JP2007095829A - Electromagnetic wave absorbing sheet and method of manufacturing same - Google Patents

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薇 季
Kenichi Horiuchi
健一 堀内
Toshiaki Kasazaki
敏明 笠崎
Takahiko Yoshida
隆彦 吉田
Ryota Yoshihara
良太 吉原
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electromagnetic wave absorbing sheet capable of raising radiation property by enhancing thermal conductivity, and reducing the number of manufacturing processes and the thickness of the whole sheet. <P>SOLUTION: The sheet includes a matrix resin 2 having light curing property and thermal curing property; and magnetic fillers 3 having a density distribution to be changed along a thickness direction, where the density of the magnetic fillers 3 is higher at one surface side 4 being vertical relative to the thickness direction, and is lower on the other surface side 5 compared with the one surface side 4. When the electromagnetic wave absorbing sheet 1 is made to adhere on a heat source 6 such as a semiconductor element, the other surface side 5 is made to contact with the heat source 6. Then the matrix resin 2 follows the recessed/projected shape of the surface of the heat source 6, so as to raise adhesion between the heat source 6 and the electromagnetic wave absorbing sheet 1. Consequently, thermal resistance is reduced in a part near a boundary between the heat source 6 and the sheet 1, so that the thermal conductivity is raised and the radiation property is raised. <P>COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

Description

本発明は、マトリクス樹脂と磁性フィラーとを含む電磁波吸収シートおよび電磁波吸収シートの製造方法に関する。   The present invention relates to an electromagnetic wave absorbing sheet containing a matrix resin and a magnetic filler, and a method for producing the electromagnetic wave absorbing sheet.

携帯電話機、PDA(Personal Digital Assistance)、パーソナルコンピュータ(PC)などの電子機器は、対策を施さなければ、近くにある他の機器の放射電磁波や、雷、太陽活動など自然現象の影響で、機能低下、誤作動、停止、記録の消失などの影響を受けることがある。また、電子機器自身が発する電磁波によって、他の機器の動作に悪影響を与えてしまうこともある。   Electronic devices such as mobile phones, PDAs (Personal Digital Assistance), and personal computers (PCs) will function due to the effects of natural phenomena such as radiated electromagnetic waves from other nearby devices, lightning, and solar activity unless measures are taken. May be affected by degradation, malfunction, stoppage, loss of records, etc. In addition, electromagnetic waves emitted by the electronic device itself may adversely affect the operation of other devices.

特に電子機器の高集積化、小型軽量化、高機能化が進むにつれて、電磁干渉による悪影響が増大するので、電子機器には何らかの対策を施すことが必須となっている。   In particular, as electronic devices become more highly integrated, smaller, lighter, and more advanced, the adverse effects of electromagnetic interference increase, so it is essential to take some measures against the electronic devices.

電磁波吸収シートは、電子機器が備えるCPU(中央演算処理装置)、高速IC(
Integrated Circuit)などの半導体素子に貼り付けることで外部から到来する電磁波および半導体素子自身が発する電磁波を吸収することで電磁干渉を抑制している。
The electromagnetic wave absorbing sheet is a CPU (central processing unit), a high-speed IC (
Electromagnetic interference is suppressed by absorbing electromagnetic waves coming from outside by being attached to a semiconductor element such as an integrated circuit) and electromagnetic waves emitted by the semiconductor element itself.

また、電磁波吸収シートは半導体素子に貼り付けられるので、発熱した半導体素子を冷却するために熱伝導性も備えることが望ましい。さらに、電磁波吸収シートは、軟磁性体粉末とマトリクス樹脂とを混合し、シート体に成型したもので、電磁波のエネルギーを熱エネルギーに変換し放散させることで電磁波の吸収を行っているので、熱伝導性は、電磁波吸収特性と同様に重要である。   Moreover, since the electromagnetic wave absorbing sheet is affixed to the semiconductor element, it is desirable to have thermal conductivity in order to cool the generated semiconductor element. Furthermore, the electromagnetic wave absorbing sheet is a mixture of soft magnetic powder and matrix resin, which is molded into a sheet body, and absorbs electromagnetic waves by converting the energy of electromagnetic waves into thermal energy and dissipating it. Conductivity is as important as electromagnetic wave absorption characteristics.

特許文献1記載の電磁干渉抑制体は、軟磁性体粉末と結合剤からなる混和物を、3mm以下の厚さのシート状に形成してなる複合磁性体層の、厚さ方向に対して垂直な面の少なくともいずれかに、厚さが0.5mm以下の高分子材料のフィルムを配置することで生産性、取扱い性、耐熱性、熱伝導性などを向上させている。   The electromagnetic interference suppressor described in Patent Document 1 is perpendicular to the thickness direction of a composite magnetic layer formed by forming a mixture of soft magnetic powder and a binder into a sheet having a thickness of 3 mm or less. Productivity, handleability, heat resistance, thermal conductivity, and the like are improved by disposing a polymer material film having a thickness of 0.5 mm or less on at least one of these surfaces.

特開2004−127986号公報JP 2004-127986 A

従来の電磁波吸収シートは、半導体素子と、ヒートシンクとの間に配置され、電磁干渉を抑制するとともに、半導体素子で発生した熱をヒートシンクに伝達している。このとき、特許文献1記載の電磁干渉抑制体のように、高分子材料のフィルムによって熱源である半導体素子と電磁波吸収シートとの密着性を高めることで、熱抵抗を低下させている。   A conventional electromagnetic wave absorbing sheet is disposed between a semiconductor element and a heat sink, suppresses electromagnetic interference, and transmits heat generated in the semiconductor element to the heat sink. At this time, like the electromagnetic interference suppressor described in Patent Document 1, the thermal resistance is lowered by increasing the adhesion between the semiconductor element, which is a heat source, and the electromagnetic wave absorbing sheet by the polymer material film.

このように、従来の電磁波吸収シートでは、半導体素子との密着性を高めるための部材が必要となるので、部材を貼り合わせるための製造工程が不可欠となり、さらに、部材を含めた電磁波吸収シート全体の厚みを薄くすることが困難である。また、密着性を高めるための部材と、磁性体層との間にも熱抵抗が発生するので、密着性を高めるための部材を使用する限り、熱抵抗の低下にも限界がある。   As described above, in the conventional electromagnetic wave absorbing sheet, a member for increasing the adhesion to the semiconductor element is necessary, and thus a manufacturing process for bonding the members becomes indispensable, and further, the entire electromagnetic wave absorbing sheet including the member It is difficult to reduce the thickness. In addition, since thermal resistance is generated between the member for improving the adhesion and the magnetic layer, there is a limit to the reduction in thermal resistance as long as the member for improving the adhesion is used.

本発明の目的は、熱伝導性を高めることで放熱性を向上させることが可能で、さらには、製造工程数の低減およびシート全体の厚みを薄くすることが可能な電磁波吸収シートを提供することである。   An object of the present invention is to provide an electromagnetic wave absorbing sheet capable of improving heat dissipation by increasing thermal conductivity, and further reducing the number of manufacturing steps and reducing the thickness of the entire sheet. It is.

本発明は、マトリクス樹脂と磁性フィラーとを含む電磁波吸収シートであって、
前記マトリクス樹脂は、光硬化性および熱硬化性を有し、前記磁性フィラーは、厚み方向に沿って変化する濃度分布を有することを特徴とする電磁波吸収シートである。
The present invention is an electromagnetic wave absorbing sheet comprising a matrix resin and a magnetic filler,
The matrix resin is an electromagnetic wave absorbing sheet, wherein the matrix resin has photocurability and thermosetting, and the magnetic filler has a concentration distribution that varies along a thickness direction.

また本発明は、前記磁性フィラーは、厚み方向に垂直な一方面側では、高濃度に分布し、他方面側では、一方面側より低濃度に分布していることを特徴とする。   Further, the invention is characterized in that the magnetic filler is distributed at a high concentration on one surface side perpendicular to the thickness direction, and is distributed at a lower concentration on the other surface side than on the one surface side.

また本発明は、前記磁性フィラーは、軟磁性粉末であることを特徴とする。
また本発明は、熱伝導性フィラーをさらに含むことを特徴とする。
In the invention, it is preferable that the magnetic filler is a soft magnetic powder.
Moreover, this invention is characterized by further including a heat conductive filler.

また本発明は、光反応性および熱反応性を有する反応性ビヒクルと磁性フィラーとを含む反応性組成物に対して遠心力を負荷した状態で光照射を行う光照射処理と、前記反応性組成物に対して加熱を行う加熱処理とを含むことを特徴とする電磁波吸収シートの製造方法である。   Further, the present invention provides a light irradiation treatment in which light irradiation is performed in a state where a centrifugal force is applied to a reactive composition including a reactive vehicle having a photoreactivity and a thermal reactivity and a magnetic filler, and the reactive composition The manufacturing method of the electromagnetic wave absorption sheet | seat characterized by including the heat processing which heats with respect to a thing.

