JP2007248849A - Radiation curable composition - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、放射線硬化性組成物に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を製造するのに好適な放射線硬化性組成物に関する。 The present invention relates to a radiation curable composition, and in particular, a radiation curable composition suitable for producing a sheet-like material such as an embossed sheet having an antireflection effect in which a regular fine uneven pattern is formed on the surface. Related to things.
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている(特許文献1〜8参照)。 In recent years, an embossed sheet having an antireflection effect has been adopted for use in electronic displays such as liquid crystals. In addition, flat lenses such as lenticular lenses and fly-eye lenses, embossed sheets such as light diffusion sheets, brightness enhancement sheets, optical waveguide sheets, and prism sheets are used. As such an embossed sheet, a sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface has been conventionally known. As a method for forming such a regular fine uneven pattern, various methods are conventionally known (see Patent Documents 1 to 8).
たとえば、図5に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1の表面に塗布手段2で樹脂を塗布し、連続走行されるシート3をスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の樹脂をシート3に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている(特許文献1〜3参照)。
For example, in an apparatus having a configuration as shown in FIG. 5, a resin is applied to the surface of the stamper roller 1 having a regular uneven pattern formed on the surface by the applying
また、図6に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート3の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート3を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている(特許文献3、4参照)。
Further, in the apparatus configured as shown in FIG. 6, a resin is applied in advance to the surface of the continuously running sheet 3, and this sheet 3 is connected to the stamper roller 1 on which a regular uneven pattern is formed. Content that is sandwiched between the
また、このようなシート状物の製造に使用する組成物としても各種の組成のものが開示されている(特許文献5〜8参照)。たとえば、特許文献5は、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力について規定している。特許文献6は、モノマ−として含ハロゲン(メタ)アクリレ−トなどが開示されており、高屈折率化に対応できるとされている。
Moreover, the thing of various compositions is also disclosed as a composition used for manufacture of such a sheet-like material (refer patent documents 5-8). For example,
特許文献7は、組成物としてメチルスチレンが開示されており、組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できるとされている。特許文献8は、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する(メタ)アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合している。
ところで、近年において光学樹脂層については、光学設計上の理由から、高屈折率化が望まれている。たとえばフレネルレンズの場合、光学樹脂層の屈折率を高くする程レンズパターンを浅くすることが可能となり、金型からの離型が容易となり、生産性が向上できる等の利点がある。 Incidentally, in recent years, it has been desired to increase the refractive index of optical resin layers for reasons of optical design. For example, in the case of a Fresnel lens, as the refractive index of the optical resin layer is increased, the lens pattern can be made shallower, release from the mold becomes easier, and productivity can be improved.
また、たとえば、液晶表示装置などに使われるバックライトユニットの正面輝度向上用のプリズムシートの場合、プリズムの頂角を同一として設計したときに、光学樹脂層の屈折率を高くする程その正面輝度を向上させることができる。 Also, for example, in the case of a prism sheet for improving the front brightness of a backlight unit used in a liquid crystal display device or the like, when the apex angle of the prism is designed to be the same, the front brightness increases as the refractive index of the optical resin layer increases. Can be improved.
一方、このような光学樹脂層の高屈折率を達成するためには、硬化性組成物として芳香環構造や、臭素などのハロゲン化合物を多く含有した化合物を使用する必要がある。ところが、一般にこのような化合物は高粘度の液体又は固体である。したがって樹脂液も高粘度となるため、前述したような方法で製造する場合は、より一層塗布性が悪くなり、ラインスピードを上げることは困難であり、生産性を改善しにくいという問題があった。 On the other hand, in order to achieve such a high refractive index of the optical resin layer, it is necessary to use a compound containing a large amount of an aromatic ring structure or a halogen compound such as bromine as the curable composition. However, in general, such compounds are highly viscous liquids or solids. Accordingly, since the resin liquid also has a high viscosity, when manufactured by the method as described above, there is a problem that the applicability is further deteriorated, it is difficult to increase the line speed, and it is difficult to improve the productivity. .
しかしながら、上記の課題に対し従来技術は、現状では充分に対処できていない。たとえば、既述の特許文献5は、金型への樹脂の流れ込みをよくして生産性をあげるために、放射線硬化性組成物の粘度と表面張力を規定しているが、事前にシ−トに樹脂を塗布する方式とは異なる。また、樹脂(化合物)の具体的な組成や、樹脂を低粘度にする具体的な方法は開示されていない。
However, the conventional technology has not sufficiently dealt with the above problems at present. For example, the
既述の特許文献6には、高屈折率モノマ−として含ハロゲン(メタ)アクリレ−トなどが記載されているが、放射線硬化性組成物の粘度は数百mPa・s以上〜数千Pa・sが好ましいとされており、塗布速度改善のための低粘度化については考慮されていない。 In Patent Document 6 described above, halogen-containing (meth) acrylates and the like are described as high refractive index monomers, but the viscosity of the radiation curable composition is several hundred mPa · s to several thousand Pa · s. It is considered that s is preferable, and no consideration is given to reducing the viscosity for improving the coating speed.
既述の特許文献7には、放射線硬化性組成物の粘度を下げ、加工、塗布適性を付与できる比較的高屈折率の化合物としてメチルスチレンが記載されているが、硬化して硬化膜中に化合物が残るため使用量が多すぎると屈折率の低下や硬化膜物性の劣化を生じることとなる。これを避けるためには、粘度は数百mPa・s程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。 In the aforementioned Patent Document 7, methylstyrene is described as a compound having a relatively high refractive index capable of lowering the viscosity of the radiation curable composition and imparting processing and coating suitability. Since the compound remains, if the amount used is too large, the refractive index will decrease and the physical properties of the cured film will deteriorate. In order to avoid this, the viscosity can only be lowered to about several hundred mPa · s, and the effect of increasing the coating speed is insufficient.
既述の特許文献8には、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する(メタ)アクリレ−トを用い、希釈のため他のエチレン性不飽和結合をもつ単量体と混合する旨が記載されているが、この単量体は硬化して硬化膜中に残るため、使用量が多すぎると硬化膜物性の劣化を引き起こす。これを避けるためには、粘度を数十〜百mPa・s程度までしか下げられず、塗布速度を上昇させる効果は不十分である。また、特許文献8には、シ−ト上に微細構造を生産性よく連続的に作成するという課題は存在しない。 Patent Document 8 already described describes that (meth) acrylate containing a fluorene skeleton is used as a radiation curable composition and is mixed with another monomer having an ethylenically unsaturated bond for dilution. However, since this monomer is cured and remains in the cured film, if the amount used is too large, the physical properties of the cured film are deteriorated. In order to avoid this, the viscosity can only be lowered to several tens to hundreds of mPa · s, and the effect of increasing the coating speed is insufficient. In Patent Document 8, there is no problem of continuously creating a fine structure on a sheet with high productivity.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートを製造するのに好適な放射線硬化性組成物、より具体的には、低粘度で塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and is used to manufacture a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface with high quality and high productivity without defects. An object of the present invention is to provide a radiation curable composition suitable for producing a concavo-convex sheet suitable for the above, more specifically, a radiation curable composition having a low viscosity, good coatability and a high refractive index. To do.
