示す塗布ヘッド12Cは、エクストルージョン型のダイコータであり、液溜め部に貯留されている吐出対象の液体を、スリット状の流路を介してヘッド先端部から吐出させる。なお、塗布ヘッド12Cは、上述のエクストルージョン型のダイコータに限定されるものではなく、任意のタイプの吐出ヘッドを使用することが可能であり、ウェブW上に樹脂を適切に塗布することができるものであればよい。   A coating head 12C shown in FIG. 1 is an extrusion type die coater, and discharges the liquid to be discharged stored in the liquid reservoir from the tip of the head through the slit-shaped flow path. The coating head 12C is not limited to the above-described extrusion type die coater, and any type of ejection head can be used, and the resin can be appropriately coated on the web W. Anything is acceptable.

本実施形態の塗布ヘッド12Cから吐出される樹脂は、放射線硬化樹脂であり、後段に設置された樹脂硬化部15から放射される所定の光(放射線)が照射されると硬化するタイプの樹脂である。   The resin discharged from the coating head 12C of this embodiment is a radiation curable resin, and is a type of resin that cures when irradiated with predetermined light (radiation) radiated from the resin curing unit 15 installed in the subsequent stage. is there.

乾燥部19は、塗布部12によってウェブWの表面に塗布された樹脂を乾燥する。乾燥部19による樹脂の乾燥の程度は調整が可能である。例えば、後段に設置されたエンボスロール13による所定パターンの転写が効果的に行われるように、樹脂塗布シートSの樹脂が乾燥される。   The drying unit 19 dries the resin applied to the surface of the web W by the application unit 12. The degree of resin drying by the drying unit 19 can be adjusted. For example, the resin of the resin coated sheet S is dried so that the transfer of the predetermined pattern is effectively performed by the embossing roll 13 installed in the subsequent stage.

図3は、エンボスロール13の断面の概略を示す図である。図1および図3に示されているエンボスロール13は、微細な凹凸状の所定パターンが表面に形成されている。したがって、樹脂塗布シートSの樹脂層Lにエンボスロール13が押し当てられることによって、ロール表面の凹凸状の所定パターンが樹脂層Lに転写形成される。そのため、エンボ
スロール13は、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。このようなエンボスロール13としては、例えば金属製の剛体のロールが好ましい。
FIG. 3 is a diagram showing an outline of a cross section of the embossing roll 13. As for the embossing roll 13 shown by FIG. 1 and FIG. 3, the fine uneven | corrugated predetermined pattern is formed in the surface. Therefore, when the embossing roll 13 is pressed against the resin layer L of the resin-coated sheet S, an uneven pattern on the roll surface is transferred and formed on the resin layer L. For this reason, the embossing roll 13 is required to have the precision of the uneven pattern, the mechanical strength, the roundness, etc. adjusted appropriately. As such an embossing roll 13, for example, a metal rigid roll is preferable.

エンボスロール13の外周面の微細凹凸パターンは、製品として提供されるエンボスシートの表面の微細凹凸パターンを反転した形状パターンであることが求められる。このようにして提供されるエンボスシートとしては、例えば、レンチキュラーレンズやプリズムシートのように微細凹凸パターンが二次元配列されたシート、フライアイレンズのように微細凹凸パターンが三次元配列されたシート、平板レンズのように円錐、角錐等の微細な錐体がXY方向に敷きつめられたシート、等が対象となる。したがって、エンボスロール13の外周面の微細凹凸パターンは、エンボスシートの表面の微細凹凸パターンに対応させる必要がある。   The fine uneven pattern on the outer peripheral surface of the embossing roll 13 is required to be a shape pattern obtained by inverting the fine uneven pattern on the surface of the embossed sheet provided as a product. As the embossed sheet thus provided, for example, a sheet in which fine uneven patterns are two-dimensionally arranged like a lenticular lens or a prism sheet, a sheet in which fine uneven patterns are three-dimensionally arranged like a fly-eye lens, A sheet or the like in which fine cones such as a cone and a pyramid are arranged in the X and Y directions like a flat lens is an object. Therefore, the fine uneven pattern on the outer peripheral surface of the embossing roll 13 needs to correspond to the fine uneven pattern on the surface of the embossed sheet.

エンボスロール13の外周面の微細凹凸パターンの形成方法としては、例えば、シングルポイントのダイヤモンドバイトによる切削加工、フォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、等によって凹凸パターンを外周面に直接形成する方法や、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法、等で凹凸パターンを形成した後、この板状体をロールの周囲に巻き付けて固定したものをエンボスロール13とする方法が挙げられる。また、その他に、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法、等によって凹凸パターンを形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をロールの周囲に巻き付けて固定したものをエンボスロール13とする方法も採用することができる。特に反転型を電鋳等によって形成する場合には、1つの原盤(マザー)によって同一形状の板状体が複数得られるという特長がある。   As a method for forming a fine uneven pattern on the outer peripheral surface of the embossing roll 13, for example, a method of directly forming an uneven pattern on the outer peripheral surface by cutting with a single point diamond tool, photo etching, electron beam drawing, laser processing, etc. After embossing the surface of a thin metal plate with a concavo-convex pattern formed by photoetching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc. A method of using the roll 13 is exemplified. In addition, a concavo-convex pattern is formed on the surface of a material that is easier to process than metal by photoetching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc., and an inverted mold of this shape is formed by electroforming, etc. It is also possible to employ a method in which a metal plate-like body is prepared, and this plate-like body is wound around and fixed to the embossing roll 13 around the roll. In particular, when the reversal mold is formed by electroforming or the like, there is a feature that a plurality of plate-like bodies having the same shape can be obtained from one master (mother).

なお、エンボスロール13の表面には、離型処理が施されることが好ましい。エンボスロール13の表面に離型処理が施されることによって、微細凹凸パターンの形状が長期に亘って良好に維持される。離型処理としては、公知の各種方法が採用可能であり、例えばフッ素樹脂によるコーティング処理が採用される。   Note that the surface of the embossing roll 13 is preferably subjected to a mold release treatment. By performing the mold release process on the surface of the embossing roll 13, the shape of the fine concavo-convex pattern is favorably maintained over a long period of time. As the mold release treatment, various known methods can be employed. For example, a coating treatment with a fluororesin is employed.

