JP2007103973A - Electronic part, electronic part raw material and method of manufacturing electronic part - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an inexpensive, small, and highly reliable leadless package type electronic part, electronic part raw material for manufacturing the electronic part and a method of manufacturing the same. <P>SOLUTION: A leadless package type electronic part has a square substrate 6 provided with a plurality of external electrodes 7 in circumference, an element component 1 mounted on the surface of the substrate 6 under the condition of being electrically connected with the outer electrodes 7, and mold resin 5, with which the element component 1 is molded on the surface of the substrate 6. The surface of the mold resin 5 is flatly formed, and each side surface of the mold resin 5 is formed to be flush with the substrate 6. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、例えば民生用・産業用電子機器に使用するための、プリント基板にICチップやLSI等を搭載した電子部品、電子部品素材および電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to an electronic component in which an IC chip, an LSI, or the like is mounted on a printed board for use in, for example, a consumer / industrial electronic device, an electronic component material, and an electronic component manufacturing method.

近年、エレクトロニクス技術の著しい進歩によって様々な民生用・産業用電子機器の小型・軽量・薄型化、高性能化が急速に進んでいる。そこで、回路規模の増大、使用する電子部品の増加に対応するべく高密度化、高速化を図るために、プリント基板の薄型化およびファインパターン化、多層構造の採用、電子部品の小型化等と共に、電子部品を接続するための様々な実装技術が開発されている。特に、ICチップやLSI等と基板との接続技術として、従来より図14に示されるようなチップキャリア型の電子部品が知られている。   In recent years, due to remarkable progress in electronics technology, various consumer and industrial electronic devices are rapidly becoming smaller, lighter, thinner and higher performance. Therefore, in order to achieve higher density and higher speed in order to cope with the increase in circuit scale and the increase in electronic parts to be used, the printed circuit board is made thinner and finer, the multilayer structure is adopted, and the electronic parts are downsized. Various mounting techniques for connecting electronic components have been developed. In particular, a chip carrier type electronic component as shown in FIG. 14 is conventionally known as a technique for connecting an IC chip, an LSI or the like to a substrate.

図14(a)は、チップキャリア型の電子部品を、半導体素子が搭載された表面側から見た平面図である。また、図14(b)は、図14(a)のA−A'線断面図である。図14(b)に示すように、この電子部品は、予めスルーホール7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチし、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。配線パターン3は、スルーホール(外部電極)7および基板6の裏面に設けた接続用ランド8に続がっており、図外のマザーボードとは、通常ハンダ付けにより、スルーホール7および接続用ランド8を介して接続が執られている。基板6は、通常はプリント基板であるが、セラミクス基板が用いられることもある。基板6上にダイアタッチされた半導体素子1は、ワイヤーボンディングで配線パターン3に接続された後、モールド樹脂5でモールドされる。   FIG. 14A is a plan view of a chip carrier type electronic component as viewed from the surface side on which a semiconductor element is mounted. Moreover, FIG.14 (b) is the sectional view on the AA 'line of Fig.14 (a). As shown in FIG. 14B, this electronic component is obtained by die-attaching a semiconductor element 1 onto a substrate 6 that has been cut in a shape that passes in the vicinity of the axial center of the through hole 7 in advance. The wiring pattern 3 is formed by electrically connecting with the wire 2. The wiring pattern 3 is connected to a through hole (external electrode) 7 and a connection land 8 provided on the back surface of the substrate 6. The mother board (not shown) is connected to the through hole 7 and the connection land by normal soldering. 8 is connected. The substrate 6 is usually a printed circuit board, but a ceramic substrate may be used. The semiconductor element 1 die-attached on the substrate 6 is connected to the wiring pattern 3 by wire bonding and then molded with a molding resin 5.

基板6表面の周縁部には、ダムを構成するモールド枠4が設けられており、このモールド枠4により、モールド樹脂5が半導体素子1の高さまで盛られ、かつスルーホール7からモールド樹脂5が基板6裏面に流れ込まないようになっている。また、モールド枠4を使用しない場合は、同様の理由で、スルーホール7を半導体素子1から遠ざける様に基板6が設計され、かつモールド樹脂5もチクソ性の高いもの(チクソ比の大きいもの=樹脂流れの少ない、盛り上がり性の良いもの)を採用していた。   A mold frame 4 constituting a dam is provided on the peripheral edge of the surface of the substrate 6, and the mold resin 5 is stacked up to the height of the semiconductor element 1 by the mold frame 4, and the mold resin 5 is fed from the through hole 7. It does not flow into the back surface of the substrate 6. When the mold frame 4 is not used, for the same reason, the substrate 6 is designed so that the through hole 7 is kept away from the semiconductor element 1, and the mold resin 5 is also highly thixotropic (thickness ratio is large = Adopted a resin with a little resin flow and good swell.

しかしながら、上述した従来のチップキャリア型の電子部品では、基板6上にモールド枠4を形成する必要があるので、枠形成のコストアップは避けられず、かつモールド枠4の分、チップキャリア型の電子部品寸法が大きくなってしまうという課題を有していた。   However, in the above-described conventional chip carrier type electronic component, since it is necessary to form the mold frame 4 on the substrate 6, an increase in the cost of forming the frame is unavoidable, and the chip frame type is equivalent to the chip frame type. There was a problem that the size of the electronic component would increase.

また、モールド枠4を使用しない場合では、スルーホール7を半導体素子1から遠ざける必要があるため、やはりチップキャリア型の電子部品寸法が大きくなってしまい、かつチクソ性の高いモールド樹脂5、すなわち流動性の悪いモールド材を採用する必要があるため、半導体素子1の近傍の間隙にモールド樹脂5が回り込み難くなって、モールド樹脂5の未充填部が発生し、チップキャリア型の電子部品の信頼性を低下させてしまうという問題を有していた。   Further, when the mold frame 4 is not used, it is necessary to keep the through hole 7 away from the semiconductor element 1, so that the size of the chip carrier type electronic component becomes large and the mold resin 5 having high thixotropy, that is, flow Since it is necessary to use a molding material having poor properties, it becomes difficult for the mold resin 5 to wrap around the gap in the vicinity of the semiconductor element 1 and an unfilled portion of the mold resin 5 is generated, and the reliability of the chip carrier type electronic component Has the problem of lowering.

そこで、本発明の目的は、上記問題を解決し、安価で、小型で信頼性の高いリードレスパッケージ型の電子部品を、またこの電子部品を製作するための電子部品素材および製造方法を提供することを目的としている。   Accordingly, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, and to provide an inexpensive, small and reliable leadless package type electronic component, and an electronic component material and a manufacturing method for manufacturing the electronic component. The purpose is that.

上記課題を解決するため、本発明の電子部品は下記の手段を有することを特徴とする。ここで下記の基板上に載置された要素部品とは、半導体素子に代表される能動素子と、インダクタンス素子、容量素子等のいわゆる受動素子とを含む概念である。   In order to solve the above problems, the electronic component of the present invention is characterized by having the following means. Here, the component parts placed on the following substrate is a concept including an active element typified by a semiconductor element and a so-called passive element such as an inductance element and a capacitive element.

請求項1の電子部品は、周囲に複数の外部電極を設けた方形の基板と、外部電極に電気的に接続された状態で基板の表面に載置した要素部品と、要素部品を基板の表面にモールドしたモールド樹脂とを備えたリードレスパッケージ型の電子部品において、モールド樹脂の表面が平坦に形成されると共に、モールド樹脂の各側面が基板の各側面と面一に形成されていることを特徴とする。   The electronic component according to claim 1 is a rectangular substrate having a plurality of external electrodes around it, an element component mounted on the surface of the substrate in a state of being electrically connected to the external electrode, and an element component on the surface of the substrate. In a leadless package type electronic component including a mold resin molded in a mold, the mold resin surface is formed flat and each side surface of the mold resin is formed flush with each side surface of the substrate. Features.

請求項1の電子部品において、外部電極が、スルーホールを軸方向に切断して形成されたものであることが、好ましい。   In the electronic component according to claim 1, it is preferable that the external electrode is formed by cutting a through hole in an axial direction.

請求項2の電子部品において、外部電極には、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることが、好ましい。   In the electronic component according to claim 2, it is preferable that the external electrode is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability.

請求項4の電子部品において、金属材料がハンダ、或いは金であることが、好ましい。   In the electronic component according to claim 4, it is preferable that the metal material is solder or gold.

また請求項2の電子部品において、外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を、更に備えており、覆装部材は、モールド樹脂により基板の表面にモールドされていると共に、その側端面がモールド樹脂および基板の側面と面一に形成されていること、が好ましい。   The electronic component according to claim 2, further comprising a covering member that closes an opening on the mold resin side of the external electrode, the covering member being molded on the surface of the substrate with the mold resin, It is preferable that the end surface be formed flush with the side surfaces of the mold resin and the substrate.

請求項7の電子部品において、基板と要素部品との間に、覆装部材と全く同一材料のパッドを、更に備えることが好ましい。   Preferably, the electronic component according to claim 7 further includes a pad made of the same material as that of the covering member between the substrate and the component component.

請求項8の電子部品において、パッドには、覆装部材を表裏方向に貫通する貫通孔が形成されており、貫通孔には要素部品と基板の配線領域とを導通する導電性部材が内在されていることが、好ましい。   9. The electronic component according to claim 8, wherein the pad has a through-hole penetrating the covering member in the front and back direction, and the through-hole includes a conductive member that conducts between the component part and the wiring region of the substrate. It is preferable.

請求項7、8または9の電子部品において、覆装部材が、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板であることが、好ましい。   In the electronic component according to claim 7, 8 or 9, the covering member is preferably an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate.

請求項1ないし13のいずれかの電子部品において、外部電極が、基板の角部に設けられていることが、好ましい。   In the electronic component according to any one of claims 1 to 13, it is preferable that the external electrode is provided at a corner of the substrate.

請求項15の電子部品素材は、ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線上に配設した基板素材と、基板素材の仮想線に囲まれた領域に実装した要素部品と、要素部品をモールドするように基板素材の表面全域に流し込んだモールド樹脂とを備えたことを特徴とする。   The electronic component material according to claim 15 surrounds a through-hole in which an external electrode is formed by cutting along a line substantially passing through the axis center on a substrate material arranged on a lattice-like virtual line and a virtual line of the substrate material It is characterized by comprising an element part mounted in the region and a mold resin poured over the entire surface of the substrate material so as to mold the element part.

請求項15の電子部品素材において、基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを、更に備えることが好ましい。   The electronic component material according to claim 15 is preferably further provided with a dam at the peripheral edge portion of the substrate material for preventing the poured mold resin from flowing out.

請求項15または16の電子部品素材において、基板素材に、各スルーホールに連なるメッキリードを、更に備えることが好ましい。   In the electronic component material according to claim 15 or 16, it is preferable that the substrate material further includes a plating lead connected to each through hole.

請求項17の電子部品素材において、メッキリードが、基板素材の表裏両面に配設されていることが、好ましい。   In the electronic component material according to claim 17, it is preferable that the plating leads are disposed on both the front and back surfaces of the substrate material.

請求項15ないし18のいずれかの電子部品素材において、各スルーホールに、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料を充填したことが、好ましい。   The electronic component material according to any one of claims 15 to 18, wherein each through hole is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability.

請求項20の電子部品素材において、金属材料がハンダ、或いは金であることが、好ましい。   The electronic component material according to claim 20, wherein the metal material is preferably solder or gold.

請求項15ないし18のいずれかの電子部品素材において、基板素材の表面に、各スルーホールの開口部を閉塞すると共に、モールド樹脂にモールドされた覆装素材を、更に備えることが好ましい。   It is preferable that the electronic component material according to any one of claims 15 to 18 further includes a covering material molded in a molding resin while closing an opening of each through hole on a surface of the substrate material.

請求項23の電子部品素材において、基板素材と各要素部品との間に、覆装素材と全く同一材料のパッドを、更に備えることが好ましい。   In the electronic component material according to claim 23, it is preferable that a pad made of the same material as the covering material is further provided between the substrate material and each component.

請求項23または24の電子部品素材において、覆装素材が、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板であることが、好ましい。   The electronic component material according to claim 23 or 24, wherein the covering material is preferably an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate.

請求項15ないし28のいずれかの電子部品素材において、スルーホールを、格子状の仮想線の交差部に配設することが、好ましい。   29. The electronic component material according to any one of claims 15 to 28, wherein the through holes are preferably arranged at intersections of lattice-like virtual lines.

請求項30の電子部品の製造方法は、ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線に沿って基板素材に作り込む基板製作工程と、基板素材の仮想線に囲まれた領域に要素部品を実装する実装工程と、要素部品とこれに対応するスルーホールとを電気的に接続する接続工程と、基板素材の表面全域にモールド樹脂を流し込んで要素部品をモールドするモールド工程と、モールド樹脂が硬化した後、基板素材、モールド樹脂およびスルーホールを仮想線に沿って切断する切断工程とを備えたことを特徴とする。   The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein a substrate manufacturing step of forming a through hole in which an external electrode is formed by cutting along a line substantially passing through an axis along a lattice-like virtual line in a substrate material, Mounting process for mounting element parts in the area surrounded by imaginary lines of board material, connection process for electrically connecting element parts and corresponding through-holes, and pouring mold resin over the entire surface of board material And a cutting step of cutting the substrate material, the mold resin and the through hole along a virtual line after the mold resin is cured.

請求項30の電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを形成するダム形成工程を、更に備えることが好ましい。   The method for manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising a dam forming step of forming a dam for preventing the poured mold resin from flowing out at a peripheral portion of the substrate material prior to the molding step.

請求項31または32の電子部品の製造方法において、基板素材を水平に保持する治具を用い、治具により基板素材を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させることが、好ましい。   In the method of manufacturing an electronic component according to claim 31 or 32, it is preferable to use a jig for holding the substrate material horizontally and to cure the mold resin in a state where the substrate material is held horizontally by the jig.

請求項32の電子部品の製造方法において、流し込むモールド樹脂を、重量で管理することが好ましい。   In the method of manufacturing an electronic component according to claim 32, it is preferable that the mold resin to be poured is controlled by weight.

請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、各スルーホールに、導電ペーストを充填する充填工程を、更に備えることが好ましい。   34. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising a filling step of filling each through hole with a conductive paste prior to the molding step.

請求項34の電子部品の製造方法において、充填工程が、導電ペーストを各スルーホールに充填した後これを加熱硬化させることにより、行われることが好ましい。   In the method of manufacturing an electronic component according to claim 34, it is preferable that the filling step is performed by filling each through hole with a conductive paste and then heat-curing it.

請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填する充填工程を、更に備えることが好ましい。   34. The electronic component manufacturing method according to claim 30, further comprising a filling step of filling each through hole with a metal material having solder wettability prior to the molding step.

請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、ハンダペーストを各スルーホールに充填した後これを加熱溶融させることにより、行われることが好ましい。   37. The method of manufacturing an electronic component according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is preferably performed by filling each through hole with solder paste and then heating and melting it.

請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、溶融して波立せたハンダにスルーホールの開口部を接触させることにより、行われることが好ましい。   37. The electronic component manufacturing method according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is preferably performed by bringing the opening of the through hole into contact with the melted and waved solder.

請求項36の電子部品の製造方法において、金属材料がハンダであり、充填工程は、基板素材のスルーホールの開口部を除く部分をマスキングした後、基板素材を溶融したハンダに浸漬することにより、行われることが好ましい。   The method of manufacturing an electronic component according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is performed by immersing the substrate material in molten solder after masking a portion of the substrate material excluding the opening of the through hole. Preferably, it is done.

請求項36の電子部品の製造方法において、充填工程は、スルーホールに厚くメッキを施すことにより、行われることが好ましい。   The electronic component manufacturing method according to claim 36, wherein the filling step is preferably performed by plating the through hole thickly.

請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて基板素材の裏面に開口した各スルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、モールド樹脂が硬化した後、閉塞部材を取り去る開放工程とを、更に備えることが好ましい。   34. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein the molding resin is hardened before the molding step, and a closing step of closing each through hole opening in the back surface of the substrate material using a closing member. After that, it is preferable to further include an opening step of removing the closing member.

請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が基板素材の裏面全域を覆い得る非粘着性の平板状部材であり、閉塞工程は、基板素材の裏面に平板状部材を押し当てることにより、行われることが好ましい。   In the method for manufacturing an electronic component according to claim 41, the closing member is a non-adhesive flat plate member that can cover the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by pressing the flat plate member against the back surface of the substrate material. Preferably, it is done.

