JP2007190859A - Manufacturing method for sheet having uneven surface - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、凹凸状シートの製造方法に係り、特に、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された反射防止効果等を有するエンボスシート等のシート状物を、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法に関する。 The present invention relates to a method for producing a concavo-convex sheet, and in particular, a sheet-like material such as an embossed sheet having an antireflection effect in which a regular fine concavo-convex pattern is formed on the surface, with high quality and high quality without defects. The present invention relates to a method for producing a concavo-convex sheet suitable for production with high line speed.
近年、液晶等の電子ディスプレイの用途に、反射防止効果を有するエンボスシートが採用されている。また、レンチキュラーレンズやフライアイレンズ等の平板状レンズ、光拡散シート、輝度向上シート、光導波路シート、プリズムシート等のエンボスシートが使用されている。このようなエンボスシートとしては、従来より、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成されたものが公知である。このような規則的な微細凹凸パターンを形成する手法としては、従来より各種の方法が知られている(特許文献1〜7参照)。
In recent years, an embossed sheet having an antireflection effect has been adopted for use in electronic displays such as liquid crystals. In addition, flat lenses such as lenticular lenses and fly-eye lenses, embossed sheets such as light diffusion sheets, brightness enhancement sheets, optical waveguide sheets, and prism sheets are used. As such an embossed sheet, a sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface has been conventionally known. As a method for forming such a regular fine uneven pattern, various methods are conventionally known (see
たとえば、図6に示されるような構成の装置において、表面に規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1の表面に塗布手段2で樹脂を塗布し、連続走行されるシート3をスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の樹脂をシート3に接触させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている(特許文献1〜3参照)。
For example, in an apparatus configured as shown in FIG. 6, a resin is applied to the surface of the
また、図7に示されるような構成の装置において、連続走行されるシート3の表面に予め樹脂を塗布しておき、このシート3を、規則的な凹凸パターンが形成されているスタンパーローラ1とニップローラ4とで挟み、スタンパーローラ1の凹凸パターンを樹脂に転写させた状態で、電離放射線を樹脂に照射して硬化させ、その後シート3をリリースローラ5に巻き掛けてスタンパーローラ1より剥離させる内容が開示されている(特許文献3、4参照)。
Further, in the apparatus configured as shown in FIG. 7, a resin is applied in advance to the surface of the continuously running
このプロセスにおいて、重要なポイントの1つは、シート3上の硬化した樹脂が、パターン形成・剥離後も、安定して、高精度な形状を維持することである。すなわち、剥離された時点では、高精度なパターンが形成できていても、環境の影響等によって、パターンが変形したりし、更には、パターニングされたシート3の表面が、ローラ等の固体に接触することにより、パターン形状が変化してしまう懸念があるからである。
In this process, one of the important points is that the cured resin on the
したがって、パターン形成後に、微細形状の凹凸パターンの変化を全くのゼロにはできないものの、変形があったとしても一定限度以下に保つこと、更にはできるだけ変形を抑えることがエンボスシートを安定して製造するには望ましい。
しかしながら、このようなエンボスシートに関する従来の提案においては、硬化形成したパターン面をローラ部材又は固体と接触するまで維持させる手段について言及しているものはない。強いて挙げれば、硬化後に、加熱したり、再度放射線を照射して硬化を促進させるような手段が見られるのみである。 However, in the conventional proposal regarding such an embossed sheet, there is no mention of means for maintaining the cured pattern surface until it comes into contact with the roller member or the solid. For example, only a means for heating after curing or irradiating radiation again to accelerate curing can be seen.
また、このようなエンボスシートの製造工程において放射線硬化樹脂の反応率を規定する提案も見られる(特許文献5、6参照)。このうち特許文献5は、樹脂の反応率が20〜70%になるように前照射してから凹凸パターン版を圧着させ、その後樹脂の反応率が80%以上になるように後照射する方法を採用している。特許文献6は、レンズシートの形成において、硬化樹脂の二重結合残存率が1〜25%(反応率が75〜99%)になるように規定している。
Moreover, the proposal which prescribes | regulates the reaction rate of a radiation curable resin in the manufacturing process of such an embossed sheet is also seen (refer
ところが、これらの提案は、パターニングされたシート3の表面が、ローラ等の固体に接触する際の反応率や残存率を規定しているものではなく、これらのみで上記の課題に対処できる訳ではない。
However, these proposals do not stipulate the reaction rate or the remaining rate when the surface of the patterned
また、関連技術として、特許文献7のように、プラズマディスプレイ等の隔壁形成の際に、温湿度を所定範囲に管理することによりパターン形状の変化を防止する提案があるものの、この方法のみで上記の課題に対処できる訳ではない。 In addition, as a related art, there is a proposal to prevent a change in pattern shape by managing the temperature and humidity within a predetermined range when forming a partition such as a plasma display as in Patent Document 7, but only with this method, The problem cannot be dealt with.
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造するのに好適な凹凸状シートの製造方法を提供することを目的とする。 The present invention has been made in view of such circumstances, and is used to manufacture a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface with high quality and high productivity without defects. An object of the present invention is to provide a method for producing a concavo-convex sheet suitable for the above.
本発明は、前記目的を達成するために、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写し、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離し、前記樹脂液層の反応率が70%以上になった状態で前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させることを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。 In order to achieve the above object, the present invention provides a method for producing a concavo-convex sheet in which the concavo-convex surface of the concavo-convex roller is transferred and formed on the surface of the sheet-like body. A belt-like flexible sheet-like body in which a liquid layer is formed is continuously run, the sheet-like body is wound around the rotating uneven roller, and the unevenness on the surface of the uneven roller is transferred to the resin liquid layer, The resin liquid layer is irradiated with radiation in a state where the sheet-like body is wound around the uneven roller, the sheet-like body is peeled off from the uneven roller, and the reaction rate of the resin liquid layer is 70% or more. Provided is a method for producing a concavo-convex sheet, wherein the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with a roller member or a support member.
本発明によれば、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、放射線硬化樹脂層に凹凸を転写し、その状態で放射線を照射した後に凹凸ローラより剥離し、樹脂液層の反応率が70%以上になった状態でシート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させる。 According to the present invention, in the method for producing a concavo-convex sheet in which the concavo-convex surface of the concavo-convex roller is transferred and formed on the surface of the sheet-like body, the concavo-convex roller is transferred to the radiation-cured resin layer and irradiated with radiation in that state. The concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with the roller member or the support member in a state where the separation is further performed and the reaction rate of the resin liquid layer is 70% or more.
すなわち、本発明者達は、シート状体を凹凸ローラより剥離し、下流でシート状体表面の凹凸パターンをローラ部材(ガイドローラ等)又は支持部材(ガイドバー等)と接触させる時点における樹脂液層の反応率に着目し、樹脂の反応率が70%以上であればシート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させても問題ないことを見出した。 That is, the present inventors removed the sheet-like body from the concavo-convex roller, and the resin liquid at the time when the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with the roller member (guide roller etc.) or the support member (guide bar etc.) downstream. Paying attention to the reaction rate of the layer, it was found that if the reaction rate of the resin is 70% or more, there is no problem even if the uneven pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with the roller member or the support member.
この理由は、当然、凹凸パターン面がローラ部材又は支持部材に接触すれば、その接触圧力のために凹凸が潰れやすくなるからである。そして、離型後に一定の時間を置くことにより、硬化(反応)が進み、凹凸パターンが変形しにくくなるからである。 This is because, as a matter of course, if the concavo-convex pattern surface comes into contact with the roller member or the support member, the concavo-convex portion is likely to be crushed due to the contact pressure. Then, by setting a certain time after mold release, curing (reaction) proceeds and the uneven pattern is difficult to deform.
したがって、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。 Therefore, according to the present invention, a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface can be manufactured with high quality without defects and with high line speed and high productivity.
なお、微細凹凸パターン面がローラ部材又は支持部材に接触するときに問題のない樹脂の反応率としては、75%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。 In addition, as a resin reaction rate which does not have a problem when a fine uneven | corrugated pattern surface contacts a roller member or a supporting member, 75% or more is more preferable, and 80% or more is still more preferable.
また、本明細書において「凹凸ローラ」とは、円柱状のローラの表面に凹凸パターン(エンボス形状用が形成されたエンボスローラのみならず、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン(エンボス形状)が形成されたものをも含むものとする。このようなベルト状体であっても、円柱状のエンボスローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。 Further, in this specification, the “concave / convex roller” refers to a concavo-convex pattern (embossed pattern on the surface of a belt-shaped body such as an endless belt as well as an embossed pattern formed on a cylindrical roller surface. In this case, even such a belt-like body acts in the same manner as a cylindrical embossing roller, and the same effect can be obtained.
また、本発明は、シート状体の表面に、凹凸ローラ表面の凹凸を転写形成する凹凸状シートの製造方法において、放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写し、前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離し10秒以上経過した後前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させることを特徴とする凹凸状シートの製造方法を提供する。 Further, the present invention provides a method for producing a concavo-convex sheet in which the concavo-convex surface of the concavo-convex roller is transferred and formed on the surface of the sheet-like body, and a resin liquid layer is formed on the surface by applying a radiation curable resin liquid. The belt-like flexible sheet-like body is continuously run, the sheet-like body is wound around the rotating concave-convex roller, the irregularities on the concave-convex roller surface are transferred to the resin liquid layer, and the sheet-like body is The resin liquid layer is irradiated with radiation while being wound around a concavo-convex roller, the sheet-like body is peeled off from the concavo-convex roller, and after 10 seconds or more has passed, the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is supported by a roller member or support. Provided is a method for producing a concavo-convex sheet characterized by contacting with a member.
本発明によれば、シート状体を凹凸ローラより剥離し10秒以上経過した後シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させる。このように、所定時間が経過すれば、硬化(反応)が進み、凹凸パターンが変形しにくくなるからである。この所定時間としては、15秒以上がより好ましく、20秒以上が更に好ましい。 According to the present invention, the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with the roller member or the support member after 10 seconds or more have passed after the sheet-like body is peeled off from the concavo-convex roller. Thus, when the predetermined time elapses, curing (reaction) proceeds and the uneven pattern is difficult to deform. The predetermined time is more preferably 15 seconds or more, and further preferably 20 seconds or more.
本発明において、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離した後、前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させるまでの間、前記シート状体を所定の温湿度に制御された空間に置くことが好ましい。このように、転写形成したパターンは、温度や湿度により、乾燥や吸湿がなされるために、僅かながら変形が進む。これを抑制することは困難であるが、一定の環境下に管理すれば、同じ変形量に管理できるので、製品を一定の品質に維持できる。 In the present invention, after the sheet-like body is peeled off from the uneven roller, the sheet-like body is controlled to a predetermined temperature and humidity until the uneven pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with a roller member or a support member. It is preferable to place it in an open space. As described above, the transferred pattern is dried and absorbs moisture depending on the temperature and humidity. Although it is difficult to suppress this, if it is managed under a certain environment, it can be managed with the same amount of deformation, so that the product can be maintained at a certain quality.