図1に示されているように、ニップロール14は、エンボスロール13と対になってウェブW上の樹脂層Lを押圧し、エンボスロール13の所定の凹凸パターンを樹脂層Lに転写するロール成形加工を行う。このため、ニップロール14は、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。このようなニップロール14を構成する部材として、例えば、金属、セラミック、シリコンゴムのようなゴム、等が挙げられる。ニップロール14の表面の縦弾性係数(ヤング率)が小さ過ぎると、ロール成形加工が不十分になりやすい。一方、ニップロール14の表面の縦弾性係数(ヤング率)が大き過ぎると、ゴミ等の異物の巻き込みの影響が大きくなる。したがって、ニップロール14表面の縦弾性係数は、適宜の値に設定されることが好ましい。   As shown in FIG. 1, the nip roll 14 is a roll forming that presses the resin layer L on the web W in a pair with the embossing roll 13 and transfers a predetermined uneven pattern of the embossing roll 13 to the resin layer L. Processing. For this reason, the nip roll 14 is required to have its mechanical strength, roundness, etc. adjusted appropriately. Examples of the member constituting the nip roll 14 include metal, ceramic, rubber such as silicon rubber, and the like. If the longitudinal elastic modulus (Young's modulus) of the surface of the nip roll 14 is too small, the roll forming process tends to be insufficient. On the other hand, when the longitudinal elastic modulus (Young's modulus) of the surface of the nip roll 14 is too large, the influence of foreign matters such as dust becomes large. Therefore, the longitudinal elastic modulus of the nip roll 14 surface is preferably set to an appropriate value.

なお、エンボスロール13とニップロール14との間の隙間(クリアランス)を正確に制御することができるように、エンボスロール13およびニップロール14のうち少なくとも一方にこの隙間の大きさを調整する任意の微調整装置が設けられることが好ましい。また、エンボスロール13とニップロール14との間で所定の押圧力が付与されるように、エンボスロール13およびニップロール14のうち少なくとも一方に任意の加圧装置が設けられることが好ましい。   Arbitrary fine adjustment for adjusting the size of the gap between at least one of the embossing roll 13 and the nip roll 14 so that the gap (clearance) between the embossing roll 13 and the nip roll 14 can be accurately controlled. An apparatus is preferably provided. Moreover, it is preferable that at least one of the embossing roll 13 and the nip roll 14 is provided with an arbitrary pressure device so that a predetermined pressing force is applied between the embossing roll 13 and the nip roll 14.

樹脂硬化部15は、ニップロール14の下流側においてエンボスロール13に対向するようにして設けられる光照射手投である。この樹脂硬化部15は、樹脂層Lの硬化特性に応じた波長の光(放射線)を、樹脂塗布シートSの搬送速度に応じた光量で放射する。樹脂硬化部15によって放射された光は、ウェブWを透過して、樹脂層Lを硬化をさせる。このような樹脂硬化部15として、例えば樹脂塗布シートSの幅と略同一の長さの円柱状ランプを採用することができる。なお、この円柱状ランプは複数本平行に設けられてもよく、またこの円柱状ランプの背面に反射板が設けられてもよい。   The resin curing unit 15 is a light irradiation hand throw provided so as to face the embossing roll 13 on the downstream side of the nip roll 14. The resin curing unit 15 radiates light (radiation) having a wavelength corresponding to the curing characteristics of the resin layer L with a light amount corresponding to the conveyance speed of the resin coated sheet S. The light emitted by the resin curing unit 15 transmits the web W and cures the resin layer L. As such a resin hardening part 15, the columnar lamp of the length substantially the same as the width | variety of the resin application sheet S is employable, for example. Note that a plurality of the cylindrical lamps may be provided in parallel, and a reflector may be provided on the back surface of the cylindrical lamp.

剥離ロール16は、エンボスロール13と対になって樹脂塗布シートSをエンボスロール13から剥離する。すなわち、エンボスロール13の周面上に巻き掛けられている樹脂塗布シートSが、剥離箇所において、エンボスロール13および剥離ロール16により挟まれ、剥離ロール16に巻き掛けられる。これにより、所定パターンが形成された硬化樹脂層Lを有する樹脂塗布シートSが、エンボスロール13から剥離され、後段へ送られる。このような剥離ロール16は、機械的強度、真円度、等が適切に調整されていることが求められる。また、硬化により樹脂等の温度が上昇する場合には、剥離時に樹脂塗布シートSを冷却することによって樹脂塗布シートSの剥離性を向上させるために、剥離ロール16に任意の冷却装置を設けることが好ましい。   The peeling roll 16 is paired with the embossing roll 13 to peel the resin coated sheet S from the embossing roll 13. That is, the resin coating sheet S wound on the peripheral surface of the embossing roll 13 is sandwiched between the embossing roll 13 and the peeling roll 16 at the peeling portion and wound around the peeling roll 16. Thereby, the resin coating sheet S which has the cured resin layer L in which the predetermined pattern was formed is peeled from the embossing roll 13 and sent to the subsequent stage. Such a peeling roll 16 is required to have its mechanical strength, roundness, etc. adjusted appropriately. Moreover, when the temperature of resin etc. rises by hardening, in order to improve the peelability of the resin coating sheet S by cooling the resin coating sheet S at the time of peeling, an arbitrary cooling device is provided in the peeling roll 16. Is preferred.

なお、図示は省略したが、ニップロール14による押庄箇所(図1の9時の位置)と剥離ロール16による剥離箇所(図の3時の位置)との間に、樹脂塗布シートSが巻き掛けられたエンボスロール13と対向するようにして、複数のバックアップロールが設けられてもよい。この場合、複数のバックアップロールおよびエンボスロール13によって樹脂塗布シートSが支持された状態で樹脂層Lの硬化処理が行われるので、エンボスロール13の所定凹凸パターンが精度良く樹脂層Lに転写される。   Although not shown in the figure, the resin-coated sheet S is wound between the pressing portion by the nip roll 14 (position at 9 o'clock in FIG. 1) and the peeling portion by the peeling roll 16 (position at 3 o'clock in the drawing). A plurality of backup rolls may be provided so as to face the embossing roll 13 formed. In this case, since the resin layer L is cured while the resin coating sheet S is supported by the plurality of backup rolls and the embossing rolls 13, the predetermined uneven pattern of the embossing rolls 13 is accurately transferred to the resin layer L. .

シート巻き取り部18は、樹脂塗布シートSを巻き取る巻き取りロール等を有し、エンボスロール13から剥離された樹脂塗布シートSを巻き取って収納する。なお、シート巻き取り部18によって樹脂塗布シートSが収納される際に、保護フィルム供給部17から保護フィルムHが樹脂塗布シートS上に供給され、ウェブW、樹脂層L、および保護フイルムHが重なった状態でシート巻き取り部18に巻き取られる。   The sheet winding unit 18 includes a winding roll that winds the resin coated sheet S, and winds and stores the resin coated sheet S peeled from the embossing roll 13. When the resin coated sheet S is stored by the sheet winding unit 18, the protective film H is supplied from the protective film supply unit 17 onto the resin coated sheet S, and the web W, the resin layer L, and the protective film H are formed. In the overlapped state, the sheet is wound around the sheet winding unit 18.

保護フィルム供給部17は、シート巻き取り部18に隣接して設けられ、シート巻き取り部18によって巻き取られる直前の樹脂塗布シートS上に保護フィルムHを供給する。なお、保護フィルムHは、必要に応じた任意のものが用いられうる。   The protective film supply unit 17 is provided adjacent to the sheet winding unit 18 and supplies the protective film H onto the resin-coated sheet S immediately before being wound up by the sheet winding unit 18. In addition, the protective film H can use arbitrary things as needed.