請求項42の電子部品の製造方法において、平板状部材が、シリコーンゴムであることが、好ましい。   In the method of manufacturing an electronic component according to claim 42, it is preferable that the flat plate member is silicone rubber.

請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が、基板素材の裏面全域を覆い得る粘着性のシートであり、閉塞工程は、基板素材の裏面にシートを貼着することにより、行われることが好ましい。   42. The electronic component manufacturing method according to claim 41, wherein the closing member is an adhesive sheet that can cover the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by sticking the sheet to the back surface of the substrate material. Is preferred.

請求項44の電子部品の製造方法において、シートが紫外線の照射により粘着性が低下する紫外線硬化シートであり、閉塞工程と開放工程との間で、紫外線硬化シートに紫外線を照射することが、好ましい。   45. The method of manufacturing an electronic component according to claim 44, wherein the sheet is an ultraviolet curable sheet whose adhesiveness is reduced by irradiation with ultraviolet rays, and the ultraviolet curable sheet is preferably irradiated with ultraviolet rays between the closing step and the opening step. .

請求項44の電子部品の製造方法において、シートが加熱することにより粘着性が低下する熱硬化シートであり、閉塞工程と開放工程との間で、熱硬化シートを加熱することが、好ましい。   45. The method of manufacturing an electronic component according to claim 44, wherein the sheet is a thermosetting sheet whose adhesiveness is reduced by heating, and the thermosetting sheet is preferably heated between the closing step and the opening step.

請求項41の電子部品の製造方法において、閉塞部材が、アルカリ水溶液に溶解する溶解性樹脂であり、閉塞工程は、各スルーホールに溶解性樹脂を流し込んで硬化させることにより、行われ、開放工程は、アルカリ水溶液で溶解性樹脂を洗い流すことにより、行われることが好ましい。   42. The method of manufacturing an electronic component according to claim 41, wherein the closing member is a soluble resin that dissolves in an alkaline aqueous solution, and the closing step is performed by pouring and dissolving the soluble resin in each through hole, and an opening step. Is preferably performed by washing away the soluble resin with an aqueous alkaline solution.

請求項30ないし33のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材の表面に、各スルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を取り付ける覆装工程を、更に備えることが好ましい。   34. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising a covering step of attaching a covering material that closes an opening of each through hole to the surface of the substrate material prior to the molding step. preferable.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装素材が粘着性のシートであり、覆装工程は、基板素材の表面に当該シートを貼着することにより、行われることが好ましい。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering material is an adhesive sheet, and the covering step is preferably performed by adhering the sheet to the surface of the substrate material.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がドライフィルムであり、覆装工程は、基板素材の表面にドライフィルムを貼着することにより、行われることが好ましい。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a dry film, and the covering step is preferably performed by sticking the dry film on the surface of the substrate material.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がガラスエポキシの成形板であり、覆装工程は、基板素材の表面に成形板を接着することにより、行われることが好ましい。   49. The method of manufacturing an electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a glass epoxy molded plate, and the covering step is preferably performed by adhering the molded plate to the surface of the substrate material.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がガラスエポキシのプリプレグであり、覆装工程は、基板素材の表面にプリプレグを加熱圧着することにより、行われることが好ましい。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a glass epoxy prepreg, and the covering step is preferably performed by heat-pressing the prepreg on the surface of the substrate material.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がセラミックの成形板であり、覆装工程は、基板素材の表面に成形板を接着することにより、行われることが好ましい。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic forming plate, and the covering step is preferably performed by adhering the forming plate to the surface of the substrate material.

請求項48の電子部品の製造方法において、覆装部材がセラミックのグリーンシートであり、覆装工程は、基板素材の表面にグリーンシートを加熱圧着することにより、行われることが好ましい。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic green sheet, and the covering step is preferably performed by thermocompression bonding the green sheet to the surface of the substrate material.

請求項30ないし54のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド工程に先立ち、基板素材に基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、モールド樹脂の硬化後であって切断工程の前に、平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えることが好ましい。   55. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein a step of attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material prior to the molding step, and a step of cutting after curing of the mold resin It is preferable to further include a step of removing the plane holding means before the step.

請求項55の電子部品の製造方法において、モールド樹脂の硬化後であって、平面保持手段を取り去る前に、基板素材を加熱させ且つ徐冷させることが、好ましい。   55. In the method of manufacturing an electronic component according to claim 55, it is preferable that the substrate material is heated and gradually cooled after the mold resin is cured and before the plane holding means is removed.

請求項30ないし54のいずれかの電子部品の製造方法において、モールド樹脂の硬化後であって切断工程の前に、基板素材に基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、基板素材を加熱させ且つ徐冷させる工程と、平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えることが好ましい。   55. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, wherein a step of attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material after the mold resin is cured and before the cutting step; It is preferable to further include a step of heating and gradually cooling the material and a step of removing the plane holding means.

請求項55、56または57の電子部品の製造方法において、平面保持手段は、基板素材の裏面側に当てがう平面保持板と、平面保持板および基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで、構成されていることが好ましい。   The method of manufacturing an electronic component according to claim 55, 56, or 57, wherein the plane holding means includes a plane holding plate applied to the back side of the substrate material, and a clamping member that holds the plane holding plate and the substrate material together. It is preferable to be configured.

請求項30ないし58のいずれかの電子部品の製造方法において、基板製作工程において、基板素材に、スルーホールと共に、各スルーホールに連なるメッキリードを一体に作り込むことが、好ましい。   In the method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 58, it is preferable that a plating lead connected to each through hole is integrally formed in the substrate material together with the through hole in the substrate manufacturing step.

請求項59の電子部品の製造方法において、切断工程に先立ち、基板素材およびモールド樹脂に切り込みを入れてメッキリードをスルーホールから切り離す半切断工程と、これに続く要素部品の電気的な検査を行う検査工程とを、更に備えることが好ましい。   60. In the method of manufacturing an electronic component according to claim 59, prior to the cutting step, the substrate material and the mold resin are cut and the plating lead is separated from the through hole, and the subsequent electrical inspection of the component parts is performed. It is preferable to further include an inspection step.

請求項60に記載の電子部品の製造方法において、半切断工程における切り込みが、仮想線に沿って行われることが好ましい。   The electronic component manufacturing method according to claim 60, wherein the cutting in the half-cutting step is preferably performed along a virtual line.

請求項30ないし61のいずれかの電子部品の製造方法において、切断工程に先立ち、基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着する工程を、更に備え、切断工程が、シートを完全切断することなく行われることが、好ましい。
(作用)
62. The method of manufacturing an electronic component according to claim 30, further comprising a step of attaching an adhesive sheet to one side of the substrate material prior to the cutting step, and the cutting step completely cuts the sheet. It is preferable that this is done without any problems.
(Function)

請求項1の電子部品によれば、モールド樹脂の表面が平坦に形成されていることにより、全体の厚みを一定にすることができる。また、モールド樹脂の各側面が基板の各側面と面一に形成されていることにより、ダムなどによるスペースの無駄がなく、全体の平面形状を小さく形成することができる。   According to the electronic component of the first aspect, since the surface of the mold resin is formed flat, the entire thickness can be made constant. Further, since each side surface of the mold resin is formed flush with each side surface of the substrate, there is no waste of space due to a dam or the like, and the entire planar shape can be formed small.

請求項2の電子部品によれば、外部電極がスルーホールを軸方向に切断して成ることにより、例えば、外部電極にハンダなどを充填しておかなければ、外部電極をプローブピンの位置決め穴として用いることにより、電気的な検査が容易になる。   According to the electronic component of claim 2, the external electrode is formed by cutting the through hole in the axial direction. For example, if the external electrode is not filled with solder or the like, the external electrode is used as a positioning hole for the probe pin. By using it, electrical inspection becomes easy.

請求項3および4の電子部品によれば、外部電極に、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることにより、取扱い性が良好になり、またマザーボードなどにハンダ付けする場合に、外部電極のマザーボード側下部にフィレットが形成され易くなり、ハンダ付け性を向上させることができる。また、モールド工程において、外部電極にモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になると共に、従来のダムに相当する部材を省略することができ、かつ要素部品と外部電極とを近接して配置することができる。このため、製造コストを低減することができると共に、全体をコンパクトに形成することができる。しかも、チクソ性の低い、すなわち回り込みの良好なモールド材を用いることができる。   According to the electronic components of claims 3 and 4, when the external electrode is filled with a conductive paste or a metal material having solder wettability, the handleability is improved, and when soldering to a motherboard or the like In addition, a fillet is easily formed at the lower part of the external electrode on the mother board side, and solderability can be improved. Also, in the molding process, the mold resin does not flow into the external electrode, facilitating the production, omitting members corresponding to conventional dams, and arranging the component parts and the external electrode close to each other. can do. For this reason, while being able to reduce manufacturing cost, the whole can be formed compactly. Moreover, it is possible to use a mold material having low thixotropy, that is, good wraparound.

請求項5および6の電子部品によれば、上記金属材料にハンダ、或いは金を用いることにより、マザーボードなどへのハンダ付け性を、より一層向上させることができる。   According to the electronic components of the fifth and sixth aspects, by using solder or gold as the metal material, it is possible to further improve the solderability to a mother board or the like.

請求項7の電子部品によれば、外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を設け、且つこの覆装部材の側端面がモールド樹脂および基板の側面と面一に形成されていることにより、請求項2および3と同様に、モールド工程において、外部電極にモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造コストを低減することができると共に、全体をコンパクトに形成することができる。また、チクソ性の低いモールド材を用いることができる。   According to the electronic component of the seventh aspect, the covering member for closing the opening on the mold resin side of the external electrode is provided, and the side end surface of the covering member is formed flush with the side surface of the mold resin and the substrate. Thus, as in the second and third aspects, in the molding step, the molding resin does not flow into the external electrode, the manufacturing cost can be reduced, and the whole can be formed compactly. Moreover, a mold material with low thixotropy can be used.

請求項8の電子部品によれば、基板と要素部品との間に、覆装部材と全く同一のパッドを設けることにより、このパッドを位置決めの目標として要素部品を実装することができる。また、要素部品の端が覆装部材に載って、要素部品が傾いた状態で実装されるなどの不具合を防止することができる。   According to the electronic component of the eighth aspect, by providing the same pad as the covering member between the substrate and the component component, the component component can be mounted using the pad as a positioning target. In addition, it is possible to prevent a problem such that the end of the element part is mounted on the covering member and the element part is mounted in an inclined state.

請求項9の電子部品によれば、パッドに貫通孔を形成し、この貫通孔に導電性部材を内在させることにより、ダイパッドを必要とする要素部品において、要素部品とダイパッドとを導通して、同電位にすることができる。   According to the electronic component of claim 9, by forming a through hole in the pad and making the through hole contain a conductive member, in the element component that requires the die pad, the element component and the die pad are electrically connected, The same potential can be obtained.

請求項10ないし13の電子部品によれば、覆装部材を粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができる。特に、ドライフィルムなどでは、基板の製造工程に用いるフォトプロセスを適用することができ、より一層加工および取付を容易に行うことができる。   According to the electronic component of the tenth to thirteenth aspects, the covering member is made of an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate, so that processing and attachment can be easily performed. In particular, in the case of a dry film or the like, a photo process used in a substrate manufacturing process can be applied, and further processing and attachment can be easily performed.

請求項14の電子部品によれば、外部電極が、基板の角部に設けられていることにより、基板のプリントパターンを分散して配置することができ、デッドスペースとなりがちな基板の角部を有効に利用することができる。このため、プリントパターンの適正化を図ることができると共に、デッドスペースがなくなる分、全体をコンパクトに形成することができる。   According to the electronic component of the fourteenth aspect, since the external electrode is provided at the corner portion of the substrate, the printed pattern of the substrate can be distributed and arranged, and the corner portion of the substrate that tends to be a dead space is formed. It can be used effectively. As a result, the print pattern can be optimized and the entire space can be compactly formed because dead space is eliminated.

請求項15の電子部品素材によれば、これを仮想線に沿って切断することにより、周囲に外部電極を有する基板に、要素部品が実装され且つモールドされたリードレス型の電子部品を形成することができる。この切り出された電子部品では、モールド樹脂の各側面と基板の各側面とが面一となり、請求項2と同様な電子部品を製作することができる。この場合、1個の電子部品を切り出せるような電子部品素材でもよいが、半導体ウェハのように、多数の電子部品要素を格子状に組み込んでおいて、多数の電子部品を切り出せるような電子部品素材にすることが、好ましい。このようにすれば、コンパクトに形成された電子部品を簡単かつ迅速に製作することができる。   According to the electronic component material of claim 15, a leadless electronic component in which element components are mounted and molded is formed on a substrate having external electrodes around by cutting the material along a virtual line. be able to. In this cut-out electronic component, each side surface of the mold resin and each side surface of the substrate are flush with each other, and an electronic component similar to the second aspect can be manufactured. In this case, an electronic component material that can cut out one electronic component may be used, but an electronic device that can cut out a large number of electronic components by incorporating a large number of electronic component elements in a lattice shape like a semiconductor wafer. It is preferable to use a component material. In this way, it is possible to easily and quickly manufacture a compact electronic component.

請求項16の電子部品素材によれば、基板素材の周縁部にダムを設けることにより、モールド工程において、モールド樹脂の基板素材外への流出を阻止することができ、モールド樹脂の流し込み(塗布)を効率よく行うことができると共に、チクソ性の低いモールド材を使用することができる。   According to the electronic component material of the sixteenth aspect, by providing a dam at the peripheral portion of the substrate material, it is possible to prevent the mold resin from flowing out of the substrate material in the molding process, and the mold resin is poured (applied). Can be performed efficiently, and a molding material with low thixotropy can be used.

請求項17の電子部品素材によれば、メッキリードを更に設けることにより、複数の電子部品要素に一括してメッキを施すことができる。その際、電子部品要素は集約的に配設されているため、メッキのムラおよび無駄を少なくすることができる。   According to the electronic component material of the seventeenth aspect, by further providing a plating lead, a plurality of electronic component elements can be plated in a lump. At this time, since the electronic component elements are arranged in an intensive manner, plating unevenness and waste can be reduced.

請求項18の電子部品素材によれば、メッキリードが基板素材の表裏両面に配設されていることにより、メッキ電流の局在化が抑制され、メッキ厚を全域において一定にすることができる。   According to the electronic component material of the eighteenth aspect, since the plating leads are arranged on both the front and back surfaces of the substrate material, localization of the plating current is suppressed, and the plating thickness can be made constant in the entire area.

請求項19および20の電子部品素材によれば、スルーホールに、導電ペースト、或いはハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、基板製造技術における印刷工程やメッキ工程により、複数の電子部品要素に一括して金属材料の充填を行うことができ、またモールド工程において、スルーホールにモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になる。しかも、切り出した電子部品のスルーホール(外部電極)には、上記の金属材料が充填されており、請求項3または4と同様の電子部品を製造することができる。   According to the electronic component material of claims 19 and 20, a plurality of electronic component elements can be obtained by filling a through hole with a conductive paste or a metal material having solder wettability by a printing process or a plating process in the board manufacturing technology. The metal material can be filled at once, and the molding resin does not flow into the through hole in the molding process, and the manufacturing is facilitated. And the through-hole (external electrode) of the cut-out electronic component is filled with said metal material, and the electronic component similar to Claim 3 or 4 can be manufactured.

請求項21および22の電子部品素材によれば、上記金属材料にハンダ、或いは金を用いることにより、切り出した電子部品を、請求項5および6と同様にハンダ付け性の良好な電子部品とすることができる。   According to the electronic component material of claims 21 and 22, by using solder or gold for the metal material, the cut-out electronic component is made an electronic component with good solderability as in the case of claims 5 and 6. be able to.

請求項23の電子部品素材によれば、基板素材の表面にスルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を設けることにより、複数の電子部品要素に一括して覆装素材を設けることができると共に、モールド工程において、スルーホールにモールド樹脂が流れ込むことがなく、製造が容易になる。しかも、切り出した電子部品を、請求項7と同様の電子部品とすることができる。   According to the electronic component material of claim 23, by providing the covering material that closes the opening portion of the through hole on the surface of the substrate material, it is possible to provide the covering material collectively to a plurality of electronic component elements. In the molding process, the mold resin does not flow into the through hole, and the manufacturing becomes easy. Moreover, the cut-out electronic component can be the same electronic component as in the seventh aspect.