本発明によれば、マトリクス樹脂と磁性フィラーとを含む電磁波吸収シートである。前記マトリクス樹脂は、光硬化性および熱硬化性を有している。前記磁性フィラーは、厚み方向に沿って変化する濃度分布を有している。   According to this invention, it is an electromagnetic wave absorption sheet containing matrix resin and a magnetic filler. The matrix resin has photocurability and thermosetting. The magnetic filler has a concentration distribution that varies along the thickness direction.

前記磁性フィラーの濃度分布が、たとえば、厚み方向に垂直な一方面側では、高濃度に分布し、他方面側では、一方面側より低濃度に分布していると、熱源と電磁波吸収シートとの密着性が高まる。これにより、熱源と電磁波吸収シートとの境界付近における熱抵抗が低下し、熱伝導性が高くなり、放熱性が向上する。   When the concentration distribution of the magnetic filler is, for example, distributed at a high concentration on one surface side perpendicular to the thickness direction and distributed at a lower concentration on the other surface side than the one surface side, a heat source, an electromagnetic wave absorbing sheet, Increased adhesion. Thereby, the thermal resistance in the vicinity of the boundary between the heat source and the electromagnetic wave absorbing sheet decreases, the thermal conductivity increases, and the heat dissipation improves.

さらに、従来のように高分子材料のフィルムなど熱源との密着性を高める部材を必要としないので、部材を貼り合わせるための製造工程を省略し、電磁波吸収シート全体の厚みを薄くすることができる。また、密着性を高めるための部材と、磁性体層との間の熱抵抗が全く発生しないので、従来よりもさらに熱抵抗を低下させることが可能となる。   Furthermore, since a member that enhances adhesion to a heat source such as a polymer material film is not required as in the prior art, the manufacturing process for bonding the members can be omitted, and the thickness of the entire electromagnetic wave absorbing sheet can be reduced. . In addition, since no thermal resistance is generated between the member for improving the adhesion and the magnetic layer, the thermal resistance can be further reduced as compared with the prior art.

また本発明によれば、前記磁性フィラーとしては、電磁波吸収特性の点から軟磁性粉末が好ましい。   According to the invention, the magnetic filler is preferably a soft magnetic powder from the viewpoint of electromagnetic wave absorption characteristics.

また本発明によれば、熱伝導性フィラーをさらに含む。熱導電性フィラーを含むことで、電磁波吸収シート全体の熱抵抗を低下させることができ、放熱性がさらに向上する。   Moreover, according to this invention, a heat conductive filler is further included. By including a heat conductive filler, the thermal resistance of the whole electromagnetic wave absorption sheet can be reduced, and heat dissipation is further improved.

また本発明によれば、光反応性および熱反応性を有する反応性ビヒクルと磁性フィラーとを含む反応性組成物を硬化させることで電磁波吸収シートを製造する。   Moreover, according to this invention, an electromagnetic wave absorption sheet is manufactured by hardening the reactive composition containing the reactive vehicle which has photoreactivity and thermal reactivity, and a magnetic filler.

反応性組成物を硬化させる際に、反応性組成物に対して遠心力を負荷した状態で光照射を行う光照射処理と、反応性組成物に対して加熱を行う加熱処理とを施す。   When the reactive composition is cured, a light irradiation treatment for performing light irradiation in a state where a centrifugal force is applied to the reactive composition and a heat treatment for heating the reactive composition are performed.

光照射反応により表層部分が硬化することで外形を保持することができるので、反応器から速やかに取り出し、次工程で加熱処理など他の処理を行うことができる。
これにより、電磁波吸収シートの生産性を大幅に向上させることができる。
Since the outer shape can be maintained by curing the surface layer portion by the light irradiation reaction, it can be quickly taken out from the reactor and subjected to other treatment such as heat treatment in the next step.
Thereby, productivity of an electromagnetic wave absorption sheet can be improved significantly.

本発明は、マトリクス樹脂と磁性フィラーとを含む電磁波吸収シートであって、マトリクス樹脂は、光硬化性および熱硬化性を有し、磁性フィラーは、厚み方向に沿って変化する濃度分布を有する傾斜機能材料であることを特徴としている。   The present invention is an electromagnetic wave absorbing sheet including a matrix resin and a magnetic filler, wherein the matrix resin has photocuring and thermosetting properties, and the magnetic filler has a gradient having a concentration distribution that varies along the thickness direction. It is characterized by being a functional material.

図1は、電磁波吸収シート1の構成を示す断面図である。マトリクス樹脂2内部で磁性フィラー3が厚み方向に沿って濃度分布を有することによって、厚み方向に垂直な一方面側4では、磁性フィラー3が高濃度に分布し、他方面側5では、磁性フィラー3が一方面側4より低濃度に分布する。たとえば、一方面側と他方面側で、磁性フィラーの濃度差が50vol%以上、好ましくは60vol%以上、より好ましくは70vol%以上である。   FIG. 1 is a cross-sectional view showing the configuration of the electromagnetic wave absorbing sheet 1. Since the magnetic filler 3 has a concentration distribution along the thickness direction inside the matrix resin 2, the magnetic filler 3 is distributed at a high concentration on the one surface side 4 perpendicular to the thickness direction, and on the other surface side 5. 3 is distributed at a lower density than the one side 4. For example, the concentration difference of the magnetic filler is 50 vol% or more, preferably 60 vol% or more, more preferably 70 vol% or more, on the one surface side and the other surface side.

このような電磁波吸収シート1を、半導体素子などの熱源6に貼り付ける際に、磁性フィラー3が低濃度に分布する他方面側5を熱源6に接触させることで、マトリクス樹脂2が熱源6表面の凹凸形状に追従し、熱源6と電磁波吸収シート1との密着性が高まる。これにより、熱源6と電磁波吸収シート1との境界付近における熱抵抗が低下し、熱伝導性が高くなり、放熱性が向上する。   When affixing such an electromagnetic wave absorbing sheet 1 to a heat source 6 such as a semiconductor element, the other surface side 5 where the magnetic filler 3 is distributed at a low concentration is brought into contact with the heat source 6, so that the matrix resin 2 becomes the surface of the heat source 6. This improves the adhesion between the heat source 6 and the electromagnetic wave absorbing sheet 1. Thereby, the thermal resistance in the vicinity of the boundary between the heat source 6 and the electromagnetic wave absorbing sheet 1 is lowered, the thermal conductivity is increased, and the heat dissipation is improved.

従来のように高分子材料のフィルムなど熱源との密着性を高める部材を必要としないので、部材を貼り合わせるための製造工程を省略し、電磁波吸収シート全体の厚みを薄くすることができる。また、密着性を高めるための部材と、磁性体層との間の熱抵抗が全く発生しないので、さらに熱抵抗を低下させることが可能である。   Since the member which improves adhesiveness with heat sources, such as the film of a polymeric material conventionally, is not required, the manufacturing process for bonding a member can be abbreviate | omitted, and the thickness of the electromagnetic wave absorption sheet whole can be made thin. In addition, since no thermal resistance is generated between the member for enhancing the adhesion and the magnetic layer, the thermal resistance can be further reduced.

電磁波吸収シートの一方面側では、磁性フィラーが高濃度に分布しているので、電磁波吸収特性も向上させることができる。   Since the magnetic filler is distributed at a high concentration on one side of the electromagnetic wave absorbing sheet, the electromagnetic wave absorbing characteristics can be improved.

磁性フィラーの濃度が高ければ高いほど透磁率μ′,μ″が高くなる傾向にあるために、電磁波吸収シートの電磁波吸収特性が向上する。   The higher the magnetic filler concentration is, the higher the magnetic permeability μ ′ and μ ″ tends to increase, and therefore the electromagnetic wave absorption characteristics of the electromagnetic wave absorbing sheet are improved.

磁性フィラーが厚み方向に沿って濃度分布が変化しない、すなわち電磁波吸収シート全体に均一に分布するような場合、磁性フィラーの濃度が所定の濃度以上になると、シート全体に含まれるマトリクス樹脂の割合が低下し、シート自体の成形が困難となってしまう。これに対して、本発明では、電磁波吸収シートの一方面側で磁性フィラーの濃度を高くしているので、一方面側での局所的な濃度を、均一に分布した場合に成形が困難となる濃度以上の濃度としても成形が可能である。   When the magnetic filler has a concentration distribution that does not change along the thickness direction, that is, when the magnetic filler is uniformly distributed throughout the electromagnetic wave absorbing sheet, when the magnetic filler concentration exceeds a predetermined concentration, the ratio of the matrix resin contained in the entire sheet is It becomes difficult to form the sheet itself. On the other hand, in the present invention, since the concentration of the magnetic filler is increased on one side of the electromagnetic wave absorbing sheet, the molding becomes difficult when the local concentration on one side is uniformly distributed. Molding is possible even when the concentration is higher than the concentration.

電磁波吸収シートは、熱導電性フィラーを含んでもよい。熱導電性フィラーを含むことで、電磁波吸収シート全体の熱抵抗を低下させることができ、放熱性がさらに向上する。   The electromagnetic wave absorbing sheet may include a thermally conductive filler. By including a heat conductive filler, the thermal resistance of the whole electromagnetic wave absorption sheet can be reduced, and heat dissipation is further improved.