なお、エンボスシートの製造装置10において、塗布部12とエンボスロール13との間や、剥離ロール16とシート巻き取り部18との間に、樹脂塗布シートSの搬送路を形成するガイドローラ等を設置したり、樹脂塗布シートSの搬送中の弛みを吸収するテンションローラ等を設置したりしてもよい。   In the embossed sheet manufacturing apparatus 10, a guide roller or the like that forms a conveyance path for the resin coated sheet S is provided between the coating unit 12 and the embossing roll 13 or between the peeling roll 16 and the sheet winding unit 18. It may be installed, or a tension roller or the like that absorbs slackness during conveyance of the resin-coated sheet S may be installed.

上述のような構成を有するエンボスシートの製造装置10において、各ロールには、任意の駆動装置が設けられており、これらの駆動装置によって各ロールは図中の矢印方向へ回転させられる。   In the embossed sheet manufacturing apparatus 10 having the above-described configuration, each roll is provided with an arbitrary drive device, and each roll is rotated in the direction of the arrow in the drawing by these drive devices.

次に、樹脂塗布シートSに対するエンボスロール13およびニップロール14によるニップ圧Pと、ウェブW上の樹脂層Lの樹脂の粘度ηとの関係について説明する。   Next, the relationship between the nip pressure P by the embossing roll 13 and the nip roll 14 with respect to the resin coated sheet S and the viscosity η of the resin of the resin layer L on the web W will be described.

本実施形態では、エンボスロール13およびニップロール14により樹脂塗布シートSに対して加えられるニップ圧Pが、樹脂層Lを構成するUV硬化樹脂の粘度ηに応じて決定される。すなわち、以下の式(1)が満たされるように、樹脂塗布シートSに対して加えられるニップ圧P(MPa)とUV硬化樹脂の粘度η(mPa・s)とが決定される。   In the present embodiment, the nip pressure P applied to the resin coated sheet S by the embossing roll 13 and the nip roll 14 is determined according to the viscosity η of the UV curable resin constituting the resin layer L. That is, the nip pressure P (MPa) applied to the resin coated sheet S and the viscosity η (mPa · s) of the UV curable resin are determined so that the following expression (1) is satisfied.

(1/2)×log10η−3 ≦ log10P ≦ (1/2)×log10η−2
(1≦η≦10000)
図4は、エンボスロール13およびニップロール14によって樹脂塗布シートSに対して加えられるニップ圧P(縦軸)と、樹脂層Lを構成するUV硬化樹脂の粘度η(横軸)との関係を示す図である。図4中の斜線部は、上記式(1)を満たす範囲を示す。
(1/2) × log 10 η−3 ≦ log 10 P ≦ (1/2) × log 10 η−2
(1 ≦ η ≦ 10000)
FIG. 4 shows the relationship between the nip pressure P (vertical axis) applied to the resin coated sheet S by the embossing roll 13 and the nip roll 14 and the viscosity η (horizontal axis) of the UV curable resin constituting the resin layer L. FIG. The hatched portion in FIG. 4 indicates a range that satisfies the above formula (1).

樹脂塗布シートSに対して加えるニップ圧Pを上記式(1)に基づき決定することにより、エンボスロール13によって所定凹凸パターンが形成された樹脂層Lの面状が安定化し、樹脂層Lの大きさや所定凹凸パターンの転写速度などが樹脂層Lの品質に及ぼす影響を軽減させることができることが実験により確かめられた。したがって、上記式(1)が満たされるようにニップ圧Pを定めることにより、所定凹凸パターンが形成された様々なサイズの樹脂層Lを安定した品質で大量に製造することが可能となる。なお、実験によれば、樹脂の粘度η(mPa・s)が以下の式(2)を満たす範囲に設定される場合に、エンボスロール13によって所定凹凸パターンが形成された樹脂層Lの面状がより安定化することが確認された。   By determining the nip pressure P applied to the resin coated sheet S based on the above formula (1), the surface shape of the resin layer L on which the predetermined uneven pattern is formed by the embossing roll 13 is stabilized, and the size of the resin layer L is increased. Experiments have confirmed that the influence of the transfer speed of the predetermined uneven pattern on the quality of the resin layer L can be reduced. Therefore, by determining the nip pressure P so that the above formula (1) is satisfied, it becomes possible to manufacture a large number of resin layers L of various sizes on which a predetermined uneven pattern is formed with stable quality. In addition, according to the experiment, when the viscosity η (mPa · s) of the resin is set in a range satisfying the following expression (2), the planar shape of the resin layer L on which the predetermined uneven pattern is formed by the embossing roll 13. Was confirmed to be more stable.

10≦η≦1000 (2)
また、エンボスロール13とニップロール14との距離のばらつきが50μm以下であって、ニップロール14の直径のばらつきが50μm以下に設定されたエンボスロール13およびニップロール14を使用すると、所定凹凸パターンが形成された樹脂層Lの面状が更に安定化することが確認された。図5は、ニップロール14の構成を示す斜視図であり、図中の点線はニップロール14の回転軸を示す。エンボスロール13の異なる箇所における直径(例えば、図5中の直径1、直径2、直径3)のばらつきが50μm以下の場合に、樹脂層Lの面上が安定化する。
10 ≦ η ≦ 1000 (2)
Further, when the embossing roll 13 and the nip roll 14 in which the variation in the distance between the embossing roll 13 and the nip roll 14 is 50 μm or less and the variation in the diameter of the nip roll 14 is set to 50 μm or less are used, a predetermined uneven pattern is formed. It was confirmed that the surface shape of the resin layer L was further stabilized. FIG. 5 is a perspective view showing a configuration of the nip roll 14, and a dotted line in the figure indicates a rotation axis of the nip roll 14. When the variation in diameter (for example, diameter 1, diameter 2, diameter 3 in FIG. 5) at different locations of the embossing roll 13 is 50 μm or less, the surface of the resin layer L is stabilized.

次に、本実施形態で用いられる各材料について説明する。   Next, each material used in this embodiment will be described.

ウェブWの材料として、樹脂フィルム、紙(レジンコーティッド紙、合成紙、等)、金属箔(アルミニウムウェブ等)等を使用することができる。樹脂フィルムの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、PET(ポリエチレンテレフタレート)、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート、等の公知のものを使用することができる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましい。   As the material of the web W, a resin film, paper (resin coated paper, synthetic paper, etc.), metal foil (aluminum web, etc.) and the like can be used. As the material of the resin film, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyester, polyolefin, acrylic, polystyrene, polycarbonate, polyamide, PET (polyethylene terephthalate), biaxially stretched polyethylene terephthalate, Known materials such as polyethylene naphthalate, polyamideimide, polyimide, aromatic polyamide, cellulose acylate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose diacetate can be used. Of these, polyester, cellulose acylate, acrylic, polycarbonate, and polyolefin are particularly preferable.