本発明は、前記目的を達成するために、表面に液状の放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体に凹凸型を密着させ、該凹凸型表面の凹凸形状を前記シート状体の表面に転写形成する凹凸状シートの製造方法に使用される前記放射線硬化性組成物であって、下記の(A)、(B)、(C)及び(D)を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物を提供する。
(A)下記の化学式1によって表される構造をもつ化合物
In order to achieve the above-mentioned object, the present invention has a concavo-convex shape adhered to a sheet-like body having a liquid radiation-curable composition applied to the surface, and the concavo-convex shape of the concavo-convex surface is applied to the surface of the sheet-like body. The radiation curable composition used in the method for producing a concavo-convex sheet to be transferred and comprising the following (A), (B), (C) and (D): A composition is provided.
(A) Compound having a structure represented by the following chemical formula 1
(B)1以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤
本発明において、前記(B)が、下記の化学式2、化学式3及び化学式4のうちの1以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物(B)として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
(B) An acrylate or methacrylate compound having one or more aromatic rings (C) A compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than the above (A) and (B) (D) Initiating photopolymerization Agent In the present invention, the (B) is preferably a compound comprising one or more of the following
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤
また、本発明において、前記(D)が、2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
(C) Compound (D) photopolymerization initiator having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than (A) and (B) In the present invention, (D) is 2, 4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, or bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide It is preferable.
また、本発明において、転写形成後の前記放射線硬化性組成物の屈折率が1.58以上であることが好ましい。 Moreover, in this invention, it is preferable that the refractive index of the said radiation-curable composition after transfer formation is 1.58 or more.
また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物が有機溶剤を10重量%以上含むことが好ましい。また、本発明において、塗布時の前記放射線硬化性組成物の粘度が100mPa・s以下であることが好ましい。組成物がこのような量の有機溶剤を含み、このような低粘度であることにより、塗布スジや泡故障などの面状欠陥が無く均一にシート状体上に組成物の層が形成できる。 Moreover, in this invention, it is preferable that the said radiation-curable composition at the time of application | coating contains 10 weight% or more of organic solvents. Moreover, in this invention, it is preferable that the viscosity of the said radiation-curable composition at the time of application | coating is 100 mPa * s or less. When the composition contains such an amount of the organic solvent and has such a low viscosity, a layer of the composition can be uniformly formed on the sheet-like body without surface defects such as coating stripes and foam failure.
本発明によれば、フルオレン骨格を含有する(メタ)アクリレートを用いることにより硬化膜を高屈折率化し、更に、溶剤で希釈して低粘度化した放射線硬化性組成物を用いることにより、高ラインスピ−ドで生産性よく製造できる。使用した有機溶剤は塗布後から硬化までに加熱乾燥されるが、感度が高く、揮発しにくい特定の開始剤を用いることにより、加熱乾燥後も高感度を維持でき、生産性がよい。 According to the present invention, a cured film is made to have a high refractive index by using (meth) acrylate containing a fluorene skeleton, and further, by using a radiation curable composition that has been diluted with a solvent to reduce the viscosity, a high line speed is achieved. -Can be manufactured with good productivity. The used organic solvent is heat-dried after application to curing, but high sensitivity can be maintained even after heat-drying by using a specific initiator that has high sensitivity and is difficult to volatilize, and has good productivity.
特に、放射線硬化性組成物としてフルオレン骨格を含有する(メタ)アクリレ−ト、ハロゲン置換芳香環含有(メタ)アクリレ−トを用いることにより光学材料等に有効な高屈折率な細構造を作成できる。 In particular, by using a (meth) acrylate containing a fluorene skeleton or a halogen-substituted aromatic ring-containing (meth) acrylate as a radiation curable composition, a fine structure having a high refractive index effective for an optical material or the like can be created. .
以上説明したように、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な放射線硬化性組成物が得られる。 As described above, according to the present invention, radiation suitable for producing a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface thereof with high quality without defects and high productivity with high line speed. A curable composition is obtained.
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図1は、本発明の放射線硬化性組成物が適用されるエンボスシートの製造装置10の構成を示す概念図である。このエンボスシートの製造装置10は、シート状体供給手段11と、塗布手段12と、乾燥手段19と、凹凸ローラであるエンボスローラ13と、ニップローラ14と、樹脂硬化手段15と、剥離ローラ16と、保護フィルム供給手段17と、シート巻き取り手段18、等とより構成される。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a conceptual diagram showing a configuration of an embossed
シート状体供給手段であるシート供給手段11は、シート状体であるシートWを送り出すもので、シートWが巻回された送り出しロール等より構成される。 The sheet supply means 11 which is a sheet-like body supply means is for sending out the sheet W which is a sheet-like body, and includes a delivery roll on which the sheet W is wound.
塗布手段12は、シートWの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源12Aと、液供給装置(送液ポンプ)12Bと、塗布ヘッド12Cと、塗布の際にシートWを巻き掛けて支持する支持ローラ12Dと、液供給源12Aより塗布ヘッド12Cまで放射線硬化樹脂液を供給するための配管等より構成される。なお、塗布ヘッド12Cとしては、ダイコータ(エクストルージョン方式のコータ)の塗布ヘッドが採用されている。
The coating means 12 is a device that applies a radiation curable resin liquid to the surface of the sheet W, and includes a
乾燥手段19は、たとえば図1に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートWに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。 As the drying means 19, various known systems can be adopted as long as the coating liquid applied to the sheet W can be uniformly dried, such as a tunnel-shaped drying apparatus shown in FIG. 1. . For example, a radiant heating method using a heater, a hot air circulation method, a far infrared method, a vacuum method, or the like can be employed.