上記のような電磁波吸収シートは、光反応性および熱反応性を有する反応性ビヒクルと磁性フィラーとを含む反応性組成物に対して円筒型反応器などを回転させて遠心力を負荷した状態で光を照射し、反応性組成物の少なくとも一部を硬化させることによって得られる。光照射によって全体を硬化させてもよいし、さらに、加熱によって全体を硬化させてもよい。   The electromagnetic wave absorbing sheet as described above is in a state where centrifugal force is applied by rotating a cylindrical reactor or the like to a reactive composition containing a reactive vehicle having a photoreactivity and a thermal reactivity and a magnetic filler. It is obtained by irradiating light and curing at least a part of the reactive composition. The whole may be cured by light irradiation, or the whole may be cured by heating.

光照射と加熱は、同時に行ってもよいし、まず光照射のみを行った後加熱のみをおこなってもよいし、まず光照射のみを行い、光照射と加熱とを行い、加熱のみを行うようにしてもよい。光照射および加熱のタイミングは、反応性組成物の組成および電磁波吸収シートに望む特性に応じて設定すればよい。   Light irradiation and heating may be performed at the same time, or only light irradiation may be performed first, and then only heating may be performed. First, only light irradiation is performed, and light irradiation and heating are performed, and only heating is performed. It may be. What is necessary is just to set the timing of light irradiation and a heating according to the characteristic of the composition of a reactive composition and an electromagnetic wave absorption sheet.

(マトリクス樹脂)
マトリクス樹脂としては、各種の有機重合体材料が使用可能であり、たとえばゴム、熱可塑性エラストマー、各種プラスチックなどの高分子材料などが挙げられる。
(Matrix resin)
As the matrix resin, various organic polymer materials can be used, and examples thereof include polymer materials such as rubber, thermoplastic elastomer, and various plastics.

ゴムとしては、たとえば天然ゴムのほか、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、スチレン−ブタジエンゴム、エチレン−プロピレンゴム、エチレン−酢酸ビニル系ゴム、ブチルゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、アクリルゴム、エチレンアクリル系ゴム、エピクロロヒドリンゴム、フッ素ゴム、ウレタンゴム、シリコーンゴム、塩素化ポリエチレンゴム、水素添加ニトリルゴム(HNBR)などの合成ゴムおよびこれらの誘導体、またはこれらを各種変性処理にて改質したものなどが使用可能であり、特にシリコーンゴムが好ましい。   Examples of rubber include natural rubber, isoprene rubber, butadiene rubber, styrene-butadiene rubber, ethylene-propylene rubber, ethylene-vinyl acetate rubber, butyl rubber, chloroprene rubber, nitrile rubber, acrylic rubber, ethylene acrylic rubber, epi Synthetic rubbers such as chlorohydrin rubber, fluorine rubber, urethane rubber, silicone rubber, chlorinated polyethylene rubber, hydrogenated nitrile rubber (HNBR) and their derivatives, or those modified by various modification treatments can be used. In particular, silicone rubber is preferable.

これらのゴムは単独で使用するほか、複数をブレンドして用いることができる。ゴムには、加硫剤のほか、加硫促進剤、老化防止剤、軟化剤、可塑剤、充填剤、着色剤などの従来からゴムの配合剤として使用されていたものを適宜配合することができる。これら以外にも、任意の添加剤を使用することができる。たとえば、誘電率や導電率を制御するために所定量の誘電体(カーボンブラック、黒鉛、酸化チタン等)を、使用される電子機器内に発生する不要電磁波へのインピーダンスマッチングや温度環境に応じて、材料設計して添加することができる。さらに加工助剤(滑剤、分散剤)も適宜選択して添加してもよい。   These rubbers can be used alone or in combination. In addition to vulcanizing agents, rubbers may be appropriately mixed with vulcanization accelerators, anti-aging agents, softeners, plasticizers, fillers, coloring agents, and the like that have been conventionally used as rubber compounding agents. it can. In addition to these, arbitrary additives can be used. For example, a predetermined amount of dielectric (carbon black, graphite, titanium oxide, etc.) is used to control the dielectric constant and conductivity according to impedance matching to unnecessary electromagnetic waves generated in the electronic equipment used and the temperature environment. Material design can be added. Further, processing aids (lubricants, dispersants) may be appropriately selected and added.

熱可塑性エラストマーとしては、たとえば塩素化ポリエチレンのような塩素系、エチレン系共重合体、アクリル系、エチレンアクリル共重合体系、ウレタン系、エステル系、シリコーン系、スチレン系、アミド系などの各種熱可塑性エラストマーおよびこれらの誘導体が使用可能である。   As thermoplastic elastomer, for example, chlorinated polyethylene such as chlorinated polyethylene, ethylene-based copolymer, acrylic, ethylene-acrylic copolymer, urethane, ester, silicone, styrene, amide, etc. Elastomers and their derivatives can be used.

さらに、各種プラスチックとしては、たとえばポリエチレン、ポリプロピレン、AS樹脂(アクリロニトリルスチレン共重合体)、ABS樹脂(アクリロニトリルブタジエンスチレン共重合体)、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンなどの塩素系樹脂、ポリ酢酸ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、アクリル系樹脂、ナイロン、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、アルキド樹脂、不飽和ポリエステル、ポリスルホン、ウレタン系樹脂、エポキシ樹脂などの熱可塑性樹脂およびこれらの誘導体が挙げられる。これらの結合剤として、低分子量のオリゴマータイプや液状タイプを用いることができる。熱、圧力、紫外線、硬化剤等により成型後にシート状になるものであれば、任意の材料を選択することができる。   In addition, various plastics include, for example, polyethylene, polypropylene, AS resin (acrylonitrile styrene copolymer), ABS resin (acrylonitrile butadiene styrene copolymer), polystyrene-based resins such as polystyrene, polyvinyl chloride, and polyvinylidene chloride, and polyacetic acid. Thermoplastic resins such as vinyl, ethylene-vinyl acetate copolymer, fluororesin, silicone resin, acrylic resin, nylon, polycarbonate, polyethylene terephthalate, alkyd resin, unsaturated polyester, polysulfone, urethane resin, epoxy resin and the like Derivatives. As these binders, low molecular weight oligomer types and liquid types can be used. Any material can be selected as long as it becomes a sheet after molding by heat, pressure, ultraviolet rays, a curing agent, or the like.

本発明では、光照射処理および加熱処理により硬化させるので、反応性組成物に含まれる反応性ビヒクルとしては、硬化反応後に上記のマトリクス樹脂となるものであって、光硬化性モノマー、光硬化性オリゴマーまたは光硬化性プリポリマー、光・熱硬化性モノマー、光・熱硬化性オリゴマーまたは光・熱硬化性プリポリマーなどが挙げられる。   In the present invention, since it is cured by light irradiation treatment and heat treatment, the reactive vehicle contained in the reactive composition is the matrix resin after the curing reaction, and is a photocurable monomer, photocurable Examples include oligomers or photocurable prepolymers, light / thermosetting monomers, light / thermosetting oligomers, or light / thermosetting prepolymers.

アクリル系モノマーまたはオリゴマー、エポキシ系モノマーまたはオリゴマー、イミドモノマーまたはオリゴマーなどを用いることができる。アクリル系モノマーまたはオリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレートおよびイソボロニアルアクリレートなどが好ましい。また、モノマー、オリゴマーは、カリックスアレンを有するものを用いてもよい。   Acrylic monomers or oligomers, epoxy monomers or oligomers, imide monomers or oligomers can be used. As the acrylic monomer or oligomer, epoxy acrylate, polyester acrylate, isobornial acrylate and the like are preferable. Further, monomers and oligomers having calixarene may be used.

(磁性フィラー)
磁性フィラーとしては、軟磁性粉末を用いることが好ましい。軟磁性粉末としては、たとえば磁性ステンレス(Fe−Cr−Al−Si合金)、センダスト(Fe−Si−Al合金)、パーマロイ(Fe−Ni合金)、ケイ素銅(Fe−Cu−Si合金)、Fe−Si合金、Fe−Si−B(−Cu−Nb)合金、Fe−Ni−Cr−Si合金、Fe−Si−Cr合金、Fe−Si−Al−Ni−Cr合金等が挙げられる。また、フェライトまたは純鉄粒子を用いてもよい。フェライトとしては、たとえばMn−Znフェライト、Ni−Znフェライト、Mn−Mgフェライト、Mnフェライト、Cu−Znフェライト、Cu−Mg−Znフェライトなどのソフトフェライト、あるいは永久磁石材料であるハードフェライトが挙げられる。純鉄粒子としては、たとえばカルボニル鉄粉が挙げられる。
(Magnetic filler)
As the magnetic filler, it is preferable to use soft magnetic powder. Examples of the soft magnetic powder include magnetic stainless steel (Fe—Cr—Al—Si alloy), sendust (Fe—Si—Al alloy), permalloy (Fe—Ni alloy), silicon copper (Fe—Cu—Si alloy), Fe -Si alloy, Fe-Si-B (-Cu-Nb) alloy, Fe-Ni-Cr-Si alloy, Fe-Si-Cr alloy, Fe-Si-Al-Ni-Cr alloy, etc. are mentioned. Further, ferrite or pure iron particles may be used. Examples of the ferrite include soft ferrite such as Mn—Zn ferrite, Ni—Zn ferrite, Mn—Mg ferrite, Mn ferrite, Cu—Zn ferrite, and Cu—Mg—Zn ferrite, or hard ferrite that is a permanent magnet material. . Examples of the pure iron particles include carbonyl iron powder.