ウェブWの幅としては0.1〜3mが一般的に採用され、ウェブWの長さとしては1000〜100000mが一般的に採用され、ウェブWの厚さとしては1〜300μmが一般的に採用される。ただし、これら以外のサイズが適用されてもよい。   The width of the web W is generally 0.1 to 3 m, the length of the web W is generally 1000 to 100,000 m, and the thickness of the web W is generally 1 to 300 μm. Is done. However, sizes other than these may be applied.

これらのウェブWは、予め、コロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などが施されていてもよい。ウェブWの表面粗さRaは、カットオフ値0.25mmにおいて3〜10nmが好ましい。   These webs W may be subjected in advance to corona discharge, plasma treatment, easy adhesion treatment, heat treatment, dust removal treatment, and the like. The surface roughness Ra of the web W is preferably 3 to 10 nm at a cutoff value of 0.25 mm.

なお、ウェブWには、接着層等の下地層を乾燥硬化したものが予め設けられていたり、他の機能層が裏面に予め設けられていてもよい。また、ウェブWとして、1層から構成されるものだけではなく、2層以上から構成されるものを採用することもできる。また、ウェブWは、光を透過する透明体あるいは反透明体であることが好ましい。   Note that the web W may be provided with a dry-cured base layer such as an adhesive layer in advance, or another functional layer may be provided in advance on the back surface. Further, as the web W, not only one composed of one layer but also one composed of two or more layers can be adopted. The web W is preferably a transparent body or an anti-transparent body that transmits light.

本実施形態に使用可能な樹脂は、(メタ)アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物とを含有するものが使用できる。特に硬化の速さからは、(メタ)アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤との組み合わせが好ましい。中でも(メタ)アクリレ−ト、ウレタン(メタ)アクリレ−ト、エポキシ(メタ)アクリレ−ト、ポリエステル(メタ)アクリレ−トなどの(メタ)アクロイル基含有化合物が好ましい。この(メタ)アクロイル基含有化合物としては、(メタ)アクロイル基が1個あるいは2個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)は、必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いてもよい。   Resins that can be used in this embodiment include radicals and cations capable of reacting reactive group-containing compounds such as (meth) acryloyl groups, vinyl groups, and epoxy groups with radiation groups such as ultraviolet rays. A compound containing a compound that generates an active species such as In particular, from the speed of curing, a combination of a reactive group-containing compound (monomer) containing an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and a radical photopolymerization initiator that generates radicals by light is used. preferable. Of these, (meth) acryloyl group-containing compounds such as (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are preferable. As the (meth) acryloyl group-containing compound, a compound containing one or more (meth) acryloyl groups can be used. Moreover, the reactive group containing compound (monomer) containing unsaturated groups, such as said acryloyl group and a vinyl group, may be used independently or may be used in mixture of multiple types as needed.

このような、(メタ)アクロイル基含有化合物としては、例えば、(メタ)アクロイル基含有化合物を1個だけ含有する単官能モノマ−が挙げられる。このような単官能モノマーとして、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、へキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。   Examples of such (meth) acryloyl group-containing compounds include monofunctional monomers containing only one (meth) acryloyl group-containing compound. As such monofunctional monomers, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) Acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth ) Acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (Meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2 -Ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, iso Stearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene Glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy ethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polypropylene glycol (meth) acrylate.

さらに芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキシドを反応させたp−クミルフェノールの(メタ)アクリレート、2−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。   Furthermore, as a monofunctional monomer having an aromatic ring, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and p-cumylphenol reacted with ethylene oxide ( (Meth) acrylate, 2-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 4-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,6-dibromophenoxyethyl ( Data) acrylate, 2,4,6-bromophenyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate.

このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスM113、M110、M101、M102、M5700、TO−1317(以上、東亞合成(株)製)、ビスコート#192、#193、#220、3BM(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルAMP−10G、AMP−20G(以上、新中村化学工業(株)製)、ライトアクリレートPO−A、P−200A、エポキシエステルM−600A、ライトエステルPO(以上、共栄社化学(株)製)、ニューフロンティアPHE、CEA、PHE−2、BR−30、BR−31、BR−31M、BR−32(以上、第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   Examples of such commercially available aromatic monocyclic monocyclic monomers include Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 192, # 193, # 220, 3BM (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK Ester AMP-10G, AMP-20G (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Epoxy Ester M-600A, light ester PO (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, Daiichi Kogyo) Pharmaceutical Co., Ltd.).

また、(メタ)アクリロイル基を分子中に2つ有する不飽和モノマーとしては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。   Examples of unsaturated monomers having two (meth) acryloyl groups in the molecule include alkyl diols such as 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and 1,9-nonanediol diacrylate. Examples include polyalkylene glycol diacrylates such as diacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane methanol diacrylate.

ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。   As unsaturated monomers having a bisphenol skeleton, ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added Tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meth) Tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylate, bisphenol F diglycidyl ether and (meth) obtained by epoxy ring-opening reaction with acrylic acid Bisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction with crylic acid, tetrabromobisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of tetrabromobisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Etc.

このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業(株)製)、アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成(株)製)、NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4(以上、新中村化学(株)製)、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARAD R−551、R−712(以上、日本化薬(株)製)、BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬(株)製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子(株)製)、ネオポールV779、ネオポールV779MA(日本ユピカ(株)製)等が挙げられる。   Commercially available unsaturated monomers having such a structure include Biscote # 700 and # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Aronix M-208, M-210 (above, Toagosei Co., Ltd.) ), NK ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4 (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester BP-4EA, BP-4PA, epoxy ester 3002M, 3002A 3000M, 3000A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD R-551, R-712 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), BPE-4, BPE-10, BR-42M (above, No. 1) Manufactured by Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP 1563 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.

さらに、3官能以上の(メタ)アクリレート不飽和モノマ−としては、3価以上の多価アルコールの(メタ)アクリレート、例えばトリメチロールプロパンリト(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスM305、M309、M310、M315、M320、M350、M360、M408(以上、東亞合成(株)製、ビスコート#295、#300、#360、GPT、3PA、#400(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルTMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMMT(以上、新中村化学(株)製)、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A(以上、共栄社化学(株)製、KAYARAD PET−30、GPO−303、TMPTA、TPA−320、DPHA、D−310、DPCA−20、DPCA−60(以上、日本化薬(株)製)等が挙げられる。   Furthermore, as a trifunctional or higher functional (meth) acrylate unsaturated monomer, a trihydric or higher polyhydric alcohol (meth) acrylate such as trimethylolpropane litho (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate or trimethylol. Propane trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, etc. are listed, and commercially available products include Aronix M305, M309, M310, M315, M320, M350, M360, M408 (and above, Toagosei) Made by Co., Ltd., Biscoat # 295, # 300, # 360, GPT, 3PA, # 400 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK ester TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A- TMM-3L, A-TMMT (above, Shinnaka Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., KAYARAD PET-30, GPO-303, TMPTA) , TPA-320, DPHA, D-310, DPCA-20, DPCA-60 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.

加えてウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、例えばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ(無水)フタル酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール;ポリε−カプロラクトン変性ポリオール;ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールA、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA等のビスフェノールA骨格アルキレンオキシド変性ポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールF、プロピレンオキシド付加ビスフェノールF等のビスフェノールF骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートから製造されるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。   In addition, a urethane (meth) acrylate oligomer may be blended. Examples of urethane (meth) acrylates include polyether polyols such as polyethylene glycol and polytetramethyl glycol; succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, tetrahydro (anhydrous) phthalic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid Obtained by reaction of a dibasic acid such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, etc. Polyester polyols; polyε-caprolactone-modified polyols; polymethylvalerolactone-modified polyols; ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, 1 Alkyl polyols such as 6-hexanediol and neopentyl glycol; bisphenol A skeleton alkylene oxide modified polyols such as ethylene oxide-added bisphenol A and propylene oxide-added bisphenol A; bisphenol F skeleton alkylene oxides such as ethylene oxide-added bisphenol F and propylene oxide-added bisphenol F Modified polyols or mixtures thereof and organic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. Made from hydroxy group-containing (meth) acrylate And urethane (meth) acrylate oligomers. A urethane (meth) acrylate oligomer is preferable for maintaining the viscosity of the curable composition at an appropriate level.

これらウレタン(メタ)アクリレートの市販品のモノマーとしては、例えばアロニックスM120、M−150、M−156、M−215、M−220、M−225、M−240、M−245、M−270(以上、東亞合成(株)製)、AIB、TBA、LA、LTA、STA、ビスコート#155、IBXA、ビスコート#158、#190、#150、#320、HEA、HPA、ビスコート#2000、#2100、DMA、ビスコート#195、#230、#260、#215、#335HP、#310HP、#310HG、#312(以上、大阪有機化学工業(株)製)、ライトアクリレートIAA、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DMP−A、THF−A、IB−XA、HOA、HOP−A、HOA−MPL、HOA−MPE、ライトアクリレート3EG−A、4EG−A、9EG−A、NP−A、1,6HX−A、DCP−A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARADTC−110S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620(以上、日本化薬(株)製)、FA−511A、512A、513A(以上、日立化成(株)製)、VP(BASF製)、ACMO、DMAA、DMAPAA(以上、興人(株)製)等が挙げられる。   As a commercially available monomer of these urethane (meth) acrylates, for example, Aronix M120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270 ( As mentioned above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AIB, TBA, LA, LTA, STA, Viscoat # 155, IBXA, Viscoat # 158, # 190, # 150, # 320, HEA, HPA, Viscoat # 2000, # 2100, DMA, biscort # 195, # 230, # 260, # 215, # 335HP, # 310HP, # 310HG, # 312 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Light Acrylate IAA, LA, SA BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-MP , HOA-MPE, light acrylate 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARADTC-110S, HDDA, NPGDA , TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), FA-511A, 512A, 513A (manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), VP (manufactured by BASF), ACMO, DMAA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) and the like.

ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート、(b)有機ポリイソシアネート及び(c)ポリオールの反応物として得られるものであるが、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと(b)有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで(c)ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。   The urethane (meth) acrylate oligomer is obtained as a reaction product of (a) hydroxy group-containing (meth) acrylate, (b) organic polyisocyanate and (c) polyol, but (a) hydroxy group-containing (meth). A reaction product obtained by reacting an acrylate with (b) an organic polyisocyanate and then (c) a polyol is preferable.

以上の不飽和モノマ−は単独で用いてもよく、必要に応じて複数種を混合して用いてもよい。   The above unsaturated monomers may be used alone, or a plurality of them may be mixed as necessary.

光ラジカル重合開始剤としては、例えばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。   Examples of the photo radical polymerization initiator include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole. 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethylthio Xanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples thereof include bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, and the like.

光ラジカル重合開始剤の市販品としては、例えばIrgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI11850、CG24−61、Darocurl116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、LucirinLR8728、8893X(以上BASF社製)、ユベクリルP36(UCB社製)、KIP150(ランベルティ社製)等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはLucirinLR8893Xが好ましい。   Examples of commercially available radical photopolymerization initiators include Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 11850, CG 24-61, Darocurl 116, 1173 (above, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.), Lucirin LR8728, 8893X (manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB), KIP150 (manufactured by Lamberti), and the like. Among these, Lucirin LR8883X is preferable from the viewpoint of being liquid and easily dissolved and having high sensitivity.

光ラジカル重合開始剤は、全組成物中に、0.01〜10重量%、特に0.5〜7重量%配合されるのが好ましい。配合量の上限は、組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。   The radical photopolymerization initiator is preferably blended in the total composition in an amount of 0.01 to 10% by weight, particularly 0.5 to 7% by weight. The upper limit of the blending amount is preferably this range from the viewpoint of the curing characteristics of the composition, the mechanical and optical properties of the cured product, the handling, etc., and the lower limit of the blending amount is preferable from the viewpoint of preventing the curing rate from being lowered.

組成物にはさらに光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、例えばトリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、例えばユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。   The composition may further contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethylaminobenzoic acid. Examples thereof include methyl, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate and the like, and examples of commercially available products include Ubekryl P102, 103, 104, 105 (manufactured by UCB).

さらにまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。   Furthermore, in addition to the above components, various additives as necessary include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants. Colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, solvents, fillers, anti-aging agents, wettability improvers, mold release agents, and the like can be blended as necessary.

ここで、酸化防止剤としては、例えばIrganox1010、1035、1076、1222(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Antigen P、3C、FR、GA−80(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、例えばTinuvin P、234、320、326、327、328、329、213(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Seesorb102、103、110、501、202、712、704(以上、シプロ化成(株)製)等が挙げられ、光安定剤としては、例えばTinuvin 292、144、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、サノールLS770(三共(株)製)、Sumisorb TM−061(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、シランカップリング剤としては、例えばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、SH6062、6030(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KBE903、603、403(以上、信越化学工業(株)製)等が挙げられ、塗面改良剤としては、例えばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはDC−57、DC−190(以上、ダウ コーニング社製)、SH−28PA、SH−29PA、SH−30PA、SH−190(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KF351、KF352、KF353、KF354(以上、信越化学工業(株)製)、L−700、L−7002、L−7500、FK−024−90(以上、日本ユニカー(株)製)、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはFC-430、FC-171(以上 3M(株))、メガファックF-176、F-177、R-08(以上 大日本インキ(株)製)挙げられ、離型剤としてはプライサーフA208F(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。   Here, examples of the antioxidant include Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Antigen P, 3C, FR, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Examples of the ultraviolet absorber include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Seesorb 102, 103, 110, 501; 202, 712, 704 (above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.) and the like. Examples of the light stabilizer include Tinuvin 292, 144, 622LD (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Sanol LS770 ( Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-061 ( As a silane coupling agent, for example, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, and a commercially available product. SH6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE903, 603, 403 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples include silicone additives such as polyether and nonionic fluorosurfactants, and commercially available silicone additives include DC-57, DC-190 (above, manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH- 29PA, SH-30PA, SH-190 (above, Toray Dow Corning Silicone KF351, KF352, KF353, KF354 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (above, Nihon Unicar Co., Ltd.) ), Non-ionic fluorosurfactants commercially available as FC-430, FC-171 (above 3M), MegaFuck F-176, F-177, R-08 (above Dainippon Ink, Inc.) And a release agent such as Prisurf A208F (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).

樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、上記の樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一なく混合できるものであれはよく、例えばアセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、エタノ−ル、プロパノ−ル、ブタノ−ル、2−メトキシエタノ−ル、シクロヘキサノ−ル、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製品の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼしたりする懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。従って、有機溶剤の沸点としては50℃以上から150℃以下が好ましく、さらに好ましくは70℃から120℃の間である。素材の溶解性や、沸点の観点から有機溶剤としてはメチルエチルケトン(bp.79.6℃)、1−プロパノ−ル(bp.97.2℃)などが好ましい。   The organic solvent for adjusting the viscosity of the resin liquid may be any organic solvent that can be mixed without unevenness such as precipitates, phase separation, and cloudiness when mixed with the above resin liquid. For example, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone , Ethanol, propanol, butanol, 2-methoxyethanol, cyclohexanol, cyclohexane, cyclohexanone, toluene and the like, and a mixture of these may be used if necessary. . When an organic solvent is added, it is necessary to dry and evaporate the organic solvent during the product manufacturing process. However, if a large amount of residual solvent remains in the product, the mechanical properties of the product will deteriorate. There is also a concern that the organic solvent evaporates and diffuses during use as a product, causing bad odors and adverse health effects. For this reason, organic solvents having a high boiling point are not preferable because the amount of residual solvent increases. However, if the boiling point is too low, it will evaporate violently, resulting in rough surface, condensation water adhering to the surface of the composition due to the heat of vaporization during drying, resulting in surface defects and vapor concentration. It becomes higher and the risk of ignition etc. increases. Accordingly, the boiling point of the organic solvent is preferably 50 ° C. or more and 150 ° C. or less, more preferably 70 ° C. to 120 ° C. Methyl ethyl ketone (bp. 79.6 ° C.), 1-propanol (bp. 97.2 ° C.) and the like are preferable as the organic solvent from the viewpoint of the solubility of the material and the boiling point.

樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、十分に塗布性が改善されるためには、10重量%から40重量%の間であり、好ましくは15重量%からから30重量%である。あまり少量だと粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく塗布性が十分に改良されない。しかし多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液がまわったりするなどの問題が発生する。また、乾燥工程にて十分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼしたりする懸念が生じる
樹脂液は、前記各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。
The amount of the organic solvent added to the resin solution depends on the type of the solvent and the viscosity of the resin solution before the addition of the solvent, but in order to sufficiently improve the coatability, it is 10 to 40% by weight. Between 15% and 30% by weight. If the amount is too small, the effect of reducing the viscosity and the effect of increasing the coating amount are small, and the coating property is not sufficiently improved. However, when the amount is too much diluted, the viscosity is too low and the liquid flows on the sheet-like body to cause unevenness, or the liquid may circulate on the back surface of the sheet-like body. In addition, the product cannot be sufficiently dried in the drying process, and a large amount of organic solvent remains in the product, resulting in deterioration of product function, volatilization during product use, generating bad odors, and adversely affecting health. The resin liquid can be produced by mixing the above-mentioned components by a conventional method, and can be produced by heating and dissolving as necessary.

このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常10〜50,000mPa・s/25℃である。基材やエンボスロ−ルに樹脂液を供給する場合は、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を十分に発揮できない。特に、ラインスピ−ドを高速化したときにその傾向が顕著になる。従ってこの場合は液粘度は低い方が好ましく、10〜100mPa・sであり、さらに好ましくは、10〜50mPa・sである。このような低い粘度は前記の有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。又、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎるとエンボスロ−ルで型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合があり、好ましい粘度は100〜3,000mPa・sである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスロ−ルで型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスロ−ルで型押しする際は、有機溶剤を乾燥させより高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。   The viscosity of the resin liquid thus prepared is usually 10 to 50,000 mPa · s / 25 ° C. When supplying a resin liquid to a substrate or embossing roll, if the viscosity is too high, it will be difficult to supply the composition uniformly, and when manufacturing a lens, uneven coating, undulation, and mixing of bubbles may occur. Therefore, it becomes difficult to obtain the target lens thickness, and the lens performance cannot be fully exhibited. In particular, this tendency becomes remarkable when the line speed is increased. Accordingly, in this case, the liquid viscosity is preferably low, 10 to 100 mPa · s, and more preferably 10 to 50 mPa · s. Such a low viscosity can be adjusted by adding an appropriate amount of the organic solvent. It is also possible to adjust the viscosity by setting the heat retention of the coating solution. On the other hand, if the viscosity after evaporation of the solvent is too low, it may be difficult to control the lens thickness when embossing the mold, and a uniform lens with a constant thickness may not be formed. The preferred viscosity is 100 to 3,000 mPa · s. It is. When an organic solvent is mixed, a low viscosity is provided when the resin liquid is supplied by providing a process for evaporating the organic solvent by heat drying, etc., between the process of supplying the resin liquid and embossing with the embossing roll. Thus, when the embossing roll is used for embossing, the embossing roll can be uniformly embossed with a resin liquid obtained by drying the organic solvent and increasing the viscosity.

次に、光学シートとしてプリズムシートを製造する場合の好適な例について説明する。   Next, a preferred example when a prism sheet is manufactured as an optical sheet will be described.

樹脂液を放射線によって硬化させることにより、得られる硬化物は以下の物性を有するものであることが特に好ましい。その硬化物の25℃での屈折率は1.55以上が好ましく、1.56以上であることがより好ましい。屈折率が1.55未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、十分な正面輝度を確保することができない場合がある。   It is particularly preferable that the cured product obtained by curing the resin liquid with radiation has the following physical properties. The refractive index of the cured product at 25 ° C. is preferably 1.55 or more, and more preferably 1.56 or more. When the refractive index is less than 1.55, when a prism lens sheet is formed using this composition, sufficient front luminance may not be ensured.

さらに、その硬化物の軟化点は、40℃以上、特に50℃以上であるのが好ましい。軟化点が40℃未満の場合は耐熱性が十分でない場合がある。   Furthermore, the softening point of the cured product is preferably 40 ° C. or higher, particularly 50 ° C. or higher. When the softening point is less than 40 ° C., the heat resistance may not be sufficient.