また、本発明において、前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離した後、前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させるまでの間、前記シート状体の表面に放射線を照射する、又は、前記シート状体を加熱することが好ましい。このように、剥離後にシート状体の表面に放射線を照射するか、シート状体を加熱するか(ポストキュア)すれば、樹脂の硬化を促進させることができ好ましい。 Moreover, in this invention, after peeling the said sheet-like body from the said uneven | corrugated roller, until the uneven | corrugated pattern of the said sheet-like body surface is made to contact with a roller member or a support member, a radiation is irradiated to the surface of the said sheet-like body It is preferable to heat the sheet-like body. Thus, if the surface of a sheet-like body is irradiated with radiation or the sheet-like body is heated (post-cure) after peeling, curing of the resin can be promoted, which is preferable.
ただし、離型後に上記のポストキュアにより硬化を促進させたとしても、形状を安定化させるためにも、ある一定の時間を置いてから、凹凸パターン面をローラ部材又は支持部材に接触することが好ましい。 However, even if the curing is promoted by the post-cure after release, the concavo-convex pattern surface may be brought into contact with the roller member or the support member after a certain period of time in order to stabilize the shape. preferable.
また、本発明において、前記放射線硬化樹脂が紫外線硬化樹脂であり、前記放射線が紫外線であることが好ましい。放射線硬化樹脂として紫外線硬化樹脂は、種類も多く、使用実績が豊富にあるので、本発明にふさわしい。 In the present invention, it is preferable that the radiation curable resin is an ultraviolet curable resin and the radiation is an ultraviolet ray. As the radiation curable resin, the ultraviolet curable resin is suitable for the present invention because there are many kinds and the use results are abundant.
また、本発明において、前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させた後に、前記シート状体の表面に保護シートをラミネートしロール状に巻き取ることが好ましい。シート状体がロール状に巻き取られる場合、大きな圧力が凹凸パターンに加えられることとなり、凹凸パターンの変形が懸念されるが、このように事前に保護シートをラミネートすることにより、凹凸パターンの変形は抑制できる。 Moreover, in this invention, after making the uneven | corrugated pattern of the said sheet-like body surface contact with a roller member or a supporting member, it is preferable to laminate | stack a protective sheet on the surface of the said sheet-like body, and to wind up in roll shape. When the sheet-like body is wound up in a roll shape, a large pressure is applied to the uneven pattern, and there is a concern about the deformation of the uneven pattern. By thus laminating the protective sheet in advance, the uneven pattern is deformed. Can be suppressed.
また、本発明において、前記シート状体に転写形成された凹凸パターンのピッチが100μm以下であることが好ましい。また、本発明において、前記凹凸状シートが光学フイルムとして使用されることが好ましい。 In the present invention, it is preferable that the pitch of the concavo-convex pattern transferred and formed on the sheet-like body is 100 μm or less. In the present invention, the uneven sheet is preferably used as an optical film.
以上説明したように、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。 As described above, according to the present invention, a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface can be produced with high quality and high productivity without defects and with high line speed.
以下、添付図面に基づいて、本発明の実施態様について説明する。図1は、本発明が適用されるエンボスシートの製造装置10の構成を示す構成図である。 Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 is a configuration diagram showing a configuration of an embossed sheet manufacturing apparatus 10 to which the present invention is applied.
このエンボスシートの製造装置10は、シート状体供給手段11と、塗布手段12と、乾燥手段19と、凹凸ローラであるエンボスローラ13と、ニップローラ14と、樹脂硬化手段15と、剥離ローラ16と、欠陥検査手段21と、保護フィルム供給手段17と、シート巻き取り手段18等とより構成される。そして、シート状体であるシートWが、上流側(シート状体供給手段11)より下流側(シート巻き取り手段18)まで、ガイドローラG、G…に支持されて搬送されるようになっている。
The embossed sheet manufacturing apparatus 10 includes a sheet-like
シート状体供給手段であるシート供給手段11は、シート状体であるシートWを送り出すもので、シートWが巻回された送り出しロール等より構成される。 The sheet supply means 11 which is a sheet-like body supply means is for sending out the sheet W which is a sheet-like body, and includes a delivery roll on which the sheet W is wound.
シート供給手段11と塗布手段12との間には、第1のサクションドラム24が設けられている。この第1のサクションドラム24は、後述する第2のサクションドラム26と同様に、シートWを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートWを連続走行させる手段である。シートWの吸引保持は、ドラムの外周面に形成された多数の孔からの吸引による構成でもよく、ドラムの外周面に形成された複数の溝により保持する構成(グルーブドサクションドラム)でもよい。
A
第1のサクションドラム24の下流には、除塵機28が設けられている。この除塵機28により、シートWの表面に付着した塵を取り除くことができるようになっている。除塵機28の形式としては、静電除塵された乾燥エアを吹き付けるタイプのものや、図示のように、粘着ローラにシートWを巻き掛けるタイプのもの等、公知の各種のタイプが採用できる。
A
塗布手段12は、シートWの表面に放射線硬化樹脂液を塗布する装置であり、放射線硬化樹脂液を供給する液供給源と、液供給装置(送液ポンプ)と(以上、図示略)、塗布ヘッド12Cと、塗布の際にシートWを巻き掛けて支持する支持ローラ12Dと、液供給源より塗布ヘッド12Cまで放射線硬化樹脂液を供給するための図示しない配管等より構成される。なお、塗布ヘッド12Cとしては、ダイコータ(エクストルージョン方式のコータ)の塗布ヘッドが採用されている。
The application means 12 is an apparatus that applies a radiation curable resin liquid to the surface of the sheet W, a liquid supply source that supplies the radiation curable resin liquid, a liquid supply apparatus (liquid feed pump) (not shown), an application The
乾燥手段19は、たとえば図1に示されるトンネル状の乾燥装置のように、シートWに塗布された塗布液を均一に乾燥させることができるものであれば、公知の各種方式のものが採用できる。たとえば、ヒータによる輻射加熱方式のもの、熱風循環方式のもの、遠赤外線方式のもの、真空方式のもの等が採用できる。 As the drying means 19, various known systems can be adopted as long as the coating liquid applied to the sheet W can be uniformly dried, such as a tunnel-shaped drying apparatus shown in FIG. 1. . For example, a radiant heating method using a heater, a hot air circulation method, a far infrared method, a vacuum method, or the like can be employed.
図1に示される乾燥手段19は、4ブロックのトンネル状装置に分割されており、上流側より、第1ブロック19A、第2ブロック19B、第3ブロック19C、第4ブロック19Dの順で配されており、個別に温度設定ができるようになっている。
The drying means 19 shown in FIG. 1 is divided into four blocks of a tunnel-like device, and is arranged in the order of the
エンボスローラ13としては、シートWの表面に、ローラ表面の凹凸を転写形成できる、凹凸パターンの精度、機械的強度、真円度等を有することが求められる。このようなエンボスローラ13としては、金属製のローラが好ましい。
The
エンボスローラ13の外周面には、規則的な微細凹凸パターンが形成されている。このような規則的な微細凹凸パターンは、製品としてのエンボスシート表面の微細凹凸パターンを反転した形状であることが求められる。エンボスローラ13の概略断面図を図2に示す。
A regular fine uneven pattern is formed on the outer peripheral surface of the
製品としてのエンボスシートとしては、微細凹凸パターンが二次元配列された、たとえばレンチキュラーレンズや、微細凹凸パターンが三次元配列された、たとえばフライアイレンズ、円錐、角錐等の微細な錐体をXY方向に敷きつめた平板レンズ等が対象となり、エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンは、これに対応させる。
As an embossed sheet as a product, for example, a lenticular lens in which fine concavo-convex patterns are arranged two-dimensionally, or a fine cone such as a fly-eye lens, cone, or pyramid in which fine concavo-convex patterns are arranged three-dimensionally in the XY direction A flat lens or the like laid on the surface is an object, and a regular fine uneven pattern on the outer peripheral surface of the
エンボスローラ13の外周面の規則的な微細凹凸パターンの形成方法としては、エンボスローラ13の表面をダイヤモンドバイト(シングルポイント)で切削加工する方法、エンボスローラ13の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工等で直接凹凸を形成する方法が採用でき、また、薄い金属製の板状体の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法が採用できる。
As a method for forming a regular fine concavo-convex pattern on the outer peripheral surface of the
その他、金属より加工しやすい素材の表面にフォトエッチング、電子線描画、レーザー加工、光造形法等で凹凸を形成し、この形状の反転型を電鋳等により形成して薄い金属製の板状体を作成し、この板状体をローラの周囲に巻き付け固定し、エンボスローラ13とする方法も採用できる。特に反転型を電鋳等により形成する場合には、1つの原盤(マザー)より複数の同一形状の板状体が得られるという特長がある。
In addition, uneven surfaces are formed on the surface of materials that are easier to process than metal by photo-etching, electron beam drawing, laser processing, stereolithography, etc., and a reversal of this shape is formed by electroforming etc. to make a thin metal plate It is also possible to adopt a method in which an
エンボスローラ13の表面には、離型処理を施すことが好ましい。このように、エンボスローラ13の表面に離型処理を施すことにより、微細凹凸パターンの形状が良好に維持できる。離型処理としては、公知の各種方法、たとえば、フッ素樹脂によるコーティング処理が採用できる。なお、エンボスローラ13には駆動手段が設けられていることが好ましい。エンボスローラ13は、図示の矢印ように、時計方向(CW)に回転する。
It is preferable to perform a mold release process on the surface of the
ニップローラ14は、エンボスローラ13と対になってシートWを押圧しながらローラ成形加工するもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。ニップローラ14表面の縦弾性係数(ヤング率)は、小さ過ぎるとローラ成形加工が不十分となり、大き過ぎるとゴミ等の異物の巻き込みに敏感に反応し欠点を生じやすいことより、適宜の値とすることが好ましい。なお、ニップローラ14には駆動手段が設けられていることが好ましい。ニップローラ14は、図示の矢印ように、反時計方向(CCW)に回転する。
The nip roller 14 forms a roller while pressing the sheet W while being paired with the
エンボスローラ13とニップローラ14との間に所定の押圧力を付与するべく、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに加圧手段を設けることが好ましい。同様に、エンボスローラ13とニップローラ14との隙間(クリアランス)を正確に制御できるような微調整手段を、エンボスローラ13とニップローラ14のいずれかに設けることが好ましい。
In order to apply a predetermined pressing force between the embossing
樹脂硬化手段15は、ニップローラ14の下流側においてエンボスローラ13に対向して設けられる光照射手段である。この樹脂硬化手段15は、光照射によってシートWを透過して樹脂液層を硬化をさせるもので、樹脂の硬化特性に応じた波長の光(放射線)を照射でき、シートWの搬送速度に応じた量の放射線を照射できることが好ましい。樹脂硬化手段15として、たとえば、シートWの幅と略同一長さの円柱状照射ランプが採用できる。また、この円柱状照射ランプを複数本平行に設けることもでき、この円柱状照射ランプの背面に反射板を設けることもできる。なお、図1では、円柱状照射ランプを筐体内部に配したランプハウスが2組配されている。
The resin curing means 15 is a light irradiation means provided facing the
剥離ローラ16は、エンボスローラ13と対になってエンボスローラ13からシートWを剥離させるもので、所定の機械的強度、真円度等を有することが求められる。剥離箇所において、エンボスローラ13の周面上に巻き掛けられたシートWを回転するエンボスローラ13と剥離ローラ16とで挟みながら、シートWをエンボスローラ13から剥離させて剥離ローラ16に巻き掛ける。この動作を確実にすべく、剥離ローラ16には駆動手段が設けられていることが好ましい。剥離ローラ16は、図示の矢印ように、反時計方向(CCW)に回転する。
The peeling roller 16 is paired with the
なお、硬化により樹脂等の温度が上昇するような場合には、剥離時にシートWを冷却させて剥離を確実にすべく、剥離ローラ16に冷却手段を設ける構成も採用できる。 In addition, when the temperature of resin etc. rises by hardening, the structure which provides a cooling means to the peeling roller 16 can also be employ | adopted in order to cool the sheet | seat W at the time of peeling, and to ensure peeling.