軟磁性粉末の形状(球状、扁平状、繊維状等)は、特に限定されるものではないが、電磁波吸収シートに高い充填率で充填できることから、球状または略球状を使用するのが好ましい。これらの磁性粉末は単体で使用するほか、複数をブレンドしても構わない。磁性粉末の平均粒径または扁平状軟磁性粉末の長径は0.1〜500μm、好ましくは1〜200μmである。また、扁平状軟磁性粉末のアスペクト比は2〜500、好ましくは10〜100である。なお、上記した軟磁性粉末(磁性金属またはセラミックス)は、熱伝導性をも有するので熱伝導性フィラーを兼ねることができる。   The shape (spherical, flat, fibrous, etc.) of the soft magnetic powder is not particularly limited, but it is preferable to use a spherical or substantially spherical shape because the electromagnetic wave absorbing sheet can be filled with a high filling rate. These magnetic powders may be used alone or in combination. The average particle diameter of the magnetic powder or the long diameter of the flat soft magnetic powder is 0.1 to 500 μm, preferably 1 to 200 μm. The aspect ratio of the flat soft magnetic powder is 2 to 500, preferably 10 to 100. In addition, since the above-mentioned soft magnetic powder (magnetic metal or ceramics) also has thermal conductivity, it can also serve as a thermally conductive filler.

(熱伝導性フィラー)
熱伝導性フィラーとしては、各種の公知のものを使用することができる。特に、熱伝導性フィラーを磁性フィラーである軟磁性粉末と併用して用いる場合には、電気絶縁性を有する、窒化ホウ素、窒化アルミニウム、窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素、酸化マグネシウムおよびフェライトから選ばれる少なくとも1種であるのが好ましい。
(Thermal conductive filler)
Various known materials can be used as the heat conductive filler. In particular, when a thermally conductive filler is used in combination with a soft magnetic powder that is a magnetic filler, boron nitride, aluminum nitride, silicon nitride, aluminum oxide, zinc oxide, silicon oxide, magnesium oxide and It is preferably at least one selected from ferrite.

(その他添加剤)
その他の添加剤としては、重合開始剤、粘度低下剤、重合禁止剤、チクソ性付与剤、消泡剤、シランカップリング剤、可塑剤、溶剤、非反応性ポリマー、着色剤(顔料、染料)などを用いることができる。
(Other additives)
Other additives include polymerization initiators, viscosity reducing agents, polymerization inhibitors, thixotropic agents, antifoaming agents, silane coupling agents, plasticizers, solvents, non-reactive polymers, and colorants (pigments and dyes). Etc. can be used.

重合開始剤は、用いるビヒクルに応じて選択する。光硬化反応には、アクリル系のラジカル重合反応と、エポキシ系のカチオン重合反応とがあり、ビヒクルによってカチオン重合開始剤またはラジカル重合開始剤を添加する。   The polymerization initiator is selected according to the vehicle used. The photocuring reaction includes an acrylic radical polymerization reaction and an epoxy cationic polymerization reaction, and a cationic polymerization initiator or a radical polymerization initiator is added by a vehicle.

なお、本発明の反応性組成物は、有機溶剤や水などの溶媒を含まない不揮発性組成物であることが好ましい。不揮発性とすることで、溶媒の蒸散除去に必要であった時間が不要となる。   In addition, it is preferable that the reactive composition of this invention is a non-volatile composition which does not contain solvents, such as an organic solvent and water. By making it non-volatile, the time required for removing the transpiration of the solvent becomes unnecessary.

反応性組成物を構成する上記物質についてさらに具体的に例示する。
親油性アクリル系モノマーの例としては、ジシクロペンタニル(メタ)アクリレート、(メタ)アクリル酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、トリブロモ(メタ)アクリル酸ベンジル、トリブロモ(メタ)アクリル酸フェノキシエチル、(メタ)アクリル酸ビフェニルエトキシ、(メタ)アクリル酸ビフェニルエポキシ、(メタ)アクリル酸ナフチルエトキシ、(メタ)アクリル酸フルオレンエポキシ、ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールA、テトラブロモジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールA、エトキシ変性ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールA、テトラブロモエトキシ変性ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールA、ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールAエポキシ、エトキシ変性ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールAエポキシ、テトラブロモジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールAエポキシ、テトラブロモエトキシ変性ジ(メタ)アクリル酸ビスフェノールAエポキシなどが挙げられる。
The substance constituting the reactive composition will be illustrated more specifically.
Examples of lipophilic acrylic monomers include dicyclopentanyl (meth) acrylate, benzyl (meth) acrylate, phenoxyethyl (meth) acrylate, benzyl tribromo (meth) acrylate, and phenoxyethyl tribromo (meth) acrylate. Biphenylethoxy (meth) acrylate, biphenyl epoxy (meth) acrylate, naphthylethoxy (meth) acrylate, fluorene epoxy (meth) acrylate, bisphenol A di (meth) acrylate, bisphenol A tetrabromodi (meth) acrylate , Ethoxy modified di (meth) acrylate bisphenol A, tetrabromoethoxy modified di (meth) acrylate bisphenol A, di (meth) acrylate bisphenol A epoxy, ethoxy modified di (meth) acrylate bisphenol A epoxy, Tetoraburomoji (meth) acrylate bisphenol A epoxy, such as tetra-bromoethoxy-modified di (meth) acrylate of bisphenol A epoxy and the like.

親水性アクリル系モノマーの例としては、2−ヒドロキシエチル(メタ)アクリレート、ヒドロキシプロピルアクリレート、4−ヒドロキシブチルアクリレート、2−メタアクロイルオキシエチル−2−ヒドロキシプロピルアクリレート、N,N−ジメチルアクリルアミド、N,N−ジエチルアクリルアミド、アクリロイルモルフォリン、N,N−ジメチルアミノプロピルアクリルアミド、イソプロピルアクリルアミド、ジメチルアミノエチルアクリレート、2−ヒドロキシ−3−フェノキシプロピルアクリレート、エチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレートなどのエチレングリコール系の(メタ)アクリレート、トリメチロールプロパントリ(メタ)アクリレート等のグリセリン(メタ)アクリレートエステル類、ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート等のジオール類の(メタ)アクリル酸エステル、ネオペンチルジ(メタ)アクリレートなどが挙げられる。   Examples of hydrophilic acrylic monomers include 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, hydroxypropyl acrylate, 4-hydroxybutyl acrylate, 2-methacryloyloxyethyl-2-hydroxypropyl acrylate, N, N-dimethylacrylamide, N, N-diethylacrylamide, acryloylmorpholine, N, N-dimethylaminopropylacrylamide, isopropylacrylamide, dimethylaminoethyl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, ethylene glycol di (meth) acrylate, diethylene glycol di (meta ) Glycerin (meth) such as ethylene glycol-based (meth) acrylate such as acrylate, trimethylolpropane tri (meth) acrylate Chestnut rates esters, (meth) acrylic acid ester of hexanediol di (meth) diols such as acrylate, and Neopenchiruji (meth) acrylate.

エポキシ樹脂には、芳香族エポキシ樹脂、脂環族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂があり、芳香族エポキシ樹脂として、少なくとも1個の芳香核を有する多価フェノールまたはそのアルキレンオキサイド付加体のポリグリシジルエーテルであって、たとえばビスフェノールAやビスフェノールFまたはそのアルキレンオキサイド付加体と、エピクロルヒドリンとの反応によって製造されるグリシジルエーテル、エポキシノボラック樹脂が挙げられる。また、脂環族エポキシ樹脂としては、少なくとも1個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテルまたは、シクロヘキセン、シクロペンテン環含有化合物を、過酸化水素、過酸などの適当な酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイド、またはシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。   Epoxy resins include aromatic epoxy resins, alicyclic epoxy resins, and aliphatic epoxy resins, and polyglycidyl ethers of polyhydric phenols having at least one aromatic nucleus or their alkylene oxide adducts as aromatic epoxy resins. For example, glycidyl ether and epoxy novolac resin produced by the reaction of bisphenol A, bisphenol F or its alkylene oxide adduct and epichlorohydrin can be mentioned. In addition, as the alicyclic epoxy resin, a polyglycidyl ether of a polyhydric alcohol having at least one alicyclic ring, or a cyclohexene or cyclopentene ring-containing compound is mixed with an appropriate oxidizing agent such as hydrogen peroxide or peracid. Examples thereof include cyclohexene oxide or cyclopentene oxide-containing compound obtained by epoxidation.