エンボスローラ13としては、シートWの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ13としては、金属製のローラが好ましい。
The
エンボスローラ13の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。
A regular fine uneven pattern is formed on the outer peripheral surface of the
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をXY方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
As an embossed sheet as a product, for example, a lenticular lens in which fine concavo-convex patterns are arranged two-dimensionally, or a fine cone such as a fly-eye lens, cone, or pyramid in which fine concavo-convex patterns are arranged three-dimensionally in the XY direction A flat lens or the like laid on the surface is an object, and a regular fine uneven pattern on the outer peripheral surface of the
エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ13の表面をダイヤモンドバイト(シングルポイント)で切削加工する方法、エンボスローラ13の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法が採用できる。
As a method for forming a regular fine concavo-convex pattern on the outer peripheral surface of the
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、1つの原盤(マザー)より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
In addition, uneven surfaces are formed on the surface of materials that are easier to process than metal by photo-etching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc., and a reversal of this shape is formed by electroforming etc. to make a thin metal plate It is also possible to adopt a method in which an
エンボスローラ13の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ13の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ13には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ13は、図示の矢印ように、反時計方向(CCW)に回転する。
It is preferable to perform a mold release process on the surface of the
ニップローラ14は、エンボスローラ13と対になってシートWを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ14表面の縦弾性係数(ヤング率)は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ14には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ14は、図示の矢印ように、時計方向(CW)に回転する。
The
エンボスローラ13とニップローラ14との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ13とニップローラ14との隙間(クリアランス)を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに設けることが好ましい。
In order to apply a predetermined pressing force between the embossing
樹脂硬化手段15は、ニップローラ14の下流側においてエンボスローラ13に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段15は、光照射によってシートWを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光(放射線)を照射でき、シートWの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段15として、たとえば、シートWの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。
The resin curing means 15 is a light irradiation means provided facing the
剥離ローラ16は、エンボスローラ13と対になってエンボスローラ13からシートWを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ13の周面上に巻き掛けられたシートWを回転するエンボスローラ13と剥離ローラ16とで挟みながら、シートWをエンボスローラ13から剥離させて剥離ローラ16に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ16には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ16は、図示の矢印ように、時計方向(CW)に回転する。
The peeling
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートWを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ16に冷却手段を設ける構成も採用できる。
In addition, when the temperature of resin etc. rises by hardening, the structure which provides a cooling means to the peeling
なお、図示は省略したが、エンボスローラ13の押圧箇所(9時の位置)から剥離箇所(3時の位置)までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ13とでシートWを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
Although not shown, a plurality of backup rollers are provided to face each other between the pressing location (9 o'clock position) of the
シート巻き取り手段18は、剥離後のシートWを収納するもので、シートWを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段18において、隣接して設けられる保護フィルム供給手段17より供給される保護フィルムHがシートWの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、シート巻き取り手段18に収納される。 The sheet winding means 18 stores the peeled sheet W, and includes a winding roll that winds the sheet W or the like. In this sheet winding means 18, the protective film H supplied from the adjacent protective film supply means 17 is supplied to the surface of the sheet W, and is stored in the sheet winding means 18 in a state where both films overlap. The
エンボスシートの製造装置10において、塗布手段12とエンボスローラ13との間、剥離ローラ16とシート巻き取り手段18との間等に、シートWの搬送路を形成するガイドローラ等を設けてもよく、その他、必要に応じてシートWの搬送中の弛みを吸収すべく、テンションローラ等を設けることもできる。
In the embossed
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートWとしては、樹脂フィルム、紙(レジンコーティッド紙、合成紙、等)、金属箔(アルミニウムウェブ等)等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、PET(ポリエチレンテレフタレート)、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。 Next, each material applied to the present invention will be described. As the sheet W, a resin film, paper (resin coated paper, synthetic paper, etc.), metal foil (aluminum web, etc.) and the like can be used. As the material of the resin fill, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyester, polyolefin, acrylic, polystyrene, polycarbonate, polyamide, PET (polyethylene terephthalate), biaxially stretched polyethylene terephthalate, Known materials such as polyethylene naphthalate, polyamideimide, polyimide, aromatic polyamide, cellulose acylate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose diacetate can be used. Of these, polyester, cellulose acylate, acrylic, polycarbonate, and polyolefin can be preferably used.
シートWの幅としては、0. 1〜3mが、シートWの長さとしては、1000〜100000mが、シートWの厚さとしては、1〜300μmのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。 The sheet W generally has a width of 0.1 to 3 m, the sheet W has a length of 1000 to 100,000 m, and the sheet W has a thickness of 1 to 300 μm. However, application of other sizes is not impeded.
これらのシートWは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートWの表面粗さRaはカットオフ値0.25mmにおいて3〜10nmが好ましい。 These sheets W may be previously subjected to corona discharge, plasma treatment, easy adhesion treatment, heat treatment, dust removal treatment and the like. The surface roughness Ra of the sheet W is preferably 3 to 10 nm at a cutoff value of 0.25 mm.
また、シートWには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートWとして1層構成のもののみならず、2層以上の構成のものも採用できる。また、シートWは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。 The sheet W may be a sheet W provided with a base layer such as an adhesive layer in advance and dried and cured, or a sheet having another functional layer formed in advance on the back surface. Similarly, as the sheet W, not only a one-layer structure but also a structure having two or more layers can be adopted. Moreover, it is preferable that the sheet | seat W is a transparent body and translucent body which can permeate | transmit light.
本発明に使用可能な樹脂は(メタ)アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。 Resins that can be used in the present invention include a reactive group-containing compound such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an epoxy group, and a radical or cation that can react with the reactive group-containing compound by irradiation with ultraviolet rays or the like. Those containing compounds that generate active species can be used.
特に硬化の速さからは、(メタ)アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも(メタ)アクリレ−ト、ウレタン(メタ)アクリレ−ト、エポキシ(メタ)アクリレ−ト、ポリエステル(メタ)アクリレ−トなどの(メタ)アクロイル基含有化合物が好ましい。この(メタ)アクロイル基含有化合物としては(メタ)アクロイル基が1個あるいは2個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いてもよい。 In particular, from the viewpoint of curing speed, a combination of a reactive group-containing compound (monomer) containing an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and a radical photopolymerization initiator that generates a radical by light is preferable. . Of these, (meth) acryloyl group-containing compounds such as (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are preferable. As the (meth) acryloyl group-containing compound, a compound containing one or more (meth) acryloyl groups can be used. Moreover, the reactive group containing compound (monomer) containing unsaturated groups, such as said acryloyl group and a vinyl group, may be used independently or may be used in mixture of multiple types as needed.
このような、(メタ)アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、フルオレン構造を含有するものが好ましく、特にビスフェノキシ基を持つフルオレン系(メタ)アクロイル基含有化合物が好ましい。このような化合物としては、ビスフェノキシエタノ−ルフルオレンジ(メタ)アクリレ−ト、ビスフェノキシオキシエチレンフルオレンジ(メタ)アクリレ−ト等があり、市販品としてはBPEF−A(大阪ガス(株))などがある。 Among such (meth) acryloyl group-containing compounds, those having a fluorene structure are preferable from the viewpoint of particularly high refractive index, and fluorene-based (meth) acryloyl group-containing compounds having a bisphenoxy group are particularly preferable. Examples of such compounds include bisphenoxyethanol full orange (meth) acrylate and bisphenoxyoxyethylene full orange (meth) acrylate, and commercially available products such as BPEF-A (Osaka Gas Co., Ltd.). and so on.
また、(メタ)アクロイル基含有化合物の中でも、特に屈折率が高いという観点から、芳香環を2つもつビスフェノール骨格をもつ化合物が好ましい。このような化合物の例としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Of the (meth) acryloyl group-containing compounds, compounds having a bisphenol skeleton having two aromatic rings are preferred from the viewpoint of particularly high refractive index. Examples of such compounds include epoxy ring-opening reaction of ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid. Examples thereof include bisphenol A epoxy (meth) acrylate obtained and bisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by an epoxy ring-opening reaction of bisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid.