請求項24の電子部品素材によれば、基板素材と各要素部品との間に、覆装素材と全く同一のパッドを設けることにより、パッドの取付けが容易になると共に歩留まりを良好にすることができる。また、切り出した電子部品を、請求項8と同様の電子部品とすることができる。   According to the electronic component material of the twenty-fourth aspect, by providing the same pad as the covering material between the substrate material and each component, it is possible to facilitate the attachment of the pad and improve the yield. it can. Further, the cut-out electronic component can be the same electronic component as in the eighth aspect.

請求項25ないし28の電子部品素材によれば、覆装素材を粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシ板、或いはセラミック板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができ、かつ切り出した電子部品を請求項10ないし13と同様の電子部品とすることができる。   According to the electronic component material of claims 25 to 28, the covering material can be made of an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate, so that processing and attachment can be easily performed, and The cut out electronic component can be the same electronic component as in the tenth to thirteenth aspects.

請求項29の電子部品素材によれば、スルーホールを格子状の仮想線の交差部に設けることにより、切り出した電子部品を、基板の角部にスルーホール(外部電極)を設けた請求項14と同様の電子部品とすることができる。   According to the electronic component material of claim 29, the through-hole (external electrode) is provided at the corner of the substrate by providing the through-hole at the intersection of the lattice-like virtual lines. It can be set as the same electronic component.

請求項30の電子部品の製造方法によれば、基板製作工程、実装工程、接続工程およびモールド工程を経て、モールド樹脂が硬化すると、請求項15と同様の電子部品素材が形成され、さらに切断工程を経ることにより、請求項2と同様の電子部品が切り出される。このため、電子部品素材に電子部品要素を多数作り込んでおけば、電子部品を一括に多数製作することができる。また、切断により、各電子部品のモールド樹脂の側面と基板の側面とを完全に面一に形成することができる。なお、切断位置(線)は仮想線に沿っている限り、仮想線上でもよいし、仮想線からわずかに外れていてもよい。また、切断方法は、ダイシングが好ましいが、ブレーキングなどでもよい。   According to the electronic component manufacturing method of claim 30, when the mold resin is cured through the substrate manufacturing process, the mounting process, the connection process, and the molding process, the electronic component material similar to that of claim 15 is formed, and the cutting process is further performed. Through this process, the same electronic component as in claim 2 is cut out. For this reason, if a large number of electronic component elements are built in the electronic component material, a large number of electronic components can be manufactured at once. Moreover, the side surface of the mold resin and the side surface of the substrate of each electronic component can be formed completely flush by cutting. The cutting position (line) may be on the virtual line as long as it is along the virtual line, or may be slightly off the virtual line. The cutting method is preferably dicing, but may be braking or the like.

請求項31の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の周縁部にダムを形成することにより、モールド樹脂の基板素材外への流出を阻止することができ、モールド樹脂の流し込み(塗布)を効率よく行うことができると共に、チクソ性の低いモールド材を使用することができる。また、モールド樹脂を均一に塗布することができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 31, by forming a dam in the peripheral portion of the substrate material prior to the molding step, it is possible to prevent the mold resin from flowing out of the substrate material. Casting (coating) can be performed efficiently, and a mold material with low thixotropy can be used. Further, the mold resin can be uniformly applied.

請求項32の電子部品の製造方法によれば、治具を用い、基板素材を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させることにより、モールド樹脂を、より一層均一に塗布することができる。   According to the electronic component manufacturing method of the thirty-second aspect, the mold resin can be applied more uniformly by curing the mold resin in a state where the substrate material is held horizontally using a jig.

請求項33の電子部品の製造方法によれば、流し込むモールド樹脂を重量で管理することにより、供給装置からの吐出時間で管理する従来の方法に比して、モールド樹脂の厚さ精度を格段に向上することができ、ひいては、電子部品の厚さを精度良く管理することができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 33, by controlling the mold resin to be poured by weight, the thickness accuracy of the mold resin is markedly improved compared to the conventional method of managing by the discharge time from the supply device. As a result, the thickness of the electronic component can be managed with high accuracy.

請求項34および35の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、スルーホールに導電ペーストを充填することにより、請求項18と同様の電子部品素材を形成することができ、さらにこれを切断することにより、請求項3と同様の電子部品を製作することができる。   According to the electronic component manufacturing method of claims 34 and 35, an electronic component material similar to that of claim 18 can be formed by filling the through holes with a conductive paste prior to the molding step. By cutting, an electronic component similar to the third aspect can be manufactured.

請求項36の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、スルーホールにハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、請求項19と同様の電子部品素材を形成することができ、さらにこれを切断することにより、請求項4と同様の電子部品を製作することができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 36, by filling the through hole with a metal material having solder wettability prior to the molding step, an electronic component material similar to claim 19 can be formed, Further, by cutting this, an electronic component similar to the fourth aspect can be manufactured.

請求項37の電子部品の製造方法によれば、ハンダペーストをスルーホールに充填した後、これを加熱溶融させることにより、スルーホールにハンダが充填される。この方法では、ステンシルやドライフィルムなどを用いた基板製造技術を適用できるため、ハンダの充填を正確かつ簡単に行うことができる。   According to the electronic component manufacturing method of the thirty-seventh aspect, after the solder paste is filled into the through hole, the through hole is filled with the solder by heating and melting it. In this method, a substrate manufacturing technique using a stencil, a dry film, or the like can be applied, so that solder can be filled accurately and easily.

請求項38の電子部品の製造方法によれば、溶融して波立たせたハンダにスルーホールの開口部を接触させることにより、ハンダが毛細管現象によりスルーホール内に侵入して、充填される。この方法では、ハンダの充填を迅速に行うことができ、かつマザーボードに実装するためのハンダを予め電子部品に供給しておくことができる。   According to the electronic component manufacturing method of the thirty-eighth aspect, by bringing the opening portion of the through hole into contact with the melted and waved solder, the solder enters the through hole by a capillary phenomenon and is filled. In this method, the solder can be quickly filled, and the solder for mounting on the mother board can be supplied to the electronic component in advance.

請求項39の電子部品の製造方法によれば、基板素材にマスキングを行った後、これを溶融したハンダに浸清することにより、ハンダがスルーホールにのみ侵入し、これに充填される。この方法では、ハンダの充填を正確かつ簡単に行うことができる。なお、上記の請求項38方法を併用すれば、ハンダの充填を正確かつ迅速に行うことができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 39, after masking the substrate material, the solder is infiltrated into molten solder so that the solder penetrates only into the through hole and is filled therein. In this method, solder can be filled accurately and easily. If the method of claim 38 is used in combination, solder can be filled accurately and quickly.

請求項40の電子部品の製造方法によれば、スルーホールに厚くメッキを施すことにより、スルーホール内がメッキで埋まり、スルーホールにメッキ材が充填された状態になる。この方法では、基板素材のプリントパターンへのメッキ処理を併用することができ、ハンダの充填を極めて簡単に行うことができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 40, by plating the through hole thickly, the inside of the through hole is filled with the plating, and the through hole is filled with the plating material. In this method, the plating process on the printed pattern of the substrate material can be used together, and the solder can be filled very easily.

請求項41の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて基板素材の裏面に開口したスルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、モールド樹脂が硬化した後、閉塞部材を取り去る開放工程とを備えることにより、モールド工程において、各スルーホール内にエアーが封じ込まれ、スルーホールへのモールド樹脂の侵入が阻止される。このため、電子部品に作り込まれてしまう覆装部材や充填部材などを用いることなく、モールド樹脂のスルーホールへの流れ込みを防止することができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 41, prior to the molding step, the closing step of closing the opening of the through hole opened on the back surface of the substrate material using the closing member, and the sealing after the mold resin is cured In the molding process, air is sealed in each through hole, and the mold resin is prevented from entering the through hole. For this reason, it is possible to prevent the mold resin from flowing into the through-hole without using a covering member, a filling member, or the like that is built into the electronic component.

請求項42および43の電子部品の製造方法によれば、基板素材の裏面全域を覆うように平板状部材を押し当てて、閉塞工程を行うことにより、全スルーホールの閉塞を一括して行うことができると共に、開放工程を極めて容易に行うことができる。その際、平板状部材としてシリコーンゴムを用いることにより、温度変化などに対し、密着性が損なわれることがなく、封じ込まれたエアーが抜けてしまうなどの支障生ずることがない。   According to the electronic component manufacturing method of claims 42 and 43, all the through holes are collectively closed by pressing the flat plate member so as to cover the entire back surface of the substrate material and performing the closing process. And the opening process can be performed very easily. At that time, the use of silicone rubber as the flat plate member does not impair the adhesiveness against a temperature change or the like, and does not cause troubles such as the enclosed air coming out.

請求項44の電子部品の製造方法によれば、閉塞部材を、基板素材の裏面全域を覆う粘着性のシートで構成することにより、これを押さえておくことなく、所望の密着性を保持することができ、かつ基板素材に簡単に取り付けることができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 44, by forming the closing member with an adhesive sheet that covers the entire back surface of the substrate material, it is possible to maintain desired adhesion without holding it down. And can be easily attached to the substrate material.

請求項45および46の電子部品の製造方法によれば、シートを、紫外線、或いは熱により粘着力が低下するシートで構成することにより、モールド樹脂が硬化した後、これらシートに紫外線を照射し、或いは熱を加えれば、貼着力の強いシートであっても、簡単に引き剥がすことができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claims 45 and 46, the sheet is composed of a sheet whose adhesive strength is reduced by ultraviolet light or heat, and after the mold resin is cured, the sheet is irradiated with ultraviolet light. Alternatively, if heat is applied, even a sheet having a strong adhesive force can be easily peeled off.

請求項47の電子部品の製造方法によれば、閉塞部材を、各スルーホールに流し込んで硬化させたアルカリ水溶液に溶解する樹脂で構成することにより、モールド樹脂が硬化した後、好ましくは切断工程の後アルカリ水溶液で洗えば、閉塞部材を電子部品から簡単かつ完全に取り去ることができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 47, preferably, the closing member is made of a resin that is dissolved in an alkaline aqueous solution that is poured into each through-hole to be cured, and preferably after the molding resin is cured. If the post-washing is performed with an aqueous alkaline solution, the closing member can be easily and completely removed from the electronic component.

請求項48の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の表面に、スルーホールを閉塞する覆装素材を取り付けることにより、モールド樹脂が硬化すると、請求項23と同様の電子部品素材が形成され、さらに切断工程を経ることにより、請求項7と同様の電子部品が製作される。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 48, when the molding resin is cured by attaching a covering material that closes the through hole to the surface of the substrate material prior to the molding step, the same electronic device as in claim 23 is obtained. An electronic component similar to claim 7 is manufactured by forming a component material and further performing a cutting process.

請求項49ないし54の電子部品の製造方法によれば、覆装素材を、粘着性のシート、ドライフィルム、ガラスエポキシの成形板、或いはセラミックの成形板で構成することにより、加工および取付を容易に行うことができ、かつ切り出した電子部品を請求項10ないし13と同様の電子部品とすることができる。また、ガラスエポキシのプリプレグやセラミックのグリーンシートを用い、これを加熱圧着して覆装素材とすることにより、より一層、加工を容易にすることができる。   According to the electronic component manufacturing method of claims 49 to 54, the covering material is formed of an adhesive sheet, a dry film, a glass epoxy molded plate, or a ceramic molded plate, thereby facilitating processing and mounting. In addition, the cut-out electronic component can be the same electronic component as in the tenth to thirteenth aspects. Further, by using a glass epoxy prepreg or a ceramic green sheet and heat-pressing it to form a covering material, the processing can be further facilitated.

請求項55の電子部品の製造方法によれば、モールド工程に先立ち、基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付けることにより、モールド樹脂が硬化する際に、モールド樹脂と基板素材との熱膨張率の相違に基づく、基板素材の反りを緩和することができる。これにより、切り出した電子部品を、反りの無いハンダ付け性の良好なものとすることができる。   According to the method of manufacturing an electronic component of claim 55, when the mold resin is cured by attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material prior to the molding step, the heat of the mold resin and the substrate material is increased. Warping of the substrate material based on the difference in expansion coefficient can be reduced. Thereby, the cut-out electronic component can be made to have good solderability without warping.

請求項56および57の電子部品の製造方法によれば、平面保持手段を取り去る前に、基板素材を硬化したモールド樹脂と共に、再度加熱させ且つ徐冷させることにより、モールド樹脂の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)を生じさせることができ、より一層基板素材の反りを緩和することができる。なお、モールド樹脂が硬化した後に平面保持手段を取り付けて、加熱・徐冷させてもクリープ現象を生じさせることができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claims 56 and 57, before removing the plane holding means, the substrate material is reheated and slowly cooled together with the hardened mold resin, whereby the relaxation phenomenon due to the viscous component of the mold resin. (Creep phenomenon) can be generated, and the warpage of the substrate material can be further reduced. In addition, a creep phenomenon can be produced even if a plane holding means is attached after the mold resin is cured and heated and gradually cooled.

請求項58の電子部品の製造方法によれば、平面保持手段が、基板素材に裏面側から当てがった平面保持板と、平面保持板および基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで構成されていることにより、単に基板素材に平面保持板と挟持部材とを取り付けておくだけで、基板素材の平面度を保持することができ、かつモールド工程などにおいて、平面保持手段がじゃまになることがない。もっとも、挟持部材を枠状に形成すれば、前記のダムの機能を持たせることもできる。また、平面保持板に請求項42の平板状部材を兼ねさせてもよい。   According to the electronic component manufacturing method of claim 58, the plane holding means includes a plane holding plate applied to the substrate material from the back surface side, and a clamping member that holds the plane holding plate and the substrate material together. As a result, the flatness of the substrate material can be maintained simply by attaching the flat holding plate and the clamping member to the substrate material, and the flat surface holding means may be obstructed in the molding process or the like. Absent. However, if the clamping member is formed in a frame shape, the function of the dam can be provided. Moreover, you may make a flat holding plate serve as the flat member of Claim 42.

請求項59の電子部品の製造方法によれば、基板素材にメッキリードを作り込むことにより、請求項17と同様の電子部品素材が形成され、複数の電子部品要素に一括してメッキを施すことができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 59, by forming a plating lead on the substrate material, an electronic component material similar to that of claim 17 is formed, and a plurality of electronic component elements are collectively plated. Can do.

請求項60の電子部品の製造方法によれば、切断工程に先立ち、半切断によりメッキリードをスルーホールから切り離した後、要素部品の電気的な検査を行うことにより、電子部品素材の状態で、電子部品要素を電気的に独立させることができ、この状態で各電子部品要素の検査を行うことができる。したがって、検査工程を単純化することができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 60, prior to the cutting step, after separating the plating lead from the through hole by half cutting, by performing an electrical inspection of the element component, in the state of the electronic component material, The electronic component elements can be made electrically independent, and each electronic component element can be inspected in this state. Therefore, the inspection process can be simplified.

請求項61の電子部品の製造方法によれば、半切断が仮想線に沿って行われることにより、半切断工程における切断線と切断工程における完全切断線とを同一にすることができ、切断を効率良く行うことができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 61, the half-cut is performed along a virtual line, whereby the cut line in the half-cutting step and the complete cut line in the cutting step can be made the same. It can be done efficiently.

請求項62の電子部品の製造方法によれば、切断工程に先立ち、基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着しておくことにより、半導体ウェハのダイシング工程と同様に、切断後の電子部品がばらばらになってしまうのを防止することができ、後工程を容易にすることができる。   According to the method for manufacturing an electronic component of claim 62, by attaching an adhesive sheet to the entire area of one side of the substrate material prior to the cutting step, the electronic device after cutting is similar to the dicing step of the semiconductor wafer. It is possible to prevent the parts from falling apart and to facilitate the post-process.

本発明は、以上のように構成されているので、以下に記載されるような効果を奏する。   Since this invention is comprised as mentioned above, there exists an effect as described below.