なお、図示は省略したが、エンボスローラ13の押圧箇所(3時の位置)から剥離箇所(9時の位置)までの間に複数のバックアップローラを対向して設け、この複数のバックアップローラとエンボスローラ13とでシートWを押圧しながら硬化処理を行う構成も採用できる。
Although not shown in the figure, a plurality of backup rollers are provided to face each other between the pressing location (3 o'clock position) of the
剥離ローラ16の下流側には、欠陥検査手段21が配されている。このような欠陥検査手段21により、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。欠陥検査手段21の形式としては、公知の各種タイプの検査装置(たとえば、CCD撮像装置)が使用できる。 Defect inspection means 21 is disposed on the downstream side of the peeling roller 16. By such defect inspection means 21, it is possible to inspect defects in the concavo-convex pattern transferred and formed on the sheet W, and it becomes easy to eliminate defective portions. As the format of the defect inspection means 21, various known types of inspection devices (for example, CCD imaging devices) can be used.
欠陥検査手段21の下流側には、張力制御手段であるダンサーローラ30が配されている。このダンサーローラ30は、固定ローラ30A及び30Bと、固定ローラ30A、30Bの間に設けられた移動ローラ30Cにより構成される。そして、移動ローラ30Cの昇降動作によりシートWの張力が制御されるようになっている。
On the downstream side of the defect inspection means 21, a
ダンサーローラ30の下流側には、第2のサクションドラム26が配されている。この第2のサクションドラム26は、既述したように、第1のサクションドラム24と同様に、シートWを吸引保持するとともに所定の周速度で回転駆動することにより、シートWを連続走行させる手段である。
A
第2のサクションドラム26の下流側には、エッジ位置制御手段(エッジポジションコントローラ)32が配されている。このエッジ位置制御手段32の初段の一対の固定ローラ32Aとニップローラ32EにシートWが挟圧される際に、シートWの表面側に保護フィルム供給手段17より保護フィルムHが供給され、両フィルムが重なった状態で、挟圧されるようになっている。
On the downstream side of the
保護フィルム供給手段17は、保護フィルムHが巻回されたロール17Aより保護フィルムHを送り出すもので、保護フィルムHは複数のガイドローラg、g…やサクションドラム25に支持されて搬送され、シートWの表面に供給されるようになっている。
The protective film supply means 17 feeds the protective film H from a
エッジ位置制御手段32は、連続走行しているシートWの幅方向の端部位置を検出してシートWの幅方向位置を制御する装置である。このエッジ位置制御手段32は、固定ローラ32A及び32Bと、固定ローラ32A、32Bの間に設けられた傾斜ローラ32C及び32Dにより構成される。そして、図示しないエッジ位置センサ(たとえば、レーザ方式の位置センサ)の検出結果により、シートWの幅方向位置が正規に位置になるように、傾斜ローラ32C及び32Dの傾斜動作によりシートWの幅方向位置が制御されるようになっている。
The edge position control means 32 is a device that controls the position in the width direction of the sheet W by detecting the end position in the width direction of the sheet W that is continuously running. The edge position control means 32 includes fixed
シート巻き取り手段18は、剥離後のシートWを収納するもので、シートWを巻き取る巻き取りロール等より構成される。このシート巻き取り手段18において、シートWは保護フィルムHが表面に重なった状態で、シート巻き取り手段18に収納される。 The sheet winding means 18 stores the peeled sheet W, and includes a winding roll that winds the sheet W or the like. In the sheet winding means 18, the sheet W is stored in the sheet winding means 18 with the protective film H overlapping the surface.
なお、図1には示されていないが、剥離ローラ16と欠陥検査手段21との間、又は、欠陥検査手段21の直後(下流)に温湿度制御手段を設けることが好ましい。温湿度制御手段は、シートWをエンボスローラ13より剥離した後、シートW表面の凹凸パターンをガイドローラG1と接触させるまでの間、シートWを所定の温湿度に制御された空間に置くための装置である。
Although not shown in FIG. 1, it is preferable to provide a temperature / humidity control unit between the peeling roller 16 and the
転写形成したパターンは、温度や湿度により、乾燥や吸湿がなされるために、僅かながら変形が進む。これを抑制することは困難であるが、一定の環境下に管理すれば、同じ変形量に管理できるので、製品を一定の品質に維持できる点で、この温湿度制御手段は有効である。 Since the transferred pattern is dried and absorbed by temperature and humidity, the pattern is slightly deformed. Although it is difficult to suppress this, this temperature / humidity control means is effective in that the product can be maintained at a constant quality because it can be managed to the same deformation amount if managed in a certain environment.
次に、本発明に適用される各材料について説明する。シートWとしては、樹脂フィルム、紙(レジンコーティッド紙、合成紙、等)、金属箔(アルミニウムウェブ等)等を使用できる。樹脂フィルの材質としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリエステル、ポリオレフィン、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリアミド、PET(ポリエチレンテレフタレート)、二軸延伸を行ったポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリアミドイミド、ポリイミド、芳香族ポリアミド、セルロースアシレート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースダイアセテート等の公知のものが使用できる。これらのうち、特に、ポリエステル、セルロースアシレート、アクリル、ポリカーボネート、ポリオレフィンが好ましく使用できる。 Next, each material applied to the present invention will be described. As the sheet W, a resin film, paper (resin coated paper, synthetic paper, etc.), metal foil (aluminum web, etc.) and the like can be used. As the material of the resin fill, polyethylene, polypropylene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyester, polyolefin, acrylic, polystyrene, polycarbonate, polyamide, PET (polyethylene terephthalate), biaxially stretched polyethylene terephthalate, Known materials such as polyethylene naphthalate, polyamideimide, polyimide, aromatic polyamide, cellulose acylate, cellulose triacetate, cellulose acetate propionate, and cellulose diacetate can be used. Of these, polyester, cellulose acylate, acrylic, polycarbonate, and polyolefin can be preferably used.
シートWの幅としては、0. 1〜3mが、シートWの長さとしては、1000〜100000mが、シートWの厚さとしては、1〜300μmのものがそれぞれ一般的に採用される。ただし、これ以外のサイズの適用も妨げられるものではない。 The sheet W generally has a width of 0.1 to 3 m, the sheet W has a length of 1000 to 100,000 m, and the sheet W has a thickness of 1 to 300 μm. However, application of other sizes is not impeded.
これらのシートWは、あらかじめコロナ放電、プラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理などを行っておいてもよい。シートWの表面粗さRaはカットオフ値0.25mmにおいて3〜10nmが好ましい。 These sheets W may be previously subjected to corona discharge, plasma treatment, easy adhesion treatment, heat treatment, dust removal treatment and the like. The surface roughness Ra of the sheet W is preferably 3 to 10 nm at a cutoff value of 0.25 mm.
また、シートWには、あらかじめ接着層等の下地層を設け乾燥硬化させたもの、裏面に他の機能層があらかじめ形成されたもの、等を用いてもよい。同様に、シートWとして1層構成のもののみならず、2層以上の構成のものも採用できる。また、シートWは、光が透過できるような透明体、半透明体であることが好ましい。 The sheet W may be a sheet W provided with a base layer such as an adhesive layer in advance and dried and cured, or a sheet having another functional layer formed in advance on the back surface. Similarly, as the sheet W, not only a one-layer structure but also a structure having two or more layers can be adopted. Moreover, it is preferable that the sheet | seat W is a transparent body and translucent body which can permeate | transmit light.
本発明に使用可能な樹脂は(メタ)アクロイル基、ビニル基やエポキシ基などの反応性基含有化合物と、紫外線などの放射線照射にて該反応性基含有化合物を反応させうるラジカルやカチオン等の活性種を発生する化合物を含有するものが使用できる。 Resins that can be used in the present invention include a reactive group-containing compound such as a (meth) acryloyl group, a vinyl group, or an epoxy group, and a radical or cation that can react with the reactive group-containing compound by irradiation with ultraviolet rays or the like. Those containing compounds that generate active species can be used.
特に硬化の速さからは、(メタ)アクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)と、光によりラジカルを発生する光ラジカル重合開始剤の組み合わせが好ましい。中でも(メタ)アクリレ−ト、ウレタン(メタ)アクリレ−ト、エポキシ(メタ)アクリレ−ト、ポリエステル(メタ)アクリレ−トなどの(メタ)アクロイル基含有化合物が好ましい。 In particular, from the viewpoint of curing speed, a combination of a reactive group-containing compound (monomer) containing an unsaturated group such as a (meth) acryloyl group or a vinyl group and a radical photopolymerization initiator that generates a radical by light is preferable. . Of these, (meth) acryloyl group-containing compounds such as (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, epoxy (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are preferable.
この(メタ)アクロイル基含有化合物としては(メタ)アクロイル基が1個あるいは2個以上含有した化合物を用いることができる。また、上記のアクロイル基、ビニル基などの不飽和基を含有する反応性基含有化合物(モノマ−)は必要に応じて、単独で用いても、複数種を混合して用いても良い。 As the (meth) acryloyl group-containing compound, a compound containing one or more (meth) acryloyl groups can be used. Moreover, the reactive group containing compound (monomer) containing unsaturated groups, such as said acryloyl group and a vinyl group, may be used independently or may be used in mixture of multiple types as needed.