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業(株)製)、アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成(株)製)、NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4(以上、新中村化学(株)製)、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARAD R−551、R−712(以上、日本化薬(株)製)、BPE−4、BPE−10(以上、第一工業製薬(株)製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子(株)製)、ネオポールV779、ネオポールV779MA(日本ユピカ(株)製)等が挙げられる。 Commercially available unsaturated monomers having such a structure include Biscote # 700 and # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Aronix M-208, M-210 (above, Toagosei Co., Ltd.) ), NK ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4 (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester BP-4EA, BP-4PA, epoxy ester 3002M, 3002A 3000M, 3000A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD R-551, R-712 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), BPE-4, BPE-10 (above, Daiichi Kogyo Seiyaku ( Product), Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP-1563 , Manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.
更に、上記のビスフェノール骨格に加え、高屈折率化のために芳香環にCl、Brのハロゲン基が置換されている化合物を用いるのが好ましい。このような構造をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Further, in addition to the above bisphenol skeleton, it is preferable to use a compound in which Cl and Br halogen groups are substituted on the aromatic ring in order to increase the refractive index. Examples of unsaturated monomers having such a structure include ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylate, propylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylate, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meta ) Tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction with acrylic acid, tetrabromobisphenol F epoxy obtained by epoxy ring-opening reaction between tetrabromobisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid ( And (meth) acrylate.
BR−42M(第一工業製薬(株)製)、RDX51027(UCBラドキュア(株)製)などが挙げられる。 BR-42M (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), RDX51027 (UCB Radcure Co., Ltd.), etc. are mentioned.
また、高屈折という観点から、ブロモ置換された芳香環を1個もつ不飽和モノマ−も用いられる。このような化合物の例としては、2−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 From the viewpoint of high refraction, an unsaturated monomer having one bromo-substituted aromatic ring is also used. Examples of such compounds include 2-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 4-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,6-dibromophenoxyethyl (meth) ) Acrylate, 2,4,6-tribromophenyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate, and the like.
特に、3ブロモ置換された2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレートが高屈折率で好ましい。 In particular, 3,4,6-tribromophenyl (meth) acrylate and 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate substituted with 3 bromo are preferable because of high refractive index.
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、市販品としてはBR−30、BR−31、BR−31M、BR−32(以上、第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 Examples of commercially available unsaturated monomers having such a structure include BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and the like. It is done.
加えて、屈折率は上記の化合物よりは劣るが、そこそこ高屈折率でかつ、より低粘度で塗布性に有効な不飽和モノマ−として、芳香環をもつ単官能不飽和モノマ−が用いられる。このような不飽和モノマ−の例としては、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキシドを反応させたp−クミルフェノールの(メタ)アクリレート、等が挙げられる。 In addition, although the refractive index is inferior to that of the above compound, a monofunctional unsaturated monomer having an aromatic ring is used as an unsaturated monomer that has a reasonably high refractive index and lower viscosity and is effective for coating properties. Examples of such unsaturated monomers include phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, and 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate. , 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and p-cumylphenol reacted with ethylene oxide (Meth) acrylate, etc. are mentioned.
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスM113、M110、M101、M102、M5700、TO−1317(以上、東亞合成(株)製)、ビスコート#192、#193、#220、3BM(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルAMP−10G、AMP−20G(以上、新中村化学工業(株)製)、ライトアクリレートPO−A、P−200A、ライトエステルPO(以上、共栄社化学(株)製)、ニューフロンティアPHE、CEA、PHE−2(以上、第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 Examples of such commercially available aromatic monocyclic monocyclic monomers include Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 192, # 193, # 220, 3BM (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK ester AMP-10G, AMP-20G (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Light Ester PO (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier PHE, CEA, PHE-2 (above, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.) and the like can be mentioned.
更に、本発明においては、粘度調整や硬化膜物性、支持体との密着性などの改質のため、必要に応じて上記以外の不飽和モノマ−を用いることができる。 Furthermore, in the present invention, unsaturated monomers other than those described above can be used as necessary for modification of viscosity adjustment, physical properties of the cured film, adhesion to the support, and the like.
たとえば、液粘度低減や硬化膜の脆性改良のため(メタ)アクロイル基含有化合物を1個だけ含有する単官能モノマ−を用いることが可能である。このような単官能モノマ−としてたとえば、イソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、へキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。 For example, it is possible to use a monofunctional monomer containing only one (meth) acryloyl group-containing compound in order to reduce liquid viscosity or improve brittleness of a cured film. Examples of such monofunctional monomers include isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl (meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl ( (Meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (Meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, isopropyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, Butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate, heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate , 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate, dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate , Isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate, butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, Triethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxy ethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxy polyethylene glycol (meth) acrylate, methoxy polypropylene glycol (meth) acrylate.
また、硬化膜強度や粘度調整等のため、(メタ)アクリロイル基を分子中に2つ有する不飽和モノマーを用いることができる。このような不飽和モノマーとしては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。 Further, an unsaturated monomer having two (meth) acryloyl groups in the molecule can be used for adjusting the cured film strength and viscosity. Such unsaturated monomers include 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, alkyl diol diacrylates such as 1,9-nonanediol diacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, Examples include polyalkylene glycol diacrylates such as tetraethylene glycol diacrylate and tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane methanol diacrylate.
更に、硬化膜強度アップ等のため3官能以上の(メタ)アクリレート不飽和モノマ−を用いることが可能である。このような不飽和モノマ−としては、3価以上の多価アルコールの(メタ)アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスM305、M309、M310、M315、M320、M350、M360、M408(以上、東亞合成(株)製、ビスコート#295、#300、#360、GPT、3PA、#400(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルTMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMMT(以上、新中村化学(株)製)、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A(以上、共栄社化学(株)製、KAYARAD PET−30、GPO−303、TMPTA、TPA−320、DPHA、D−310、DPCA−20、DPCA−60(以上、日本化薬(株)製)等が挙げられる。 Furthermore, it is possible to use a trifunctional or higher functional (meth) acrylate unsaturated monomer to increase the strength of the cured film. Examples of such unsaturated monomers include (meth) acrylates of trihydric or higher polyhydric alcohols, such as trimethylolpropane litho (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, trimethylolpropane trioxyethyl (meth). Acrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, and the like, and commercially available products are Aronix M305, M309, M310, M315, M320, M350, M360, M408 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd., Biscoat # 295, # 300, # 360, GPT, 3PA, # 400 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK ester TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A-TMM-3L, A-TMMT (Above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Ak Rate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., KAYARAD PET-30, GPO-303, TMPTA, TPA-320, DPHA, D -310, DPCA-20, DPCA-60 (Nippon Kayaku Co., Ltd. product) etc. are mentioned.