脂環族エポキシ樹脂のモノマー例としては、水素添加ビスフェノールAジグリシジルエーテル、3,4−エポキシシクロヘキシルメチル−3’,4’−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、2−(3,4−エポキシシクロヘキシル−5,5−スピロ−3,4−エポキシ)シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)アジペート、ビニルシクロヘキセンジオキサイド、4−ビニルエポキシシクロヘキサン、ビス(3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキシル−3,4−エポキシ−6−メチルシクロヘキサン)カルボキシレート、メチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサン)、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレングリコールのジ(3,4−エポキシシクロヘキシルメチル)エーテル、エチレンビス(3,4−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート)、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−2−エチルヘキシルなどが挙げられる。   Examples of alicyclic epoxy resin monomers include hydrogenated bisphenol A diglycidyl ether, 3,4-epoxycyclohexylmethyl-3 ′, 4′-epoxycyclohexanecarboxylate, 2- (3,4-epoxycyclohexyl-5, 5-spiro-3,4-epoxy) cyclohexane-meta-dioxane, bis (3,4-epoxycyclohexylmethyl) adipate, vinylcyclohexene dioxide, 4-vinylepoxycyclohexane, bis (3,4-epoxy-6-methyl) Cyclohexyl-3,4-epoxy-6-methylcyclohexane) carboxylate, methylenebis (3,4-epoxycyclohexane), dicyclopentadiene diepoxide, ethylene glycol di (3,4-epoxycyclohexylmethyl) Ether, ethylenebis (3,4-epoxycyclohexane carboxylate), epoxy hexahydrophthalic acid dioctyl and epoxy hexahydrophthalic acid di-2-ethylhexyl and the like.

脂肪族エポキシ樹脂のモノマー例としては、脂肪族多価アルコール、またはそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレートやグリシジルメタクリレートのホモポリマー、コポリマーなどがあり、その代表例としては、1,4−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、1,6−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコ−ルのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに1種または2種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシ化アマニ油、エポキシ化ポリブタジエン糖などが挙げられる。   Examples of aliphatic epoxy resin monomers include polyglycidyl ethers of aliphatic polyhydric alcohols or alkylene oxide adducts thereof, polyglycidyl esters of aliphatic long-chain polybasic acids, homopolymers and copolymers of glycidyl acrylate and glycidyl methacrylate, and the like. Typical examples are 1,4-butanediol diglycidyl ether, 1,6-hexanediol diglycidyl ether, glycerin triglycidyl ether, trimethylolpropane triglycidyl ether, polyethylene glycol diglycol. One or more alkylene oxides for aliphatic polyhydric alcohols such as glycidyl ether, diglycidyl ether of polypropylene glycol, ethylene glycol, propylene glycol and glycerin Polyglycidyl ethers of polyether polyols obtained by adding include diglycidyl esters of aliphatic long-chain dibasic acids. Furthermore, monoglycidyl ether of higher aliphatic alcohol, phenol, cresol, butylphenol or polyether alcohol monoglycidyl ether obtained by adding alkylene oxide to these, glycidyl ester of higher fatty acid, epoxidized soybean oil, epoxy butyl stearate Octyl epoxy stearate, epoxidized linseed oil, epoxidized polybutadiene sugar and the like.

さらに、エポキシ樹脂以外のカチオン重合反応性物質の例としては、トリメチレンオキシド、3,3−ジメチルオキセタン、3,3−ジクロロメチルオキセタン、などのオキセタン化合物;テトラヒドロフラン、2,3−ジメチルテトラヒドロフランのようなオキソラン化合物;トリオキサン、1,3−ジオキソラン、1,3,6−トリオキサンシクロオクタンのような環状アセタール化合物;β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトンのような環状ラクトン化合物;エチレンスルフィド、チオエピクロロヒドリンのようなチイラン化合物;1,3−プロピンスルフィド、3,3−ジメチルチエタンのようなチエタン化合物;エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、3,4−ジヒドロピラン−2−メチル(3,4−ジヒドロピラン−2−カルボキシレート)、トリエチレングリコールジビニルエーテルのようなビニルエーテル化合物;エポキシ化合物とラクトンとの反応によって得られるスピロオルソエステル化合物;ビニルシクロヘキサン、イソブチレン、ポリブタジエンのようなエチレン性不飽和化合物及び上記化合物の誘導体などが挙げられる。   Further, examples of the cationic polymerization reactive substance other than the epoxy resin include oxetane compounds such as trimethylene oxide, 3,3-dimethyloxetane, and 3,3-dichloromethyloxetane; tetrahydrofuran, 2,3-dimethyltetrahydrofuran and the like. Oxolane compounds; cyclic acetal compounds such as trioxane, 1,3-dioxolane, 1,3,6-trioxane cyclooctane; cyclic lactone compounds such as β-propiolactone and ε-caprolactone; ethylene sulfide, thioepichloro Thiirane compounds such as hydrin; 1,3-propyne sulfide, thietane compounds such as 3,3-dimethylthietane; ethylene glycol divinyl ether, alkyl vinyl ether, 3,4-dihydropyran-2-methyl (3,3) 4- Dihydropyran-2-carboxylate), vinyl ether compounds such as triethylene glycol divinyl ether; spiro orthoester compounds obtained by reaction of epoxy compounds with lactones; ethylenically unsaturated compounds such as vinylcyclohexane, isobutylene, polybutadiene and And derivatives of the above compounds.

カチオン重合開始剤の例としては、ジアゾニウム塩、ヨードニウム塩、スルフォニウム塩、セレニウム塩、ピリジニウム塩、フェロセニウム塩、フォスフォニウム塩、チヲピリニウム塩などが挙げられるが、熱的に比較的安定である芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルフォニウム塩などのオニウム塩重合開始剤が好ましい。なお、オニウム塩重合開始剤を活性化させるためには、紫外線・可視光の照射が好ましい。芳香族ヨードニウム塩および芳香族スルフォニウム塩などのオニウム塩重合開始剤を使用する場合、アニオンとしてはBF 、AsF 、SbF 、PF 、B(C などが挙げられる。 Examples of cationic polymerization initiators include diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenium salts, pyridinium salts, ferrocenium salts, phosphonium salts, and thiopyrinium salts, but aromatics that are relatively thermally stable. Onium salt polymerization initiators such as iodonium salts and aromatic sulfonium salts are preferred. In order to activate the onium salt polymerization initiator, irradiation with ultraviolet rays and visible light is preferable. When onium salt polymerization initiators such as aromatic iodonium salts and aromatic sulfonium salts are used, the anions include BF 4 , AsF 6 , SbF 6 , PF 6 , B (C 6 F 5 ) 4 − and the like. Is mentioned.

カチオン重合開始剤の市販品としては、たとえば、サイラキュアUVI−6974(ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロアンチモネートとジフェニル−4−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネートの混合物)、サイラキュアUVI−6990(UVI−6974のヘキサフルオロホスフェート)(以上、ユニオンカーバイド製)や、アデカオプトマーSP−151、アデカオプトマーSP−170(ビス[4−(ジ(4−(2−ヒドロキシエチル)フェニル)スルホニオ)フェニル]スルフィド)、アデカオプトマーSP−150(アデカオプトマーSP−170のヘキサフルオロホスフェート)、アデカオプトマーSP−171(以上、旭電化製)や、DTS−102、DTS−103、NAT−103、NDS−103((4−ヒドロキシナフチル)−ジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート)、TPS−102(トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート)、TPS−103(トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロアンチモネート)、MDS−103(4−メトキシフェニル−ジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート)、MPI−103(4−メトキシフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート)、BBI−101(ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート)、BBI−103(ビス(4−t−ブチルフェニル)ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート)(以下、みどり化学製)や、Irgacure261(η−2,4−シクロペンタジエン−1−イル)[(1,2,3,4,5,6−η)−(1−メチルエチル)ベンゼン]−鉄(1+)ヘキサフルオロホスフェート(1−))(チバガイギー製)や、CD−1010,CD−1011、CD−1012(4−(2−ヒドロキシテトラデカニルオキシ)ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート)(以上、サートマー製)や、CI−2481、CI−2624、CI−2639、CI−2064(以上、日本曹達製)や、Degacure K126(ビス[4−(ジフェニルスルホニオ)フェニル]スルフィドビスヘキサフルオロホスフェート)(テグッサ製)や、RHODORSIL PHOTOINITIATOR 2074((トリクミル)ヨードニウムテトラキス(ペンタフルオロフェニル)ボレート)(Rhodia製)などが挙げられる。 As a commercial product of a cationic polymerization initiator, for example, Cyracure UVI-6974 (mixture of bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluoroantimonate and diphenyl-4-thiophenoxyphenylsulfonium hexafluoroantimonate) Syracure UVI-6990 (hexafluorophosphate of UVI-6974) (manufactured by Union Carbide), Adekaoptomer SP-151, Adekaoptomer SP-170 (Bis [4- (di (4- (2-hydroxy Ethyl) phenyl) sulfonio) phenyl] sulfide), Adekaoptomer SP-150 (hexafluorophosphate of Adekaoptomer SP-170), Adekaoptomer SP-171 (above, manufactured by Asahi Denka), and DTS-10 DTS-103, NAT-103, NDS-103 ((4-hydroxynaphthyl) -dimethylsulfonium hexafluoroantimonate), TPS-102 (triphenylsulfonium hexafluorophosphate), TPS-103 (triphenylphosphonium hexafluoroantimony) Nate), MDS-103 (4-methoxyphenyl-diphenylsulfonium hexafluoroantimonate), MPI-103 (4-methoxyphenyliodonium hexafluoroantimonate), BBI-101 (bis (4-t-butylphenyl) iodonium hexa) Fluorophosphate), BBI-103 (bis (4-t-butylphenyl) iodonium hexafluoroantimonate) (hereinafter referred to as Midori Kagaku) and Irgacure 2 1 (eta 5-2,4-cyclopentadiene-1-yl) [(1,2,3,4,5,6-η) - (1- methylethyl) benzene] - iron (1+) hexafluorophosphate ( 1-)) (manufactured by Ciba Geigy), CD-1010, CD-1011, CD-1012 (4- (2-hydroxytetradecanyloxy) diphenyliodonium hexafluoroantimonate) (above, manufactured by Sartomer), CI- 2481, CI-2624, CI-2639, CI-2064 (manufactured by Nippon Soda), Dekacure K126 (bis [4- (diphenylsulfonio) phenyl] sulfide bishexafluorophosphate) (manufactured by Tegusa), RHODOLSIL PHOTOINITIATOR 2074 ((Tricumyl) iodonium tetrakis (pen Tafluorophenyl) borate) (manufactured by Rhodia) and the like.