請求項1の電子部品によれば、モールド樹脂の表面が平坦に形成されているため、全体の厚みを一定に且つ薄くすることができる。また、ダムが無いない分、構造が単純で且つ平面形状を小さくすることができる。さらに、スルーホールを利用して、電気的な検査を容易にすることができる。このため、安価で且つ小型に製作することができる。一方、スルーホールにハンダ濡れ性を有する金属材料を充填することにより、ダムが不要となると共に、ハンダ付け性を向上させることができ、小型化および信頼性の向上を図ることができる。同様に、スルーホールの開口部を閉塞する覆装部材を設けることにより、小型化を達成することができる。さらに、スリーホールを基板の角部に設けることにより、小型化を達成することができる。   According to the electronic component of the first aspect, since the surface of the mold resin is formed flat, the entire thickness can be made constant and thin. Further, since there is no dam, the structure is simple and the planar shape can be reduced. Furthermore, electrical inspection can be facilitated by using a through hole. For this reason, it can be manufactured inexpensively and in a small size. On the other hand, by filling the through hole with a metal material having solder wettability, a dam is not necessary, solderability can be improved, and miniaturization and improved reliability can be achieved. Similarly, it is possible to achieve downsizing by providing a covering member that closes the opening of the through hole. Further, the size reduction can be achieved by providing the three holes at the corners of the substrate.

請求項15の電子部品素材によれば、切断により電子部品となる電子部品要素を、一度に多数製作することができ、かつ請求項2の電子部品を効率よく製作する(切り出す)ことができる。また、基板素材にダムを設けることにより、各電子部品要素に対してモールド樹脂を均一かつ良好に塗布することができる。さらに、メッキリードを作り込むことにより、各電子部品要素に同時にメッキを施すことができる。   According to the electronic component material of the fifteenth aspect, a large number of electronic component elements that become electronic components by cutting can be manufactured at one time, and the electronic component of the second aspect can be efficiently manufactured (cut out). Further, by providing the substrate material with a dam, the mold resin can be uniformly and satisfactorily applied to each electronic component element. Furthermore, by plating the lead, it is possible to apply plating to each electronic component element at the same time.

請求項30の電子部品の製造方法によれば、請求項2の電子部品を、一度に多数製作することができる。すなわち、安価で且つ小型な電子部品を効率よく製作することができる。また、モールド樹脂を重量で管理し、水平に保持した状態で硬化させることにより、モールドの信頼性を損なうことなく、電子部品を最大限に薄く形成することができる。さらに、モールド樹脂を硬化させる際に、平面保持手段を用いることにより、簡単な方法で基板の平面度を精度良く保持でき、電子部品の信頼性を向上させることができる。しかも、電子部品として切り離す前の電子部品要素の段階で、電気的な検査を行うことができ、検査工程を単純化することができる。   According to the electronic component manufacturing method of claim 30, a large number of electronic components of claim 2 can be manufactured at a time. That is, an inexpensive and small electronic component can be efficiently manufactured. Further, by controlling the mold resin by weight and curing the resin in a horizontally held state, the electronic component can be formed as thin as possible without impairing the reliability of the mold. Further, when the mold resin is cured, by using the plane holding means, the flatness of the substrate can be accurately maintained by a simple method, and the reliability of the electronic component can be improved. Moreover, an electrical inspection can be performed at the stage of the electronic component element before separation as an electronic component, and the inspection process can be simplified.

以下に、本発明の実施例について図面を参照して詳細に説明する。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings.

図1は本発明の一実施例に係るチップキャリア型(リードレスパッケージ型)の電子部品の構造図である。図1(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図1(a)は、図1(b)のC−C'線断面図である。図1(a)に示すように、この電子部品は、予めハンダ9が充填されているスルーホール(外部電極)7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。   FIG. 1 is a structural diagram of a chip carrier type (leadless package type) electronic component according to an embodiment of the present invention. FIG. 1B is a back view of the chip carrier type electronic component as seen from the back side. FIG. 1A is a cross-sectional view taken along the line CC ′ of FIG. As shown in FIG. 1 (a), this electronic component has a semiconductor element 1 placed on a substrate 6 cut in an outer shape passing through the vicinity of the axial center of a through hole (external electrode) 7 filled with solder 9 in advance. In addition to die attachment, the semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected by wires 2.

ここで、要素部品として半導体素子1を例に説明してゆくが、要素部品としては、半導体素子(IC,LSI等)等の能動素子の他、インダクタンス素子、容量素子等のいわゆる受動素子でもよく、一般的に基板上に載置されたものが該当する。   Here, the semiconductor element 1 will be described as an example of the element part. However, the element part may be an active element such as a semiconductor element (IC, LSI, etc.) or a so-called passive element such as an inductance element or a capacitor element. In general, those mounted on a substrate are applicable.

そして、この配線パターン3の一部が、ワイヤーボンディングのボンディングパッドとなる構造となっている。配線パターン3は、スルーホール(外部電極)7を経て接続用ランド8に続がっており、図外のマザーボードとは通常ハンダ付けで、スルーホール7および接続用ランド8を介して接続がとられる。この場合、スルーホール7の内部には、ハンダ9が充填されており、スルーホール(電子部品側面)のハンダフィレット(ハンダの裾びき)が形成し易くなっている。これにより、既知のように電子部品の信頼性を向上させることができると共に、電子部品の実装工程での外観検査性を向上させることができる。   A part of the wiring pattern 3 is structured to be a bonding pad for wire bonding. The wiring pattern 3 is connected to the connection land 8 through the through hole (external electrode) 7, and is usually soldered to a mother board (not shown) and connected through the through hole 7 and the connection land 8. It is done. In this case, the inside of the through hole 7 is filled with solder 9, and it is easy to form a solder fillet (solder skirt) of the through hole (side surface of the electronic component). As a result, the reliability of the electronic component can be improved as is known, and the appearance inspection property in the mounting process of the electronic component can be improved.

基板6は、通常はプリント基板であるが、セラミクス基板が用いられることもある。モールド樹脂5は後述する方法によって、基板6と同一外形に切断されている。半導体素子1のダイアタッチは、エポキシ接着剤、銀ペーストで行われることが多い。また、ワイヤー2は金線またはアルミ線が多く用いられ、既知のワイヤーボンディング法で結線される。基板6がプリント基板の場合には、配線パターン3及びスルーホール7の表面、内部とも銅箔上に金メッキされていることが多く、セラミクス基板の場合には、配線パターン3は銅、銀、タングステン系のペーストに金メッキされているか、金ペーストで形成されていることが多い。
この場合、スルーホール7は,プリント基板と同様にメッキで形成された銅上にニッケル、金メッキされているか、上述の導電ペーストが充填されていてもよい。
The substrate 6 is usually a printed circuit board, but a ceramic substrate may be used. The mold resin 5 is cut into the same outer shape as the substrate 6 by a method described later. The die attach of the semiconductor element 1 is often performed with an epoxy adhesive or a silver paste. The wire 2 is often a gold wire or an aluminum wire and is connected by a known wire bonding method. When the substrate 6 is a printed circuit board, the surface and inside of the wiring pattern 3 and the through hole 7 are often gold-plated on a copper foil. In the case of a ceramic substrate, the wiring pattern 3 is made of copper, silver, tungsten. In many cases, the system paste is gold-plated or formed of a gold paste.
In this case, the through hole 7 may be plated with nickel or gold on copper formed by plating in the same manner as the printed board, or may be filled with the above-described conductive paste.

この場合、導電ペーストの材料としては、銅や銀、金等のいずれかが含有されたものを用いるとよい。特に基板6として有機基板を用いる場合には、焼成温度が低い点から導電ペーストの材料として銅を含有したものを用いることが好ましい。また銅粒子に銀メッキされている導電ペーストを用いることが特に好ましい。また導電ペーストの充填方法は、後述するハンダ9の場合の図2の説明と同様にスキージ24にてスルーホール7内に充填した後、これを加熱硬化させることにより行われる。   In this case, as a material for the conductive paste, a material containing any one of copper, silver, gold and the like may be used. In particular, when an organic substrate is used as the substrate 6, it is preferable to use a material containing copper as a material for the conductive paste from the viewpoint of low firing temperature. It is particularly preferable to use a conductive paste in which copper particles are silver-plated. Also, the method of filling the conductive paste is performed by filling the through hole 7 with the squeegee 24 and then heat-curing the same as in the case of the solder 9 described later with reference to FIG.

一方、ここでは、スルーホール7の内部にハンダ9を充填した例について述べたが、ハンダ濡れ性を有する金属材料であれば、例えば金等を充填してもよいし、導電ペーストを充填してもよい。   On the other hand, the example in which the solder 9 is filled in the through hole 7 has been described here. However, as long as the metal material has solder wettability, for example, gold or the like may be filled, or a conductive paste may be filled. Also good.

次に、図2を参照して、図1の構造のチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図2(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板(基板素材)6を準備する。次に、スルーホール7に相当する小孔22を開けたステンシル23を、孔同士が重なるように位置合せし、基板6を受ける台上(図示せず)でクリームハンダ21をスキージ24で印刷する。この時、ステンシル23の孔径をスルーホール7の孔径と等しいか若干小さくしたり、スキージ24の移動速度、押圧をコントロールすることによって、クリームハンダ21がスルーホール7内部のみに挿入されるようにしておけば、後にハンダ9を溶融させてもスルーホール7内部のみにハンダ9を充填することができる。ステンシル23は、一般的に100〜200μmの厚さを有しているが、スルーホール7の体積によって埋めるべきハンダ9の量が決定され、ステンシル23の厚さ、孔径も決定される。   Next, a method of manufacturing a chip carrier type electronic component having the structure of FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 2A, a substrate (substrate material) 6 in which a through hole 7 is formed in advance in a connection portion of a chip carrier is prepared. Next, the stencils 23 having the small holes 22 corresponding to the through holes 7 are aligned so that the holes overlap with each other, and the cream solder 21 is printed with the squeegee 24 on a table (not shown) that receives the substrate 6. . At this time, by making the hole diameter of the stencil 23 equal to or slightly smaller than the hole diameter of the through hole 7 or by controlling the moving speed and pressing of the squeegee 24, the cream solder 21 is inserted only into the through hole 7. In this case, even if the solder 9 is melted later, only the inside of the through hole 7 can be filled with the solder 9. The stencil 23 generally has a thickness of 100 to 200 μm, but the amount of solder 9 to be filled is determined by the volume of the through hole 7, and the thickness and hole diameter of the stencil 23 are also determined.

ハンダ9の塗布方法としては、上述した以外にも表面実装に用いられる他の既知の方法、例えばディスペンサによる方法を用いることができる。次に、基板6のスルーホール7をリフロー炉、ホットエア、赤外線などで加熱し、クリームハンダ21を溶融させ、ハンダ9がスルーホール7に充填された状態とする。そして、必要に応じ、これを洗浄して、クリームハンダ21中に含まれていたフラックスを除去する。   As a method for applying the solder 9, in addition to the above, other known methods used for surface mounting, for example, a method using a dispenser can be used. Next, the through-hole 7 of the substrate 6 is heated by a reflow furnace, hot air, infrared rays or the like to melt the cream solder 21 so that the solder 9 is filled in the through-hole 7. And this is wash | cleaned as needed and the flux contained in the cream solder 21 is removed.

なお、予め基板6の片側または両側に、レジスト、ドライフィルム等によりスルーホール7の部分のみ開口したマスクを形成し、この基板6にクリームハンダ21を印刷すれば、ハンダ9を、より確実にスルーホール7のみに充填することができる。そして、ハンダ9の充填後またはハンダ9の溶融後に、レジスト、ドライフィルム等を除去すればよい。また、この方法であれば、ステンシル23を用いなくとも、クリームハンダ21を直接、基板6の上に置いてスキージ24でこすり付ければ、スルーホール7のみにクリームハンダ21を充填することもできる。   It is to be noted that if a mask in which only the through hole 7 is opened is formed on one side or both sides of the substrate 6 in advance with a resist, a dry film or the like, and the cream solder 21 is printed on the substrate 6, the solder 9 can be more reliably passed. Only the hole 7 can be filled. Then, after the solder 9 is filled or after the solder 9 is melted, the resist, the dry film, and the like may be removed. Also, with this method, even if the stencil 23 is not used, the cream solder 21 can be filled only in the through hole 7 by placing the cream solder 21 directly on the substrate 6 and rubbing with the squeegee 24.

その後、図2(b)に示すように、半導体素子1をダイアタッチすると共に、ダイアタッチした半導体素子1と基板6上に形成した配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。さらに、図2(c)に示すように、モールド樹脂5を基板上にポッティング(塗布)するが、このときスルーホール7にはハンダ9が充填されているため、モールド樹脂5は、スルーホール7に流れ込むことがなく、基板6の裏面にしみ出すことがない。もちろん、スルーホール7を逃げたような構造の高価な金型を必要とするトランスファーモールドでなくとも、金型を必要としない上述のポッティングモールドで十分である。また例えトランスファーモールドを用いるとしても、スルーホール7はハンダ9で充填されているために、スルーホール7を逃げる構造を採らなくともよく、スルーホール7をも含め一度にモールドすることも可能である。   Thereafter, as shown in FIG. 2B, the semiconductor element 1 is die-attached, and the die-attached semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected by the wire 2. Further, as shown in FIG. 2C, the mold resin 5 is potted (applied) on the substrate. At this time, since the through hole 7 is filled with the solder 9, the mold resin 5 is formed in the through hole 7. And does not ooze out to the back surface of the substrate 6. Of course, the above-mentioned potting mold that does not require a mold is sufficient even if it is not a transfer mold that requires an expensive mold having a structure in which the through hole 7 is escaped. Even if a transfer mold is used, since the through hole 7 is filled with the solder 9, it is not necessary to adopt a structure for escaping the through hole 7, and it is possible to mold at once including the through hole 7. .

ポッティングモールドの場合には、基板6の周縁部を多少広めに設計するか、基板6の周縁部にダムを設けておけば、モールド樹脂5はチクソ性の高いモールド材でなくても良い。このため、半導体素子1廻りの間隙にモールド樹脂5が良好に回り込むので、モールド樹脂5の未充填部は発生せず、信頼性を向上させることができる。なお、モールド樹脂5の塗布工程では真空脱泡を併用すると、未充填部の発生を完全に防止することができる。また、モールド樹脂5の塗布工程直前に、酸素、アルゴン等のプラズマにより、基板6の表面や半導体素子1の表面を活性化しておけば、モールド樹脂5の密着性はより良好になり、電子部品の信頼性はさらに向上する。   In the case of a potting mold, the mold resin 5 may not be a thixotropic mold material if the peripheral edge of the substrate 6 is designed to be slightly wider or a dam is provided on the peripheral edge of the substrate 6. For this reason, since the mold resin 5 is satisfactorily introduced into the gap around the semiconductor element 1, an unfilled portion of the mold resin 5 is not generated, and the reliability can be improved. In addition, when vacuum defoaming is used together in the coating process of the mold resin 5, the generation of unfilled portions can be completely prevented. Further, if the surface of the substrate 6 or the surface of the semiconductor element 1 is activated by plasma of oxygen, argon or the like immediately before the application process of the mold resin 5, the adhesion of the mold resin 5 becomes better, and the electronic component Reliability is further improved.

次に、モールド樹脂5を、加熱、紫外線照射或いは湿度中放置などの硬化方法を用いて硬化させる。以上の工程により、電子部品素材が形成される。電子部品素材は、スルーホール7を作り込んだ大きな基板(基板素材)6に、複数の半導体素子1を実装し、これにモールド樹脂5を塗布して、構成されている。すなわち、スルーホール7を共有する電子部品要素が、基板6上に作り込まれた構造になっている。この場合、同図のように、電子部品要素を2個或いは1個など小数作り込むようにしてもよいが、マトリクス状に多数作り込むことが、好ましい。   Next, the mold resin 5 is cured using a curing method such as heating, ultraviolet irradiation, or standing in humidity. The electronic component material is formed by the above process. The electronic component material is configured by mounting a plurality of semiconductor elements 1 on a large substrate (substrate material) 6 in which a through hole 7 is formed, and applying a mold resin 5 thereon. That is, the electronic component element sharing the through hole 7 is structured on the substrate 6. In this case, as shown in the figure, a small number such as two or one electronic component element may be formed, but it is preferable to form a large number in a matrix.

最後に、図2(c)に示すように、チップキャリア型の電子部品の外形であるスルーホール7の部分、すなわちスルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、電子部品素材をダイシングブレード20で切断し、電子部品単体とする。最後の切断工程は、ダイシングによらなくても基板6を割るブレーキングの工程によってもよい。この場合は、スルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、基板6に予めV溝、ミシン目などを形成しておく。   Finally, as shown in FIG. 2C, the electronic component material is diced along a portion of the through hole 7 which is the outer shape of the chip carrier type electronic component, that is, along an imaginary line passing through substantially the axis of the through hole 7. Cut with the blade 20 to make a single electronic component. The last cutting step may be a breaking step of breaking the substrate 6 without using dicing. In this case, V-grooves, perforations, and the like are formed in advance in the substrate 6 along a virtual line that passes through substantially the axis of the through hole 7.