加えて強靭な膜質にするため、ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ(無水)フタル酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール;ポリε−カプロラクトン変性ポリオール;ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールA、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA等のビスフェノールA骨格アルキレンオキシド変性ポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールF、プロピレンオキシド付加ビスフェノールF等のビスフェノールF骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートから製造されるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。 In addition, in order to obtain a tough film quality, a urethane (meth) acrylate oligomer may be blended. Examples of urethane (meth) acrylates include polyether polyols such as polyethylene glycol and polytetramethyl glycol; succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, tetrahydro (anhydrous) phthalic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid Obtained by reaction of a dibasic acid such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, etc. Polyester polyol, polyε-caprolactone-modified polyol; polymethylvalerolactone-modified polyol; ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, Alkyl polyols such as 1,6-hexanediol and neopentyl glycol; bisphenol A skeleton alkylene oxide modified polyols such as ethylene oxide-added bisphenol A and propylene oxide-added bisphenol A; bisphenol F skeleton alkylene such as ethylene oxide-added bisphenol F and propylene oxide-added bisphenol F Oxide-modified polyols or mixtures thereof and organic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. Manufactured from hydroxy group-containing (meth) acrylate And urethane (meth) acrylate oligomers.
これらウレタン(メタ)アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスM120、M−150、M−156、M−215、M−220、M−225、M−240、M−245、M−270(以上、東亞合成(株)製)、AIB、TBA、LA、LTA、STA、ビスコート#155、IBXA、ビスコート#158、#190、#150、#320、HEA、HPA、ビスコート#2000、#2100、DMA、ビスコート#195、#230、#260、#215、#335HP、#310HP、#310HG、#312(以上、大阪有機化学工業(株)製)、ライトアクリレートIAA、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DMP−A、THF−A、IB−XA、HOA、HOP−A、HOA−MPL、HOA−MPE、ライトアクリレート3EG−A、4EG−A、9EG−A、NP−A、1,6HX−A、DCP−A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARADTC−110S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620(以上、日本化薬(株)製)、FA−511A、512A、513A(以上、日立化成(株)製)、VP(BASF製)、ACMO、DMAA、DMAPAA(以上、興人(株)製)等が挙げられる。 As commercially available monomers of these urethane (meth) acrylates, for example, Aronix M120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270 ( As mentioned above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AIB, TBA, LA, LTA, STA, Viscoat # 155, IBXA, Viscoat # 158, # 190, # 150, # 320, HEA, HPA, Viscoat # 2000, # 2100, DMA, biscort # 195, # 230, # 260, # 215, # 335HP, # 310HP, # 310HG, # 312 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Light Acrylate IAA, LA, SA , BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-M L, HOA-MPE, light acrylate 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARADTC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), FA-511A, 512A, 513A (Hitachi Chemical Co., Ltd.), VP (BASF) ACMO, DMAA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) and the like.
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート、(b)有機ポリイソシアネート及び(c)ポリオールの反応物として得られるものであるが、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと(b)有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで(c)ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。 The urethane (meth) acrylate oligomer is obtained as a reaction product of (a) hydroxy group-containing (meth) acrylate, (b) organic polyisocyanate and (c) polyol, but (a) hydroxy group-containing (meth). A reaction product obtained by reacting an acrylate with (b) an organic polyisocyanate and then (c) a polyol is preferable.
以上の不飽和モノマ−は単独で用いてもよく、必要に応じて複数種を混合して用いてもよい。 The above unsaturated monomers may be used alone, or a plurality of them may be mixed as necessary.
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。この中でも、本発明に用いる光ラジカル重合開始剤としては沸点が高く、または昇化性が低く、加熱乾燥、減圧乾燥などの際に蒸発または昇化しにくいものが好ましい。 Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethyl Oxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples thereof include bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, and the like. Among these, as the radical photopolymerization initiator used in the present invention, those having a high boiling point or low elevating property and being difficult to evaporate or evaporate during heating drying, reduced pressure drying and the like are preferable.
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばIrgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI11850、CG24−61、Darocurl116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、LucirinLR8728、8893X(以上BASF社製)、ユベクリルP36(UCB社製)、KIP150(ランベルティ社製)等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度であり、かつ沸点が高く乾燥時に蒸発しにくいという観点からはLucirinLR8893Xが好ましい。 Commercially available radical photopolymerization initiators include, for example, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 11850, CG 24-61, Darocurl 116, 1173 (above, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.), Lucirin LR8728, 8893X (manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB), KIP150 (manufactured by Lamberti), and the like. Of these, Lucirin LR8883X is preferred from the viewpoint of being liquid and easily dissolved, having high sensitivity, and having a high boiling point and being difficult to evaporate during drying.
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、0.01〜10重量%、特に0.5〜7重量%配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。 The radical photopolymerization initiator is preferably blended in the total composition in an amount of 0.01 to 10% by weight, particularly 0.5 to 7% by weight. The upper limit of the blending amount is preferably in this range from the viewpoints of the curing characteristics of the composition, the mechanical properties and optical characteristics of the cured product, handling, and the like, and the lower limit of the blending amount is preferably in the range of preventing a decrease in the curing rate.
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。 The composition of the present invention may further contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethyl Examples include methyl aminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate and the like, and examples of commercially available products include Ubekryl P102, 103, 104, 105 (manufactured by UCB). .
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。 Further, in addition to the above components, various additives as necessary include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants. Colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, solvents, fillers, anti-aging agents, wettability improvers, mold release agents, and the like can be blended as necessary.
ここで、酸化防止剤としては、たとえばIrganox1010、1035、1076、1222(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Antigen P、3C、FR、GA−80(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばTinuvin P、234、320、326、327、328、329、213(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Seesorb102、103、110、501、202、712、704(以上、シプロ化成(株)製)等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばTinuvin 292、144、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、サノールLS770(三共(株)製)、Sumisorb TM−061(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、SH6062、6030(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KBE903、603、403(以上、信越化学工業(株)製)等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはDC−57、DC−190(以上、ダウ コーニング社製)、SH−28PA、SH−29PA、SH−30PA、SH−190(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KF351、KF352、KF353、KF354(以上、信越化学工業(株)製)、L−700、L−7002、L−7500、FK−024−90(以上、日本ユニカー(株)製)、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはFC-430、FC-171(以上 3M(株))、メガファックF-176、F-177、R-08、F780(以上 大日本インキ(株)製)等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフA208F(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 Here, examples of the antioxidant include Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Antigen P, 3C, FR, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Examples of the ultraviolet absorber include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Seesorb 102, 103, 110, 501; 202, 712, 704 (above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.) and the like. Examples of the light stabilizer include Tinuvin 292, 144, 622LD (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Sanol LS770 ( Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-0 1 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, commercially available Examples of the product include SH6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE903, 603, 403 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples include silicone additives such as dimethylsiloxane polyether and nonionic fluorosurfactants, and commercially available silicone additives include DC-57, DC-190 (above, manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH-190 (above, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KF351, KF352, KF353, KF354 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (above, Nihon Unicar Co., Ltd.) )), And commercially available non-ionic fluorosurfactants include FC-430, FC-171 (above 3M), Megafac F-176, F-177, R-08, F780 (above Dainippon Ink Co., Ltd.) and the like, and the release agent includes Prisurf A208F (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。 The organic solvent for adjusting the viscosity of the resin liquid of the present invention may be any organic solvent that can be mixed without unevenness such as precipitates, phase separation, and cloudiness when mixed with the resin liquid. For example, acetone, methyl ethyl ketone, Examples thereof include methyl isobutyl ketone, ethanol, propanol, butanol, 2-methoxyethanol, cyclohexanol, cyclohexane, cyclohexanone, toluene, and the like.