ラジカル重合開始剤の例としては、ベンゾフェノン、チオキサントン、2,4−ジエチルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン、2,4−ジクロロチオキサントンなどのチオキサントン類、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのベンゾインエーテル類、2,2−ジメトキシ−1,2−ジフェニルエタン−1−オンなどのベンジルジメチルケタール類、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、1−(4−イソプロピルフェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−オン、1−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのα−ヒドロキシアルキルフェノン類、カンファーキノンなどのα−ジカルボニル化合物などが挙げられる。ラジカル重合開始剤は、光硬化性組成物100質量部に対して、0.1〜20質量部使用することが好ましい。   Examples of radical polymerization initiators include thioxanthones such as benzophenone, thioxanthone, 2,4-diethylthioxanthone, 2-isopropylthioxanthone, and 2,4-dichlorothioxanthone, and benzoins such as benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, and benzoin isopropyl ether. Ethers, benzyldimethyl ketals such as 2,2-dimethoxy-1,2-diphenylethane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, 1- (4-isopropylphenyl) ) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-one, α-hydroxyalkylphenones such as 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, and α-dicarbonyl compounds such as camphorquinone. The radical polymerization initiator is preferably used in an amount of 0.1 to 20 parts by mass with respect to 100 parts by mass of the photocurable composition.

以上のような反応性ビヒクル、磁性フィラーおよび重合開始剤を高速衝撃ミル、高速インペラーなどの適宜な方法を用いて分散、混合し、反応性組成物を得る。詳細には、最初に赤色光下で、ビヒクルと重合開始剤とを混合し、高速ミルなどを用いて剪断力を十分に加えながら磁性フィラーを添加する。   The reactive vehicle, magnetic filler and polymerization initiator as described above are dispersed and mixed using an appropriate method such as a high-speed impact mill or a high-speed impeller to obtain a reactive composition. Specifically, first, the vehicle and the polymerization initiator are mixed under red light, and the magnetic filler is added while sufficiently applying a shearing force using a high-speed mill or the like.

[円筒型反応器]
反応性組成物に遠心力を負荷するには、円筒型の反応器を所定の回転速度で回転させる。円筒型反応器には、ドラム方式(縦型、横型)とバスケット方式とがある。ドラム方式では、反応器の回転する容器部分を回転させながら反応性組成物を投入し、バスケット方式では、予め反応性組成物を投入した容器部分を回転させる。
[Cylindrical reactor]
In order to apply a centrifugal force to the reactive composition, a cylindrical reactor is rotated at a predetermined rotational speed. There are two types of cylindrical reactors: drum type (vertical type, horizontal type) and basket type. In the drum system, the reactive composition is charged while rotating the container part that rotates the reactor, and in the basket system, the container part into which the reactive composition has been previously charged is rotated.

また、負荷する遠心力Fは、F=mrωで示される。ここで、mは反応性組成物の質量、rは容器の中心から反応性組成物までの位置、ωは容器の角速度である。上記の式より、反応性組成物の比重が大きく、容器の半径が大きく、容器の角速度が大きいものほど負荷する遠心力は大きくなる。容器の角速度は、容器の回転数に比例するので、容器を高速回転することで遠心力は大きくなる。 Further, the centrifugal force F which load is represented by F = mrω 2. Here, m is the mass of the reactive composition, r is the position from the center of the container to the reactive composition, and ω is the angular velocity of the container. From the above formula, the centrifugal force to be applied increases as the specific gravity of the reactive composition increases, the container radius increases, and the container angular velocity increases. Since the angular velocity of the container is proportional to the number of rotations of the container, the centrifugal force is increased by rotating the container at a high speed.

円筒型反応器には、反応性組成物を加熱硬化させるためのランプが備えられている。ランプとしては、メタルハライドランプ、キセノンランプ、水銀ランプなどを用いることができる。反応性組成物の組成に応じて、最適な波長および出力を有するランプを選択すればよい。ランプは、必要に応じて容器内部から出し入れ可能に構成してもよい。   The cylindrical reactor is equipped with a lamp for heat-curing the reactive composition. As the lamp, a metal halide lamp, a xenon lamp, a mercury lamp, or the like can be used. According to the composition of the reactive composition, a lamp having an optimum wavelength and output may be selected. The lamp may be configured so that it can be taken in and out from inside the container as necessary.

図2は、円筒型反応器1の一例を示す概略図である。図からわかるように、円筒型反応器11は、縦型ドラム方式である。ランプ12は、容器13内の回転軸上に配置し、一端部を摺動装置14に連結されている。摺動装置14は、ランプ12を、容器13の中央部分を中心にして回転軸方向に所定のストロークおよび線速度で摺動させる。容器13は、内壁に着脱可能に成型トレイ15を備え、底部が軸を介して回動装置16に連結されている。回動装置16は、容器13を鉛直方向の回転軸まわりに所定の回転数で回転させる。   FIG. 2 is a schematic view showing an example of the cylindrical reactor 1. As can be seen from the figure, the cylindrical reactor 11 is a vertical drum system. The lamp 12 is disposed on a rotating shaft in the container 13, and one end thereof is connected to the sliding device 14. The sliding device 14 slides the lamp 12 with a predetermined stroke and linear velocity in the direction of the rotation axis around the central portion of the container 13. The container 13 includes a molding tray 15 detachably attached to an inner wall, and a bottom portion is connected to a rotation device 16 via a shaft. The rotation device 16 rotates the container 13 at a predetermined rotation number around a vertical rotation axis.

反応性組成物は、貯溜タンク17に貯溜され、容器13が回転中に、供給ポンプ18によって供給管19の供給口から成型トレイ15に供給される。   The reactive composition is stored in the storage tank 17 and supplied to the molding tray 15 from the supply port of the supply pipe 19 by the supply pump 18 while the container 13 is rotating.

ランプ12から照射される光は、ランプ12を中心にほぼ全方向に均一に照射されるので、遠心力により成型トレイ15内の組成物表面に均等に光が照射され、一様に硬化させることができる。   The light irradiated from the lamp 12 is uniformly irradiated in almost all directions around the lamp 12, so that the surface of the composition in the molding tray 15 is uniformly irradiated by centrifugal force to be uniformly cured. Can do.

円筒型反応器としては、図2に示した縦型ドラム方式以外にも、横型ドラム方式も使用することができる。横型ドラム方式は、駆動方式によって分類され、図3(a)に示すような回転シャフトを容器に連結して容器を回動させる回転シャフト駆動方式のもの、図3(b)に示すような容器13の外周に接触する回転ローラ20を回転させることで容器を回動させる回転ロール接触駆動方式のもの、図3(c)に示すような回転ローラ21と容器13とをベルト22で連動させ、回転ローラ21の回転駆動力をベルト22で容器13に伝達して容器13を回動させるベルト回転駆動方式のものなどがある。また、ドラム方式以外にも、図4に示すような、回転シャフト30の垂直方向に延びる回転体31の両端部に揺動可能に容器13を取り付け、回転シャフトを回動装置32によって回転させることで、容器13を水平面方向に回動させ、容器13の底面方向に遠心力が作用する回転振り子方式(バスケット方式)の反応器を使用することも可能である。   As the cylindrical reactor, in addition to the vertical drum system shown in FIG. 2, a horizontal drum system can be used. The horizontal drum system is classified according to the driving system, and is a rotating shaft driving system in which a rotating shaft as shown in FIG. 3A is connected to a container to rotate the container, and a container as shown in FIG. 3B. A rotating roll contact driving system for rotating the container by rotating the rotating roller 20 that contacts the outer periphery of 13, the rotating roller 21 and the container 13 as shown in FIG. There is a belt rotation driving type in which the rotational driving force of the rotating roller 21 is transmitted to the container 13 by the belt 22 to rotate the container 13. In addition to the drum system, as shown in FIG. 4, the container 13 is swingably attached to both ends of a rotating body 31 extending in the vertical direction of the rotating shaft 30, and the rotating shaft is rotated by a rotating device 32. Thus, it is also possible to use a rotary pendulum type (basket type) reactor in which the container 13 is rotated in the horizontal plane direction and centrifugal force acts on the bottom surface of the container 13.