上述したように、一枚の基板6から多数個の電子部品を取る構造としてもよいが、その場合、隣合う電子部品のスルーホール7の位置が一致すれば、スルーホール7は隣合う電子部品と共用することが、好ましい。しかし、ダイシングブレード20が厚いためにスルーホール7が切断時に潰れてしまうような場合には、スルーホール7の軸心からわずかに外れた位置で切断し、切断された片側のみを生かすようにする(図13参照)。   As described above, a structure in which a large number of electronic components are taken from a single substrate 6 may be used. In this case, if the positions of the through holes 7 of the adjacent electronic components coincide with each other, the through holes 7 are adjacent to each other. It is preferable to share with. However, if the dicing blade 20 is thick and the through hole 7 is crushed at the time of cutting, the dicing blade 20 is cut at a position slightly deviated from the axis of the through hole 7 so that only one side of the cut is utilized. (See FIG. 13).

次に、図3を参照して、図1の構造のチップキャリア型の電子部品の別の製造方法について説明する。図3(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を準備し、この基板6のスルーホール7の開口部付近のみに、フラックス塗布装置(図示せず)でフラックスを塗布する。次に、基板6を、溶融ハンダ31の液面に近接するように臨ませ、これにスルーホール7に対応して設けたノズル等からハンダ噴流30を噴出させて、スルーホール7の開口部に溶融ハンダ31を接触させる。この場合、スルーホール7の径が0.5mm程度以下であれば、毛細管現象により、スルーホール7の内部のみにハンダ9を充填することができる。   Next, another method for manufacturing a chip carrier type electronic component having the structure of FIG. 1 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 3A, a substrate 6 in which through holes 7 are formed in advance in a chip carrier connection portion is prepared, and a flux application device (not shown) is provided only in the vicinity of the opening of the through hole 7 of the substrate 6. ) Apply flux. Next, the substrate 6 is brought close to the liquid surface of the molten solder 31, and a solder jet 30 is ejected from a nozzle or the like provided corresponding to the through hole 7 to the opening of the through hole 7. The molten solder 31 is brought into contact. In this case, if the diameter of the through hole 7 is about 0.5 mm or less, only the inside of the through hole 7 can be filled with the solder 9 by capillary action.

なお、ハンダ噴流30の当たる基板6面、もしくは基板6両面にレジスト、ドライフィルム等によるスルーホール7のみ開口したマスクを形成しておけば、ハンダ9をスルーホール7のみに正確に充填することができる。そして、ハンダ9の充填後、レジスト、ドライフィルム等を除去する。このような製造方法をとれば、ハンダ槽の中に基板6をそのまま浸漬しても、スルーホール7のみにハンダ9を充填することができる。また、ソルダーレジストを用い、ハンダ9が必要以上に広がらないようにすることによっても、ハンダ9をスルーホール7のみに正確に充填することができる。かかる場合には、必要に応じて洗浄し、フラックスを除去する。   In addition, if a mask in which only the through hole 7 is made of resist, dry film or the like is formed on the surface of the substrate 6 where the solder jet 30 is applied, or both surfaces of the substrate 6, the solder 9 can be accurately filled only in the through hole 7. it can. Then, after the solder 9 is filled, the resist, the dry film and the like are removed. If such a manufacturing method is taken, even if the board | substrate 6 is immersed as it is in a solder tank, the solder 9 can be filled only into the through hole 7. FIG. Moreover, the solder 9 can be accurately filled only in the through hole 7 by using a solder resist so that the solder 9 does not spread more than necessary. In such a case, the flux is removed by washing as necessary.

その後の工程は、図3(b)および図3(c)に示されるように、上述の図2で説明した工程と同一である。図3(b)、(c)では、基板6の裏面の接続用ランド8をレジスト、ドライフィルム等でマスクしていないので、スルーホール7と共に接続用ランド8にもハンダ9が供給されることになる。この様に、予め接続用ランド8にもハンダ9を供給しておけば、後に、切り出した電子部品をマザーボードにハンダ付けするときに、そのハンダ付け性を向上させることができる。その他、接続用ランド8へのハンダ9の供給は、図2で説明したクリームハンダ21の印刷と同時に行なってもよいし、後述するスルーホール7のメッキと同時に行なってもよい。   Subsequent steps are the same as those described in FIG. 2 as shown in FIGS. 3B and 3C. In FIGS. 3B and 3C, since the connection land 8 on the back surface of the substrate 6 is not masked with a resist, a dry film or the like, the solder 9 is supplied to the connection land 8 together with the through hole 7. become. In this way, if the solder 9 is supplied to the connection land 8 in advance, the solderability can be improved when the cut-out electronic component is later soldered to the mother board. In addition, the supply of the solder 9 to the connection land 8 may be performed simultaneously with the printing of the cream solder 21 described with reference to FIG. 2 or may be performed simultaneously with the plating of the through hole 7 described later.

なお、図2、図3に示す方法の他、予めスルーホール7を、部分的にハンダ、金等のメッキで塞いでも良いし、導電ペーストで塞いでも良い。しかし、一般的にマザーボードとは、ハンダ付けで接続が行われるので、接続部であるスルーホール7に充填する金属材料は、酸化し難く、ハンダ濡れ性の良いものが望ましい。具体的には、導電ペーストとしては、銅ペーストよりも金ペーストのほうが好ましい。   In addition to the method shown in FIGS. 2 and 3, the through hole 7 may be partially blocked with a solder or gold plating in advance or may be blocked with a conductive paste. However, since the connection with the mother board is generally performed by soldering, it is desirable that the metal material filling the through hole 7 as the connection portion is difficult to oxidize and has good solder wettability. Specifically, as the conductive paste, a gold paste is preferable to a copper paste.

さらに、本発明の他の実施例について説明する。図4は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図4(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図4(a)は、図4(b)のB−B'線断面図である。図4に示すように、この電子部品は、図1の電子部品のスルーホール(外部電極)7にハンダ9が充填されて無いだけで、その他の構造は図1と同様である。ハンダ9がスルーホール7に充填されて無い分、構造も簡単になり、コストも上昇しない。また、スルーホール7に充填されている金属材料がないので、後工程である電子部品の電気検査時に、スルーホール7が検査用のプローブピンの位置決め穴として利用でき、確実に導通を図ることができる。   Further, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 4 is a structural diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 4B is a back view of the chip carrier type electronic component as seen from the back side. FIG. 4A is a cross-sectional view taken along line BB ′ of FIG. As shown in FIG. 4, this electronic component has the same structure as that of FIG. 1, except that the through hole (external electrode) 7 of the electronic component of FIG. 1 is not filled with solder 9. Since the solder 9 is not filled in the through hole 7, the structure is simplified and the cost is not increased. In addition, since there is no metal material filled in the through hole 7, the through hole 7 can be used as a positioning hole for a probe pin for inspection during an electrical inspection of an electronic component which is a subsequent process, so that conduction can be ensured. it can.

次に、図5を参照して、図4に示すチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図5(a)において、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を準備すると共に、この基板6の裏面全域に、粘着シート40を貼っておく。粘着シート40は空気を通さないものであればどんなものでも良いが、半導体素子1のダイシング工程に使用されるものが、不純物も少ないので信頼性がある。また、粘着シート40は、粘着性を保持し続けるものでもよいが、後工程で剥離し易い、既知の紫外線や熱で粘着性が低下する粘着シートが、好ましい。そして、この状態で、図5(b)に示すように、半導体素子1をダイアタッチすると共に、この半導体素子1と基板6上に形成した配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。   Next, a method for manufacturing the chip carrier type electronic component shown in FIG. 4 will be described with reference to FIG. In FIG. 5A, a substrate 6 having through-holes 7 formed in advance in a chip carrier connection portion is prepared, and an adhesive sheet 40 is pasted on the entire back surface of the substrate 6. The pressure-sensitive adhesive sheet 40 may be any material as long as it does not allow air to pass, but the material used in the dicing process of the semiconductor element 1 is reliable because it has few impurities. In addition, the pressure-sensitive adhesive sheet 40 may be one that keeps the pressure-sensitive adhesive property, but a pressure-sensitive adhesive sheet that is easily peeled off in a subsequent process and whose pressure-sensitive adhesive property is lowered by ultraviolet light or heat is preferable. In this state, as shown in FIG. 5B, the semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected by the wire 2. .

ここで、モールド樹脂5を基板6上にポッティングするが、このとき基板6の裏面側に開口したスルーホール7の開口部を粘着シート40で塞いだ状態で、モールド樹脂5を塗布することになる。このため、スルーホール7内に空気が封じ込まれ、粘性流体であるモールド樹脂5のスルーホール7への流入が阻止される。したがって、特別に蓋部材などを設けなくても、モールド樹脂5がスルーホール7内に流入することはない。特に実験結果は示さないが、一般的に用いられる粘度が20000〜50000センチポイズのモールド樹脂5の場合、直径0.5mm以下のスルーホール7で、上記効果が確認されている。直径0.5mm以上のスルーホール7でもモールド樹脂5の粘度を高くすることによって、上記効果を得ることができる。   Here, the mold resin 5 is potted on the substrate 6. At this time, the mold resin 5 is applied in a state where the opening of the through hole 7 opened on the back side of the substrate 6 is closed with the adhesive sheet 40. . For this reason, air is sealed in the through hole 7 and the flow of the mold resin 5 which is a viscous fluid into the through hole 7 is prevented. Therefore, the mold resin 5 does not flow into the through hole 7 without providing a special lid member. Although the experimental results are not particularly shown, in the case of the mold resin 5 having a viscosity of 20000 to 50000 centipoise that is generally used, the above-mentioned effect is confirmed by the through hole 7 having a diameter of 0.5 mm or less. Even if the through hole 7 has a diameter of 0.5 mm or more, the above effect can be obtained by increasing the viscosity of the mold resin 5.

この状態で、モールド樹脂5を硬化させた後、図5(c)に示すように、粘着シート40を引き剥がし、最後にこれをスルーホール(仮想線)7に沿って、ダイシングブレード20で切断を行い、電子部品単体とする。粘着シート40は前述したように、熱などで粘着力が低下するシートである方が引き剥がし易く、望ましい。モールドの方法は、金型の不要なポッティングモールドでよく、チクソ性も通常のものが使用できるのは、上述の図2における説明と同様である。但し、この様な製造方法でモールド後真空脱泡すると、スルーホール7内部までモールド樹脂5が侵入するおそれがあるため、モールド樹脂5中の気泡を取り除く意味で、モールド前にモールド樹脂5真空脱泡するのに止めておく必要がある。   In this state, after the mold resin 5 is cured, as shown in FIG. 5C, the adhesive sheet 40 is peeled off, and finally, this is cut along the through-hole (virtual line) 7 with the dicing blade 20. To make a single electronic component. As described above, the pressure-sensitive adhesive sheet 40 is preferably a sheet whose pressure-sensitive adhesive strength is reduced by heat or the like because it is easy to peel off. The molding method may be a potting mold that does not require a mold, and the thixotropy can be used in the same manner as described above with reference to FIG. However, if vacuum degassing is performed after molding by such a manufacturing method, the mold resin 5 may intrude into the through hole 7. Therefore, in order to remove bubbles in the mold resin 5, the mold resin 5 is vacuum degassed before molding. It needs to be stopped to foam.

以上ような製造方法を採ることにより、切り出した電子部品の側面には、金メッキを施したスルーホール(外部電極)7が露出し、マザーボードとの接続時にはこのスルーホール7にハンダフィレットが形成し易くなり、電子部品のハンダ付け性を向上させることができる。セラミックス基板の場合でも、中空のスルーホール7の場合には、上述のプリント基板と同様である。また、導電ペーストが充填されている場合は、図1で説明した構造と同一となる。   By adopting the above manufacturing method, a gold plated through hole (external electrode) 7 is exposed on the side surface of the cut-out electronic component, and a solder fillet is easily formed in the through hole 7 when connected to the motherboard. Thus, the solderability of the electronic component can be improved. Even in the case of a ceramic substrate, in the case of the hollow through hole 7, it is the same as the above-mentioned printed circuit board. Further, when the conductive paste is filled, the structure is the same as that described in FIG.

次に、図6に基づいて、図4の構造のチップキャリア型の電子部品の別の製造方法について説明する。図6(a)に示すように、予めチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板6を用意し、この基板6上に半導体素子1をダイアタッチすると共に、この半導体素子1を基板6上に形成されている配線パターン3とワイヤー2で電気的に接続する。その後、図6(b)に示すように、シリコーンゴム50を基板6の裏面に押しつけてスルーホール7を塞ぎ、モールド樹脂5をポッティングして、そのまま硬化させる。スルーホール7内にモールド樹脂5が流入しないのは、前述の粘着シート40を用いた場合と同様の原理である。その後の工程は、図6(c)に示すように、上述の図5で説明した工程と同一である。   Next, another manufacturing method of the chip carrier type electronic component having the structure of FIG. 4 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 6A, a substrate 6 in which a through hole 7 is formed in advance in a chip carrier connecting portion is prepared, and a semiconductor element 1 is die-attached on the substrate 6, and the semiconductor element 1 is attached to the substrate 6. The wiring pattern 3 and the wire 2 formed above are electrically connected. Thereafter, as shown in FIG. 6B, the silicone rubber 50 is pressed against the back surface of the substrate 6 to close the through hole 7, and the mold resin 5 is potted and cured as it is. The mold resin 5 does not flow into the through hole 7 based on the same principle as that when the above-described adhesive sheet 40 is used. The subsequent steps are the same as those described with reference to FIG. 5 as shown in FIG.

なお、スルーホール7とシリコーンゴム50との密着性を向上させ、スルーホール7中の空気をより確実に保持するために、予めシリコーンゴム50のスルーホール7との接触部分及び接続用ランド8との接触部分を、これらの凸形状と相補的な凹形状に形成しておいてもよいし、シリコーンゴム50の表面に、スルーホール7の内部を塞ぐピン状の突起を形成しておいてもよい。   In order to improve the adhesion between the through hole 7 and the silicone rubber 50 and to hold the air in the through hole 7 more reliably, the contact portion of the silicone rubber 50 with the through hole 7 and the connection land 8 are previously provided. The contact portion may be formed in a concave shape complementary to these convex shapes, or a pin-like protrusion that closes the inside of the through hole 7 may be formed on the surface of the silicone rubber 50. Good.

また、スルーホール7にモールド樹脂5を流入させないように、既知の基板製造法であるスルーホール7への樹脂穴埋め法でスルーホール7を塞いでおき、ダイシング工程後、塞いだ樹脂を取り除くようにしてもよい。この場合、一般的には、アルカリ性の水溶液に溶解する樹脂を用い、ダイシング工程後、アルカリ性の水溶液でこの樹脂を洗い流すようにして除去する。   Further, in order to prevent the mold resin 5 from flowing into the through hole 7, the through hole 7 is closed by a resin hole filling method to the through hole 7 which is a known substrate manufacturing method, and after the dicing process, the blocked resin is removed. May be. In this case, generally, a resin that dissolves in an alkaline aqueous solution is used, and after the dicing step, the resin is removed by washing with an alkaline aqueous solution.

さらに、本発明の他の実施例について説明する。図7は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図7(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図7(a)は、図7(b)のD−D'線断面図である。図7に示すように、この電子部品は、予めスルーホール覆装部材70がスルーホール(外部電極)7上に載置され、スルーホール7の軸心付近を通る外形で切断された基板6上に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とをワイヤー2で電気的に接続して、構成されている。   Further, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 7 is a structural diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 7B is a back view of the chip carrier type electronic component as seen from the back side. FIG. 7A is a cross-sectional view taken along the line DD ′ of FIG. As shown in FIG. 7, the electronic component has a through-hole covering member 70 placed on the through-hole (external electrode) 7 in advance, and is cut on an outline that passes through the vicinity of the axial center of the through-hole 7. In addition, the semiconductor element 1 is die-attached, and the semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected by the wire 2.