このような、(メタ)アクロイル基含有化合物としては、たとえば、(メタ)アクロイル基含有化合物を1個だけ含有する単官能モノマ−としてイソボルニル(メタ)アクリレート、ボルニル(メタ)アクリレート、トリシクロデカニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、シクロヘキシル(メタ)アクリレート、ベンジル(メタ)アクリレート、4−ブチルシクロヘキシル(メタ)アクリレート、アクリロイルモルホリン、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシブチル(メタ)アクリレート、メチル(メタ)アクリレート、エチル(メタ)アクリレート、プロピル(メタ)アクリレート、イソプロピル(メタ)アクリレート、ブチル(メタ)アクリレート、アミル(メタ)アクリレート、イソブチル(メタ)アクリレート、t−ブチル(メタ)アクリレート、ペンチル(メタ)アクリレート、イソアミル(メタ)アクリレート、へキシル(メタ)アクリレート、ヘプチル(メタ)アクリレート、オクチル(メタ)アクリレート、イソオクチル(メタ)アクリレート、2−エチルヘキシル(メタ)アクリレート、ノニル(メタ)アクリレート、デシル(メタ)アクリレート、イソデシル(メタ)アクリレート、ウンデシル(メタ)アクリレート、ドデシル(メタ)アクリレート、ラウリル(メタ)アクリレート、ステアリル(メタ)アクリレート、イソステアリル(メタ)アクリレート、テトラヒドロフルフリル(メタ)アクリレート、ブトキシエチル(メタ)アクリレート、エトキシジエチレングリコール(メタ)アクリレート、ポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシエチレングリコール(メタ)アクリレート、エトキシエチル(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコール(メタ)アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール(メタ)アクリレートが挙げられる。 Examples of such (meth) acryloyl group-containing compounds include, for example, isobornyl (meth) acrylate, bornyl (meth) acrylate, tricyclodecanyl as monofunctional monomers containing only one (meth) acryloyl group-containing compound. (Meth) acrylate, dicyclopentanyl (meth) acrylate, dicyclopentenyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, 4-butylcyclohexyl (meth) acrylate, acryloylmorpholine, 2-hydroxyethyl (Meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, methyl (meth) acrylate, ethyl (meth) acrylate, propyl (meth) acrylate, Propyl (meth) acrylate, butyl (meth) acrylate, amyl (meth) acrylate, isobutyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, pentyl (meth) acrylate, isoamyl (meth) acrylate, hexyl (meth) acrylate , Heptyl (meth) acrylate, octyl (meth) acrylate, isooctyl (meth) acrylate, 2-ethylhexyl (meth) acrylate, nonyl (meth) acrylate, decyl (meth) acrylate, isodecyl (meth) acrylate, undecyl (meth) acrylate , Dodecyl (meth) acrylate, lauryl (meth) acrylate, stearyl (meth) acrylate, isostearyl (meth) acrylate, tetrahydrofurfuryl (meth) acrylate , Butoxyethyl (meth) acrylate, ethoxydiethylene glycol (meth) acrylate, polyethylene glycol mono (meth) acrylate, polypropylene glycol mono (meth) acrylate, methoxyethylene glycol (meth) acrylate, ethoxyethyl (meth) acrylate, methoxypolyethylene glycol ( Examples include meth) acrylate and methoxypolypropylene glycol (meth) acrylate.
更に芳香環を有する単官能モノマ−として、フェノキシエチル(メタ)アクリレート、フェノキシ−2−メチルエチル(メタ)アクリレート、フェノキシエトキシエチル(メタ)アクリレート、3−フェノキシ−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、2−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−フェニルフェノキシエチル(メタ)アクリレート、3−(2−フェニルフェニル)−2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート、エチレンオキシドを反応させたp−クミルフェノールの(メタ)アクリレート、2−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、4−ブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,6−ジブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェニル(メタ)アクリレート、2,4,6−トリブロモフェノキシエチル(メタ)アクリレート等が挙げられる。 Furthermore, as a monofunctional monomer having an aromatic ring, phenoxyethyl (meth) acrylate, phenoxy-2-methylethyl (meth) acrylate, phenoxyethoxyethyl (meth) acrylate, 3-phenoxy-2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 4-phenylphenoxyethyl (meth) acrylate, 3- (2-phenylphenyl) -2-hydroxypropyl (meth) acrylate, and p-cumylphenol reacted with ethylene oxide ( (Meth) acrylate, 2-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 4-bromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,4-dibromophenoxyethyl (meth) acrylate, 2,6-dibromophenoxyethyl (meth) ) Acrylate, 2,4,6-bromophenyl (meth) acrylate, 2,4,6-tribromophenoxyethyl (meth) acrylate.
このような、芳香を有する環単官能モノマ−の市販品としては、アロニックスM113、M110、M101、M102、M5700、TO−1317(以上、東亞合成(株)製)、ビスコート#192、#193、#220、3BM(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルAMP−10G、AMP−20G(以上、新中村化学工業(株)製)、ライトアクリレートPO−A、P−200A、エポキシエステルM−600A、ライトエステルPO(以上、共栄社化学(株)製)、ニューフロンティアPHE、CEA、PHE−2、BR−30、BR−31、BR−31M、BR−32(以上、第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 Examples of such commercially available aromatic monocyclic monocyclic monomers include Aronix M113, M110, M101, M102, M5700, TO-1317 (above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), Biscote # 192, # 193, # 220, 3BM (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK Ester AMP-10G, AMP-20G (Shin Nakamura Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate PO-A, P-200A, Epoxy Ester M-600A, light ester PO (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), New Frontier PHE, CEA, PHE-2, BR-30, BR-31, BR-31M, BR-32 (above, Daiichi Kogyo) Pharmaceutical Co., Ltd.).
また、(メタ)アクリロイル基を分子中に2つ有する不飽和モノマーとしては、1,4−ブタンジオールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、1,9−ノナンジオールジアクリレートなどのアルキルジオールジアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレートなどのポリアルキレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート、トリシクロデカンメタノールジアクリレート等が挙げられる。 Examples of unsaturated monomers having two (meth) acryloyl groups in the molecule include alkyl diols such as 1,4-butanediol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, and 1,9-nonanediol diacrylate. Examples include polyalkylene glycol diacrylates such as diacrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, tetraethylene glycol diacrylate, and tripropylene glycol diacrylate, neopentyl glycol di (meth) acrylate, and tricyclodecane methanol diacrylate.
ビスフェノール骨格をもつ不飽和モノマ−としては、エチレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、エチレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、プロピレンオキシド付加テトラブロモビスフェノールA(メタ)アクリル酸エステル、ビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールAジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールAエポキシ(メタ)アクリレート、ビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート、テトラブロモビスフェノールFジグリシジルエーテルと(メタ)アクリル酸とのエポキシ開環反応で得られるテトラブロモビスフェノールFエポキシ(メタ)アクリレート等が挙げられる。 As unsaturated monomers having a bisphenol skeleton, ethylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, ethylene oxide-added tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added bisphenol A (meth) acrylic acid ester, propylene oxide-added Tetrabromobisphenol A (meth) acrylic acid ester, bisphenol A epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of bisphenol A diglycidyl ether and (meth) acrylic acid, tetrabromobisphenol A diglycidyl ether and (meth) Tetrabromobisphenol A epoxy (meth) acrylate, bisphenol F diglycidyl ether and (meth) obtained by epoxy ring-opening reaction with acrylic acid Bisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction with crylic acid, tetrabromobisphenol F epoxy (meth) acrylate obtained by epoxy ring-opening reaction of tetrabromobisphenol F diglycidyl ether and (meth) acrylic acid Etc.
このような構造を有する不飽和モノマ−の市販品としては、ビスコート#700、#540(以上、大阪有機化学工業(株)製)、アロニックスM−208、M−210(以上、東亞合成(株)製)、NKエステルBPE−100、BPE−200、BPE−500、A−BPE−4(以上、新中村化学(株)製)、ライトエステルBP−4EA、BP−4PA、エポキシエステル3002M、3002A、3000M、3000A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARAD R−551、R−712(以上、日本化薬(株)製)、BPE−4、BPE−10、BR−42M(以上、第一工業製薬(株)製)、リポキシVR−77、VR−60、VR−90、SP−1506、SP−1506、SP−1507、SP−1509、SP−1563(以上、昭和高分子(株)製)、ネオポールV779、ネオポールV779MA(日本ユピカ(株)製)等が挙げられる。 Commercially available unsaturated monomers having such a structure include Biscote # 700 and # 540 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Aronix M-208, M-210 (above, Toagosei Co., Ltd.) ), NK ester BPE-100, BPE-200, BPE-500, A-BPE-4 (above, Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.), light ester BP-4EA, BP-4PA, epoxy ester 3002M, 3002A 3000M, 3000A (above, manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARAD R-551, R-712 (above, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), BPE-4, BPE-10, BR-42M (above, No. 1) Manufactured by Ichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Lipoxy VR-77, VR-60, VR-90, SP-1506, SP-1506, SP-1507, SP-1509, SP 1563 (manufactured by Showa High Polymer Co., Ltd.), NEOPOL V779, NEOPOL V779MA (manufactured by Japan U-PICA Co., Ltd.), and the like.
更に、3官能以上の(メタ)アクリレート不飽和モノマ−としては、3価以上の多価アルコールの(メタ)アクリレート、たとえばトリメチロールプロパンリト(メタ)アクリレート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル(メタ)アクリレート、トリス(2−アクリロイルオキシエチル)イソシアヌレート等が挙げられ、市販品としては、アロニックスM305、M309、M310、M315、M320、M350、M360、M408(以上、東亞合成(株)製、ビスコート#295、#300、#360、GPT、3PA、#400(以上、大阪有機化学工業(株)製)、NKエステルTMPT、A−TMPT、A−TMM−3、A−TMM−3L、A−TMMT(以上、新中村化学(株)製)、ライトアクリレートTMP−A、TMP−6EO−3A、PE−3A、PE−4A、DPE−6A(以上、共栄社化学(株)製、KAYARAD PET−30、GPO−303、TMPTA、TPA−320、DPHA、D−310、DPCA−20、DPCA−60(以上、日本化薬(株)製)等が挙げられる。 Furthermore, as a trifunctional or higher functional (meth) acrylate unsaturated monomer, a trihydric or higher polyhydric alcohol (meth) acrylate such as trimethylolpropane litho (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate or trimethylol. Propane trioxyethyl (meth) acrylate, tris (2-acryloyloxyethyl) isocyanurate, etc. are listed, and commercially available products include Aronix M305, M309, M310, M315, M320, M350, M360, M408 (and above, Toagosei) Made by Co., Ltd., Biscoat # 295, # 300, # 360, GPT, 3PA, # 400 (Osaka Organic Chemical Co., Ltd.), NK ester TMPT, A-TMPT, A-TMM-3, A- TMM-3L, A-TMMT (above, Shinnaka Chemical Co., Ltd.), Light Acrylate TMP-A, TMP-6EO-3A, PE-3A, PE-4A, DPE-6A (above, Kyoeisha Chemical Co., Ltd., KAYARAD PET-30, GPO-303, TMPTA) , TPA-320, DPHA, D-310, DPCA-20, DPCA-60 (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and the like.
加えてウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーを配合してもよい。ウレタン(メタ)アクリレートとしては、たとえばポリエチレングリコール、ポリテトラメチルグリコール等のポリエーテルポリオール;コハク酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、テトラヒドロ(無水)フタル酸、ヘキサヒドロ(無水)フタル酸等の二塩基酸とエチレングリコール、プロピレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のジオールの反応によって得られるポリエステルポリオール;ポリε−カプロラクトン変性ポリオール;ポリメチルバレロラクトン変性ポリオール;エチレングリコール、プロピレングリコール、1,4−ブタンジオール、1,6−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール等のアルキルポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールA、プロピレンオキシド付加ビスフェノールA等のビスフェノールA骨格アルキレンオキシド変性ポリオール;エチレンオキシド付加ビスフェノールF、プロピレンオキシド付加ビスフェノールF等のビスフェノールF骨格アルキレンオキシド変性ポリオール、又はそれらの混合物とトリレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート等の有機ポリイソシアネートと2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、2−ヒドロキシプロピル(メタ)アクリレート等のヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートから製造されるウレタン(メタ)アクリレートオリゴマー等が挙げられる。ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、本発明の硬化性組成物の粘度を適度に保つ上で好ましい。 In addition, a urethane (meth) acrylate oligomer may be blended. Examples of urethane (meth) acrylates include polyether polyols such as polyethylene glycol and polytetramethyl glycol; succinic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, phthalic acid, tetrahydro (anhydrous) phthalic acid, hexahydro (anhydrous) phthalic acid Obtained by reaction of a dibasic acid such as ethylene glycol, propylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, tetraethylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, etc. Polyester polyol, polyε-caprolactone-modified polyol; polymethylvalerolactone-modified polyol; ethylene glycol, propylene glycol, 1,4-butanediol, Alkyl polyols such as 1,6-hexanediol and neopentyl glycol; bisphenol A skeleton alkylene oxide modified polyols such as ethylene oxide-added bisphenol A and propylene oxide-added bisphenol A; bisphenol F skeleton alkylene such as ethylene oxide-added bisphenol F and propylene oxide-added bisphenol F Oxide-modified polyols or mixtures thereof and organic polyisocyanates such as tolylene diisocyanate, isophorone diisocyanate, hexamethylene diisocyanate, diphenylmethane diisocyanate, xylylene diisocyanate, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, etc. Manufactured from hydroxy group-containing (meth) acrylate And urethane (meth) acrylate oligomers. A urethane (meth) acrylate oligomer is preferable for maintaining the viscosity of the curable composition of the present invention moderately.
これらウレタン(メタ)アクリレートの市販品のモノマーとしては、たとえばアロニックスM120、M−150、M−156、M−215、M−220、M−225、M−240、M−245、M−270(以上、東亞合成(株)製)、AIB、TBA、LA、LTA、STA、ビスコート#155、IBXA、ビスコート#158、#190、#150、#320、HEA、HPA、ビスコート#2000、#2100、DMA、ビスコート#195、#230、#260、#215、#335HP、#310HP、#310HG、#312(以上、大阪有機化学工業(株)製)、ライトアクリレートIAA、L−A、S−A、BO−A、EC−A、MTG−A、DMP−A、THF−A、IB−XA、HOA、HOP−A、HOA−MPL、HOA−MPE、ライトアクリレート3EG−A、4EG−A、9EG−A、NP−A、1,6HX−A、DCP−A(以上、共栄社化学(株)製)、KAYARADTC−110S、HDDA、NPGDA、TPGDA、PEG400DA、MANDA、HX−220、HX−620(以上、日本化薬(株)製)、FA−511A、512A、513A(以上、日立化成(株)製)、VP(BASF製)、ACMO、DMAA、DMAPAA(以上、興人(株)製)等が挙げられる。 As commercially available monomers of these urethane (meth) acrylates, for example, Aronix M120, M-150, M-156, M-215, M-220, M-225, M-240, M-245, M-270 ( As mentioned above, manufactured by Toagosei Co., Ltd.), AIB, TBA, LA, LTA, STA, Viscoat # 155, IBXA, Viscoat # 158, # 190, # 150, # 320, HEA, HPA, Viscoat # 2000, # 2100, DMA, biscort # 195, # 230, # 260, # 215, # 335HP, # 310HP, # 310HG, # 312 (above, manufactured by Osaka Organic Chemical Industry Co., Ltd.), Light Acrylate IAA, LA, SA , BO-A, EC-A, MTG-A, DMP-A, THF-A, IB-XA, HOA, HOP-A, HOA-M L, HOA-MPE, light acrylate 3EG-A, 4EG-A, 9EG-A, NP-A, 1,6HX-A, DCP-A (manufactured by Kyoeisha Chemical Co., Ltd.), KAYARADTC-110S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620 (Nippon Kayaku Co., Ltd.), FA-511A, 512A, 513A (Hitachi Chemical Co., Ltd.), VP (BASF) ACMO, DMAA, DMAPAA (manufactured by Kojin Co., Ltd.) and the like.
ウレタン(メタ)アクリレートオリゴマーは、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレート、(b)有機ポリイソシアネート及び(c)ポリオールの反応物として得られるものであるが、(a)ヒドロキシ基含有(メタ)アクリレートと(b)有機ポリイソシアネートを反応させた後、次いで(c)ポリオールを反応させた反応物であることが好ましい。 The urethane (meth) acrylate oligomer is obtained as a reaction product of (a) hydroxy group-containing (meth) acrylate, (b) organic polyisocyanate and (c) polyol, but (a) hydroxy group-containing (meth). A reaction product obtained by reacting an acrylate with (b) an organic polyisocyanate and then (c) a polyol is preferable.
以上の不飽和モノマ−は単独で用いても良く、必要に応じて複数種を混合して用いても良い。 The above unsaturated monomers may be used alone, or a plurality of types may be mixed as necessary.
光ラジカル重合開始剤としては、たとえばアセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、キサントン、フルオレノン、べンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、3−メチルアセトフェノン、4−クロロベンゾフェノン、4,4’−ジメトキシベンゾフェノン、4,4’−ジアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2−クロロチオキサントン、2−メチル−1−[4−(メチルチオ)フェニル]−2−モルホリノ−プロパン−1−オン、2,4,6−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−(2,6−ジメトキシベンゾイル)−2,4,4−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルォスフィンオキシドなどが挙げられる。 Examples of photo radical polymerization initiators include acetophenone, acetophenone benzyl ketal, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4′-dimethoxybenzophenone, 4,4′-diaminobenzophenone, Michler's ketone, benzoin propyl ether, benzoin ethyl ether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl)- 2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, thioxanthone, diethyl Oxanthone, 2-isopropylthioxanthone, 2-chlorothioxanthone, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propan-1-one, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, Examples thereof include bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphine oxide, ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenylphosphine oxide, and the like.
光ラジカル重合開始剤の市販品としては、たとえばIrgacure184、369、651、500、819、907、784、2959、CGI1700、CGI1750、CGI11850、CG24−61、Darocurl116、1173(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、LucirinLR8728、8893X(以上BASF社製)、ユベクリルP36(UCB社製)、KIP150(ランベルティ社製)等が挙げられる。これらの中で、液状で溶解しやすく、高感度という観点からはLucirinLR8893Xが好ましい。 Commercially available radical photopolymerization initiators include, for example, Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI 1700, CGI 1750, CGI 11850, CG 24-61, Darocurl 116, 1173 (above, Ciba Specialty Chemicals ( Co., Ltd.), Lucirin LR8728, 8893X (manufactured by BASF), Ubekrill P36 (manufactured by UCB), KIP150 (manufactured by Lamberti), and the like. Among these, Lucirin LR8883X is preferable from the viewpoint of being liquid and easily dissolved and having high sensitivity.
光ラジカル重合開始剤は全組成物中に、0.01〜10重量%、特に0.5〜7重量%配合されるのが好ましい。配合量の上限は組成物の硬化特性や硬化物の力学特性および光学特性、取り扱い等の点からこの範囲が好ましく、配合量の下限は、硬化速度の低下防止の点からこの範囲が好ましい。 The radical photopolymerization initiator is preferably blended in the total composition in an amount of 0.01 to 10% by weight, particularly 0.5 to 7% by weight. The upper limit of the blending amount is preferably in this range from the viewpoints of the curing characteristics of the composition, the mechanical properties and optical characteristics of the cured product, handling, and the like, and the lower limit of the blending amount is preferably in the range of preventing a decrease in the curing rate.
本発明の組成物には更に光増感剤を配合することができ、当該光増感剤としては、たとえばトリエチルアミン、ジエチルアミン、N−メチルジエタノールアミン、エタノールアミン、4−ジメチルアミノ安息香酸、4−ジメチルアミノ安息香酸メチル、4−ジメチルアミノ安息香酸エチル、4−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル等が挙げられ、市販品としては、たとえばユベクリルP102、103、104、105(以上、UCB社製)等が挙げられる。 The composition of the present invention may further contain a photosensitizer. Examples of the photosensitizer include triethylamine, diethylamine, N-methyldiethanolamine, ethanolamine, 4-dimethylaminobenzoic acid, 4-dimethyl Examples include methyl aminobenzoate, ethyl 4-dimethylaminobenzoate, isoamyl 4-dimethylaminobenzoate and the like, and examples of commercially available products include Ubekryl P102, 103, 104, 105 (manufactured by UCB). .
更にまた、上記成分以外に必要に応じて各種添加剤として、たとえば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、シランカップリング剤、塗面改良剤、熱重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、着色剤、保存安定剤、可塑剤、滑剤、溶媒、フィラー、老化防止剤、濡れ性改良剤、離型剤等を必要に応じて配合することができる。 Further, in addition to the above components, various additives as necessary include, for example, antioxidants, ultraviolet absorbers, light stabilizers, silane coupling agents, coating surface improvers, thermal polymerization inhibitors, leveling agents, surfactants. Colorants, storage stabilizers, plasticizers, lubricants, solvents, fillers, anti-aging agents, wettability improvers, mold release agents, and the like can be blended as necessary.