横型ドラム方式の場合、縦型ドラム方式の場合と同様に、ランプ12は容器内部から出し入れ可能に構成され、容器回動中に光照射を行うことができる。回転振り子方式の場合は、図4に示すように、ランプ33を、静止した状態の容器13の開口部付近に設け、容器13が静止した状態で、開口部から容器内部に光を照射する。   In the case of the horizontal drum system, as in the case of the vertical drum system, the lamp 12 is configured to be able to be taken in and out from the inside of the container, and light irradiation can be performed while the container is rotating. In the case of the rotary pendulum method, as shown in FIG. 4, a lamp 33 is provided in the vicinity of the opening of the container 13 in a stationary state, and light is emitted from the opening to the inside of the container with the container 13 stationary.

成型トレイ15については、容器13に内挿される着脱可能な円筒型トレイであってもよいし、複数のトレイが容器13の内周面に着脱可能に保持される(たとえば、内周面に90°ごとに4つのトレイが保持される)ような構成であってもよいし、容器13に内挿される着脱可能な円筒の内周面に複数のトレイが保持されるような構成であってもよい。   The molding tray 15 may be a detachable cylindrical tray inserted into the container 13, and a plurality of trays are detachably held on the inner peripheral surface of the container 13 (for example, 90 on the inner peripheral surface). (4 trays may be held at every angle), or a plurality of trays may be held on the inner peripheral surface of a removable cylinder inserted into the container 13. Good.

また、成型トレイ15は必ずしも必要ではなく、容器内に直接反応性組成物を供給して遠心力負荷および光照射した後、容器を取り外し、容器ごと加熱するような構成であってもよい。   In addition, the molding tray 15 is not necessarily required, and it may be configured such that the reactive composition is directly supplied into the container and the container is removed after being subjected to centrifugal load and light irradiation, and the entire container is heated.

光硬化は、熱硬化よりも反応が早く、遠心力により反応生成物内のビヒクルおよびフィラーの分布が定常化するまでの流動的な状態で硬化させることができるので、生成した電磁波吸収シートの特性を詳細に調整することができる。   Photocuring is faster than thermal curing, and can be cured in a fluid state until the distribution of the vehicle and filler in the reaction product is stabilized by centrifugal force. Can be adjusted in detail.

また、混合する磁性フィラーによっては、光の到達深度が浅くなるが、光照射によって少なくとも表層部分は硬化させることができるので、表層部分の特性を調整することができる。また、表層部分が硬化することで外形を保持することができるので、円筒型反応器から取り出し、次工程で加熱処理など他の処理を行うことができる。反応器から取り出した後は、遠心力は作用しないので、たとえば遠心力作用下での光照射により硬化した傾斜部分と、取り出したのちの加熱などにより硬化した一様部分とを備える電磁波吸収シートを生成することもできる。   Moreover, although the reach | attainment depth of light becomes shallow depending on the magnetic filler to mix, since at least a surface layer part can be hardened | cured by light irradiation, the characteristic of a surface layer part can be adjusted. Further, since the outer shape can be maintained by curing the surface layer portion, it can be taken out from the cylindrical reactor and subjected to other treatment such as heat treatment in the next step. Since the centrifugal force does not act after taking out from the reactor, for example, an electromagnetic wave absorbing sheet comprising an inclined portion hardened by light irradiation under the action of centrifugal force and a uniform portion hardened by heating after taking out is used. It can also be generated.

なお、生成する電磁波吸収シートに望む特性によっては、遠心力負荷時に半径方向外側の表層部分を硬化させる、または半径方向外側の表層部分から内側に向かって硬化させることが好ましい場合がある。このような場合は、容器を光透過性部材で構成し、これを囲むように外側に複数のランプを配置する。   Depending on the characteristics desired for the electromagnetic wave absorbing sheet to be generated, it may be preferable to cure the outer surface layer portion in the radial direction or to inward from the outer surface layer portion in the radial direction when the centrifugal force is applied. In such a case, the container is made of a light transmissive member, and a plurality of lamps are arranged on the outside so as to surround the container.

円筒反応器には、反応性組成物を加熱硬化させるための加熱装置を備えていてもよい。加熱装置は、容器全体を覆い、反応性組成物を含み容器全体を一様に加熱する加熱炉装置、容器の周壁内部に埋め込んだ電熱線や熱水パイプなどで反応性組成物の内壁に接している面から加熱するヒーター装置、熱風または熱水などを反応性組成物に噴出し、熱風または熱水に接触した部分を加熱する熱風または熱水噴出装置などを用いることができる。   The cylindrical reactor may be equipped with a heating device for heat-curing the reactive composition. The heating device covers the entire container and contains the reactive composition to uniformly heat the entire container.The heating device is in contact with the inner wall of the reactive composition with a heating wire or hot water pipe embedded in the peripheral wall of the container. For example, a heater device that heats a heated surface, hot air or hot water is jetted onto the reactive composition, and a hot air or hot water jet device that heats a portion in contact with the hot air or hot water can be used.

加熱硬化は、容器を回転させて遠心力を負荷した状態で行ってもよいし、光照射後容器の回転を止める、容器から取り出すなどして遠心力を負荷しない状態で行ってもよい。   Heat curing may be performed in a state in which the container is rotated and a centrifugal force is applied, or may be performed in a state in which the centrifugal force is not applied by stopping the rotation of the container after light irradiation or taking out from the container.

上記のような光照射ランプおよび加熱装置を組み合わせることで、同じ組成の反応組成物を用いたとしても、磁性フィラーの分布状態、反応性ビヒクルの局所的濃度が異なる電磁波吸収シートを得ることができる。ここで、組み合わせとは、ランプの配置、加熱装置の種類などに加え、前述のように光照射と加熱のタイミングも含む。光硬化と熱硬化では、その硬化反応速度に大きく差があるので、この速度差を利用し、光照射および加熱の開始時刻、終了時刻、照射および加熱時間を適切に選択することで、電磁波吸収シートの特性調整をさらに詳細に行うことができる。   By combining the light irradiation lamp and the heating device as described above, even when the reaction composition having the same composition is used, it is possible to obtain an electromagnetic wave absorbing sheet in which the distribution state of the magnetic filler and the local concentration of the reactive vehicle are different. . Here, the combination includes the timing of light irradiation and heating as described above, in addition to the arrangement of the lamp and the type of the heating device. There is a large difference in the curing reaction speed between photocuring and thermal curing, and by using this difference in speed, it is possible to absorb electromagnetic waves by appropriately selecting the light irradiation and heating start time, end time, irradiation and heating time. The sheet characteristics can be adjusted in more detail.

さらに、表面を光硬化させたものを第一層とし、新たな反応性組成物を投入して光照射および加熱を行うことにより、第一層の表面に第二層を形成する。これを繰り返すことによって複合材料が積層された積層体を形成することもできる。   Further, the first layer is formed by photocuring the surface, and a second layer is formed on the surface of the first layer by introducing a new reactive composition and performing light irradiation and heating. By repeating this, a laminate in which composite materials are laminated can be formed.

また、板状、箔状、布状、網状材料の載置、固定、接着、埋込によって、複合材料を形成することもできる。たとえば、網状材料であるエキスパンドメタルを、予め成型トレイに設置しておき、前述のように回転成型を行うことでエキスパンドメタルを含む積層体を形成することもできる。   A composite material can also be formed by placing, fixing, bonding, and embedding a plate, foil, cloth, or net-like material. For example, an expanded metal, which is a net-like material, is previously placed on a molding tray, and a laminate including the expanded metal can be formed by performing rotational molding as described above.

以下では、本発明の実施例について説明する。
(反応性組成物)
マトリクス樹脂:シリコーンゴム(100重量部)、
添加剤:エポキシ系モノマー(8重量部)、カチオン重合開始剤(0.20重量部)
磁性フィラー:実施例1 センダスト(900重量部)
実施例2 パーマロイ(900重量部)
Examples of the present invention will be described below.
(Reactive composition)
Matrix resin: Silicone rubber (100 parts by weight)
Additive: Epoxy monomer (8 parts by weight), cationic polymerization initiator (0.20 parts by weight)
Magnetic filler: Example 1 Sendust (900 parts by weight)
Example 2 Permalloy (900 parts by weight)

(反応条件)
シリコーン樹脂、磁性フィラーおよび添加剤の混練物を横型ドラム方式の円筒反応器(内径200mm)に入れ、遠心力を負荷した状態で光照射を行った。
回転数および光照射時間: 500rpm、7分間
(Reaction conditions)
The kneaded product of the silicone resin, magnetic filler and additive was placed in a horizontal drum type cylindrical reactor (inner diameter 200 mm), and light irradiation was performed with a centrifugal force applied.
Rotation speed and light irradiation time: 500 rpm, 7 minutes

(加熱条件)
光照射後、成型トレイを取り出して、150℃、10分間加熱した。
(Heating conditions)
After the light irradiation, the molding tray was taken out and heated at 150 ° C. for 10 minutes.