スルーホール覆装部材70は、スルーホール7上にのみ設けられており、粘着性を有するシート、例えば基板製造工程で使用されるドライフィルム、ガラスエポキシ板、セラミックス板などで構成されている。この場合、これらスルーホール覆装部材70は、スルーホール7上に載置されるように型などで打ち抜いて成形し、これを基板6に貼り付けるようにすればよい。もちろん、ドライフィルムの場合には、基板6全面に貼り合わせておいて、従来の基板製造技術と同様のフォトプロセスで、必要とするスルーホール7の部分のみ残すようにする。   The through-hole covering member 70 is provided only on the through-hole 7 and is made of an adhesive sheet, for example, a dry film, a glass epoxy plate, or a ceramic plate used in the substrate manufacturing process. In this case, these through-hole covering members 70 may be formed by punching with a mold or the like so as to be placed on the through-hole 7 and affixing them to the substrate 6. Of course, in the case of a dry film, it is bonded to the entire surface of the substrate 6 and only the necessary through hole 7 is left by a photo process similar to the conventional substrate manufacturing technique.

また、ガラスエポキシ板はすでに形成されているものを、接着剤で基板6に貼り合わせてもよいし、未形成のガラスエポキシのプリプレグを予め必要な形に型で抜く等で成形し、位置合わせ後、基板6に加熱、圧着してもよい。さらに、基板6がセラミックスの場合には、未焼結のグリーンシートを予め必要な形に型で抜くなどして成形し、位置合わせ後、グリーンシートを基板6と共に加熱、加圧し、基板6にグリーンシートを焼結させてもよい。なお、スルーホール覆装部材70以外の部分の基本構造は、図1および図4の電子部品と同様である。   In addition, the glass epoxy plate that has already been formed may be bonded to the substrate 6 with an adhesive, or the unformed glass epoxy prepreg is molded into a required shape in advance using a mold, etc. Thereafter, the substrate 6 may be heated and pressed. Further, when the substrate 6 is ceramic, an unsintered green sheet is molded in advance by a mold or the like, and after alignment, the green sheet is heated and pressed together with the substrate 6 to form the substrate 6. The green sheet may be sintered. The basic structure of the portion other than the through-hole covering member 70 is the same as that of the electronic component shown in FIGS.

さらに、本発明の他の実施例について説明する。図8は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図8(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図8(a)は、図8(b)のE−E'線断面図である。図8に示すように、この電子部品では、スルーホール覆装部材70が、スルーホール(外部電極)7の部分のみならず、半導体素子1と基板6との間にも設けられている。すなわち、半導体素子1は基板6上に直接ではなく、スルーホール覆装部材(パッド)70上にダイアタッチされている。その他の構造は図7と同様である。   Further, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 8 is a structural diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 8B is a back view of the chip carrier type electronic component viewed from the back side. FIG. 8A is a cross-sectional view taken along line EE ′ of FIG. As shown in FIG. 8, in this electronic component, the through hole covering member 70 is provided not only in the portion of the through hole (external electrode) 7 but also between the semiconductor element 1 and the substrate 6. That is, the semiconductor element 1 is die-attached on the through-hole covering member (pad) 70 rather than directly on the substrate 6. Other structures are the same as those in FIG.

したがって、スルーホール覆装部材70は、ワイヤー2が配線パターン3に接続されている部分のみ開口していればよく、スルーホール覆装部材70として、粘着性を有するシート、ガラスエポキシ板、セラミックス板などを使用する場合、図7の構造と異なり、必ずしも高価な型で打抜き開口を形成する必要はなく、ドリルビットで加工したものでよい。しかも、半導体素子1の位置決めが容易になる。ゆえに、図8の構造を採用すれば図7の構造に比較して、スルーホール覆装部材70の製作および半導体素子1の実装が容易となり、電子部品のコストを下げることができる。   Therefore, the through-hole covering member 70 only needs to be opened only at a portion where the wire 2 is connected to the wiring pattern 3. As the through-hole covering member 70, an adhesive sheet, a glass epoxy plate, a ceramic plate is used. In the case of using, etc., unlike the structure of FIG. 7, it is not always necessary to form the punching opening with an expensive mold, and it may be processed with a drill bit. In addition, the positioning of the semiconductor element 1 is facilitated. Therefore, if the structure of FIG. 8 is adopted, the through-hole covering member 70 and the semiconductor element 1 can be easily manufactured and the cost of the electronic component can be reduced as compared with the structure of FIG.

さらにまた、本発明の他の実施例について説明する。図9は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の構造図である。図9(b)は、チップキャリア型の電子部品を裏面側から見た裏面図である。また、図9(a)は、図9(b)のチップキャリア型の電子部品をF−F'線断面図である。図9に示すように、この電子部品では、上述した図8の半導体素子1と基板6との間にあるスルーホール覆装部材(パッド)70に、貫通孔73が開けられており、この貫通孔73に銀ペースト72が充填されている。そして、この銀ペースト72により、基板6上に形成されたダイパッド71と半導体素子1の裏面とが電気的に接続されている。   Furthermore, another embodiment of the present invention will be described. FIG. 9 is a structural diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. FIG. 9B is a back view of the chip carrier type electronic component as seen from the back side. FIG. 9A is a cross-sectional view of the chip carrier type electronic component of FIG. As shown in FIG. 9, in this electronic component, a through hole 73 is formed in a through hole covering member (pad) 70 between the semiconductor element 1 and the substrate 6 shown in FIG. The hole 73 is filled with a silver paste 72. The silver paste 72 electrically connects the die pad 71 formed on the substrate 6 and the back surface of the semiconductor element 1.

一般的にダイパッド71は、ある固定電位に接続されていることが多く、図9の構造は、半導体素子1のダイの電位を固定しなければならない場合に有効な構造である。この場合ももちろん、スルーホール覆装部材70はワイヤー2が配線パターン3に接続されている部分と、上記の貫通孔73の部分のみが開口していればよいので、スルーホール覆装部材70として、粘着性を有するシート、ガラスエポキシ板、セラミクス板などを使用する場合、図8の構造と同様に、ドリルビットで加工された安価なスルーホール覆装部材70を貼り付けるようにすればよい。   In general, the die pad 71 is often connected to a certain fixed potential, and the structure of FIG. 9 is an effective structure when the potential of the die of the semiconductor element 1 must be fixed. Of course, in this case, the through-hole covering member 70 only needs to open the portion where the wire 2 is connected to the wiring pattern 3 and the portion of the through hole 73 described above. When an adhesive sheet, a glass epoxy plate, a ceramic plate, or the like is used, an inexpensive through-hole covering member 70 processed with a drill bit may be attached as in the structure of FIG.

次に、図10に基づいて、図7から図9に示す構造のチップキャリア型の電子部品の製造方法について説明する。図10(a)に示すように、先ずチップキャリアの接続部にスルーホール7を形成した基板(基板素材)6を準備する。次に、スルーホール7上にスルーホール覆装部材70を取り付ける。スルーホール覆装部材70は、粘着性を有するシート、基板製造技術で使用されるドライフィルム、ガラスエポキシ板、セラミックス板などを、スルーホール7上のみに位置するように型など打ち抜いて成形し、これを基板6に貼り付けるようにすればよい。もちろん、ドライフィルムの場合は基板全面に貼り合わせておいて、従来の基板製造技術と同様のフォトプロセスで、スルーホール7の部分のみ残すようにしてもよい。   Next, a method for manufacturing a chip carrier type electronic component having the structure shown in FIGS. 7 to 9 will be described with reference to FIG. As shown in FIG. 10A, first, a substrate (substrate material) 6 in which a through hole 7 is formed in a connection portion of a chip carrier is prepared. Next, the through hole covering member 70 is attached on the through hole 7. The through-hole covering member 70 is formed by punching a sheet having adhesiveness, a dry film used in substrate manufacturing technology, a glass epoxy plate, a ceramic plate, etc. so as to be located only on the through-hole 7, This may be attached to the substrate 6. Of course, in the case of a dry film, it may be bonded to the entire surface of the substrate, and only the through hole 7 may be left by a photo process similar to the conventional substrate manufacturing technique.

図10(a)に示すように、スルーホール覆装部材70をスルーホール7の部分のみに設けてもよいし、これに加え図8および図9で説明したように、半導体素子1と基板6との間に、半導体素子1のパッドとして設けてもよい。その後、半導体素子1をダイアタッチし、ダイアタッチしたこの半導体素子1と基板6上に形成されている配線パターン3とを、ワイヤー2で電気的に接続する。さらに、図10(b)に示すように、モールド樹脂5を基板上にポッティング(塗布)するが、このときスルーホール7は、スルーホール覆装部材70で覆われているので、モールド樹脂5は、スルーホール7に流入することがなく、基板裏面にしみ出すことがない。そして、最後に、図2(c)と同様に、チップキャリア型の電子部品の外形であるスルーホール7の部分、すなわちスルーホール7のほぼ軸心を通る仮想線に沿って、電子部品素材をダイシングブレード20で切断し、電子部品単体とする。   As shown in FIG. 10A, the through-hole covering member 70 may be provided only in the portion of the through-hole 7, and in addition to this, as described in FIGS. 8 and 9, the semiconductor element 1 and the substrate 6 May be provided as a pad of the semiconductor element 1. Thereafter, the semiconductor element 1 is die-attached, and the die-attached semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 formed on the substrate 6 are electrically connected by the wire 2. Further, as shown in FIG. 10 (b), the mold resin 5 is potted (applied) on the substrate. At this time, the through hole 7 is covered with the through hole covering member 70. , Does not flow into the through hole 7 and does not ooze out to the back surface of the substrate. Finally, as in FIG. 2C, the electronic component material is disposed along the portion of the through hole 7 which is the outer shape of the chip carrier type electronic component, that is, along the imaginary line passing through the substantially axial center of the through hole 7. Cut with a dicing blade 20 to form an electronic component alone.

さらに、図11に基づいて、別の電子部品の製造方法について説明する。上記複数の実施例と同様に、半導体素子1をダイアタッチすると共に、ワイヤーボンディングし、さらに、モールド樹脂5を基板6上にポッティング(塗布)するが、この実施例では、図11に示すように、モールド樹脂5を硬化させる際に、基板6に、基板6の平面度を保持する平面保持手段を取り付けるようにしている。平面保持手段は、基板6の裏面に当てがう平面保持板80と、平面保持板80および基板6を合わせて挟持する断面「コ」字状の挟持部材81とで構成されており、基板6に着脱自在に装着される。この状態でモールド樹脂5は、使用するモールド材に合った方法で硬化させる。一般的には、モールド樹脂5は熱硬化型エポキシ系樹脂で構成されているため、恒温槽に入れて硬化させるようにする。   Furthermore, another method for manufacturing an electronic component will be described with reference to FIG. As in the above embodiments, the semiconductor element 1 is die-attached, wire-bonded, and the mold resin 5 is potted (applied) on the substrate 6. In this embodiment, as shown in FIG. When the mold resin 5 is cured, a plane holding means for holding the flatness of the substrate 6 is attached to the substrate 6. The plane holding means includes a plane holding plate 80 applied to the back surface of the substrate 6, and a holding member 81 having a “U” -shaped cross section that holds the plane holding plate 80 and the substrate 6 together. Removably attached to. In this state, the mold resin 5 is cured by a method suitable for the mold material to be used. In general, since the mold resin 5 is composed of a thermosetting epoxy resin, it is cured in a thermostat.

ところで、一般的に、モールド樹脂5の熱膨張係数(よく使用される樹脂では、2〜3×10−5/℃)は、基板の熱膨張係数(代表的な基板例としてFR−4の場合、約1.5×10−5/℃)に比較して大きく、さらにモールド樹脂5は数パーセントから数十パーセントの硬化収縮をする。従って、モールド樹脂5を塗布した基板6をそのまま硬化させると、基板6はモールド樹脂5を中心にして凹状に反ってしまう。しかし、基板6に上記の平面保持手段を取り付けた状態で、モールド樹脂5を硬化させると、モールド樹脂5の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)により、基板(この状態では電子部品素材)6の反りの程度が緩和される。最終的に平面保持手段を取り去った基板6の反りは、極めて小さくなり、後工程であるダイシング、プロービング電気特性検査など、基板6の平面度が要求される工程では、有利に働く。なおかつ、最終製品である電子部品の反りも、当然小さくすることができる。   By the way, in general, the thermal expansion coefficient of the mold resin 5 (2 to 3 × 10 −5 / ° C. in the case of a frequently used resin) is the thermal expansion coefficient of the substrate (in the case of FR-4 as a typical substrate example). , About 1.5 × 10 −5 / ° C.), and the mold resin 5 shrinks by several to several tens percent. Accordingly, if the substrate 6 coated with the mold resin 5 is cured as it is, the substrate 6 warps in a concave shape with the mold resin 5 as the center. However, when the mold resin 5 is cured in a state where the above-described plane holding means is attached to the substrate 6, due to a relaxation phenomenon (creep phenomenon) due to a viscous component of the mold resin 5, the substrate (electronic component material in this state) 6 The degree of warpage is reduced. The warping of the substrate 6 that has finally removed the plane holding means is extremely small, and works advantageously in processes that require flatness of the substrate 6 such as dicing and probing electrical property inspection, which are subsequent processes. Moreover, the warpage of the electronic component as the final product can be naturally reduced.

さらにまた、モールド樹脂5を硬化させた後に、図11に示すように、反った基板6に平面保持手段を取り付け、この状態で基板(電子部品素材)6を再度加熱し、更に徐冷するようにしても、基板6の反りは緩和される。これは、一般的にアニールと呼ばれる工程であるが、やはりモールド樹脂5の粘性成分による緩和現象(クリープ現象)によるためである。もちろん、基板6に平面保持手段を取り付けてモールド樹脂5を硬化させる工程と、平面保持手段を取り付けた状態でアニールする工程とを組み合わせれば、さらに基板6の反りを小さくすることができることは、いうまでもない。   Furthermore, after the mold resin 5 is cured, as shown in FIG. 11, a plane holding means is attached to the warped substrate 6, and in this state, the substrate (electronic component material) 6 is heated again and further cooled gradually. Even so, the warpage of the substrate 6 is alleviated. This is a process generally called annealing, but it is also due to a relaxation phenomenon (creep phenomenon) due to the viscous component of the mold resin 5. Of course, if the step of attaching the plane holding means to the substrate 6 and curing the mold resin 5 is combined with the step of annealing with the plane holding means attached, the warpage of the substrate 6 can be further reduced. Needless to say.

次に、本実施例の電子部品の製造方法において、有用なモールド樹脂の塗布方法について説明する。特に図示しないが、このモールド樹脂の塗布方法では、上記の基板に流し込む(塗布する)モールド樹脂の量を、その重量で管理している。すなわち、モールド樹脂を塗布する面積は、該当する基板により確定され、またモールド樹脂(熱硬化型エポキシ系樹脂)の比重は、ほぼ1.8である。したがって、塗布するモールド樹脂を重量で管理することにより、モールド樹脂の塗布厚を管理できることになる。そして、半導体素子等のモールドされる部品要素の体積を考慮すれば、モールド樹脂の塗布厚を精度良く管理することができる。
例えば、0.4mmの基板に、0.8mm〜0.9mm厚の精度で、モールド樹脂を塗布することができ、モールドクラックが発生することがなく、かつ電子部品としての厚さを最低限にすることができる。
Next, a useful mold resin coating method in the method of manufacturing an electronic component of this embodiment will be described. Although not particularly illustrated, in this mold resin application method, the amount of mold resin poured (applied) onto the substrate is controlled by its weight. That is, the area where the mold resin is applied is determined by the corresponding substrate, and the specific gravity of the mold resin (thermosetting epoxy resin) is approximately 1.8. Therefore, the application thickness of the mold resin can be managed by managing the mold resin to be applied by weight. Then, if the volume of a component element to be molded such as a semiconductor element is taken into consideration, the coating thickness of the molding resin can be managed with high accuracy.
For example, a mold resin can be applied to a 0.4 mm substrate with an accuracy of 0.8 mm to 0.9 mm thickness, mold cracks do not occur, and the thickness as an electronic component is minimized. can do.

さらに、このモールド樹脂の塗布方法では、モールド樹脂を塗布した基板を水平に保持して硬化させるようにしている。すなわち、基板を水平に保持する治具を用い、恒温漕内で基板を水平に保持した状態で、モールド樹脂を硬化させる。
このようにすれば、電子部品素材のモールド樹脂の塗布厚を均一にすることができ、切り出した電子部品のモールド樹脂の塗布厚、ひいては電子部品の厚さを一定にすることができる。なお、上記のモールド樹脂の重量を測定する手段としては、電子天秤を始めとする各種の秤が考えられ、また上記の治具としては、水準器を備えた3点支持(高さ調整可能な3本の脚)の台が考えられる。
Further, in this mold resin coating method, the substrate coated with the mold resin is horizontally held and cured. In other words, the mold resin is cured using a jig for holding the substrate horizontally and holding the substrate horizontally in a thermostat.
If it does in this way, the application thickness of the mold resin of an electronic component material can be made uniform, and the application thickness of the mold resin of the cut-out electronic component, and also the thickness of an electronic component can be made constant. In addition, as a means for measuring the weight of the mold resin, various scales such as an electronic balance can be considered, and as the jig, a three-point support equipped with a level (height adjustable) A stand with three legs) is conceivable.