ここで、酸化防止剤としては、たとえばIrganox1010、1035、1076、1222(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Antigen P、3C、FR、GA−80(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、紫外線吸収剤としては、たとえばTinuvin P、234、320、326、327、328、329、213(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、Seesorb102、103、110、501、202、712、704(以上、シプロ化成(株)製)等が挙げられ、光安定剤としては、たとえばTinuvin 292、144、622LD(以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ(株)製)、サノールLS770(三共(株)製)、Sumisorb TM−061(住友化学工業(株)製)等が挙げられ、シランカップリング剤としては、たとえばγ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン、市販品として、SH6062、6030(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KBE903、603、403(以上、信越化学工業(株)製)等が挙げられ、塗面改良剤としては、たとえばジメチルシロキサンポリエーテル等のシリコーン添加剤や、非イオン性フルオロ界面活性剤が挙げられ、シリコーン添加剤の市販品としてはDC−57、DC−190(以上、ダウ コーニング社製)、SH−28PA、SH−29PA、SH−30PA、SH−190(以上、東レ・ダウ コーニング・シリコーン(株)製)、KF351、KF352、KF353、KF354(以上、信越化学工業(株)製)、L−700、L−7002、L−7500、FK−024−90(以上、日本ユニカー(株)製)、非イオン性フルオロ界面活性剤の市販品としてはFC-430、FC-171(以上 3M(株))、メガファックF-176、F-177、R-08、F780(以上 大日本インキ(株)製)等が挙げられ、離型剤としてはプライサーフA208F(第一工業製薬(株)製)等が挙げられる。 Here, examples of the antioxidant include Irganox 1010, 1035, 1076, 1222 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Antigen P, 3C, FR, GA-80 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.). Examples of the ultraviolet absorber include Tinuvin P, 234, 320, 326, 327, 328, 329, 213 (manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Seesorb 102, 103, 110, 501; 202, 712, 704 (above, manufactured by Sipro Kasei Co., Ltd.) and the like. Examples of the light stabilizer include Tinuvin 292, 144, 622LD (above, manufactured by Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd.), Sanol LS770 ( Sankyo Co., Ltd.), Sumisorb TM-0 1 (manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples of the silane coupling agent include γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, commercially available Examples of the product include SH6062, 6030 (above, manufactured by Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KBE903, 603, 403 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and the like. Examples include silicone additives such as dimethylsiloxane polyether and nonionic fluorosurfactants, and commercially available silicone additives include DC-57, DC-190 (above, manufactured by Dow Corning), SH-28PA, SH-29PA, SH-30PA, SH-190 (above, Toray Dow Corning Silicone Co., Ltd.), KF351, KF352, KF353, KF354 (above, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.), L-700, L-7002, L-7500, FK-024-90 (above, Nihon Unicar Co., Ltd.) )), And commercially available non-ionic fluorosurfactants include FC-430, FC-171 (above 3M), Megafac F-176, F-177, R-08, F780 (above Dainippon Ink Co., Ltd.) and the like, and the release agent includes Prisurf A208F (Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.).
本発明の樹脂液の粘度調整のための有機溶剤としては、樹脂液と混合した時に、析出物や相分離、白濁などの不均一がなく混合できるものであればよく、たとえば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソプチルケトン、エタノール、プロパノール、ブタノール、2−メトキシエタノール、シクロヘキサノール、シクロヘキサン、シクロヘキサノン、トルエンなどが挙げられ、必要に応じてこれらを複数種混合して用いてもよい。 The organic solvent for adjusting the viscosity of the resin liquid of the present invention may be any organic solvent that can be mixed without unevenness such as precipitates, phase separation, and cloudiness when mixed with the resin liquid. For example, acetone, methyl ethyl ketone, Examples thereof include methyl isobutyl ketone, ethanol, propanol, butanol, 2-methoxyethanol, cyclohexanol, cyclohexane, cyclohexanone, toluene, and the like.
有機溶剤を添加した場合は、製品の製造工程中にて、有機溶剤を乾燥、蒸発する工程が必要になるが、蒸発残りの溶剤が大量に製品に残留した場合、製晶の機械物性が劣化したり、製品として使用中に有機溶剤が蒸発、拡散し、悪臭や健康に悪影響を及ぼす懸念がある。このため、有機溶剤としては、高沸点のものは残留溶剤量が多くなり好ましくない。 When an organic solvent is added, it is necessary to dry and evaporate the organic solvent during the manufacturing process of the product. However, if a large amount of residual solvent remains in the product, the mechanical properties of crystallization deteriorate. There is also a concern that the organic solvent evaporates and diffuses during use as a product, causing bad odor and adverse health effects. For this reason, organic solvents having a high boiling point are not preferable because the amount of residual solvent increases.
ただし、あまりに低沸点の場合は、激しく蒸発するため、面状が荒れたり、乾燥時の気化熱により組成物表面に結露水が付着して、この跡が面状欠陥になったり、蒸気濃度が高くなり引火等の危険が増す。 However, if the boiling point is too low, it will evaporate violently, resulting in rough surface, condensation water adhering to the surface of the composition due to the heat of vaporization during drying, resulting in surface defects and vapor concentration. It becomes higher and the risk of ignition etc. increases.
したがって、有機溶剤の沸点としては50°C以上、150°C以下が好ましく、70°C以上、120°C以下がより好ましい。素材の溶解性や、沸点の観点から、有機溶剤としてはメチルエチルケトン(bp.79.6°C)、1−プロパノール(bp.97.2°C)などが好ましい。 Therefore, the boiling point of the organic solvent is preferably 50 ° C. or higher and 150 ° C. or lower, and more preferably 70 ° C. or higher and 120 ° C. or lower. From the viewpoint of the solubility of the material and the boiling point, the organic solvent is preferably methyl ethyl ketone (bp. 79.6 ° C), 1-propanol (bp. 97.2 ° C) or the like.
本発明の樹脂液に添加される有機溶剤の添加量は、溶剤の種類や、溶剤添加前の樹脂液の粘度にもよるが、充分に塗布性が改善されるためには、10重量%以上、40重量%以下の範囲であり、好ましくは15重量%以上、30重量%以下の範囲である。有機溶剤の添加量があまり少量だと、粘度低減の効果や塗布量アップの効果が小さく、塗布性が充分に改良されない。 The amount of the organic solvent added to the resin solution of the present invention depends on the type of the solvent and the viscosity of the resin solution before the addition of the solvent. , 40% by weight or less, preferably 15% by weight or more and 30% by weight or less. If the amount of the organic solvent added is too small, the effect of reducing the viscosity and the effect of increasing the coating amount are small, and the coating property is not sufficiently improved.
しかし、樹脂液を多く希釈しすぎると、粘度が低すぎてシート状体の上で液が流動してムラが発生したり、シート状体の裏面に液が回るなどの問題が発生する。また、乾燥工程において充分に乾燥しきれず、製品中に有機溶剤が多量に残留してしまい、製品機能の劣化や、製品使用中に揮発して悪臭を発生したり、健康への悪影響を及ぼす懸念が生じる。 However, if the resin liquid is diluted too much, the viscosity is too low and the liquid flows on the sheet-like body to cause unevenness, or the liquid turns around the back surface of the sheet-like body. In addition, the drying process may not be sufficient, and a large amount of organic solvent may remain in the product, resulting in deterioration of product function, volatilization during product use, generation of bad odors, and adverse health effects. Occurs.
本発明の樹脂液は、前記の各成分を常法により混合して製造することができ、必要に応じて加熱溶解により製造できる。このようにして調製される樹脂液の粘度は、通常10〜50000mPa・s/25°Cである。 The resin liquid of the present invention can be produced by mixing the above-mentioned components by a conventional method, and can be produced by heating and dissolving as necessary. The viscosity of the resin liquid thus prepared is usually 10 to 50000 mPa · s / 25 ° C.
シートWやエンボスローラ13に樹脂液を供給する場合には、粘度が高すぎると、均一に組成物を供給するのが難しくなり、レンズを製造する際、塗布むらやうねり、気泡の混入が生じたりするため、目的とするレンズ厚を得るのが難しくなり、レンズとしての性能を充分に発揮できない。
When the resin liquid is supplied to the sheet W or the
特に、ラインスピードを高速化したときにその傾向が顕著になる。したがって、この場合には液粘度は低い方が好ましく、10〜100mPa・sが好ましく、10〜50mPa・sがより好ましい。このような低い粘度は、有機溶剤を適当量添加することにより調整が可能である。また、塗布液の保温設定により、粘度を調整することも可能である。 This tendency is particularly noticeable when the line speed is increased. Accordingly, in this case, the liquid viscosity is preferably low, preferably 10 to 100 mPa · s, and more preferably 10 to 50 mPa · s. Such a low viscosity can be adjusted by adding an appropriate amount of an organic solvent. Further, the viscosity can be adjusted by setting the temperature of the coating solution to be kept warm.
一方、溶剤蒸発後の粘度が低すぎると、エンボスローラ13で型押しする際、レンズ厚のコントロールが難しく、一定厚の均一なレンズを形成できない場合がある。好ましい粘度は10〜3000mPa・sである。有機溶剤を混合している場合は、樹脂液の供給からエンボスローラ13で型押しするまでの工程間に、有機溶剤を加熱乾燥などにより蒸発させる工程を設けることにより、樹脂液供給時は低粘度で均一に液供給ができ、エンボスローラ13で型押しする際は、有機溶剤を乾燥させ、より高粘度化させた樹脂液で均一に型押しすることが可能になる。
On the other hand, if the viscosity after evaporation of the solvent is too low, it may be difficult to control the lens thickness when embossing with the
本発明の樹脂液を放射線によって硬化させることにより得られる硬化物は、プリズムレンズシートの場合、以下の物性(屈折率、軟化点)を有するものであることが特に好ましい。 In the case of a prism lens sheet, the cured product obtained by curing the resin liquid of the present invention with radiation particularly preferably has the following physical properties (refractive index, softening point).
屈折率としては、硬化物の25°Cにおいて1.55以上が好ましく、1.56以上がより好ましい。硬化物の25°Cにおける屈折率が1.55未満であると、本組成物を用いてプリズムレンズシートを形成した場合、充分な正面輝度を確保することができない場合が生じるからである。 The refractive index is preferably 1.55 or more and more preferably 1.56 or more at 25 ° C. of the cured product. This is because when the refractive index at 25 ° C. of the cured product is less than 1.55, when a prism lens sheet is formed using this composition, sufficient front luminance may not be ensured.
軟化点としては、40°C以上が好ましく、50°C以上がより好ましい。軟化点が40°C未満の場合には耐熱性が充分でない場合があるからである。 As a softening point, 40 degreeC or more is preferable and 50 degreeC or more is more preferable. This is because if the softening point is less than 40 ° C., the heat resistance may not be sufficient.