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。 When an organic solvent is added, it is necessary to dry and evaporate the organic solvent during the manufacturing process of the product. However, if a large amount of residual solvent remains in the product, the mechanical properties of crystallization deteriorate. There is also a concern that the organic solvent evaporates and diffuses during use as a product, causing bad odor and adverse health effects. For this reason, organic solvents having a high boiling point are not preferable because the amount of residual solvent increases.
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。 However, if the boiling point is too low, it will evaporate violently, resulting in rough surface, condensation water adhering to the surface of the composition due to the heat of vaporization during drying, resulting in surface defects and vapor concentration. It becomes higher and the risk of ignition etc. increases.
したがって、有機溶剤の沸点としては50°C以上、150°C以下が好ましく、70°C以上、120°C以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン(bp.79.6°C)、1−プロパノール(bp.97.2°C)などが好ましい。 Therefore, the boiling point of the organic solvent is preferably 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and more preferably 70 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. From the viewpoint of the solubility of the material and the boiling point, the organic solvent is preferably methyl ethyl ketone (bp. 79.6 ° C), 1-propanol (bp. 97.2 ° C) or the like.
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、10重量%以上、40重量%以下の範囲であり、好ましくは15重量%以上、30重量%以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。 The amount of the organic solvent added to the resin solution of the present invention depends on the type of the solvent and the viscosity of the resin solution before the addition of the solvent. , 40% by weight or less, preferably 15% by weight or more and 30% by weight or less. If the amount of the organic solvent added is too small, the effect of reducing the viscosity and the effect of increasing the coating amount are small, and the coating property is not sufficiently improved.
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。 However, if the resin liquid is diluted too much, the viscosity is too low and the liquid flows on the sheet-like body to cause unevenness, or the liquid turns around the back surface of the sheet-like body. In addition, the drying process may not be sufficient, and a large amount of organic solvent may remain in the product, resulting in deterioration of product function, volatilization during product use, generation of bad odors, and adverse health effects. Occurs.
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常10〜50000mPa・s/25°Cである。 The resin liquid of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components by a conventional method, and can be produced by heating and dissolving as necessary. The viscosity of the resin liquid thus prepared is usually 10 to 50000 mPa · s / 25 ° C.
シートWやエンボスローラ13に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
When the resin liquid is supplied to the sheet W or the
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、10〜100mPa・sが好ましく、10〜50mPa・sがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。 This tendency is particularly noticeable when the line speed is increased. Accordingly, in this case, the liquid viscosity is preferably low, preferably 10 to 100 mPa · s, and more preferably 10 to 50 mPa · s. Such a low viscosity can be adjusted by adding an appropriate amount of an organic solvent. Further, the viscosity can be adjusted by setting the temperature of the coating solution to be kept warm.
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ13で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は10〜3000mPa・sである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ13で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ13で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
On the other hand, if the viscosity after evaporation of the solvent is too low, it may be difficult to control the lens thickness when embossing with the
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性(屈折率、軟化点)を有するものであることが特に好ましい。 In the case of a prism lens sheet, the cured product obtained by curing the resin liquid of the present invention with radiation particularly preferably has the following physical properties (refractive index, softening point).
屈折率としては、硬化物の25°Cにおいて1.58以上が好ましく、1.60以上がより好ましい。硬化物の25°Cにおける屈折率が1.58未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。 The refractive index is preferably 1.58 or more, more preferably 1.60 or more at 25 ° C. of the cured product. This is because when the refractive index at 25 ° C. of the cured product is less than 1.58, when a prism lens sheet is formed using this composition, sufficient front luminance may not be ensured.
軟化点としては、40°C以上が好ましく、50°C以上がより好ましい。軟化点が40°C未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。 As a softening point, 40 degreeC or more is preferable and 50 degreeC or more is more preferable. This is because if the softening point is less than 40 ° C., the heat resistance may not be sufficient.
次に、図1に戻って、エンボスシートの製造装置10の作用について説明する。
Next, returning to FIG. 1, the operation of the embossed
エンボスシートの製造装置10に使用される樹脂液として、放射線硬化性組成物が使用され、この放射線硬化性組成物は下記の(A)、(B)、(C)及び(D)を含む。
A radiation curable composition is used as the resin liquid used in the embossed
(A)下記の化学式1によって表される構造をもつ化合物 (A) Compound having a structure represented by the following chemical formula 1
(B)1以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤
この樹脂液によれば、フルオレン骨格を含有する(メタ)アクリレートを用いることにより、硬化後の放射線硬化性組成物の膜を高屈折率化できる。したがって、塗布性がよく、高屈折率となる放射線硬化性組成物が得られる。
(B) An acrylate or methacrylate compound having one or more aromatic rings (C) A compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than (A) and (B) (D) Photopolymerization initiation Agent According to this resin liquid, the film of the radiation-curable composition after curing can be increased in refractive index by using (meth) acrylate containing a fluorene skeleton. Accordingly, a radiation curable composition having good coating properties and a high refractive index can be obtained.
また、前記(B)が、下記の化学式2、化学式3及び化学式4のうちの1以上からなる化合物であることが好ましい。なお、化合物(B)として、同じ式で異なる化合物が同時に含まれていてもよい。
Moreover, it is preferable that the (B) is a compound composed of one or more of the following
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤
また、前記(D)が、2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルフォスフィンオキシド、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキシド、又はビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシドであることが好ましい。
(C) Compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than (A) and (B) (D) Photopolymerization initiator In addition, (D) is 2, 4, 6- Trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, or bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide is preferable.
エンボスシートの製造装置10において、シート状体供給手段11より、一定速度でシートWを送り出す。シートWは塗布手段12へ送り込まれ、シートWの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段19によりシートWに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。次いで、シートWはエンボスローラ13とニップローラ14からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートWを、エンボスローラ13の9時の位置において、回転するエンボスローラ13とニップローラ14とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートWを、回転するエンボスローラ13に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ13表面の凹凸を転写する。
In the embossed
次いで、シートWがエンボスローラ13に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段15によりシートWを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ13の3時の位置において、シートWを剥離ローラ16に巻き掛けることによりエンボスローラ13から剥離する。
Next, in a state where the sheet W is wound around the
なお、図1には示していないが、シートWを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。 In addition, although not shown in FIG. 1, in order to further accelerate hardening after peeling the sheet | seat W, radiation irradiation can also be performed again.