次に、上述のいずれの電子部品の構造にも適用できる本発明の他の実施例について説明する。図12は本発明による他のチップキャリア型の電子部品の基板構造図である。ここでは、2種類の基板構造を、相互に比較できるように重ねた図で説明する。図12において、符号61は、2種類の基板構造に共通する半導体素子のダイアタッチ部である。以下、基板6、配線パターン3、スルーホール7を一方の基板構造62では実線で、他方の基板構造63では二点鎖線で示す。実線が実施例の基板構造62であり、基板6の四隅に、スルーホール7とワイヤーボンディングのボンディングパッドを兼ねた配線パターン3とが形成されている。また、二点鎖線が既知の基板構造63であり、基板6の四辺に、スルーホール7と配線パターン3とが形成されている。   Next, another embodiment of the present invention that can be applied to the structure of any of the above-described electronic components will be described. FIG. 12 is a substrate structure diagram of another chip carrier type electronic component according to the present invention. Here, two types of substrate structures will be described with reference to the drawings so that they can be compared with each other. In FIG. 12, reference numeral 61 denotes a die attach portion of a semiconductor element common to two types of substrate structures. Hereinafter, the substrate 6, the wiring pattern 3, and the through hole 7 are indicated by a solid line in one substrate structure 62 and indicated by a two-dot chain line in the other substrate structure 63. The solid line is the substrate structure 62 of the embodiment, and the through-hole 7 and the wiring pattern 3 that also serves as a bonding pad for wire bonding are formed at the four corners of the substrate 6. A two-dot chain line is a known substrate structure 63, and through-holes 7 and wiring patterns 3 are formed on four sides of the substrate 6.

特に、半導体素子1と配線パターン3とが4本以内の接続の場合、図12に示すように、できる限り小型に、しかも定型サイズの電子部品に設計しようとすると、スルーホール7を基板6の辺の部分ではなく、基板6の四隅に形成した方が、デッドスペースになりがちな基板6の四隅を有効に活用するでき、基板サイズの小型化に有利になることが解る。ここで半導体素子1と配線パターン3とが3本以下の場合、前記スルーホール7は、基板4の四隅すべてを使用しなくてもよい。一方、この基板構造62の電子部品を製造する場合には、後に切断線となる仮想線の交差部にスルーホール(スルーホール素材)7を作り込んだ基板(基板素材)6を準備して、電子部品素材を形成し、これを仮想線に沿って切断するようにする。   In particular, when the number of the semiconductor elements 1 and the wiring patterns 3 is 4 or less, as shown in FIG. 12, the through hole 7 is formed on the substrate 6 in order to design the electronic component as small as possible and in a standard size. It can be seen that the formation at the four corners of the substrate 6 rather than the side portions can effectively utilize the four corners of the substrate 6 that tend to be a dead space, which is advantageous in reducing the size of the substrate. Here, when the number of the semiconductor elements 1 and the wiring patterns 3 is three or less, the through holes 7 may not use all the four corners of the substrate 4. On the other hand, when manufacturing an electronic component of this substrate structure 62, a substrate (substrate material) 6 in which a through hole (through hole material) 7 is formed at the intersection of a virtual line that will be a cutting line later is prepared. An electronic component material is formed and cut along an imaginary line.

同様に、図13に基づいて、いずれのチップキャリア型の電子部品にも適用できる別の製造方法について説明する。なお、以下に説明する基板6の切断工程は、前述のように半導体素子1を実装しモールド樹脂5を塗布した後、行われる工程であるが、説明を分かりやすくするため、図面上では、半導体素子1やワイヤー2などを省略している。図13(a)は、本発明におけるチップキャリア型の電子部品に使用される基板(基板素材)6の裏面図、図13(b)はその平面図である。   Similarly, another manufacturing method that can be applied to any chip carrier type electronic component will be described with reference to FIG. In addition, although the cutting process of the board | substrate 6 demonstrated below is a process performed after mounting the semiconductor element 1 and apply | coating the mold resin 5 as mentioned above, in order to make explanation easy to understand, in the drawing, the semiconductor The element 1 and the wire 2 are omitted. FIG. 13A is a back view of a substrate (substrate material) 6 used for a chip carrier type electronic component according to the present invention, and FIG. 13B is a plan view thereof.

図13(b)に示す符号71はダイパッドであり、ここに半導体素子1がダイアタッチされる。半導体素子1と、配線パターン3とが接続され、さらにスルーホール7で基板6の裏面に接続されている。図中の破線は、フルダイシングライン(仮想線)91であり、最終的にこのライン91で囲まれる領域がチップキャリア型電子部品の外形となる。もちろん実際の工程では、基板6の表面はモールド樹脂5が全面に塗布されており、図13(b)の配線パターン3、スルーホール7等は見えない。また、図13(a)の基板6裏面は、ダイシング前においては実装前後で外観上の変化はない。   The code | symbol 71 shown in FIG.13 (b) is a die pad, and the semiconductor element 1 is die-attached here. The semiconductor element 1 and the wiring pattern 3 are connected, and further connected to the back surface of the substrate 6 through the through hole 7. The broken line in the figure is a full dicing line (virtual line) 91, and the area surrounded by the line 91 is finally the outer shape of the chip carrier type electronic component. Of course, in the actual process, the surface of the substrate 6 is coated with the mold resin 5 over the entire surface, and the wiring pattern 3 and the through hole 7 shown in FIG. 13B cannot be seen. Further, the back surface of the substrate 6 in FIG. 13A has no change in appearance before and after mounting before dicing.

図13(a)に示すように、基板6の裏面の周縁部には、各スルーホール7に連なるメッキリード92が設けられており、このメッキリード92により、基板6の表面の配線パターン3及びスルーホール7、および基板6の裏面の接続用ランド8上に電気メッキが施される。このため、メッキリード92により、全スルーホール7、それに続がる配線パターン3、さらには半導体素子1の外部結線部分が、全て電気的に短絡している。   As shown in FIG. 13A, a plating lead 92 connected to each through hole 7 is provided on the peripheral edge of the back surface of the substrate 6, and the plating lead 92 and the wiring pattern 3 on the surface of the substrate 6 and Electroplating is performed on the through holes 7 and the connection lands 8 on the back surface of the substrate 6. For this reason, all the through holes 7, the wiring pattern 3 that follows the plated leads 92, and the external connection portion of the semiconductor element 1 are all electrically short-circuited.

したがって、メッキが施された後は、この短絡状態を解消するために、実施例では、メッキリード92をハーフダイシングライン90で切断するようにしている。ハーフダイシングは、少なくともメッキリード92の厚さ以上、モールドを含む電子部品の総厚以下で行われる。この場合、後のフルダイシング工程でチップキャリア型電子部品がバラバラにならないように、モールド後の基板6表面に粘着性を有するシートを貼ってから行うのが望ましい。このハーフダイシング工程でメッキリード92が切断されるので、全スルーホール7、それに続がる配線パターン3、さらには半導体素子1の外部結線部分は、全て電気的な短絡は取り除かれ、スルーホール7から半導体素子1までは、最終的なチップキャリア型電子部品と同様に、電気的に独立した電子部品要素となる。これにより、スルーホール7にピンプローブを立てるようにして、基板6裏面から半導体素子1の電気的な検査を行うことができる。検査が終了してから、最終的なチップキャリア型電子部品の外形にフルダイシングライン91で切断する。   Therefore, after the plating is performed, the plating lead 92 is cut by the half dicing line 90 in the embodiment in order to eliminate this short-circuit state. Half dicing is performed at least at the thickness of the plated lead 92 or less and the total thickness of the electronic component including the mold. In this case, it is desirable to perform after sticking an adhesive sheet on the surface of the substrate 6 after molding so that the chip carrier type electronic components do not fall apart in the subsequent full dicing step. Since the plating lead 92 is cut in this half dicing process, all the through holes 7, the wiring pattern 3 that follows the plating leads 92, and the external connection portion of the semiconductor element 1 are all removed from the electrical short circuit, and the through holes 7 To the semiconductor element 1 are electrically independent electronic component elements as in the final chip carrier type electronic component. Thereby, the electrical inspection of the semiconductor element 1 can be performed from the back surface of the substrate 6 such that the pin probe stands in the through hole 7. After the inspection is completed, the outer shape of the final chip carrier type electronic component is cut by the full dicing line 91.

このようにすることで、基板外形状態でチップキャリア型電子部品の検査を行うことができるので、電子部品単体で行うより検査時の取扱い性、位置決め性が大幅に向上する。また、ハーフダイシングライン90とフルダイシングライン91は重なっていてもよい。すなわち、ハーフダイシングを最終的なチップキャリア型電子部品外形位置で行い、部品検査後同じ位置でフルダイシングを行い、最終的なチップキャリア型電子部品に仕上げても効果は変わらない。   By doing so, since the chip carrier type electronic component can be inspected in the substrate external state, handling and positioning at the time of inspection are greatly improved as compared with the case where the electronic component alone is used. Further, the half dicing line 90 and the full dicing line 91 may overlap. That is, even if half dicing is performed at the final chip carrier type electronic component outer shape position, full dicing is performed at the same position after component inspection, and the final chip carrier type electronic component is finished, the effect does not change.

さらに、ハーフダイシングを省略して、上記のフルダイシングライン91で、直接フルダイシングを行い、最終的なチップキャリア型電子部品としてもよい。
この場合も、基板6表面に粘着性を有するシートを貼ってから行う。これにより、フルダイシングされた電子部品がバラバラにならず、かつメッキリード92も切断されるので、基板外形状態でチップキャリア型電子部品の検査を行うことができる。
Further, half dicing may be omitted, and full dicing may be performed directly on the above-mentioned full dicing line 91 to obtain a final chip carrier type electronic component.
Also in this case, it is performed after sticking an adhesive sheet on the surface of the substrate 6. As a result, the fully diced electronic components do not fall apart and the plated leads 92 are also cut, so that the chip carrier type electronic components can be inspected in the substrate outer shape.

なお、図示しないが、メッキリード92を基板6の表裏両面に形成するようにしてもよい。かかる場合には、メッキ電流の局在化が抑制され、メッキ厚を均一にすることができる。そして、この場合には、上記のように直接フルダイシングを行うことが、好ましい。
(変形例)
Although not shown, the plating leads 92 may be formed on both the front and back surfaces of the substrate 6. In such a case, the localization of the plating current is suppressed, and the plating thickness can be made uniform. In this case, it is preferable to perform full dicing directly as described above.
(Modification)

以上述べてきた実施例中では、半導体素子をいわゆるワイヤーボンディング法で基板に搭載する方法について説明してきたが、TAB法、フリップチップ法等、他の既知の方法で搭載しても、もちろん構わない。特にフェースダウン方式によるフリップチップ実装にて行う場合には、ワイヤを引き回す領域に相当する面積分が省略可能であり、より小型化が図れることはいうまでもない。さらに、上記の実施例中では、半導体素子をチップキャリア型電子部品に搭載する場合について述べてきたが、搭載される部品は半導体素子に限らず、キャパシター、インダクター等他のどんな要素部品でも構わない。また、実施例中の基板には、単一の要素部品のみならず複数の要素部品が搭載されていても良い。もちろん、いわゆるMCM(マルチチップモジュール)を搭載するパッケージとしても、使用することができる。   In the embodiments described above, the method of mounting the semiconductor element on the substrate by the so-called wire bonding method has been described. Of course, it may be mounted by other known methods such as the TAB method and the flip chip method. . In particular, when performing flip-chip mounting by the face-down method, it is possible to omit the area corresponding to the area where the wire is routed, and it is needless to say that further miniaturization can be achieved. Further, in the above embodiment, the case where the semiconductor element is mounted on the chip carrier type electronic component has been described. However, the mounted component is not limited to the semiconductor element, and any other element component such as a capacitor or an inductor may be used. . In addition, a plurality of element parts as well as a single element part may be mounted on the substrate in the embodiment. Of course, it can also be used as a package on which a so-called MCM (multi-chip module) is mounted.

本発明の一実施例に係る電子部品の構造図である。1 is a structural diagram of an electronic component according to an embodiment of the present invention. 本発明の図1の実施例に対応する製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method corresponding to the Example of FIG. 1 of this invention. 本発明の図1の実施例に対応する他の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the other manufacturing method corresponding to the Example of FIG. 1 of this invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 6 is a structural diagram of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の図4の実施例に対応する製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method corresponding to the Example of FIG. 4 of this invention. 本発明の図4の実施例に対応する他の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the other manufacturing method corresponding to the Example of FIG. 4 of this invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 6 is a structural diagram of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 6 is a structural diagram of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の他の実施例に係る電子部品の構造図である。FIG. 6 is a structural diagram of an electronic component according to another embodiment of the present invention. 本発明の図7、図8および図9の実施例に対応する製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method corresponding to the Example of FIG.7, FIG.8 and FIG.9 of this invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the electronic component which concerns on one Example of this invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の基板構造図である。It is a board | substrate structure figure of the electronic component which concerns on one Example of this invention. 本発明の一実施例に係る電子部品の製造方法の説明図である。It is explanatory drawing of the manufacturing method of the electronic component which concerns on one Example of this invention. 従来の電子部品の構造図である。It is a structural diagram of a conventional electronic component.

符号の説明Explanation of symbols

1…半導体素子、2…ワイヤー、3…配線パターン、4…モールド枠、5…モールド樹脂、6…基板、7…スルーホール(外部電極)、8…接続用ランド、9…ハンダ、20…ダイシングブレード、21…クリームハンダ、22…小孔、23…ステンシル、24…スキージ、30…ハンダ噴流、31…溶融ハンダ、40…粘着シート、50…シリコーンゴム、61…ダイヤタッチ部、62…実線の基板構造、63…二点鎖線の基板構造、70…スルーホール覆面部材、71…ダイパッド、72…銀ペースト、73…貫通孔、80…平面保持板、81…挟持部材、90…ハーフダイシングライン、91…フルダイシングライン、92…メッキリード。   DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Semiconductor element, 2 ... Wire, 3 ... Wiring pattern, 4 ... Mold frame, 5 ... Mold resin, 6 ... Board | substrate, 7 ... Through-hole (external electrode), 8 ... Connection land, 9 ... Solder, 20 ... Dicing Blade: 21 ... Cream solder, 22 ... Small hole, 23 ... Stencil, 24 ... Squeegee, 30 ... Solder jet, 31 ... Molten solder, 40 ... Adhesive sheet, 50 ... Silicone rubber, 61 ... Diamond touch part, 62 ... Solid line Substrate structure, 63 ... Two-dot chain line substrate structure, 70 ... Through-hole covering member, 71 ... Die pad, 72 ... Silver paste, 73 ... Through-hole, 80 ... Plane holding plate, 81 ... Nipping member, 90 ... Half dicing line, 91: Full dicing line, 92: Plating lead.