以上説明したように本実施形態によれば、エンボスロール13およびニップロール14による樹脂塗布シートSに対するニップ圧Pと樹脂の粘度ηとが適切な値に調整され、エンボスロール13が樹脂層Fに対して適切に押し当てられる。これにより、エンボスロール13とニップロール14との間における樹脂層Fに対するエアーの混入を適切に防ぐとともに、エンボスロール13およびニップロール14が樹脂層Fに過度に押し付けられるのを防ぐことができ、高品質なエンボスシート(光学シート)が製造される。特に、比較的大きな幅の光学シートを製造する場合や光学シートの製造速度を増すためにシートの搬送速度を速くする場合のように、エンボスロール13とニップロール14との間で樹脂層Fに不良が生じ易い場合であっても、本実施形態に係る上述の手法によれば、所望のエンボスシート(光学シート)を品質良く製造することができる。   As described above, according to this embodiment, the nip pressure P and the resin viscosity η with respect to the resin coating sheet S by the embossing roll 13 and the nip roll 14 are adjusted to appropriate values, and the embossing roll 13 is compared with the resin layer F. To be pressed appropriately. Accordingly, it is possible to appropriately prevent air from being mixed into the resin layer F between the embossing roll 13 and the nip roll 14 and to prevent the embossing roll 13 and the nip roll 14 from being excessively pressed against the resin layer F. An embossed sheet (optical sheet) is manufactured. In particular, the resin layer F is defective between the embossing roll 13 and the nip roll 14 as in the case where an optical sheet having a relatively large width is manufactured or the sheet conveying speed is increased in order to increase the manufacturing speed of the optical sheet. Even if it is easy to generate | occur | produce, according to the above-mentioned method which concerns on this embodiment, a desired emboss sheet (optical sheet) can be manufactured with sufficient quality.

本発明は、上述の実施の形態に限定されるものではなく、当業者の知識に基づいて各種の設計変更等の変形が加えられることも可能であり、そのような変形が加えられた実施の形態も本発明の範囲に含まれうる。   The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various modifications such as design changes can be added based on the knowledge of those skilled in the art. Forms can also be included within the scope of the present invention.

例えば、上述の実施形態ではウェブW上に樹脂層Fが直接形成される例について説明したが、これに限定されるものではない。例えば、図6に示すようにウェブWと樹脂層Fとの間に接着層Bを設けて、ウェブWと樹脂層Fとの接着性を向上させることも可能である。この場合、接着層BがウェブW上に予め形成されていてもよいし、ウェブWに樹脂層Fが塗布される直前に接着層BがウェブWに塗布されてもよい。   For example, in the above-described embodiment, the example in which the resin layer F is directly formed on the web W has been described. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 6, an adhesive layer B may be provided between the web W and the resin layer F to improve the adhesion between the web W and the resin layer F. In this case, the adhesive layer B may be formed in advance on the web W, or the adhesive layer B may be applied to the web W immediately before the resin layer F is applied to the web W.

次に、本発明に基づく具体的な実施例について説明する。なお、以下の実施例は、例示であって本発明を限定するものではない。   Next, specific examples based on the present invention will be described. In addition, the following examples are illustrations and do not limit the present invention.

(実施例1)
本例では、図1に示されているエンボスシートの製造装置10によってプリズムシートを製造した。
Example 1
In this example, the prism sheet was manufactured by the embossed sheet manufacturing apparatus 10 shown in FIG.

ウェブWとして、幅400mm、厚さ175μmのPET(ポリエチレンテレフタラート)のフィルムを使用した。   As the web W, a PET (polyethylene terephthalate) film having a width of 400 mm and a thickness of 175 μm was used.

ウェブWおよび樹脂塗布シートSの搬送速度(ライン速度)を、5m/minに調整した。   The conveyance speed (line speed) of the web W and the resin coated sheet S was adjusted to 5 m / min.

エンボスロール13として、直径350mm、幅400mmを有するロールを使用した。具体的には、鉄製のロールに銅メッキを施し、この銅メッキ部分にプリズム形状を加工し、さらにハードクロムメッキを施したものをエンボスロール13として使用した。   As the embossing roll 13, a roll having a diameter of 350 mm and a width of 400 mm was used. Specifically, an iron roll was subjected to copper plating, a prism shape was processed on the copper plating portion, and a hard chrome plating was further used as the embossing roll 13.

エンボスロール13に形成されている所定の凹凸パターンは、このエンボスロール13によって樹脂層Lに転写されるプリズムが頂角90°、高さ25μm、および幅50μmの形状を持つような、パターン形状となっている。   The predetermined uneven pattern formed on the embossing roll 13 has a pattern shape such that the prism transferred to the resin layer L by the embossing roll 13 has a shape with an apex angle of 90 °, a height of 25 μm, and a width of 50 μm. It has become.

ニップロール14として、直径70mm、幅400mmを有する硬質ゴム製のロールを使用した。このニップロール14の直径のばらつきは50μm以下となっていた。   As the nip roll 14, a hard rubber roll having a diameter of 70 mm and a width of 400 mm was used. The variation in the diameter of the nip roll 14 was 50 μm or less.

塗布部12として、バーコ一夕型の塗布装置を使用した。   As the application unit 12, a Barco overnight application device was used.

塗布部12によってウェブW上に塗布される樹脂として、アクリル系UV硬化樹脂を含む樹脂を使用した。   A resin containing an acrylic UV curable resin was used as the resin applied on the web W by the application unit 12.

図7は、エンボスロール13によって微細凹凸パターンが形成された実施例1における樹脂層Fの面状(図中の「面状」を参照)を示し、特に、上記の条件下で、エンボスロール13およびニップロール14による樹脂塗布シートSに対するニップ圧P(MPa)、および樹脂層Fを構成する樹脂の粘度η(mPa・s)の各々を変えた場合の樹脂層Fの面状を示す。なお、樹脂層Fの面状は目視によって判断した。また、図7中の「備考」には、主に、樹脂層Fの面状が記載されている。   FIG. 7 shows the surface shape of the resin layer F (see “surface shape” in the figure) in Example 1 in which the fine unevenness pattern was formed by the embossing roll 13. In particular, the embossing roll 13 under the above conditions. 2 shows the surface shape of the resin layer F when the nip pressure P (MPa) on the resin-coated sheet S by the nip roll 14 and the viscosity η (mPa · s) of the resin constituting the resin layer F are changed. The surface shape of the resin layer F was determined by visual observation. Further, “Remarks” in FIG. 7 mainly describes the surface shape of the resin layer F.

(実施例2)
本例も、図1に示されているエンボスシートの製造装置10によってプリズムシートを製造した。なお、上述の実施例1における場合と同じ条件については、その詳細な説明を省略する。
(Example 2)
Also in this example, the prism sheet was manufactured by the embossed sheet manufacturing apparatus 10 shown in FIG. Detailed description of the same conditions as those in the first embodiment will be omitted.

本例では、ニップロール14として、直径70mm、幅400mmを有する硬質ゴム製のロールを使用した。このニップロール14の直径のばらつきは100μm以下となっていた。   In this example, a hard rubber roll having a diameter of 70 mm and a width of 400 mm was used as the nip roll 14. The variation in the diameter of the nip roll 14 was 100 μm or less.