次に、図1に戻って、エンボスシートの製造装置10の作用について説明する。シート供給手段11より、一定速度でシートWを送り出す。シートWは第1のサクションドラム24に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。次いで、シートWは除塵機28へ送り込まれ、シートWの表面に付着した塵が取り除かれる。
Next, returning to FIG. 1, the operation of the embossed sheet manufacturing apparatus 10 will be described. The sheet W is sent out from the
次いで、シートWは塗布手段12へ送り込まれ、シートWの表面に樹脂液が塗布される。塗布後に乾燥手段19によりシートWに塗布された樹脂液が乾燥され、溶剤分が蒸発する。このように、シートWをエンボスローラ13に巻き掛けて硬化させる前に、この塗布層に含まれる溶剤を乾燥させる工程を設けているために、添加した溶剤が硬化後も残ることによる製品の機能劣化や硬化膜の強度劣化の心配はない。同様に、製品使用中に溶剤が放出されて悪臭を発生したり、健康に悪影響を与えたりする心配もない。
Next, the sheet W is fed into the coating unit 12 and the resin liquid is applied to the surface of the sheet W. After the application, the resin liquid applied to the sheet W is dried by the drying means 19 and the solvent is evaporated. Thus, before the sheet W is wound around the
次いで、シートWはエンボスローラ13とニップローラ14からなる成形手段へ送り込まれる。これにより、連続走行するシートWを、エンボスローラ13の3時の位置において、回転するエンボスローラ13とニップローラ14とで押圧しながらローラ成形加工がなされる。すなわち、シートWを、回転するエンボスローラ13に巻き掛け、樹脂層にエンボスローラ13表面の凹凸を転写する。
Next, the sheet W is fed into a forming unit composed of an
次いで、シートWがエンボスローラ13に巻き掛けられている状態で、樹脂硬化手段15によりシートWを透過して樹脂液層に放射線照射を行い、樹脂液層を硬化させる。その後、エンボスローラ13の9時の位置において、シートWを剥離ローラ16に巻き掛けることによりエンボスローラ13から剥離する。
Next, in a state where the sheet W is wound around the
なお、図1には示していないが、シートWを剥離した後、硬化を更に促進させるため、再度放射線照射を行うこともできる。 In addition, although not shown in FIG. 1, in order to further accelerate hardening after peeling the sheet | seat W, radiation irradiation can also be performed again.
剥離されたシートWは、欠陥検査手段21に搬送され、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査される。このような欠陥検査手段21により、シートWに転写形成された凹凸パターンの欠陥が検査でき、欠陥部分の排除が容易となる。 The peeled sheet W is conveyed to the defect inspection means 21 and the defect of the concavo-convex pattern transferred and formed on the sheet W is inspected. By such defect inspection means 21, it is possible to inspect defects in the concavo-convex pattern transferred and formed on the sheet W, and it becomes easy to eliminate defective portions.
なお、塗布手段12から欠陥検査手段21までの間、シートWは裏面が複数のガイドローラG、G…によって支持されており、シートWの表面は樹脂の層を介してエンボスローラ13と接触しているのみである。
The sheet W is supported by a plurality of guide rollers G, G... Between the coating unit 12 and the
そして、欠陥検査手段21の下流の2個目のガイドローラG1と初めてシートWの表面が接触する状態となる。したがって、これまでに樹脂液層の反応率が70%以上になっている状態が求められる。 Then, the second guide roller G1 downstream of the defect inspection means 21 comes into contact with the surface of the sheet W for the first time. Therefore, the state in which the reaction rate of the resin liquid layer is 70% or more is required.
すなわち、樹脂の反応率が70%以上であればシートW表面の凹凸パターンをガイドローラG1と接触させても問題ない。この理由は、凹凸パターン面がガイドローラG1と接触すれば、その接触圧力のために凹凸が潰れやすくなるが、離型後に、一定の時間を置くことにより、硬化(反応)が進み、凹凸パターンが変形しにくくなるからである。 That is, if the resin reaction rate is 70% or more, there is no problem even if the uneven pattern on the surface of the sheet W is brought into contact with the guide roller G1. The reason for this is that if the concavo-convex pattern surface comes into contact with the guide roller G1, the concavo-convex shape is likely to be crushed due to the contact pressure. This is because it becomes difficult to deform.
したがって、本発明によれば、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。 Therefore, according to the present invention, a concavo-convex sheet having a regular fine concavo-convex pattern formed on the surface can be manufactured with high quality without defects and with high line speed and high productivity.
なお、微細凹凸パターン面がガイドローラG1に接触するときに問題のない樹脂の反応率としては、75%以上がより好ましく、80%以上が更に好ましい。 The reaction rate of the resin that does not cause a problem when the fine uneven pattern surface comes into contact with the guide roller G1 is more preferably 75% or more, and further preferably 80% or more.
また、ガイドローラG1とシートWの表面が接触する際の樹脂液層の反応率により管理する方法ではなく、シートWがエンボスローラ13より剥離してからガイドローラG1と接触するまでの所定時間で管理する方法の場合、この所定時間は10秒以上が好ましく、15秒以上がより好ましく、20秒以上が更に好ましい。このように、所定時間が経過すれば、硬化(反応)が進み、凹凸パターンが変形しにくくなるからである。
Further, it is not a method of managing by the reaction rate of the resin liquid layer when the guide roller G1 and the surface of the sheet W are in contact with each other, but in a predetermined time from when the sheet W is peeled off from the
なお、紫外線を照射して離型したときの、硬化樹脂の反応率(反応基の残存率をFT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計)により測定した)は、時間経過とともに上昇することが確認されている。 In addition, the reaction rate of the cured resin (the residual rate of the reactive group was measured by FT-IR (Fourier transform infrared spectrophotometer)) when released from the ultraviolet ray may increase with time. It has been confirmed.
実際には、硬化樹脂の紫外線照射及び離型後の反応速度は、樹脂の種類によって異なるが、10〜20秒には反応が止まることが多い。また、後述する実施例の樹脂では、当初は、紫外線硬化樹脂を溶剤で希釈した液を塗布しており、紫外線照射及び離型後も、硬化樹脂は、溶剤を含んでいる。離型後は、巻き取られる(又は保護シートがラミネートされる)までに、溶剤が乾燥することになる。もちろん、残留溶剤量がゼロになることはないが、できるだけ溶剤を乾燥させるためにも、離型後に時間を置かずに巻き取ることは好ましくない。 Actually, the reaction rate after UV irradiation and release of the cured resin varies depending on the type of the resin, but the reaction often stops in 10 to 20 seconds. Moreover, in the resin of the Example mentioned later, the liquid which diluted the ultraviolet curable resin with the solvent was apply | coated initially, and the cured resin contains the solvent after ultraviolet irradiation and mold release. After the mold release, the solvent is dried before being wound up (or the protective sheet is laminated). Of course, although the amount of residual solvent does not become zero, it is not preferable to wind up without releasing time after mold release in order to dry the solvent as much as possible.
なお、図1には示されていないが、既述したように、剥離ローラ16と欠陥検査手段21との間、又は、欠陥検査手段21の直後(下流)に温湿度制御手段を設ける場合、温度はたとえば23±1°Cに管理し、湿度はたとえば40±2%RHに管理する。 Although not shown in FIG. 1, as described above, when the temperature / humidity control means is provided between the peeling roller 16 and the defect inspection means 21, or immediately after the defect inspection means 21 (downstream), The temperature is managed at 23 ± 1 ° C., for example, and the humidity is managed at 40 ± 2% RH, for example.
転写形成したパターンは、温度や湿度により、乾燥や吸湿がなされるために、僅かながら変形が進む。これを抑制することは困難であるが、このように一定の環境下に管理すれば、同じ変形量に管理できるので、製品を一定の品質に維持できる。 Since the transferred pattern is dried and absorbed by temperature and humidity, the pattern is slightly deformed. Although it is difficult to suppress this, if the product is managed in a certain environment as described above, it can be managed to have the same amount of deformation, so that the product can be maintained at a constant quality.
ガイドローラG1の下流において、次いで、シートWはダンサーローラ30に搬送され、固定ローラ30A、30Bの間に設けられた移動ローラ30Cの昇降動作によりシートWの張力が制御される。このようなダンサーローラ30(張力制御手段)によりシートWの張力を制御するので、シートWの走行速度が安定し、転写形状が良好となる。
Next, the sheet W is conveyed to the
次いで、シートWは第2のサクションドラム26に巻き掛けられ、吸引保持されて連続走行する。
Next, the sheet W is wound around the
次いで、保護フィルム供給手段17より供給される保護フィルムHがシートWの表面に供給され、両フィルムが重なった状態で、エッジ位置制御手段32の一対の固定ローラ32Aとニップローラ32Eとで挟圧され、シートWの幅方向位置が制御される。本発明の凹凸状シートは、シート表面に微細なパターンを形成するため、シート搬送時の寄りや変動があると、非常に敏感に欠陥発生につながるが、このように、シート状体の幅方向位置を制御することができれば、上記の欠陥発生を有効に防止できる。
Next, the protective film H supplied from the protective film supply means 17 is supplied to the surface of the sheet W, and is sandwiched between the pair of fixed rollers 32A and the nip
次いで、シートWは、シート巻き取り手段18に搬送され、保護フィルムHがシートWの表面に重なった状態でシート巻き取り手段18の巻き取りロールにより巻き取られ、収納される。このようなシートWの完成後の概略断面形状を図3に示す。シートWの表面には、エンボスローラ13表面の凹凸が転写された樹脂層Fが形成されている。
Next, the sheet W is conveyed to the
この巻き取りロールにより巻き取られ、収納された完成後のシートWを一連の工程の後にオフラインで製品サイズに裁断することもできる。このような完成後のシートWは光学フイルムとして好ましく使用される。 The completed sheet W wound up and stored by the winding roll can be cut off to a product size offline after a series of steps. Such a completed sheet W is preferably used as an optical film.
以上説明した本実施の形態によれば、放射線硬化樹脂層に凹凸を転写し、その状態で放射線を照射した後にエンボスローラ13より剥離し、樹脂液層の反応率が70%以上になった状態でシートW表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させるので、表面に規則的な微細凹凸パターンが形成された凹凸状シートを、欠陥なく高品質で、かつ高ラインスピードで生産性よく製造することができる。
According to the present embodiment described above, the unevenness is transferred to the radiation curable resin layer, and after being irradiated with radiation in that state, it is peeled off from the
以上、本発明に係る凹凸状シートの製造方法の実施形態の例について説明したが、本発明は上記実施形態の例に限定されるものではなく、各種の態様が採り得る。 As mentioned above, although the example of embodiment of the manufacturing method of the uneven | corrugated sheet | seat which concerns on this invention was demonstrated, this invention is not limited to the example of the said embodiment, Various aspects can be taken.
たとえば、本実施形態の例では、ローラ状のエンボスローラ13を使用する態様を採用したが、エンドレスベルト等のベルト状体の表面に凹凸パターン(エンボス形状)が形成されたものを使用する態様も採用できる。このようなベルト状体であっても、円柱状のローラと同様に作用し、同様の効果が得られるからである。
For example, in the example of the present embodiment, an aspect using the roller-shaped
以下に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。 EXAMPLES The present invention will be specifically described below with reference to examples, but the present invention is not limited to these examples.
[樹脂液の調整]
図4の表に示す化合物を記載の重量比にて混合し、50°Cに加熱して攪拌溶解し、樹脂液を得た。なお、各化合物の名称と内容は以下の通りである。
[Adjustment of resin liquid]
The compounds shown in the table of FIG. 4 were mixed at the stated weight ratio, heated to 50 ° C. and dissolved by stirring to obtain a resin liquid. In addition, the name and content of each compound are as follows.