光照射後の状態では、いずれの実施例においても、表面部分が硬化しており、内部はグリーンシート状で未硬化であった。表面部分が硬化しているため、成型トレイを反応容器から取り出してもシート形状を保持しており、素早く次工程である加熱工程を開始することができた。   In the state after light irradiation, the surface portion was cured and the inside was green sheet-like and uncured in any of the examples. Since the surface portion was cured, the sheet shape was maintained even when the molding tray was removed from the reaction vessel, and the heating process, which was the next process, could be started quickly.

各実施例は、遠心力により、磁性フィラーが厚み方向に分布した電磁波吸収シートとして得られた。   Each Example was obtained as an electromagnetic wave absorbing sheet in which the magnetic filler was distributed in the thickness direction by centrifugal force.

電磁波吸収シート1の構成を示す断面図である。1 is a cross-sectional view illustrating a configuration of an electromagnetic wave absorbing sheet 1. 円筒型反応器1の一例を示す概略図である。1 is a schematic view showing an example of a cylindrical reactor 1. 横型ドラム方式の円筒型反応器を示す概略図である。It is the schematic which shows the cylindrical reactor of a horizontal drum system. 回転振り子方式の円筒型反応器を示す概略図である。It is the schematic which shows the cylindrical reactor of a rotary pendulum system.

符号の説明Explanation of symbols

1 電磁波吸収シート
2 マトリクス樹脂
3 磁性フィラー
11 円筒型反応器
12 ランプ
13 容器
14 摺動装置
15 成型トレイ
16 回動装置
17 貯溜タンク
18 供給ポンプ
19 供給管
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Electromagnetic wave absorption sheet 2 Matrix resin 3 Magnetic filler 11 Cylindrical reactor 12 Lamp 13 Container 14 Sliding device 15 Molding tray 16 Rotating device 17 Storage tank 18 Supply pump 19 Supply pipe

Claims (5)

マトリクス樹脂と磁性フィラーとを含む電磁波吸収シートであって、
前記マトリクス樹脂は、光硬化性および熱硬化性を有し、前記磁性フィラーは、厚み方向に沿って変化する濃度分布を有することを特徴とする電磁波吸収シート。
An electromagnetic wave absorbing sheet containing a matrix resin and a magnetic filler,
The said matrix resin has photocurability and thermosetting, The said magnetic filler has density distribution which changes along the thickness direction, The electromagnetic wave absorption sheet | seat characterized by the above-mentioned.
前記磁性フィラーは、厚み方向に垂直な一方面側では、高濃度に分布し、他方面側では、一方面側より低濃度に分布していることを特徴とする請求項1記載の電磁波吸収シート。   2. The electromagnetic wave absorbing sheet according to claim 1, wherein the magnetic filler is distributed in a high concentration on one surface side perpendicular to the thickness direction, and is distributed in a lower concentration on the other surface side than on the one surface side. . 前記磁性フィラーは、軟磁性粉末であることを特徴とする請求項1または2記載の電磁波吸収シート。   The electromagnetic wave absorbing sheet according to claim 1, wherein the magnetic filler is a soft magnetic powder. 熱伝導性フィラーをさらに含むことを特徴とする請求項1〜3のいずれか1つに記載の電磁波吸収シート。   The electromagnetic wave absorbing sheet according to claim 1, further comprising a thermally conductive filler. 光反応性および熱反応性を有する反応性ビヒクルと磁性フィラーとを含む反応性組成物に対して遠心力を負荷した状態で光照射を行う光照射処理と、前記反応性組成物に対して加熱を行う加熱処理とを含むことを特徴とする電磁波吸収シートの製造方法。   A light irradiation treatment in which light is applied to the reactive composition containing a reactive vehicle having heat reactivity and a thermal reactivity and a magnetic filler under a centrifugal force, and the reactive composition is heated. The manufacturing method of the electromagnetic wave absorption sheet | seat characterized by including the heat processing which performs.
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Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2008156079A1 (en) * 2007-06-21 2008-12-24 Sony Chemical & Information Device Corporation Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
JP2009027145A (en) * 2007-06-21 2009-02-05 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
JP2009059752A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Hitachi Chem Co Ltd Flame-retardant noise suppressing sheet
JP2009188322A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 New Industry Research Organization Radio wave absorber and method for manufacturing the same
JP2009224768A (en) * 2008-02-18 2009-10-01 Sony Chemical & Information Device Corp Composition for magnetic sheet, magnetic sheet, and process for producing magnetic sheet
JP2009224749A (en) * 2008-02-18 2009-10-01 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sheet, and manufacturing method of magnetic sheet
KR100931543B1 (en) 2007-07-25 2009-12-14 김호욱 Method for manufacturing conductive electromagnetic shielding and absorption plastic sheet
JP2011182593A (en) * 2010-03-03 2011-09-15 Nec Tokin Corp Non-contact power transmission system
JP2013526035A (en) * 2010-04-23 2013-06-20 クーパー テクノロジーズ カンパニー Manufacture with laminated magnetic parts and soft magnetic powder polymer composite sheet
KR20150055058A (en) * 2012-10-19 2015-05-20 도요 고무 고교 가부시키가이샤 Sensor and manufacturing method for same
JP2017143119A (en) * 2016-02-09 2017-08-17 Tdk株式会社 Coil component
JP2019098277A (en) * 2017-12-05 2019-06-24 株式会社マグエックス Method for manufacturing ferromagnetic thin film sheet and ferromagnetic thin film sheet
TWI705118B (en) * 2018-02-02 2020-09-21 南韓商Lg化學股份有限公司 Adhesive film for semiconductor

Cited By (23)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9589716B2 (en) 2006-09-12 2017-03-07 Cooper Technologies Company Laminated magnetic component and manufacture with soft magnetic powder polymer composite sheets
KR101161488B1 (en) 2007-06-21 2012-07-02 소니 케미카루 앤드 인포메이션 디바이스 가부시키가이샤 Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
JP2009027145A (en) * 2007-06-21 2009-02-05 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
CN101689418B (en) * 2007-06-21 2013-04-10 迪睿合电子材料有限公司 Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
US8295786B2 (en) 2007-06-21 2012-10-23 Sony Chemical & Information Device Corporation Magnetic sheet, method for producing the magnetic sheet, antenna, and portable communication device
WO2008156079A1 (en) * 2007-06-21 2008-12-24 Sony Chemical & Information Device Corporation Magnetic sheet, process for producing the same, antenna, and portable communications equipment
KR100931543B1 (en) 2007-07-25 2009-12-14 김호욱 Method for manufacturing conductive electromagnetic shielding and absorption plastic sheet
JP2009059752A (en) * 2007-08-30 2009-03-19 Hitachi Chem Co Ltd Flame-retardant noise suppressing sheet
JP2009188322A (en) * 2008-02-08 2009-08-20 New Industry Research Organization Radio wave absorber and method for manufacturing the same
US20120205025A1 (en) * 2008-02-18 2012-08-16 Sony Chemical & Information Device Corporation Method for producing magnetic sheet
JP2009224768A (en) * 2008-02-18 2009-10-01 Sony Chemical & Information Device Corp Composition for magnetic sheet, magnetic sheet, and process for producing magnetic sheet
US20110033732A1 (en) * 2008-02-18 2011-02-10 Sony Chemical & Information Device Corporation Magnetic sheet composition, magnetic sheet, and method for producing magnetic sheet
JP2009224749A (en) * 2008-02-18 2009-10-01 Sony Chemical & Information Device Corp Magnetic sheet, and manufacturing method of magnetic sheet
TWI400266B (en) * 2008-02-18 2013-07-01 Dexerials Corp Magnetic sheet composition, magnetic sheet and method for manufacturing the sheet
US8668792B2 (en) 2008-02-18 2014-03-11 Dexerials Corporation Method for producing magnetic sheet
JP2011182593A (en) * 2010-03-03 2011-09-15 Nec Tokin Corp Non-contact power transmission system
JP2013526035A (en) * 2010-04-23 2013-06-20 クーパー テクノロジーズ カンパニー Manufacture with laminated magnetic parts and soft magnetic powder polymer composite sheet
KR20150055058A (en) * 2012-10-19 2015-05-20 도요 고무 고교 가부시키가이샤 Sensor and manufacturing method for same
KR101650677B1 (en) * 2012-10-19 2016-08-23 도요 고무 고교 가부시키가이샤 Sensor and manufacturing method for same
JP2017143119A (en) * 2016-02-09 2017-08-17 Tdk株式会社 Coil component
JP2019098277A (en) * 2017-12-05 2019-06-24 株式会社マグエックス Method for manufacturing ferromagnetic thin film sheet and ferromagnetic thin film sheet
TWI705118B (en) * 2018-02-02 2020-09-21 南韓商Lg化學股份有限公司 Adhesive film for semiconductor
US11479699B2 (en) 2018-02-02 2022-10-25 Lg Chem, Ltd. Adhesive film for semiconductor

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