図8は、エンボスロール13によって微細凹凸パターンが形成された実施例2における樹脂層Fの面状(図中の「面状」を参照)を示し、特に、上記の条件下で、エンボスロール13およびニップロール14による樹脂塗布シートSに対するニップ圧P(MPa)、および樹脂層Fを構成する樹脂の粘度η(mPa・s)の各々を変えた場合の樹脂層Fの面状を示す。   FIG. 8 shows the surface shape of the resin layer F in Example 2 in which the fine uneven pattern is formed by the embossing roll 13 (see “surface shape” in the drawing). In particular, the embossing roll 13 under the above conditions. 2 shows the surface shape of the resin layer F when the nip pressure P (MPa) on the resin-coated sheet S by the nip roll 14 and the viscosity η (mPa · s) of the resin constituting the resin layer F are changed.

(各実施例の考察)
上述の実施例1の結果(図7参照)の樹脂層Fの面状の結果から、エンボスロール13およびニップロール14による樹脂塗布シートSに対するニップ圧P(MPa)、および樹脂層Fを構成する樹脂の粘度η(mPa・s)を、上記の式(1)が満たされるように調整することが好ましいことが分かる。
(Consideration of each example)
From the result of the surface shape of the resin layer F of the result of Example 1 (see FIG. 7), the nip pressure P (MPa) applied to the resin coated sheet S by the embossing roll 13 and the nip roll 14, and the resin constituting the resin layer F It can be seen that it is preferable to adjust the viscosity η (mPa · s) so that the above formula (1) is satisfied.

また、上述の実施例1および実施例2の結果(図7および図8参照)を比較すると、少なくともニップロール(入り口ロール)14の直径のばらつきが50μm以下であることが好ましいことが分かる。   Further, comparing the results of Examples 1 and 2 described above (see FIGS. 7 and 8), it can be seen that at least the variation in the diameter of the nip roll (entrance roll) 14 is preferably 50 μm or less.

エンボスシートの製造装置の構成を示す概念図である。It is a conceptual diagram which shows the structure of the manufacturing apparatus of an embossed sheet. ウェブおよび樹脂層の配置関係を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the arrangement | positioning relationship of a web and a resin layer. エンボスロールの断面の概略を示す図である。It is a figure which shows the outline of the cross section of an embossing roll. エンボスロールおよびニップロールによって樹脂塗布シートに対して加えられるニップ圧(縦軸)と、樹脂層を構成するUV硬化樹脂の粘度(横軸)との関係を示す図である。It is a figure which shows the relationship between the nip pressure (vertical axis) applied with respect to a resin application sheet with an embossing roll and a nip roll, and the viscosity (horizontal axis) of UV curable resin which comprises a resin layer. ニップロールの構成を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the structure of a nip roll. ウェブおよび樹脂層の配置関係の一変形例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the modification of the arrangement | positioning relationship of a web and a resin layer. エンボスロールによって微細凹凸パターンが形成された実施例1における樹脂層の面状を示す。The surface shape of the resin layer in Example 1 in which the fine uneven | corrugated pattern was formed with the embossing roll is shown. エンボスロールによって微細凹凸パターンが形成された実施例2における樹脂層の面状を示す。The surface shape of the resin layer in Example 2 in which the fine uneven | corrugated pattern was formed with the embossing roll is shown.

符号の説明Explanation of symbols

10…エンボスシートの製造装置、11…ウェブ供給部、12…塗布部、13…エンボスロール、14…ニップロール、15…樹脂硬化部、16…剥離ロール、17…保護フィルム供給部、18…シート巻き取り部、W…ウェブ、F…樹脂層   DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Embossed sheet manufacturing apparatus, 11 ... Web supply part, 12 ... Application | coating part, 13 ... Embossing roll, 14 ... Nip roll, 15 ... Resin hardening part, 16 ... Peeling roll, 17 ... Protection film supply part, 18 ... Sheet winding Take part, W ... web, F ... resin layer

Claims (6)

光学部材が塗布された支持体をパターンロールおよび入口ロールによりニップするとともにパターンロールに巻き掛けて、パターンロールに形成されている所定のパターンを光学部材に転写することによって、光学シートを製造する光学シートの製造方法であって、
パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧P(MPa)と、光学部材の粘度η(mPa・s)とが、
(1/2)×log10η−3 ≦ log10P ≦ (1/2)×log10η−2
(1≦η≦10000)
という関係を満たすように設定されることを特徴とする光学シートの製造方法。
An optical for producing an optical sheet by nipping a support coated with an optical member between a pattern roll and an entrance roll and winding the support on the pattern roll to transfer a predetermined pattern formed on the pattern roll to the optical member. A sheet manufacturing method comprising:
The nip pressure P (MPa) against the support by the pattern roll and the inlet roll, and the viscosity η (mPa · s) of the optical member,
(1/2) × log 10 η−3 ≦ log 10 P ≦ (1/2) × log 10 η−2
(1 ≦ η ≦ 10000)
An optical sheet manufacturing method characterized in that the optical sheet is set so as to satisfy the relationship.
前記光学部材の粘度η(mPa・s)は、
10≦η≦1000
を満たすことを特徴とする請求項1に記載の光学シートの製造方法。
The viscosity η (mPa · s) of the optical member is
10 ≦ η ≦ 1000
The method for producing an optical sheet according to claim 1, wherein:
前記パターンロールと前記入り口ロールとの距離のばらつきが50μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の光学シートの製造方法。   The method for producing an optical sheet according to claim 1, wherein a variation in distance between the pattern roll and the entrance roll is 50 μm or less. 前記入り口ロールの直径のばらつきが50μm以下であることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の光学シートの製造方法。   The method for producing an optical sheet according to any one of claims 1 to 3, wherein a variation in diameter of the entrance roll is 50 m or less. 請求項1乃至4のいずれか1項に記載の光学シートの製造方法によって製造された光学シート。   The optical sheet manufactured by the manufacturing method of the optical sheet of any one of Claims 1 thru | or 4. 光学シートを製造する光学シート製造装置であって、
所定パターンを有するパターンロールと、
光学部材が塗布された支持体をパターンロールとともに狭持して、パターンロールの所定パターンを光学部材に転写する入り口ロールと、を備え、
パターンロールおよび入口ロールによる支持体に対するニップ圧P(MPa)と、光学部材の粘度η(mPa・s)とが、
(1/2)×log10η−3 ≦ log10P ≦ (1/2)×log10η−2
(1≦η≦10000)
という関係を満たすように設定されることを特徴とする光学シートの製造装置。
An optical sheet manufacturing apparatus for manufacturing an optical sheet,
A pattern roll having a predetermined pattern;
An entrance roll that sandwiches the support coated with the optical member together with the pattern roll and transfers a predetermined pattern of the pattern roll to the optical member, and
The nip pressure P (MPa) against the support by the pattern roll and the inlet roll, and the viscosity η (mPa · s) of the optical member,
(1/2) × log 10 η−3 ≦ log 10 P ≦ (1/2) × log 10 η−2
(1 ≦ η ≦ 10000)
The optical sheet manufacturing apparatus is characterized by being set to satisfy the relationship.
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