EB3700:エベクリル3700、ダイセルUC(株)製、
ビスフェノールAタイプエポキシアクリレート、
(粘度:2200mPa・s/65°C)
BPE200:NKエステルBPE−200、新中村化学(株)製、
エチレンオキシド付加ビスフェノールAメタクリル酸エステル、
(粘度:590mPa・s/25°C)
BR−31 :ニューフロンティアBR−31、第一工業製薬工業(株)製、
トリブロモフェノキシエチルアクリレート、
(常温で固体、融点50°C以上)
LR8893X:Lucirin LR8893X、BASF(株)製の光ラジカル発生剤、
エチル−2,4,6−トリメチルベンゾイルエトキシフェニルオスフィンオキシド
MEK :メチルエチルケトン
[エンボスシートの製造]
図1に示される構成のエンボスシートの製造装置10を使用してエンボスシートの製造を行った。
EB3700: Everkrill 3700, manufactured by Daicel UC Corporation,
Bisphenol A type epoxy acrylate,
(Viscosity: 2200 mPa · s / 65 ° C)
BPE200: NK ester BPE-200, manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd.
Ethylene oxide-added bisphenol A methacrylate,
(Viscosity: 590 mPa · s / 25 ° C)
BR-31: New Frontier BR-31, manufactured by Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.
Tribromophenoxyethyl acrylate,
(Solid at normal temperature, melting point 50 ° C or higher)
LR8883X: Lucirin LR8883X, a photo radical generator manufactured by BASF Corporation,
Ethyl-2,4,6-trimethylbenzoylethoxyphenyl osphine oxide MEK: methyl ethyl ketone [production of embossed sheet]
The embossed sheet was manufactured using the embossed sheet manufacturing apparatus 10 having the configuration shown in FIG.
シートWとして、幅500mm、厚さ100μmの透明なPET(ポリエチレンテレフタレート)のフィルムを使用した。 As the sheet W, a transparent PET (polyethylene terephthalate) film having a width of 500 mm and a thickness of 100 μm was used.
エンボスローラ13として、長さ(シートWの幅方向)が700mm、直径が300mmのS45C製で表面の材質をニッケルとしたローラを使用した。ローラの表面の略500mm幅の全周に、ダイヤモンドバイト(シングルポイント)を使用した切削加工により、ローラ軸方向のピッチが50μmの溝を形成した。溝の断面形状は、頂角が90度の三角形状で、溝の底部も平坦部分のない90度の三角形状である。すなわち、溝幅は50μmであり、溝深さは約25μmである。
As the
この溝は、ローラの周方向に継ぎ目がないエンドレスとなるので、このエンボスローラ13により、シートWに断面が三角形のレンチキュラーレンズ(プリズムシート)が形成できる。ローラの表面には、溝加工後にニッケルメッキを施した。エンボスローラ13の概略断面図は既述の図2に示す通りである。
Since the groove is endless without a seam in the circumferential direction of the roller, the
塗布液F(樹脂液)の湿潤状態の厚さは、有機溶剤乾燥後の膜厚が20μmになるように、塗布ヘッド12Cへの塗布液Fの供給量を液供給装置(送液ポンプ)12Bにより制御した。
The thickness of the coating solution F (resin solution) in the wet state is such that the supply amount of the coating solution F to the
乾燥手段19として、熱風循環方式の装置を用いた。熱風の温度は100°Cに設定した。 As the drying means 19, a hot air circulation type apparatus was used. The temperature of the hot air was set to 100 ° C.
ニップローラ14として、直径が200mmで、表面にゴム硬度が90のシリコンゴムの層を形成したローラを使用した。エンボスローラ13とニップローラ14とでシートWを押圧するニップ圧(実効のニップ圧)は、0.5Paとした。
As the nip roller 14, a roller having a diameter of 200 mm and a silicon rubber layer having a rubber hardness of 90 formed on the surface thereof was used. The nip pressure (effective nip pressure) for pressing the sheet W by the
樹脂硬化手段15として、メタルハライドランプを使用し、1000mJ/cm2のエネルギーで照射を行った。 A metal halide lamp was used as the resin curing means 15 and irradiation was performed with an energy of 1000 mJ / cm 2 .
以上により、ライン速度2m/分にて運転したところ、図5の表に示される実施例及び比較例に対応する凹凸パターンが形成されたシートWを得た。 As described above, when the sheet was operated at a line speed of 2 m / min, a sheet W on which an uneven pattern corresponding to the examples and comparative examples shown in the table of FIG. 5 was formed was obtained.
[樹脂の反応率の測定]
シートW表面の凹凸パターンがガイドローラG1と接触するときの樹脂の反応率(反応基の残存率)をFT−IR(フーリエ変換赤外分光光度計)により測定した。
[Measurement of resin reaction rate]
The reaction rate (residual rate of the reactive group) of the resin when the uneven pattern on the surface of the sheet W was in contact with the guide roller G1 was measured by FT-IR (Fourier transform infrared spectrophotometer).
[温湿度制御条件]
シートWがエンボスローラ13より剥離後、ガイドローラG1と接触するまでの温湿度制御条件は以下のように制御した。
[Temperature and humidity control conditions]
The temperature and humidity control conditions until the sheet W comes off from the
注1:温度を23±1°Cに管理し、湿度を40±2%RHに管理した。 Note 1: Temperature was controlled at 23 ± 1 ° C. and humidity was controlled at 40 ± 2% RH.
注2:温湿度の管理は行わなかった。このときの温度は22〜30°Cの範囲で変動し、湿度は30〜45%RHの範囲で変動した。 Note 2: Temperature and humidity were not controlled. The temperature at this time fluctuated in the range of 22 to 30 ° C., and the humidity fluctuated in the range of 30 to 45% RH.
[エンボス形状の評価]
このシートWを切断し、凹凸パターンの複数箇所における断面形状をSEM(走査型電子顕微鏡)を使用して測定することによりエンボス形状の評価を行い、以下のようにランク付けした。
[Embossed shape evaluation]
The sheet W was cut, and the embossed shape was evaluated by measuring the cross-sectional shape at a plurality of locations of the concavo-convex pattern using an SEM (scanning electron microscope), and ranked as follows.
○ :ほぼエンボスローラ表面の形状を再現している
△ :若干の変形(1μm以内)が認められる
× :かなりの変形(1μm以上)が認められる
図5に表によれば、本発明の実施例1及び2では、樹脂液層の反応率が70%以上になった状態でシートW表面の凹凸パターンをガイドローラG1と接触させ、また、温湿度制御を行ったので、エンボスローラ表面の形状を再現している。
○: The shape of the surface of the embossing roller is almost reproduced. Δ: Some deformation (within 1 μm) is recognized. X: A considerable deformation (1 μm or more) is recognized. According to the table of FIG. In 1 and 2, the uneven pattern on the surface of the sheet W was brought into contact with the guide roller G1 while the reaction rate of the resin liquid layer was 70% or more, and the temperature and humidity were controlled. It is reproduced.
これに対し、比較例1〜3では、樹脂液層の反応率が70%未満の状態でシートW表面の凹凸パターンをガイドローラG1と接触させているので、温湿度制御の有無にかかわらず結果はNGであった。 On the other hand, in Comparative Examples 1 to 3, the uneven pattern on the surface of the sheet W is brought into contact with the guide roller G1 in a state where the reaction rate of the resin liquid layer is less than 70%. Was NG.
以下の結果より、本発明の効果を確認できた。 The effects of the present invention were confirmed from the following results.
10…エンボスシートの製造装置、11…シート供給手段、12…塗布手段、13…エンボスローラ、14…ニップローラ、15…樹脂硬化手段、16…剥離ローラ、17…保護フィルム供給手段、18…シート巻き取り手段、21…欠陥検査手段、24…第1のサクションドラム、26…第2のサクションドラム、28…除塵機、30…ダンサーローラ、32…エッジ位置制御手段、H…保護フィルム、W…シート DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Embossed sheet manufacturing apparatus, 11 ... Sheet supply means, 12 ... Application means, 13 ... Emboss roller, 14 ... Nip roller, 15 ... Resin curing means, 16 ... Peeling roller, 17 ... Protective film supply means, 18 ... Sheet winding Removal means, 21 ... Defect inspection means, 24 ... First suction drum, 26 ... Second suction drum, 28 ... Dust remover, 30 ... Dancer roller, 32 ... Edge position control means, H ... Protective film, W ... Sheet
Claims (8)
放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、
前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写し、
前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、
前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離し、
前記樹脂液層の反応率が70%以上になった状態で前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させることを特徴とする凹凸状シートの製造方法。 In the method for producing a concavo-convex sheet by transferring the concavo-convex on the surface of the concavo-convex roller to the surface of the sheet-like body,
By applying the radiation curable resin liquid, the belt-like flexible sheet-like body on which the resin liquid layer is formed is continuously run,
The sheet-like body is wound around the rotating uneven roller, and the unevenness on the uneven roller surface is transferred to the resin liquid layer,
Irradiating the resin liquid layer with radiation in a state where the sheet-like body is wound around the uneven roller,
The sheet-like body is peeled from the uneven roller,
A method for producing a concavo-convex sheet, wherein the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with a roller member or a support member in a state where the reaction rate of the resin liquid layer is 70% or more.
放射線硬化樹脂液が塗布されることにより、表面に樹脂液層が形成されている帯状可撓性のシート状体を連続走行させ、
前記シート状体を、回転する前記凹凸ローラに巻き掛け、前記樹脂液層に前記凹凸ローラ表面の凹凸を転写し、
前記シート状体が前記凹凸ローラに巻き掛けられている状態で前記樹脂液層に放射線を照射し、
前記シート状体を前記凹凸ローラより剥離し10秒以上経過した後前記シート状体表面の凹凸パターンをローラ部材又は支持部材と接触させることを特徴とする凹凸状シートの製造方法。 In the method for producing a concavo-convex sheet by transferring the concavo-convex on the surface of the concavo-convex roller to the surface of the sheet-like body,
By applying the radiation curable resin liquid, the belt-like flexible sheet-like body on which the resin liquid layer is formed is continuously run,
The sheet-like body is wound around the rotating uneven roller, and the unevenness on the uneven roller surface is transferred to the resin liquid layer,
Irradiating the resin liquid layer with radiation in a state where the sheet-like body is wound around the uneven roller,
A method for producing a concavo-convex sheet, wherein the concavo-convex pattern on the surface of the sheet-like body is brought into contact with a roller member or a support member after 10 seconds or more have passed after the sheet-like body is peeled from the concavo-convex roller.
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WO2009041298A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Konica Minolta Opto, Inc. | Antiglare film, and its manufacturing method |
JP2012185290A (en) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Fujifilm Corp | Method for manufacturing anti-glare film |
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- 2006-01-20 JP JP2006012749A patent/JP2007190859A/en active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2009041298A1 (en) * | 2007-09-28 | 2009-04-02 | Konica Minolta Opto, Inc. | Antiglare film, and its manufacturing method |
JP2012185290A (en) * | 2011-03-04 | 2012-09-27 | Fujifilm Corp | Method for manufacturing anti-glare film |
JP2013010901A (en) * | 2011-06-30 | 2013-01-17 | Hitachi Chemical Co Ltd | Film wound in roll-form and having shape, and method for manufacturing the same |
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