剥離されたシートWは、シート巻き取り手段18に搬送され、保護フィルム供給手段17より供給される保護フィルムHがシートWの表面に供給され、両フィルムが重なった状態でシート巻き取り手段18の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。図4は、シートW(エンボスシート)の概要を示す断面図である。 The peeled sheet W is conveyed to the sheet take-up means 18 and the protective film H supplied from the protective film supply means 17 is supplied to the surface of the sheet W. It is wound up and stored by a winding roll. FIG. 4 is a cross-sectional view showing an outline of the sheet W (embossed sheet).
このように、シートW表面に樹脂層が厚さむらなく形成され、更に、エンボスローラ13による型押しも安定・均一になされる。これにより、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で製造することができる。
In this way, the resin layer is formed on the surface of the sheet W without unevenness, and further, the embossing by the
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法及び装置の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。 As mentioned above, although the example of embodiment of the manufacturing method and apparatus of the uneven | corrugated sheet | seat which concerns on this invention was demonstrated, this invention is not limited to the example of the said embodiment, Various aspects can be taken.
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ13を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン(エンボス形状)が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
For example, in the example of the present embodiment, an aspect using the roller-shaped
また、本実施形態の例では、ローラによる連続成形が例示されているが、これに代えてスタンパ(凹凸型)によるプレス成形を採用することもできる。この場合、たとえば、板状のスタンパ(凹凸型)に放射線硬化性組成物が塗布されたシート状体を密着させ、更にシート状体の裏面に透明板(たとえば、強化ガラス)を密着させ、押圧しながら放射線を照射する。このような態様であっても、本実施形態と同様に作用し、同様の効果が得られる。 Further, in the example of the present embodiment, continuous molding using a roller is illustrated, but press molding using a stamper (concave / convex mold) may be employed instead. In this case, for example, a sheet-like body coated with a radiation curable composition is brought into close contact with a plate-like stamper (concave / convex mold), and a transparent plate (for example, tempered glass) is brought into intimate contact with the back surface of the sheet-like body. While irradiating with radiation. Even if it is such an aspect, it acts similarly to this embodiment and the same effect is acquired.
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[樹脂液の調整]
図2の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、50°Cに加熱して攪拌溶解し、8種類の樹脂液(実施例1〜5及び比較例1〜3)を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
BPEF−A:式(1)の化合物。R1=H、m、n=1、大阪ガス(株)製、
E3000M:エポキシエステル3000M、共栄社化学(株)製、ビスフェノ−ルAジグリシジルエーテルメタクリル酸付加物(粘度:10万mPa・s/25°C)
RDX51027:UCB−ラドキュア製、テトラブロモビスフェノ−ルA骨格含有のエポキシアクリレ−ト
BPE200:NKエステルBPE−200、新中村化学(株)製、エチレンオキシド付加ビスフェノールAメタクリル酸エステル、(粘度:590mPa・s/25°C)
M110 :アロニクスM−110、東亞合成(株)製、パラクミルフェノ−ルエチレンオキシド変性アクリレ−ト(粘度:130mPa・s/25°C)
LR8893X:Lucirin LR8893X、BASF(株)製の光ラジカル発生剤、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
DA1173:ダロキュア1173、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニル−プロパン−1−オン
MEK :メチルエチルケトン
[エンボスシートの製造]
図1に示される構成のエンボスシートの製造装置10を使用してエンボスシートの製造を行った。
[Adjustment of resin liquid]
The compounds shown in the table of FIG. 2 were mixed at the stated weight ratio, heated to 50 ° C. and dissolved with stirring to obtain 8 types of resin liquids (Examples 1 to 5 and Comparative Examples 1 to 3). In addition, the name and content of each compound are as follows.
BPEF-A: compound of formula (1). R1 = H, m, n = 1, manufactured by Osaka Gas Co., Ltd.
E3000M: Epoxy ester 3000M, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd., bisphenol A diglycidyl ether methacrylic acid adduct (viscosity: 100,000 mPa · s / 25 ° C)
RDX51027: manufactured by UCB-Radcure, tetrabromobisphenol A skeleton-containing epoxy acrylate BPE200: NK ester BPE-200, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd., ethylene oxide-added bisphenol A methacrylate, (viscosity: 590 mPa・ S / 25 ° C)
M110: Allonics M-110, manufactured by Toagosei Co., Ltd., paracumylphenol ethylene oxide modified acrylate (viscosity: 130 mPa · s / 25 ° C.)
LR8883X: Lucirin LR8883X, photo radical generator manufactured by BASF Corporation, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenyl osphine oxide DA1173: Darocur 1173, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd., 2-hydroxy- 2-methyl-1-phenyl-propan-1-one MEK: methyl ethyl ketone [production of embossed sheet]
The embossed sheet was manufactured using the embossed
シートWとして、幅500mm、厚さ100μmの透明なPET(ポリエチレンテレフタレート)のフィルムを使用した。 As the sheet W, a transparent PET (polyethylene terephthalate) film having a width of 500 mm and a thickness of 100 μm was used.
エンボスローラ13として、長さ(シートWの幅方向)が700mm、直径が300mmのS45C製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略500mm幅の全周に、ダイヤモンドバイト(シングルポイント)を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが50μmの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が90度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない90度の三角形状である。すなわち、溝幅は50μmであり、溝深さは約25μmである。
As the
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ13により、シートWに断面が三角形のレンチキュラーレンズ(プリズムシート)が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ13の概略断面図を図3に示す。
Since the groove is endless without a seam in the circumferential direction of the roller, the
塗布手段12としてダイコータを使用した。塗布手段12の塗布ヘッド12Cとして、エクストルージョンタイプのものを使用した。
A die coater was used as the coating means 12. As the
塗布液F(樹脂液)として、既述の図2の表に記載の各液を使用した。塗布液F(樹脂液)の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が20μmになるように、塗布ヘッド12Cへの塗布液Fの供給量を液供給装置(送液ポンプ)12Bにより制御した。
As the coating solution F (resin solution), each solution described in the table of FIG. 2 described above was used. The thickness of the coating solution F (resin solution) in the wet state is such that the supply amount of the coating solution F to the
乾燥手段19として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は100°Cに設定した。 As the drying means 19, a hot air circulation type apparatus was used. The temperature of the hot air was set to 100 ° C.
ニップローラ14として、直径が200mmで、表面にゴム硬度が90のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ13とニップローラ14とでシートWを押圧するニップ圧(実効のニップ圧)は、0.5Paとした。
As the
樹脂硬化手段15として、メタルハライドランプを使用し、1000mJ/cm2のエネルギーで照射を行った。 A metal halide lamp was used as the resin curing means 15 and irradiation was performed with an energy of 1000 mJ / cm 2 .