Claims (62)

周囲に複数の外部電極を設けた方形の基板と、前記外部電極に電気的に接続された状態で当該基板の表面に載置した要素部品と、当該要素部品を前記基板の表面にモールドしたモールド樹脂とを備えたリードレスパッケージ型の電子部品において、 前記モールド樹脂の表面が平坦に形成されると共に、前記モールド樹脂の各側面が前記基板の各側面と面一に形成されていることを特徴とする電子部品。   A rectangular substrate having a plurality of external electrodes around it, an element component placed on the surface of the substrate while being electrically connected to the external electrode, and a mold in which the element component is molded on the surface of the substrate In a leadless package type electronic component comprising a resin, a surface of the mold resin is formed flat, and each side surface of the mold resin is formed flush with each side surface of the substrate. Electronic parts. 前記外部電極は、スルーホールを軸方向に切断して形成されたものであることを特徴とする請求項1に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the external electrode is formed by cutting a through hole in an axial direction. 前記外部電極には、導電ペーストが充填されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 2, wherein the external electrode is filled with a conductive paste. 前記外部電極には、ハンダ濡れ性を有する金属材料が充填されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 2, wherein the external electrode is filled with a metal material having solder wettability. 前記金属材料が、ハンダであることを特徴とする請求項4に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 4, wherein the metal material is solder. 前記金属材料が、金であることを特徴とする請求項4に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 4, wherein the metal material is gold. 前記外部電極のモールド樹脂側の開口を閉塞する覆装部材を、更に備えており、
当該覆装部材は、前記モールド樹脂により前記基板の表面にモールドされていると共に、その側端面が当該モールド樹脂および当該基板の側面と面一に形成されていることを特徴とする請求項2に記載の電子部品。
A covering member that closes the opening on the mold resin side of the external electrode is further provided,
3. The covering member is molded on the surface of the substrate by the mold resin, and a side end surface thereof is formed flush with the side surface of the mold resin and the substrate. The electronic component described.
前記基板と前記要素部品との間に、前記覆装部材と全く同一材料のパッドを、更に備えたことを特徴とする請求項7に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, further comprising a pad made of the same material as that of the covering member between the substrate and the element component. 前記パッドには、当該覆装部材を表裏方向に貫通する貫通孔が形成されており、当該貫通孔には、前記要素部品と前記基板の配線領域とを導通する導電性部材が内在されていることを特徴とする請求項8に記載の電子部品。   The pad is formed with a through-hole penetrating the covering member in the front-back direction, and the through-hole contains a conductive member that conducts the element component and the wiring region of the substrate. The electronic component according to claim 8. 前記覆装部材が、粘着性のシートであることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is an adhesive sheet. 前記覆装部材が、ドライフィルムであることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a dry film. 前記覆装部材が、ガラスエポキシ板であることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a glass epoxy plate. 前記覆装部材が、セラミック板であることを特徴とする請求項7、8または9に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 7, wherein the covering member is a ceramic plate. 前記外部電極が、前記基板の角部に設けられていることを特徴とする請求項1ないし13のいずれか1項に記載の電子部品。   The electronic component according to claim 1, wherein the external electrode is provided at a corner of the substrate. ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線上に配設した基板素材と、
当該基板素材の前記仮想線に囲まれた領域に実装した要素部品と、
前記要素部品をモールドするように前記基板素材の表面全域に流し込んだモールド樹脂とを備えたことを特徴とする電子部品素材。
A substrate material in which through-holes in which external electrodes are formed by cutting along a line substantially passing through the axis are arranged on a grid-like virtual line,
Component parts mounted in the area surrounded by the virtual line of the substrate material,
An electronic component material, comprising: a mold resin poured over the entire surface of the substrate material so as to mold the element component.
前記基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを、更に備えたことを特徴とする請求項15に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 15, further comprising a dam for preventing the poured mold resin from flowing out at a peripheral portion of the substrate material. 前記基板素材に、各スルーホールに連なるメッキリードを、更に備えたことを特徴とする請求項15または16に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 15 or 16, further comprising a plating lead connected to each through hole in the substrate material. 前記メッキリードが、前記基板素材の表裏両面に配設されていることを特徴とする請求項17に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 17, wherein the plating lead is disposed on both front and back surfaces of the substrate material. 前記各スルーホールに、導電ペーストを充填したことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 15, wherein each through hole is filled with a conductive paste. 前記各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填したことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 15, wherein each through hole is filled with a metal material having solder wettability. 前記金属材料が、ハンダであることを特徴とする請求項20に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 20, wherein the metal material is solder. 前記金属材料が、金であることを特徴とする請求項20に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 20, wherein the metal material is gold. 前記基板素材の表面に、前記各スルーホールの開口部を閉塞すると共に、モールド樹脂にモールドされた覆装素材を、更に備えたことを特徴とする請求項15ないし18のいずれか1項に記載の電子部品素材。   19. The cover material according to claim 15, further comprising a covering material that closes an opening of each through hole and is molded in a molding resin on a surface of the substrate material. Electronic parts material. 前記基板素材と前記各要素部品との間に、前記覆装素材と全く同一材料のパッドを、更に備えたことを特徴とする請求項23に記載の電子部品素材。   24. The electronic component material according to claim 23, further comprising a pad made of the same material as the covering material between the substrate material and each of the component parts. 前記覆装素材が、粘着性のシートであることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 23 or 24, wherein the covering material is an adhesive sheet. 前記覆装素材が、ドライフィルムであることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 23, wherein the covering material is a dry film. 前記覆装素材が、ガラスエポキシ板であることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 23 or 24, wherein the covering material is a glass epoxy plate. 前記覆装素材が、セラミック板であることを特徴とする請求項23または24に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to claim 23 or 24, wherein the covering material is a ceramic plate. 前記スルーホールを、格子状の仮想線の交差部に配設したことを特徴とする請求項15ないし28のいずれか1項に記載の電子部品素材。   The electronic component material according to any one of claims 15 to 28, wherein the through holes are arranged at intersections of lattice-like virtual lines. ほぼ軸心を通る線で切断することにより外部電極が形成されるスルーホールを、格子状の仮想線に沿って基板素材に作り込む基板製作工程と、
前記基板素材の前記仮想線に囲まれた領域に要素部品を実装する実装工程と、 前記要素部品とこれに対応する前記スルーホールとを電気的に接続する接続工程と、
前記基板素材の表面全域にモールド樹脂を流し込んで前記要素部品をモールドするモールド工程と、
前記モールド樹脂が硬化した後、前記基板素材、前記モールド樹脂および前記スルーホールを前記仮想線に沿って切断する切断工程とを備えたことを特徴とする電子部品の製造方法。
A substrate manufacturing process in which a through hole in which an external electrode is formed by cutting along a line substantially passing through the axis is formed in a substrate material along a lattice-like virtual line;
A mounting step of mounting an element component in a region surrounded by the imaginary line of the substrate material; a connection step of electrically connecting the element component and the corresponding through hole;
A molding step in which a mold resin is poured over the entire surface of the substrate material to mold the element component;
An electronic component manufacturing method comprising: a cutting step of cutting the substrate material, the mold resin, and the through hole along the virtual line after the mold resin is cured.
前記モールド工程に先立ち、前記基板素材の周縁部に、流し込んだモールド樹脂の流出を阻止するダムを形成するダム形成工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30に記載の電子部品の製造方法。   31. The manufacturing of an electronic component according to claim 30, further comprising a dam forming step of forming a dam for preventing the poured mold resin from flowing out at a peripheral portion of the substrate material prior to the molding step. Method. 前記基板素材を水平に保持する治具を用い、当該治具により当該基板素材を水平に保持した状態で、前記モールド樹脂を硬化させることを特徴とする請求項30または31に記載の電子部品の製造方法。   32. The electronic component according to claim 30, wherein the mold resin is cured using a jig that horizontally holds the substrate material, and the substrate material is held horizontally by the jig. Production method. 流し込む前記モールド樹脂を、重量で管理することを特徴とする請求項32に記載の電子部品の製造方法。   The method of manufacturing an electronic component according to claim 32, wherein the mold resin to be poured is managed by weight. 前記モールド工程に先立ち、前記各スルーホールに、導電ペーストを充填する充填工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。   34. The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, further comprising a filling step of filling each through hole with a conductive paste prior to the molding step. 前記充填工程は、前記導電ペーストを前記各スルーホールに充填した後これをする加熱硬化させることにより、行われることを特徴とする請求項34に記載の電子部品の製造方法。   35. The method of manufacturing an electronic component according to claim 34, wherein the filling step is performed by heating and curing the conductive paste after filling the through holes. 前記モールド工程に先立ち、前記各スルーホールに、ハンダ濡れ性を有する金属材料を充填する充填工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。   The electronic component according to any one of claims 30 to 33, further comprising a filling step of filling each through hole with a metal material having solder wettability prior to the molding step. Production method. 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、ハンダペーストを前記各スルーホールに充填した後これを加熱溶融させることにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。   37. The method of manufacturing an electronic component according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is performed by filling the through holes with solder paste and then heating and melting the paste. . 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、溶融して波立せたハンダに前記スルーホールの開口部を接触させることにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。   37. The electronic component manufacturing method according to claim 36, wherein the metal material is solder, and the filling step is performed by bringing the opening of the through hole into contact with molten and waved solder. Method. 前記金属材料がハンダであり、前記充填工程は、前記基板素材の前記スルーホールの開口部を除く部分をマスキングした後、前記基板素材を溶融したハンダに浸漬することにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。   The metal material is solder, and the filling step is performed by immersing the substrate material in molten solder after masking a portion of the substrate material excluding the opening of the through hole. The method of manufacturing an electronic component according to claim 36. 前記充填工程は前記スルーホールに厚くメッキを施すことにより、行われることを特徴とする請求項36に記載の電子部品の製造方法。   37. The method of manufacturing an electronic component according to claim 36, wherein the filling step is performed by plating the through hole thickly. 前記モールド工程に先立ち、閉塞部材を用いて前記基板素材の裏面に開口した前記各スルーホールの開口部を閉塞する閉塞工程と、
前記モールド樹脂が硬化した後、前記閉塞部材を取り去る開放工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the molding step, a closing step of closing the opening of each through hole opened on the back surface of the substrate material using a closing member;
The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 33, further comprising an opening step of removing the blocking member after the mold resin is cured.
前記閉塞部材が前記基板素材の裏面全域を覆い得る非粘着性の平板状部材であり、前記閉塞工程は、前記基板素材の裏面に当該平板状部材を押し当てることにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。   The blocking member is a non-adhesive flat plate member that can cover the entire back surface of the substrate material, and the blocking step is performed by pressing the flat plate member against the back surface of the substrate material. The method of manufacturing an electronic component according to claim 41. 前記平板状部材が、シリコーンゴムであることを特徴とする請求項42に記載の電子部品の製造方法。   43. The method of manufacturing an electronic component according to claim 42, wherein the flat member is silicone rubber. 前記閉塞部材が、前記基板素材の裏面全域を覆い得る粘着性のシートであり、前記閉塞工程は、前記基板素材の裏面に当該シートを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。   The closing member is an adhesive sheet that can cover the entire back surface of the substrate material, and the closing step is performed by sticking the sheet to the back surface of the substrate material. 41. A method for producing an electronic component according to 41. 前記シートが紫外線の照射により粘着性が低下する紫外線硬化シートであり、前記閉塞工程と前記開放工程との間で、当該紫外線硬化シートに紫外線を照射することを特徴とする請求項44に記載の電子部品の製造方法。   45. The ultraviolet curable sheet according to claim 44, wherein the sheet is an ultraviolet curable sheet whose adhesiveness decreases when irradiated with ultraviolet light, and the ultraviolet curable sheet is irradiated with ultraviolet light between the closing step and the opening step. Manufacturing method of electronic components. 前記シートが加熱することにより粘着性が低下する熱硬化シートであり、前記閉塞工程と前記開放工程との間で、当該熱硬化シートを加熱することを特徴とする請求項44に記載の電子部品の製造方法。   45. The electronic component according to claim 44, wherein the electronic component is a thermosetting sheet whose adhesiveness decreases when the sheet is heated, and the thermosetting sheet is heated between the closing step and the opening step. Manufacturing method. 前記閉塞部材が、アルカリ水溶液に溶解する溶解性樹脂であり、前記閉塞工程は、当該各スルーホールに溶解性樹脂を流し込んで硬化させることにより、行われ、前記開放工程は、アルカリ水溶液で溶解性樹脂を洗い流すことにより、行われることを特徴とする請求項41に記載の電子部品の製造方法。   The closing member is a soluble resin that dissolves in an alkaline aqueous solution, and the closing step is performed by pouring and dissolving the soluble resin in each through hole, and the opening step is soluble in an alkaline aqueous solution. The method of manufacturing an electronic component according to claim 41, wherein the method is performed by washing away the resin. 前記モールド工程に先立ち、前記基板素材の表面に、前記各スルーホールの開口部を閉塞する覆装素材を取り付ける覆装工程を、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし33のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。   34. The covering method according to any one of claims 30 to 33, further comprising a covering step of attaching a covering material that closes the opening of each through hole to the surface of the substrate material prior to the molding step. The manufacturing method of the electronic component of description. 前記覆装素材が粘着性のシートであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該シートを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   The said covering material is an adhesive sheet | seat, The said covering process is performed by sticking the said sheet | seat on the surface of the said board | substrate material, The manufacturing of the electronic component of Claim 48 characterized by the above-mentioned. Method. 前記覆装部材がドライフィルムであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該ドライフィルムを貼着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   49. The method of manufacturing an electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a dry film, and the covering step is performed by attaching the dry film to a surface of the substrate material. . 前記覆装部材がガラスエポキシの成形板であり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該成形板を接着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   49. The electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a glass epoxy molded plate, and the covering step is performed by bonding the molded plate to a surface of the substrate material. Production method. 前記覆装部材がガラスエポキシのプリプレグであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該プリプレグを加熱圧着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a glass epoxy prepreg, and the covering step is performed by thermocompression bonding the prepreg to a surface of the substrate material. Method. 前記覆装部材がセラミックの成形板であり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該成形板を接着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   49. The electronic component manufacturing method according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic molded plate, and the covering step is performed by bonding the molded plate to a surface of the substrate material. Method. 前記覆装部材がセラミックのグリーンシートであり、前記覆装工程は、前記基板素材の表面に当該グリーンシートを加熱圧着することにより、行われることを特徴とする請求項48に記載の電子部品の製造方法。   49. The electronic component according to claim 48, wherein the covering member is a ceramic green sheet, and the covering step is performed by thermocompression bonding the green sheet to a surface of the substrate material. Production method. 前記モールド工程に先立ち、前記基板素材に当該基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、
前記モールド樹脂の硬化後であって前記切断工程の前に、前記平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし54のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the molding step, attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material;
55. The electronic component according to any one of claims 30 to 54, further comprising a step of removing the flat surface holding means after the molding resin is cured and before the cutting step. Production method.
前記モールド樹脂の硬化後であって、前記平面保持手段を取り去る前に、前記基板素材を加熱させ且つ徐冷させることを特徴とする請求項55に記載の電子部品の製造方法。   56. The method of manufacturing an electronic component according to claim 55, wherein the substrate material is heated and gradually cooled after the mold resin is cured and before the plane holding means is removed. 前記モールド樹脂の硬化後であって前記切断工程の前に、 前記基板素材に当該基板素材の平面度を保持する平面保持手段を取り付ける工程と、
前記基板素材を加熱させ且つ徐冷させる工程と、
前記平面保持手段を取り去る工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項30ないし54のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
A step of attaching a plane holding means for holding the flatness of the substrate material to the substrate material after the molding resin is cured and before the cutting step;
Heating and gradually cooling the substrate material;
The method for manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 54, further comprising a step of removing the flat surface holding means.
前記平面保持手段は、前記基板素材の裏面側に当てがう平面保持板と、当該平面保持板および当該基板素材を合わせて挟持する挟持部材とで、構成されていることを特徴とする請求項55、56または57に記載の電子部品の製造方法。   The plane holding means includes a plane holding plate applied to the back side of the substrate material, and a clamping member for clamping the plane holding plate and the substrate material together. 58. A method of manufacturing an electronic component according to 55, 56 or 57. 前記基板製作工程において、前記基板素材に、前記スルーホールと共に、当該各スルーホールに連なるメッキリードを一体に作り込むことを特徴とする請求項30ないし58のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。   59. The electronic component according to claim 30, wherein, in the substrate manufacturing step, a plating lead connected to each through hole is integrally formed in the substrate material together with the through hole. Production method. 前記切断工程に先立ち、前記基板素材および前記モールド樹脂に切り込みを入れてメッキリードを前記スルーホールから切り離す半切断工程と、
これに続く前記要素部品の電気的な検査を行う検査工程とを、更に備えたことを特徴とする請求項59に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the cutting step, a semi-cutting step of cutting the substrate lead and the mold resin to cut the plating lead from the through hole,
60. The method of manufacturing an electronic component according to claim 59, further comprising a subsequent inspection step of performing an electrical inspection of the component part.
前記半切断工程における切り込みが、前記仮想線に沿って行われることを特徴とする請求項60に記載の電子部品の製造方法。   61. The method of manufacturing an electronic component according to claim 60, wherein the cutting in the half-cutting step is performed along the virtual line. 前記切断工程に先立ち、前記基板素材の片面全域に粘着性のシートを貼着する工程を、更に備え、
当該切断工程が、当該シートを完全切断することなく行われることを特徴とする請求項30ないし61のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法。
Prior to the cutting step, further comprising the step of sticking an adhesive sheet to the entire area of one side of the substrate material,
The method of manufacturing an electronic component according to any one of claims 30 to 61, wherein the cutting step is performed without completely cutting the sheet.
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