以上により、既述の図2の表に示された各実施例及び比較例に対応する、凹凸パターンが形成されたシートWを得た。 As described above, a sheet W on which a concavo-convex pattern was formed corresponding to each of the examples and comparative examples shown in the table of FIG.
[塗布性の評価]
塗布手段12にてシ−トW上に樹脂液が供給された後の塗布面状を目視評価することにより判断した。スジやムラ等の欠陥なく塗布できている場合を○、スジやムラ等の欠陥が発生している場合を×とした。
[Evaluation of applicability]
The coating surface after the resin solution was supplied onto the sheet W by the coating means 12 was judged by visual evaluation. The case where the coating could be performed without defects such as streaks and unevenness was rated as “◯”, and the case where defects such as streaks and unevenness had occurred was evaluated as “poor”.
[硬化性の評価]
前述のエンボスシ-ト作成装置にて作成されたエンボスシ−トにつき、エンボスシ−トのUV硬化樹脂表面を軽く触れることにより硬化性を判断した。表面が十分硬化されており変形、傷等が入らないものを硬化性を○とし、柔らかく、変形、傷等が簡単に入るものや、表面が液状のものを×とした。
[Evaluation of curability]
About the embossed sheet produced with the above-mentioned embossed sheet production apparatus, the curability was judged by lightly touching the UV curable resin surface of the embossed sheet. The case where the surface was sufficiently cured and did not undergo deformation, scratches, etc. was rated as ○.
[屈折率の測定]
スピナーを用いてガラス板上に液状硬化性組成物を塗布し、100°Cに設定したオーブンにて1分間乾燥させた。この膜に、窒素雰囲気の下で、1000mJ/cm2の強度の紫外線を照射して硬化膜を得た。アッベ屈折計を用いて、この硬化膜の25°Cにおける屈折率を測定した。
[Measurement of refractive index]
The liquid curable composition was applied onto a glass plate using a spinner and dried in an oven set at 100 ° C. for 1 minute. This film was irradiated with ultraviolet rays having an intensity of 1000 mJ / cm 2 under a nitrogen atmosphere to obtain a cured film. The refractive index of this cured film at 25 ° C. was measured using an Abbe refractometer.
以下、各樹脂液について、上記の製造方法にてエンボスシートを作製した結果を図2の表に纏めた。また、対応する、各樹脂液について、上記の評価方法に基づき屈折率を測定した。この結果も図2の表に纏めた。 Hereinafter, for each resin liquid, the results of producing an embossed sheet by the above production method are summarized in the table of FIG. Moreover, the refractive index was measured about each resin liquid corresponding based on said evaluation method. The results are also summarized in the table of FIG.
図2の表のうち、実施例1は、既述の化学式(1)及び(4)の化合物を使用した例であり、実施例2は、既述の化学式(1)、(3)及び(4)の化合物を使用した例であり、実施例3は、既述の化学式(1)及び(4)の化合物を使用した例であり、実施例4は、既述の化学式(1)、(2)及び(4)の化合物を使用した例であり、実施例5は、既述の化学式(1)、(2)及び(4)の化合物を使用した例であり、塗布性及び硬化性の評価は、いずれも良好であり、屈折率も満足できる値が得られている。 In the table of FIG. 2, Example 1 is an example using the compounds of the above-described chemical formulas (1) and (4), and Example 2 has the chemical formulas (1), (3) and ( Example 4 is an example using the compound of Example 4, Example 3 is an example using the compound of Formulas (1) and (4) described above, and Example 4 is an example using Formulas (1), ( Example 2 uses the compounds of 2) and (4), and Example 5 is an example of using the compounds of the chemical formulas (1), (2) and (4) described above. All the evaluations are good, and values that satisfy the refractive index are obtained.
図2の表のうち、比較例1は、実施例1の組成において式(1)の化合物を使用しなかったものである。その結果、塗布性及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、屈折率が低くNGとなった。 In the table of FIG. 2, Comparative Example 1 is one in which the compound of formula (1) was not used in the composition of Example 1. As a result, the applicability and curability were both good, but the refractive index was low and the result was NG.
図2の表のうち、比較例2は、実施例1の組成より溶剤(MEK)を除いた場合(他の組成比は同じ)である。その結果、屈折率及び硬化性の評価はいずれも良好であるものの、粘度が高く塗布性が劣化しNGとなった。 In the table of FIG. 2, Comparative Example 2 is a case where the solvent (MEK) is removed from the composition of Example 1 (other composition ratios are the same). As a result, although both the refractive index and the curability were evaluated satisfactorily, the viscosity was high and the applicability was deteriorated to be NG.
図2の表のうち、比較例3は、実施例1の開始剤LR8893XをDA1173に代えたものである。その結果、屈折率及び塗布性の評価はいずれも良好であるものの、加熱乾燥中に揮発して硬化性が劣化しNGとなった。 In the table of FIG. 2, Comparative Example 3 is obtained by replacing the initiator LR8883X of Example 1 with DA1173. As a result, the refractive index and the applicability were both good, but they volatilized during the heat drying and the curability deteriorated to become NG.
以上の結果より、本発明の効果が確認できた。 From the above results, the effect of the present invention was confirmed.
10…エンボスシートの製造装置、11…シート供給手段、12…塗布手段、13…エンボスローラ、14…ニップローラ、15…樹脂硬化手段、16…剥離ローラ、17…保護フィルム供給手段、18…シート巻き取り手段、H…保護フィルム、W…シート
DESCRIPTION OF
Claims (6)
下記の(A)、(B)、(C)及び(D)を含むことを特徴とする放射線硬化性組成物。
(A)下記の化学式1によって表される構造をもつ化合物
(B)1以上の芳香環をもつアクリレート又はメタアクリレート化合物
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤 It is used in a method for producing a concavo-convex sheet in which a concavo-convex mold is closely attached to a sheet-like body coated with a liquid radiation curable composition on the surface, and the concavo-convex shape of the concavo-convex surface is transferred to the surface of the sheet-form body Said radiation curable composition comprising:
A radiation curable composition comprising the following (A), (B), (C) and (D).
(A) Compound having a structure represented by the following chemical formula 1
(B) An acrylate or methacrylate compound having one or more aromatic rings (C) A compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than (A) and (B) (D) Photopolymerization initiation Agent
(C)前記(A)及び(B)以外の分子内に1以上の重合性エチレン性不飽和結合をもつ化合物
(D)光重合開始剤 The radiation curable composition according to claim 1, wherein (B) is a compound comprising one or more of the following chemical formula 2, chemical formula 3, and chemical formula 4.
(C) Compound having one or more polymerizable ethylenically unsaturated bonds in the molecule other than (A) and (B) (D) Photopolymerization initiator
The radiation curable composition according to any one of claims 1 to 5, wherein the viscosity of the radiation curable composition at the time of application is 100 mPa · s or less.
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
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Country Status (1)
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